JP5621412B2 - In-process cassette transport control system - Google Patents
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Description
本発明は、カラーフィルタ製造工程、液晶表示装置製造工程、半導体製造工程において仕掛り中のガラス基板を収納するカセットを搬送制御する仕掛りカセット搬送制御システムに関するものである。 The present invention relates to an in-process cassette transport control system that controls transport of a cassette that houses a glass substrate in progress in a color filter manufacturing process, a liquid crystal display device manufacturing process, and a semiconductor manufacturing process.
カラーフィルタ製造工程や液晶表示装置製造工程ならびに半導体製造工程において用いられるガラス基板（以下、基板）として、カラーフィルタ基板を例として説明する。 A color filter substrate will be described as an example of a glass substrate (hereinafter referred to as a substrate) used in a color filter manufacturing process, a liquid crystal display device manufacturing process, and a semiconductor manufacturing process.
図１は基板の一例としてカラー液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板の断面を示した図である。カラーフィルタ１は、基板２上にブラックマトリックス（以下、ＢＭ）３、レッドＲの着色画素（以下、Ｒ画素）４−１、グリーンＧの着色画素（以下、Ｇ画素）４−２、ブルーＢの着色画素（以下、Ｂ画素）４−３、透明電極５、及びフォトスペーサー（Ｐｈｏｔｏ Ｓｐａｃｅｒ）（以下、ＰＳ）６、バーティカルアライメント（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）（以下、ＶＡ）７が順次形成されたものである。 FIG. 1 is a cross-sectional view of a color filter substrate used in a color liquid crystal display device as an example of a substrate. The color filter 1 includes a black matrix (hereinafter referred to as BM) 3, a red R colored pixel (hereinafter referred to as R pixel) 4-1, a green G colored pixel (hereinafter referred to as G pixel) 4-2, and a blue B on the substrate 2. The colored pixels (hereinafter referred to as B pixels) 4-3, the transparent electrode 5, the photo spacer (hereinafter referred to as PS) 6, and the vertical alignment (hereinafter referred to as VA) 7 are sequentially formed. is there.
上記構造のカラーフィルタの製造方法は、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法が知られているが、図２は一般的に用いられているフォトリソグラフィー法の工程を示すフロー図である。カラーフィルタは、先ず、基板上にＢＭを形成処理する工程（Ｋ１）、基板を洗浄処理する工程（Ｋ２）、着色フォトレジストを塗布および予備乾燥処理する工程（Ｋ３）、着色フォトレジストを乾燥、硬化処理するプリベーク工程（Ｋ４）、露光処理する工程（Ｋ５）、現像処理する工程（Ｋ６）、着色フォトレジストを硬化処理する工程（Ｋ７）、透明電極（例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ））を成膜処理する工程（Ｋ８）、ＰＳ、ＶＡを形成処理する工程（Ｋ９）がこの順に行われ製造される。 As a method for manufacturing a color filter having the above structure, a photolithography method, a printing method, and an ink jet method are known. FIG. 2 is a flowchart showing steps of a commonly used photolithography method. The color filter is first formed by a process of forming BM on the substrate (K1), a process of cleaning the substrate (K2), a process of applying and pre-drying a colored photoresist (K3), drying the colored photoresist, A pre-bake process (K4) for performing a curing process, a process (K5) for performing an exposure process, a process (K6) for developing, a process for curing a colored photoresist (K7), and a transparent electrode (for example, ITO (Indium Tin Oxide)) are formed. A film processing step (K8) and a PS and VA forming step (K9) are performed in this order to manufacture.
例えば、Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素の順に画素が形成される場合には、カラーフィルタ用基板を洗浄処理する工程（Ｋ２）から、着色フォトレジストを硬化処理する工程間（Ｋ７）ではレッドＲ、グリーンＧ、ブルーＢの順に着色レジストを変更して３回繰り返されてＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素が形成される。 For example, when pixels are formed in the order of R pixel, G pixel, and B pixel, red R is applied between the process of cleaning the color filter substrate (K2) and the process of curing the colored photoresist (K7). The color resist is changed in the order of green G and blue B, and the process is repeated three times to form R pixels, G pixels, and B pixels.
上記各処理工程を例えば、ＢＭを形成処理（Ｋ１）する処理ライン、Ｒ画素を形成処理（Ｋ２〜Ｋ７）する処理ライン、Ｇ画素を形成処理（Ｋ２〜Ｋ７）する処理ライン、Ｂ画素を形成処理（Ｋ２〜Ｋ７）する処理ライン、透明電極を成膜処理する（Ｋ８）処理ライン、ＰＳ／ＶＡを形成処理（Ｋ９）形成処理する処理ラインで構成した場合には、各処理ライン間の基板搬送は、次の処理ラインに直接搬送される場合や、仕掛り基板として一時的に保管する設備（以下、ストッカ設備）に保管され場合がある。この場合のストッカ設備は、各処理ラインと連結された構成を有している。 For example, each of the above processing steps includes a processing line for forming BM (K1), a processing line for forming R pixels (K2 to K7), a processing line for forming G pixels (K2 to K7), and a B pixel. In the case of a processing line for processing (K2 to K7), a processing line for forming a transparent electrode (K8), and a processing line for forming PS / VA (K9), the substrate between the processing lines The transfer may be directly transferred to the next processing line, or may be stored in a facility (hereinafter referred to as a stocker facility) that temporarily stores the in-process substrate. The stocker facility in this case has a configuration connected to each processing line.
