JP5695431B2 - Manufacturing method of oxide superconducting wire - Google Patents
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Description
本発明は、金属製の基材上に中間層と酸化物超電導層と安定化層を備えた積層構造の酸化物超電導線材の製造方法に関する。 The present invention relates to the production how of the oxide superconducting wire of a laminated structure having an intermediate layer and the oxide superconducting layer and a stabilizing layer on a metal substrate.
RE−123系の酸化物超電導体(REBa2Cu3O7−X:REはYを含む希土類元素)は、液体窒素温度で超電導性を示し、電流損失が低いため、電力供給用の導体あるいはコイル用の導体として応用開発がなされている。この酸化物超電導体を線材に加工するための方法の一例として、強度が高く、耐熱性があり、線材に加工することが容易な金属を長尺のテープ状に加工し、この金属基材テープ上に酸化物超電導層を形成する技術が提供されている。 The RE-123 oxide superconductor (REBa 2 Cu 3 O 7-X : RE is a rare earth element including Y) exhibits superconductivity at a liquid nitrogen temperature and has low current loss. Application development has been made as a conductor for coils. As an example of a method for processing this oxide superconductor into a wire, a metal having a high strength, heat resistance, and easy to process into a wire is processed into a long tape, and this metal base tape A technique for forming an oxide superconducting layer thereon is provided.
また、酸化物超電導体の結晶は電気的異方性を有しているので、基材テープ上に酸化物超電導層を形成する場合、結晶の配向制御を行う必要があり、その方法の一例として、基材上に中間層を介し酸化物超電導層を積層する技術が実施されている。この中間層を利用する技術の一例として、イオンビームアシスト成膜法(IBAD法:Ion Beam Assisted Deposition)が知られており、このIBAD法により高い2軸配向性を示す中間層を基材上に成膜することができ、この中間層上に酸化物超電導層を形成することにより、超電導特性の優れた酸化物超電導導体を得ることができる。 In addition, since the oxide superconductor crystals have electrical anisotropy, it is necessary to control the crystal orientation when forming the oxide superconducting layer on the base tape. A technique for laminating an oxide superconducting layer on a base material via an intermediate layer has been implemented. As an example of a technique using this intermediate layer, an ion beam assisted film formation method (IBAD method: Ion Beam Assisted Deposition) is known, and an intermediate layer exhibiting high biaxial orientation by this IBAD method is formed on a substrate. An oxide superconducting conductor having excellent superconducting properties can be obtained by forming an oxide superconducting layer on the intermediate layer.
この種の酸化物超電導導体において目的の線幅を得るためには、製造開始段階から目的の線幅の基材テープを準備し、その上に中間層と酸化物超電導層の成膜を行い、安定化層を形成して酸化物超電導導体を製造するか、あるいは、予め一定の線幅の基材テープを準備し、その上に中間層と酸化物超電導層の成膜を行い、安定化層を形成して酸化物超電導導体とした後に目的の線幅になるように切断加工する方法が研究されている。また、これら製造方法のなかで、製造がし易いこと、様々な線幅に対応できることを考慮すると、予め一定の線幅で酸化物超電導導体を作製し、その後、目的の線幅に切断して酸化物超電導線材とする方法が製造効率の面で有利であると考えられる。 In order to obtain the target line width in this kind of oxide superconductor, prepare a base tape of the target line width from the start of production, and then form an intermediate layer and an oxide superconducting layer thereon, An oxide superconducting conductor is manufactured by forming a stabilizing layer, or a base tape having a certain line width is prepared in advance, and an intermediate layer and an oxide superconducting layer are formed thereon, and the stabilizing layer is formed. Research has been made on a method of forming a superconducting oxide to form an oxide superconducting conductor and then cutting it to have a desired line width. In addition, considering the ease of manufacturing and the ability to handle various line widths among these manufacturing methods, an oxide superconducting conductor is prepared in advance with a constant line width, and then cut to the target line width. It is considered that the method of using an oxide superconducting wire is advantageous in terms of production efficiency.
従来から、酸化物超電導導体の切断方法の一例として、2つの切断部を複数組備えたカッターバイトを用い、このカッターバイトの切断部の刃先によってテープ状の酸化物超電導導体を機械的に挟み込み、酸化物超電導導体の幅方向に沿って複数の酸化物超電導線材に切断加工する方法が提案されている。(特許文献1参照)
また、金属基板と中間層と酸化物超電導層と第1の銀安定化層を備えたテープ状の酸化物超電導導体において、第1の銀安定化層を形成した超電導導体をスリット加工した後、酸化物超電導層を保護するために電気めっきにより第2の銀安定化層を形成することにより、酸化物超電導線材を製造する方法が開示されている。(特許文献2参照)
Conventionally, as an example of a method for cutting an oxide superconductor, using a cutter bit having a plurality of sets of two cutting portions, the tape-shaped oxide superconducting conductor is mechanically sandwiched by the cutting edge of the cutting portion of the cutter bit, A method of cutting a plurality of oxide superconducting wires along the width direction of the oxide superconducting conductor has been proposed. (See Patent Document 1)
In addition, in the tape-shaped oxide superconducting conductor provided with the metal substrate, the intermediate layer, the oxide superconducting layer, and the first silver stabilizing layer, after slitting the superconducting conductor on which the first silver stabilizing layer is formed, A method for producing an oxide superconducting wire by forming a second silver stabilizing layer by electroplating to protect the oxide superconducting layer is disclosed. (See Patent Document 2)
前記従来の酸化物超電導線材の製造方法において、特許文献1に記載の如く切断部を有するカッターバイトを用いて機械的に酸化物超電導導体を切断する方法であると、酸化物超電導導体が積層構造であるがために、切断面付近で酸化物超電導層に剥離や変形が必然的に発生し、超電導特性の劣化を生じるおそれが高い問題がある。このように酸化物超電導層に剥離が一端発生した箇所は切断後に機械的に剥がれやすい部分となり、剥離強度が低下する問題がある。
また、特許文献2に記載の如く酸化物超電導導体をスリット加工した後、第2の銀安定化層を電気めっきにより被覆形成する方法では、スリット加工後に第2の銀安定化層を形成する必要があり、第2の銀安定化層を形成する工程が増加するので、コスト増になってしまう問題がある。
更に、RE−123系の酸化物超電導層の一部組成のものは、水分を含む雰囲気中に長時間曝露すると、超電導特性が劣化する傾向があり、積層構造の酸化物超電導導体において酸化物超電導層を水分から保護することも重要な課題とされている。
In the conventional method for manufacturing an oxide superconducting wire, when the oxide superconducting conductor is mechanically cut using a cutter tool having a cutting portion as described in Patent Document 1, the oxide superconducting conductor has a laminated structure. Therefore, there is a problem that there is a high possibility that the oxide superconducting layer is peeled or deformed in the vicinity of the cut surface and the superconducting property is deteriorated. Thus, the part where peeling has occurred in the oxide superconducting layer becomes a part that is easily peeled off after cutting, and there is a problem that the peeling strength is lowered.
Further, in the method of forming a second silver stabilizing layer by electroplating after slitting an oxide superconductor as described in Patent Document 2, it is necessary to form the second silver stabilizing layer after slitting And the process of forming the second silver stabilizing layer is increased, which increases the cost.
Furthermore, some of the RE-123 type oxide superconducting layer compositions tend to deteriorate the superconducting characteristics when exposed to an atmosphere containing moisture for a long time. Protecting the layer from moisture is also an important issue.
本発明は、以上のような従来の実情に鑑みなされたものであり、レーザービームにより酸化物超電導導体を溶断して複数本の酸化物超電導線材を得るとともに、その溶断時に酸化物超電導層を覆う保護層も同時形成することができる酸化物超電導線材の製造方法と得られた酸化物超電導線材の提供を目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described conventional situation. The oxide superconducting conductor is melted by a laser beam to obtain a plurality of oxide superconducting wires, and the oxide superconducting layer is covered at the time of the melting. An object of the present invention is to provide a method for producing an oxide superconducting wire capable of forming a protective layer at the same time, and an oxide superconducting wire obtained.
