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JP5678544B2 - Optical laminate, front plate and image display device - Google Patents
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JP5678544B2 - Optical laminate, front plate and image display device - Google Patents

Optical laminate, front plate and image display device Download PDF

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JP5678544B2 JP2010213977A JP2010213977A JP5678544B2 JP 5678544 B2 JP5678544 B2 JP 5678544B2 JP 2010213977 A JP2010213977 A JP 2010213977A JP 2010213977 A JP2010213977 A JP 2010213977A JP 5678544 B2 JP5678544 B2 JP 5678544B2
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Description

本発明は、光学積層体、前面板及び画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical laminate, a front plate, and an image display device.

液晶ディスプレイ(LCD)等において、高級感を持たせる等のために、ディスプレイの前面に、ガラス基板等を貼り合わせた前面板が設置されたものが知られている。前面板には、ガラス基板等の両面もしくは片面に、光の散乱や干渉によって反射を防止するための光学積層体が貼合されている。 2. Description of the Related Art A liquid crystal display (LCD) or the like is known in which a front plate having a glass substrate or the like bonded to the front surface of a display is installed in order to give a high-class feeling. On the front plate, an optical laminate for preventing reflection by light scattering or interference is bonded to both sides or one side of a glass substrate or the like.

このような光学積層体としては、トリアセチルセルロースからなる基材上に、ハードコート層及び低屈折率層を有するものが従来より知られている。上記ハードコート層は、光学フィルムに強度を与える層である。
一方、上記低屈折率層は、上記基材やハードコート層よりも屈折率が低い層であり、主に光の反射を防止するための層である(特許文献1〜3)。上記低屈折率層は、一般に、中空シリカやフッ素系樹脂等の屈折率が低い材料を添加して形成される。
As such an optical layered body, one having a hard coat layer and a low refractive index layer on a substrate made of triacetylcellulose has been conventionally known. The hard coat layer is a layer that gives strength to the optical film.
On the other hand, the low refractive index layer is a layer having a lower refractive index than the base material and the hard coat layer, and is a layer mainly for preventing reflection of light (Patent Documents 1 to 3). The low refractive index layer is generally formed by adding a material having a low refractive index, such as hollow silica or fluorine resin.

ところで、このような光学積層体において、近年、製造コスト低減のため、製造工程の簡便化が試みられている。製造工程を簡便化する方法として、例えば、トリアセチルセルロース基材の上に直接、低屈折率層を形成する方法等が考えられる。
しかしながら、従来の低屈折率層をトリアセチルセルロース基材上に直接形成すると、該低屈折率層の膜強度が低くなり、耐擦傷性が低下するという問題があった。
By the way, in such an optical laminated body, in recent years, simplification of the manufacturing process has been attempted in order to reduce the manufacturing cost. As a method for simplifying the production process, for example, a method of directly forming a low refractive index layer on a triacetyl cellulose substrate can be considered.
However, when a conventional low refractive index layer is directly formed on a triacetyl cellulose substrate, there is a problem that the film strength of the low refractive index layer is lowered and the scratch resistance is lowered.

特開2002−006103号公報JP 2002-006103 A 特開2006−293278号公報JP 2006-293278 A 特開2007−264277号公報JP 2007-264277 A

本発明は、上記現状に鑑み、優れた膜強度と耐擦傷性とを有し、製造工程を簡便化でき、製造コストを低減化できる光学積層体を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an optical laminate that has excellent film strength and scratch resistance, can simplify the manufacturing process, and can reduce manufacturing costs.

本発明は、トリアセチルセルロース基材と、上記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、上記低屈折率層側表面の耐スチールウール性が、上記トリアセチルセルロース基材の耐スチールウール性と同じか又はより高く、上記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成されることを特徴とする光学積層体に関する。
記溶剤は、メチルイソブチルケトン及び/又はt−ブタノールであることが好ましい。
上記アクリル系樹脂は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも1種を含有することが好ましい。
The present invention is an optical laminate having a triacetyl cellulose base material and a low refractive index layer adjacent to the triacetyl cellulose base material, and the steel wool resistance of the low refractive index layer side surface is the same as or steel wool resistance of triacetyl cellulose substrate or from rather high, the low refractive index layer, a hollow silica, fluorinated resin, the low refractive index layer composition containing an acrylic resin and a solvent It is related with the optical laminated body characterized by being formed using .
Upper Symbol solvent is preferably a methyl isobutyl ketone and / or t- butanol.
The acrylic resin preferably contains at least one selected from the group consisting of a dimer of pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. .

本発明はまた、トリアセチルセルロース基材と、上記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、反射率Y値が0.6〜1.0%であり、上記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成されることを特徴とする光学積層体に関する。
本発明はまた、画像表示装置の前面に取り付ける前面板であって、基板の一方の表面に粘着剤層を介して反射防止フィルムを備え、上記基板の他方の表面に粘着剤層を介して上述の光学積層体を備えたことを特徴とする前面板に関する。
本発明はまた、上記反射防止フィルムが最表面となるように上述の前面板を備えたことを特徴とする画像表示装置に関する。
以下、本発明を詳細に説明する。
The present invention is also an optical laminate having a triacetyl cellulose base material and a low refractive index layer adjacent to the triacetyl cellulose base material, and the reflectance Y value is 0.6 to 1.0%. der is, the low refractive index layer, a hollow silica, fluorinated resin, an optical laminate characterized by being formed by using the composition for a low refractive index layer containing an acrylic resin and a solvent.
The present invention is also a front plate to be attached to the front surface of the image display device, comprising an antireflection film on one surface of the substrate via an adhesive layer, and the above-described surface on the other surface of the substrate via an adhesive layer. The present invention relates to a front plate characterized by comprising the above optical laminate.
The present invention also relates to an image display device comprising the above-described front plate so that the antireflection film is the outermost surface.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

第一の本発明は、トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層を有する光学積層体であって、上記低屈折率層の表面が特定の物性値を有するものである。このため、第一の本発明の光学積層体は、優れた膜強度及び耐擦傷性を有する。 1st this invention is an optical laminated body which has a low-refractive-index layer adjacent on a triacetylcellulose base material, Comprising: The surface of the said low-refractive-index layer has a specific physical-property value. For this reason, the optical layered body of the first present invention has excellent film strength and scratch resistance.

(トリアセチルセルロース基材)
第一の本発明の光学積層体は、トリアセチルセルロース(TAC)基材を有する。
トリアセチルセルロース基材は、光学的に異方性がなく、また、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れる基材である。
(Triacetyl cellulose base material)
The optical laminated body of 1st this invention has a triacetyl cellulose (TAC) base material.
The triacetyl cellulose base material is optically non-anisotropic, has smoothness and heat resistance, and is excellent in mechanical strength.

