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JP5752466B2 - Board inspection equipment - Google Patents
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Description

本発明は、基板にプロービングさせた検査用プローブを介して入出力する電気信号に基づいて基板に対する電気的検査を実行する基板検査装置に関するものである。   The present invention relates to a substrate inspection apparatus that performs an electrical inspection on a substrate based on an electrical signal input / output via an inspection probe probed on the substrate.

この種の基板検査装置として、特開平7−35808号公報に開示されたコンタクトプローブ移動式基板両面検査装置(以下、「基板検査装置」ともいう)が知られている。この基板検査装置は、複数のX−Yロボット、複数の上下スライド機構、複数のコンタクトプローブ、計算器および制御情報処理部等を備えて構成されている。この基板検査装置では、制御情報処理部が、CADデータ等に基づいて各X−Yロボットを制御して、各コンタクトプローブをX−Y方向に個別に移動させる。また、制御情報処理部は、各上下スライド機構を制御して各コンタクトプローブを上方(または下方)にそれぞれ移動させることにより、各コンタクトプローブを基板にコンタクト(プロービング)させる。また、計算器が、各コンタクトプローブを介して入力した電気信号に基づいて抵抗値を測定し、制御情報処理部が測定データの整理を行う。   As this type of substrate inspection apparatus, a contact probe movable substrate double-side inspection apparatus (hereinafter also referred to as “substrate inspection apparatus”) disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-35808 is known. The substrate inspection apparatus includes a plurality of XY robots, a plurality of vertical slide mechanisms, a plurality of contact probes, a calculator, a control information processing unit, and the like. In this board inspection apparatus, the control information processing unit controls each XY robot based on CAD data or the like, and individually moves each contact probe in the XY direction. In addition, the control information processing unit controls each vertical slide mechanism to move each contact probe upward (or downward), thereby causing each contact probe to contact (probing) the substrate. Further, the calculator measures the resistance value based on the electric signal input through each contact probe, and the control information processing unit organizes the measurement data.

特開平7−35808号公報(第6頁、第1図)JP-A-7-35808 (page 6, FIG. 1)

ところが、上記の基板検査装置を含む従来のこの種の基板検査装置には、以下の問題点がある。すなわち、この種の基板検査装置では、制御情報処理部が予め入力されたCADデータ等に基づいて各X−Yロボットを制御し、各コンタクトプローブを個別に移動させてプロービングを行っている。一方、例えば、抵抗値の僅かな差に基づいて対象体の良否を判定するような、ノイズの影響を受け易い検査を、この種の基板検査装置を用いて行うときには、ノイズの影響を抑制するために、各コンタクトプローブにそれぞれ設けられているシールド同士をケーブルで接続することがある。ここで、ケーブル自体によるノイズの拾い込みを低減するため、この種のケーブルの長さは比較的短く規定される。このため、各コンタクトプローブ同士間の離間距離がケーブルの長さ(ケーブル長)を超えたときには、ケーブルが切断したり、ケーブルの端部が接続されている部分(コンタクトプローブの端部や、コンタクトプローブを保持している保持部)が衝撃を受けて破損したりするおそれがある。この場合、ケーブル長を予め入力しておき、各コンタクトプローブをプロービングさせるべき各プロービングポイント間の距離が既に入力されているケーブル長よりも長いときには、コンタクトプローブを停止させるように(または、移動を開始させないように)制御情報処理部がX−Yロボットを制御することで、このような不都合を解消する方法も考えられる。しかしながら、例えば、2つのコンタクトプローブを初期位置から2つのプロービングポイントにそれぞれ移動させる際に、一方のコンタクトプローブを目的のプロービングポイントに移動させた後に他方のコンタクトプローブを目的のプロービングポイントに移動させるように(各コンタクトプローブが離れ離れとなるように)移動制御用のプログラムが作成されているときには、移動先である各プロービングポイント間の距離がケーブル長よりも短い場合であっても、コンタクトプローブの移動中に各コンタクトプローブ間の距離がケーブル長を超えるため、依然として、ケーブルの切断やコンタクトプローブの破損などが発生するおそれがあるという問題点が存在する。   However, this type of conventional substrate inspection apparatus including the above-described substrate inspection apparatus has the following problems. That is, in this type of substrate inspection apparatus, the control information processing unit controls each XY robot based on CAD data or the like input in advance, and performs probing by moving each contact probe individually. On the other hand, for example, when performing an inspection that is susceptible to noise, such as determining the quality of an object based on a slight difference in resistance value, using this type of substrate inspection apparatus, the influence of noise is suppressed. Therefore, the shields provided in the contact probes may be connected with a cable. Here, in order to reduce noise pickup by the cable itself, the length of this type of cable is defined to be relatively short. For this reason, when the distance between the contact probes exceeds the length of the cable (cable length), the cable is cut or the end of the cable is connected (the end of the contact probe or the contact There is a possibility that the holding portion holding the probe may be damaged by impact. In this case, the cable length is input in advance, and when the distance between each probing point where each contact probe should be probed is longer than the already input cable length, the contact probe is stopped (or moved). A method of eliminating such an inconvenience by controlling the XY robot by the control information processing unit (so as not to start) is also conceivable. However, for example, when two contact probes are moved from the initial position to two probing points, one contact probe is moved to the target probing point, and then the other contact probe is moved to the target probing point. When a movement control program is created (so that each contact probe is separated), even if the distance between each probing point that is the movement destination is shorter than the cable length, the movement of the contact probe Since the distance between the contact probes exceeds the cable length, there is still a problem that the cable may be cut or the contact probe may be broken.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、複数の検査用プローブ同士を接続するケーブル、プローブ保持部および検査用プローブの破損を防止しつつ、各検査用プローブを予め決められた移動範囲内で移動させて検査し得る基板検査装置を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and each inspection probe is determined in advance while preventing breakage of a cable connecting the plurality of inspection probes, the probe holding portion, and the inspection probe. It is a main object to provide a substrate inspection apparatus that can be moved and inspected within a moving range.

上記目的を達成すべく請求項1記載の基板検査装置は、検査用プローブをそれぞれ保持すると共に互いにケーブルで接続された一対のプローブ保持部を検査対象の基板の表面に沿って移動させて当該基板に当該検査用プローブをプロービングさせるプロービング部と、当該プロービング部を制御する制御部と、前記プロービング部によってプロービングさせられた各検査用プローブを介して入出力する電気信号に基づいて前記基板に対する電気的検査を実行する検査部とを備えた基板検査装置であって、前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が予め決められた上限距離以上となる離反状態を検出する検出部を備え、前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、前記検出部による前記離反状態の検出結果に基づいて前記プロービング部を制御して、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が前記上限距離未満となる状態を維持させる。 In order to achieve the above object, the substrate inspection apparatus according to claim 1 holds the inspection probes and moves a pair of probe holders connected to each other by a cable along the surface of the substrate to be inspected. A probe for probing the probe for inspection, a controller for controlling the probe, and an electric signal to be input / output via each inspection probe probed by the probing unit. A substrate inspection apparatus including an inspection unit that performs an inspection, and detects a separation state in which a distance between each of the inspection probes held by each of the probe holding units is equal to or greater than a predetermined upper limit distance A detecting unit that performs the movement of the probe holding units along the surface of the substrate. The probing unit is controlled based on the detection result of the separation state by the detection unit, and the distance between the inspection probes held by the probe holding units is less than the upper limit distance. Let it be maintained.

また、請求項2記載の基板検査装置は、請求項1記載の基板検査装置において、前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離を前記上限距離よりも短く規定された規定距離以下に維持した状態で初期位置から目的位置に当該各プローブ保持部を移動させるための移動経路を特定すると共に、前記移動経路に沿った前記各プローブ保持部の移動中に当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が前記規定距離を超えたときには前記移動経路を修正して当該各プローブ保持部の移動を継続させ、前記移動経路に沿った前記各プローブ保持部の移動中に前記検出部によって前記離反状態が検出されたときには当該各プローブ保持部の移動を停止させる。   The substrate inspection apparatus according to claim 2 is the substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the control unit moves the probe holding units along the surface of the substrate. A movement path for moving each probe holding portion from the initial position to the target position while maintaining the distance between the inspection probes held by each of the inspection probes to be equal to or less than a specified distance shorter than the upper limit distance. And when the distance between the inspection probes held by the probe holders during the movement of the probe holders along the movement path exceeds the specified distance, the movement path And the movement of each probe holding part is continued, and the separation by the detection part during the movement of each probe holding part along the movement path. When the condition is detected to stop the movement of the respective probe holder.

また、請求項3記載の基板検査装置は、請求項1または2記載の基板検査装置において、前記検出部は、前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が予め決められた下限距離以下となる近接状態を検出可能に構成され、前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、前記検出部による前記近接状態の検出結果に基づいて前記プロービング部を制御して、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が前記下限距離を超える状態を維持させる。   The substrate inspection apparatus according to claim 3 is the substrate inspection apparatus according to claim 1 or 2, wherein the detection unit has a distance between the inspection probes held by the probe holding units in advance. A proximity state that is equal to or less than a determined lower limit distance is configured to be detected, and the control unit detects the proximity state by the detection unit when moving each probe holding unit along the surface of the substrate. The probing unit is controlled based on the above, and the state in which the distance between the inspection probes held by the probe holding units exceeds the lower limit distance is maintained.

また、請求項4記載の基板検査装置は、請求項1から3のいずれかに記載の基板検査装置において、前記検出部は、前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の第1方向に沿った距離が第1上限距離以上となる前記離反状態としての第1離反状態、および前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の前記第1方向に直交する第2方向に沿った距離が第2上限距離以上となる前記離反状態としての第2離反状態を検出可能に構成され、前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、前記検出部による前記第1離反状態および第2離反状態の検出結果に基づいて前記プロービング部を制御して、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の前記第1方向に沿った距離が前記第1上限距離未満でかつ当該各検査用プローブ間の前記第2方向に沿った距離が前記第2上限距離未満となる状態を維持させる。   Further, the substrate inspection apparatus according to claim 4 is the substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the detection unit is held between the inspection probes respectively held by the probe holding units. In the first direction between the inspection probes respectively held by the probe holding portions, and the first separation state as the separation state in which the distance along the first direction is not less than the first upper limit distance. The second separation state as the separation state in which the distance along the orthogonal second direction is equal to or greater than the second upper limit distance can be detected, and the control unit moves the probe holding units along the surface of the substrate. The probing unit is controlled based on the detection results of the first separation state and the second separation state by the detection unit, and the probe holding units respectively The distance between the inspection probes held in the first direction is less than the first upper limit distance, and the distance between the inspection probes in the second direction is less than the second upper limit distance. To maintain the state.

