JP5654735B2 - 結像光学器械及びその結像光学器械を含む投影露光装置 - Google Patents
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Description
請求項1に記載の結像光学器械は、偶数回の反射により、対物面と像面の自動的な分離をもたらす。公知の設計においてそのような分離に用いられる平面折り返しミラーは、省略することができる。
請求項2に記載の4ミラー光学器械は、反射回数の好ましい低減をもたらす。例えば、US2004/0001191A1による2つの折り返しミラーを有するWynne−Dyson設計では、5回の反射が必要である。
相応の利点は、請求項4の設計に対しても成り立つ。
請求項5から請求項7に記載の設計は、良好な収差制御の可能性を与える。
特定の視野高さが与えられると、請求項8の設計は、小さいミラーを有利に用いる。最も大きい光学構成要素の最大光学面寸法は、特に、最大視野寸法の1.4倍よりも小さく、1.3倍よりも小さく、1.2倍よりも小さく、又は更に1.15倍よりも小さいものとすることができる。
請求項11に記載の結像光学器械は、色収差を回避する。
請求項12に記載の点対称設計は、両方とも結像光学器械に用いることができるミラー対を製造する可能性を与える。
請求項13に記載の2つの中間像面は、これらの像面の少なくとも一方に位置する要素を通じて像視野の大きさ及び形状の付加的な制御の可能性を与える。
請求項15に記載の非対称設計は、一方で物体側、更に他方で像側における独立した収差制御の可能性を提供する。
請求項16に記載の中間像面の利点は、請求項13のものに対応する。
請求項17に記載の瞳ミラーは、瞳補正及び従って照明角度分散の補正の可能性を与える。瞳ミラーの瞳面までの距離は、50mmよりも小さく、又は10mmよりも小さいものとすることができる。
請求項19に記載の非球面瞳ミラーは、良好な収差制御をもたらす。
請求項26及び請求項27に記載の物体視野関連の対、並びに請求項29及び請求項30に記載の像視野関連の対は、これらに続く結像光学器械の光学構成要素の大きさを縮小するのに役立つ。物体関連のミラー対の最初のミラーは、600mmよりも小さい焦点距離を有することができる。像関連のミラー対の最後のミラーは、600mmよりも小さい焦点距離を有することができる。
請求項31の主題の利点は、請求項3及び請求項4のものに対応する。
大きい視野高さが与えられる場合には、請求項32に記載の設計は、コンパクトである。
請求項33の主題の利点は、請求項8のものに対応する。
請求項34の主題の利点は、請求項9のものに対応する。
請求項35及び請求項36の主題の利点は、請求項10及び請求項11のものに対応する。
請求項40から請求項42の主題の利点は、請求項17から請求項19のものに対応する。
請求項43及び請求項44に記載の設計は、対称な設置の可能性を与える。
請求項45に記載の対称設計は、請求項12に記載の対称設計のものに対応する利点を有する。
請求項47に記載の倍率は、結像される非常に大きい物体に対する必要性を省く。
請求項48に記載の投影露光装置の利点は、請求項1から請求項47に記載の結像光学器械に関して上述したものに対応する。
これより本発明の例示的な実施形態を図面を参照して説明する。これらは、以下に示されている。
投影露光装置1は、対物面3内の物体視野を照明するための照明システム2を含む。物体視野は、部分環又はピッチ円視野であり、これに対しては、下記により詳細に説明する。投影露光装置1は、走査システムである。投影露光装置1によって結像されることになる構造を保持するマスク4は、物体視野を通じて走査される。図1では、走査方向は、y軸に対して平行である。マスク4は、マスク台7の横方向の保持構成要素5、6の間に保持される。投影露光装置1のフラットパネルディスプレイ製造用途では、物体視野は、走査方向に対して垂直な寸法に数十又は数百ミリメートルの標準幅を有する。走査方向に対して平行に、物体視野は、数ミリメートルの標準スリット幅を有する。
像面9内では、投影露光装置1の結像光に敏感なコーティングを有するフラットパネルディスプレイのための基板11の表面10が、y軸に対して平行に、すなわち、マスク4の走査方向に対して平行に走査される。基板11は、基板台12上に保持される。
投影露光装置1は、投影露光装置の線状アレイの一部とすることができ、これに対しては、US6、512、573B2に詳細に説明されている。
結像光学器械13は、開口数0.10を有する。
物体視野14及びそれに対応する像視野17は、500mmの半径及び数ミリメートル、例えば、1mm、2mm、3mmのスリット幅を有するピッチ円の形状を有する。
物体視野14及び像視野17は、ほぼ半円形状を有する。従って、x方向に沿って測定された光学視野14及び像視野17の最大視野寸法は、視野半径Rと同程度、すなわち、500mmと同程度である。
ミラーM1及びM4の最大光学面寸法Dx、Dyは、このx方向の最大視野寸法S(x)の1.5倍よりも小さい。寸法Dx、Dyを図13及びそれに続く表に関して下記に定める。
結像光学器械13では、結像光15は、反射手段だけにより、すなわち、ミラーM1からM4だけによって誘導される。