図３にカラーフィルタ製造工程におけるストッカ設備と処理ラインの間の基板投入、回収装置の構成の一例を示す。カラーフィルタ製造工程は、ＢＭ形成処理ライン（処理ラインＡ）、Ｒ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ライン（処理ラインＢ）、透明電極形成処理ライン（処理ラインＣ）、ＰＳ形成処理ライン（処理ラインＤ）があり、これらの処理ラインで処理を行うために、処理用基板は各処理ラインに搬送される。 FIG. 3 shows an example of the configuration of the substrate loading / collecting apparatus between the stocker facility and the processing line in the color filter manufacturing process. The color filter manufacturing process includes BM formation processing line (processing line A), R / G / B colored pixel formation processing line (processing line B), transparent electrode formation processing line (processing line C), and PS formation processing line (processing line). D), and in order to perform processing in these processing lines, the processing substrate is transferred to each processing line.
図３においてＢＭ形成処理ライン（処理ラインＡ）に投入される基板は、ストッカ設備１１のカセット（図示せず）に保管されている。これらのカセットは、ストッカ設備１１
からＢＭ形成処理ラインの基板投入装置１２に搬送される。基板投入装置１２は、搬送されたカセットから基板を一枚ずつ抜き取り、ＢＭ膜塗布装置１３へと搬送する。ＢＭ膜塗布装置１３で処理された基板は、露光装置１４、現像装置１５、及びオーブン１６などの処理装置で処理された後、基板回収装置１７でカセットに一旦収納される。基板回収装置１７は、回収用カセット（図示せず）の基板収納枚数が上限値に達した後、カセットをストッカ設備１１に搬送する。ストッカ設備１１に搬送されたカセットは、次処理ラインであるＲ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ライン（処理ラインＢ）の仕掛りカセットとしてストッカ設備１１に一時保管される。
In FIG. 3, the substrate put into the BM formation processing line (processing line A) is stored in a cassette (not shown) of the stocker facility 11. These cassettes are stocker equipment 11
To the substrate loading device 12 of the BM formation processing line. The substrate loading device 12 extracts the substrates one by one from the conveyed cassette and conveys them to the BM film coating device 13. The substrate processed by the BM film coating device 13 is processed by a processing device such as the exposure device 14, the developing device 15, and the oven 16, and then temporarily stored in a cassette by the substrate recovery device 17. The substrate collection device 17 transports the cassette to the stocker facility 11 after the number of substrates stored in the collection cassette (not shown) reaches the upper limit. The cassette transported to the stocker facility 11 is temporarily stored in the stocker facility 11 as an in-process cassette for the R / G / B colored pixel formation processing line (processing line B), which is the next processing line.
Ｒ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ラインの前記仕掛りカセットは、ストッカ設備１１からＲ／Ｇ／Ｂ着色画素形成処理ライン（処理ラインＢ）の基板投入装置２２に搬送される。基板投入装置２２は、搬送されたカセットから基板を一枚ずつ抜き取り、Ｒ／Ｇ／Ｂ膜塗布装置２３へ搬送する。Ｒ／Ｇ／Ｂ膜塗布装置２３で処理された基板は、露光装置２４、現像装置２５、及びオーブン２６で処理された後、基板回収装置２７で回収用カセット（図示せず）に一旦収納される。基板回収装置２７は、回収用カセットの基板収納枚数が上限値に達した後、カセットをストッカ設備１１に搬送する。ストッカ設備に搬送されたカセットは、次処理ラインである透明電極形成処理ライン（処理ラインＣ）の仕掛りカセットとしてストッカ設備１１で、一時保管される。 The in-process cassette of the R / G / B colored pixel formation processing line is transported from the stocker facility 11 to the substrate loading device 22 of the R / G / B colored pixel formation processing line (processing line B). The substrate loading device 22 extracts the substrates one by one from the conveyed cassette and conveys them to the R / G / B film coating device 23. The substrate processed by the R / G / B film coating device 23 is processed by the exposure device 24, the developing device 25, and the oven 26, and then temporarily stored in a recovery cassette (not shown) by the substrate recovery device 27. The The substrate recovery device 27 transports the cassette to the stocker facility 11 after the number of substrates stored in the recovery cassette reaches the upper limit. The cassette transported to the stocker facility is temporarily stored in the stocker facility 11 as an in-process cassette for the transparent electrode formation processing line (processing line C), which is the next processing line.
以降、処理ライン（Ｃ）、処理ライン（Ｄ）においても同様に、各処理ラインで処理を行うため処理ラインに搬送された仕掛カセットは処理された後、基板回収装置にて回収用カセットに収納され、次の処理ラインへ搬送されるまでの間、ストッカ設備にて一旦保管される。 Thereafter, in the processing line (C) and processing line (D) as well, in-process cassettes transferred to the processing line for processing in each processing line are processed and then stored in the recovery cassette by the substrate recovery apparatus. And is temporarily stored in the stocker facility until it is transported to the next processing line.
上記スタッカ設備に保管されている仕掛りカセットを次の処理ラインに投入する場合の仕掛りカセットの選択や、各処理ラインで処理された基板を基板回収装置で回収する場合のカセットの選択は、スタッカ設備の効率的な運用と各処理ラインの処理装置の効率的な稼働のためには重要なことであるが、従来から行われている方法は、（１）システム化されたカセット搬送システム、あるいは（２）処理ライン運用者の判断によって行われていた。 Selection of the in-process cassette when the in-process cassette stored in the stacker equipment is put into the next processing line and the selection of the cassette when the substrate processed by each processing line is recovered by the substrate recovery device are as follows: Although it is important for the efficient operation of the stacker equipment and the efficient operation of the processing equipment of each processing line, the conventional methods are (1) systemized cassette transport system, Or (2) it was done at the discretion of the processing line operator.
