JP5646861B2 - Measuring device and measuring method - Google Patents
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Description
本発明は、計測装置および計測方法に関する。 The present invention relates to a measuring device and a measuring method.
連続した曲面を有する計測対象に光ビームを投射して、投射光と当該対象面による反射光との関係から当該対象面の曲面形状を計測する計測装置がある(特許文献1参照)。
[先行技術文献]
[特許文献]
[特許文献1]特開2003−344028号公報
There is a measuring apparatus that projects a light beam onto a measurement target having a continuous curved surface and measures the curved surface shape of the target surface from the relationship between the projected light and the reflected light from the target surface (see Patent Document 1).
[Prior art documents]
[Patent Literature]
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-344028
しかしながら、精度の高い計測装置は計測範囲が狭いので、計測対象の寸法が限られる。一方、光ビームを変位させる光学系を加えて測定対象範囲を拡げると測定精度が低下する。 However, since the measuring device with high accuracy has a narrow measuring range, the dimension of the measuring object is limited. On the other hand, if an optical system for displacing the light beam is added to widen the measurement target range, the measurement accuracy decreases.
そこで、上記課題を解決すべく、本発明の第一態様として、対象面に向かって光ビームを投射する投射部と、対象面で反射された光ビームを受光して対象面の局所的形状を特定する特定部と、光ビームの投射角度を維持しつつ光ビームを並進させる並進部と、光ビームの並進に伴って特定部が順次特定する局所的形状を蓄積して、対象面の連続的形状を算出する算出部と、光ビームの投射角度を変更する変更部と、変更部が投射角度を第一角度から第二角度に変更した場合に、特定部に、第一角度による対象面への投射位置に第二角度により光ビームを投射させ、且つ、当該投射位置における局所的形状を再び特定させる制御部とを備え、対象面の形状を計測する計測装置が提供される。 Therefore, in order to solve the above-described problem, as a first aspect of the present invention, a projection unit that projects a light beam toward the target surface, and a light beam reflected by the target surface is received and the local shape of the target surface is determined. A specific part to be identified, a translation part that translates the light beam while maintaining the projection angle of the light beam, and a local shape that is sequentially identified by the specific part as the light beam is translated, When the calculation unit that calculates the shape, the changing unit that changes the projection angle of the light beam, and the changing unit changes the projection angle from the first angle to the second angle, the specific unit is moved to the target surface by the first angle. And a control unit that projects a light beam to the projection position at a second angle and specifies the local shape at the projection position again, and provides a measurement device that measures the shape of the target surface.
また、本発明の第二態様として、対象面に向かって光ビームを投射する投射段階と、対象面で反射された光ビームを受光して対象面の局所的形状を特定する特定段階と、光ビームの投射角度を維持しつつ光ビームを並進させて、局所的形状を順次蓄積する蓄積段階と、蓄積された局所的形状から対象面の連続的形状を算出する算出段階と、対象面で反射された光ビームの投射角度を変更する変更段階と、投射角度を第一角度から第二角度に変更した場合に、第一角度による対象面への投射位置に第二角度により光ビームを投射し、当該投射位置における局所的形状を再び特定する再特定段階とを備え、対象面の形状を計測する計測方法が提供される。 Further, as a second aspect of the present invention, a projecting step of projecting a light beam toward the target surface, a specifying step of receiving the light beam reflected by the target surface and specifying the local shape of the target surface, and light A translation stage that translates the light beam while maintaining the beam projection angle and sequentially accumulates the local shape, a calculation stage that calculates the continuous shape of the target surface from the accumulated local shape, and reflection at the target surface When the projection angle is changed from the first angle to the second angle, the light beam is projected by the second angle to the projection position on the target surface by the first angle. A re-specification step of re-identifying the local shape at the projection position, and a measurement method for measuring the shape of the target surface is provided.
上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションも発明となり得る。 The above summary of the present invention does not enumerate all necessary features of the present invention. Further, a sub-combination of these feature groups can be an invention.
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。 Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. In addition, not all the combinations of features described in the embodiments are essential for the solving means of the invention.