結像光学器械13は、テレセントリックである。結像光学器械13の対称性により、このテレセントリック性は、結像光学器械13の物体側と像側の両方で成り立つ。
結像光学器械13では、物体視野14と像視野17は、付加的な折り返しミラーを採用せずに分離することができる。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2)]+A*h4+B*h6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.1;|β|=1.0
結像光学器械18も同様に、1の倍率βを有する。結像光学器械18は、物体視野14から始まって光路内で連続して番号が振られた6つのミラーM1、M2、M3、M4、M5、及びM6を有する。従って、結像光学器械18においても、結像光15は、偶数回の反射を受ける。全てのミラーM1からM6は、湾曲反射面を有する。ミラーM1及びM6は、凹面である。ミラーM2及びM5は、凸面である。ミラーM1及びM6は、球面反射面を有し、すなわち、球面ミラーである。全ての他のミラーM2からM5は、回転対称非球面ミラーである。
ミラーM1及びM6の最大光学面寸法Dは、それぞれ333mmである。
結像光学器械18は、約2、500mmの全トラック長Tを有する。像面9と、それに隣接する最も近いミラーM3との間の作業距離Wは、約970mmである。従って、作業距離Wは、結像光学器械18の全トラック長Tの約40%である。
結像光学器械18では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2)]+A*h4+B*h6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.1;|β|=1.0
結像光学器械(19)は、1の倍率βを有する。結像光学器械19は、物体視野14から始まって結像光15の光路に従って連続して番号が振られた8つのミラーM1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、及びM8を有する。
結像光学器械19では、ミラーM1からM8の配列は、結像光15が、偶数回の反射を受けるようなものである。
結像光学器械18では、ミラーM1及びM6は、最も大きい最大光学面寸法を有する。
全てのミラーM1からM8は、回転対称非球面ミラーである。
ミラーM1とミラーM2の間の光路には、瞳面22が配列される。この面は、必ずしも平面である必要はなく、湾曲面とすることができる。
ミラーM2とミラーM3の間の光路には、中間像面23が配列される。また中間像面23も同様に、必ずしも平面である必要はなく、湾曲面とすることができる。
結像光学器械19は、約1、000mmの全トラック長Tを有する。物体視野14の環状視野半径Rは、約50mmである。結像光学器械19による結像は、約1nmRMS(二乗平均平方根)の最大波面誤差で可能である。
結像光学器械19の開口数は、NA=0.3である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2)]+A*h4+B*h6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.3;|β|=1.0
結像光学器械27は、1の倍率βを有する。
結像光学器械27は、6つのミラー、すなわち、物体視野14から始まって光路に沿って連続して番号が振られたM1、M2、M3、M4、M5、及びM6を有する。2つの物体点20、21から始まる結像光15の光線16を図6に示している。各物体点20、21から、3つの異なる照明角度に応じて、3つの光線16が始まる。
ミラーM1、M3、及びM6は、凹面である。ミラーM2、M4、及びM5は、凸面である。
結像光学器械27は、約1000mmの全トラック長Tを有する。像平面9と、それに隣接する最も近いミラーM5との間の作業距離Wは、約110mmである。従って、作業距離Wは、結像光学器械27の全トラック長Tの約10%である。
物体視野14及び像視野17は、両方ともに3mmの環幅を有する。
結像光学器械27の物体視野14及び像視野17の寸法は、図5に示している結像光学器械19の物体視野14の視野領域に対応する。
結像光学器械27の環状視野半径は55mmである。
結像光学器械27では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。
結像光学器械27における光学構成要素の配列は、点対称性又は図6の作図面である子午面以外のミラー面に対する鏡面対称性のいずれも持たず、従って、結像光15をもたらす光学構成要素の配列、すなわち、ミラーM1からM6の配列は、中心主光線の中間点Pに関して非対称である。
瞳ミラーM5は、図6に示しているように、子午面に、物体視野14の最大視野寸法の65%である約65mmの最大標準寸法、及びx−方向に100mmの像視野17を有する。
結像光学器械27の別の実施形態では、ミラーM3は、凸面であり、ミラーM4は、凹面である。結像光学器械27のこの別の実施形態の全ての他の設計パラメータは、ほぼ同じに留まる。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2)]+A*h4+B*h6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.16;|β|=1.0