また、請求項5記載の基板検査装置は、請求項1から4のいずれかに記載の基板検査装置において、前記検出部は、前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間のA方向に沿った距離が第1下限距離以下となる前記近接状態としての第1近接状態、および前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の前記A方向に直交するB方向に沿った距離が第2下限距離以下となる前記近接状態としての第2近接状態を検出可能に構成され、前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、前記検出部による前記第1近接状態および第2近接状態の検出結果に基づいて前記プロービング部を制御して、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の前記A方向に沿った距離が前記第1下限距離を超えかつ当該各検査用プローブ間の前記B方向に沿った距離が前記第2下限距離を超える状態を維持させる。   The substrate inspection apparatus according to claim 5 is the substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the detection unit is held between the inspection probes respectively held by the probe holding units. The first proximity state as the proximity state in which the distance along the A direction is equal to or less than the first lower limit distance, and the A direction between the inspection probes respectively held by the probe holding portions. The second proximity state as the proximity state in which the distance along the B direction is equal to or less than the second lower limit distance can be detected, and the control unit moves the probe holding units along the surface of the substrate. In this case, the probing unit is controlled based on the detection results of the first proximity state and the second proximity state by the detection unit, and each probe holding unit holds the probe. The distance along the A direction between the inspection probes that exceeds the first lower limit distance, and the distance along the B direction between the inspection probes exceeds the second lower limit distance. Let

請求項1記載の基板検査装置では、制御部が、各プローブ保持部を基板の表面に沿って移動させる際に、検出部による離反状態の検出結果に基づいて各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ間の距離が上限距離未満となる状態を維持させる。このため、この基板検査装置によれば、例えば、各プローブ保持部間にシールド接続用のケーブルが配設されている場合において、ケーブルの長さ(または、ケーブルの長さよりもやや短い長さ)を予め決められた距離として規定することで、そのケーブルの長さを超えて各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ同士が離間するような移動を確実に防止することができる結果、ケーブルの破損、およびケーブルの端部が接続されているプローブ保持部や検査用プローブの破損を確実に防止しつつ、各検査用プローブを移動させて検査することができる。   In the substrate inspection apparatus according to claim 1, when the control unit moves each probe holding unit along the surface of the substrate, the control unit is held by each probe holding unit based on the detection result of the separated state by the detection unit. The state in which the distance between the inspection probes is less than the upper limit distance is maintained. For this reason, according to this board inspection apparatus, for example, when a cable for shield connection is provided between the probe holding portions, the length of the cable (or a length slightly shorter than the length of the cable) As a result of prescribing as a predetermined distance, it is possible to reliably prevent movement of each inspection probe held by each probe holding portion beyond the length of the cable. Each inspection probe can be moved and inspected while reliably preventing damage to the cable and damage to the probe holding portion and the inspection probe to which the end of the cable is connected.

また、請求項2記載の基板検査装置では、制御部が、各プローブ保持部を基板の表面に沿って移動させる際に、移動経路を特定すると共に、移動経路に沿った各プローブ保持部の移動中に各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ間の距離が、規定距離を超えたときには移動経路を修正して各プローブ保持部の移動を継続させ、移動経路に沿った各プローブ保持部の移動中に検出部によって離反状態が検出されたときには各プローブ保持部の移動を停止させる。このため、この基板検査装置によれば、各検査用プローブ間の距離が規定距離を超えた段階、つまり各プローブ保持部間にケーブルが配設されている場合において、そのケーブルが切断するまでにはまだ余裕がある段階では、移動経路を修正してプローブ保持部の移動を継続させ、各検査用プローブ間の距離が上限距離を超えた段階、つまりケーブルが切断するまでに余裕のない段階では、プローブ保持部の移動を直ちに停止させることができる。   In the substrate inspection apparatus according to claim 2, when the control unit moves each probe holding unit along the surface of the substrate, the control unit specifies a moving path and moves each probe holding unit along the moving path. When the distance between the probes for inspection held by each probe holding part exceeds the specified distance, the movement path is corrected and the movement of each probe holding part is continued, and each probe along the movement path is continued. When the detection unit detects a separation state during the movement of the holding unit, the movement of each probe holding unit is stopped. For this reason, according to this board inspection apparatus, when the distance between the probes for inspection exceeds the specified distance, that is, when the cable is disposed between the probe holding portions, the cable is disconnected. At the stage where there is still a margin, the movement path is corrected and the movement of the probe holding unit is continued, and the distance between each inspection probe exceeds the upper limit distance, that is, the stage where there is no margin before the cable is cut. The movement of the probe holder can be immediately stopped.

また、請求項3記載の基板検査装置では、検出部が、各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ間の距離が下限距離以下となる近接状態を検出可能に構成され、制御部が、各プローブ保持部を基板の表面に沿って移動させる際に、検出部による検出結果に基づいて各検査用プローブ間の距離が下限距離を超える状態を維持させる。このため、この基板検査装置によれば、各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ同士や各プローブ保持部同士が接触するような移動を確実に防止することができる結果、互いの接触に起因する検査用プローブやプローブ保持部の破損を確実に防止することができる。   In the substrate inspection apparatus according to claim 3, the detection unit is configured to be able to detect a proximity state in which the distance between the inspection probes held by the probe holding units is equal to or less than a lower limit distance, and the control unit However, when each probe holding part is moved along the surface of the substrate, the distance between the inspection probes is maintained in a state exceeding the lower limit distance based on the detection result by the detection part. For this reason, according to this board | substrate inspection apparatus, as a result which can prevent reliably the movement which each probe for each holding | maintenance by each probe holding part and each probe holding part contact, It is possible to reliably prevent the inspection probe and the probe holder from being damaged due to the contact.

また、請求項4記載の基板検査装置では、検出部が、各検査用プローブ間の第1方向に沿った距離が第1上限距離以上となる第1離反状態、および各検査用プローブ間の第2方向に沿った距離が第2上限距離以上となる第2離反状態を検出可能に構成され、制御部が、各プローブ保持部を基板の表面に沿って移動させる際に、検出部による検出結果に基づいて各検査用プローブ間の第1方向に沿った距離が第1上限距離未満でかつ各検査用プローブ間の第2方向に沿った距離が第2上限距離未満となる状態を維持させる。このため、この基板検査装置によれば、例えば、第1方向についての検出を行う光電センサ、および第2方向についての検出を行う光電センサの2つのセンサを備えた簡易な構成の検出部で第1離反状態および第2離反状態を確実に検出することができる結果、基板検査装置のコストを低減しつつ、各プローブ保持部間に配設されているケーブル、プローブ保持部および検査用プローブの破損を確実に防止することができる。   In the substrate inspection apparatus according to claim 4, the detection unit includes a first separation state in which the distance along the first direction between the inspection probes is equal to or greater than the first upper limit distance, and the first separation state between the inspection probes. The second separation state in which the distance along the two directions is equal to or greater than the second upper limit distance can be detected, and when the control unit moves each probe holding unit along the surface of the substrate, the detection result by the detection unit The distance along the first direction between the inspection probes is less than the first upper limit distance and the distance between the inspection probes along the second direction is less than the second upper limit distance. Therefore, according to this substrate inspection apparatus, for example, a detection unit having a simple configuration including two sensors, that is, a photoelectric sensor that performs detection in the first direction and a photoelectric sensor that performs detection in the second direction. As a result of reliably detecting the first separated state and the second separated state, the cable, the probe holding portion, and the inspection probe disposed between the probe holding portions are damaged while reducing the cost of the substrate inspection apparatus. Can be reliably prevented.

また、請求項5記載の基板検査装置では、検出部が、各検査用プローブ間のA方向に沿った距離が第1下限距離以下となる第1近接状態、および各検査用プローブ間のB方向に沿った距離が第2下限距離以下となる第2近接状態を検出可能に構成され、制御部が、各プローブ保持部を基板の表面に沿って移動させる際に、検出部による検出結果に基づいて
各検査用プローブ間のA方向に沿った距離が第1下限距離を超えかつ各検査用プローブ間のB方向に沿った距離が第2下限距離Lb2を超える状態を維持させる。このため、この基板検査装置によれば、A方向についての検出を行う光電センサ、およびB方向についての検出を行う光電センサの2つのセンサを備えた簡易な構成の検出部で第1近接状態および第2近接状態を確実に検出することができる結果、基板検査装置のコストを低減しつつ、互いの接触に起因する検査用プローブやプローブ保持部の破損を確実に防止することができる。
In the substrate inspection apparatus according to claim 5, the detection unit includes a first proximity state in which a distance along the A direction between the inspection probes is equal to or less than a first lower limit distance, and a B direction between the inspection probes. Is configured to be able to detect the second proximity state in which the distance along the distance is equal to or less than the second lower limit distance, and when the control unit moves each probe holding unit along the surface of the substrate, based on the detection result by the detection unit The distance along the A direction between the inspection probes exceeds the first lower limit distance, and the distance along the B direction between the inspection probes exceeds the second lower limit distance Lb2. Therefore, according to this substrate inspection apparatus, the first proximity state and the detection unit having a simple configuration including two sensors, that is, a photoelectric sensor that performs detection in the A direction and a photoelectric sensor that performs detection in the B direction, As a result of reliably detecting the second proximity state, it is possible to reliably prevent the inspection probe and the probe holding portion from being damaged due to mutual contact while reducing the cost of the substrate inspection apparatus.

基板検査装置1の構成を示す構成図である。1 is a configuration diagram showing a configuration of a substrate inspection apparatus 1. FIG. 基板保持部2およびプロービング部3の平面図である。3 is a plan view of a substrate holding unit 2 and a probing unit 3. FIG. 検出部4および第1移動機構11の構成を示す構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram illustrating configurations of a detection unit 4 and a first moving mechanism 11. 第1許容範囲R1および第2許容範囲R2を示す図である。It is a figure which shows 1st tolerance | permissible_range R1 and 2nd tolerance | permissible_range R2. プロービング制御処理50のフローチャートである。5 is a flowchart of a probing control process 50. プロービング制御処理50を説明する第1の説明図である。It is a 1st explanatory view explaining probing control processing 50. プロービング制御処理50を説明する第2の説明図である。It is the 2nd explanatory view explaining probing control processing 50. プロービング部3の構成および動作を説明する説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating the configuration and operation of a probing unit 3.