本発明は、上記課題を解決するために、テープ状の基材と、該基材上に設けられた中間層と酸化物超電導層と銀の安定化層を備えて構成された酸化物超電導導体に、レーザービームを前記安定化層形成側の外方から基材の長さ方向に沿って照射し、前記安定化層と酸化物超電導層と中間層と基材を溶断することにより、前記酸化物超電導導体をその幅方向に分割して複数の酸化物超電導線材を製造する場合、溶断箇所にシールドガスを吹き付けつつ前記安定化層と酸化物超電導層と中間層と基材を溶断することにより、前記酸化物超電導層端縁の溶断部分と前記中間層端縁の溶断部分を覆うように前記安定化層の溶融凝固体をシールドガスの噴出方向に延出させて保護層を形成する工程において、前記レーザービームを、噴射ノズルを介し前記酸化物超電導導体に照射するとともに、前記噴射ノズルから前記シールドガスを前記酸化物超電導導体の厚さ方向に噴出して前記レーザービームの溶断位置を前記シールドガスで覆いながら前記酸化物超電導導体を溶断する際、前記シールドガスの噴射圧力を調整して前記安定化層の溶融部分を、前記シールドガスの流れ方向に延出させて、前記中間層と前記酸化物超電導層の溶断面部分に被着させ、前記酸化物超電導線材の全長にわたり、前記安定化層の端縁部分に前記保護層を形成することを特徴とする。
本発明により、1本の酸化物超電導導体から、目的の幅を有し、酸化物超電導層の溶断部分と中間層の溶断部分を銀の安定化層の溶融凝固体によって被覆した構造の複数本の酸化物超電導線材を製造できる。この構造の酸化物超電導線材であるならば、酸化物超電導層の溶断部分を銀の安定化層の溶融凝固体からなる保護層で覆っているので、酸化物超電導線材内部側への水分の浸入を防止できる。よって、水分の多い雰囲気中において酸化物超電導線材を長時間使用した場合であっても、水分の浸入によって超電導特性が劣化することのない酸化物超電導線材を提供できる。また、シールドガスを吹き付けつつ酸化物超電導導体を溶断するので、溶断部分の酸化を防止しながら酸化物超電導導体を分断することができ、溶断部分が酸化していない状態の酸化物超電導線材を得ることができる。
In order to solve the above problems, the present invention provides an oxide superconducting conductor comprising a tape-shaped substrate, an intermediate layer provided on the substrate, an oxide superconducting layer, and a silver stabilizing layer. The laser beam is irradiated from the outside on the stabilization layer forming side along the length direction of the base material, and the stabilization layer, the oxide superconducting layer, the intermediate layer, and the base material are blown out to thereby oxidize the oxidation layer. When manufacturing a plurality of oxide superconducting wires by dividing an object superconducting conductor in its width direction, by blowing the shielding gas to the fusing point, fusing the stabilizing layer, the oxide superconducting layer, the intermediate layer, and the base material In the step of forming the protective layer by extending the melted solidified body of the stabilization layer in the direction of jetting the shield gas so as to cover the melted portion of the oxide superconducting layer edge and the melted portion of the intermediate layer edge Before the laser beam through the injection nozzle Irradiating the oxide superconductor and blowing the shield gas from the injection nozzle in the thickness direction of the oxide superconductor, and fusing the oxide superconductor while covering the laser beam fusing position with the shield gas In this case, the spray pressure of the shield gas is adjusted to extend the melted portion of the stabilization layer in the flow direction of the shield gas, and is deposited on the melt cross-sectional portion of the intermediate layer and the oxide superconducting layer. The protective layer is formed on the edge portion of the stabilization layer over the entire length of the oxide superconducting wire .
According to the present invention, a plurality of oxide superconducting conductors having a desired width and having a structure in which the melted portion of the oxide superconducting layer and the melted portion of the intermediate layer are covered with the molten solidified body of the silver stabilizing layer. The oxide superconducting wire can be manufactured. In the case of an oxide superconducting wire having this structure, the melted portion of the oxide superconducting layer is covered with a protective layer made of a molten solidified body of the silver stabilizing layer, so that moisture can penetrate into the inside of the oxide superconducting wire. Can be prevented. Therefore, even when the oxide superconducting wire is used for a long time in an atmosphere with a lot of moisture, it is possible to provide an oxide superconducting wire in which the superconducting characteristics are not deteriorated by the ingress of moisture. In addition, since the oxide superconductor is blown while spraying the shielding gas, the oxide superconductor can be cut while preventing the melted portion from being oxidized, and an oxide superconducting wire in a state where the melted portion is not oxidized is obtained. be able to.
本発明によれば、レーザービームによる基材の溶断部分を銀の安定化層の溶融凝固体からなる保護層で覆った構造の水分浸入のおそれのない酸化物超電導線材を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the oxide superconducting wire which does not have a possibility of moisture permeation of the structure which covered the fusing part of the base material by the laser beam with the protective layer which consists of a molten solidified body of a silver stabilization layer can be provided.
以下、本発明に係る酸化物超電導線材の製造方法の一実施形態について図面に基づいて説明する。
図1は本発明に係る方法に基づき、テープ状の酸化物超電導導体を連続波レーザーにより切断している状態を示す説明図、図2は同連続波レーザーを発生させるために用いるファイバーレーザー装置の概略構成図、図3は切断対象となる酸化物超電導導体と切断後の酸化物超電導線材を示す斜視図、図4は得られた酸化物超電導線材を被覆した状態と部分拡大した状態を示す図である。
Hereinafter, an embodiment of a method for producing an oxide superconducting wire according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is an explanatory view showing a state where a tape-shaped oxide superconductor is cut by a continuous wave laser based on the method according to the present invention, and FIG. 2 is a diagram of a fiber laser device used for generating the continuous wave laser. FIG. 3 is a perspective view showing an oxide superconducting conductor to be cut and an oxide superconducting wire after cutting, and FIG. 4 is a diagram showing a state where the obtained oxide superconducting wire is covered and a partially enlarged state. It is.
本発明において切断対象とする酸化物超電導導体1は、図3(a)に示す如く金属製のテープ状の基材3の上に、中間層5と酸化物超電導層6と安定化層7が積層されてなり、この酸化物超電導導体1を後述する如く連続波レーザーのレーザービームによって切断することにより、図3(b)に示す如く酸化物超電導導体1よりも幅狭の複数本(図3(b)では4本)の酸化物超電導線材10を得ることができる。
この酸化物超電導線材10は、酸化物超電導導体1をその幅方向に切断して構成されているので、幅が狭い点を除くと他は全く同等構造であり、酸化物超電導線材10は、金属製のテープ状の基材3aの上に、中間層5aと酸化物超電導層6aと安定化層7aが積層されてなる。
The oxide superconducting conductor 1 to be cut in the present invention has an intermediate layer 5, an oxide superconducting layer 6 and a stabilizing layer 7 on a metal tape-like substrate 3 as shown in FIG. The oxide superconducting conductor 1 is laminated and cut by a laser beam of a continuous wave laser as will be described later, so that a plurality of oxide superconducting conductors 1 having a width narrower than that of the oxide superconducting conductor 1 (FIG. 3) are obtained. In (b), four oxide superconducting wires 10 can be obtained.
Since this oxide superconducting wire 10 is formed by cutting the oxide superconducting conductor 1 in its width direction, the oxide superconducting wire 10 has exactly the same structure except for its narrow width. The intermediate layer 5a, the oxide superconducting layer 6a, and the stabilizing layer 7a are laminated on the tape-like base material 3a made of the product.
前記酸化物超電導線材10は、より詳細には図4(a)に示す如く、基材3aの上面に拡散防止層11とベッド層12と配向層15とキャップ層16とからなる中間層5が積層され、その上に酸化物超電導層6aと安定化層7aを積層して構成されているが、図3では図示の簡略化のために中間層5を1層のように描いている。なお、拡散防止層11とベッド層12とキャップ層16は必須ではなく、場合によっては略しても良い。
図4(a)に示す酸化物超電導線材10は、安定化層7aの上に更に厚い安定化層8を積層した状態を示しており、酸化物超電導線材10と安定化層8からなる積層体の全周に樹脂テープ17を巻き付けて絶縁層18が形成されている。
前記安定化層8は、レーザービームによる切断により図3(b)に示す如く超電導線材10を得た後に、貼り付けあるいはめっきなどにより形成されたものである。
図4(a)に示す構造として絶縁層18で絶縁処理した酸化物超電導線材10をコイル加工することで超電導コイルなどの用途に用いることができ、絶縁層18で絶縁処理した酸化物超電導線材10を用いて送電用の超電導ケーブルなどの用途に用いることができる。
More specifically, the oxide superconducting wire 10 has an intermediate layer 5 composed of a diffusion prevention layer 11, a bed layer 12, an orientation layer 15 and a cap layer 16 on the upper surface of a base material 3a as shown in FIG. The oxide superconducting layer 6a and the stabilizing layer 7a are laminated thereon, and in FIG. 3, the intermediate layer 5 is drawn as one layer for the sake of simplicity. Note that the diffusion preventing layer 11, the bed layer 12, and the cap layer 16 are not essential and may be omitted in some cases.