上記トリアセチルセルロース基材の厚さとしては、20〜300μmであることが好ましく、より好ましくは上限が200μmであり、下限が30μmである。 The thickness of the triacetyl cellulose base material is preferably 20 to 300 μm, more preferably the upper limit is 200 μm and the lower limit is 30 μm.

(低屈折率層)
第一の本発明の光学積層体は、上記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層を有する。
上記低屈折率層は、第一の本発明の光学積層体を構成するトリアセチルセルロース基材の屈折率よりも低い屈折率を有する層であり、通常、屈折率が1.5未満であり、より好ましくは1.45以下、更に好ましくは1.35以下の層である。
(Low refractive index layer)
The optical layered body of the first aspect of the present invention has a low refractive index layer adjacent to the triacetylcellulose base material.
The low refractive index layer is a layer having a refractive index lower than the refractive index of the triacetyl cellulose base material constituting the optical laminate of the first invention, and usually has a refractive index of less than 1.5, The layer is more preferably 1.45 or less, and still more preferably 1.35 or less.

上記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成されたものであることが好ましい。なお、本明細書においては、以下、フッ素系樹脂とアクリル系樹脂とを合わせてバインダー樹脂ともいう。また、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。 The low refractive index layer is preferably formed using a composition for a low refractive index layer containing hollow silica, a fluorine-based resin, an acrylic resin, and a solvent. In the present specification, the fluororesin and the acrylic resin are hereinafter collectively referred to as a binder resin. Further, in the present specification, “resin” is a concept including resin components such as monomers and oligomers.

上記中空状シリカ微粒子は、低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げる役割を果たすものである。なお、本明細書において、「中空状シリカ微粒子」とは、内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体であり、シリカ微粒子本来の屈折率に比べて気体の占有率に反比例して屈折率が低下するシリカ微粒子を意味する。
また、本発明においては、シリカ微粒子の形態、構造、凝集状態、上記低屈折率層用組成物を用いてなる塗膜の内部での分散状態により、内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能なシリカ微粒子も含まれる。
The hollow silica fine particles serve to lower the refractive index while maintaining the layer strength of the low refractive index layer. In the present specification, “hollow silica fine particles” refers to a structure in which gas is filled and / or a porous structure containing a gas, and the gas occupancy rate compared to the original refractive index of silica fine particles. Means a silica fine particle whose refractive index decreases in inverse proportion to
Further, in the present invention, the nanoporous structure is formed on at least a part of the inside and / or the surface depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state of the coating film using the above composition for low refractive index layer. Also included are silica particulates capable of forming a structure.

上記中空状シリカ微粒子の具体例としては特に限定されず、例えば、特開2001−233611号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましく挙げられる。中空状シリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、有機系バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率が低くなるよう調整することが可能となる。 Specific examples of the hollow silica fine particles are not particularly limited, and for example, silica fine particles prepared using a technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611 are preferable. Since hollow silica fine particles are easy to manufacture and have high hardness themselves, when mixed with an organic binder to form a low refractive index layer, the layer strength is improved and the refractive index is adjusted to be low. It becomes possible to do.

上記塗膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能なシリカ微粒子としては上述のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され使用される、充填用のカラム、表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる吸着剤、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、又は、断熱材若しくは低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体若しくは凝集体が挙げられる。そのような具体例としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業社製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)が挙げられる。これらの中から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。 In addition to the above-mentioned silica fine particles, the silica fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface of the coating film are manufactured and used for the purpose of increasing the specific surface area. Columns, adsorbents that adsorb various chemicals on the porous portion of the surface, porous fine particles used for catalyst fixation, or dispersions or aggregates of hollow fine particles intended to be incorporated into heat insulating materials or low dielectric materials A collection is mentioned. As such a specific example, as a commercial product, an assembly of porous silica fine particles from the product names Nippil and Nipgel manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd. And colloidal silica UP series (trade name). Among these, those within the preferred particle diameter range of the present invention can be used.

上記中空状シリカ微粒子の平均粒子径としては、5〜300nmであることが好ましい。中空状シリカ微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することができる。より好ましい下限は8nm、より好ましい上限は100nm、更に好ましい下限は10nm、更に好ましい上限は80nmである。 The average particle size of the hollow silica fine particles is preferably 5 to 300 nm. When the average particle diameter of the hollow silica fine particles is within this range, excellent transparency can be imparted to the low refractive index layer. A more preferred lower limit is 8 nm, a more preferred upper limit is 100 nm, a still more preferred lower limit is 10 nm, and a still more preferred upper limit is 80 nm.

上記低屈折率層用組成物において、上記中空状シリカ微粒子の含有量としては特に限定されないが、バインダー樹脂固形分100質量部に対して、200質量部以下であることが好ましい。200質量部を超えると、形成する低屈折率層を充分に低屈折率とすることができないばかりでなく、強度が不充分となることがある。より好ましい下限は10質量部、より好ましい上限は165質量部である。 In the low refractive index layer composition, the content of the hollow silica fine particles is not particularly limited, but is preferably 200 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin solid content. If it exceeds 200 parts by mass, the low refractive index layer to be formed cannot be made sufficiently low in refractive index, but the strength may be insufficient. A more preferred lower limit is 10 parts by mass, and a more preferred upper limit is 165 parts by mass.

上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を挙げることができる。上記重合性化合物としては、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基(電離放射線硬化性基)や熱で硬化する極性基(熱硬化極性基)等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。 Examples of the fluorine resin include a polymerizable compound containing a fluorine atom in at least a molecule or a polymer thereof. Although it does not specifically limit as said polymeric compound, For example, it has hardening reactive groups, such as a functional group (ionizing radiation curable group) hardened | cured with ionizing radiation, and a polar group (thermosetting polar group) hardened | cured with heat. Those are preferred. Moreover, the compound which has these reactive groups simultaneously may be sufficient.

フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールなど)を例示することができる。(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものとして、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物;分子中に、フッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1〜14のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物などもある。 As the polymerizable compound having an ionizing radiation curable group containing a fluorine atom, fluorine-containing monomers having an ethylenically unsaturated bond can be widely used. More specifically, to illustrate fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) Can do. As having a (meth) acryloyloxy group, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-trifluoromethacryl (Meth) acrylate compounds having fluorine atoms in the molecule, such as methyl acrylate and ethyl α-trifluoromethacrylate; C 1-14 fluoroalkyl groups having at least 3 fluorine atoms in the molecule, fluorocyclo An alkyl group or a fluoroalkylene group and at least two (meta And fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid ester compounds having an acryloyloxy group.

フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、4−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体;フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体;エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等を例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。 Examples of the polymerizable compound having a thermosetting polar group containing a fluorine atom include 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer; fluoroethylene-hydrocarbon vinyl ether copolymer; epoxy, polyurethane, cellulose, Illustrative examples include fluorine-modified products of resins such as phenol and polyimide. As said thermosetting polar group, hydrogen bond forming groups, such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, are mentioned preferably, for example. These are excellent not only in adhesion to the coating film but also in affinity with inorganic ultrafine particles such as silica.

電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類、完全または部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。 Polymerizable compounds having both ionizing radiation curable groups and thermosetting polar groups include acrylic or methacrylic acid moieties and fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl esters, fully or partially fluorinated vinyl ethers, fully or partially fluorine. Illustrative examples include fluorinated vinyl esters, fully or partially fluorinated vinyl ketones, and the like.

フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体;含フッ素(メタ)アクリレート化合物の少なくとも1種類と、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない(メタ)アクリレート化合物との共重合体;フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体;等が挙げられる。 Examples of the polymer of the polymerizable compound containing a fluorine atom include a polymer of a monomer or a monomer mixture containing at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound of the polymerizable compound having the ionizing radiation curable group; At least one fluorine (meth) acrylate compound and a fluorine atom in a molecule such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate Copolymers with (meth) acrylate compounds not containing; fluoroethylene, vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3, 3,3-trifluoropropylene, hex Homopolymers and copolymers of fluorine-containing monomers such as hexafluoropropylene; and the like.

また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。 Moreover, the silicone containing vinylidene fluoride copolymer which made these copolymers contain a silicone component can also be used as a polymer of the said polymeric compound. Examples of silicone components in this case include (poly) dimethylsiloxane, (poly) diethylsiloxane, (poly) diphenylsiloxane, (poly) methylphenylsiloxane, alkyl-modified (poly) dimethylsiloxane, azo group-containing (poly) dimethylsiloxane, , Dimethyl silicone, phenylmethyl silicone, alkyl aralkyl modified silicone, fluorosilicone, polyether modified silicone, fatty acid ester modified silicone, methyl hydrogen silicone, silanol group containing silicone, alkoxy group containing silicone, phenol group containing silicone, methacryl modified silicone, Acrylic modified silicone, amino modified silicone, carboxylic acid modified silicone, carbinol modified silicone, epoxy modified silicone, mercapto modified silicone Corn, fluorine-modified silicones, polyether-modified silicones and the like. Among them, those having a dimethylsiloxane structure are preferable.

上記したほか、さらには、分子中に少なくとも1個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも1個有する化合物とを反応させて得られる化合物;フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物;なども、フッ素系樹脂として用いることができる。 In addition to the above, a fluorine-containing compound having at least one isocyanato group in the molecule, and a compound having at least one functional group in the molecule that reacts with an isocyanato group such as an amino group, a hydroxyl group, or a carboxyl group A compound obtained by reacting a fluorine-containing polyether polyol, a fluorine-containing alkyl polyol, a fluorine-containing polyester polyol, a fluorine-containing polyol such as a fluorine-containing ε-caprolactone-modified polyol, and a compound having an isocyanato group. Compounds; etc. can also be used as the fluororesin.

上記フッ素系樹脂は、一般的に市販されているものであってもよい。
なかでも、上記フッ素系樹脂の市販品としては、低屈折率層の屈折率を小さくし、かつ、耐擦傷性を高めることができる点で、例えば、TU2224(JSR社製)、AR110(ダイキン社製)、LINC3A(共栄社化学社製)が好ましい。
The fluororesin may be one that is generally commercially available.
Especially, as a commercial item of the said fluorine-type resin, TU2224 (made by JSR), AR110 (made by Daikin) are the points which can make the refractive index of a low refractive index layer small and can improve abrasion resistance. And LINC3A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) are preferable.

上記アクリル系樹脂としては、例えば、1又は2以上の不飽和結合を有するアクリル系化合物を挙げることができる。1の不飽和結合を有するアクリル系化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。2以上の不飽和結合を有するアクリル系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物と(メタ)アクリレート等の反応生成物(例えば多価アルコールのポリ(メタ)アクリレートエステル)、又は、上記多官能化合物の二量体等を挙げることができる。なお、本明細書において「(メタ)アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
また、上記アクリル系樹脂として、ウレタンアクリレート、エステルアクリレート、エポキシアクリレート、エーテルアクリレート等の変性した(メタ)アクリルアクリレート等の多官能を有するものを挙げることができる。
As said acrylic resin, the acrylic compound which has a 1 or 2 or more unsaturated bond can be mentioned, for example. Examples of the acrylic compound having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate and ethylhexyl (meth) acrylate. Examples of acrylic compounds having two or more unsaturated bonds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol. Multifunctional compounds such as tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentylglycol di (meth) acrylate, or the above-mentioned polyfunctional compounds and (meta ) Reaction products such as acrylates (for example, poly (meth) acrylate esters of polyhydric alcohols) or dimers of the above polyfunctional compounds. In the present specification, “(meth) acrylate” refers to methacrylate and acrylate.
Moreover, what has polyfunctionality, such as modified | denatured (meth) acryl acrylates, such as urethane acrylate, ester acrylate, epoxy acrylate, ether acrylate, can be mentioned as said acrylic resin.

なかでも、耐擦傷性に優れ、透明性に優れる点で、上記アクリル系樹脂として、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも1種を含有することがより好ましい。 Among these, as the acrylic resin, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are excellent in scratch resistance and transparency. More preferably, it contains at least one selected from the group consisting of dimers.

上記低屈折率層用組成物において、上記フッ素系樹脂と上記アクリル系樹脂との合計含有量は、上記低屈折率層用組成物の固形分中30〜90質量%であることが好ましい。30質量%未満であると、耐擦傷性が低下するおそれがある。90質量%を超えると、反射率が上がるおそれがある。上記合計含有量は、固形分で35〜50質量%であることがより好ましい。 In the low refractive index layer composition, the total content of the fluororesin and the acrylic resin is preferably 30 to 90% by mass in the solid content of the low refractive index layer composition. If it is less than 30% by mass, the scratch resistance may be lowered. If it exceeds 90% by mass, the reflectance may increase. The total content is more preferably 35 to 50% by mass in terms of solid content.