以下、本発明に係る基板検査装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。   Embodiments of a substrate inspection apparatus according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

最初に、基板検査装置の一例としての図1に示す基板検査装置1の構成について説明する。基板検査装置1は、同図に示すように、基板保持部2、プロービング部3、検出部4、検査部5、操作部6、記憶部7、表示部8および制御部9を備えて、例えば、図2に示す基板100に対する電気的検査を実行可能に構成されている。   Initially, the structure of the board | substrate inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 as an example of a board | substrate inspection apparatus is demonstrated. As shown in the figure, the substrate inspection apparatus 1 includes a substrate holding unit 2, a probing unit 3, a detection unit 4, an inspection unit 5, an operation unit 6, a storage unit 7, a display unit 8, and a control unit 9, for example. 2 is configured to be able to perform an electrical inspection on the substrate 100 shown in FIG.

ここで、基板100は、一例として、図2に示すように、検査の終了後に互いに分離される複数(この例では、24個)のピース101を有する多面取りの基板であって、全体として略長方形に形成されている。   Here, as an example, as shown in FIG. 2, the substrate 100 is a multi-sided substrate having a plurality of (in this example, 24) pieces 101 separated from each other after the inspection is completed, and is generally abbreviated as a whole. It is formed in a rectangle.

基板保持部2は、基板100を載置させる載置台2a(図2参照)を備えて構成されている。この場合、載置台2aは、一例として、載置された基板100を吸着して保持可能に構成されている。   The substrate holding unit 2 includes a mounting table 2a (see FIG. 2) on which the substrate 100 is mounted. In this case, the mounting table 2a is configured to be able to suck and hold the mounted substrate 100 as an example.

プロービング部3は、図1,2に示すように、第1移動機構11、複数(この例では2つ)の第2移動機構12a,12b(以下、区別しないときには「第2移動機構12」ともいう)、および第2移動機構12と同数(この例では2つ)のプローブ保持部13a,13b(以下、区別しないときには「プローブ保持部13」ともいう)を備え、プローブ保持部13a,13bによってそれぞれ保持されている検査用プローブ41,41の先端部を基板100上のプロービングポイントに接触(プロービング)させるプロービング処理を実行可能に構成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the probing unit 3 includes a first moving mechanism 11, a plurality (two in this example) of second moving mechanisms 12 a and 12 b (hereinafter referred to as “second moving mechanism 12” unless otherwise distinguished). And the same number (two in this example) of probe holding portions 13a and 13b (hereinafter also referred to as “probe holding portion 13” when not distinguished), and the probe holding portions 13a and 13b. A probing process in which the tip portions of the inspection probes 41 and 41 held therein are brought into contact (probing) with a probing point on the substrate 100 is configured to be executable.

第1移動機構11は、図2に示すように、基板保持部2の上方に配置され、基板保持部2によって保持されている基板100の表面(つまり、基板保持部2における載置台の載置面)に沿って(以下、この面に沿った方向を「XY方向」ともいう)各プローブ保持部13を移動可能に構成されている。具体的には、第1移動機構11は、一例として、同図に示すように、ガイドレール21a〜21d(以下、区別しないときには「ガイドレール21」ともいう)、およびスライダ22a〜22f(以下、区別しないときには「スライダ22」ともいう)、並びに図3に示す第1X軸モータ23a、第1Y軸モータ23b、第2X軸モータ23cおよび第2Y軸モータ23dを備えて構成されている。   As shown in FIG. 2, the first moving mechanism 11 is disposed above the substrate holding unit 2, and the surface of the substrate 100 held by the substrate holding unit 2 (that is, placing the mounting table on the substrate holding unit 2). Each probe holding portion 13 is configured to be movable along the plane (hereinafter, the direction along the plane is also referred to as “XY direction”). Specifically, as an example, the first moving mechanism 11 includes guide rails 21a to 21d (hereinafter, also referred to as “guide rail 21” when not distinguished) and sliders 22a to 22f (hereinafter, referred to as the figure). When not distinguished, it is also referred to as “slider 22”), and the first X-axis motor 23a, the first Y-axis motor 23b, the second X-axis motor 23c, and the second Y-axis motor 23d shown in FIG.

ガイドレール21a,21bは、図2に示すように、平行に配置されている。スライダ22a,22bは、ガイドレール21aの長さ方向(第1方向およびA方向に相当し、同図に示すX方向)に沿ってスライド可能にガイドレール21aに配設され、スライダ22c,22dは、ガイドレール21bの長さ方向(X方向)に沿ってスライド可能にガイドレール21bに配設されている。ガイドレール21cは、ガイドレール21a,21bに対して直交するようにして、その両端部がスライダ22a,22cに固定され、ガイドレール21dは、ガイドレール21a,21bに対して直交するようにして、その両端部がスライダ22b,22dに固定されている。   As shown in FIG. 2, the guide rails 21a and 21b are arranged in parallel. The sliders 22a and 22b are disposed on the guide rail 21a so as to be slidable along the length direction of the guide rail 21a (corresponding to the first direction and the A direction and the X direction shown in the figure). The sliders 22c and 22d are The guide rail 21b is slidably disposed along the length direction (X direction) of the guide rail 21b. Both ends of the guide rail 21c are fixed to the sliders 22a and 22c so as to be orthogonal to the guide rails 21a and 21b, and the guide rail 21d is orthogonal to the guide rails 21a and 21b. Both ends thereof are fixed to the sliders 22b and 22d.

スライダ22eは、図2に示すように、ガイドレール21cの長さ方向(第1方向に直交する第2方向、およびA方向に直交するB方向に相当し、同図に示すY方向)に沿ってスライド可能にガイドレール21cに配設され、スライダ22fは、ガイドレール21dの長さ方向(Y方向)に沿ってスライド可能にガイドレール21dに配設されている。この場合、スライダ22a,22cは、第1X軸モータ23a(図3参照)によって駆動され、スライダ22b,22dは、第2X軸モータ23c(同図参照)によって駆動されて、各々が配設されているガイドレール21に沿ってスライドさせられる。また、スライダ22eは、第1Y軸モータ23b(同図参照)によって駆動され、スライダ22fは、第2Y軸モータ23d(同図参照)によって駆動されて、各々が配設されているガイドレール21に沿ってスライドさせられる。   As shown in FIG. 2, the slider 22e is along the length direction of the guide rail 21c (the second direction perpendicular to the first direction and the B direction perpendicular to the A direction, and the Y direction shown in FIG. 2). The slider 22f is disposed on the guide rail 21d so as to be slidable along the length direction (Y direction) of the guide rail 21d. In this case, the sliders 22a and 22c are driven by a first X-axis motor 23a (see FIG. 3), and the sliders 22b and 22d are driven by a second X-axis motor 23c (see FIG. 3), and each is disposed. It is slid along the guide rail 21 that is present. The slider 22e is driven by a first Y-axis motor 23b (see the same figure), and the slider 22f is driven by a second Y-axis motor 23d (see the same figure) to the guide rail 21 on which each is disposed. Slide along.

第2移動機構12aは、図2に示すように、第1移動機構11のスライダ22eの上に配設され、プローブ保持部13aを上下方向(XY方向に直交するZ方向)に移動させる。また、第2移動機構12bは、同図に示すように、第1移動機構11のスライダ22fの上に配設され、プローブ保持部13bを上下方向に移動させる。   As shown in FIG. 2, the second moving mechanism 12a is disposed on the slider 22e of the first moving mechanism 11, and moves the probe holding portion 13a in the vertical direction (Z direction orthogonal to the XY direction). Further, as shown in the figure, the second moving mechanism 12b is disposed on the slider 22f of the first moving mechanism 11, and moves the probe holding portion 13b in the vertical direction.

各プローブ保持部13a,13bは、検査用プローブ41を保持可能にそれぞれ構成され、第2移動機構12によって上下方向に移動させられる。また、図2に示すように、各プローブ保持部13a,13bには、ケーブル42が架け渡されている。このケーブル42は、各プローブ保持部13a,13bにそれぞれ保持される各検査用プローブ41に設けられている図外のシールド同士を電気的に接続するためのケーブルであって、両端部がプローブ保持部13a,13bを介して各検査用プローブ41の端部にそれぞれ接続されている。   Each of the probe holding portions 13a and 13b is configured to be able to hold the inspection probe 41 and is moved in the vertical direction by the second moving mechanism 12. Further, as shown in FIG. 2, a cable 42 is bridged between the probe holding portions 13a and 13b. This cable 42 is a cable for electrically connecting shields (not shown) provided in each probe 41 to be held by each probe holding portion 13a, 13b. It is connected to the end of each inspection probe 41 via the parts 13a and 13b.

ここで、図2に示す多面取りの基板100における各ピース101に対する電気的検査を行う際には、2つの検査用プローブ41,41間の最大の離間距離をピース101の対角線の長さ程度に規定したとしても、各ピース101上の任意の2つのプロービングポイントに対して各検査用プローブ41,41をそれぞれプロービングさせることができる。一方、ケーブル42自体によるノイズの拾い込みを低減するため、なるべく短いケーブル42を用いるのが好ましい。このため、この例では、その長さLdが基板100のピース101の対角線の長さよりもやや長いケーブル42を用いている。   Here, when an electrical inspection is performed on each piece 101 in the multi-chamfer substrate 100 shown in FIG. 2, the maximum separation distance between the two inspection probes 41, 41 is set to the length of the diagonal line of the piece 101. Even if prescribed, each inspection probe 41, 41 can be probed to any two probing points on each piece 101. On the other hand, it is preferable to use a cable 42 that is as short as possible in order to reduce noise pick-up by the cable 42 itself. For this reason, in this example, a cable 42 having a length Ld slightly longer than the length of the diagonal line of the piece 101 of the substrate 100 is used.

検出部4は、後述する第1離反状態および第2離反状態、並びに後述する第1近接状態および第2近接状態を検出可能に構成されている。具体的には、検出部4は、図2に示すように、一例として、アーム31a〜31d、光電センサ32a〜32d(図3も参照:以下、区別しないときには「光電センサ32」ともいう)および反射板33a,33b(以下、区別しないときには「反射板33」ともいう)を備えて構成されている。   The detection unit 4 is configured to be able to detect a first separation state and a second separation state, which will be described later, and a first proximity state and a second proximity state, which will be described later. Specifically, as shown in FIG. 2, the detection unit 4 includes, as an example, arms 31a to 31d, photoelectric sensors 32a to 32d (see also FIG. 3; hereinafter referred to as “photoelectric sensor 32” when not distinguished) and Reflecting plates 33a and 33b (hereinafter also referred to as “reflecting plate 33” when not distinguished) are configured.