The oxide superconducting wire 10 shown in FIG. 4 (a) shows a state in which a thicker stabilizing layer 8 is laminated on the stabilizing layer 7a, and is a laminate comprising the oxide superconducting wire 10 and the stabilizing layer 8. An insulating layer 18 is formed by wrapping the resin tape 17 around the entire circumference.
The stabilization layer 8 is formed by pasting or plating after obtaining the superconducting wire 10 as shown in FIG. 3B by cutting with a laser beam.
The oxide superconducting wire 10 insulated with the insulating layer 18 as a structure shown in FIG. 4A can be used for applications such as a superconducting coil by coil processing, and the oxide superconducting wire 10 insulated with the insulating layer 18. Can be used for applications such as superconducting cables for power transmission.
前記酸化物超電導線材10の溶断部分は詳細には図4(b)に拡大して示す如く、基材3aの側面の溶断面3bに対し、中間層5aと酸化物超電導層6aの側面の溶断面位置が若干後退した位置に形成され、中間層5aと酸化物超電導層6aの側面の溶断面が若干後退した位置に段部3cが形成され、この段部3cを覆うように安定化層7aの溶融凝固体が延出形成された保護層7bが形成されている。図4(b)は基材3aの厚さと中間層5a、酸化物超電導層6a、安定化層7aの厚さを実際の厚さに対応する比率で示しているが、図3(b)においては図面を見やすくするために簡略化して示している。図3(b)と図4(c)に示す如く、酸化物超電導線材10の溶断部分において、酸化物超電導層5aの端縁側は安定化層7aの端縁側から延出形成された保護層7bによって覆われてカバーされている。また、図4(a)においては、酸化物超電導線材10の積層構造を中心に分解斜視図として示すために保護層7bの部分は記載を略している。 As shown in detail in FIG. 4 (b), the fusing portion of the oxide superconducting wire 10 is fused to the side surface of the intermediate layer 5a and the oxide superconducting layer 6a with respect to the fusing surface 3b of the side surface of the substrate 3a. A step portion 3c is formed at a position where the surface position of the intermediate layer 5a and the side surface of the oxide superconducting layer 6a is slightly set back. The protective layer 7b is formed by extending the molten solidified body. FIG. 4B shows the thickness of the base material 3a and the thickness of the intermediate layer 5a, the oxide superconducting layer 6a, and the stabilizing layer 7a in a ratio corresponding to the actual thickness. In FIG. Is shown in a simplified manner for easy viewing of the drawings. As shown in FIGS. 3 (b) and 4 (c), in the melted portion of the oxide superconducting wire 10, the edge of the oxide superconducting layer 5a extends from the edge of the stabilizing layer 7a. Covered and covered by. In FIG. 4A, the protective layer 7b is not shown in order to show an exploded perspective view centering on the laminated structure of the oxide superconducting wire 10.
以下に酸化物超電導線材10の各要素について説明する。
前記基材3(3a)は、通常の超電導線材の基材として使用することができ、高強度であれば良く、長尺のケーブルとするためにテープ状であり、耐熱性の金属からなるものが好ましい。例えば、ステンレス鋼、ハステロイ等のニッケル合金等の各種高強度高耐熱性の金属材料、もしくはこれら各種金属材料上にセラミックスを配したもの、等が挙げられる。各種耐熱性の金属の中でも、ニッケル合金が好ましい。なかでも、市販品であれば、ハステロイ(米国ヘインズ社製商品名)が好適であり、ハステロイとして、モリブデン、クロム、鉄、コバルト等の成分量が異なる、ハステロイB、C、G、N、W等のいずれの種類も使用できる。基材3の厚さは、目的に応じて適宜調整すれば良く、通常は、10〜500μmの範囲とすることができる。
Hereinafter, each element of the oxide superconducting wire 10 will be described.
The base material 3 (3a) can be used as a base material for a normal superconducting wire, has only to be high strength, is in the form of a tape to make a long cable, and is made of a heat-resistant metal. Is preferred. For example, various high-strength, high-heat-resistant metal materials such as nickel alloys such as stainless steel and hastelloy, or ceramics disposed on these various metal materials, and the like can be given. Among various heat resistant metals, nickel alloys are preferable. Especially, if it is a commercial item, Hastelloy (trade name made by US Haynes Co., Ltd.) is suitable, and Hastelloy B, C, G, N, W, which have different amounts of components such as molybdenum, chromium, iron, cobalt, etc. Any type can be used. What is necessary is just to adjust the thickness of the base material 3 suitably according to the objective, Usually, it can be set as the range of 10-500 micrometers.
拡散防止層11は、基材3(3a)の構成元素拡散を防止する目的で形成されたもので、窒化ケイ素(Si3N4)、酸化アルミニウム(Al2O3、「アルミナ」とも呼ぶ)、あるいは、GZO(Gd2Zr2O7)等から構成され、例えばスパッタリング法等の成膜法により形成され、その厚さは例えば10〜400nmである。
ベッド層12は、耐熱性が高く、界面反応性を低減するためのものであり、その上に配される膜の配向性を得るために用いる。このようなベッド層12は、例えば、イットリア(Y2O3)などの希土類酸化物であり、組成式(α1O2)2x(β2O3)(1−x)で示されるものが例示できる。より具体的には、Er2O3、CeO2、Dy2O3、Er2O3、Eu2O3、Ho2O3、La2O3等を例示することができる。このベッド層12は、例えばスパッタリング法等の成膜法により形成され、その厚さは例えば10〜100nmである。
The diffusion prevention layer 11 is formed for the purpose of preventing the diffusion of the constituent elements of the base material 3 (3a), and silicon nitride (Si 3 N 4 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 , also referred to as “alumina”). Alternatively, it is made of GZO (Gd 2 Zr 2 O 7 ) or the like, and is formed by a film forming method such as a sputtering method, and the thickness thereof is, for example, 10 to 400 nm.
The bed layer 12 has high heat resistance and is intended to reduce interfacial reactivity, and is used to obtain the orientation of a film disposed thereon. Such a bed layer 12 is, for example, a rare earth oxide such as yttria (Y 2 O 3 ), and is represented by a composition formula (α 1 O 2 ) 2x (β 2 O 3 ) (1-x). It can be illustrated. More specifically, Er 2 O 3, CeO 2 , Dy 2 O 3, Er 2 O 3, Eu 2 O 3, Ho 2 O 3, can be exemplified La 2 O 3 and the like. The bed layer 12 is formed by a film forming method such as a sputtering method, and has a thickness of 10 to 100 nm, for example.
配向層15は、単層構造あるいは複層構造のいずれでも良く、その上に積層されるキャップ層16の結晶配向性を制御するために2軸配向する物質から選択される。配向層15の好ましい材質として具体的には、Gd2Zr2O7、MgO、ZrO2−Y2O3(YSZ)、SrTiO3、CeO2、Y2O3、Al2O3、Gd2O3、Zr2O3、Ho2O3、Nd2O3等の金属酸化物を例示することができる。
この配向層15をIBAD(Ion-Beam-Assisted Deposition)法により良好な結晶配向性(例えば結晶配向度15゜以下)で成膜するならば、その上に形成するキャップ層16の結晶配向性を良好な値(例えば結晶配向度5゜前後)とすることができ、これによりキャップ層16の上に成膜する酸化物超電導層6の結晶配向性を良好なものとして優れた超電導特性を発揮できる酸化物超電導層6を得るようにすることができる。
例えば、Gd2Zr2O7、MgO又はZrO2−Y2O3(YSZ)からなる配向層15は、IBAD法における結晶配向度を表す指標であるΔφ(FWHM:半値全幅)の値を小さくできるため、特に好適である。
The alignment layer 15 may have either a single layer structure or a multi-layer structure, and is selected from materials that are biaxially aligned in order to control the crystal orientation of the cap layer 16 laminated thereon. Specifically, preferred materials for the alignment layer 15 are Gd 2 Zr 2 O 7 , MgO, ZrO 2 —Y 2 O 3 (YSZ), SrTiO 3 , CeO 2 , Y 2 O 3 , Al 2 O 3 , Gd 2. Examples thereof include metal oxides such as O 3 , Zr 2 O 3 , Ho 2 O 3 , and Nd 2 O 3 .
If the orientation layer 15 is formed with a good crystal orientation (for example, a crystal orientation degree of 15 ° or less) by an IBAD (Ion-Beam-Assisted Deposition) method, the crystal orientation of the cap layer 16 formed thereon is increased. A good value (for example, a degree of crystal orientation of about 5 °) can be obtained, and thereby the superconducting characteristics can be exhibited with good crystal orientation of the oxide superconducting layer 6 formed on the cap layer 16. The oxide superconducting layer 6 can be obtained.
For example, the alignment layer 15 made of Gd 2 Zr 2 O 7 , MgO, or ZrO 2 —Y 2 O 3 (YSZ) has a small value of Δφ (FWHM: full width at half maximum) that is an index indicating the degree of crystal orientation in the IBAD method. This is particularly preferable because it can be performed.
キャップ層16は、上述のように面内結晶軸が配向した配向層15の表面に成膜されることによってエピタキシャル成長し、その後、横方向に粒成長して、結晶粒が面内方向に自己配向し得る材料、であれば特に限定されないが、好ましいものとして具体的には、CeO2、Y2O3、Al2O3、Gd2O3、ZrO2、Ho2O3、Nd2O3等が例示できる。キャップ層の材質がCeO2である場合、キャップ層は、Ceの一部が他の金属原子又は金属イオンで置換されたCe−M−O系酸化物を含んでいても良い。
例えばCeO2によって構成されるキャップ層16は、上述のように自己配向していることにより、配向層15よりも更に高い面内配向度、例えばΔφ=4〜6゜程度を得ることができる。
例えば、CeO2層は、PLD法(パルスレーザ蒸着法)、スパッタリング法等で成膜することができる。CeO2層の膜厚は、十分な配向性を得るには100nm以上が好ましいが、厚すぎると結晶配向性が悪くなるので、50〜5000nmの範囲とすることができる。
The cap layer 16 is epitaxially grown by being formed on the surface of the orientation layer 15 in which the in-plane crystal axes are oriented as described above, and then grows laterally, so that the crystal grains are self-oriented in the in-plane direction. may material, a is not particularly limited as long as it, specifically as preferred, CeO 2, Y 2 O 3 , Al 2 O 3, Gd 2 O 3, ZrO 2, Ho 2 O 3, Nd 2 O 3 Etc. can be illustrated. When the material of the cap layer is CeO 2 , the cap layer may contain a Ce—M—O-based oxide in which part of Ce is substituted with another metal atom or metal ion.
For example, the cap layer 16 made of CeO 2 is self-orientated as described above, so that a higher in-plane orientation degree than the orientation layer 15, for example, Δφ = about 4 to 6 ° can be obtained.
For example, the CeO 2 layer can be formed by a PLD method (pulse laser deposition method), a sputtering method, or the like. The thickness of the CeO 2 layer is preferably 100 nm or more in order to obtain sufficient orientation, but if it is too thick, the crystal orientation deteriorates, so it can be in the range of 50 to 5000 nm.
酸化物超電導層6(6a)は公知のもので良く、具体的には、REBa2Cu3Oy(REはY、La、Nd、Sm、Er、Gd等の希土類元素を表す)なる材質のものを例示できる。この酸化物超電導層6として、Y123(YBa2Cu3O7−X)又はGd123(GdBa2Cu3O7−X)などを例示することができる。
酸化物超電導層6は、スパッタ法、真空蒸着法、レーザー蒸着法、電子ビーム蒸着法、化学気相成長法(CVD法)等の物理的蒸着法;熱塗布分解法(MOD法)等で積層することができ、なかでも生産性の観点から、PLD(パルスレーザー蒸着)法、TFA−MOD法(トリフルオロ酢酸塩を用いた有機金属堆積法、塗布熱分解法)又はCVD法を用いることができる。
The oxide superconducting layer 6 (6a) may be a known one, and specifically, is a material made of REBa 2 Cu 3 O y (RE represents a rare earth element such as Y, La, Nd, Sm, Er, Gd). The thing can be illustrated. Examples of the oxide superconducting layer 6 include Y123 (YBa 2 Cu 3 O 7-X ) or Gd123 (GdBa 2 Cu 3 O 7-X ).
The oxide superconducting layer 6 is laminated by a physical vapor deposition method such as sputtering, vacuum vapor deposition, laser vapor deposition, electron beam vapor deposition, chemical vapor deposition (CVD), or thermal coating decomposition (MOD). In particular, from the viewpoint of productivity, the PLD (pulse laser deposition) method, the TFA-MOD method (organic metal deposition method using trifluoroacetate, coating pyrolysis method) or the CVD method may be used. it can.
前記酸化物超電導層6の上に積層されている第1番目の安定化層7aはAgなどの良電導性かつ酸化物超電導層6と接触抵抗が低くなじみの良い金属材料からなる層として形成される。Agの安定化層7を成膜するには、スパッタ法などの成膜法を採用し、その厚さを1〜30μm程度に形成できる。
第2番目の安定化層8は酸化物超電導層6aの安定化のために設けられ、酸化物超電導層6aが常電導状態に転移することを防止するために電流のバイパス用として設けられているので、CuやAlまたはそれらの合金などの良導電性の金属材料から形成される。なお、酸化物超電導線材10を限流器などの目的に適用する場合は安定化層8として高抵抗材料を用いることが好ましいので、NiCrなど、CuやAg、Alに対して高抵抗の金属材料から構成することができる。
安定化層8は安定化層7よりも厚く形成して電流のバイパス路として十分な容量を確保するため、100〜300μm程度の厚さに形成する。その場合、半田や導電性接着剤による貼り付け法あるいはめっき法などを用いて安定化層7の上に形成することができる。
The first stabilizing layer 7a laminated on the oxide superconducting layer 6 is formed as a layer made of a metal material having good conductivity, such as Ag, and a low contact resistance with the oxide superconducting layer 6, which is compatible. The In order to form the Ag stabilizing layer 7, a film forming method such as a sputtering method is employed, and the thickness thereof can be formed to about 1 to 30 μm.
The second stabilization layer 8 is provided for stabilizing the oxide superconducting layer 6a, and is provided for bypassing the current to prevent the oxide superconducting layer 6a from transitioning to the normal conducting state. Therefore, it is formed from a highly conductive metal material such as Cu, Al, or an alloy thereof. When the oxide superconducting wire 10 is applied for the purpose of a current limiting device or the like, it is preferable to use a high resistance material as the stabilization layer 8, and thus a metal material having a high resistance to Cu, Ag, Al, such as NiCr It can consist of
The stabilization layer 8 is formed thicker than the stabilization layer 7 and has a thickness of about 100 to 300 μm in order to ensure a sufficient capacity as a current bypass path. In that case, it can be formed on the stabilization layer 7 by using a soldering or conductive adhesive bonding method or a plating method.
本実施形態においては、厚い安定化層8を設ける前に、酸化物超電導層6上にAgの安定化層7を形成した図3(a)に示す酸化物超電導導体1の状態からこれを切断して幅狭の酸化物超電導線材10を製造する場合に連続波レーザーのレーザービームを用いて切断する。
図1は、連続波レーザーを発生させて酸化物超電導導体1を切断するために用いる切断装置20の概略構成を示すもので、この例の切断装置20は、複数の(図1の例では3基の)励起用レーザーの発光装置21と、これら複数の光源21からの励起用レーザーを結合するビームコンパイナとしての結合器22と、この結合器22に接続されたダブルクラッドファイバーからなる増幅用ファイバー23と、この増幅用ファイバー23に接続された伝送用ファイバー24と、伝送用ファイバー24の先端部に接続された出力部25を主体として構成されている。
In this embodiment, before the thick stabilization layer 8 is provided, this is cut from the state of the oxide superconducting conductor 1 shown in FIG. 3A in which the Ag stabilizing layer 7 is formed on the oxide superconducting layer 6. Then, when the oxide superconducting wire 10 having a narrow width is manufactured, it is cut using a laser beam of a continuous wave laser.
FIG. 1 shows a schematic configuration of a cutting device 20 used for generating a continuous wave laser to cut the oxide superconductor 1, and the cutting device 20 of this example includes a plurality of (three in the example of FIG. 1). A light source 21 for excitation laser, a coupler 22 as a beam combiner for coupling excitation lasers from the plurality of light sources 21, and a double clad fiber connected to the coupler 22 for amplification. The fiber 23, a transmission fiber 24 connected to the amplification fiber 23, and an output unit 25 connected to the tip of the transmission fiber 24 are mainly configured.
増幅用ファイバー23は、一例として、光増幅媒体である希土類添加ファイバーを用いることができる。希土類添加ファイバーとして、希土類元素、例えば、Yb(イッテルビウム)、Er(エルビウム)、Tm(ツリウム)、Nd(ネオジム)、Pr(プラセオジム)等の希土類元素が添加されたコアと、コアの外周を囲む第1クラッドと、この第1クラッドを囲む第2クラッドとからなる希土類添加ダブルクラッドファイバーを用いることができる。 As an example, the amplifying fiber 23 may be a rare earth-doped fiber that is an optical amplifying medium. As a rare earth-doped fiber, a rare-earth element, for example, a core to which rare-earth elements such as Yb (ytterbium), Er (erbium), Tm (thulium), Nd (neodymium), Pr (praseodymium) are added, and the outer periphery of the core are surrounded. A rare earth-doped double clad fiber composed of a first clad and a second clad surrounding the first clad can be used.
前記出力部25は、伝送用ファイバー24からのレーザー出力を導入する筒型の案内部26と、この案内部26の上部側に収容されている光学装置27と、案内部26の下部側に接続されている噴射ノズル28と、この噴射ノズル28の下部側に接続されたガス供給源29を主体として構成されている。
前記光学装置27は複数の光学レンズを備えて構成され、これらの光学レンズの相互位置を調整することにより、伝送用ファイバー24から入射されたレーザー光の径を絞って噴射ノズル28の先端外方において適切なビーム径になるようにレーザー光を集光照射することができる。噴射ノズル28の上部側壁にはガス導入部30が形成されているとともに、このガス導入部30に不活性ガスなどのガス供給源29が接続されている。このガス供給源29から噴射ノズル28の内部に不活性ガスなどのシールドガスを送ることにより噴射ノズル28の先端開口からシールドガスを噴出できるように構成されている。
The output unit 25 is connected to a cylindrical guide unit 26 for introducing a laser output from the transmission fiber 24, an optical device 27 accommodated on the upper side of the guide unit 26, and a lower side of the guide unit 26. The injection nozzle 28 and the gas supply source 29 connected to the lower side of the injection nozzle 28 are mainly configured.
The optical device 27 includes a plurality of optical lenses, and by adjusting the mutual position of these optical lenses, the diameter of the laser light incident from the transmission fiber 24 is reduced to the outside of the tip of the injection nozzle 28. The laser beam can be focused and irradiated so as to obtain an appropriate beam diameter. A gas introduction part 30 is formed on the upper side wall of the injection nozzle 28, and a gas supply source 29 such as an inert gas is connected to the gas introduction part 30. By sending a shielding gas such as an inert gas from the gas supply source 29 to the inside of the injection nozzle 28, the shielding gas can be ejected from the opening of the tip of the injection nozzle 28.
前記切断装置20を用いて酸化物超電導導体1を切断するには、図1に示す如く水平に設置した酸化物超電導導体1の例えば幅方向中央部に噴射ノズル28の先端を位置させ、この状態から酸化物超電導導体1の中央部に連続波レーザーのレーザービームを照射するとともに、酸化物超電導導体1をその長さ方向に所定の速度で移動させる。
切断装置20において励起光の発光装置21から接続用ファイバー21aを介し結合器22に入力したマルチモードの励起光は、結合器22において光結合されて増幅用ファイバー23に入力され、増幅用ファイバー23において波長の増幅と出力増幅がなされ、シングルモードに変換され、伝送用ファイバー24を介し連続波レーザーとして出力される。
本実施形態において適用する連続波レーザーの一例として、中心波長1080nmの連続波レーザーを用いることができ、ビーム出力300W、噴射ノズル8の先端外方にレーザービームを集光照射する場合のビーム先端側のビーム径を10μm〜100μm程度、例えば20μmとすることができる。連続波レーザーの中心波長は、1050〜1100nm程度の波長とすることができる。
In order to cut the oxide superconductor 1 using the cutting device 20, the tip of the injection nozzle 28 is positioned, for example, at the center in the width direction of the oxide superconductor 1 installed horizontally as shown in FIG. Then, the central portion of the oxide superconductor 1 is irradiated with a laser beam of a continuous wave laser, and the oxide superconductor 1 is moved in the length direction at a predetermined speed.
The multimode excitation light input from the excitation light emitting device 21 to the coupler 22 via the connection fiber 21 a in the cutting device 20 is optically coupled in the coupler 22 and input to the amplification fiber 23. The wavelength is amplified and the output is amplified at 1, converted into a single mode, and output as a continuous wave laser through the transmission fiber 24.
As an example of a continuous wave laser applied in the present embodiment, a continuous wave laser having a center wavelength of 1080 nm can be used, and the beam front side in the case of converging and irradiating a laser beam to the outside of the tip of the injection nozzle 8 with a beam output of 300 W The beam diameter can be about 10 μm to 100 μm, for example, 20 μm. The center wavelength of the continuous wave laser can be about 1050 to 1100 nm.
伝送用ファイバー24から出力部25に達したレーザービームに対し、光学装置27を調節して中心波長1080nmの連続波レーザーのレーザービーム径を20μm程度に絞り、噴射ノズル28の先端から上述の如く酸化物超電導導体1の中央部に照射すると、酸化物超電導導体1の中央部の安定化層7と酸化物超電導層6と中間層5と基材3をレーザービームにより溶断することができる。
また、レーザービームを安定化層7の外側から照射しているので、酸化物超電導導体1において安定化層7と酸化物超電導層6と中間層5と基材3の順にレーザービームの照射部分を順次溶融できるが、噴射ノズル28の先端から噴出されているシールドガスが、溶融させた安定化層7と酸化物超電導層6と中間層5と基材3の溶融物を吹き飛ばして除去する。また、レーザービームが基材3を貫通した状態において噴射ノズル28の先端から噴出されているシールドガスが、溶融させた安定化層7と酸化物超電導層6と中間層5と基材3を酸化物超電導導体1の裏面側もに吹き飛ばして除去する。これらの作用により、レーザービームによって溶断した部分に、安定化層7と酸化物超電導層6と中間層5と基材3の溶融物に起因する溶融ドロスの付着を阻止できる。なお、レーザービームの酸化物超電導導体1に対する照射角度は90゜でもよいが、1〜2゜程度傾斜させても良い。これは、Agの安定化層7の光反射率が高いので、戻り光が光ファイバー24、23側に戻らないようにするためである。
With respect to the laser beam reaching the output unit 25 from the transmission fiber 24, the optical device 27 is adjusted so that the laser beam diameter of the continuous wave laser having a center wavelength of 1080 nm is reduced to about 20 μm, and is oxidized from the tip of the injection nozzle 28 as described above. When the central portion of the object superconducting conductor 1 is irradiated, the stabilization layer 7, the oxide superconducting layer 6, the intermediate layer 5, and the base material 3 in the central portion of the oxide superconducting conductor 1 can be fused by a laser beam.
Further, since the laser beam is irradiated from the outside of the stabilization layer 7, the laser beam irradiation portion is sequentially formed in the order of the stabilization layer 7, the oxide superconducting layer 6, the intermediate layer 5, and the substrate 3 in the oxide superconductor 1. Although it can be melted sequentially, the shield gas ejected from the tip of the spray nozzle 28 blows away the melted melt of the stabilization layer 7, oxide superconducting layer 6, intermediate layer 5, and substrate 3. In addition, the shield gas ejected from the tip of the ejection nozzle 28 in a state where the laser beam penetrates the substrate 3 oxidizes the melted stabilization layer 7, oxide superconducting layer 6, intermediate layer 5, and substrate 3. The rear surface side of the object superconducting conductor 1 is also blown away and removed. By these actions, adhesion of molten dross caused by the melt of the stabilization layer 7, the oxide superconducting layer 6, the intermediate layer 5, and the base material 3 can be prevented in the portion melted by the laser beam. The irradiation angle of the laser beam to the oxide superconducting conductor 1 may be 90 °, but may be inclined by about 1 to 2 °. This is to prevent the return light from returning to the optical fibers 24 and 23 side because the light reflectance of the Ag stabilizing layer 7 is high.
このレーザービームによる溶融開始状態から、酸化物超電導導体1を順次その長さ方向に所定の速度、例えば150mm/sで移動させることにより、酸化物超電導導体1をその長さ方向全長に渡り中央部で溶断して2本の酸化物超電導線材に2分割することができる。
以上の操作を酸化物超電導導体1の幅方向に所定間隔毎に繰り返し複数回行えば、例えば、4回行うことにより図3(b)に示す如く酸化物超電導導体1を4分割することができる。なお、酸化物超電導導体1が長尺のものである場合は、その全長に渡りレーザービームを走査するのに時間がかかるので、4基の出力部25を並列状態で設けてレーザービームを4本同時に照射できる構成とすることにより、酸化物超電導導体1の全長に対し1回のレーザービーム走査でもって4分割できるようにしても良い。
From the melting start state by this laser beam, the oxide superconducting conductor 1 is moved in the length direction sequentially at a predetermined speed, for example, 150 mm / s, so that the oxide superconducting conductor 1 is centered over the entire length in the length direction. And can be divided into two oxide superconducting wires.
If the above operation is repeated a plurality of times at predetermined intervals in the width direction of the oxide superconductor 1, the oxide superconductor 1 can be divided into four as shown in FIG. . When the oxide superconducting conductor 1 is long, it takes time to scan the laser beam over its entire length, so four output units 25 are provided in parallel and four laser beams are provided. By adopting a configuration capable of simultaneous irradiation, the entire length of the oxide superconductor 1 may be divided into four by one laser beam scanning.
前述の如く連続波レーザーのレーザービームにより酸化物超電導導体1を溶断した場合、噴射ノズル28の先端からシールドガスを酸化物超電導導体1の厚さ方向に噴射しつつ溶断するので、レーザービームにより加熱溶融された基材3aと中間層5aと酸化物超電導層6aと安定化層7aの溶融部分はシールドガスの圧力により吹き飛ばれて除去され、溶断が進行する。ここで、シールドガスの噴射圧力を調整すると、最上層に位置する安定化層7aの溶融部分をシールドガスの流れ方向に延出させて中間層5aと酸化物超電導層6aの溶断面部分に被着するように溶断することができる。この溶断処理によって酸化物超電導線材10の全長にわたり、図3(b)あるいは図4(b)に示す如く安定化層7aの端縁部分に保護層7bを形成した状態とすることができる。
このように酸化物超電導線材10の全長にわたり、酸化物超電導層6aの側面を保護層7bでシールドした構造とすることができる。従って、外部から酸化物超電導層6a側に水分の浸入を防止できる構造の酸化物超電導線材10を得ることができる。
As described above, when the oxide superconductor 1 is blown by the laser beam of the continuous wave laser, the shield gas is blown from the tip of the injection nozzle 28 while being blown in the thickness direction of the oxide superconductor 1, so that the laser beam is heated. The melted portions of the melted base material 3a, intermediate layer 5a, oxide superconducting layer 6a, and stabilizing layer 7a are blown away by the pressure of the shielding gas, and fusing progresses. Here, when the injection pressure of the shield gas is adjusted, the melted portion of the stabilization layer 7a located at the uppermost layer is extended in the flow direction of the shield gas so that the melt cross-section portion of the intermediate layer 5a and the oxide superconducting layer 6a is covered. Can be blown to wear. By this fusing treatment, the protective layer 7b can be formed on the edge portion of the stabilization layer 7a as shown in FIG. 3B or FIG. 4B over the entire length of the oxide superconducting wire 10.
Thus, it can be set as the structure which shielded the side surface of the oxide superconducting layer 6a with the protective layer 7b over the full length of the oxide superconducting wire 10. FIG. Therefore, it is possible to obtain the oxide superconducting wire 10 having a structure capable of preventing moisture from entering the oxide superconducting layer 6a from the outside.
一方、前述の如く連続波レーザーのレーザービームにより酸化物超電導導体1を溶断した場合、酸化物超電導導体1の溶断部分において従来技術のパルスレーザーを用いて溶断する方法よりも溶断部分を滑らかに形成できる。図5は連続波レーザーのレーザービームにより溶断して得られた酸化物超電導線材10の溶断部分を平面視した場合の一例を示す部分拡大図である。
このように酸化物超電導線材10の溶断部分は、拡大平面視すると凹凸部10cが酸化物超電導線材10の長さ方向に(図5の左右方向に)多数形成されているが、本実施形態の如く連続波レーザーのレーザービームを用いてビーム径20μmに設定して上述の条件で溶断すると、この凹凸部10cの最大高さRzを5μm以下に形成できる。
On the other hand, when the oxide superconductor 1 is blown by the laser beam of the continuous wave laser as described above, the melted portion of the oxide superconductor 1 is formed more smoothly than the conventional method using the pulse laser. it can. FIG. 5 is a partial enlarged view showing an example of a plan view of a fused portion of the oxide superconducting wire 10 obtained by fusing with a laser beam of a continuous wave laser.
As described above, the melted portion of the oxide superconducting wire 10 has a large number of concave and convex portions 10c formed in the length direction of the oxide superconducting wire 10 (in the left-right direction in FIG. 5) in an enlarged plan view. In this way, when the beam diameter is set to 20 μm using a continuous wave laser beam and blown under the above-described conditions, the maximum height Rz of the uneven portion 10 c can be formed to 5 μm or less.
従来技術において用いられているパルスレーザーのレーザービームは、レーザーの出力が極めて高いピーク出力のものをパルス状に繰り返し出力することで対象物を溶断する。このパルスレーザーのレーザービームでは、酸化物超電導導体1の溶断を行う場合、凹凸部の最大高さRzが10μmよりも大きくなり、例えばYAGレーザーで溶断した場合、10〜20μmの最大高さの凹凸部が生成する。これは、レーザーによる加工部が気化昇華するので、端部の変形が難しいことが原因となっている。
また、短波長のレーザーでは酸化物超電導導体1を溶断するための出力が不足し、酸化物超電導導体1の溶断自体ができないとともに、波長の長いCO2レーザーなどではAgの安定化層7の光反射率が高いので、CO2レーザーを照射しても安定化層7の光反射が多くなって高速に酸化物超電導導体1を溶断できなくなる。
これらに対し本実施形態において用いた連続波レーザーのレーザービームでは、最大高さ5μm以下の凹凸部を有するように溶断面を従来技術よりも滑らかに加工できる。
The laser beam of the pulse laser used in the prior art melts the object by repeatedly outputting a laser beam having a peak output with a very high peak output. In the laser beam of this pulse laser, when the oxide superconductor 1 is melted, the maximum height Rz of the concavo-convex portion is larger than 10 μm. For example, when fusing with a YAG laser, the concavo-convex with a maximum height of 10-20 μm Generated. This is because the laser-processed portion is vaporized and sublimated, so that it is difficult to deform the end portion.
In addition, the short wavelength laser lacks the output for fusing the oxide superconductor 1 and the oxide superconductor 1 cannot be melted itself. In addition, the CO 2 laser having a long wavelength or the like does not emit light from the Ag stabilizing layer 7. Since the reflectivity is high, even if the CO 2 laser is irradiated, the light reflection of the stabilization layer 7 increases and the oxide superconducting conductor 1 cannot be fused at high speed.
On the other hand, with the laser beam of the continuous wave laser used in the present embodiment, the melted surface can be processed more smoothly than the conventional technique so as to have an uneven portion with a maximum height of 5 μm or less.
また、前記酸化物超電導導体1が長尺の場合、酸化物超電導導体1をリールなどに巻き付けておき、リールから順次繰り出して他のリールに巻き付け移動させる途中においてレーザービームを照射して酸化物超電導導体1をその全長にわたり酸化物超電導線材10に分割することが好ましい。 When the oxide superconducting conductor 1 is long, the oxide superconducting conductor 1 is wound around a reel or the like, and the oxide superconducting is performed by irradiating a laser beam while the reel is sequentially drawn out and wound around another reel. The conductor 1 is preferably divided into oxide superconducting wires 10 over its entire length.
「実施例1」
ハステロイC276(米国ヘインズ社商品名)からなる幅10mm、厚さ0.1mm、長さ100mのテープ状の基材を用意し、このテープ状基材の表面にAl2O3からなる厚さ100nmの拡散防止層を形成し、更にその上にイオンビームスパッタ法を用いてY2O3からなる厚さ30nmのベッド層を形成した。イオンビームスパッタ法の実施にあたりテープ状の基材はスパッタ装置の内部においてリールに巻回しておき、一方のリールから他方のリールに繰り出す間に成膜できるようにしてテープ状基材の全長にわたり、拡散防止層とベッド層を形成した。次に、イオンビームアシスト蒸着法によりベッド層上に厚さ10nmのMgOの配向層を形成した。この場合、アシストイオンビームの入射角度は、テープ状基材成膜面の法線に対し、45゜とした。
"Example 1"
A tape-like base material having a width of 10 mm, a thickness of 0.1 mm, and a length of 100 m made of Hastelloy C276 (trade name of Haynes, USA) is prepared, and a thickness of 100 nm made of Al 2 O 3 is formed on the surface of the tape-like base material. Then, a 30 nm thick bed layer made of Y 2 O 3 was formed thereon by ion beam sputtering. In carrying out the ion beam sputtering method, the tape-like base material is wound around a reel inside the sputtering apparatus, and can be formed while being fed from one reel to the other reel, over the entire length of the tape-like base material, A diffusion prevention layer and a bed layer were formed. Next, an alignment layer of MgO having a thickness of 10 nm was formed on the bed layer by ion beam assisted vapor deposition. In this case, the incident angle of the assist ion beam was set to 45 ° with respect to the normal line of the tape-shaped substrate film forming surface.
続いてパルスレーザー蒸着法(PLD法)を用いてMgOの配向層上にCeO2の厚さ500nmのキャップ層を形成した。更に、このキャップ層上にパルスレーザー蒸着法によりGdBa2Cu3O7−xの厚さ1μmの酸化物超電導層を形成した。
次に、スパッタ法により酸化物超電導層上に厚さ10μmのAgの安定化基層を形成し、酸素アニールを500℃で行った。以上の工程により、テープ状の長尺の基材上に拡散防止層とベッド層と配向層とキャップ層と酸化物超電導層と安定化層を備えた構造の酸化物超電導導体を形成した。
Subsequently, a cap layer of CeO 2 having a thickness of 500 nm was formed on the MgO alignment layer using a pulsed laser deposition method (PLD method). Further, an oxide superconducting layer having a thickness of 1 μm of GdBa 2 Cu 3 O 7-x was formed on the cap layer by a pulse laser deposition method.
Next, an Ag stabilizing base layer having a thickness of 10 μm was formed on the oxide superconducting layer by sputtering, and oxygen annealing was performed at 500 ° C. Through the above steps, an oxide superconducting conductor having a structure including a diffusion preventing layer, a bed layer, an alignment layer, a cap layer, an oxide superconducting layer, and a stabilizing layer was formed on a long tape-like substrate.
前記酸化物超電導導体に対し、図1に概略構成を示す切断加工装置を用い、中心波長1080nmの連続波レーザーのレーザービームを照射し、出力200W、ビーム径20μm、加工速度500mm/sとして、10mm幅の酸化物超電導導体を5mm幅の2本の酸化物超電導線材に分割する切断加工を行った。切断加工に際し、噴射ノズルに印加する窒素ガス圧力を0.9MPaに設定し、噴射ノズル(内径2mm)の先端から窒素ガスを酸化物超電導導体の上面に噴出することで切断加工面に溶融ドロスが付着しないように加工した。また、窒素ガスを噴射することにより溶断面の酸化を防止した。
この操作によってハステロイテープ基材の切断面には最大高さRz:3μmの凹凸部が生成されていたが、肉眼観察では大きな凹凸部分は見られず、滑らかな切断面であった。
The oxide superconducting conductor is irradiated with a laser beam of a continuous wave laser having a central wavelength of 1080 nm, using a cutting apparatus having a schematic configuration shown in FIG. 1, and the output is 200 W, the beam diameter is 20 μm, and the processing speed is 500 mm / s. A cutting process was performed to divide the oxide superconducting conductor having a width into two oxide superconducting wires having a width of 5 mm. In the cutting process, the nitrogen gas pressure applied to the injection nozzle is set to 0.9 MPa, and nitrogen gas is jetted from the tip of the injection nozzle (inner diameter 2 mm) to the upper surface of the oxide superconductor to cause molten dross on the cutting process surface. It processed so that it might not adhere. Moreover, the oxidation of the molten surface was prevented by injecting nitrogen gas.
By this operation, an uneven portion having a maximum height Rz of 3 μm was generated on the cut surface of the Hastelloy tape base material, but a large uneven portion was not seen by naked eye observation, and the surface was smooth.
得られた幅0.5mmの酸化物超電導線材に対し、ポリイミド樹脂製の幅4mm、厚み12.5μmの絶縁テープを張力150gで巻き付けて絶縁処理したところ、絶縁テープを切ることなく巻き付けることができ、絶縁処理ができた。
また、図6に示す如く切断加工した酸化物超電導線材10の安定化層7の上面に外径2.6mmの円盤部35とロッド部36を有するアルミ合金製のピン部材37をエポキシ樹脂接着剤で接着し、ロッド部36を酸化物超電導線材10に対して垂直方向に引っ張る剥離試験を行った。前記連続波レーザーのレーザービームで切断した酸化物超電導線材の試料5個に対し、同様の剥離試験を行ったところ、剥離力の平均値は約30Kgfであった。
図8は、本実施例の酸化物超電導線材の溶断部分の拡大組織写真を示す。図8中に白矢印で示す如く安定化層の溶断部分に保護層を形成することができた。この保護層は、安定化層の下側に位置する酸化物超電導層と中間層の側面側を完全に被覆してカバーし、それらの下に位置する厚い基材まで達して密着していた。この構造により、水分の浸入を防止できる酸化物超電導線材を得ることができた。
The obtained oxide superconducting wire with a width of 0.5 mm was insulated by winding an insulation tape made of polyimide resin with a width of 4 mm and a thickness of 12.5 μm with a tension of 150 g. Insulation treatment was possible.
Further, an aluminum alloy pin member 37 having a disk portion 35 and a rod portion 36 having an outer diameter of 2.6 mm on the upper surface of the stabilization layer 7 of the oxide superconducting wire 10 cut as shown in FIG. 6 is bonded to an epoxy resin adhesive. Then, a peel test was performed in which the rod portion 36 was pulled in a direction perpendicular to the oxide superconducting wire 10. When a similar peel test was performed on five samples of the oxide superconducting wire cut with the laser beam of the continuous wave laser, the average value of the peel force was about 30 kgf.
FIG. 8 shows an enlarged photograph of the melted portion of the oxide superconducting wire of this example. As shown by the white arrow in FIG. 8, a protective layer could be formed on the melted portion of the stabilization layer. This protective layer completely covered and covered the oxide superconducting layer located below the stabilizing layer and the side surface of the intermediate layer, and reached and adhered to the thick substrate located below them. With this structure, it was possible to obtain an oxide superconducting wire capable of preventing moisture from entering.
「比較例1」
実施例において使用した酸化物超電導導体と同じ構成の酸化物超電導導体を用意した。中心波長1080nmのファイバーレーザーを使用し、周波数60KHz、出力300W、ビーム径20nm、加工速度500mm/sの条件にて先の10mm幅の酸化物超電導導体を5mm幅に2分割する切断加工を行った。窒素ガスの噴射ノズルに印加する噴出圧力は0.9MPaとしている。
この条件のファイバーレーザーでは、酸化物超電導導体の溶断はできたが、銀の安定化層の端縁に保護層を形成できなかった。銀の安定化層の端縁部分においては、銀安定化層の端部が変形することなく、窒素ガスで吹き飛ばされた状況である。この例では酸化物超電導層の両端部分の溶断面が剥き出しの状態であるため、再度何らかの保護層を作製する必要がある。
実施例において用いたものと同等の樹脂テープを酸化物超電導線材に同等張力で巻き付けてみたところ、樹脂テープを切ることなく巻き付けができた。
前記ファイバーレーザーで切断して得た酸化物超電導線材の試料5個に対し、同様の剥離試験を行ったところ、剥離力の平均値は約29Kgfであった。
"Comparative Example 1"
An oxide superconductor having the same configuration as that of the oxide superconductor used in the examples was prepared. Using a fiber laser with a central wavelength of 1080 nm, cutting was performed to divide the 10 mm wide oxide superconductor into 5 mm widths under the conditions of frequency 60 KHz, output 300 W, beam diameter 20 nm, and processing speed 500 mm / s. . The jet pressure applied to the nitrogen gas jet nozzle is 0.9 MPa.
With the fiber laser under this condition, the oxide superconducting conductor could be melted, but a protective layer could not be formed on the edge of the silver stabilizing layer. In the edge part of the silver stabilization layer, the edge part of the silver stabilization layer was blown away with nitrogen gas without deformation. In this example, since the melted cross sections of both end portions of the oxide superconducting layer are exposed, it is necessary to form some protective layer again.
When a resin tape equivalent to that used in the examples was wound around the oxide superconducting wire with the same tension, it could be wound without cutting the resin tape.
When a similar peel test was performed on five oxide superconducting wire samples obtained by cutting with the fiber laser, the average peel force was about 29 kgf.
「比較例2」
実施例において使用した酸化物超電導導体と同じ構成の酸化物超電導導体を用意した。中心波長355nmのYAGレーザーを使用し、周波数30KHz、出力2.4W、ビーム径20nm、加工速度5mm/sの条件にて先の10mm幅の酸化物超電導導体を5mm幅に2分割する切断加工を行った。溶断加工に際し、窒素ガスを噴射ノズルの先端から吹き付けた。
YAGレーザーは、パルスレーザーであり、溶断部分の材料を一瞬で昇華させるので、溶断部分における銀の安定化層は瞬時に昇華し、蒸発したために、安定化層の溶断部分に保護層は生成していなかった。
また、YAGレーザーでは、上述の値から加工速度を上げると酸化物超電導導体に切断できない箇所が発生した。あるいは、上述の値から加工速度を上げると酸化物超電導導体の基材の切断面に大きな凹凸部分が発生するので、上述の加工速度に設定して凹凸部分が発生しないように切断加工し、酸化物超電導線材を得た。なお、YAGレーザーによる切断面においては、前述の加工速度であっても切断面には最大高さRz10〜20μmの凹凸部が生じていた。
実施例において用いたものと同等の樹脂テープを酸化物超電導線材に同等張力で巻き付けてみたところ、樹脂テープを切ることなく巻き付けができた。
得られた酸化物超電導線材に対し実施例と同等の条件でピン部材37を用いた剥離試験を行った。
前記YAGレーザーで切断して得た酸化物超電導線材の試料5個に対し、同様の剥離試験を行ったところ、剥離力の平均値は約28Kgfであった。
"Comparative Example 2"
An oxide superconductor having the same configuration as that of the oxide superconductor used in the examples was prepared. Using a YAG laser with a center wavelength of 355 nm, cutting processing to divide the 10 mm wide oxide superconductor into 5 mm widths under the conditions of frequency 30 KHz, output 2.4 W, beam diameter 20 nm, processing speed 5 mm / s. went. During the fusing process, nitrogen gas was blown from the tip of the injection nozzle.
The YAG laser is a pulsed laser that sublimates the material of the blown part in an instant. Therefore, the silver stabilization layer in the blown part instantly sublimates and evaporates, so a protective layer is formed in the melted part of the stabilization layer. It wasn't.
Further, in the YAG laser, when the processing speed was increased from the above-mentioned value, a portion that could not be cut in the oxide superconductor was generated. Alternatively, when the processing speed is increased from the above values, large uneven portions are generated on the cut surface of the base material of the oxide superconducting conductor. Therefore, cutting is performed so that the uneven portions are not generated by setting the above processing speed, and oxidation is performed. A superconducting wire was obtained. Note that, on the cut surface by the YAG laser, an uneven portion having a maximum height Rz of 10 to 20 μm was generated on the cut surface even at the above processing speed.
When a resin tape equivalent to that used in the examples was wound around the oxide superconducting wire with the same tension, it could be wound without cutting the resin tape.
A peel test using the pin member 37 was performed on the obtained oxide superconducting wire under the same conditions as in the example.
When a similar peel test was performed on five oxide superconducting wire samples obtained by cutting with the YAG laser, the average value of the peel force was about 28 kgf.
本発明は、例えば超電導コイル、送電用超電導ケーブル、超電導モータ、限流器など、各種の超電導機器に用いられる酸化物超電導線材に利用することができる。 The present invention can be used for oxide superconducting wires used in various superconducting devices such as superconducting coils, superconducting cables for power transmission, superconducting motors, and current limiters.
1…酸化物超電導導体、3、3a…基材、5、5a…中間層、6、6a…酸化物超電導層、7、7a…安定化層、7b…保護層、8…安定化層、10…酸化物超電導線材、11…拡散防止層、12…ベッド層、15…配向層、16…キャップ層、17…絶縁テープ、18…絶縁層、20…切断装置、21…励起用レーザーの発光装置、22…結合器、23…増幅用ファイバー、24…伝送用ファイバー、25…出力部、27…光学系、28…噴射ノズル、29…ガス供給源。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Oxide superconductor, 3, 3a ... Base material, 5, 5a ... Intermediate layer, 6, 6a ... Oxide superconductor layer, 7, 7a ... Stabilization layer, 7b ... Protective layer, 8 ... Stabilization layer, 10 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Oxide superconducting wire, 11 ... Diffusion prevention layer, 12 ... Bed layer, 15 ... Orientation layer, 16 ... Cap layer, 17 ... Insulating tape, 18 ... Insulating layer, 20 ... Cutting device, 21 ... Light emitting device of excitation laser , 22 ... coupler, 23 ... amplification fiber, 24 ... transmission fiber, 25 ... output section, 27 ... optical system, 28 ... injection nozzle, 29 ... gas supply source.
Claims (1)
溶断箇所にシールドガスを吹き付けつつ前記安定化層と酸化物超電導層と中間層と基材を溶断することにより、前記酸化物超電導層端縁の溶断部分と前記中間層端縁の溶断部分を覆うように前記安定化層の溶融凝固体をシールドガスの噴出方向に延出させて保護層を形成する工程において、
前記レーザービームを、噴射ノズルを介し前記酸化物超電導導体に照射するとともに、前記噴射ノズルから前記シールドガスを前記酸化物超電導導体の厚さ方向に噴出して前記レーザービームの溶断位置を前記シールドガスで覆いながら前記酸化物超電導導体を溶断する際、
前記シールドガスの噴射圧力を調整して前記安定化層の溶融部分を、前記シールドガスの流れ方向に延出させて、前記中間層と前記酸化物超電導層の溶断面部分に被着させ、前記酸化物超電導線材の全長にわたり、前記安定化層の端縁部分に前記保護層を形成することを特徴とする酸化物超電導線材の製造方法。 Stabilization of the laser beam of a continuous wave laser on an oxide superconducting conductor comprising a tape-shaped substrate, an intermediate layer provided on the substrate, an oxide superconducting layer, and a silver stabilizing layer By irradiating along the length direction of the base material from the outside of the layer forming side and fusing the stabilizing layer, the oxide superconducting layer, the intermediate layer, and the base material, the oxide superconducting conductor is moved in the width direction. When manufacturing multiple oxide superconducting wires by dividing,
Covering the melted portion of the oxide superconducting layer edge and the melted portion of the intermediate layer edge by blowing the stabilizing layer, the oxide superconducting layer, the intermediate layer, and the base material while spraying a shielding gas to the melted portion. In the process of forming a protective layer by extending the melt-solidified body of the stabilization layer in the direction of jetting shield gas ,
The laser beam is applied to the oxide superconductor through an injection nozzle, and the shield gas is injected from the injection nozzle in the thickness direction of the oxide superconductor to determine the position where the laser beam is fused. When fusing the oxide superconductor while covering with,
Adjusting the injection pressure of the shielding gas to extend the molten portion of the stabilization layer in the flow direction of the shielding gas, and depositing it on the molten cross-sectional portion of the intermediate layer and the oxide superconducting layer, A method for producing an oxide superconducting wire , comprising forming the protective layer on an edge portion of the stabilizing layer over the entire length of the oxide superconducting wire.
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