図1は、計測装置100の構造を示す模式的正面図である。計測装置100は、枠体110と、枠体110に装着されたオートコリメータ120、並進テーブル130、回転テーブル140および光学系150を備える。
FIG. 1 is a schematic front view showing the structure of the
枠体110は、水平な定盤116と、定盤116上に起立する複数の支柱114と、支柱114に水平に支持されたガイドレール112とを有する。ガイドレール112、支柱114および定盤116はそれぞれ高剛性な材料により形成される。これにより、後述する計測装置100の動作に伴う反力が作用した場合も枠体110は変形しない。なお、定盤116の上面には、計測装置100に形状を計測される対象となる試料160が置かれる。
The
オートコリメータ120は、支柱114のひとつに水平に支持されて、水平な光ビームB1を出射する。光ビームB1は、後述する固定鏡154および回転鏡152に順次反射されて、試料160上面の投射位置P1に投射される。
Autocollimator 120 is supported horizontally on one of the
なお、オートコリメータ120は、試料160に投射した光ビームB1の反射光を受光して、光ビームB1が投射された投射位置P1における試料160表面の傾きを測定する。換言すれば、オートコリメータ120の測定範囲は、出射した光ビームB1の反射光を、オートコリメータ120自体が受光できる範囲に制限される。
Incidentally,
並進テーブル130は、ガイドレール112から支持されつつ、図示していない駆動部に駆動されて、ガイドレール112に沿って水平に並進する。ここで、ガイドレール112および並進テーブル130には、図示していないリニアスケールおよびリニアエンコーダ等が配され、並進テーブル130の移動量を検出できる。
The translation table 130 is supported by the
また、並進テーブル130には、回転テーブル140および光学系150が搭載される。並進テーブル130が移動した場合、回転テーブル140および光学系150も並進テーブル130と共に移動する。
The translation table 130 is equipped with a rotary table 140 and an
光学系150は、回転鏡152および固定鏡154を含む。固定鏡154は、並進テーブル130に直接に固定され、並進テーブル130が移動した場合は共に並進する。また、固定鏡154は、オートコリメータ120が出射した水平な光ビームB1を、並進テーブル130の位置に関わりなく、回転鏡152に向かって反射する。
The
回転鏡152は、並進テーブル130に搭載された回転テーブル140に対して固定される。回転テーブル140は、光ビームB1および並進テーブル130の並進方向に直交する回転軸の回りに回転する。回転鏡152は、回転テーブル140の回転軸と平行な反射面を有する。
The
なお、回転テーブル140および並進テーブル130の間には、図示していないロータリースケールおよびロータリエンコーダが配される。これにより、回転テーブル140が回転した場合の回転角度を計測できる。
A rotary scale and a rotary encoder (not shown) are disposed between the rotary table 140 and the translation table 130. Thereby, the rotation angle when the
これにより、回転テーブル140が回転した場合、回転鏡152は、固定鏡154から受けた光ビームB1の試料160に対する投射角度を変化させることができる。光ビームB1の投射角度を変化させた場合は、試料160による光ビームB1の反射光の反射角度も変化する。ただし、光ビームB1の投射角度を変化させた場合、定盤116上における試料160に対する光ビームB1の投射位置P1も変化する。
Thereby, when the rotary table 140 rotates, the
回転テーブル140を固定した状態で並進テーブル130を並進させた場合は、試料160に対する光ビームB1の投射角度を維持したまま、光ビームB1を並進させることができる。これにより、光ビームB1の試料160に対する照射角度を維持したまま、照射位置P1を移動させることができる。
When the translation table 130 is translated with the rotary table 140 fixed, the light beam B 1 can be translated while maintaining the projection angle of the light beam B 1 with respect to the
ここで、回転鏡152および固定鏡154の一対の反射鏡を組み合わせて光ビームB1を誘導することにより、ガイドレール112の不陸等に起因する並進テーブル130の並進に伴う傾きの変化等を自律的に打ち消すことができる。これにより、並進テーブル130を移動させながら計測した場合の計測精度が維持される。
Here, by combining the pair of reflecting mirrors of the
なお、制御部118は、上記並進テーブル130および回転テーブル140の動作を制御する。また、並進テーブル130を並進させた場合、および、回転テーブル140を回転させた場合、制御部118は、その移動量および回転量を測定して保持する。更に、制御部118は、オートコリメータ120の測定結果に基づいて、後述するように試料160の形状を算出する。
The
図2は、計測装置100を用いた計測手順を示す流れ図である。また、図3から図7は、計測装置100の動作を、その段階毎に示す。以下、図3から図7までを順次参照しつつ、図2に示す計測手順を説明する。なお、図2から図7までにおいて、図1と同じ要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。