前記（１）システム化されたカセット搬送システムは、基板が投入される対象処理ラインに対して、現在処理中のロットを選択し、選択ロットに紐付く仕掛りカセットをカセット搬送システムが自動選択し、対象処理ラインへ仕掛りカセットを搬送する方法が一般的に用いられている。その際、工場内の工程管理の考え方として、同一ロットの処理基板は、前工程処理ラインで処理された経過時間が長い基板（より古い基板）ほど次の処理ラインへ早く搬送する（Ｆｉｒｓｔ−Ｉｎ Ｆｉｒｓｔ−Ｏｕｔ：フィフォ）が一般的である。 (1) The systematized cassette transfer system selects a lot currently being processed for a target processing line into which a substrate is to be loaded, and the cassette transfer system automatically selects an in-process cassette associated with the selected lot. In general, a method of transporting an in-process cassette to a target processing line is generally used. At that time, as a concept of process management in the factory, the processed substrate of the same lot is transferred to the next processing line earlier as the substrate (the older substrate) processed in the previous process processing line has a longer elapsed time (First-In First-Out is commonly used.
前記（２）処理ライン運用者によって判断される場合は、運用者が工程管理システムを用い、搬送したいカセットを選択し、対象処理ラインへ仕掛りカセットを搬送する方法が一般的に用いられている。 (2) When judged by the processing line operator, a method is generally used in which the operator uses a process management system to select a cassette to be transported and transport the in-process cassette to the target processing line. .
しかしながら、上記従来行われているカセット搬送シテムや処理ライン運用者による方法では、各処理ライン単位で搬送対象とする仕掛りカセットをシステムならびに運用者にて決定しており、全ての処理ラインの稼動状況及びストッカ設備内のカセット管理状況を取得して仕掛りカセットの搬送制御を行っていないため、「ストッカ設備内に基板回収用空カセットが不足」することに起因する処理ライン停止が発生する。 However, in the conventional method of cassette transport system and processing line operator, the in-process cassette to be transported for each processing line is determined by the system and the operator, and all processing lines are operated. Since the status and the cassette management status in the stocker facility are not acquired and the in-process cassette transport control is not performed, the processing line stops due to “insufficient substrate collection empty cassette in the stocker facility”.
上記処理ライン停止は、（ａ）処理装置が処理基板を待つ間に発生による稼動率低下や、（ｂ）処理装置が処理基板を待つ間に発生する材料費の消費（待ち時間のメンテナンス処理に消費する）の増加や、（ｃ）仕掛カセット保管のためのストッカ設備容積増加に伴う、設備導入や維持費用の増加といった問題の発生原因となる。 The above-mentioned processing line stop is (a) a reduction in operating rate due to the occurrence of the processing apparatus waiting for the processing substrate, or (b) consumption of material costs generated while the processing apparatus waits for the processing substrate (for waiting time maintenance processing) And (c) increase in the capacity of the stocker for storage of in-process cassettes, resulting in problems such as an increase in equipment introduction and maintenance costs.
上記（ｂ）を更に詳しく述べると、カラーフィルタ並びに半導体製造ラインには、主だった処理装置として基板あるはウエハー上に塗布液を供給する塗布装置が存在する。これらの塗布装置は、上流装置から基板の供給が一定時間以上停止した場合、その塗布液が乾燥し、異物となって塗布部に付着する恐れがある。これを防ぐために、装置停止時には、塗布部に溶剤を吹き付けて乾燥することを防いでいる。（また、装置停止後の基板処理前には、塗布部に浸透した溶剤を取り除くため、塗布液による溶剤の押し出し処理をおこなっている。）一旦、処理装置への基板供給が途絶えると、このようなメンテナンス動作を行う必要があり、（ｂ）処理装置の処理基板待ち発生による溶剤や塗布液の材料消費が増加する問題が発生する。 To describe the above (b) in more detail, in the color filter and the semiconductor production line, there is a coating apparatus for supplying a coating liquid onto a substrate or a wafer as a main processing apparatus. In these coating apparatuses, when the supply of the substrate from the upstream apparatus is stopped for a certain time or more, the coating liquid may be dried and become a foreign substance and adhere to the coating part. In order to prevent this, when the apparatus is stopped, a solvent is sprayed onto the coating portion to prevent drying. (Also, before the substrate processing after the stop of the apparatus, the solvent is pushed out by the coating solution in order to remove the solvent that has penetrated into the coating part.) Once the substrate supply to the processing apparatus is interrupted, Maintenance operation needs to be performed, and (b) there arises a problem that material consumption of the solvent and the coating liquid increases due to the processing substrate waiting occurrence of the processing apparatus.
また、近年の液晶表示装置の大型化に伴い、「仕掛り基板」及び「基板回収用空カセット」を一時的に保管するストッカ設備の容積は著しく増大している。ストッカ設備容積の増大は、導入設備費用や維持費用が増加する原因となる。 With the recent increase in the size of liquid crystal display devices, the volume of stocker equipment for temporarily storing “in-process substrates” and “empty cassettes for substrate collection” has increased remarkably. The increase in the stocker facility volume causes an increase in the installation facility cost and the maintenance cost.
本発明は係る問題に鑑みて、カラーフィルタ製造工程、液晶表示パネル製造工程、及び半導体製造工程におけるストッカ設備の容積の増大を抑制し、前記各製造工程に置ける処理装置の基板待ち時間を減らし、設備費用や材料費を削減する仕掛りカセット搬送制御システムを提供することを目的とする。 In view of such problems, the present invention suppresses an increase in the volume of a stocker facility in a color filter manufacturing process, a liquid crystal display panel manufacturing process, and a semiconductor manufacturing process, and reduces the substrate waiting time of a processing apparatus that can be placed in each of the manufacturing processes. An object of the present invention is to provide an in-process cassette transport control system that reduces equipment costs and material costs.