上記低屈折率層用組成物において、上記フッ素系樹脂と上記アクリル系樹脂との含有比は、固形分質量で20/80〜90/10であることが好ましい。
上記フッ素系樹脂の割合が、上記範囲未満であると、屈折率を充分に低くすることができないおそれがあり、上記範囲を超えると、耐擦傷性が低下するおそれがある。
上記含有比は、20/80〜85/15であることがより好ましい。
In the low refractive index layer composition, the content ratio of the fluororesin and the acrylic resin is preferably 20/80 to 90/10 in terms of solid content.
If the ratio of the fluororesin is less than the above range, the refractive index may not be sufficiently lowered, and if it exceeds the above range, scratch resistance may be reduced.
The content ratio is more preferably 20/80 to 85/15.

上記溶剤としては、上記トリアセチルセルロース基材に浸透しにくく、かつ、沸点が低く乾燥が容易な溶剤が好ましい。上記溶剤の沸点としては、120℃以下であることが好ましい。
具体的に、上記溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン等の比較的高分子量で且つトリアセチルセルロース基材に浸透しにくい溶剤、及び、t−ブタノール、IPA等のアルコール系溶剤が好ましい。
なかでも、上記溶剤としては、メチルイソブチルケトン及び/又はt−ブタノールであることがより好ましい。
As the solvent, a solvent that hardly penetrates into the triacetylcellulose base material and has a low boiling point and can be easily dried is preferable. The boiling point of the solvent is preferably 120 ° C. or lower.
Specifically, as the solvent, for example, a solvent having a relatively high molecular weight such as methyl isobutyl ketone and hardly permeating the triacetyl cellulose base material and an alcohol solvent such as t-butanol and IPA are preferable.
Especially, as said solvent, it is more preferable that they are methyl isobutyl ketone and / or t-butanol.

上記低屈折率層用組成物は、上述した中空状シリカ、フッ素系樹脂及びアクリル系樹脂以外に、他の成分を含有していてもよい。上記他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、屈折率調製剤、帯電防止剤、防汚剤等を挙げることができる。これらは、公知のものを使用するとよい。 The composition for a low refractive index layer may contain other components in addition to the hollow silica, the fluorine-based resin, and the acrylic resin described above. Examples of the other components include a photopolymerization initiator, a leveling agent, a crosslinking agent, a curing agent, a polymerization accelerator, a viscosity modifier, a refractive index adjuster, an antistatic agent, and an antifouling agent. These may be known ones.

上記低屈折率層用組成物は、固形分が2〜4.5質量%であることが好ましい。上記固形分が2質量%未満であると、乾燥が遅くなり、トリアセチルセルロース基材に溶剤が浸透してしまうおそれがある。4.5質量%を超えると、膜面の異常が発生するおそれがある。上記固形分は、2.5〜3質量%であることがより好ましい。 The low refractive index layer composition preferably has a solid content of 2 to 4.5% by mass. When the solid content is less than 2% by mass, drying is slow, and the solvent may penetrate into the triacetyl cellulose base material. If it exceeds 4.5% by mass, the film surface may be abnormal. The solid content is more preferably 2.5 to 3% by mass.

上記低屈折率層用組成物は、上記中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び必要に応じて他の成分を上記溶剤に混合分散して調製するとよい。
上記混合分散する方法としては、特に限定されず、公知の方法が挙げられ、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
The composition for a low refractive index layer may be prepared by mixing and dispersing the hollow silica, fluorine resin, acrylic resin and other components as required in the solvent.
The method of mixing and dispersing is not particularly limited, and may be a known method, and may be performed using a known device such as a paint shaker, a bead mill, or a kneader.

上記低屈折率層の形成は、上記低屈折率層用組成物をトリアセチルセルロース基材上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥し、該塗膜を硬化させることにより行うことができる。
上記塗布の方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の公知の各種方法を挙げることができる。
The low refractive index layer is formed by applying the low refractive index layer composition on a triacetyl cellulose base material to form a coating film, drying it as necessary, and curing the coating film. be able to.
Examples of the coating method include various known methods such as spin coating, dipping, spraying, die coating, bar coating, roll coater, meniscus coater, flexographic printing, screen printing, and bead coater. A method can be mentioned.

上記塗膜を硬化させる方法は、特に限定されず、公知の方法であればよく、例えば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させる方法が挙げられる。 The method for curing the coating film is not particularly limited, and any known method may be used. Examples thereof include a method for curing the coating film by irradiating it with ultraviolet rays.

上記低屈折率層の膜厚(nm)dは、下記式(I):
=mλ/(4n) (I)
(上記式中、nは低屈折率層の屈折率を表し、mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)
を満たすものが好ましい。
The film thickness (nm) d A of the low refractive index layer is the following formula (I):
d A = mλ / (4n A ) (I)
(In the above formula, n A represents the refractive index of the low refractive index layer, m represents a positive odd number, preferably 1 and λ is a wavelength, preferably a value in the range of 480 to 580 nm)
Those satisfying these conditions are preferred.

また、本発明にあっては、上記低屈折率層は下記数式(II):
120<n<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
In the present invention, the low refractive index layer has the following formula (II):
120 <n A d A <145 (II)
It is preferable from the viewpoint of low reflectivity.

第一の本発明の光学積層体では、このような上述した低屈折率層用組成物を用いて低屈折率層を形成する。
ここで、従来の、低屈折率剤及びバインダー樹脂を含有する低屈折率層用組成物を用いて、トリアセチルセルロース基材上に直接低屈折率層を形成すると、膜強度や耐擦傷性が低いものしか得られなかった。これは、トリアセチルセルロース基材が、溶剤、バインダー樹脂を浸透させやすい材料であるため、トリアセチルセルロース基材中に、低屈折率層用組成物中のバインダー樹脂が浸透してしまったからであると考えられる。
本発明においては、上述した特定の成分からなる低屈折率層用組成物を用いるため、該低屈折率層用組成物中のバインダー樹脂の浸透を抑制することができ、トリアセチルセルロース基材上に、他の層を介さず、直接、優れた膜強度及び耐擦傷性を有する低屈折率層を好適に形成することができるのである。その結果、光学積層体の製造工程を簡素化し、製造コストを低減することができる。
In the optical laminated body of the first aspect of the present invention, the low refractive index layer is formed using the above-described composition for low refractive index layer.
Here, when a low refractive index layer is formed directly on a triacetyl cellulose substrate using a conventional composition for a low refractive index layer containing a low refractive index agent and a binder resin, the film strength and scratch resistance are improved. Only a low one was obtained. This is because the triacetyl cellulose base material is a material that allows easy penetration of the solvent and binder resin, and therefore the binder resin in the low refractive index layer composition has permeated into the triacetyl cellulose base material. it is conceivable that.
In the present invention, since the composition for a low refractive index layer comprising the above-mentioned specific components is used, the penetration of the binder resin in the composition for a low refractive index layer can be suppressed, and the triacetyl cellulose substrate In addition, a low refractive index layer having excellent film strength and scratch resistance can be suitably formed directly without involving other layers. As a result, the manufacturing process of the optical laminate can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

すなわち、第一の本発明の光学積層体は、低屈折率層用組成物がトリアセチルセルロース基材に浸透して形成された浸透層を有さないことが好ましい。上記浸透層は、上記低屈折率層用組成物に含まれるアクリル系樹脂又は溶剤がトリアセチルセルロース基材に浸透して形成された層である。
上記浸透層の有無は、光学積層体の断面をSEM等の顕微鏡観察により観察することができる。
That is, it is preferable that the optical layered body of the first aspect of the present invention does not have an osmotic layer formed by osmosis of the composition for low refractive index layer into the triacetyl cellulose base material. The permeation layer is a layer formed by permeating the triacetyl cellulose base material with an acrylic resin or a solvent contained in the low refractive index layer composition.
The presence or absence of the permeation layer can be observed by observing the cross section of the optical layered body with a microscope such as SEM.