この場合、図2に示すように、アーム31aはスライダ22aに取り付けられ、アーム31bは、スライダ22bに取り付けられている。また、アーム31cは、スライダ22eに取り付けられ、アーム31dは、スライダ22fに取り付けられている。また、光電センサ32a,32bは、アーム31aに取り付けられ、光電センサ32c,32dは、アーム31cに取り付けられている。また、反射板33aは、アーム31bに取り付けられ、反射板33bは、アーム31dに取り付けられている。   In this case, as shown in FIG. 2, the arm 31a is attached to the slider 22a, and the arm 31b is attached to the slider 22b. The arm 31c is attached to the slider 22e, and the arm 31d is attached to the slider 22f. The photoelectric sensors 32a and 32b are attached to the arm 31a, and the photoelectric sensors 32c and 32d are attached to the arm 31c. The reflection plate 33a is attached to the arm 31b, and the reflection plate 33b is attached to the arm 31d.

また、各光電センサ32は、一例として、反射型の光電センサであって、検出用のセンサ光を照射してその反射光の有無(強弱)を検出する。この場合、光電センサ32の正面(対向位置)に反射板33が位置しているときには反射光が強く、光電センサ32の正面に反射板33が位置していないときには反射光が弱いため、光電センサ32は、反射光の強弱によって正面に反射板33が位置しているか否かを検出する。なお、以下の説明において、正面に反射板33が位置していることを光電センサ32が検出している状態を「第1検出状態」ともいい、正面に反射板33が位置していないことを検出している状態を「第2検出状態」ともいう。   Each photoelectric sensor 32 is, for example, a reflective photoelectric sensor, and detects the presence or absence (strongness) of the reflected light by irradiating detection sensor light. In this case, the reflected light is strong when the reflecting plate 33 is located in front of the photoelectric sensor 32 (opposite position), and the reflected light is weak when the reflecting plate 33 is not located in front of the photoelectric sensor 32. 32 detects whether the reflecting plate 33 is located in front by the strength of reflected light. In the following description, a state in which the photoelectric sensor 32 detects that the reflector 33 is located on the front is also referred to as a “first detection state”, and that the reflector 33 is not located on the front. The detected state is also referred to as a “second detection state”.

また、この検出部4では、光電センサ32a,32bと反射板33aとにより、各プローブ保持部13a,13bによってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41,41間のX方向に沿った第1離反状態および第1近接状態が検出され、光電センサ32c,32dと反射板33bとにより、各プローブ保持部13a,13bによってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41,41間のY方向に沿った第2離反状態および第2近接状態が検出される。   Moreover, in this detection part 4, the 1st separation along the X direction between each test | inspection probe 41 and 41 hold | maintained by each probe holding part 13a and 13b by photoelectric sensor 32a, 32b and the reflecting plate 33a, respectively. The first proximity state is detected, and the photoelectric sensors 32c and 32d and the reflection plate 33b are used to detect the first and second probes along the Y direction between the inspection probes 41 and 41 held by the probe holding portions 13a and 13b, respectively. Two separation states and a second proximity state are detected.

具体的には、図2に示すように、各プローブ保持部13a,13bによってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41,41間のX方向に沿った第1距離Lm1が第1上限距離La1以上のときには、光電センサ32aが第2検出状態となり、これによって第1距離Lm1が第1上限距離La1以上となる第1離反状態が検出される。また、同図に示すように、各プローブ保持部13a,13bによってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41,41間のY方向に沿った第2距離Lm2が第2上限距離La2以上のときには、光電センサ32cが第2検出状態となり、これによって第2距離Lm2が第2上限距離La2以上となる第2離反状態が検出される。   Specifically, as shown in FIG. 2, the first distance Lm1 along the X direction between the inspection probes 41 and 41 held by the probe holders 13a and 13b is equal to or greater than the first upper limit distance La1. In this case, the photoelectric sensor 32a is in the second detection state, whereby the first separation state in which the first distance Lm1 is equal to or greater than the first upper limit distance La1 is detected. As shown in the figure, when the second distance Lm2 along the Y direction between the inspection probes 41 and 41 held by the probe holding portions 13a and 13b is equal to or greater than the second upper limit distance La2, The photoelectric sensor 32c enters the second detection state, thereby detecting a second separation state in which the second distance Lm2 is equal to or greater than the second upper limit distance La2.

また、図8に示すように、各プローブ保持部13a,13bによってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41,41間の第1距離Lm1が第1下限距離Lb1以下のときには、光電センサ32bが第1検出状態となり、これによって第1距離Lm1が第1下限距離Lb1以下となる第1近接状態が検出される。また、同図に示すように、各プローブ保持部13a,13bによってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41,41間の第2距離Lm2が第2下限距離Lb2以下のときには、光電センサ32dが第1検出状態となり、これによって第2距離Lm2が第2下限距離Lb2以下となる第2近接状態が検出される。   As shown in FIG. 8, when the first distance Lm1 between the inspection probes 41 and 41 held by the probe holders 13a and 13b is equal to or less than the first lower limit distance Lb1, the photoelectric sensor 32b is 1 detection state, whereby the first proximity state in which the first distance Lm1 is equal to or less than the first lower limit distance Lb1 is detected. As shown in the figure, when the second distance Lm2 between the inspection probes 41 and 41 held by the probe holders 13a and 13b is equal to or smaller than the second lower limit distance Lb2, the photoelectric sensor 32d is 1 detection state, whereby the second proximity state in which the second distance Lm2 is equal to or less than the second lower limit distance Lb2 is detected.

この場合、第1上限距離La1および第2上限距離La2は、ケーブル42が架け渡されている各プローブ保持部13a,13b同士(つまり、各プローブ保持部13a,13bによってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41,41同士)をケーブル42の長さLd以上に離間させないために規定される距離であって、一例として、ケーブル42の長さLdに対して1/√2を乗じ、さらに80%程度の安全率を乗じた距離が第1上限距離La1および第2上限距離La2として予め決められている。また、第1下限距離Lb1および第2下限距離Lb2は、各プローブ保持部13a,13bにそれぞれ保持されている各検査用プローブ41,41同士を接触させないために規定される距離であって、各プローブ保持部13a,13bの形状や検査用プローブ41の長さ等に基づいて予め決められている。なお、以下の説明において、第1離反状態および第2離反状態を区別しないときには「離反状態」ともいい、第1近接状態および第2近接状態を区別しないときには「近接状態」ともいう。また、第1距離Lm1および第2距離Lm2を区別しないときには「距離Lm」ともいう。さらに、第1上限距離La1および第2上限距離La2を区別しないときには「上限距離La」ともいい、第1下限距離Lb1および第2下限距離Lb2を区別しないときには「下限距離Lb」ともいう。   In this case, the first upper limit distance La1 and the second upper limit distance La2 are the probe holding portions 13a and 13b over which the cable 42 is bridged (that is, the inspections held by the probe holding portions 13a and 13b, respectively). For example, the distance Ld of the cable 42 is multiplied by 1 / √2 and further 80%. The distance multiplied by the safety factor is determined in advance as the first upper limit distance La1 and the second upper limit distance La2. Further, the first lower limit distance Lb1 and the second lower limit distance Lb2 are distances that are defined so that the inspection probes 41 and 41 held by the probe holding portions 13a and 13b are not in contact with each other, It is determined in advance based on the shape of the probe holding portions 13a and 13b, the length of the inspection probe 41, and the like. In the following description, when the first separated state and the second separated state are not distinguished from each other, they are also referred to as “separated states”, and when the first adjacent state and the second separated states are not distinguished from each other, they are also referred to as “closed states”. Further, when the first distance Lm1 and the second distance Lm2 are not distinguished, they are also referred to as “distance Lm”. Further, when the first upper limit distance La1 and the second upper limit distance La2 are not distinguished, they are also referred to as “upper limit distance La”, and when the first lower limit distance Lb1 and the second lower limit distance Lb2 are not distinguished, they are also referred to as “lower limit distance Lb”.

検査部5は、制御部9の制御に従い、基板100にプロービングさせられた検査用プローブ41を介して入力した電気信号Siに基づき、基板100に対する所定の電気的検査を実行する。操作部6は、各種の操作スイッチを備えて構成され、これらの操作スイッチが操作されたときに操作信号を出力する。   The inspection unit 5 performs a predetermined electrical inspection on the substrate 100 based on the electrical signal Si input through the inspection probe 41 probed on the substrate 100 under the control of the control unit 9. The operation unit 6 includes various operation switches, and outputs an operation signal when these operation switches are operated.

記憶部7は、基板100についてのプロービング用データDpを記憶する。この場合、プロービング用データDpには、基板100における検査用プローブ41をプロービングさせるべきプロービングポイントの位置(XY座標)を示す情報等が含まれている。また、記憶部7は、第1上限距離La1よりも短く規定された第1規定距離Lc1(図4参照)、および第2上限距離La2よりも短く規定された第2規定距離Lc2(同図参照:以下、第1規定距離Lc1および第2規定距離Lc2を区別しないときには「規定距離Lc」ともいう)を示す距離データDd1を記憶する。この場合、第1規定距離Lc1および第2規定距離Lc2は、XY方向に沿ったプローブ保持部13の移動を開始させるか否かの判別や、プローブ保持部13を移動させる移動経路C(図6,7参照)を変更するか否かの判別に用いられる。さらに、記憶部7は、第1下限距離Lb1および第2下限距離Lb2を示す距離データDd2を記憶する。表示部8は、制御部9の制御に従って検査結果を表示する。   The storage unit 7 stores probing data Dp for the substrate 100. In this case, the probing data Dp includes information indicating the position (XY coordinate) of the probing point at which the inspection probe 41 on the substrate 100 is to be probed. The storage unit 7 also includes a first specified distance Lc1 (see FIG. 4) defined shorter than the first upper limit distance La1 and a second specified distance Lc2 defined shorter than the second upper limit distance La2 (see FIG. 4). In the following, distance data Dd1 indicating the first specified distance Lc1 and the second specified distance Lc2 is also stored. In this case, the first specified distance Lc1 and the second specified distance Lc2 are used to determine whether or not to start the movement of the probe holding unit 13 along the XY direction, and to move the probe holding unit 13 along the moving path C (FIG. 6). , 7) is used to determine whether or not to change. Further, the storage unit 7 stores distance data Dd2 indicating the first lower limit distance Lb1 and the second lower limit distance Lb2. The display unit 8 displays the inspection result according to the control of the control unit 9.