本発明の請求項１に係る発明は、液晶表示装置に用いられる基板を製造する複数の処理ラインに配置されている基板投入装置および基板回収装置に対し、前記処理ラインに投入する基板（仕掛り基板）を収納した仕掛りカセットおよび処理ラインで処理された基板を収納するカセット（空カセット）を一時的に保管するストッカ設備から、選択して搬送制御するシステムであって、前記仕掛り基板が収納されているカセットを前記ストッカ設備から選択する手順が、（１）前記基板投入装置からカセットの搬送要求があった時、前記ストッカ設備内に存在する空カセット数Ｃを算出し、予め設定した空カセットの運用数Ｄと比較し、（２）前記Ｃの値が前記Ｄの値以上であった場合、カセット搬送要求した処理ラインの対象品種基板を収納した仕掛りカセットの内、処理されてから経過時間が最も長い仕掛りカセットを選択し、（３）前記Ｃの値が前記Ｄの値より小さい場合、さらに各処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数Ｅを基準値Ｆと比較し、前記Ｅの値が前記Ｆの値以下の場合、複数の前記処理ラインの仕掛りカセットの内、処理されてから経過時間が最も長いカセットを選択し、（４）前記Ｃの値が前記Ｄの値より小さく、かつ、前記Ｅの値が前記Ｆの値より大きい場合、ストッカ設備に存在する仕掛りカセットの内、最も収納枚数が少ないカセットを選択し、上記、（２）から（４）で選択したカセットを前記基板投入装置に搬送することを特徴とする仕掛りカセット搬送制御システムである。 The invention according to claim 1 of the present invention relates to a substrate (in-process) to be loaded into the processing line with respect to a substrate loading device and a substrate recovery device arranged in a plurality of processing lines for manufacturing a substrate used in a liquid crystal display device. A system for selecting and controlling conveyance from a stocker facility for temporarily storing an in-process cassette storing substrates) and a cassette (empty cassette) storing substrates processed in a processing line , wherein the in-process substrates are to select housed a by which cassette the stocker equipment or colleagues, (1) when the there is a substrate feeding device cassette transfer request from, calculates the empty cassette number C present in said stocker equipment, previously Compared to the set number D of empty cassettes to be operated, (2) If the value of C is equal to or greater than the value of D, the target product type substrate of the processing line requested to be transported by the cassette is stored. The in-process cassette is selected from the in-process cassettes having the longest elapsed time since being processed. (3) When the value of C is smaller than the value of D, the substrate further present in the substrate loading apparatus of each processing line When the number E is compared with a reference value F and the value of E is less than or equal to the value of F, a cassette having the longest elapsed time since being processed is selected from the in-process cassettes of the plurality of processing lines. 4) When the value of C is smaller than the value of D and the value of E is larger than the value of F, a cassette having the smallest number of stored sheets among the in-process cassettes existing in the stocker facility is selected, An in-process cassette conveyance control system characterized in that the cassette selected in (2) to (4) is conveyed to the substrate loading apparatus .
本発明の仕掛りカセット搬送制御システムによれば、処理装置の稼働率向上が可能となり、また処理装置の処理基板の待ち時間による材料消費のムダを防ぐことができ、更には、仕掛カセット保管のためのストッカ設備容積の増大を防ぎ、その結果、設備費用の増大を防ぐことができる。 According to the in-process cassette transport control system of the present invention, the operating rate of the processing apparatus can be improved, the waste of material consumption due to the waiting time of the processing substrate of the processing apparatus can be prevented, and further, in-process cassette storage Therefore, it is possible to prevent an increase in the capacity of the stocker equipment, and as a result, it is possible to prevent an increase in equipment costs.
以下、図面を参照して本発明の仕掛りカセット搬送制御システムを実施するための形態を説明する。 Hereinafter, an embodiment for carrying out an in-process cassette transport control system of the present invention will be described with reference to the drawings.
図４に本発明の仕掛りカセット搬送制御システムが適用されるカラーフィルタ製造工程に設けられる処理装置の構成例を示す。処理ライン（１）には、基板投入装置３２と、塗布装置３３、露光装置３４、現像装置３５、オーブン３６といった処理装置と、検査装置３７と、基板回収装置３８と、が配置されている。各装置は連結されて１つの処理ラインを構成している。処理ライン（２）においても処理ライン（１）と同様の装置（４２〜４８）が配置されている。ストッカ設備３１に保管されている処理基板は、基板投入装置３２に搬送された仕掛りカセットその１（ＣＳ−１）３９−１から基板投入装置３２によって処理ライン（１）に投入され、各処理装置で処理された後、処理ライン（１）に配置された検査装置３７で、基板の良／不良が判定される。良品と判定された基板は、次処理ラインの仕掛りとして基板回収装置３８で基板回収用カセットその２（ＣＳ−２）４０−１に回収され管理される。一方、不良品と判定された基板は、基板回収用カセットその３（ＣＳ−３）４０−２に回収される。このように基板回収装置３８には、良品、不良品、その他の選別目的に応じて使用される複数の基板回収用カセットポートが備えられる。 FIG. 4 shows a configuration example of a processing apparatus provided in a color filter manufacturing process to which the in-process cassette transport control system of the present invention is applied. In the processing line (1), a substrate loading device 32, a processing device such as a coating device 33, an exposure device 34, a developing device 35, and an oven 36, an inspection device 37, and a substrate recovery device 38 are arranged. The apparatuses are connected to form one processing line. In the processing line (2), the same devices (42 to 48) as the processing line (1) are arranged. The processing substrates stored in the stocker facility 31 are loaded into the processing line (1) by the substrate loading device 32 from the in-process cassette 1 (CS-1) 39-1 transferred to the substrate loading device 32, and each processing is performed. After being processed by the apparatus, the inspection device 37 disposed in the processing line (1) determines whether the substrate is good or defective. Substrates determined to be non-defective are recovered and managed by the substrate recovery device 38 in the substrate recovery cassette 2 (CS-2) 40-1 as a device for the next processing line. On the other hand, the board | substrate determined to be inferior goods is collect | recovered by the board | substrate collection cassette 3 (CS-3) 40-2. As described above, the substrate recovery apparatus 38 includes a plurality of substrate recovery cassette ports that are used in accordance with non-defective products, defective products, and other sorting purposes.