第一の本発明の光学積層体は、上述したトリアセチルセルロース基材及び低屈折率層の他に、他の任意の層を有していてもよい。上記任意の層としては、防汚層等を挙げることができる。これらは低屈折率層上に形成される。上記防汚層は、例えば、公知の防汚剤等と樹脂及び溶剤等とを混合して、公知の方法により形成することができる。 The optical layered body of the first aspect of the present invention may have other arbitrary layers in addition to the above-described triacetyl cellulose base material and low refractive index layer. Examples of the optional layer include an antifouling layer. These are formed on the low refractive index layer. The antifouling layer can be formed by, for example, a known method by mixing a known antifouling agent and the like with a resin and a solvent.

上述の構成からなる第一の本発明の光学積層体は、上記低屈折率層側表面の耐スチールウール性が、上記トリアセチルセルロース基材の耐スチールウール性と同じか又はより高い。
上記低屈折率層表面の耐スチールウール性が、上記トリアセチルセルロース基材の耐スチールウール性より低いと、所望の耐擦傷性を有する光学積層体を得ることができない。
なお、上記耐スチールウール性は、低屈折率層とトリアセチルセルロース基材の表面を、#0000番のスチールウールを用いて、摩擦荷重50g/cmで所定の回数、往復摩擦した後に、表面に観察される傷の数により評価する。例えば、同一回数の往復摩擦において、傷の数がより多いと、上記耐スチールウール性が低いと定義する。
In the optical layered body of the first aspect of the present invention having the above-described configuration, the steel wool resistance of the surface on the low refractive index layer side is the same as or higher than the steel wool resistance of the triacetyl cellulose substrate.
When the steel wool resistance of the surface of the low refractive index layer is lower than the steel wool resistance of the triacetyl cellulose base material, an optical laminate having desired scratch resistance cannot be obtained.
Note that the steel wool resistance is obtained by reciprocating the surface of the low refractive index layer and the triacetyl cellulose base material with a # 0000 steel wool with a friction load of 50 g / cm 2 for a predetermined number of times. Evaluation is based on the number of scratches observed. For example, when the number of scratches is larger in the same number of reciprocating frictions, it is defined that the steel wool resistance is low.

第一の本発明の光学積層体は、全光線透過率が90%以上であることが好ましい。90%未満であると、本発明の光学積層体を画像表示装置の表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、95%以上であることがより好ましく、98%以上であることが更に好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K−7361に準拠した方法により測定することができる。
The optical layered body of the first invention preferably has a total light transmittance of 90% or more. If it is less than 90%, color reproducibility and visibility may be impaired when the optical laminate of the present invention is mounted on the surface of an image display device. The total light transmittance is more preferably 95% or more, and still more preferably 98% or more.
The total light transmittance can be measured by a method based on JIS K-7361 using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150).

第一の本発明の光学積層体は、ヘイズが1.0%以下であることが好ましい。1.0%を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記ヘイズは、0.1〜0.6%であることがより好ましい。
上記ヘイズは、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K−7136に準拠した方法により測定することができる。
The optical layered body of the first invention preferably has a haze of 1.0% or less. If it exceeds 1.0%, the color reproducibility and visibility may be impaired when mounted on the display surface, and a desired contrast may not be obtained. The haze is more preferably 0.1 to 0.6%.
The haze can be measured by a method based on JIS K-7136 using a haze meter (manufactured by Murakami Color Research Laboratory, product number: HM-150).

第二の本発明は、トリアセチルセルロース基材と、上記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、反射率Y値が0.6〜1.0%であることを特徴とする光学積層体である。
第二の本発明の光学積層体は、上述した特定の範囲の反射率Y値を有するため、優れた反射防止性能を有する。また、そのような光学積層体を、トリアセチルセルロース基材上に低屈折率層を一層有するだけで得られるため、製造工程を簡略化し、製造コストを削減することができる。
上記反射率Y値が0.6%未満であると、耐擦傷性が低下したり、乾燥ムラなどの外観不良が発生しやすくなる。1.0%を超えると、透過率が低下したり、映り込み防止が不十分であったりする。
上記反射率Y値は、分光器「MPC−3100PC」島津分光製を使用して、5度反射測定法にて測定することにより得ることができる。
2nd this invention is an optical laminated body which has a triacetylcellulose base material and a low-refractive-index layer adjacent on the said triacetylcellulose base material, Comprising: The reflectance Y value is 0.6-1. It is an optical laminated body characterized by being 0%.
Since the optical layered body of the second aspect of the present invention has the reflectance Y value in the specific range described above, it has excellent antireflection performance. Moreover, since such an optical laminated body is obtained only by having a low refractive index layer on a triacetyl cellulose base material, a manufacturing process can be simplified and manufacturing cost can be reduced.
When the reflectance Y value is less than 0.6%, the scratch resistance is lowered, and appearance defects such as drying unevenness are liable to occur. If it exceeds 1.0%, the transmittance may be lowered, or reflection prevention may be insufficient.
The reflectance Y value can be obtained by measuring by a 5-degree reflection measurement method using a spectroscope “MPC-3100PC” manufactured by Shimadzu Corp.

第二の本発明の光学積層体におけるトリアセチルセルロース基材としては、上述した第一の本発明の光学積層体において使用するトリアセチルセルロース基材と同様のものを挙げることができる。 Examples of the triacetylcellulose substrate in the optical laminate of the second invention include the same triacetylcellulose substrates as used in the optical laminate of the first invention described above.

第二の本発明の光学積層体における低屈折率層としては、上述した第一の本発明の光学積層体の低屈折率層と同様のものを挙げることができる。
上記低屈折率層は、上述した第一の本発明の光学積層体の低屈折率層の材料及び形成の方法と同様の材料及び方法により形成することができる。
Examples of the low refractive index layer in the optical layered body of the second invention include those similar to the low refractive index layer of the optical layered body of the first invention described above.
The low refractive index layer can be formed by the same material and method as those of the low refractive index layer of the optical laminate of the first invention described above.

