JP5668399B2 - 積層体及びプリント配線板用基板 - Google Patents
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Description
本発明はまた、この積層体を用いたプリント配線板用基板に関する。
このようなタイプの両面基板は、先ず金属箔からなる導体の片面にPI層、TPI層の順に各ポリイミド層を積層して3層の積層体を製造し、この積層体のTPI層同士を熱圧着して製造される。
さらに、熱圧着時の温度を上げると導体を構成する銅箔等の金属箔の表面が酸化しやすくなるという問題もあり、この点からもより緩和された条件で熱圧着できる積層体が求められていた。
該積層体から縦100mm、横100mmの大きさの試験片を作製し、23℃、60%RHの雰囲気中に24時間放置した後、熱可塑性ポリイミド層面側の曲率半径を測定する
さらに、この積層体を、もう1種の被接着体と熱圧着することにより、耐熱性、寸法安定性、接着性、電気的特性等に優れたプリント配線板用基板を提供することが出来る。
本発明の積層体は、金属箔の片面に、非熱可塑性ポリイミド(PI)層及び熱可塑性ポリイミド(TPI)層がこの順で積層されたものである。
本発明において、金属箔としては、銅箔、ステンレス箔、アルミニウム箔、ニッケル箔等如何なる金属箔も使用することが出来るが、電解銅箔や圧延銅箔等の銅箔が好ましく用いられる。これら金属箔の厚みは5〜50μmが好ましく、9〜18μmがより好ましい。また、これらの金属箔の表面は接着性を向上させるための粗面化処理や防錆処理が施されていても良い。
本発明の積層体を構成する非熱可塑性ポリイミド(以下「本発明の非熱可塑性ポリイミド」又は「本発明のPI」と称す場合がある。)もしくは熱可塑性ポリイミド(以下「本発明の熱可塑性ポリイミド」又は「本発明のTPI」と称す場合がある。)のポリイミドとは、下記一般式(1)で示される構造を有するものである。
本発明の積層体のPI層の厚みとしては1〜50μmが好ましく、5〜25μmがより好ましい。
本発明の積層体は、上述のように薄いTPI層を形成することによるカールし難さの指標として、下記の耐カール特性の評価で測定される曲率半径が50mm以上であることが好ましく、80mm以上であることがより好ましい。
このような耐カール特性に優れる積層体であれば、これを貼り合わせて良好なプリント配線板用基板を製造することができる。
該積層体から縦100mm、横100mmの大きさの試験片を作製し、23℃、60%RHの雰囲気中に24時間放置した後、熱可塑性ポリイミド層面側の曲率半径を測定する
本発明の積層体は例えば以下のような方法によって製造することが出来る。
ここでPI前駆体溶液は、原料となる後述の酸二無水物、及びジアミンを溶媒中で反応させて得られるポリアミック酸溶液が好ましく、ポリアミック酸溶液中のポリアミック酸の固形分濃度としては1〜50質量%が好ましく、5〜25質量%がより好ましい。このポリアミック酸溶液は部分的にイミド化されていても良い。
ポリイミド原料としての酸二無水物の具体例としては以下のものが挙げられるが、何ら以下のものに限定されるものではない。
,4,4’−クァテルフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’ ,4,4’−キンクフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、メチレン−4,4’−ジフタル酸二無水物、1,1−エチニリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、2,2−プロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、1,2−エチレン−4,4’−ジフタル酸二無水物、1,3−トリメチレン−4,4’−ジフタル酸二無水物、1,4−テトラメチレン−4,4’−ジフタル酸二無水物、1,5−ペンタメチレン−4,4’−ジフタル酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−へキサフルオロプロパン二無水物、ジフルオロメチレン−4,4’−ジフタル酸二無水物、1,1,2,2−テトラフルオロ−1,2−エチレン−4,4’−ジフタル酸二無水物、1、1、2、2、3、3−ヘキサフルオロ−1、3−トリメチレン−4、4’−ジフタル酸二無水物、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロ−1,4−テトラメチレン−4,4’−ジフタル酸二無水物、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5−デカフルオロ−1,5−ペンタメチレン−4,4’−ジフタル酸二無水物、オキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、チオ−4,4’−ジフタル酸二無水物、スルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメチルシロキサン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ベンゼン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1、4−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,3−ビス〔2−(3,4−ジカルボキシフェニル)−2−プロピル〕ベンゼン二無水物、1,4−ビス〔2−(3,4−ジカルボキシフェニル)−2−プロピル〕ベンゼン二無水物、ビス〔3−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕メタン二無水物、ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕メタン二無水物、2,2−ビス〔3−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン二無水物、2,2−ビス〔3−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジメチルシラン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、カルボニル−4,4’−ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)二無水物、メチレン−4,4’−ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)二無水物、1,2−エチレン−4,4’−ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)二無水物、1,1−エチニリデン−4,4’−ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)二無水物、2,2−プロピリデン−4,4’−ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)二無水物、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−プロピリデン−4,4’−ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)二無水物、オキシ−4,4’−ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)二無水物、チオ−4,4’−ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)二無水物、スルホニル−4,4’−ビス(シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸)二無水物、2,2’−ジフルオロ−3,3’
,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、5,5’−ジフルオロ−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、6,6’−ジフルオロ−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2、2’、5、5’、6、6’−ヘキサフルオロ−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、5,5’−ビス(トリフルオロメチル)−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、6,6’−ビス(トリフルオロメチル)−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,5,5’−テトラキス(トリフルオロメチル)−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、5,5’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,5,5’、6,6’−ヘキサキス(トリフルオロメチル)−3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’−ジフルオロオキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、5,5’−ジフルオロオキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、6,6’−ジフルオロオキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,5,5’,6,6’−ヘキサフルオロオキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’−ビス(トリフルオロメチル)オキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、5,5’−ビス(トリフルオロメチル)オキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、6,6’−ビス(トリフルオロメチル)オキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,5,5’−テトラキス(トリフルオロメチル)オキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)オキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、5,5’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)オキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,5,5’,6,6’−ヘキサキス(トリフルオロメチル)オキシ−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’−ジフルオロスルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、5,5’−ジフルオロスルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、6,6’−ジフルオロスルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,5,5’,6,6’−ヘキサフルオロスルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’−ビス(トリフルオロメチル)スルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、5,5’−ビス(トリフルオロメチル)スルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、6,6’−ビス(トリフルオロメチル)スルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,5,5’−テトラキス(トリフルオロメチル)スルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)スルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、5,5’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)スルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