上記良品と判定された基板は、次の処理ラインの仕掛りとして基板回収装置３８で基板
回収用カセットその２（ＣＳ−２）４０−１に回収され管理されるが、次の処理ラインである処理ライン（２）に投入されるか、あるいはストッカ設備３１に一時保管される。
The substrate determined to be a non-defective product is recovered and managed by the substrate recovery apparatus 38 in the substrate recovery cassette 2 (CS-2) 40-1 as a device for the next processing line, but is the next processing line. It is put into the processing line (2) or temporarily stored in the stocker facility 31.
図４に示されるカラーフィルタ製造工程は処理ラインが２ラインの場合を例示したが、ライン数は適宜設けられる。 In the color filter manufacturing process shown in FIG. 4, the case where there are two processing lines is illustrated, but the number of lines is appropriately provided.
図５に、本発明の実施環境例を示す。基板投入装置／基板回収装置／各処理装置の各装置が持つコントローラ（即ちＰＬＣ：ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ ｌｏｇｉｃ ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）と、工程管理システムと、ストッカ設備を管理するストッカ設備管理システムと、がイーサネット（登録商標）により構築されたローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）を介して接続され、ＴＣＰ／ＩＰやＵＤＰ／ＩＰといった通信規格により各装置／工程管理システム／ストッカ設備管理システム間のデータの送受信が行われる。このようなネットワーク環境下において、各システムと装置は互いに管理する情報を送受信し、物流制御を実現する。上記ストッカ設備管理システム及び工程管理システムは、ネットワークを介した信号を受信、送信することによって、各制御装置に動作指示を与え、また自ら、その履歴情報をデータとしてデータベース（以下、ＤＢ）に保持する機能を備えている。 FIG. 5 shows an example of an implementation environment of the present invention. A controller (that is, programmable logic controller (PLC)), a process management system, and a stocker equipment management system that manages stocker equipment, which are included in each of the substrate loading device / substrate recovery device / each processing device, are provided by Ethernet (registered trademark). Data is transmitted / received between each apparatus / process management system / stocker facility management system according to a communication standard such as TCP / IP or UDP / IP, which is connected via a built local area network (LAN). Under such a network environment, each system and apparatus transmits and receives information managed by each other, thereby realizing physical distribution control. The stocker facility management system and the process management system give operation instructions to each control device by receiving and transmitting signals via the network, and also hold the history information as data in a database (hereinafter referred to as DB). It has a function to do.
本発明の複数の各処理ラインで処理された基板を収納するカセットをスタッカ設備内から選択し基板回収装置に搬送する手段その１である各処理ラインの基板回収装置へ搬送する回収用カセットを選択するフローを、図４に示される処理ライン（１）で処理された基板を回収するためのカセット（ＣＳ−２）４０−１を選択する場合を例として説明する。 The cassette for storing substrates processed in each of the plurality of processing lines of the present invention is selected from the stacker facility and transported to the substrate recovery apparatus. The recovery cassette to be transported to the substrate recovery apparatus of each processing line is selected. This flow will be described by taking as an example the case of selecting the cassette (CS-2) 40-1 for collecting the substrate processed in the processing line (1) shown in FIG.
図６は回収用カセットを選択し、搬送する全体フローを示す。開始後（Ｒ１）、工程管理システムは、基板回収装置（この場合は、基板回収装置３８を指す）からカセット搬送要求を受信し（Ｒ２）、受信したカセット搬送要求に対して対象処理ライン（この場合は、処理ライン（１））に搬送するカセットを選択し（Ｒ３）、選択されたカセットを基板回収装置３８へ搬送し（Ｒ４）、終了する（Ｒ５）。 FIG. 6 shows an overall flow for selecting and transporting a collection cassette. After the start (R1), the process management system receives a cassette transport request from the substrate recovery device (in this case, the substrate recovery device 38) (R2), and in response to the received cassette transport request, the process processing system (this In this case, a cassette to be transported to the processing line (1)) is selected (R3), the selected cassette is transported to the substrate recovery device 38 (R4), and the process is ended (R5).
対象処理ラインの基板回収装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｒ３）を詳しく説明する。図７は、対象処理ラインの基板回収装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｒ３）を詳細に示したフロー図である。
前提として
Ｘ：ストッカ設備に存在する基板回収用空カセット数その１
α：任意の設定数（予め設定された空カセット運用数その１）とする。
The step (R3) of selecting a cassette to be transported to the substrate recovery apparatus of the target processing line will be described in detail. FIG. 7 is a flowchart showing in detail the step (R3) of selecting a cassette to be transported to the substrate recovery apparatus of the target processing line.
As a premise, X: Number of empty cassettes for substrate recovery existing in the stocker facility 1
α: Arbitrary set number (preset number of empty cassette operations 1).