第二の本発明の光学積層体は、全光線透過率及びヘイズが、上述した第一の本発明の光学積層体の全光線透過率及びヘイズを有することが好ましい。
第二の本発明の光学積層体は、上述した第一の本発明の光学積層体と同様の方法で、形成することができる。
In the optical layered body of the second aspect of the present invention, the total light transmittance and haze preferably have the total light transmittance and haze of the optical layered body of the first aspect of the present invention described above.
The optical layered body of the second aspect of the present invention can be formed by the same method as the optical layered body of the first aspect of the present invention described above.

上記第一及び第二の本発明の光学積層体は、基板の一方の表面に粘着剤層を介して反射防止フィルムを備え、上記基板の他方の表面に粘着剤層を介して上述の本発明の光学積層体を備えることにより、画像表示装置の前面に取り付ける前面板とすることができる。
そのような前面板も本発明の一つである。
The optical laminates of the first and second inventions are provided with an antireflection film on one surface of a substrate via an adhesive layer, and the invention described above via an adhesive layer on the other surface of the substrate. By providing this optical laminate, it is possible to provide a front plate to be attached to the front surface of the image display device.
Such a front plate is also one aspect of the present invention.

上記基板としては、ガラス基板又はアクリル基板を挙げることができる。
上記基板の厚みは、0.1〜5mmであることが好ましく、0.5〜3mmであることがより好ましい。
上記粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン粘着剤、シリコーン系粘着剤、又は、水系粘着剤等を公知のものを挙げることができる。
粘着剤層の厚みは、25〜30μmであることが好ましい。
Examples of the substrate include a glass substrate and an acrylic substrate.
The thickness of the substrate is preferably 0.1 to 5 mm, and more preferably 0.5 to 3 mm.
Examples of the pressure-sensitive adhesive include publicly known acrylic pressure-sensitive adhesives, urethane pressure-sensitive adhesives, silicone pressure-sensitive adhesives, and water-based pressure-sensitive adhesives.
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 25 to 30 μm.

上記反射防止フィルムとしては、公知の反射防止性能や防眩性を有する光学フィルムであれは、特に限定されないが、光透過性基材、ハードコート層及び低屈折率層を有する反射防止フィルムであることが好ましい。
上記光透過性基材、ハードコート層及び低屈折率層は、公知の材料及び形成方法を用いて得ることができる。
なお、上記反射防止フィルム及び本発明の光学積層体を上記基板に貼り合わせる際、それぞれの基材側を粘着剤層を介して基板に貼り合わせる。
The antireflection film is not particularly limited as long as it is a known antireflection performance or antiglare optical film, but is an antireflection film having a light-transmitting substrate, a hard coat layer, and a low refractive index layer. It is preferable.
The light transmissive substrate, the hard coat layer, and the low refractive index layer can be obtained using known materials and forming methods.
In addition, when bonding the said antireflection film and the optical laminated body of this invention to the said board | substrate, each base material side is bonded together to a board | substrate through an adhesive layer.

本発明の前面板の断面模式図を一例を図1に示す。
図1に示す前面板は、画像表示装置側から順に、上述した本発明の光学積層体1、粘着剤層2、基板3、粘着剤層2、及び、反射防止フィルム4で構成される。
上記前面板を、上記反射防止フィルムを視認側となるように画像表示装置に設置することにより、光透過率が高く、二重像が発生せず、優れた反射防止性能を有する画像表示装置とすることができる。
上記前面板の設置方法は公知の方法を用いるとよい。
An example of a schematic cross-sectional view of the front plate of the present invention is shown in FIG.
The front plate shown in FIG. 1 is composed of the optical laminate 1, the pressure-sensitive adhesive layer 2, the substrate 3, the pressure-sensitive adhesive layer 2, and the antireflection film 4 described above in order from the image display device side.
By installing the front plate on the image display device so that the antireflection film is on the viewing side, the image display device has high light transmittance, does not generate a double image, and has excellent antireflection performance; can do.
A known method may be used as the method for installing the front plate.

上記画像表示装置としては、液晶ディスプレイ(LCD)等の非自発光型画像表示装置や、プラズマディスプレイパネル(PDP)、電界放出ディスプレイ(FED)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)(有機EL、無機EL)、CRT等の自発光型画像表示装置を挙げることができる。
このような上記前面板を備えた画像表示装置もまた本発明の一つである。
Examples of the image display device include a non-self-luminous image display device such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), and an electroluminescence display (ELD) (organic EL, inorganic EL). And a self-luminous image display device such as a CRT.
An image display device provided with such a front plate is also one aspect of the present invention.

本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、CRT、液晶パネル、PDP、ELD等の高精細画像用ディスプレイの前面板裏面に好適に使用することができる。 In any case, the optical layered body of the present invention can be used for display display of a television, a computer, a word processor or the like. In particular, it can be suitably used for the back side of the front plate of high-definition image displays such as CRT, liquid crystal panel, PDP, ELD and the like.

本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、膜強度及び耐擦傷性に優れるものである。
このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等のディスプレイ、特に高精細化ディスプレイに好適に使用することができる。
Since the optical layered body of the present invention has the above-described configuration, it has excellent film strength and scratch resistance.
Therefore, the optical layered body of the present invention is suitably used for displays such as cathode ray tube display devices (CRT), liquid crystal displays (LCD), plasma displays (PDP), electroluminescence displays (ELD), and particularly high definition displays. can do.

本発明の光学積層体を備えた前面板の断面模式図の一例である。It is an example of the cross-sectional schematic diagram of the front board provided with the optical laminated body of this invention.

以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
なお、文中、「部」又は「%」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples and comparative examples.
In the text, “part” or “%” is based on mass unless otherwise specified.

