JP5731806B2 - 研削装置 - Google Patents
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Description
(1)研削装置の基本的な構成および動作
はじめに、図1に示す一実施形態の研削装置10の基本的な構成および動作を説明する。この研削装置10は、半導体ウェーハ等の円板状のワーク1の被加工面を加工手段30によって研削するものである。ワーク1は、基台11上に設けられた円板状の保持手段20にオペレータ等によって矢印のように運ばれ、被加工面を上方に露出させて保持手段20の上面の円形状の保持面21に同心状に載置される。
次いで、本発明に係る非接触測定手段40を詳述する。
非接触測定手段40は、検査用光線の干渉波を利用してワーク1の厚さを非接触で測定するものであり、図1および図2に示すように、基台11に立設された中空管状のポスト401の先端に測定ヘッド402が設けられた構成である。ポスト401はL字状に形成されたもので、上記加工位置に位置付けられるワーク1の上方に延びている。ワーク1の上方に位置する測定ヘッド402は、図3に示すように、ポスト401の先端に固定され、発光受光部(本発明の発光部および受光部)43を収容する円筒状の第一のケース41と、第一のケース41の下方に固定された第二のケース42とを備えている。
非接触測定手段40によってワーク1の厚さを測定する時には、制御部60により、給水バルブ511が開かれるとともに給気バルブ512が閉じられる。これにより液体源51から液体(本実施形態では水)が給水管501、主配管50、配管接続部422を経て第二のケース42内に供給される。図3に示すように、第二のケース42内に水Wが供給されると、水Wは第二のケース42内に充満するとともに、開口部421から吐出してワーク1の表面1aに達する。これにより、第一のケース41の窓部412とワーク1との間には水Wが満たされてなる液体クッションW1が形成される。
1a…ワークの表面
1b…ワークの裏面
10…研削装置
20…保持手段
30…加工手段
40…非接触測定手段
41…第一のケース
412…窓部
42…第二のケース
421…開口部
43…発光受光部(発光部、受光部)
45…演算部
51…液体源
52…気体源
60…制御部
W…水(液体)
W1…液体クッション
Claims (1)
- ワークを保持する保持手段と、
該保持手段に保持されたワークを研削加工する加工手段と、
前記保持手段に保持されたワークの厚さを非接触で測定する非接触測定手段と、
を有し、
前記非接触測定手段は、
ワークに向けて検査用光線を発する発光部と、
ワークの表面および裏面で反射した前記検査用光線の干渉波を受ける受光部と、
該受光部で受光された前記干渉波の波形に基づいてワークの厚さを求める演算部と、
前記発光部と前記受光部とを囲み、ワークに対向する対向面に前記検査用光線を透過する部材で構成された窓部を有する第一のケースと、
前記窓部とワークとの間の空間を液体で満たし、液体クッションを形成する開口部を有する第二のケースと、
を含む研削装置であって、
前記第二のケースは、該第二のケースへ液体を供給する液体源と該第二のケースへ気体を供給する気体源とに連通し、測定が終了し該液体源から該第二のケースへの液体の供給が停止した際に該気体源から該第二のケースに気体を供給して前記窓部をエアーブローする制御部を有し、該第二のケースへ供給された液体および気体は、前記窓部の側方から該窓部における前記ワークへの対向面に沿って流れるように供給されることを特徴とする研削装置。
Priority Applications (1)
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| JP2010269149A JP5731806B2 (ja) | 2010-12-02 | 2010-12-02 | 研削装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2010269149A JP5731806B2 (ja) | 2010-12-02 | 2010-12-02 | 研削装置 |
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| JP2012115960A JP2012115960A (ja) | 2012-06-21 |
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