工程管理システムは、上記ステップ（Ｒ２）でカセット搬送要求を受信した後、ストッカ設備内に存在する空カセット数Ｘを算出する（Ｓ１）。ここで、算出したストッカ設備内に存在する空カセット数Ｘが設定値αよりも大きな値であった場合（Ｓ２のＹＥＳ）、ストッカ設備には空カセットが十分に存在すると判断し、ストッカ設備に存在する任意の空カセットを基板回収用カセットとして選択する（Ｓ３）。ストッカ設備に存在する空カセット数が設定値α以下であった場合（Ｓ２のＮＯ）には、ストッカ設備内には処理ラインを運用する上で十分な空カセットが存在しないと判断し、ステップ（Ｓ４）に進む。ステップ（Ｓ４）では工程管理システムは、ストッカ設備に存在するカセットのうち、各処理ラインで製造されている処理中の仕掛り基板を収納していないカセットを検索し（Ｓ４）、現在の処理ラインで使用されていない／使用されない見込みのカセットを絞り込む。更に、絞り込んだカセットの中から、空き段数の最大のカセットを基板回収用カセットとして選択する（Ｓ５）。選択された基板回収用カセットは、対象処理ラインの基板回収装置３８に搬送される。この場合の設定値αはストッカ設備に存在する運用上必要な回収用カセット数を設定すれば良い。 The process management system calculates the number X of empty cassettes present in the stocker facility after receiving the cassette transport request in step (R2) (S1). Here, when the calculated number X of empty cassettes present in the stocker facility is larger than the set value α (YES in S2), it is determined that there are sufficient empty cassettes in the stocker facility, and the stocker facility An arbitrary empty cassette that exists is selected as a substrate collection cassette (S3). If the number of empty cassettes existing in the stocker facility is equal to or less than the set value α (NO in S2), it is determined that there are not enough empty cassettes in the stocker facility to operate the processing line, and the step ( Go to S4). In step (S4), the process management system searches for a cassette that does not contain a work-in-process substrate manufactured in each processing line among the cassettes existing in the stocker facility (S4), and the current processing line. Narrow down the cassettes that are not used / expected to be used. Furthermore, the cassette having the largest number of empty stages is selected from the narrowed-down cassettes as the substrate collection cassette (S5). The selected substrate recovery cassette is transported to the substrate recovery device 38 of the target processing line. The set value α in this case may be set to the number of collection cassettes required for operation existing in the stocker facility.
このように対象処理ラインの基板回収装置に搬送するカセットを選択することによって、ストッカ設備内の回収用空カセット数を増加させることが可能となる。 Thus, by selecting a cassette to be transported to the substrate recovery apparatus of the target processing line, the number of empty cassettes for recovery in the stocker facility can be increased.
次に、複数の各処理ラインで処理するための基板が収納されているカセットをスタッカ設備内から選択し、各処理ラインの基板投入装置に搬送する手段その２である各対象処理ラインの基板投入装置に搬送するカセットを選択するフローを図４に示される処理ライン（２）の基板投入装置４２に搬送するカセットＣＳ−４（４９−１）を選択する場合を例として説明する。 Next, the cassette storing the substrates to be processed in each of the plurality of processing lines is selected from the stacker facility and transferred to the substrate input device of each processing line. A flow for selecting a cassette to be transferred to the apparatus will be described by taking as an example a case of selecting a cassette CS-4 (49-1) to be transferred to the substrate loading apparatus 42 of the processing line (2) shown in FIG.
図８は対象処理ラインの基板投入装置４２に搬送する投入用カセットを選択し、搬送する全体フローを示す。開始後（Ｔ１）、工程管理システムは、基板投入装置（この場合は、基板投入装置４２を指す）からカセット搬送要求を受信し（Ｔ２）、受信したカセット搬送要求に対して対象処理ライン（この場合は、処理ライン（２）を指す）の基板投入装置４２に搬送するカセットを選択し（Ｔ３）、選択されたカセットを基板投入装置４２へ搬送し（Ｔ４）、終了する（Ｔ５）。 FIG. 8 shows an overall flow of selecting and transporting a loading cassette to be transported to the substrate loading device 42 of the target processing line. After the start (T1), the process management system receives a cassette transportation request from the substrate loading device (in this case, the substrate loading device 42) (T2), and in response to the received cassette transportation request, the process processing system (this In this case, the cassette to be transported to the substrate loading device 42 in the processing line (2) is selected (T3), the selected cassette is transported to the substrate loading device 42 (T4), and the process is terminated (T5).
対象処理ラインの基板投入装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｔ３）を詳しく説明する。図９は、対象処理ラインの基板投入装置に搬送するカセットを選択するステップ（Ｔ３）の詳細フローを示す図である。
前提として
Ｙ：ストッカ設備内に存在する空カセット数その２
Ｆ｛Ｌｏａｄ（ｎ）｝：処理ラインｎの基板投入装置付属ポートのカセットに存在する基板枚数（ｎは処理ライン番号を示す（ｎ＝１〜ｎ））。
β：任意の設定数（予め設定された空カセット運用数その２）
γ（ｎ）：任意の設定数（ｎは処理ライン番号を示す（ｎ＝１〜ｎ））とする。
The step (T3) of selecting a cassette to be transferred to the substrate loading device of the target processing line will be described in detail. FIG. 9 is a diagram showing a detailed flow of the step (T3) of selecting a cassette to be transported to the substrate loading device of the target processing line.
As a premise: Y: Number of empty cassettes in the stocker facility 2
F {Load (n)}: The number of substrates present in the cassette of the port associated with the substrate loading device of processing line n (n indicates the processing line number (n = 1 to n))
β: Arbitrary set number (preset number of empty cassette operations 2)
γ (n): An arbitrary set number (n represents a processing line number (n = 1 to n)).
工程管理システムは、上記Ｙ、Ｆ｛Ｌｏａｄ（ｎ）｝、β、γ（ｎ）の情報をもとに、ストッカ設備及び各処理ラインにおける処理装置の稼働状況を判断し、回収用空カセットが不足しないようカセットの搬送を制御する。尚、本発明では、基板投入装置からカセット搬送要求を受信した際、ストッカ設備にその対象処理ラインの仕掛りカセットが存在する場合を対象とする。 The process management system determines the operating status of the processing equipment in the stocker facility and each processing line based on the above Y, F {Load (n)}, β, γ (n) information, and the collection empty cassette Control the conveyance of the cassette so as not to run out. In the present invention, when a cassette transfer request is received from the substrate loading apparatus, a case where an in-process cassette of the target processing line exists in the stocker facility is targeted.
