JP5659809B2 - 補助治具及びアレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 - Google Patents
補助治具及びアレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5659809B2 JP5659809B2 JP2011007291A JP2011007291A JP5659809B2 JP 5659809 B2 JP5659809 B2 JP 5659809B2 JP 2011007291 A JP2011007291 A JP 2011007291A JP 2011007291 A JP2011007291 A JP 2011007291A JP 5659809 B2 JP5659809 B2 JP 5659809B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- array antenna
- width direction
- ceiling
- ceiling wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
真空チャンバー3の外側において、整列プレート83の第1嵌合孔87を第1アンテナ側コネクタ49の大径部49aを嵌合させつつ、各分割サポート部材73Sの各第1支持孔79に第1電極棒51(第1アンテナ側コネクタ49)を挿通した状態で支持させる。同様に、整列プレート83の第2嵌合孔89を第2アンテナ側コネクタ53の大径部53aを嵌合させつつ、各分割サポート部材73Sの各第2支持孔81に第2電極棒55(第2アンテナ側コネクタ53)を挿通した状態で支持させる。これにより、図8に示すように、複数本の誘導結合型電極47を一括してまとめて、アレイアンテナユニット37を形成することできる。
まず、真空圧発生源5によって真空チャンバー3の内部へ真空状態に減圧する。次に、台車41を真空チャンバー3の内部における基準の台車送り出し位置に送り出すことにより、各基板エリアAに基板Wをセットする。また、ガス供給源45によって真空チャンバー3の内部側へ材料ガスを供給することにより、各第2電極棒55の各噴出孔61から基板エリアAに向かって材料ガスを噴射する。そして、高周波電源23によって複数本の誘導結合型電極47に高周波波電力を供給することにより、アレイアンテナユニット37の周辺にプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を2枚の基板Wの表面に付着させる。これにより、2枚の基板Wの表面に非結晶シリコン膜又は微結晶シリコン膜等の薄膜を成膜(形成)することができる。
以上の如く、本発明の実施形態によれば、アレイアンテナユニット37に作用する荷重を軽減しつつ、複数本の誘導結合型電極47を真空チャンバー3の天井壁15側に対して一括して着脱できるため、真空チャンバー3の天井壁15側に対する複数本の誘導結合型電極47の着脱作業の容易化をより一層図ることができる。
W 基板
1 アレイアンテナ式のCVDプラズマ装置
3 真空チャンバー
5 真空圧発生源
15 天井壁
17 通孔
19 第1天井側コネクタ
21 第2天井側コネクタ
23 高周波電源
25 センターガイドブッシュ
27 サイドガイドブッシュ
29 アンテナ支持機構(アンテナセット機構)
31 ガイド支柱
31a ガイド支柱の段差部
33 可動支持部材
35 操作ナット
37 アレイアンテナユニット
41 台車
43 基板ホルダ
45 ガス供給源
47 誘導結合型電極
49 第1アンテナ側コネクタ
49a 第1アンテナ側コネクタの大径部
49b 第1アンテナ側コネクタの小径部
51 第1電極棒
53 第2アンテナ側コネクタ
53a 第2アンテナ側コネクタの大径部
53b 第2アンテナ側コネクタの小径部
55 第2電極棒
57 接続金具
61 噴出孔
65 ホルダ
67 梁部材
67a 梁部材のスリット開口部
67b 梁部材の切欠
69 センター位置決めピン
71 サイド位置決めピン
73 サポート部材
73S 分割サポート部材
79 第1支持孔
81 第2支持孔
83 整列プレート
87 第1嵌合孔
89 第2嵌合孔
91 スプリング
93 補助治具
95 支持櫓
97 支柱
99 上部プレート
101 スプリングバランサ
103 バランサケース
105 取付部材
107 作動部材
109 連結部材
111 スライドバー
115 係止部材
Claims (11)
- 天井壁に高周波電源に電気的に接続された複数の天井壁側コネクタが幅方向に間隔を置いて配設された真空チャンバーと、前記真空チャンバーの内部に配設されてあってかつ手動操作によって上下方向へ移動可能な可動支持部材を備えたアンテナ支持機構と、前記可動支持部材に着脱可能にセットされたアレイアンテナユニットと、を具備してあって、前記アレイアンテナユニットは、鉛直状態で同一平面上に前記幅方向に間隔を置いて配列されかつ上端部に対応関係にある前記天井壁側コネクタに接続可能なアンテナ側コネクタが設けられた複数本の誘導結合型電極と、複数本の前記誘導結合型電極を一括して保持するホルダとを備えてなるアレイアンテナ式のプラズマCVD装置に用いられ、