結像光学器械31は、物体側及び結像側でテレセントリックである。
結像光学器械31は、物体視野14から始まって連続して番号が振られた5つのミラーM1、M2、M3、M4、M5を有する。全てのミラーM1からM5は、湾曲反射面を有する。ミラーM1及びM5は、凹面である。ミラーM2及びM4は、凸面である。
ミラーM1、M2、M4、及びM5は、球面ミラーである。ミラーM3は、非球面ミラーである。
物体視野14のこの大きいx寸法とトラック長Tとは、850対1、150の関係、すなわち、約0.74の関係を有する。従って、結像光学器械31は、その視野高さとの相関から非常にコンパクトである。
結像光学器械31は、0.12の開口数を有する。
結像光学器械31は、ミラーM3の光学面に対応する瞳面38の近くに屈折要素群37を有する。
この群37の焦点距離は、結像光学器械31のトラック長Tよりも大きい。
結像光学器械31は、1の倍率βを有する。
結像光学器械31のミラーM1の焦点距離は、608.6mmである。
図7に破線で示している2つの付加的な折り返しミラー41aを用いると、結像光学器械31を図1に実線で示している投影露光装置1内に収まるような方式で修正することができる。この場合には、対物面3及び像面9は、折り返しに起因して分離した平行な面として配列される。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2)]+A*h4+B*h6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.12;|β|=1.0
結像光学器械42も同様に、物体側及び像側でテレセントリックである。
ミラーの構成に関しては、結像光学器械42は、図7の結像光学器械31のものに対応する。結像光学器械42も同様に、5つのミラーM1、M2、M3、M4、及びM5を有する。
ミラーM1からM5の全ては、湾曲反射面を有する。ミラーM1、M3、及びM5は、凹面である。ミラーM2及びM4は、凸面である。結像光学器械42も、それぞれ、ミラーM1、M2及びM4、M5の2つの視野関連の対35、36を有する。これらの対35、36の配列は、結像光学器械31のものに対応する。
結像光学器械31の全トラック長Tは、約1、900mmである。従って、関係DP/Tは、約28%である。
ミラーM1及びM5は、球面である。ミラーM2、M3、及びM4は、回転対称非球面ミラーである。
結像光学器械31のミラーM1の焦点距離は、555mmである。
像平面16と、それに隣接する最も近いミラーM4との間の作業距離Wは、約400mmである。この距離は、結像光学器械42の全トラック長Tの約21%である。
結像光学器械42では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。従って、結像光学器械31と比較すると、結像光学器械42では屈折要素群が存在しない。
ミラーM3の光学面は、結像光学器械42の瞳面43内に位置する。従って、ミラーM3は、結像光学器械42の瞳ミラーである。
図7の実施形態における折り返しミラー41aと同様に配列することができる2つの付加的な折り返しミラーを用いると、結像光学器械42を図1に実線で示している投影露光装置1内に収まるような方式で修正することができる。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2)]+A*h4+B*h6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.12;|β|=1.0
結像光学器械44は、物体側及び像側でテレセントリックである。
結像光学器械44は、約1.8の倍率βを有する。従って、像は、物体に比較して約1.8の係数で拡大される。
結像光学器械44の開口数は、0.10である。
ミラーM1及びM2は、結像光学器械44の物体視野関連の対45を構成する。この物体対45の最初のミラーM1の対物面3までの距離DPは、約270mmである。結像光学器械44の場合には、対物面3と像面9の間の距離である全トラック長Tは、約640mmである。従って、物体対45に関する距離DPは、全トラック長Tの約42%である。
結像光学器械44の像視野17は、図8に関して解説したものに対応する形状を有する。従って、結像光学器械44の像視野17の最大x寸法は、850mmである。従って、この大きい視野寸法は、全トラック長Tよりも1.33倍大きい。
ミラーM3は、図10に示している子午面内に、約420mmの最大光学面寸法を有する。この寸法は、像視野17の最大寸法の約50%である。
結像光学器械44では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2)]+A*h4+B*h6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.1;|β|=1.8
結像光学器械47は、物体側及び像側でテレセントリックである。