,5,5’,6,6’−ヘキサキス(トリフルオロメチル)スルホニル−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’−ジフルオロ−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、5,5’−ジフルオロ−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、6,6’−ジフルオロ−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,5,5’,6,6’−ヘキサフルオロ−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’−ビス(トリフルオロメチル)−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、5,5’−ビス(トリフルオロメチル)−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、6,6’−ジフルオロ−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,5,5’−テトラキス(トリフルオロメチル)−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、5,5’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、3,3’,5,5’,6,6’−ヘキサキス(トリフルオロメチル)−2,2−パーフルオロプロピリデン−4,4’−ジフタル酸二無水物、9−フェニル−9−(トリフルオロメチル)キサンテン−2,3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、9,9−ビス(トリフルオロメチル)キサンテン−2,3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ〔2,2,2〕オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシ)フェニル〕フルオレン二無水物、9,9−ビス〔4−(2,3−ジカルボキシ)フェニル〕フルオレン二無水物。
ポリイミド原料としてのジアミンの具体例としては以下のものが挙げられるが、何ら以下のものに限定されるものではない。
末端封鎖剤としての1官能性酸無水物の具体例としては以下のものが挙げられるが、何ら以下のものに限定されるものではない。
末端封鎖剤としての1官能性アミンの具体例としては以下のものが挙げられるが、何ら以下のものに限定されるものではない。
ここで、前記PI前駆体を製造するための好ましい酸二無水物としては、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物もしくはピロメリット酸二無水物が挙げられ、好ましいジアミンとしてはp−フェニレンジアミンもしくは4,4’−オキシジアニリン挙げられる。これらの好ましい酸二無水物、ジアミンはそれぞれ単独もしくは混合して用いることが出来る。
また、TPI前駆体を製造するための1官能性酸無水物としては、無水フタル酸が、1官能性アミンとしてはアニリンが好ましく用いられる。
前記ポリアミック酸溶液を製造するための溶媒の具体例としては以下のものが挙げられるが、何ら以下のものに限定されるものではない。
本発明において、前記ポリイミド原料を溶媒中で反応させる際の、反応温度は、−30〜60℃が好ましく、−20〜40℃がより好ましい。
また、この反応において、前記ポリイミド原料及び溶媒の添加順序は特に制限はなく、いかなる順序でもよい。
また、これらのポリイミド樹脂前駆体の溶液には、上記溶媒に可溶なポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等、他の耐熱性樹脂を混合してもよい。
さらに、接着性(密着性)向上やフィルム物性を向上させるため、シランカップリン剤や各種界面活性剤を微量添加することもできる。
前記の如くして得られたPI前駆体溶液を金属箔上に塗布、乾燥してPI前駆体層を形成し、さらにこのPI前駆体層の表面にTPI前駆体溶液を塗布、乾燥してTPI前駆体層を形成させる。しかる後、PI前駆体およびTPI前駆体を熱硬化してイミド化することにより、本発明の積層体を製造することが出来る。
ポリイミド前駆体溶液の塗布に用いられる塗布装置としては、ダイコータ、多層ダイコータ、グラビアコータ、コンマコータ、リバースロールコータ、ドクタブレードコータ等が挙げられる。
熱イミド化する際の雰囲気としては、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましいが、空気雰囲気や真空中で行うこともできる。
本発明の積層体は、そのTPI層を接着層として利用することにより、他の基板用材料等の被接着体と複合化してプリント配線板用基板等の積層板を製造することができる。
また、本発明の積層体の間にガラス織物に耐熱性樹脂を含浸したようなプリプレグやPIフィルムの両面に接着層としてTPI層を設けた積層フィルムを挟んで熱圧着することにより両面基板とすることも可能である。
さらに、本発明の積層体を多層プリント配線板用基板の表層部に使用し、多層プリント配線板用基板とすることも可能である。
また、圧力としては、バッチプレスの場合、20〜80kg/cm2が好ましい。連続プレスの場合は50〜150kg/cm2が好ましい。
なお、熱圧着する際の雰囲気としては、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましいが、空気雰囲気や真空中で行うこともできる。
なお、以下の実施例および比較例における、各種特性の評価方法及び用いたポリイミド前駆体溶液の合成方法は、次の通りである。
(1)耐カール特性の評価
得られた積層体から縦100mm、横100mmの大きさの試験片を作製し、23℃、60%RHの雰囲気中に24時間放置した後、TPI面の曲率半径を測定し、以下の基準で評価した。
◎:曲率半径80mm以上
○:曲率半径50mm以上80mm未満
△:曲率半径20mm以上50mm未満
×:曲率半径20mm未満
積層体におけるTPI層同士の接着力を、テンシロンテスター(インテスコ社製、精密万能材料試験機2020型)を用いて測定した。