FIG. 2 is a flowchart showing a measurement procedure using the
まず、定盤116に試料160を載置し、次いでオートコリメータ120を起動して、図1に示したように、固定鏡154および回転鏡152を介して、光ビームB1を試料160に投射する(ステップS101)。ここで、制御部118は、投射された光ビームB1の、試料160による反射光がオートコリメータ120に受光されているか否かを調べる(ステップS102)。
First, the
図3に示すように、試料160による反射光がオートコリメータ120に受光されている場合(ステップS102:YES)、オートコリメータ120が、光ビームB1が投射された位置における試料160の表面の傾きを測定し、制御部118が測定結果を記録する(ステップS103)。これにより、光ビームB1が投射された投射位置P1における試料160の局所的な形状が特定される。
FIG as shown in 3, if the light reflected by the
更に、投射位置P1における試料160の局所的な形状を特定できた場合に、制御部118は、当該局所的形状を最後に特定できた投射位置を記録する。更に、以下のステップで局所的形状が特定される毎に、制御部118は当該投射位置を更新する(ステップS104)。
Furthermore, when the can identify local shape of the
なお、試料160に対する光ビームB1の投射位置は、例えば、光ビームB1の投射位置に他の光源から投射したビームマーカにより記録できる。また、並進テーブル130の位置および光ビームB1の投射角度に基づいて、制御部118が光ビームB1の投射位置を算出して、制御部118がその値を保持してもよい。
Incidentally, the projection position of the light beams B 1 to the
次に、図4に矢印M1で示すように、制御部118は、並進テーブル130をガイドレール112に沿って移動させる(ステップS105)。並進テーブル130を移動させた後には、投射した光ビームB1が試料160に投射されているか否かを調べる(ステップS106)。
Next, as shown by the arrow M 1 in FIG. 4, the
光ビームB1の投射位置が試料160の存在する範囲を通りすぎている場合(ステップS106:NO)は、試料160の形状計測を終了する。なお、光ビームB1の投射位置が試料160の存在する範囲を通りすぎていることは、試料160の既知の仕様から予測することもできるし、オートコリメータ120による測定結果が突然に大きく変化したことにより検知することもできる。
If the projection position of the light beams B 1 is too as a range in the presence of the sample 160 (step S106: NO) ends the shape measurement of the
並進テーブル130の移動後も光ビームB1が試料160に投射されている場合(ステップS106:YES)は、ステップS102からステップS106までを繰り返すことにより、例えば、図4に示すように、投射位置P1からP2まで、試料160の表面の局所的な傾きを次々に計測して蓄積できる。このとき、回転テーブル140は固定されており、光ビームB1の試料160に対する投射角度は角度αに保たれる。
If after movement of the translation table 130 also has the light beams B 1 is projected on the sample 160 (step S106: YES), by repeating steps S102 to step S106, for example, as shown in FIG. 4, the projection position From P 1 to P 2 , the local inclination of the surface of the
ただし、例えば、図5に示すように光ビームB1の投射位置がP3まで移動して、試料160表面の傾きが大きく変化した場合、光ビームB1の反射光がオートコリメータ120に受光されなくなる(ステップS102:NO)。このような場合、制御部118は、図6に矢印Rで示すように、回転テーブル140を回転させて回転鏡152の角度を角度βに変更する(ステップS107)。
However, for example, as shown in FIG. 5, when the projection position of the light beam B 1 moves to P 3 and the inclination of the surface of the
更に、制御部118は、投射角度を角度βに保ったまま、図7に矢印M3で示すように、並進テーブル130を移動させて、光ビームB1の試料160に対する投射位置を、局所的形状を特定できた最後の投射位置として記録されている投射位置P2に合わせる(ステップS108)。この状態で、再び、光ビームB1の試料160による反射光がオートコリメータ120に受光されているか否かを調べる(ステップS102)。
Furthermore, the
以下、光ビームB1の反射光がオートコリメータ120に受光されるまで、上記のステップS102、S107およびS108を繰り返すことにより、新たな投射角度で、最後に局部的形状を特定できた投射位置P2から、試料160の形状特定を再開できる。これにより、試料160が存在する範囲から光ビームB1の投射位置がはずれるまで、試料160の表面の局所的形状を繰り返し特定できる。こうして得られた局所的形状を積分することにより、試料160の表面形状を、正確且つ連続的に計測できる。