(実施例1)
トリアセチルセルロース(TAC)基材(厚み80μm、富士フィルム社製TD80UL)を準備し、該TAC基材の片面に、下記に示した組成で調製した低屈折率層用組成物1を、塗工厚み0.1μm(乾燥後)となるように塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜を温度50℃の熱オーブン中で60秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、塗膜に紫外線を照射線量が100mjになるよう照射して塗膜を硬化させることにより、低屈折率層を形成し、実施例1の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物1>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.6質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 1.0質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.3質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
メチルイソブチルケトン(MIBK) 97.0質量部
Example 1
A triacetyl cellulose (TAC) base material (thickness 80 μm, TD80UL manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) was prepared, and on one side of the TAC base material, the composition 1 for a low refractive index layer prepared with the composition shown below was applied. The film was applied to a thickness of 0.1 μm (after drying) to form a coating film. Next, the formed coating film is dried in a thermal oven at a temperature of 50 ° C. for 60 seconds, the solvent in the coating film is evaporated, and the coating film is cured by irradiating the coating film with ultraviolet rays so that the irradiation dose becomes 100 mj. Thus, a low refractive index layer was formed, and the optical layered body of Example 1 was obtained.
<Composition 1 for low refractive index layer>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.6 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR) 1.0 part by mass dipentaerythritol hexaacrylate 0.3 parts by mass Irgacure 127: 0.1 parts by mass methyl isobutyl ketone (Ciba Japan) MIBK) 97.0 parts by mass

(実施例2)
実施例1において、低屈折率層用組成物1の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物2を用いた点以外は、実施例1と同様にして、実施例2の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物2>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.6質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 1.1質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.2質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
メチルイソブチルケトン(MIBK) 97.0質量部
(Example 2)
In Example 1, the optical laminate of Example 2 was used in the same manner as in Example 1 except that the composition 2 for low refractive index layer having the following composition was used instead of the composition 1 for low refractive index layer. Got.
<Composition 2 for low refractive index layer>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.6 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR) 1.1 parts by mass dipentaerythritol hexaacrylate 0.2 parts by mass Irgacure 127: 0.1 parts by mass methyl isobutyl ketone (Ciba Japan) MIBK) 97.0 parts by mass

(実施例3)
実施例1において、低屈折率層用組成物1の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物3を用いた点以外は、実施例1と同様にして、実施例3の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物3>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.6質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 0.8質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.5質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
メチルイソブチルケトン(MIBK) 97.0質量部
Example 3
In Example 1, the optical laminate of Example 3 was used in the same manner as Example 1 except that the composition 3 for low refractive index layer having the following composition was used instead of the composition 1 for low refractive index layer. Got.
<Composition 3 for low refractive index layer>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.6 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR) 0.8 parts by mass dipentaerythritol hexaacrylate 0.5 parts by mass Irgacure 127: 0.1 parts by mass methyl isobutyl ketone (manufactured by Ciba Japan) MIBK) 97.0 parts by mass

(実施例4)
実施例1において、低屈折率層用組成物1の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物4を用いた点以外は、実施例1と同様にして、実施例4の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物4>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.5質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 1.05質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.35質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
メチルイソブチルケトン(MIBK) 97.0質量部
Example 4
In Example 1, the optical laminate of Example 4 was used in the same manner as in Example 1 except that the composition 4 for low refractive index layer having the following composition was used instead of the composition 1 for low refractive index layer. Got.
<Low refractive index layer composition 4>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.5 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR) 1.05 parts by mass dipentaerythritol hexaacrylate 0.35 parts by mass Irgacure 127: 0.1 parts by mass methyl isobutyl ketone (Ciba Japan) MIBK) 97.0 parts by mass

(実施例5)
実施例1において、低屈折率層用組成物1の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物5を用いた点以外は、実施例1と同様にして、実施例5の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物5>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.6質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 1.0質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.3質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
t−ブタノール 97.0質量部
(Example 5)
In Example 1, the optical laminate of Example 5 was used in the same manner as in Example 1 except that the composition 5 for low refractive index layer having the following composition was used instead of the composition 1 for low refractive index layer. Got.
<Composition 5 for low refractive index layer>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.6 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR) 1.0 part by mass dipentaerythritol hexaacrylate 0.3 parts by mass Irgacure 127: 0.1 part by mass t-butanol manufactured by Ciba Japan .0 parts by mass

(実施例6)
実施例1において、低屈折率層用組成物1の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物6を用いた点以外は、実施例1と同様にして、実施例6の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物6>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.6質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 1.0質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート二量体 0.3質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
メチルイソブチルケトン(MIBK) 97.0質量部
(Example 6)
In Example 1, the optical laminate of Example 6 was used in the same manner as in Example 1 except that the composition 6 for low refractive index layer having the following composition was used instead of the composition 1 for low refractive index layer. Got.
<Composition 6 for low refractive index layer>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.6 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR) 1.0 part by mass dipentaerythritol hexaacrylate dimer 0.3 parts by mass Irgacure 127: 0.1 parts by mass methyl by Ciba Japan 97.0 parts by mass of isobutyl ketone (MIBK)

(実施例7)
実施例1において、低屈折率層用組成物1の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物7を用いた点以外は、実施例1と同様にして、実施例7の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物7>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.7質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 0.95質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.25質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
メチルイソブチルケトン(MIBK) 97.0質量部
(Example 7)
In Example 1, the optical laminate of Example 7 was used in the same manner as in Example 1, except that the composition 7 for low refractive index layer having the following composition was used instead of the composition 1 for low refractive index layer. Got.
<Composition 7 for low refractive index layer>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.7 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR) 0.95 parts by mass dipentaerythritol hexaacrylate 0.25 parts by mass Irgacure 127: 0.1 parts by mass methyl isobutyl ketone (Ciba Japan) MIBK) 97.0 parts by mass

(比較例1)
実施例1において、低屈折率層用組成物1の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物8を用いた点以外は、実施例1と同様にして、比較例1の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物8>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.6質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 1.0質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.3質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
メチルエチルケトン(MEK) 97.0質量部
(Comparative Example 1)
In Example 1, the optical laminate of Comparative Example 1 was used in the same manner as in Example 1 except that instead of the composition 1 for low refractive index layer, the composition 8 for low refractive index layer having the following composition was used. Got.
<Low refractive index layer composition 8>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.6 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR) 1.0 part by mass dipentaerythritol hexaacrylate 0.3 parts by mass Irgacure 127: 0.1 parts by mass methyl ethyl ketone (MEK) manufactured by Ciba Japan 97.0 parts by mass

(比較例2)
実施例1において、低屈折率層用組成物1の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物9を用いた点以外は、実施例1と同様にして、比較例2の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物9>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.6質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 1.0質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.3質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
ポリグリシジルメタクリレート(PGMA) 97.0質量部
(Comparative Example 2)
In Example 1, the optical laminate of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition 9 for low refractive index layer having the following composition was used instead of the composition 1 for low refractive index layer. Got.
<Low refractive index layer composition 9>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.6 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR) 1.0 part by mass dipentaerythritol hexaacrylate 0.3 parts by mass Irgacure 127: 0.1 part by mass polyglycidyl methacrylate (by Ciba Japan) PGMA) 97.0 parts by mass