結像光学器械47は、物体視野14から始まって連続して番号が振られた6つのミラー、M1、M2、M3、M4、M5、及びM6を有する。全てのミラーM1からM6は、湾曲反射面を有するミラーM1及びM4は、凹面である。ミラーM3は、凸面である。
ミラーM1、M2、M3、及びM4は、光軸OAを定める回転対称非球面ミラーである。ミラーM5及びM6は、両方ともに球面ミラーである。
結像光学器械47の像視野17は、図8に関して解説したものと同様の形状を有する。従って、像視野17の最大x寸法は、約850mmである。この最大視野寸法は、全トラック長Tの約46%である。
結像光学器械47では、ミラーM1は、図11に示している子午面内に約450mmの最大寸法を有する。この寸法は、像視野17の最大x寸法の約53%である。
結像光学器械47は、約2の倍率βを有する。結像光学器械47は、0.10の開口数を有する。
結像光学器械47では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。
ミラーM2の対物面3までの作業距離Wは、約360mmである。この距離は、結像光学器械47の全トラック長Tの約19%である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2)]+A*h4+B*h6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.1;|β|=2.0
結像光学器械49は、像側及び物体側でテレセントリックである。
結像光学器械49は、物体視野14から始まって連続して番号が振られた4つのミラー、M1、M2、M3、M4を有する。ミラーM1からM4の全ては、湾曲反射面を有する。ミラーM1及びM4は、凹面である。ミラーM2及びM3は、凸面である。
この物体対50の最初のミラーM1の物体視野3までの距離DPは、約220mmである。結像光学器械49の全トラック長Tは、約1、335mmである。従って、DPは、全トラック長Tの約16%である。ミラーM1、M2、及びM3は、回転対称非球面ミラーである。
ミラーM1、M2、及びM3は、回転対称非球面ミラーである。ミラーM4は、球面である。これらの回転対称表面は、光軸OAを定める。
結像光学器械49のミラーM1の焦点距離は、310.6mmである。結像光学器械49のミラーM4の焦点距離は、512.4mmである。
像視野17の形状は、図8に関して解説したものである。従って、像視野の最大x寸法は、約850mmである。この寸法は、全トラック長Tの約63%である。
ミラーM3と像面9の間の作業距離Wは、約610mmである。この距離は、結像光学器械49の全トラック長Tの約46%である。
結像光学器械49は、0.12の開口数を有する。
結像光学器械49のレンズ群52の全焦点距離は、543mmである。
結像光学器械49の瞳面は、レンズ55の物体側表面に配列される。
レンズ53及び55の物体側表面及びレンズ57の像側表面は、非球面表面である。レンズ53から57の他の表面は、球面である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)2h2)]+A*h4+B*h6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
連続する第3の表は、レンズ39、40、41のガラス種類の屈折率を表す(連続する第1の表の「モード」と比較されたい)。連続する第1の表では、各レンズは、2つの表面、すなわち、入射表面及び出射表面によって特徴付けられる。
NA=0.12;|β|=2.0
8 結像光学器械
Claims (26)
- 対物面(3)の物体視野(14)を像面(9)の像視野(17)内に結像するための結像光学器械(13;18;19;27)であって、
−像視野(17)が、小さい方の視野寸法(y)及び垂直な大きい方の視野寸法(x)によって形成され、該大きい方の視野寸法(x)は、75mmよりも大きく、
−倍率βが1であり、
−結像光(15)が偶数回の反射を受けるようなミラー配列を有し、
−全てのミラー(M1からM4;M1からM6;M1からM8)が、湾曲反射面を有し、
−前記結像光学器械(13;18;19;27)が、2つの凹面ミラー(M1,M4;M1,M6;M3,M6)及び2つの凸面ミラー(M2,M3;M2,M5;M4,M5)を備え、
−前記結像光(15)を誘導する光学構成要素の前記配列は、前記物体視野(14)から始まる中心主光線(16c)の結像光学器械の光路の半分に達する点によって定められる該中心主光線(16c)の中間点(P)に関して点対称である、
ことを特徴とする結像光学器械。 - 少なくとも4つのミラーを有することを特徴とする請求項1に記載の結像光学器械。
- 最も大きい最大光学面寸法を有する前記ミラー(M1)は、球面であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の結像光学器械。
- 前記ミラー(M1、M6)のうちの少なくとも2つは、球面ミラーであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- 前記ミラー(M1からM4;M2からM5;M1からM8;M1からM6)のうちの少なくとも1つは、非球面ミラーであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- 前記ミラーのうちの少なくとも1つは、回転非対称非球面ミラーであることを特徴とする請求項5に記載の結像光学器械。