前記真空チャンバーの前記天井壁側に対する複数本の前記誘導結合型電極の着脱作業を補助する補助治具において、
前記真空チャンバーの前記天井壁の外壁面に設けられた支持櫓と、
前記支持櫓に設けられ、上方向へ付勢された作動部材を備え、前記アレイアンテナユニットに作用する荷重を軽減するバランサと、
前記作動部材に連結され、前記真空チャンバーの前記天井壁に形成された通孔に挿通可能であって、上下方向へ移動可能なスライドバーと、
前記スライドバーに連結され、前記ホルダを係止可能な係止部材と、を備えたことを特徴とする補助治具。 - 前記支持櫓の個数が複数であって、複数の前記支持櫓が前記真空チャンバーの前記天井壁の外周面に前記幅方向に離隔して設けられ、各支持櫓に前記バランサが設けられ、各作動部材に前記スライドバーが連結され、各スライドバーに前記係止部材が連結されていることを特徴とする請求項1に記載の補助治具。
- 前記バランサは、スプリングの弾発力を利用したスプリングバランサであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の補助治具。
- 真空雰囲気中でプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を基板の表面に付着させることにより、基板の表面に薄膜を成膜するアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置において、
内部を真空状態に減圧可能であって、天井壁に高周波電源に電気的に接続された複数の天井壁側コネクタが幅方向に間隔を置いて配設された真空チャンバーと、
前記真空チャンバーの内部に配設され、手動操作によって上下方向へ移動可能な可動支持部材を備えたアンテナ支持機構と、
前記可動支持部材に着脱可能にセットされ、少なくとも片側に基板をセットする基板エリアが形成され、プラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、
前記真空チャンバーの内部側へ材料ガスを供給するガス供給源と、
複数本の前記誘導結合型電極を前記真空チャンバーの前記天井壁に対する着脱作業を補助する補助装置と、を具備し、
前記アレイアンテナユニットは、
鉛直状態で同一平面上に前記幅方向に間隔を置いて配列され、上端部に対応関係にある前記天井壁側コネクタに接続可能なアンテナ側コネクタが設けられた複数本の誘導結合型電極と、
前記可動支持部材に着脱可能に支持され、複数本の前記誘導結合型電極を一括して保持するホルダと、を備え、
請求項1から請求項3のうちのいずれかの請求項に記載の補助治具を前記補助装置として用いたことを特徴とするアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置。 - 前記ホルダは、
前記可動支持部材に着脱可能に支持され、前記幅方向へ延びてあって、開口部が前記幅方向に沿って形成され、前記真空チャンバーに対する前記幅方向の変位が許容された梁部材と、
前記梁部材に前記幅方向に沿って設けられ、前記誘導結合型電極を前記梁部材に対する前記幅方向の変位が許容され、前記誘導結合型電極を前記梁部材の前記開口部を介して挿通した状態で支持する複数の支持孔が前記幅方向に沿って形成されたサポート部材と、を備えていることを特徴とする請求項4に記載のアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置。 - 前記サポート部材は、前記幅方向に沿って分割されかつ前記梁部材に対する前記幅方向の変位が許容された複数の分割サポート部材からなることを特徴とする請求項5に記載のアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置。
- 前記アンテナ支持機構は、前記真空チャンバーの前記天井壁の内壁に前記幅方向に離隔しかつ垂下して設けられた一対のガイド支柱、各カイド支柱に着脱可能かつ上下方向へ移動可能に設けられた前記可動支持部材、及び各ガイド支柱における前記可動支持部材の下側に着脱可能に螺合して設けられかつ手動操作によって前記可動支持部材を上下方向へ移動させる操作部材を備えていることを特徴とする請求項4から請求項6のうちのいずれかの請求項に記載のアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置。
- 前記真空チャンバーの前記天井壁に複数のガイドブッシュが前記幅方向に間隔を置いて配設され、
前記ホルダの上面に対応関係にある前記ガイドブッシュに係合する複数の位置決めピンが前記幅方向に間隔を置いて配設され、複数の前記位置決めピンのうちいずれかの前記位置決めピンは、係合状態にある前記ガイドブッシュに対して前記幅方向に移動不能であって、残りの前記位置決めピンは、係合状態にある前記ガイドブッシュに対する前記幅方向の変位が許容されていることを特徴とする請求項4から請求項7のうちのいずれかの請求項に記載のアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置。 - 前記真空チャンバーの内部に前記ホルダの上方向の移動を規制するストッパが設けられていることを特徴とする請求項4から請求項8のうちのいずれかの請求項に記載のアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置。