制御部9は、操作部6から出力される操作信号に従い、基板検査装置1を構成する各部を制御する。また、制御部9は、図5に示すプロービング制御処理50を実行し、プロービング部3によるプロービングを制御して、各プローブ保持部13を移動させる。制御部9は、このプロービング制御処理50において、図7に示すように、初期位置P1から目的位置P2に向けて、XY方向に沿って各プローブ保持部13を移動させるための移動経路Cを、記憶部7に記憶されているプロービング用データDpに基づいて特定する。この場合、制御部9、各プローブ保持部13によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41間の距離Lmが、第1規定距離Lc1、第2規定距離Lc2、第1下限距離Lb1および第2下限距離Lb2によって規定される第1許容範囲R1(図4に網掛けで示す範囲)内となる状態を維持しつつ各プローブ保持部13を移動させるようにこの移動経路Cを特定する。   The control unit 9 controls each unit constituting the substrate inspection apparatus 1 according to the operation signal output from the operation unit 6. Moreover, the control part 9 performs the probing control process 50 shown in FIG. 5, controls the probing by the probing part 3, and moves each probe holding part 13. FIG. In the probing control process 50, the control unit 9, as shown in FIG. 7, sets a movement path C for moving each probe holding unit 13 along the XY direction from the initial position P1 toward the target position P2. It specifies based on the probing data Dp stored in the storage unit 7. In this case, the distance Lm between the inspection probes 41 held by the control unit 9 and each probe holding unit 13 is the first specified distance Lc1, the second specified distance Lc2, the first lower limit distance Lb1, and the second lower limit. This movement path C is specified so that each probe holding part 13 is moved while maintaining the state within the first allowable range R1 (range shown by hatching in FIG. 4) defined by the distance Lb2.

また、制御部9は、移動経路Cに沿った各プローブ保持部13の移動中において、各検査用プローブ41間の距離Lmが第1許容範囲R1外となったときには、移動経路Cを修正して各プローブ保持部13の移動を継続させる。さらに、制御部9は、移動経路Cに沿った各プローブ保持部13の移動中において、検出部4によって離反状態が検出されたとき、つまり、各検査用プローブ41間の距離Lmが、第1上限距離La1、第2上限距離La2、第1下限距離Lb1および第2下限距離Lb2によって規定される第2許容範囲R2(図4に一点鎖線で示す範囲)外となったときには、各プローブ保持部13の移動を停止させる。なお、同図において、各検査用プローブ41同士の離反によってケーブル42が切断する限界を示す限界範囲R3を破線で示す。   In addition, the control unit 9 corrects the movement path C when the distance Lm between the inspection probes 41 is outside the first allowable range R1 during movement of the probe holding units 13 along the movement path C. Then, the movement of each probe holding part 13 is continued. Furthermore, the control unit 9 determines that the distance Lm between the inspection probes 41 is the first when the separation state is detected by the detection unit 4 during the movement of the probe holding units 13 along the movement path C, that is, Each probe holding portion when it is outside the second allowable range R2 defined by the upper limit distance La1, the second upper limit distance La2, the first lower limit distance Lb1 and the second lower limit distance Lb2 (the range indicated by the one-dot chain line in FIG. 4) The movement of 13 is stopped. In the drawing, a limit range R3 indicating a limit at which the cable 42 is cut by the separation of the inspection probes 41 is indicated by a broken line.

次に、基板検査装置1を用いて、図2に示す基板100に対する電気的検査を行う方法、およびその際の基板検査装置1における各部の動作について、添付図面を参照して説明する。なお、記憶部7には、基板100についてのプロービング用データDp、第1規定距離Lc1および第2規定距離Lc2を示す距離データDd1、並びに第1下限距離Lb1および第2下限距離Lb2を示す距離データDd2が予め記憶されているものとする。   Next, a method of performing an electrical inspection on the substrate 100 shown in FIG. 2 using the substrate inspection apparatus 1 and the operation of each part in the substrate inspection apparatus 1 at that time will be described with reference to the accompanying drawings. In the storage unit 7, the probing data Dp for the substrate 100, the distance data Dd1 indicating the first specified distance Lc1 and the second specified distance Lc2, and the distance data indicating the first lower limit distance Lb1 and the second lower limit distance Lb2. It is assumed that Dd2 is stored in advance.

まず、基板100を基板保持部2の載置台2aに載置して保持させる。続いて、操作部6を操作して、検査の開始を指示する。この際に、制御部9は、操作部6から出力された操作信号に従い、記憶部7からプロービング用データDpおよび距離データDd1,Dd2を読み出す。   First, the substrate 100 is placed and held on the mounting table 2 a of the substrate holding unit 2. Subsequently, the operation unit 6 is operated to instruct the start of the inspection. At this time, the control unit 9 reads the probing data Dp and the distance data Dd1 and Dd2 from the storage unit 7 in accordance with the operation signal output from the operation unit 6.

次いで、制御部9は、図5に示すプロービング制御処理50を実行する。このプロービング制御処理50では、制御部9は、プロービング用データDpに基づいて最初に検査用プローブ41,41をそれぞれプロービングさせるべき2つのプロービングポイントの位置(XY座標)を特定する(ステップ51)。続いて、制御部9は、特定したXY座標に基づき、2つのプロービングポイント間のX方向に沿った距離およびY方向に沿った距離、つまり、その2つのプロービングポイントに検査用プローブ41,41をそれぞれプロービングさせたと仮定したときの第1距離Lm1および第2距離Lm2を算出する(ステップ52)。   Next, the controller 9 executes a probing control process 50 shown in FIG. In the probing control process 50, the control unit 9 specifies the positions (XY coordinates) of two probing points at which the inspection probes 41 and 41 should first be probed based on the probing data Dp (step 51). Subsequently, based on the specified XY coordinates, the control unit 9 sets the distance between the two probing points along the X direction and the distance along the Y direction, that is, the inspection probes 41 and 41 at the two probing points. A first distance Lm1 and a second distance Lm2 are calculated when it is assumed that the probing is performed (step 52).

次いで、制御部9は、距離データDd1,Dd2によって示される第1規定距離Lc1、第2規定距離Lc2、第1下限距離Lb1および第2下限距離Lb2によって規定される第1許容範囲R1(図4参照)と、算出した第1距離Lm1および第2距離Lm2とを比較して、第1距離Lm1および第2距離Lm2(距離Lm)が第1許容範囲R1内か否かを判別する(ステップ53)。   Next, the controller 9 controls the first allowable range R1 defined by the first specified distance Lc1, the second specified distance Lc2, the first lower limit distance Lb1 and the second lower limit distance Lb2 indicated by the distance data Dd1 and Dd2 (FIG. 4). Compare the calculated first distance Lm1 and second distance Lm2 with each other, and determine whether the first distance Lm1 and the second distance Lm2 (distance Lm) are within the first allowable range R1 (step 53). ).

制御部9は、上記したステップ53において、第1距離Lm1および第2距離Lm2の双方(距離Lm)が第1許容範囲R1内であると判別したときには、続いて、上記した第1離反状態、第2離反状態、第1近接状態および第2近接状態のいずれか(離反状態または近接状態)が検出部4によって検出されたか否か、つまり、距離Lmが、第1上限距離La1、第2上限距離La2、第1下限距離Lb1および第2下限距離Lb2によって規定される第2許容範囲R2(図4参照)内か否かを判別する(ステップ54)。   When the control unit 9 determines that both the first distance Lm1 and the second distance Lm2 (distance Lm) are within the first allowable range R1 in step 53 described above, the control unit 9 continues to the first separation state described above, Whether any one of the second separation state, the first proximity state, and the second proximity state (separation state or proximity state) has been detected by the detection unit 4, that is, the distance Lm is the first upper limit distance La1 and the second upper limit. It is determined whether or not it is within the second allowable range R2 (see FIG. 4) defined by the distance La2, the first lower limit distance Lb1, and the second lower limit distance Lb2 (step 54).

制御部9は、上記したステップ54において、距離Lmが第2許容範囲R2内であると判別したときには、図7に示すように、各プローブ保持部13の初期位置P1から目的位置P2(ステップ51において特定したXY座標であってプロービングポイントの上方の位置)に向けて、各検査用プローブ41間の距離Lmを第1許容範囲R1内に維持した状態でプローブ保持部13を移動させるための移動経路Cを特定する(ステップ55)。次いで、制御部9は、プロービング部3の第1移動機構11に対して、特定した移動経路Cに沿って各プローブ保持部13a,13bを移動させる移動処理の開始を指示する(ステップ56)。なお、プロービング制御処理50におけるプローブ保持部13a,13b双方に関する説明では、以下、「プローブ保持部13a,13b」を「プローブ保持部13」としても説明する。   When the controller 9 determines that the distance Lm is within the second allowable range R2 in the above-described step 54, as shown in FIG. 7, the controller 9 starts from the initial position P1 of each probe holder 13 to the target position P2 (step 51). To move the probe holding unit 13 in a state in which the distance Lm between the inspection probes 41 is maintained within the first allowable range R1 toward the XY coordinates specified in (1) above the probing point. The route C is specified (step 55). Next, the control unit 9 instructs the first moving mechanism 11 of the probing unit 3 to start moving processing for moving the probe holding units 13a and 13b along the specified moving path C (step 56). In the description regarding both the probe holding portions 13a and 13b in the probing control process 50, hereinafter, the “probe holding portions 13a and 13b” will be described as “probe holding portion 13”.

次いで、制御部9は、プローブ保持部13の移動中に、距離Lmが、第2許容範囲R2内か否か(離反状態または近接状態が検出部4によって検出されているか否か)を判別する(ステップ57)。制御部9は、このステップ57において、距離Lmが第2許容範囲R2内であると判別したときには、移動中の検査用プローブ41のXY座標を算出し(ステップ58)、続いて算出したXY座標に基づいて距離Lmが第1許容範囲R1内か否かを判別する(ステップ59)。   Next, the control unit 9 determines whether the distance Lm is within the second allowable range R2 (whether the separation state or the proximity state is detected by the detection unit 4) while the probe holding unit 13 is moving. (Step 57). When it is determined in step 57 that the distance Lm is within the second allowable range R2, the control unit 9 calculates the XY coordinates of the moving inspection probe 41 (step 58), and subsequently calculates the XY coordinates. Based on the above, it is determined whether or not the distance Lm is within the first allowable range R1 (step 59).