Hereinafter, the reflection light of the light beams B 1 is received by the
なお、上記の例では、投射角度の変更(ステップS107)、投射位置合わせ(ステップS108)および反射光の受光確認(ステップS102)を繰り返すと記載した。しかしながら、試料160の表面形状は、多くの場合滑らかに連続しているので、直前の計測内容から、次に設定すべき投射角度と、当該投射角度に応じた投射位置合わせに求められる並進テーブル130の移動量を予測することができる。
In the above example, it is described that the change of the projection angle (step S107), the alignment of the projection position (step S108), and the reception confirmation of the reflected light (step S102) are repeated. However, since the surface shape of the
また、上記の説明では、オートコリメータ120が反射光を受光しなくなってから投射角度を変更する手順を説明した。しかしながら、オートコリメータ120による試料160表面の測定値が、オートコリメータ120の測定限界にある程度近づいた時点で、投射角度を変更してもよい。これにより、オートコリメータ120の測定可能範囲の中央付近を使って、より高い精度で試料160の局所的形状を特定できる。
In the above description, the procedure for changing the projection angle after the
図8は、計測装置100の他の構造を示す模式的正面図である。なお、図8に示した計測装置100は、以下に説明する部分を除くと、図1に示した計測装置100と同じ構造を有する。そこで、共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。
FIG. 8 is a schematic front view showing another structure of the measuring
図8に示す計測装置100は、オートコリメータ120に換えて、1対のレーザ測長機172、174を備える点に固有の特徴がある。即ち、一対のレーザ測長機172、174は、僅かな間隔をおいて平行な光ビームB3、B4を出射して、固定鏡154および回転鏡152を介して試料160に照射する。
The measuring
一対のレーザ測長機172、174の各々は、測定対象までの距離を測定できるが、上記のような構成とすることにより、差動レーザ測長機170を形成できる。これにより、個々のレーザ測長機172、174の測定誤差を打ち消して、光ビームB3、B4の投射位置までの距離を高精度に特定できる。よって、試料160の表面に沿って繰り返し計測した投射位置を蓄積して積分することにより、試料160の表面の形状を高精度に計測できる。
Each of the pair of laser
なお、この計測装置100の場合も、試料160に対する光ビームB3、B4の投射角度を変更した場合に、最後に形状を特定できた位置と同じ、試料160の表面における投射位置に光ビームB3、B4を投射して計測を再開する。これにより、高い測定精度を連続的に継続させた表面形状を計測できる。
In the case of this measuring
上記のような計測装置100においては、1対のレーザ測長機172、174が発生する2本の光ビームB3、B4の間隔を変更できる。よって、計測に求められる計測精度が低い場合は、光ビームB3、B4の間隔をより広くして、測定作業にかかる時間を短縮できる。なお、局所的形状の測定間隔を拡げることによっても同様の効果が得られる。
In the
図9は、計測装置100のまた他の構造を示す模式的正面図である。なお、図9に示した計測装置100も、以下に説明する部分を除くと、図1に示した計測装置100と同じ構造を有する。そこで、共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。
FIG. 9 is a schematic front view showing still another structure of the measuring
図9に示す計測装置100は、並進テーブル130上の回転テーブル140に、回転鏡152に換えて、他のオートコリメータ124を搭載する点に固有の特徴がある。オートコリメータ124が出射する光ビームB1は、定盤116上の試料160に直接に投射される。
The measuring
また、計測装置100は、並進テーブル130に固定された固定鏡156と、支柱114のひとつに水平に固定されたオートコリメータ122とを備える。固定鏡156は、オートコリメータ122が出射した光ビームB5を反射して、再びオートコリメータ122に返す。これにより、並進テーブル130の移動に伴ってオートコリメータ124に生じた傾き等をオートコリメータ122により検出して、オートコリメータ124による計測値を補正できる。
The measuring
更に、この計測装置100の場合も、回転テーブル140を回転させて試料160に対する光ビームB1の投射角度を変更した場合に、その直前に試料の局部的形状を特定できた位置に、再び光ビームB1を投射して、同じ位置の局部的形状を、異なる投射角度の光ビームB1により特定する。これにより、高い測定精度を連続的に継続させた表面形状を計測できる。
Furthermore, even if the measuring
上記のような計測装置100においては、計測に使用する光ビームB1、B5の各々の光路長が短い。これにより、計測環境の温度変化、雰囲気の揺らぎ等の影響を受け難く、測定精度の向上と安定が得られる。
In the