測定に際しては、得られた両面基板を幅10mm、長さ100mmに切断して試験片を作製し、粘着剤が両面に塗布された両面粘着テープを用いて、試験片の一方の金属箔面をアルミニウム板に固定した。そして、アルミニウム板に固定されていない側の金属箔の側の絶縁層のPI層を180°方向に50mm/分間の速度で引っ張り、他方の絶縁層から剥離して接着強度(剥離強度)を求め、以下の基準で評価した。
○:接着強度7N/cm以上
×:接着強度7N/cm未満
以下の説明において使用した略語は、以下のとおりである。
<ポリイミド原料>
BPDA:3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
ODPA:3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
TMEG:エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)
PA:無水フタル酸
4,4’ODA:4,4’−オキシジアニリン
PDA:p−フェニレンジアミン
3,4’ODA:3,4’−オキシジアニリン
BAPP:2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン
<溶媒>
NMP:N−メチル−2−ピロリドン
三つ口フラスコに窒素ガス気流下で、4,4’ODA30.03g(0.15mol)、PDA91.92g(0.85mol)、及びNMP3329gを採取し、このフラスコを氷水中に入れて、内容物を30分間攪拌した。次いで、BPDA294.22g(1.00mol)を加え、40℃の湯浴中で1時間攪拌を行い、固形分濃度11.1質量%のポリアミック酸からなる均一な溶液を得た。
三つ口フラスコに窒素ガス気流下で、3,4’ODA200.24g(1.00mol)とNMP1529gを採取し、このフラスコを氷水中に入れて、内容物を30分間攪拌した。次いで、ODPA294.72g(0.95mol)とPA14.81g(0.10mol)を加え、40℃の湯浴中で1時間攪拌を行い、固形分濃度25.0質量%のポリアミック酸からなる均一な溶液を得た。これをTPI前駆体溶液aとする。このTPI前駆体溶液aの末端封鎖率は10モル%である。
ODPAを300.92g(0.97mol)、PAを8.89g(0.06mol)としたこと以外はTPI前駆体溶液aの合成と同様にしてポリアミック酸からなる均一な溶液を得た。これをTPI前駆体溶液bとする。このTPI前駆体溶液bの末端封鎖率は6モル%である。
ODPAを285.41g(0.92mol)、PAを23.70g(0.16mol)としたこと以外はTPI前駆体溶液aの合成と同様にしてポリアミック酸からなる均一な溶液を得た。これをTPI前駆体溶液cとする。このTPI前駆体溶液cの末端封鎖率は16モル%である。
酸無水物成分をODPA310.23g(1.00mol)のみとしてPAを用いなかったこと以外はTPI前駆体溶液aの合成と同様にしてポリアミック酸からなる均一な溶液を得た。これをTPI前駆体溶液dとする。このTPI前駆体溶液dの末端封鎖率は0モル%である。
三つ口フラスコに窒素ガス気流下で、BAPP410.52g(1.00mol)とNMP2657gを採取し、このフラスコを氷水中に入れて、内容物を30分間攪拌した。次いで、BPDA265.53g(0.9025mol)、TMEG194.89g(0.475mol)、及びPA14.81g(0.10mol)を加え、40℃の湯浴中で1時間攪拌を行い、固形分濃度25.0質量%のポリアミック酸からなる均一な溶液を得た。これをTPI前駆体溶液eとする。このTPI前駆体溶液eの末端封鎖率は10モル%である。
DSCで測定したこのTPIフィルムのTgは225℃であった。また、これと同様にしてTPI前駆体溶液eからTPIフィルムを得た。このフィルムも400℃以下の温度で熱可塑性を示し、DSCで測定したこのポリイミドフィルムのTgは229℃であった。
厚み12μmの電解銅箔(古河電気工業製 F2−WS)上に、前記PI前駆体溶液を熱硬化後の被膜の厚みが11μmになるようにコンマコータを用いて均一に流延塗布し、120℃で3分間連続的に乾燥した。次いで、塗布面にTPI前駆体溶液a〜eのいずれかを熱イミド化後の被膜が所定の厚みになるようにグラビアコータを用いて塗布し、120℃で3分間乾燥し、銅箔にPI及びTPI前駆体が積層されたロール状積層体を得た。なお、TPI前駆体溶液a〜eは、NMPでポリアミック酸濃度10.0質量%に希釈して用いた。
次に、このロール状の積層体を連続的に窒素ガス雰囲気下で100℃から360℃まで4分かけて昇温した後、360℃で4分熱処理し、ポリアミック酸を熱硬化させてイミド化し、銅箔/PI層/TPI層の3層からなる12種類のロール状積層体(A−1〜3、B−1〜3、E−1〜2、C−1〜2、D−1〜2)を得た。
実施例1〜8及び比較例1〜4で得られた2つのロール状積層体をTPI層同士が向かい合うように、熱間ロール圧合機にて340℃、120kg/cm2、ライン速度1.5m/minの条件で連続的に熱圧着することにより接着一体化し、両面基板R−1〜12を得た。
また、比較例の積層体では、TPI層の厚みを厚くすると、接着性が確保できる場合もあるが、そのようにすると積層体がカールしてしまうため、結果として両面基板に皺が入ってしまい、外観が損なわれることがわかる。
Claims (3)
- 金属箔の片面に非熱可塑性ポリイミド層及び熱可塑性ポリイミド層がこの順で積層された積層体であって、
該熱可塑性ポリイミド層を構成する熱可塑性ポリイミドの末端基が、該熱可塑性ポリイミドの構成ユニットに対して1〜15モル%の割合で1官能性酸無水物、1官能性アミン、1官能性酸無水物と1官能性アミンの混合物から選ばれる1種で封鎖されており、
以下の耐カール特性の評価で測定される曲率半径が50mm以上であり、前記熱可塑性ポリイミド層の厚みが0.1〜1μmであることを特徴とする積層体。
<耐カール特性の評価>
該積層体から縦100mm、横100mmの大きさの試験片を作製し、23℃、60%RHの雰囲気中に24時間放置した後、熱可塑性ポリイミド層面側の曲率半径を測定する - 請求項1に記載の積層体を、前記熱可塑性ポリイミド層面を接着面として、他の被接着体に対して熱圧着してなるプリント配線板用基板。
- 前記他の被接着体が請求項1に記載の積層体である請求項2に記載のプリント配線板用基板。
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