制御部9は、上記したステップ59において、距離Lmが第1許容範囲R1内であると判別したときには、続いて、検査用プローブ41のXY座標とプロービングポイントのXY座標とを比較し、検査用プローブ41がプロービングポイントの上方に到達したか否かを判別する(ステップ60)。制御部9は、このステップ60において、検査用プローブ41がプロービングポイントの上方に到達していないと判別したときには、ステップ57を実行する。つまり、制御部9は、検査用プローブ41がプロービングポイントの上方に到達するまで、ステップ57〜60を繰り返して実行する。   When the control unit 9 determines that the distance Lm is within the first allowable range R1 in step 59 described above, the control unit 9 subsequently compares the XY coordinates of the inspection probe 41 with the XY coordinates of the probing point, for inspection. It is determined whether the probe 41 has reached above the probing point (step 60). When it is determined in step 60 that the inspection probe 41 has not reached the probing point, the control unit 9 executes step 57. That is, the control unit 9 repeatedly executes Steps 57 to 60 until the inspection probe 41 reaches above the probing point.

次いで、検査用プローブ41がプロービングポイントの上方に到達したときには、制御部9は、ステップ58においてその旨を判別し、続いて、第1移動機構11に対して、移動経路Cに沿ったプローブ保持部13の移動処理の停止を指示する(ステップ61)。次いで、制御部9は、プロービング部3の第2移動機構12に対して、基板100上のプロービングポイントに向けて下向きに(Z方向に沿って)プローブ保持部13を予め決められた距離だけ移動させる移動処理の実行を指示する(ステップ62)。これに応じて、第2移動機構12が下向きの移動処理を実行し、これにより、プローブ保持部13によって保持されている検査用プローブ41の先端部がプロービングポイントにプロービング(接触)させられる。   Next, when the inspection probe 41 reaches above the probing point, the control unit 9 determines that in step 58, and then holds the probe along the movement path C with respect to the first movement mechanism 11. An instruction to stop the movement process of the unit 13 is given (step 61). Next, the control unit 9 moves the probe holding unit 13 downward (along the Z direction) by a predetermined distance toward the probing point on the substrate 100 with respect to the second moving mechanism 12 of the probing unit 3. The execution of the movement process to be performed is instructed (step 62). In response to this, the second moving mechanism 12 executes a downward movement process, and thereby the tip of the inspection probe 41 held by the probe holding unit 13 is probed (contacted) with the probing point.

続いて、制御部9は、検査部5に対して電気的検査の実行を指示する(ステップ63)。これに応じて、検査部5が、検査用プローブ41を介して入力した電気信号Siに基づいて基板100に対する電気的検査を実行する。次いで、制御部9は、検査部5による検査の結果を表示部8に表示させる。続いて、検査部5による電気的検査が終了したときには、制御部9は、第2移動機構12に対して、上向きに(Z方向に沿って)プローブ保持部13を予め決められた距離だけ移動させる移動処理の実行を指示する(ステップ64)。これに応じて、第2移動機構12が上向きの移動処理を実行し、これにより、プローブ保持部13によって保持されている検査用プローブ41の先端部がプロービングポイントから離反する。以上により、最初のプロービングポイントに対するプロービング処理およびそのプロービングポイントについての電気的検査が終了する。次いで、制御部9は、上記した各ステップを実行して、次のプロービングポイントに対するプロービング処理およびそのプロービングポイントについての電気的検査を実行させる。   Subsequently, the control unit 9 instructs the inspection unit 5 to perform an electrical inspection (step 63). In response to this, the inspection unit 5 performs an electrical inspection on the substrate 100 based on the electrical signal Si input via the inspection probe 41. Next, the control unit 9 causes the display unit 8 to display the result of the inspection by the inspection unit 5. Subsequently, when the electrical inspection by the inspection unit 5 is completed, the control unit 9 moves the probe holding unit 13 upward (along the Z direction) by a predetermined distance with respect to the second moving mechanism 12. Instructing the execution of the movement process to be performed (step 64). In response to this, the second moving mechanism 12 executes an upward movement process, whereby the tip of the inspection probe 41 held by the probe holding unit 13 is separated from the probing point. Thus, the probing process for the first probing point and the electrical inspection for the probing point are completed. Next, the control unit 9 executes the above steps to execute a probing process for the next probing point and an electrical inspection for the probing point.

一方、制御部9は、上記したステップ53において距離Lm(第1距離Lm1および第2距離Lm2の少なくとも一方)が第1許容範囲R1外であると判別したときには、プロービング部3を制御してプローブ保持部13を停止状態に維持させ、次いで、距離Lmが第1許容範囲R1外である旨、およびその理由として考えられるプロービングポイントの座標が誤っている旨を示す表示(座標エラー表示)を表示部8に行わせて(ステップ65)、プロービング制御処理50を終了する。また、制御部9は、上記したステップ54において、距離Lmが第2許容範囲R2外であると判別したときにも、プロービング部3を制御してプローブ保持部13を停止状態に維持させる。ここで、距離Lmが第2許容範囲R2外であるときには、何らかの原因で初期状態において各検査用プローブ41が第2許容範囲R2を超えて離間している可能性がある。このため、制御部9は、この場合には、その旨を示す表示(現在位置エラー表示)を表示部8に行わせて(ステップ66)、プロービング制御処理50を終了する。   On the other hand, when it is determined that the distance Lm (at least one of the first distance Lm1 and the second distance Lm2) is outside the first allowable range R1, the control unit 9 controls the probing unit 3 to determine the probe. The holding unit 13 is maintained in a stopped state, and then a display (coordinate error display) indicating that the distance Lm is outside the first allowable range R1 and that the probing point coordinates considered as the reason are incorrect is displayed. The probing control process 50 is terminated by causing the unit 8 to perform the process (step 65). Further, the control unit 9 also controls the probing unit 3 to maintain the probe holding unit 13 in the stopped state when it is determined in step 54 that the distance Lm is outside the second allowable range R2. Here, when the distance Lm is outside the second allowable range R2, there is a possibility that the inspection probes 41 are separated beyond the second allowable range R2 in the initial state for some reason. Therefore, in this case, the control unit 9 causes the display unit 8 to display that fact (current position error display) (step 66), and ends the probing control process 50.

また、制御部9は、図6の(a)に示す初期位置P1から移動経路Cに沿ってプローブ保持部13を移動させている途中(移動中)において、同図の(b)に示すように、距離Lmが第2許容範囲R2外となったときには、上記したステップ57においてその旨を判別し、プロービング部3を制御して、プローブ保持部13の移動を停止(緊急停止)させると共に(ステップ67)、その旨を表示してプロービング制御処理50を終了する。さらに、制御部9は、図7の(a)に示す初期位置P1から同図の(c)に示す目的位置P2に向けて、移動経路Cに沿ってプローブ保持部13を移動させている途中(移動中)において、同図の(b)に示すように、何らかの原因で距離Lmが第2許容範囲R2内でかつ第1許容範囲R1外となったときには、移動経路Cを、例えば同図に示す移動経路Cmに修正した後に(ステップ68)、ステップ57に戻ってプローブ保持部13の移動を継続させる。なお、プローブ保持部13の移動が停止状態である旨やその原因の報知方法として、上記した表示部8による表示に代えて(または、表示に加えて)、その旨を報知する音やアナウンスを図外の音声発生部から出力させる方法を採用することもできる。   Further, the control unit 9 is moving (moving) the probe holding unit 13 along the movement path C from the initial position P1 shown in FIG. 6A, as shown in FIG. In addition, when the distance Lm is outside the second allowable range R2, it is determined in step 57 described above, and the probing unit 3 is controlled to stop (emergency stop) the movement of the probe holding unit 13 ( Step 67), the fact is displayed and the probing control process 50 is finished. Further, the control unit 9 is moving the probe holding unit 13 along the movement path C from the initial position P1 shown in FIG. 7A toward the target position P2 shown in FIG. When the distance Lm is within the second allowable range R2 and outside the first allowable range R1 for some reason, as shown in FIG. (Step 68), the process returns to step 57 to continue the movement of the probe holding unit 13. As a notification method of the fact that the movement of the probe holding unit 13 is stopped and the cause thereof, instead of the display by the display unit 8 described above (or in addition to the display), a sound or announcement for notifying the fact is given. It is also possible to employ a method of outputting from a sound generator not shown.

ここで、この基板検査装置1では、上記したように、移動処理を開始させる以前において、計算上の距離Lmが第1許容範囲R1内か否かを判別するステップ53の処理を行うことに加えて、距離Lmが第2許容範囲R2内か否か(離反状態または近接状態が検出部4によって検出されているか否か)を判別するステップ54の処理を行っている。このため、この基板検査装置1では、例えば、演算ミスによって誤った距離Lmが算出され、この距離Lmが第1許容範囲R1内であったとしても、実際の距離Lmが第2許容範囲R2外のときには、プローブ保持部13の移動が開始されない結果、各プローブ保持部13によって保持されている検査用プローブ41同士が上限距離La(ケーブル42の長さLd)を超えて離間するような移動が確実に防止される。   Here, in this substrate inspection apparatus 1, as described above, in addition to performing the process of step 53 for determining whether or not the calculated distance Lm is within the first allowable range R1 before starting the movement process. Thus, the process of step 54 is performed to determine whether the distance Lm is within the second allowable range R2 (whether the separation state or the proximity state is detected by the detection unit 4). For this reason, in this board inspection apparatus 1, for example, an erroneous distance Lm is calculated due to a calculation error, and even if this distance Lm is within the first allowable range R1, the actual distance Lm is outside the second allowable range R2. In this case, as a result of the movement of the probe holders 13 not being started, the inspection probes 41 held by the probe holders 13 are moved apart from each other beyond the upper limit distance La (the length Ld of the cable 42). It is surely prevented.