なお、上記の計測装置100において、回転するオートコリメータ124は、当該オートコリメータ124の光軸と回転テーブル140の回転軸とが交差するように配置されてもよい。これにより、試料160の全体の形状を算出する場合の計算が容易になる。ただし、オートコリメータ124の光軸と回転テーブル140の回転軸とが交差していない場合であっても、両者のずれ量が判っていれば、試料160の正確な形状を算出できる。換言すれば、当該ずれ量の測定を誤った場合は、測定結果に誤差が生じる。
In the
図10は、計測装置100の他の構造を示す模式的平面図である。また、図11は、図10に示した計測装置100の、図中Y方向から見た側面図である。図10および図11においても、他の計測装置100と共通の要素に同じ参照番号を付して重複する説明を省く。
FIG. 10 is a schematic plan view showing another structure of the measuring
計測装置100は、定盤116から起立した支柱の上端面に、一対のガイドレール182を備える。ガイドレール182は、図11において紙面に直交し、図10に示すY方向に延在する。また、ガイドレール182は、X方向に延在する移動ガイドレール184の両端と係合する。これにより、移動ガイドレール184は、ガイドレール182に沿って、図11において紙面に直交するY方向に移動する。
The measuring
また、一方の支柱114の上端に、ガイドレール182と平行に、オートコリメータ120が支持される。オートコリメータ120は、ガイドレール182と平行に、移動ガイドレール184の側面に向かって光ビームB1を出射する。
In addition, the
移動ガイドレール184の側面には、水平面上で光ビームB1の伝播方向を変更する導入鏡186が配される。導入鏡186により反射されることにより、光ビームB1は、ガイドレール182上の移動ガイドレール184の位置如何にかかわらず、移動ガイドレール184の長手方向に、移動ガイドレール184と平行に伝播する。
The side surfaces of the moving
また、移動ガイドレール184の側面には、並進テーブル130と、並進テーブル130に搭載された回転テーブル140とが配される。並進テーブル130には固定鏡154が、回転テーブル140には回転鏡152がそれぞれ搭載される。
A translation table 130 and a rotary table 140 mounted on the translation table 130 are disposed on the side surface of the
並進テーブル130は、図示していない駆動部に駆動されて、移動ガイドレール184に沿って水平に並進する。固定鏡154は、並進テーブル130と共に並進する。固定鏡154は、導入鏡186により反射された光ビームB1を受けて、並進テーブル130の位置に関わりなく回転鏡152に向かって反射する。
The translation table 130 is driven by a drive unit (not shown) and translates horizontally along the
回転鏡152は、固定鏡154から受けた光ビームB1の投射角度を変化させることができる。光ビームB1の投射角度を変化させた場合、定盤116上における試料160に対する光ビームB1の投射位置P1も変化する。よって、回転鏡152を適切に回転させることにより、試料160に対する光ビームB1の投射位置P1を変更できる。
The
また、回転テーブル140を固定した状態で並進テーブル130を並進させた場合、試料160に対する光ビームB1の照射角度を維持したまま、光ビームB1を並進させることができる。これにより、光ビームB1の試料160に対する照射角度を維持したまま、照射位置P1を移動させることができる。
When the translation table 130 is translated with the rotary table 140 fixed, the light beam B 1 can be translated while maintaining the irradiation angle of the light beam B 1 with respect to the
よって、移動ガイドレール184が停止している場合、移動ガイドレール184を、図1におけるガイドレール112と見做すことにより、移動ガイドレール184と平行なひとつの面で切った試料160の表面形状を、図1に示した計測装置100と同様に計測できる。
Therefore, when the moving
更に、移動ガイドレール184を移動させることにより、他の面で切った場合の試料160の表面形状を計測できる。従って、移動ガイドレール184を繰り返し移動させることにより、試料160の表面の二次元的な形状を計測できる。
Furthermore, by moving the moving
なお、定盤116上で試料160を支持する試料台190を回転可能にすることにより、レンズのように回転体形状を有する試料160の形状を効率よく計測できる。
In addition, by making the
なお、上記の実施形態はいずれの場合も、水平の定盤116または試料台190に試料160を載置して、その上面の形状を計測している。しかしながら、計測時の光ビームの方向がこれに限られるわけではない。また、光学素子の表面形状の計測等では、試料の形状への重力の影響も加味して、実装状態の光学素子の表面形状を測定する場合もある。このような場合は、いわば、試料160に対して計測装置100を取り付けて形状を測定する。
In any of the above embodiments, the
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。 As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above-described embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.