- 全てのミラー(M1からM4;M1からM8;M1からM6)が、非球面ミラーであることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の結像光学器械。
- 前記結像光(15)は、反射手段だけによって誘導されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- 前記対物面(3)と前記像面(9)の間に2つの中間像面(23、25)を有することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- 対物面(3)の物体視野(14)を像面(9)の像視野(17)内に結像するための結像光学器械(8;31;42;44;47;49)であって、
−像視野(17)が、小さい方の視野寸法(y)及び垂直な大きい方の視野寸法(x)によって形成され、該大きい方の視野寸法(x)は、75mmよりも大きく、
−テレセントリックであり、
−結像光(15)を誘導する少なくとも最初のミラー(M1)及び最後のミラー(M5;M6;M4)が、湾曲反射面を有し、
−前記結像光(15)を誘導する湾曲ミラーの視野関連の対(35、36;45、46;48;50、51)を有し、
−前記湾曲ミラーの視野関連の対(35、36;45、46;48;50、51)が、凹面ミラー(M1,M5)及び凸面ミラー(M2,M4)からなり、
−前記ミラー対は、結像光学器械の全トラック長(T)の60%よりも小さい前記関連視野(14、17)からの距離(DP)のところに配列された視野対面ミラー(M1、M5;M1、M6;M6;M1、M4)を有し、
−前記結像光(15)のビーム経路が前記対物面(3)又は前記像面(9)と交差する唯一の位置が、一方では前記物体視野(14)及び他方では前記像視野(17)であるように設計され、
−前記結像光学器械(8;31;42;44;47;49)が1の倍率を有し、
−前記結像光(15)を誘導する光学構成要素の前記配列は、前記対物面(3)に対して垂直であると同時に結像光学器械の子午面(yz)に対して垂直であって前記物体視野(14)から始まる中心主光線(16c)の結像光学器械の光路の半分に達する点によって定められる該主光線(16c)の中間点(P)を有する対称面(MP)に関して鏡面対称であり、
−前記結像光学器械(8;31;42;44;47;49)が前記中間点(P)にミラー(M3)を備える、
ことを特徴とする結像光学器械。 - ミラーの光学面の最も大きい最大寸法を有する前記ミラー(M4)は、球面であることを特徴とする請求項10に記載の結像光学器械。
- 前記ミラー(M1、M5)のうちの少なくとも2つは、球面ミラーであることを特徴とする請求項10に記載の結像光学器械。
- 前記ミラー(M3、M2からM4、M1からM4、M1からM3)のうちの少なくとも1つは、非球面ミラーであることを特徴とする請求項10から請求項12のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- 前記ミラーのうちの少なくとも1つは、回転非対称非球面ミラーであることを特徴とする請求項13に記載の結像光学器械。
- 全てのミラーが、非球面ミラーであることを特徴とする請求項13又は請求項14に記載の結像光学器械。
- 湾曲ミラーの前記視野関連の対は、前記物体視野(14)から来る前記結像光(15)を誘導するミラーの物体関連の対(35;45;50)であり、この物体関連の対は、結像光学器械の前記全トラック長(T)の60%よりも小さい該物体視野からの距離(DP)のところに配列された物体視野対面ミラー(M1)を有することを特徴とする請求項11から請求項15のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- ミラーの前記物体関連の対のうちの少なくとも一方のミラー(M1)は、球面ミラーであることを特徴とする請求項16に記載の結像光学器械。
- 湾曲ミラーの前記視野関連の対は、前記像視野(17)に前記結像光(15)を誘導するミラーの像関連の対(36;46;48;51)であり、ミラーの該像関連の対は、結像光学器械の前記全トラック長(T)の60%よりも小さい該像視野(17)からの距離(DP)のところに配列された像視野対面ミラー(M5;M6;M4)を有し、
ミラーの前記像関連の対のうちの少なくとも1つのミラー(M5;M6;M4)は、球面ミラーであることを特徴とする請求項10から請求項17のいずれか1項に記載の結像光学器械。 - 前記結像光(15)は、反射手段だけによって誘導されることを特徴とする請求項10から請求項18のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- 瞳面(38)の近くに屈折要素(39から41;53から57)の群(37;52)を有することを特徴とする請求項10から請求項18のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- 屈折要素の前記群(37;52)の焦点距離が、結像光学器械の前記トラック長(T)よりも大きいことを特徴とする請求項20に記載の結像光学器械。