ここで、カセット搬送要求を送信した処理ラインの製造品種基板が、前製造処理ライン（この場合は、処理ライン（１）を指す）の基板回収装置（この場合は、基板回収装置３８を指す）によって回収された場合、そのカセットも搬送対象に含まれるものとする。 Here, the production type substrate of the processing line that transmitted the cassette transport request is the substrate recovery device (in this case, the substrate recovery device 38) of the pre-production processing line (in this case, the processing line (1)). The cassette is also included in the object to be transported.
工程管理システムは、上記ステップ（Ｔ２）でカセット搬送要求を受信した後、ストッカ設備内に存在する空カセット数Ｙを算出する（Ｕ１）。ここで、「ストッカ設備内に存在する空カセット数」が予め設定した設定値βよりも大きな値であった場合（（Ｕ２）のＹＥＳ）、ストッカ設備には空カセットが十分に存在すると判断し、ストッカ設備に存在する処理ラインｎ（この場合は、処理ライン（１）を指す）の処理ラインの仕掛りカセットの内、処理ラインｎ（この場合は、処理ライン（１）を指す）で処理されてから経過時間が最も長いカセットを選択し基板投入装置（この場合は、基板投入装置４２を指す）へ搬送する（Ｕ３）。 The process management system calculates the number of empty cassettes Y existing in the stocker facility after receiving the cassette transport request in the above step (T2) (U1). Here, if the “number of empty cassettes present in the stocker facility” is larger than the preset value β (YES in (U2)), it is determined that there are sufficient empty cassettes in the stocker facility. The processing line n (in this case, indicates the processing line (1)) among the in-process cassettes of the processing line n (in this case, the processing line (1)) in the stocker facility. Then, the cassette having the longest elapsed time is selected and conveyed to the substrate loading device (in this case, the substrate loading device 42 is indicated) (U3).
一方、ストッカ設備に存在する空カセット数Ｙが以下であった場合（（Ｕ２）のＮＯ）、ストッカ設備内には処理ラインを運用するうえで十分な空カセットが存在しないと判断し、各処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数“Ｆ｛Ｌｏａｄ（ｎ）｝”を算出する（Ｕ４）。ここで、「いずれかの処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数」が設定値γよりも小さな値であった場合（（Ｕ５のＹＥＳ）、まもなく、いずれかの処理ラインの基板投入装置に存在する投入中カセットが、基板を全て払い出し、空カセットとしてストッカ設備に戻ると判断し、ステップ（Ｕ３）へ進む。この場合の設定値βはストッカ設備に存在する運用上必要な回収用カセット数を設定すれば良く、上記αと同じ設定値としても良い。 On the other hand, if the number of empty cassettes Y existing in the stocker facility is the following (NO in (U2)), it is determined that there are not enough empty cassettes in the stocker facility to operate the processing line, and each process The number of substrates “F {Load (n)}” existing in the line substrate loading apparatus is calculated (U4). Here, if “the number of substrates existing in the substrate loading apparatus of any processing line” is smaller than the set value γ (YES in U5), the substrate loading apparatus of any processing line will soon be It is determined that the existing cassette is discharged from the substrate and returned to the stocker facility as an empty cassette, and the process proceeds to step (U3), where the set value β is the number of cassettes required for operation existing in the stocker facility. May be set, and the same set value as α may be set.
一方、各処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数Ｆ｛Ｌｏａｄ（ｎ）｝が設定値γよりも大きな値であった場合（（Ｕ５）のＮＯ）、ストッカ設備に空カセットが増加しないと判断し、ステップ（Ｕ６）に進む。ステップ（Ｕ６）では、ストッカ設備に存在する処理ラインｎ（この場合は、処理ライン（１）を指す）の仕掛りカセットの内、最も収納枚数が少ないカセットを選択し基板投入装置（この場合は、基板投入装置４２を指す）へ搬送する（Ｕ６）。この場合の設定値γは、１枚の基板の処理速度に基いて基板投入装置に存在する基板を設定すれば良い。 On the other hand, if the number of substrates F {Load (n)} existing in the substrate loading apparatus of each processing line is larger than the set value γ (NO in (U5)), it is necessary to increase the number of empty cassettes in the stocker facility. Judge and go to step (U6). In step (U6), among the in-process cassettes of the processing line n (in this case, the processing line (1)) existing in the stocker facility, the cassette having the smallest number of stored sheets is selected and the substrate loading device (in this case) (Refer to the substrate loading device 42) (U6). The set value γ in this case may be set to a substrate existing in the substrate loading apparatus based on the processing speed of one substrate.
このように対象処理ラインの基板投入装置に搬送するカセットを選択することによって、処理ラインｎに搬送されたカセットが、基板投入設備から基板の投入を終え、空カセットとなってストッカ設備に戻るまでの時間を最短にすることが出来、その結果、ストッカ設備内の回収用空カセット数を増加させることが可能となる。 By selecting the cassette to be transferred to the substrate loading device of the target processing line in this way, the cassette transferred to the processing line n finishes loading the substrate from the substrate loading facility, and returns to the stocker facility as an empty cassette. , And as a result, the number of empty cassettes for collection in the stocker facility can be increased.
尚、本発明を実施するための形態をカラーフィルタ基板を例示したが、カラーフィルタ基板に限定されず、本発明は広くカラーフィルタ製造ラインや半導体製造ラインにおいて仕掛り中の基板を収納するカセットを選択する場合に適用される。 In addition, although the color filter substrate was illustrated as the form for implementing this invention, it is not limited to a color filter substrate, this invention is a cassette which accommodates the board | substrate under construction in a color filter manufacturing line and a semiconductor manufacturing line widely. Applies when selecting.