また、この基板検査装置1では、上記したようにプローブ保持部13の移動中において、離反状態または近接状態が検出部4によって検出されているか否かを判別するステップ57の処理、すなわち、実際の距離Lmが第2許容範囲R2内か否かを判別する処理を行っている。このため、この基板検査装置1では、例えば、2つのプローブ保持部13を初期位置P1から2つの目的位置P2にそれぞれ移動させる場合において、本来であれば、2つの各プローブ保持部13間の距離Lmが第1許容範囲R1内である状態を維持しつつ2つの各プローブ保持部13を同時に移動させるように移動制御用のプログラムを作成すべきところ、一方のプローブ保持部13を目的の位置に移動させた後に他方のプローブ保持部13を目的の位置に移動させるような(各プローブ保持部13が離れ離れとなるような)誤った移動制御用のプログラムが作成されていたとしても、プローブ保持部13の移動中において実際の距離Lmが第2許容範囲R2外となったときには、プローブ保持部13の移動が停止される。したがって、この基板検査装置1では、このような場合においても、ケーブル42の長さLdを超えて各プローブ保持部13同士が離間するような移動や、各プローブ保持部13同士および各プローブ保持部13によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41同士が接触するような移動が確実に防止される。   Further, in the substrate inspection apparatus 1, as described above, during the movement of the probe holding unit 13, the process of step 57 for determining whether the separation state or the proximity state is detected by the detection unit 4, that is, the actual state. Processing is performed to determine whether or not the distance Lm is within the second allowable range R2. For this reason, in this substrate inspection apparatus 1, for example, when the two probe holders 13 are moved from the initial position P1 to the two target positions P2, respectively, the distance between the two probe holders 13 is originally the same. A program for movement control should be created so that each of the two probe holders 13 is moved simultaneously while maintaining a state where Lm is within the first allowable range R1, and one probe holder 13 is brought to a target position. Even if an erroneous program for movement control is made such that the other probe holder 13 is moved to the target position after the movement (each probe holder 13 is separated), the probe holder When the actual distance Lm is outside the second allowable range R2 during the movement of 13, the movement of the probe holding unit 13 is stopped. Therefore, in this board inspection apparatus 1, even in such a case, the probe holding parts 13 are moved apart from each other beyond the length Ld of the cable 42, or the probe holding parts 13 and the probe holding parts are moved. The movements such that the inspection probes 41 held by the respective 13 are in contact with each other are reliably prevented.

このように、この基板検査装置1では、制御部9が、各プローブ保持部13を基板100の表面に沿って移動させる際に、検出部4による離反状態の検出結果に基づいて各プローブ保持部13によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41間の距離Lmが上限距離La未満となる状態を維持させる。このため、この基板検査装置1によれば、各プローブ保持部13間にシールド接続用のケーブル42が配設されている場合において、例えば、ケーブル42の長さLdに対して1/√2を乗じた長さ(または、その長さよりもやや短い長さ)を上限距離Laとして規定することで、そのケーブル42の長さLdを超えて各プローブ保持部13によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41同士が離間するような移動を確実に防止することができる結果、ケーブル42の破損、およびケーブル42の端部が接続されているプローブ保持部13や検査用プローブ41の破損を確実に防止しつつ、各検査用プローブ41を移動させて検査することができる。   Thus, in this board | substrate inspection apparatus 1, when the control part 9 moves each probe holding part 13 along the surface of the board | substrate 100, based on the detection result of the separation state by the detection part 4, each probe holding part 13 maintains the state where the distance Lm between the respective inspection probes 41 respectively held by 13 is less than the upper limit distance La. For this reason, according to this board inspection apparatus 1, when the cable 42 for shield connection is provided between the probe holding portions 13, for example, 1 / √2 with respect to the length Ld of the cable 42. By defining the multiplied length (or a length slightly shorter than the length) as the upper limit distance La, each length for each inspection that is held by each probe holding portion 13 exceeds the length Ld of the cable 42. As a result of reliably preventing the probes 41 from moving apart from each other, the cable 42 and the probe holding part 13 to which the end of the cable 42 is connected and the inspection probe 41 are reliably prevented. However, each inspection probe 41 can be moved and inspected.

また、この基板検査装置1では、制御部9が、各プローブ保持部13を基板100の表面に沿って移動させる際に、移動経路Cを特定すると共に、移動経路Cに沿った各プローブ保持部13の移動中に各プローブ保持部13によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41間の距離Lmが規定距離Lcを超えたときには移動経路Cを修正して各プローブ保持部13の移動を継続させ、移動経路Cに沿った各プローブ保持部13の移動中に検出部4によって離反状態が検出されたときには各プローブ保持部13の移動を停止させる。このため、この基板検査装置1によれば、距離Lmが規定距離Lcを超えた段階、つまりケーブル42が切断するまでにはまだ余裕がある段階では、移動経路Cを修正して、プローブ保持部13の移動を継続させ、距離Lmが上限距離Laを超えた段階、つまりケーブル42が切断するまでに余裕のない段階では、プローブ保持部13の移動を直ちに停止させることができる。   Moreover, in this board | substrate inspection apparatus 1, when the control part 9 moves each probe holding | maintenance part 13 along the surface of the board | substrate 100, while specifying the movement path | route C, each probe holding | maintenance part along the movement path | route C is specified. When the distance Lm between the inspection probes 41 held by the probe holders 13 during the movement of 13 exceeds the specified distance Lc, the movement path C is corrected and the movement of the probe holders 13 is continued. When the separation state is detected by the detection unit 4 during the movement of each probe holding unit 13 along the movement path C, the movement of each probe holding unit 13 is stopped. For this reason, according to this board inspection apparatus 1, when the distance Lm exceeds the specified distance Lc, that is, when there is still a margin until the cable 42 is cut, the moving path C is corrected and the probe holding unit is corrected. The movement of the probe holder 13 can be immediately stopped at the stage where the distance Lm exceeds the upper limit distance La, that is, the stage where there is no allowance until the cable 42 is cut.

また、この基板検査装置1では、検出部4が、各プローブ保持部13によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41間の距離Lmが下限距離Lb以下となる近接状態を検出可能に構成され、制御部9が、各プローブ保持部13を基板100の表面に沿って移動させる際に、検出部4による検出結果に基づいて距離Lmが下限距離Lbを超える状態を維持させる。このため、この基板検査装置1によれば、各プローブ保持部13によってそれぞれ保持されている各検査用プローブ41同士や各プローブ保持部13同士が接触するような移動を確実に防止することができる結果、互いの接触に起因する検査用プローブ41やプローブ保持部13の破損を確実に防止することができる。   Moreover, in this board | substrate inspection apparatus 1, the detection part 4 is comprised so that detection of the proximity state from which the distance Lm between each test | inspection probe 41 each hold | maintained by each probe holding | maintenance part 13 is below the lower limit distance Lb, When the control unit 9 moves each probe holding unit 13 along the surface of the substrate 100, the state in which the distance Lm exceeds the lower limit distance Lb based on the detection result by the detection unit 4 is maintained. For this reason, according to this board | substrate test | inspection apparatus 1, the movement which each probe 41 for each hold | maintained by each probe holding part 13 or each probe holding part 13 contacts can be prevented reliably. As a result, it is possible to reliably prevent the inspection probe 41 and the probe holder 13 from being damaged due to mutual contact.

また、この基板検査装置1では、検出部4が、各検査用プローブ41間のX方向に沿った第1距離Lm1が第1上限距離La1以上となる第1離反状態、および各検査用プローブ41間のY方向に沿った第2距離Lm2が第2上限距離La2以上となる第2離反状態を検出可能に構成され、制御部9が、各プローブ保持部13を基板100の表面に沿って移動させる際に、検出部4による検出結果に基づいて第1距離Lm1が第1上限距離La1未満でかつ第2距離Lm2が第2上限距離La2未満となる状態を維持させる。このため、この基板検査装置1によれば、X方向についての検出を行う光電センサ32a、およびY方向についての検出を行う光電センサ32cの2つのセンサを備えた簡易な構成の検出部4で第1離反状態および第2離反状態を確実に検出することができる結果、基板検査装置1のコストを低減しつつ、各プローブ保持部13間に配設されているケーブル42、プローブ保持部13および検査用プローブ41の破損を確実に防止することができる。   In the substrate inspection apparatus 1, the detection unit 4 includes the first separation state in which the first distance Lm1 along the X direction between the inspection probes 41 is equal to or greater than the first upper limit distance La1, and the inspection probes 41. The second separation state where the second distance Lm2 along the Y direction is equal to or greater than the second upper limit distance La2 can be detected, and the control unit 9 moves each probe holding unit 13 along the surface of the substrate 100. In this case, the state in which the first distance Lm1 is less than the first upper limit distance La1 and the second distance Lm2 is less than the second upper limit distance La2 based on the detection result by the detection unit 4 is maintained. For this reason, according to this board | substrate inspection apparatus 1, the detection part 4 of the simple structure provided with two sensors of the photoelectric sensor 32a which performs the detection about X direction, and the photoelectric sensor 32c which performs the detection about Y direction is 1st. As a result of reliably detecting the first separated state and the second separated state, the cable 42, the probe holding unit 13, and the inspection disposed between the probe holding units 13 while reducing the cost of the board inspection apparatus 1. Damage to the probe 41 can be reliably prevented.

また、この基板検査装置1では、検出部4が、各検査用プローブ41間のX方向に沿った第1距離Lm1が第1下限距離Lb1以下となる第1近接状態、および各検査用プローブ41間のY方向に沿った第2距離Lm2が第2下限距離Lb2以下となる第2近接状態を検出可能に構成され、制御部9が、各プローブ保持部13を基板100の表面に沿って移動させる際に、検出部4による検出結果に基づいて第1距離Lm1が第1下限距離Lb1を超えかつ第2距離Lm2が第2下限距離Lb2を超える状態を維持させる。このため、この基板検査装置1によれば、X方向についての検出を行う光電センサ32b、およびY方向についての検出を行う光電センサ32dの2つのセンサを備えた簡易な構成の検出部4で第1近接状態および第2近接状態を確実に検出することができる結果、基板検査装置1のコストを低減しつつ、互いの接触に起因する検査用プローブ41やプローブ保持部13の破損を確実に防止することができる。   In the substrate inspection apparatus 1, the detection unit 4 includes the first proximity state in which the first distance Lm1 along the X direction between the inspection probes 41 is equal to or less than the first lower limit distance Lb1, and the inspection probes 41. The second proximity state in which the second distance Lm2 along the Y direction is equal to or less than the second lower limit distance Lb2 is configured to be detectable, and the control unit 9 moves each probe holding unit 13 along the surface of the substrate 100 In this case, the state in which the first distance Lm1 exceeds the first lower limit distance Lb1 and the second distance Lm2 exceeds the second lower limit distance Lb2 based on the detection result by the detection unit 4 is maintained. For this reason, according to this board | substrate inspection apparatus 1, the detection part 4 of the simple structure provided with two sensors of the photoelectric sensor 32b which performs the detection about X direction, and the photoelectric sensor 32d which performs the detection about Y direction is 1st. As a result of reliably detecting the first proximity state and the second proximity state, it is possible to reliably prevent the inspection probe 41 and the probe holding unit 13 from being damaged due to mutual contact while reducing the cost of the substrate inspection apparatus 1. can do.