- 屈折要素の前記群(37;52)は、少なくとも1つの非球面レンズを含むことを特徴とする請求項20又は請求項21に記載の結像光学器械。
- 瞳面(38)に又はそれに隣接して配列された少なくとも1つの瞳ミラー(M3)を有することを特徴とする請求項10から請求項22のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- 前記瞳ミラー(M3)は、非球面ミラーであることを特徴とする請求項23に記載の結像光学器械。
- 前記結像光(15)を反射する奇数個のミラーを有することを特徴とする請求項10から請求項24のいずれか1項に記載の結像光学器械。
- 請求項1から請求項25のいずれか1項に記載の結像光学器械を含む投影露光装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US5345308P | 2008-05-15 | 2008-05-15 | |
| US61/053,453 | 2008-05-15 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009276769A JP2009276769A (ja) | 2009-11-26 |
| JP2009276769A5 JP2009276769A5 (ja) | 2012-06-07 |
| JP5654735B2 true JP5654735B2 (ja) | 2015-01-14 |
Family
ID=41445618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009118455A Active JP5654735B2 (ja) | 2008-05-15 | 2009-05-15 | 結像光学器械及びその結像光学器械を含む投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5654735B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102016212578A1 (de) * | 2016-07-11 | 2018-01-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsoptik für die EUV-Projektionslithographie |
| JP6635904B2 (ja) | 2016-10-14 | 2020-01-29 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 |
| JP6882053B2 (ja) * | 2016-12-05 | 2021-06-02 | キヤノン株式会社 | カタディオプトリック光学系、照明光学系、露光装置および物品製造方法 |
| JP2019211798A (ja) * | 2019-09-18 | 2019-12-12 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3339592B2 (ja) * | 1993-03-12 | 2002-10-28 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系、並びに露光方法及び装置 |
| JP2000098228A (ja) * | 1998-09-21 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 投影露光装置及び露光方法、並びに反射縮小投影光学系 |
| DE10052289A1 (de) * | 2000-10-20 | 2002-04-25 | Zeiss Carl | 8-Spiegel-Mikrolithographie-Projektionsobjektiv |
| JP2006196559A (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Nikon Corp | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
| JP2007206319A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Nikon Corp | 反射屈折光学系、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
| JP2008089832A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Canon Inc | 露光装置 |
-
2009
- 2009-05-15 JP JP2009118455A patent/JP5654735B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2009276769A (ja) | 2009-11-26 |
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