(比較例3)
実施例1において、低屈折率層用組成物1の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物10を用いた点以外は、実施例1と同様にして、比較例3の光学積層体を得た。
<低屈折率層用組成物10>
中空状シリカ(平均一次粒径60nm、スルーリア4320(商品名)、触媒化成社製)
1.6質量部
フッ素系樹脂(TU2224(商品名)、JSR社製) 1.0質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.3質量部
イルガキュア127:チバジャパン社製 0.1質量部
酢酸nプロピル 97.0質量部
(Comparative Example 3)
In Example 1, the optical laminate of Comparative Example 3 was used in the same manner as Example 1 except that the composition 10 for low refractive index layer having the following composition was used instead of the composition 1 for low refractive index layer. Got.
<Low refractive index layer composition 10>
Hollow silica (average primary particle size 60 nm, through rear 4320 (trade name), manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)
1.6 parts by mass fluorine resin (TU2224 (trade name), manufactured by JSR Corporation) 1.0 part by mass dipentaerythritol hexaacrylate 0.3 parts by mass Irgacure 127: 0.1 part by mass n-propyl acetate by Ciba Japan .0 parts by mass

得られた各光学積層体について、下記の項目について評価した。評価結果を表1に示す。
<耐スチールウール(SW)性>
光学積層体の低屈折率層表面を、#0000番のスチールウールを用いて、摩擦荷重50g/cmで往復摩擦し、表面に傷が入り始めた往復回数と、目視観察によるその傷の様子とについて、トリアセチルセルロース基材表面にて同様に往復摩擦した場合と比較し、下記の基準にて評価した。
○:トリアセチルセルロール基材と同等又は傷が少なかった。
×:トリアセチルセルロース基材よりも傷が入りやすかった。
About each obtained optical laminated body, the following item was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
<Steel Wool (SW) resistance>
The surface of the low refractive index layer of the optical laminate was reciprocated with a friction load of 50 g / cm 2 using # 0000 steel wool, and the number of reciprocations where the surface began to scratch and the appearance of the scratch by visual observation As compared with the case of reciprocating friction in the same manner on the surface of the triacetylcellulose substrate, the following criteria were evaluated.
○: Equivalent to the triacetylcellulose substrate or few scratches.
X: The scratch was easier to enter than the triacetyl cellulose base material.

<爪スクラッチ>
人差し指の爪を低屈折率層表面に対して垂直に立て、荷重500〜600g、速度1往復/1秒で横方向に10往復した後の表面の様子について目視観察を行い、下記の基準にて評価した。
○:傷なし。
×:傷あり。
<Nail scratch>
The nail of the index finger is set up vertically with respect to the surface of the low refractive index layer, and the state of the surface after 10 reciprocations in the horizontal direction at a load of 500 to 600 g and a speed of 1 reciprocation / 1 second is visually observed. evaluated.
○: No scratch.
X: There is a crack.

<反射率Y値>
各光学積層体の反射率Y値について、分光器「MPC−3100PC」島津分光社製を使用して、5度反射測定法にて測定した。
<Reflectance Y value>
About the reflectance Y value of each optical laminated body, it measured by the 5 degree | times reflection measuring method using the spectroscope "MPC-3100PC" Shimadzu Corp. make.

<ヘイズ>
各光学積層体のヘイズについて、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製、製品番号;HM−150)を用いてJIS K−7136(ヘイズ)に準拠した方法により測定した。
<Haze>
About the haze of each optical laminated body, it measured by the method based on JISK-7136 (haze) using the haze meter (Murakami Color Research Laboratory make, product number; HM-150).

Figure 0005678544
Figure 0005678544

表1より、実施例の光学積層体は、耐擦傷性、反射防止性、ヘイズのいずれの項目においても良好であった。 From Table 1, the optical laminated body of the Example was favorable in all items of scratch resistance, antireflection property, and haze.

本発明の光学積層体は、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)等の高精細化ディスプレイに好適に使用することができ、特にこれらのディスプレイの前面板として好適に使用することができる。 The optical laminate of the present invention can be suitably used for high definition displays such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), and an electroluminescence display (ELD), and is particularly suitable as a front plate of these displays. Can be used for

1 本発明の光学積層体
2 粘着剤層
3 基板
4 反射防止フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical laminated body of this invention 2 Adhesive layer 3 Board | substrate
4 Antireflection film

Claims (6)

トリアセチルセルロース基材と、前記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、
前記低屈折率層側表面の耐スチールウール性が、前記トリアセチルセルロース基材の耐スチールウール性と同じか又はより高く、
前記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成される
ことを特徴とする光学積層体。
An optical laminate having a triacetyl cellulose base material and a low refractive index layer adjacent to the triacetyl cellulose base material,
The steel wool resistance of the low refractive index layer side surface, the same or more rather high and steel wool resistance of the triacetyl cellulose substrate,
The optical laminated body, wherein the low refractive index layer is formed using a composition for a low refractive index layer containing hollow silica, a fluorine resin, an acrylic resin, and a solvent .
溶剤は、メチルイソブチルケトン及び/又はt−ブタノールである請求項記載の光学積層体。 Solvents, methyl isobutyl ketone and / or t- butanol in a claim 1 laminated body for optical purposes according. アクリル系樹脂は、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートの二量体からなる群より選択される少なくとも1種を含有する請求項1又は2記載の光学積層体。 The acrylic resin contains at least one selected from the group consisting of a dimer of pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Item 3. The optical laminate according to Item 1 or 2 . トリアセチルセルロース基材と、前記トリアセチルセルロース基材上に隣接して低屈折率層とを有する光学積層体であって、
反射率Y値が0.6〜1.0%であり、
前記低屈折率層は、中空状シリカ、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂及び溶剤を含有する低屈折率層用組成物を用いて形成される
ことを特徴とする光学積層体。
An optical laminate having a triacetyl cellulose base material and a low refractive index layer adjacent to the triacetyl cellulose base material,
Reflectivity Y value Ri 0.6 to 1.0% der,
The optical laminated body, wherein the low refractive index layer is formed using a composition for a low refractive index layer containing hollow silica, a fluorine resin, an acrylic resin, and a solvent .
画像表示装置の前面に取り付ける前面板であって、基板の一方の表面に粘着剤層を介して反射防止フィルムを備え、前記基板の他方の表面に粘着剤層を介して請求項1、2、3又は4記載の光学積層体を備えたことを特徴とする前面板。 A front plate attached to the front surface of the image display device, comprising an antireflection film on one surface of the substrate via an adhesive layer, and an adhesive layer on the other surface of the substrate. A front plate comprising the optical laminate according to 3 or 4 . 反射防止フィルムが最表面となるように請求項記載の前面板を備えたことを特徴とする画像表示装置。 An image display device comprising the front plate according to claim 5 so that the antireflection film becomes the outermost surface.
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