なお、基板検査装置1の構成は上記の構成に限定されない。例えば、反射型の光電センサ32と反射板33とを備えて検出部4を構成した例について上記したが、光電センサ32および反射板33に代えて、投光器および受光器を有する透過型の光電センサを備えて検出部4を構成することもできる。また、距離Lmが上限距離La以上のときに信号を出力する(または、それまで出力していた信号の出力を停止する)スイッチ、および距離Lmが下限距離Lb以下のときに信号を出力する(または、それまで出力していた信号の出力を停止する)スイッチを、光電センサ32および反射板33に代えて備えて検出部4を構成することもできる。   In addition, the structure of the board | substrate inspection apparatus 1 is not limited to said structure. For example, the example in which the detection unit 4 is configured by including the reflection type photoelectric sensor 32 and the reflection plate 33 has been described above. However, instead of the photoelectric sensor 32 and the reflection plate 33, a transmission type photoelectric sensor having a projector and a light receiver. The detection unit 4 can also be configured. In addition, a switch that outputs a signal when the distance Lm is equal to or greater than the upper limit distance La (or stops outputting the signal that has been output until then) and a signal that is output when the distance Lm is equal to or less than the lower limit distance Lb ( Alternatively, the detection unit 4 can be configured by providing a switch for stopping the output of the signal that has been output so far, instead of the photoelectric sensor 32 and the reflection plate 33.

また、X方向(第1方向)に沿った第1離反状態と、Y方向に沿った第2離反状態とを別々に検出する検出部4を備えて、第1離反状態および第2離反状態の少なくとも一方が検出部4によって検出されているときに各プローブ保持部13を停止状態に維持させる構成例について上記したが、各検査用プローブ41間のX方向に沿った距離、および各検査用プローブ41間のY方向に沿った距離ではなく、各検査用プローブ41間の最短距離が予め決められた距離以上となる離反状態を検出する検出部を備え、離反状態が検出されたときに各プローブ保持部13を停止状態に維持させる構成を採用することができる。一例として、一方のプローブ保持部13によって保持されている検査用プローブ41から他方のプローブ保持部13によって保持されている検査用プローブ41までの最短距離を非接触で測定する距離センサ(レーザ変位計)を備えて、その距離センサによって測定された距離が予め決められた距離(例えば、ケーブル42の長さLdに対して80%程度の安全率を乗じた距離)以上のときに、制御部9がプロービング部3を制御して各プローブ保持部13を停止状態に維持させるように構成することができる。   In addition, a detection unit 4 that separately detects a first separation state along the X direction (first direction) and a second separation state along the Y direction is provided, and the first separation state and the second separation state are provided. The configuration example in which each probe holding unit 13 is maintained in the stopped state when at least one is detected by the detection unit 4 has been described above. However, the distance between the inspection probes 41 in the X direction, and each inspection probe A detection unit that detects a separation state in which the shortest distance between the inspection probes 41 is not less than a distance between the inspection probes 41 and not less than a predetermined distance, and each probe is detected when the separation state is detected. A configuration in which the holding unit 13 is maintained in a stopped state can be employed. As an example, a distance sensor (laser displacement meter) that measures the shortest distance from the inspection probe 41 held by one probe holding unit 13 to the inspection probe 41 held by the other probe holding unit 13 in a non-contact manner. ) And the distance measured by the distance sensor is equal to or greater than a predetermined distance (for example, a distance obtained by multiplying the length Ld of the cable 42 by a safety factor of about 80%). However, it can be configured to control the probing unit 3 to maintain each probe holding unit 13 in a stopped state.

1 基板検査装置
3 プロービング部
4 検出部
5 検査部
9 制御部
13a,13b プローブ保持部
32a〜32d 光電センサ
41 検査用プローブ
100 基板
La 上限距離
La1 第1上限距離
La2 第2上限距離
Lb 下限距離
Lb1 第1下限距離
Lb2 第2下限距離
Lm 距離
Lm1 第1距離
Lm2 第2距離
Si 電気信号
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate inspection apparatus 3 Probing part 4 Detection part 5 Inspection part 9 Control part 13a, 13b Probe holding part 32a-32d Photoelectric sensor 41 Inspection probe 100 Substrate La upper limit distance La1 1st upper limit distance La2 2nd upper limit distance Lb Lower limit distance Lb1 1st minimum distance Lb2 2nd minimum distance Lm distance Lm1 1st distance Lm2 2nd distance Si Electric signal

Claims (5)

検査用プローブをそれぞれ保持すると共に互いにケーブルで接続された一対のプローブ保持部を検査対象の基板の表面に沿って移動させて当該基板に当該検査用プローブをプロービングさせるプロービング部と、当該プロービング部を制御する制御部と、前記プロービング部によってプロービングさせられた各検査用プローブを介して入出力する電気信号に基づいて前記基板に対する電気的検査を実行する検査部とを備えた基板検査装置であって、
前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が予め決められた上限距離以上となる離反状態を検出する検出部を備え、
前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、前記検出部による前記離反状態の検出結果に基づいて前記プロービング部を制御して、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が前記上限距離未満となる状態を維持させる基板検査装置。
A probing unit for holding the inspection probes and connecting a pair of probe holding units connected to each other by a cable along the surface of the substrate to be inspected to probe the inspection probe on the substrate, and the probing unit A substrate inspection apparatus comprising: a control unit that controls; and an inspection unit that performs an electrical inspection on the substrate based on an electrical signal input and output through each inspection probe probed by the probing unit. ,
A detection unit for detecting a separation state in which a distance between the inspection probes held by the probe holding units is equal to or greater than a predetermined upper limit distance;
The control unit controls the probing unit based on a detection result of the separation state by the detection unit when moving the probe holding unit along the surface of the substrate, and the probe holding unit A substrate inspection apparatus that maintains a state in which the distance between the respective inspection probes that are held is less than the upper limit distance.
前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離を前記上限距離よりも短く規定された規定距離以下に維持した状態で初期位置から目的位置に当該各プローブ保持部を移動させるための移動経路を特定すると共に、
前記移動経路に沿った前記各プローブ保持部の移動中に当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が前記規定距離を超えたときには前記移動経路を修正して当該各プローブ保持部の移動を継続させ、
前記移動経路に沿った前記各プローブ保持部の移動中に前記検出部によって前記離反状態が検出されたときには当該各プローブ保持部の移動を停止させる請求項1記載の基板検査装置。
The controller defines the distance between the inspection probes held by the probe holders to be shorter than the upper limit distance when moving the probe holders along the surface of the substrate. Specifying a movement path for moving each probe holder from the initial position to the target position while maintaining the distance below the specified distance,
When the distance between the inspection probes held by the probe holders during the movement of the probe holders along the movement path exceeds the specified distance, the movement path is corrected to Continue to move each probe holder,
The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the movement of each probe holding unit is stopped when the detection unit detects the separation state during the movement of each probe holding unit along the movement path.
前記検出部は、前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が予め決められた下限距離以下となる近接状態を検出可能に構成され、
前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、前記検出部による前記近接状態の検出結果に基づいて前記プロービング部を制御して、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の距離が前記下限距離を超える状態を維持させる請求項1または2記載の基板検査装置。
The detection unit is configured to be able to detect a proximity state in which the distance between the inspection probes held by the probe holding units is equal to or less than a predetermined lower limit distance,
The control unit controls the probing unit based on a detection result of the proximity state by the detection unit when the probe holding unit is moved along the surface of the substrate, and the probe holding unit The substrate inspection apparatus according to claim 1 or 2, wherein a distance between the respective inspection probes held therein is maintained in a state exceeding the lower limit distance.
前記検出部は、前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の第1方向に沿った距離が第1上限距離以上となる前記離反状態としての第1離反状態、および前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の前記第1方向に直交する第2方向に沿った距離が第2上限距離以上となる前記離反状態としての第2離反状態を検出可能に構成され、
前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、前記検出部による前記第1離反状態および第2離反状態の検出結果に基づいて前記プロービング部を制御して、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の前記第1方向に沿った距離が前記第1上限距離未満でかつ当該各検査用プローブ間の前記第2方向に沿った距離が前記第2上限距離未満となる状態を維持させる請求項1から3のいずれかに記載の基板検査装置。
The detection unit includes a first separation state as the separation state in which a distance along the first direction between the inspection probes held by the probe holding units is equal to or more than a first upper limit distance, and the The second separation state as the separation state in which the distance along the second direction orthogonal to the first direction between the inspection probes held by the probe holding portions is equal to or more than a second upper limit distance is detected. Configured and possible
The control unit controls the probing unit based on the detection results of the first separation state and the second separation state by the detection unit when the probe holding units are moved along the surface of the substrate. The distance along the first direction between the inspection probes held by the probe holders is less than the first upper limit distance and along the second direction between the inspection probes. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein a state in which the distance is less than the second upper limit distance is maintained.
前記検出部は、前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間のA方向に沿った距離が第1下限距離以下となる前記近接状態としての第1近接状態、および前記各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の前記A方向に直交するB方向に沿った距離が第2下限距離以下となる前記近接状態としての第2近接状態を検出可能に構成され、
前記制御部は、前記各プローブ保持部を前記基板の表面に沿って移動させる際に、前記検出部による前記第1近接状態および第2近接状態の検出結果に基づいて前記プロービング部を制御して、当該各プローブ保持部によってそれぞれ保持されている前記各検査用プローブ間の前記A方向に沿った距離が前記第1下限距離を超えかつ当該各検査用プローブ間の前記B方向に沿った距離が前記第2下限距離を超える状態を維持させる請求項1から4のいずれかに記載の基板検査装置。
The detection unit includes a first proximity state as the proximity state in which a distance along the A direction between the inspection probes held by the probe holding units is equal to or less than a first lower limit distance; and A configuration in which the second proximity state as the proximity state in which the distance along the B direction perpendicular to the A direction between the respective inspection probes held by the probe holding unit is equal to or less than a second lower limit distance can be detected. And
The control unit controls the probing unit based on the detection results of the first proximity state and the second proximity state by the detection unit when the probe holding units are moved along the surface of the substrate. The distance along the A direction between the inspection probes held by the probe holding portions exceeds the first lower limit distance, and the distance along the B direction between the inspection probes is The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein a state exceeding the second lower limit distance is maintained.
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