このようにして、本発明による仕掛りカセット搬送制御システムによれば、仕掛カセット保管のためのストッカ設備容積の増大を防ぎ、その結果、設備費用の増大を防ぐことができる。また、処理装置の稼働率を向上させることが可能となり、また処理装置の処理基板の待ち時間による材料消費のムダを防ぐことが可能となる。 In this way, according to the in-process cassette transport control system according to the present invention, it is possible to prevent an increase in the capacity of the stocker equipment for storing in-process cassettes, and as a result, it is possible to prevent an increase in equipment costs. In addition, the operating rate of the processing apparatus can be improved, and waste of material consumption due to the waiting time of the processing substrate of the processing apparatus can be prevented.
１・・・カラーフィルタ
２・・・基板
３・・・ブラックマトリックス（ＢＭ）
４−１・・・レッドＲの着色画素（Ｒ画素）
４−２・・・グリーンＧの着色画素（Ｇ画素）
４−３・・・ブルーＢの着色画素（Ｂ画素）
５・・・透明電極
６・・・フォトスペーサー（ＰＳ）
７・・・バーティカルアライメント（ＶＡ）
１１・・・ストッカ設備
１２・・・ＢＭ形成処理ラインの基板投入装置
１３・・・ＢＭ膜塗布装置
１４・・・露光装置
１５・・・現像装置
１６・・・オーブン
１７・・・基板回収装置
２２・・・処理ラインＢの基板投入装置
２３・・・Ｒ／Ｇ／Ｂ膜塗布装置
２４・・・露光装置
２５・・・現像装置
２６・・・オーブン
２７・・・基板回収装置
３１・・・ストッカ設備
３２・・・基板投入装置
３３・・・塗布装置
３４・・・露光装置
３５・・・現像装置
３６・・・オーブン
３７・・・検査装置
３８・・・基板回収装置
４２〜４８・・・基板投入装置〜基板回収装置
３９−１・・・仕掛りカセットその１（ＣＳ−１）
４０−１・・・基板回収用カセットその２（ＣＳ−２）
４０−２・・・基板回収用カセットその３（ＣＳ−３）
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Color filter 2 ... Substrate 3 ... Black matrix (BM)
4-1 ... Red R colored pixels (R pixels)
4-2 ... Green G coloring pixel (G pixel)
4-3 ... Blue B colored pixels (B pixels)
5 ... Transparent electrode 6 ... Photospacer (PS)
7 ... Vertical alignment (VA)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Stocker equipment 12 ... Substrate input device 13 of BM formation processing line ... BM film coating device 14 ... Exposure device 15 ... Development device 16 ... Oven 17 ... Substrate recovery device 22 ... Processing line B substrate loading device 23 ... R / G / B film coating device 24 ... Exposure device 25 ... Developing device 26 ... Oven 27 ... Substrate recovery device 31 ... Stocker equipment 32 ... substrate loading device 33 ... coating device 34 ... exposure device 35 ... developing device 36 ... oven 37 ... inspection device 38 ... substrate recovery devices 42-48 ..Substrate input device to substrate recovery device 39-1 ... In-process cassette 1 (CS-1)
40-1 ... Cassette for cassette recovery 2 (CS-2)
40-2 ... Cassette for cassette recovery 3 (CS-3)
Claims (1)
前記仕掛り基板が収納されているカセットを前記ストッカ設備から選択する手順が、
（１）前記基板投入装置からカセットの搬送要求があった時、前記ストッカ設備内に存在する空カセット数Ｃを算出し、予め設定した空カセットの運用数Ｄと比較し、
（２）前記Ｃの値が前記Ｄの値以上であった場合、カセット搬送要求した処理ラインの対象品種基板を収納した仕掛りカセットの内、処理されてから経過時間が最も長い仕掛りカセットを選択し、
（３）前記Ｃの値が前記Ｄの値より小さい場合、さらに各処理ラインの基板投入装置に存在する基板枚数Ｅを基準値Ｆと比較し、前記Ｅの値が前記Ｆの値以下の場合、複数の前記処理ラインの仕掛りカセットの内、処理されてから経過時間が最も長いカセットを選択し、
（４）前記Ｃの値が前記Ｄの値より小さく、かつ、前記Ｅの値が前記Ｆの値より大きい場合、ストッカ設備に存在する仕掛りカセットの内、最も収納枚数が少ないカセットを選択し、
上記、（２）から（４）で選択したカセットを前記基板投入装置に搬送することを特徴とする仕掛りカセット搬送制御システム。 An in- process cassette and a processing line for storing substrates (in-process substrates) to be input into the processing line with respect to substrate input devices and substrate recovery devices arranged in a plurality of processing lines for manufacturing substrates used in liquid crystal display devices A system for selecting and transporting from a stocker facility for temporarily storing a cassette (empty cassette) for storing a substrate processed in (1) ,
The work-in-progress procedures substrate cassette housed selecting the stocker equipment or colleagues,
(1) When there is a cassette transport request from the substrate loading device, the number of empty cassettes C existing in the stocker facility is calculated and compared with a preset number of empty cassettes D,
(2) If the value of C is equal to or greater than the value of D, the in-process cassette having the longest elapsed time after processing is processed among the in-process cassettes storing the target product type substrate of the processing line requested to be transported by the cassette. Selected,
(3) When the value of C is smaller than the value of D, the number of substrates E existing in the substrate loading apparatus of each processing line is compared with a reference value F, and the value of E is less than the value of F Selecting a cassette having the longest elapsed time since being processed among the in-process cassettes of the plurality of processing lines;
(4) When the value of C is smaller than the value of D and the value of E is larger than the value of F, the cassette having the smallest number of stored sheets is selected from the in-process cassettes existing in the stocker facility. ,
An in-process cassette transport control system for transporting the cassette selected in (2) to (4) to the substrate loading device .
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