特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を、後の処理で用いる場合でない限り、任意の順序で実現しうることに留意されたい。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。 The order of execution of each process such as operations, procedures, steps, and stages in the apparatus, system, program, and method shown in the claims, the description, and the drawings is particularly “before” or “prior to”. It should be noted that the output of the previous process may be realized in any order unless used in a subsequent process. Regarding the operation flow in the claims, the description, and the drawings, even if it is described using “first”, “next”, etc. for convenience, it means that it is essential to carry out in this order. It is not a thing.
100 計測装置、110 枠体、112、182 ガイドレール、114 支柱、116 定盤、118 制御部、120、122、124 オートコリメータ、130 並進テーブル、140 回転テーブル、150 光学系、152 回転鏡、154、156 固定鏡、160 試料、170 差動レーザ測長機、172、174 レーザ測長機、184 移動ガイドレール、186 導入鏡、190 試料台
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記対象面で反射された前記光ビームを受光して前記対象面の局所的な傾斜により局所的形状を特定する特定部と、
前記光ビームの投射角度を維持しつつ前記光ビームを並進させる並進部と、
前記光ビームの並進に伴って前記特定部が順次特定する前記局所的形状を蓄積して、前記対象面の連続的形状を算出する算出部と、
前記光ビームの投射角度を変更する変更部と、
前記変更部が前記投射角度を第一角度から第二角度に変更した場合に、前記特定部に、前記第一角度による前記対象面への投射位置に前記第二角度により前記光ビームを投射させ、且つ、当該投射位置における局所的形状を再び特定させる制御部と
を備え、前記対象面の形状を計測する計測装置。 A projection unit that projects a light beam toward a target surface;
A specifying unit that receives the light beam reflected by the target surface and specifies a local shape by a local inclination of the target surface;
A translation unit that translates the light beam while maintaining a projection angle of the light beam;
A calculation unit that accumulates the local shapes sequentially specified by the specifying unit in accordance with the translation of the light beam, and calculates a continuous shape of the target surface;
A changing unit for changing a projection angle of the light beam;
When the changing unit changes the projection angle from the first angle to the second angle, the specifying unit causes the light beam to be projected at the projection position on the target surface by the first angle at the second angle. And a control unit for re-specifying the local shape at the projection position, and measuring the shape of the target surface.
発生した前記光ビームを反射する固定鏡と、
前記固定鏡が反射した光ビームを更に反射して前記対象面に投射し、且つ、揺動して前記投射角度を変更する可動鏡と
を有する請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の計測装置。 The changing unit is
A fixed mirror that reflects the generated light beam;
The fixed mirror is further reflected light beam reflected projected on the target surface, and any one of claims 1 and a movable mirror for changing the projection angle swings to claim 4 measuring device according to.
前記対象面に向かって光ビームを投射するオートコリメータと、
前記オートコリメータを支持しつつ回転する回転台と
を有する請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の計測装置。 The changing unit is
An autocollimator that projects a light beam toward the target surface;
The measurement apparatus according to claim 1, further comprising: a turntable that rotates while supporting the autocollimator.
前記対象面で反射された前記光ビームを受光して前記対象面の局所的な傾斜により局所的形状を特定する特定段階と、
前記光ビームの投射角度を維持しつつ前記光ビームを並進させて、前記局所的形状を順次蓄積する蓄積段階と、
蓄積された前記局所的形状から前記対象面の連続的形状を算出する算出段階と、
前記対象面で反射された前記光ビームの投射角度を変更する変更段階と、
前記投射角度を第一角度から第二角度に変更した場合に、前記第一角度による前記対象面への投射位置に前記第二角度により前記光ビームを投射し、当該投射位置における局所的形状を再び特定する再特定段階と
を備え、前記対象面の形状を計測する計測方法。 A projection stage for projecting a light beam toward the target surface;
A specific step of receiving the light beam reflected by the target surface and specifying a local shape by a local inclination of the target surface;
An accumulation step of sequentially accumulating the local shapes by translating the light beam while maintaining a projection angle of the light beam;
A calculation step of calculating a continuous shape of the target surface from the accumulated local shape;
A change step of changing a projection angle of the light beam reflected by the target surface;
When the projection angle is changed from the first angle to the second angle, the light beam is projected by the second angle to the projection position on the target surface by the first angle, and the local shape at the projection position is changed. A re-specifying step for re-specifying, and measuring a shape of the target surface.
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