- 複数の前記天井側コネクタは、前記高周波電源の供給側に電気的に接続された複数の第1天井側コネクタと、前記高周波電源の接地側に電気的に接続された複数の第2天井側コネクタとからなり、複数の前記第1天井側コネクタと複数の前記第2天井側コネクタが前記幅方向に沿って交互に配設されてあって、
各誘導結合型電極は、
上端部に前記第1天井側コネクタに接続可能な第1アンテナ側コネクタが設けられた第1電極棒、前記第1電極棒に対して平行であってかつ上端部に前記第2天井側コネクタに接続可能な第2アンテナ側コネクタが設けられた第2電極棒、及び前記第1電極棒の下端部と前記第2電極棒の下端部の間に電気的に接続するように設けられた接続金具を備え、
複数の前記挿通孔は、複数の第1挿通孔と複数の第2挿通孔からなり、前記サポート部材に前記第1挿通孔及び前記第2挿通孔が前記幅方向に沿って交互に形成され、各第1支持孔は前記第1電極棒を挿通した状態で支持可能であって、各第2支持孔は前記第2電極棒を挿通した状態で支持可能であって、
前記可動支持部材に前記ホルダをセットした状態で、前記可動支持部材を上方向へ移動させると、各第1アンテナ側コネクタが対応関係にある前記第1天井側コネクタに接続しかつ各第2アンテナ側コネクタが対応関係にある前記第2天井側コネクタに接続するようになっていることを特徴とする請求項4から請求項9のうちのいずれかの請求項に記載のアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置。 - 各第2電極棒がパイプ状を呈しており、各第2電極棒の内部が前記ガス供給源に接続されてあって、外周面に材料ガスを噴出する噴出孔が形成されてあって、
前記第2支持孔は、前記噴出孔が指定の向きを指向するように前記第2電極棒を回転位置決め可能になっていることを特徴とする請求項10に記載のアレイアンテナ式のCVDプラズマ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011007291A JP5659809B2 (ja) | 2011-01-17 | 2011-01-17 | 補助治具及びアレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011007291A JP5659809B2 (ja) | 2011-01-17 | 2011-01-17 | 補助治具及びアレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012149287A JP2012149287A (ja) | 2012-08-09 |
| JP5659809B2 true JP5659809B2 (ja) | 2015-01-28 |
Family
ID=46791813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011007291A Expired - Fee Related JP5659809B2 (ja) | 2011-01-17 | 2011-01-17 | 補助治具及びアレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5659809B2 (ja) |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH046274A (ja) * | 1990-04-25 | 1992-01-10 | Osaka Diamond Ind Co Ltd | ダイヤモンド被覆装置 |
| JPH0630156U (ja) * | 1992-09-18 | 1994-04-19 | 日新電機株式会社 | 基板処理装置 |
| JPH11330058A (ja) * | 1998-05-19 | 1999-11-30 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP4238643B2 (ja) * | 2003-06-09 | 2009-03-18 | 株式会社Ihi | 薄膜形成装置の電極支持構造 |
| JP4326300B2 (ja) * | 2003-10-15 | 2009-09-02 | 三菱重工業株式会社 | プラズマcvd装置とプラズマcvd装置用電極 |
| JP4679051B2 (ja) * | 2003-11-26 | 2011-04-27 | 株式会社カネカ | Cvd装置 |
| JP4384109B2 (ja) * | 2005-01-05 | 2009-12-16 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム |
| JP5309426B2 (ja) * | 2006-03-29 | 2013-10-09 | 株式会社Ihi | 微結晶シリコン膜形成方法及び太陽電池 |
| JP5138342B2 (ja) * | 2007-11-14 | 2013-02-06 | 株式会社イー・エム・ディー | プラズマ処理装置 |
| KR101021480B1 (ko) * | 2007-12-07 | 2011-03-16 | 성균관대학교산학협력단 | 페라이트 구조체를 구비하는 플라즈마 소스 및 이를채택하는 플라즈마 발생장치 |
| JP5439018B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2014-03-12 | 株式会社アルバック | 触媒cvd装置 |
| JP5621606B2 (ja) * | 2011-01-17 | 2014-11-12 | 株式会社Ihi | アレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 |
-
2011
- 2011-01-17 JP JP2011007291A patent/JP5659809B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012149287A (ja) | 2012-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3962661B2 (ja) | 静電チャック支持機構及び支持台装置及びプラズマ処理装置 | |
| TWI527930B (zh) | 用於電漿製程的接地回流路徑 | |
| JP5430979B2 (ja) | 熱フィラメントcvd装置 | |
| WO2014065034A1 (ja) | プラズマ処理装置及び方法 | |
| KR20150006247A (ko) | 진공 증착 장치 및 이를 이용한 진공 증착 방법 | |
| JP5659809B2 (ja) | 補助治具及びアレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 | |
| JP5992288B2 (ja) | ガス導入装置及び誘導結合プラズマ処理装置 | |
| CN113001078B (zh) | 一种气箱焊接用夹紧工装 | |
| JP5621606B2 (ja) | アレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 | |
| JP2018525786A (ja) | イオンビーム装置のためのガス注入システム | |
| JP5659808B2 (ja) | アレイアンテナ式のcvdプラズマ装置及びアレイアンテナユニット | |
| CN203471198U (zh) | 一种车身定位销调整机构 | |
| KR101319022B1 (ko) | 리프트 핀 어셈블리 및 그것을 구비한 기판 처리 장치 | |
| US20090044754A1 (en) | Suction device for plasma coating chamber | |
| CN221825061U (zh) | 炉管支撑装置及半导体热处理设备 | |
| JP2010182937A (ja) | プラズマクリーニング方法 | |
| CN211277150U (zh) | 锁紧装置及具有其的组焊台 | |
| KR100786273B1 (ko) | 서셉터 접지용 스트립 클램프 및 그를 구비한 화학 기상증착장치 | |
| KR100858934B1 (ko) | 화학 기상 증착장치 | |
| CN117524819A (zh) | 离子源 | |
| JP5609661B2 (ja) | 誘導結合型の二重管電極及びアレイアンテナ式のcvdプラズマ装置 | |
| JP5929804B2 (ja) | 成膜治具 | |
| KR100981099B1 (ko) | 평면 표시소자 제조장치 | |
| JP5780023B2 (ja) | プラズマcvd装置およびプラズマcvd装置を用いた成膜方法 | |
| JP6874651B2 (ja) | ライン同期締付装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131126 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140313 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140401 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140508 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141104 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141117 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |