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JP5719682B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Description

本発明は、半導体集積回路に関し、特に過電圧による破壊の回避手段をもつ半導体集積回路に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having means for avoiding destruction due to overvoltage.

従来より、ESD(Electrostatic Discharge;静電気放電)/EOS(Electrical Overstress;過電圧過電流ストレス)に対し内部回路の破壊を防止するESD/EOS保護回路が搭載された半導体集積回路が知られている。   2. Description of the Related Art Conventionally, there is known a semiconductor integrated circuit equipped with an ESD / EOS protection circuit that prevents destruction of an internal circuit against ESD (Electrostatic Discharge) / EOS (Electrical Overtress).

ESD、EOSとも通常入力し得ない過大な電圧が入力される点は同じだが、現象としてはESDは「電流印加」、EOSは「電圧印加」に分類される。つまりESDでは電流が流れていくべき低抵抗のパスがないために、結果として電圧が上昇しデバイスを破壊してしまう。一方EOSは純粋に高電圧が数百msecのオーダーで印加され続けてしまうため破壊を生じる現象である。   Although ESD and EOS are the same in that an excessive voltage that cannot be normally input is input, the phenomenon is classified as “current application” for ESD and “voltage application” for EOS. In other words, ESD does not have a low-resistance path through which current should flow, and as a result, the voltage rises and the device is destroyed. On the other hand, EOS is a phenomenon that causes breakdown because a high voltage is continuously applied in the order of several hundreds msec.

図7は、ESD/EOS保護回路の従来例を示す図である。   FIG. 7 is a diagram showing a conventional example of an ESD / EOS protection circuit.

ここには、電源端子51、入力端子52、グランド端子53、PチャンネルMOSトランジスタ541とNチャンネルMOSトランジスタ542とからなるインバータ54、入力端子52とインバータ54の入力部54aとを繋ぐ抵抗体55、入力端子52とグランド端子53との間に配置された第1の保護素子56、および、インバータ54の入力部54aとグランド端子53との間に配置された第2の保護素子57が示されている。   Here, a power supply terminal 51, an input terminal 52, a ground terminal 53, an inverter 54 composed of a P-channel MOS transistor 541 and an N-channel MOS transistor 542, a resistor 55 that connects the input terminal 52 and the input portion 54 a of the inverter 54, A first protection element 56 disposed between the input terminal 52 and the ground terminal 53, and a second protection element 57 disposed between the input portion 54a of the inverter 54 and the ground terminal 53 are shown. Yes.

電源端子51にはグランド端子53を基準として+3.3Vの電源が接続され、インバータ54は、この+3.3Vで動作するものとする。このインバータ54は、ESD/EOSにより破壊されないように保護すべき被保護素子であり、ここでは、このインバータ54の入力部54aの耐圧を+14Vとする。ただし、ESDは高電圧であるが印加時間が数百nsecと短いため、インバータ54の入力部54aの、ESDに対する耐圧は+18Vであるとする。   A power supply of + 3.3V is connected to the power supply terminal 51 with reference to the ground terminal 53, and the inverter 54 operates at this + 3.3V. The inverter 54 is a protected element that should be protected from being destroyed by ESD / EOS. Here, the withstand voltage of the input portion 54a of the inverter 54 is set to + 14V. However, since ESD is a high voltage but the application time is as short as several hundred nsec, it is assumed that the withstand voltage against ESD of the input portion 54a of the inverter 54 is + 18V.

また、ここでは、第1の保護素子56は+15Vでターンオンし、第2の保護素子57は、+12Vでターンオンする設計となっているものとする。   Here, it is assumed that the first protection element 56 is turned on at + 15V, and the second protection element 57 is turned on at + 12V.

ここで、入力端子52にESDが印加されたとする。ESD印加時には高電圧が印加されるが、第1の保護素子56が+15Vでターンオンして高電流を流すため、被保護回路であるインバータ54の入力部54aには+18Vはかからず、インバータ54は破壊されない。   Here, it is assumed that ESD is applied to the input terminal 52. Although a high voltage is applied when ESD is applied, since the first protection element 56 is turned on at + 15V and a high current flows, + 18V is not applied to the input portion 54a of the inverter 54 which is a protected circuit. Is not destroyed.

EOSは、ESDと異なり定電圧印加であり、ESDに比べて比較的低電圧がかかるが、印加時間が数百msecにおよぶこともあり長い。ここでは、EOSとして+14Vが入力端子52に印加されたとすると、このEOSの印加電圧による電流は抵抗体55を経由し、+12Vでターンオンする第2の保護素子を通って流れる。このとき、この抵抗体55により電圧降下が生じ、インバータ54の入力部54aには+14Vより小さい電圧しかかからず、このときもインバータ54は破壊を免れることになる。   Unlike ESD, EOS is applied with a constant voltage, and a relatively low voltage is applied as compared with ESD, but the application time may be as long as several hundred msec. Here, if + 14V is applied to the input terminal 52 as EOS, the current due to the applied voltage of EOS flows through the resistor 55 and passes through the second protection element that is turned on at + 12V. At this time, a voltage drop is generated by the resistor 55, and a voltage lower than + 14V is applied to the input portion 54a of the inverter 54. At this time, the inverter 54 is prevented from being broken.

しかしながら、図7の構成の場合、入力端子52とインバータ54の入力部54aとの間に抵抗体55が配置されている。この抵抗体55は、例えば200Ω程度の抵抗値を必要とする。さらに、このインバータ54等に寄生する容量が存在する。そのため、通常動作で入力端子52に入力される信号が高速になると、抵抗体55とインバータ54等による寄生容量とにより信号の遅れが発生し、信号特性に悪影響を及ぼすおそれがある。   However, in the configuration of FIG. 7, the resistor 55 is disposed between the input terminal 52 and the input portion 54 a of the inverter 54. The resistor 55 requires a resistance value of about 200Ω, for example. Furthermore, there is a parasitic capacitance in the inverter 54 and the like. For this reason, when the signal input to the input terminal 52 becomes high speed in normal operation, a signal delay may occur due to the parasitic capacitance caused by the resistor 55 and the inverter 54 and the like, which may adversely affect the signal characteristics.

また、特許文献1には、被保護回路としてのインバータのゲートとドレインを静電気保護素子で繋ぎ、そのインバータを構成するNチャンネルMOSトランジスタのゲートとドレインとの間に静電気保護素子を介在させた構成が提案されている。この提案では、保護動作時に、被保護素子であるインバータを構成するNチャンネルMOSトランジスタに電流を流す構成となっており、特にサイズが小さく弱い被保護素子の場合、意図的に電流を流すとそれによって破壊されるおそれもあり、余裕のある設計が難しく、難しい設計を迫られることになりかねない。   Patent Document 1 discloses a configuration in which the gate and drain of an inverter serving as a protected circuit are connected by an electrostatic protection element, and the electrostatic protection element is interposed between the gate and drain of an N-channel MOS transistor constituting the inverter. Has been proposed. In this proposal, a current is passed through an N-channel MOS transistor that constitutes an inverter, which is a protected element, during protection operation. Especially in the case of a small and weak protected element, if a current is intentionally passed, There is a risk that it will be destroyed, and it is difficult to design with sufficient margins, which can lead to difficult design.

特開2008−288251号公報JP 2008-288251 A

本発明は、上記事情に鑑み、通常動作に悪影響を与えるのを避けつつ過電圧印加に対する保護が図られた半導体集積回路を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit that protects against overvoltage application while avoiding adverse effects on normal operation.

上記目的を達成する本発明の半導体集積回路は、
第1および第2の端子に接続される第1および第2の入力ノードと、該第1および第2の入力ノード間の電位差に応じた信号を内部回路に出力する出力ノードとを有する入力回路と、
入力回路の出力ノードの電位を制御する第1の手段と、
入力回路の第2の入力ノードと上記第2の端子との間に介在し、それら第2の入力ノードと第2の端子との間の接続を通常状態では維持する第1のスイッチとを有し、
上記第1の端子に第1の過電圧が印加されて第1の端子の電位が上昇すると、第1のスイッチが第2の端子と第2の入力ノードとの間の接続を解除し、第1の手段が出力ノードの電位を上昇させて第1の入力ノードと出力ノードとの間の電位差の上昇を制限する第1の保護動作を行うことを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit of the present invention that achieves the above object is as follows.
Input circuit having first and second input nodes connected to first and second terminals and an output node for outputting a signal corresponding to a potential difference between the first and second input nodes to an internal circuit When,
A first means for controlling the potential of the output node of the input circuit;
A first switch that is interposed between the second input node of the input circuit and the second terminal, and that maintains the connection between the second input node and the second terminal in a normal state; And
When the first overvoltage is applied to the first terminal and the potential of the first terminal rises, the first switch releases the connection between the second terminal and the second input node, and the first terminal The first means performs the first protection operation for increasing the potential of the output node to limit the increase in potential difference between the first input node and the output node.

本発明の半導体集積回路は、過電圧が印加されると第1のスイッチにより入力回路と第2の端子との間の接続が解除されるため、第1の端子に過電圧が印加されても、この過電圧による電流が入力回路を経由して第2の端子に流れるのが防止される。また、第1の端子に過電圧が印加されると第1の手段が入力回路の出力部の電位を上昇させるため、入力部から入力回路を通過して出力部に流れる電流も抑えられる。本発明の半導体集積回路によれば、このようにして過電圧による破壊が防止される。   In the semiconductor integrated circuit of the present invention, when an overvoltage is applied, the connection between the input circuit and the second terminal is released by the first switch, so even if an overvoltage is applied to the first terminal, Current due to overvoltage is prevented from flowing to the second terminal via the input circuit. Further, when an overvoltage is applied to the first terminal, the first means raises the potential of the output part of the input circuit, so that the current flowing from the input part to the output part through the input circuit is also suppressed. According to the semiconductor integrated circuit of the present invention, destruction due to overvoltage is thus prevented.

ここで、本発明の半導体集積回路は、
第1および第2の端子の間に、第1の端子に第2の過電圧が印加されたときに第2の過電圧による過電流を第2の端子に逃がす第2の保護動作の制御を行なうとともに、第1の端子への上記第1の過電圧の印加を検出する過電圧検出手段を備え、
過電圧検出手段が第1の過電圧の印加を検出したときに、第2の保護動作が抑制される過電圧保護手段を設け、
過電圧検出手段が第1の過電圧の印加を検出したときに、第1のスイッチおよび第1の手段に検出信号を供給することにより、第1のスイッチおよび第1の手段による上記第1の保護動作が行なわれる半導体装置であることが好ましい。
Here, the semiconductor integrated circuit of the present invention is
Between the first and second terminals, when the second overvoltage is applied to the first terminal, the second protection operation is controlled to release the overcurrent caused by the second overvoltage to the second terminal. , Comprising overvoltage detection means for detecting application of the first overvoltage to the first terminal,
Providing overvoltage protection means for suppressing the second protection operation when the overvoltage detection means detects application of the first overvoltage;
When the overvoltage detection means detects the application of the first overvoltage, the first protection operation by the first switch and the first means is provided by supplying a detection signal to the first switch and the first means. It is preferable that the semiconductor device perform the above.

この場合に、上記の過電圧検出手段は、第1の端子に第1の過電圧が印加されたときに上昇する検出信号を生成するものであり、第1の手段は、その検出信号を出力ノードに供給することにより、その出力ノードの電位を上昇させるものであってもよい。   In this case, the overvoltage detection means generates a detection signal that rises when the first overvoltage is applied to the first terminal. The first means outputs the detection signal to the output node. By supplying, the potential of the output node may be increased.

また、本発明の半導体集積回路では、入力回路は、第1の入力ノードにゲートが、出力ノードにドレインが接続されたMOSトランジスタによって構成されていてもよい。
In the semiconductor integrated circuit of the present invention, an input circuit, a gate to the first input node, it may be constituted by a MOS transistor having a drain connected to the output node.

上記の本発明によれば、通常動作時の信号特性に悪影響を与えるのを回避しつつ、過電圧印加に対する保護が図られた半導体集積回路を構成することができる。   According to the present invention described above, it is possible to configure a semiconductor integrated circuit in which protection against overvoltage application is achieved while avoiding adverse effects on signal characteristics during normal operation.

本発明の半導体集積回路の第1実施形態の回路ブロック図である。1 is a circuit block diagram of a first embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention. 本発明の半導体集積回路の第2実施形態の回路図である。It is a circuit diagram of a second embodiment of the semiconductor integrated circuit of the present invention. 図2に示す半導体集積回路の入力端子に+14VのEOSが印加されたときの各部の電位を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing the potential of each part when +14 V EOS is applied to the input terminal of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 2. 図2に示す半導体集積回路の入力端子に+14VのEOSが印加されたときの入力インバータの各部の電位を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing the potential of each part of the input inverter when + 14V EOS is applied to the input terminal of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 2. GGNMOSを記号で示した図である。It is the figure which showed GGNMOS by the symbol. GGNMOSの特性を示した図である。It is the figure which showed the characteristic of GGNMOS. ESD/EOS保護回路の従来例を示す図である。It is a figure which shows the prior art example of an ESD / EOS protection circuit.

以下、本発明の実施形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

図1は、本発明の半導体集積回路の第1実施形態の回路ブロック図である。   FIG. 1 is a circuit block diagram of a first embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.

この図1に示す半導体集積回路10には、入力部13aが第1の端子11と接続している入力回路13と、その入力回路13の出力部13bと接続する第1の手段16と、入力回路13と第2の端子12との間に接続する第1のスイッチ15とが備えられている。さらに本実施形態では、第1の手段16は入力回路13の出力部13bと第2の端子12との間に接続している。第1のスイッチ15は、通常状態では入力回路13と第2の端子12との間の接続を維持し、過電圧の入力を検知すると接続を解除する。   The semiconductor integrated circuit 10 shown in FIG. 1 includes an input circuit 13 having an input section 13a connected to the first terminal 11, first means 16 connected to the output section 13b of the input circuit 13, and an input. A first switch 15 connected between the circuit 13 and the second terminal 12 is provided. Further, in the present embodiment, the first means 16 is connected between the output unit 13 b of the input circuit 13 and the second terminal 12. The first switch 15 maintains a connection between the input circuit 13 and the second terminal 12 in a normal state, and releases the connection when an overvoltage input is detected.

また第1の手段16は、第1の端子11に過電圧が印加されると出力部13bの電位を上昇させ、入力部13aとの電位差を小さくして入力回路13の破壊を防止する。   The first means 16 raises the potential of the output unit 13b when an overvoltage is applied to the first terminal 11, and reduces the potential difference with the input unit 13a to prevent the input circuit 13 from being destroyed.

さらに、この図1に示す半導体集積回路には、第1の端子11と第2の端子12との間に過電圧保護手段14が設けられている。この過電圧保護手段14は、入力回路13をESDから保護する手段である。この過電圧保護手段14は、第1の端子11と第2の端子12との間に接続した保護素子141と検出手段142から構成されている。検出手段142は、第1の端子11へのEOSの印加を検出する。検出手段142から保護素子141と第1のスイッチ15ならびに第1の手段16に接続されており、検出手段142がEOSの印加を検出したときに生成される制御信号が、保護素子141と第1のスイッチ15ならびに第1の手段16に供給される。   Further, the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 1 is provided with overvoltage protection means 14 between the first terminal 11 and the second terminal 12. The overvoltage protection means 14 is means for protecting the input circuit 13 from ESD. The overvoltage protection means 14 includes a protection element 141 and a detection means 142 connected between the first terminal 11 and the second terminal 12. The detection unit 142 detects application of EOS to the first terminal 11. The detection means 142 is connected to the protection element 141, the first switch 15, and the first means 16, and a control signal generated when the detection means 142 detects the application of EOS is connected to the protection element 141 and the first switch 16. Switch 15 as well as the first means 16.

保護素子141は、検出手段142からの制御信号の供給を受けたときには、その動作が制御される。これにより、第1の保護素子141のターンオン電圧が低下した場合にも、持続時間の長いEOSが印加されたときに保護素子141が破壊されることが防止できる。   When the protection element 141 is supplied with a control signal from the detection means 142, its operation is controlled. Accordingly, even when the turn-on voltage of the first protection element 141 is lowered, it is possible to prevent the protection element 141 from being destroyed when EOS having a long duration is applied.

また検出手段142は、第1の端子11に印加された過電圧を検知して、
(1)保護素子141を制御する信号を生成して保護素子141の動作を抑制し、
(2)第1のスイッチ15を制御する信号を生成して入力回路13と第2の端子12との接続を解除し、
(3)第1の手段16を制御して入力回路13の出力部13bに電圧を加えて入力部13aとの電位差を小さくすることにより、入力回路13の破壊を回避する。
The detecting means 142 detects an overvoltage applied to the first terminal 11 and
(1) Generate a signal for controlling the protection element 141 to suppress the operation of the protection element 141;
(2) Generate a signal for controlling the first switch 15 to disconnect the input circuit 13 and the second terminal 12;
(3) The destruction of the input circuit 13 is avoided by controlling the first means 16 and applying a voltage to the output unit 13b of the input circuit 13 to reduce the potential difference with the input unit 13a.

ここで、第1の手段16は、入力回路13の出力部13bに電圧を加えて入力部13aとの電位差を小さくすればよく、出力部13bへの電圧の加え方としては例えば印加された過電圧を利用してもよく、過電圧を利用せずに別の電圧を利用してもよい。   Here, the first means 16 may apply a voltage to the output unit 13b of the input circuit 13 to reduce the potential difference from the input unit 13a. As a method of applying the voltage to the output unit 13b, for example, an applied overvoltage May be used, and another voltage may be used without using the overvoltage.

この第1実施形態の半導体集積回路では、第1の端子11に過電圧が印加されると、第1のスイッチ15により入力回路13と第2の端子12との間の接続が解除され、さらに入力回路13の入力部13aと出力部13bとの間の電位差が小さくなるように出力部13bに電圧が加えられるため、入力回路13の破壊が防止される。   In the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment, when an overvoltage is applied to the first terminal 11, the connection between the input circuit 13 and the second terminal 12 is released by the first switch 15, and further the input Since a voltage is applied to the output unit 13b so that the potential difference between the input unit 13a and the output unit 13b of the circuit 13 is reduced, the input circuit 13 is prevented from being destroyed.

さらに、この第1実施形態の半導体集積回路10では、第1の端子11と入力回路13との間に保護抵抗(図7に示す抵抗体55参照)は不要であり、通常動作において抵抗による動作速度の低下が発生することがない。   Further, in the semiconductor integrated circuit 10 of the first embodiment, a protective resistor (see the resistor 55 shown in FIG. 7) is not required between the first terminal 11 and the input circuit 13, and the operation by the resistor is performed in the normal operation. There is no reduction in speed.

図2は、本発明の半導体集積回路の第2実施形態の回路図である。   FIG. 2 is a circuit diagram of a second embodiment of the semiconductor integrated circuit of the present invention.

この半導体集積回路20には、電源端子21、入力端子22、およびグランド端子23が設けられている。また、ここには、被保護回路としての入力インバータ24が示されている。この入力インバータ24は、PチャンネルMOSトランジスタ241とNチャンネルMOSトランジスタ242とからなり、PチャンネルMOSトランジスタ241のソースは電源端子21に接続され、PチャンネルMOSトランジスタ241のドレインとNチャンネルMOSトランジスタ242のドレインとが接続されている。このNチャンネルMOSトランジスタ242のソースは、もう1つのNチャンネルMOSトランジスタ29のドレインに接続され、そのNチャンネルMOSトランジスタ29のソースがグランド端子23に接続されている。また、PチャンネルMOSトランジスタ241とNチャンネルMOSトランジスタ242のゲートは互いに接続されるとともに入力端子22に接続されている。PチャンネルMOSトランジスタ241とNチャンネルMOSトランジスタ242のドレインどうしの接続点が、このインバータ24の出力部24bとなる。   The semiconductor integrated circuit 20 is provided with a power supply terminal 21, an input terminal 22, and a ground terminal 23. Here, an input inverter 24 as a protected circuit is shown. The input inverter 24 includes a P-channel MOS transistor 241 and an N-channel MOS transistor 242, the source of the P-channel MOS transistor 241 is connected to the power supply terminal 21, and the drain of the P-channel MOS transistor 241 and the N-channel MOS transistor 242 The drain is connected. The source of the N channel MOS transistor 242 is connected to the drain of another N channel MOS transistor 29, and the source of the N channel MOS transistor 29 is connected to the ground terminal 23. The gates of the P channel MOS transistor 241 and the N channel MOS transistor 242 are connected to each other and to the input terminal 22. A connection point between the drains of the P-channel MOS transistor 241 and the N-channel MOS transistor 242 becomes an output portion 24 b of the inverter 24.

また、ここには、入力端子22とグランド端子23との間に保護回路25が配置されている。この保護回路25は、互いに直列に接続された2つのNチャンネルMOSトランジスタ251,252からなり、NチャンネルMOSトランジスタ251のドレインは入力端子22に接続され、NチャンネルMOSトランジスタ251のソースとNチャンネルMOSトランジスタ252のドレインが互いに接続され、NチャンネルMOSトランジスタ252のソースがグランド端子23に接続されている。また、このNチャンネルMOSトランジスタ252のゲートもグランド端子23に接続されている。NチャンネルMOSトランジスタ251のゲートの接続先については後述する。   Here, a protection circuit 25 is disposed between the input terminal 22 and the ground terminal 23. The protection circuit 25 includes two N-channel MOS transistors 251 and 252 connected in series. The drain of the N-channel MOS transistor 251 is connected to the input terminal 22, and the source of the N-channel MOS transistor 251 and the N-channel MOS transistor The drains of the transistors 252 are connected to each other, and the source of the N-channel MOS transistor 252 is connected to the ground terminal 23. The gate of the N channel MOS transistor 252 is also connected to the ground terminal 23. The connection destination of the gate of the N-channel MOS transistor 251 will be described later.

この図2に示す半導体集積回路には、さらに、検出回路26が設けられている。この検出回路26は、NチャンネルMOSトランジスタ261と抵抗体262とから構成されている。NチャンネルMOSトランジスタ261のドレインは入力端子22に接続され、ソースとゲートが抵抗体262の一端に接続され、抵抗体262の他端がグランド端子23に接続されている。また、保護回路25を構成するNチャンネルMOSトランジスタ251のゲートは、検出回路26を構成するNチャンネルMOSトランジスタ261と抵抗体262との接続ノード26aに接続されている。   The semiconductor integrated circuit shown in FIG. 2 is further provided with a detection circuit 26. The detection circuit 26 includes an N-channel MOS transistor 261 and a resistor 262. The drain of the N-channel MOS transistor 261 is connected to the input terminal 22, the source and gate are connected to one end of the resistor 262, and the other end of the resistor 262 is connected to the ground terminal 23. Further, the gate of the N-channel MOS transistor 251 constituting the protection circuit 25 is connected to a connection node 26 a between the N-channel MOS transistor 261 and the resistor 262 constituting the detection circuit 26.

この半導体集積回路20には、さらに、もう1つのインバータ27とNチャンネルMOSトランジスタ28が設けられている。このインバータ27は、PチャンネルMOSトランジスタ271とNチャンネルMOSトランジスタ272とからなり、PチャンネルMOSトランジスタ271のソースは電源端子21に接続され、PチャンネルMOSトランジスタ271とNチャンネルMOSトランジスタ272のドレインどうしが接続され、NチャンネルMOSトランジスタ272のソースがグランド端子23に接続されている。さらに、PチャンネルMOSトランジスタ271のゲートとNチャンネルMOSトランジスタ272のゲートは互いに接続されてこのインバータ27の入力部27aを形成し、この入力部27aは、検出回路26を構成するNチャンネルMOSトランジスタ261と抵抗体262との接続ノード26aに接続されている。また、このインバータ27の出力部27b、すなわち、PチャンネルMOSトランジスタ271とNチャンネルMOSトランジスタ272のドレインどうしの接続ノードは、NチャンネルMOSトランジスタ29のゲートに接続されている。   The semiconductor integrated circuit 20 is further provided with another inverter 27 and an N-channel MOS transistor 28. The inverter 27 includes a P channel MOS transistor 271 and an N channel MOS transistor 272. The source of the P channel MOS transistor 271 is connected to the power supply terminal 21, and the drains of the P channel MOS transistor 271 and the N channel MOS transistor 272 are connected to each other. The source of the N-channel MOS transistor 272 is connected to the ground terminal 23. Further, the gate of the P-channel MOS transistor 271 and the gate of the N-channel MOS transistor 272 are connected to each other to form an input part 27a of the inverter 27. The input part 27a is an N-channel MOS transistor 261 that constitutes the detection circuit 26. And the resistor 262 are connected to a connection node 26a. The output 27 b of the inverter 27, that is, the connection node between the drains of the P channel MOS transistor 271 and the N channel MOS transistor 272 is connected to the gate of the N channel MOS transistor 29.

さらに、NチャンネルMOSトランジスタ28のドレインとソースは、検出回路26のNチャンネルMOSトランジスタ261と抵抗体262との接続ノード26aと、入力インバータ24の出力部24bとに接続され、NチャンネルMOSトランジスタ28のゲートも、検出回路26のNチャンネルMOSトランジスタ261と抵抗体262との接続ノード26aに接続されている。   Further, the drain and source of the N-channel MOS transistor 28 are connected to a connection node 26 a between the N-channel MOS transistor 261 and the resistor 262 of the detection circuit 26 and an output part 24 b of the input inverter 24. Are also connected to a connection node 26 a between the N-channel MOS transistor 261 and the resistor 262 of the detection circuit 26.

ここで、この図2に示す本発明の第2実施形態の半導体集積回路20を、図1に示す第1実施形態の半導体集積回路10と対比すると、以下の通り対応づけられる。   Here, when the semiconductor integrated circuit 20 according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 2 is compared with the semiconductor integrated circuit 10 according to the first embodiment shown in FIG.

図2に示す入力端子22およびグランド端子23が、図1に示す、それぞれ第1の端子11および第2の端子12に対応する。また、入力インバータ24が入力回路13に対応する。さらに、保護回路25が保護素子141に対応し、検出回路26が検出手段142に対応する。したがってこれら保護回路25と検出回路26とを合わせたものが、過電圧保護手段14に対応する。さらに、NチャンネルMOSトランジスタ29が第1のスイッチ15に対応し、インバータ27とNチャンネルMOSトランジスタ28とを合わせたものが第1の手段16に対応する。   The input terminal 22 and the ground terminal 23 shown in FIG. 2 correspond to the first terminal 11 and the second terminal 12 shown in FIG. 1, respectively. The input inverter 24 corresponds to the input circuit 13. Further, the protection circuit 25 corresponds to the protection element 141, and the detection circuit 26 corresponds to the detection unit 142. Therefore, the combination of the protection circuit 25 and the detection circuit 26 corresponds to the overvoltage protection means 14. Further, the N channel MOS transistor 29 corresponds to the first switch 15, and the combination of the inverter 27 and the N channel MOS transistor 28 corresponds to the first means 16.

以下、図2に示す半導体集積回路20の動作について説明する。   Hereinafter, the operation of the semiconductor integrated circuit 20 shown in FIG. 2 will be described.

図3は、図2に示す半導体集積回路の入力端子に+14VのEOSが印加されたときの各部の電位を示した図、図4は、図2に示す半導体集積回路の入力端子に+14VのEOSが印加されたときの入力インバータの各部の電位を示した図である。   3 is a diagram showing the potential of each part when + 14V EOS is applied to the input terminal of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 2, and FIG. 4 is a diagram showing + 14V EOS at the input terminal of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. It is the figure which showed the electric potential of each part of an input inverter when is applied.

ここでは、前提条件として、電源端子21には+3.3Vの電源が接続され、この半導体集積回路20は+3.3Vの電源で動作するものとする。また、図7を参照して説明した従来例の場合と同様、入力インバータ24の入力部24aの耐圧は、時間が短かいESD印加時には+18V、EOS印加時には+14Vであるとする。また、入力端子21にEOSとして印加される電圧は+14Vとする。また、この半導体集積回路20では、保護回路25は、NチャンネルMOSトランジスタ251のゲートの調整によりターンオン電圧を+15Vとし、検出回路26を構成するNチャンネルMOSトランジスタ261はGGNMOS構成が採用されていてターンオン電圧は+13Vであるとする。   Here, as a precondition, it is assumed that a power supply of + 3.3V is connected to the power supply terminal 21, and the semiconductor integrated circuit 20 operates with a power supply of + 3.3V. Further, as in the case of the conventional example described with reference to FIG. 7, it is assumed that the withstand voltage of the input unit 24a of the input inverter 24 is + 18V when ESD is applied and + 14V when EOS is applied. The voltage applied as EOS to the input terminal 21 is + 14V. In this semiconductor integrated circuit 20, the protection circuit 25 has a turn-on voltage of +15 V by adjusting the gate of the N-channel MOS transistor 251, and the N-channel MOS transistor 261 constituting the detection circuit 26 has a GGNMOS configuration and is turned on. Assume that the voltage is + 13V.

ここで、図3,図4を一旦離れ、GGNMOS構成について説明する。   Here, with reference to FIGS. 3 and 4, the GGNMOS configuration will be described.

図5は、GGNMOSを記号で示した図、図6はGGNMOSの特性を示した図である。   FIG. 5 is a diagram showing GGNMOS as a symbol, and FIG. 6 is a diagram showing characteristics of GGNMOS.

GGNMOSは、ゲートをグランドに接続したNチャンネルMOSトランジスタであり、そのNチャンネルMOSトランジスタのドレイン−Pサブストレート−ソースに形成される寄生バイポーラ動作により静電印加電流を流す構成となっている。   The GGNMOS is an N-channel MOS transistor whose gate is connected to the ground, and is configured to flow an electrostatically applied current by a parasitic bipolar operation formed at the drain-P substrate-source of the N-channel MOS transistor.

図6に示すように、このGGNMOSは、そのドレイン−ソース間電圧が、あるターンオン電圧に至ると、寄生バイポーラがターンオンし、一旦ターンオンすると、そのターンオン電圧より低いホールド電圧でも電流を流し続けるスナップバックと呼ばれる特性を有する。図2,図3に示す半導体集積回路20の、GGNMOS構成のNチャンネルMOSトランジスタ261は、+14Vでターンオンし、一旦ターンオンすると+8Vのホールド電圧まで低下するものとする。   As shown in FIG. 6, this GGNMOS is a snapback in which when the drain-source voltage reaches a certain turn-on voltage, the parasitic bipolar transistor is turned on. It has a characteristic called. The N-channel MOS transistor 261 having the GGNMOS structure of the semiconductor integrated circuit 20 shown in FIGS. 2 and 3 is turned on at + 14V, and once turned on, it is lowered to a hold voltage of + 8V.

図2,図3に戻って説明を続ける。   Returning to FIG. 2 and FIG. 3, the description will be continued.

ここで、入力端子22にESDが印加されると、保護回路28が+15Vでターンオンするため、被保護素子である入力インバータ24の入力部24aには+18Vを超える電圧はかからず、入力インバータ24は破壊されない。   Here, when ESD is applied to the input terminal 22, the protection circuit 28 is turned on at + 15V, so that the voltage exceeding + 18V is not applied to the input section 24a of the input inverter 24, which is a protected element, and the input inverter 24 Is not destroyed.

入力端子22に+14VのEOSが印加されたときは、保護回路25は+14Vではオフの状態にとどまる。一方、検出回路26にはNチャンネルMOSトランジスタ261としてGGNMOS構成が採用されていて+13Vでターンオンし、スナップバックによりホールド電圧が8Vにまで低下する。このターンオンにより、そのNチャンネルMOSトランジスタ261と抵抗体262に電流が流れることで、そのNチャンネルMOSトランジスタ261と抵抗体262との接続ノード26aが+6Vまで上昇する。この+6Vがインバータ27の入力部27aに印加され、このインバータ27は+3.3Vの電源で駆動されているため入力部27aがHレベルとなり、出力部27bはLレベルとなる。このLレベルの電圧がNチャンネルMOSトランジスタ29のゲートに印加されてNチャンネルMOSトランジスタ29はオフ、NチャンネルMOSトランジスタ28はダイオード接続となりオンとなる。   When + 14V EOS is applied to the input terminal 22, the protection circuit 25 remains off at + 14V. On the other hand, the detection circuit 26 adopts a GGNMOS configuration as the N-channel MOS transistor 261 and is turned on at + 13V, and the hold voltage is lowered to 8V by snapback. By this turn-on, a current flows through the N-channel MOS transistor 261 and the resistor 262, so that the connection node 26a between the N-channel MOS transistor 261 and the resistor 262 rises to + 6V. This + 6V is applied to the input part 27a of the inverter 27. Since this inverter 27 is driven by a power supply of + 3.3V, the input part 27a becomes H level and the output part 27b becomes L level. This L level voltage is applied to the gate of the N-channel MOS transistor 29, the N-channel MOS transistor 29 is turned off, and the N-channel MOS transistor 28 is diode-connected and turned on.

ここで、図4を参照し、検出回路26のNチャンネルMOSトランジスタ261と抵抗体262との接続ノード26aからグランドまでのパス、すなわち、接続ノード26a→NチャンネルMOSトランジスタ28→入力インバータ24→NチャンネルMOSトランジスタ29→グランドのパスについて説明する。   Here, referring to FIG. 4, the path from the connection node 26a between the N channel MOS transistor 261 and the resistor 262 of the detection circuit 26 to the ground, that is, the connection node 26a → the N channel MOS transistor 28 → the input inverter 24 → N. The channel MOS transistor 29 → ground path will be described.

NチャンネルMOSトランジスタ28はダイオード接続でありオンする。入力インバータ24の入力部24aにVeos=+14Vが印加されており、この入力インバータ24を構成するNチャンネルMOSトランジスタ242はオンする。NチャンネルMOSトランジスタ29のゲートにはLレベルの電圧が入力されており、NチャンネルMOSトランジスタ29はオフしている。従ってNチャンネルMOSトランジスタ29を通過しては電流が流れることは出来ず、NチャンネルMOSトランジスタ28および入力インバータ24を構成するNチャンネルMOSトランジスタ242はドレイン−ソース間電圧VDSを小さくすることで電流を流さないように作用する。ここではVDS=1Vという電位差になったとする。このとき、入力インバータ24の入力部24aにかかる電圧は、PチャンネルMOSトランジスタ241側では10.7V、NチャンネルMOSトランジスタ242側では10Vになり、いずれも+14Vより低い電圧しかかからないことになる。したがって入力端子22と入力インバータ24の入力部24aとの間に保護抵抗(図7に示す抵抗体55参照)は不要である。 N-channel MOS transistor 28 is diode-connected and is turned on. Veos = + 14V is applied to the input section 24a of the input inverter 24, and the N-channel MOS transistor 242 constituting the input inverter 24 is turned on. An L level voltage is inputted to the gate of the N channel MOS transistor 29, and the N channel MOS transistor 29 is turned off. Therefore, no current can flow through the N-channel MOS transistor 29, and the N-channel MOS transistor 242 constituting the N-channel MOS transistor 28 and the input inverter 24 reduces the drain-source voltage VDS to reduce the current. It works so as not to flow. Here, it is assumed that the potential difference is V DS = 1V. At this time, the voltage applied to the input section 24a of the input inverter 24 is 10.7V on the P-channel MOS transistor 241 side and 10V on the N-channel MOS transistor 242 side. Therefore, a protective resistor (see the resistor 55 shown in FIG. 7) is not required between the input terminal 22 and the input portion 24a of the input inverter 24.

また、この半導体集積回路20によれば、どの箇所にも破壊に至るような高い電位差が生じる部分はなく、破壊の懸念はない。   Further, according to the semiconductor integrated circuit 20, there is no portion where a high potential difference that causes destruction occurs in any part, and there is no fear of destruction.

さらにツェナーダイオードを、図2に示す保護回路25や、検出回路26を構成するNチャンネルMOSトランジスタ261に代えて採用してもよい。   Further, a Zener diode may be employed in place of the protection circuit 25 and the N-channel MOS transistor 261 that constitute the detection circuit 26 shown in FIG.

上記の半導体集積回路20によれば、入力端子21と非保護回路である入力インバータ24との間の保護抵抗をなくしたことにより通常動作に悪影響を与えることが回避され、かつ、ESD/EOSが印加されたときに破壊されることが防止される。   According to the semiconductor integrated circuit 20 described above, it is possible to avoid adverse effects on normal operation by eliminating the protective resistance between the input terminal 21 and the input inverter 24 which is a non-protection circuit, and the ESD / EOS is reduced. It is prevented from being destroyed when applied.

また入力回路の出力については、EOS印加時に入力端子との電位差を小さくするために電圧が印加されるが、その電位は入力端子よりも低い。そのため入力回路の出力が接続する次段の回路の出力ノードも同じく電位を高くする回路を配置する必要はない。その一方で次段の回路に今回の発明の回路を追加したとしても、EOS,ESDには同様に機能し、特性に悪影響をおよぼすことはない。   As for the output of the input circuit, a voltage is applied to reduce the potential difference with the input terminal when EOS is applied, but the potential is lower than that of the input terminal. Therefore, it is not necessary to arrange a circuit for raising the potential at the output node of the next stage circuit to which the output of the input circuit is connected. On the other hand, even if the circuit of the present invention is added to the next-stage circuit, it functions similarly to EOS and ESD and does not adversely affect the characteristics.

10,20 半導体集積回路
11 第1の端子
12 第2の端子
13 入力回路
13a,24a,27a,54a 入力部
13b,24b,27b 出力部
14 過電圧保護手段
15 第1のスイッチ
16 第1の手段
21,51 電源端子
22,52 入力端子
23,53 グランド端子
24 入力インバータ
25 保護回路
26 検出回路
26a 接続ノード
27,54 インバータ
28,29,242,251,252,261,272,542 NチャンネルMOSトランジスタ
55,262 抵抗体
56 第1の保護素子
57 第2の保護素子
141 保護素子
142 検出手段
241,271,541 PチャンネルMOSトランジスタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,20 Semiconductor integrated circuit 11 1st terminal 12 2nd terminal 13 Input circuit 13a, 24a, 27a, 54a Input part 13b, 24b, 27b Output part 14 Overvoltage protection means 15 1st switch 16 1st means 21 , 51 Power supply terminal 22, 52 Input terminal 23, 53 Ground terminal 24 Input inverter 25 Protection circuit 26 Detection circuit 26a Connection node 27, 54 Inverter 28, 29, 242, 251, 252, 261, 272, 542 N-channel MOS transistor 55 , 262 Resistor 56 First protection element 57 Second protection element 141 Protection element 142 Detection means 241, 271, 541 P-channel MOS transistor

Claims (4)

第1および第2の端子に接続される第1および第2の入力ノードと、該第1および第2の入力ノード間の電位差に応じた信号を内部回路に出力する出力ノードとを有する入力回路と、
前記入力回路の出力ノードの電位を制御する第1の手段と、
前記入力回路の第2の入力ノードと前記第2の端子との間に介在し、該第2のノードと該第2の端子との間の接続を通常状態では維持する第1のスイッチとを有し、
前記第1の端子に第1の過電圧が印加されて該第1の端子の電位が上昇すると、前記第1のスイッチが前記第2の端子と前記第2の入力ノードとの間の接続を解除し、前記第1の手段が前記出力ノードの電位を上昇させて前記第1の入力ノードと前記出力ノードとの間の電位差の上昇を制限する第1の保護動作を行うこと
を特徴とする半導体集積回路。
Input circuit having first and second input nodes connected to first and second terminals and an output node for outputting a signal corresponding to a potential difference between the first and second input nodes to an internal circuit When,
First means for controlling the potential of the output node of the input circuit;
A first switch interposed between the second input node of the input circuit and the second terminal and maintaining a connection between the second node and the second terminal in a normal state; Have
When a first overvoltage is applied to the first terminal and the potential of the first terminal rises, the first switch releases the connection between the second terminal and the second input node The first means performs a first protection operation for increasing the potential of the output node to limit an increase in potential difference between the first input node and the output node. Integrated circuit.
前記第1および第2の端子の間に、該第1の端子に第2の過電圧印加されたときに該第2の過電圧による過電流を前記第2の端子に逃がす第2の保護動作の制御を行うとともに、前記第1の端子への前記第1の過電圧の印加を検出する過電圧検出手段を備え、
該過電圧検出手段が前記第1の過電圧の印加を検出したときに、前記第2の保護動作が抑制される過電圧保護手段を設け、
前記過電圧検出手段が前記第1の過電圧の印加を検出したときに、前記第1のスイッチおよび第1の手段に検出信号を供給することにより、該第1のスイッチおよび第1の手段による前記第1の保護動作が行われることを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
Control of a second protection operation that releases an overcurrent due to the second overvoltage to the second terminal when a second overvoltage is applied to the first terminal between the first and second terminals And overvoltage detection means for detecting application of the first overvoltage to the first terminal,
Providing overvoltage protection means for suppressing the second protection operation when the overvoltage detection means detects application of the first overvoltage;
By supplying a detection signal to the first switch and the first means when the overvoltage detection means detects the application of the first overvoltage, the first switch and the first means by the first means. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein one protection operation is performed.
前記過電圧検出手段は、前記第1の端子に前記第1の過電圧が印加されたときに上昇する前記検出信号を生成するものであり、前記第1の手段は、該検出信号を前記出力ノードに供給することにより、該出力ノードの電位を上昇させることを特徴とする請求項2記載の半導体集積回路。   The overvoltage detection means generates the detection signal that rises when the first overvoltage is applied to the first terminal, and the first means sends the detection signal to the output node. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the potential of the output node is raised by supplying the same. 前記入力回路は、前記第1の入力ノードにゲートが、前記出力ノードにドレインが接続されたMOSトランジスタによって構成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の半導体集積回路。 Wherein the input circuit, the first input node to the gate, a semiconductor integrated circuit according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the drain to the output node is constituted by the MOS transistors connected .
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