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JP5757965B2 - Isolator and control method of isolator - Google Patents
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JP5757965B2 - Isolator and control method of isolator - Google Patents

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Description

本発明は、アイソレータに関する。   The present invention relates to an isolator.

アイソレータは、無菌環境にある作業室をその内部に有し、作業室において無菌環境であることが要求される作業、たとえば細胞培養などの生体由来材料を対象とする作業を行うためのものである。ここで、無菌環境とは、作業室で行われる作業に必要な物質以外の混入を回避するために限りなく無塵無菌に近い環境をいう。   The isolator has a work room in an aseptic environment inside, and is used for performing work that is required to be an aseptic environment in the work room, for example, work on biological materials such as cell culture. . Here, the aseptic environment refers to an environment that is almost as dust-free aseptic in order to avoid contamination other than substances necessary for work performed in the work room.

作業室は気体供給口と気体排出口とを備え、作業室内には気体供給口から空気が供給され、気体排出口から空気が排出される。一般にアイソレータでは、作業室内の無菌環境を確保するために、気体供給口にHEPAフィルタなどの微粒子捕集フィルタが設けられ、微粒子捕集フィルタを介して空気が作業室に供給される。また、気体排出口にも微粒子捕集フィルタが設けられ、作業室内の空気は微粒子捕集フィルタを介して作業室から排出される。   The work chamber includes a gas supply port and a gas discharge port. Air is supplied from the gas supply port to the work chamber, and air is discharged from the gas discharge port. In general, an isolator is provided with a particulate collection filter such as a HEPA filter at a gas supply port in order to ensure a sterile environment in the working chamber, and air is supplied to the working chamber through the particulate collection filter. The gas exhaust port is also provided with a particulate collection filter, and the air in the working chamber is exhausted from the working chamber via the particulate collection filter.

また、アイソレータでは、過酸化水素などの滅菌物質を作業室内に噴霧し、作業室内を滅菌する滅菌処理を実行している(特許文献1および2参照)。   Further, in the isolator, a sterilization process is performed in which a sterilizing substance such as hydrogen peroxide is sprayed into the working chamber to sterilize the working chamber (see Patent Documents 1 and 2).

特開2006−320392号公報JP 2006-320392 A 特開2005−312799号公報JP 2005-31799 A

上述のような状況下において、本発明者らは以下の課題を認識するに至った。すなわち、上記特許文献1および2では、作業室に気体を供給する気体供給口とは独立した経路を通して、作業室に滅菌物質としての過酸化水素を供給している。そのため、滅菌処理において気体供給口や、気体供給口に設けられた微粒子捕集フィルタを滅菌できない。アイソレータでの作業および当該作業で処理された被処理物のさらなる信頼性の向上を図るためには滅菌処理の確実性が求められるところであり、そのためには、気体供給口や気体供給口に設けられた微粒子捕集フィルタの滅菌が必要となる。   Under the circumstances as described above, the present inventors have recognized the following problems. That is, in Patent Documents 1 and 2, hydrogen peroxide as a sterilizing substance is supplied to the working chamber through a path independent of the gas supply port that supplies gas to the working chamber. Therefore, the gas supply port and the particulate collection filter provided at the gas supply port cannot be sterilized in the sterilization process. In order to further improve the reliability of the work performed by the isolator and the workpiece processed in the work, the certainty of the sterilization treatment is required. For that purpose, the gas supply port and the gas supply port are provided. Sterilization of the particulate collection filter is required.

しかしながら、滅菌処理において気体供給口や微粒子捕集フィルタを滅菌する場合には、作業室の気体供給口に設けられた微粒子捕集フィルタを滅菌物質が通過することとなる。その際、滅菌物質が微粒子捕集フィルタに吸着してしまう。滅菌処理では、滅菌工程の終了後、作業室内の滅菌物質を除去する除去工程が実施されるが、滅菌物質が微粒子捕集フィルタに吸着した場合には、この吸着した滅菌物質を微粒子捕集フィルタから剥離することが困難であるため、除去工程に長い時間がかかり、結果として滅菌処理全体の時間が長くなってしまう。   However, when the gas supply port and the particulate collection filter are sterilized in the sterilization process, the sterilizing substance passes through the particulate collection filter provided in the gas supply port of the working chamber. At that time, the sterilizing substance is adsorbed on the particulate collection filter. In the sterilization process, after the sterilization process is completed, a removal process for removing the sterilizing substance in the working chamber is performed. When the sterilizing substance is adsorbed on the particulate collection filter, the adsorbed sterilizing substance is removed from the particulate collection filter. Since it is difficult to peel off, the removal process takes a long time, and as a result, the entire sterilization process takes a long time.

一方、除去工程において作業室内の気体に無害化処理を施し、作業室内の滅菌物質濃度が被処理物に悪影響を与えない濃度となるまでは、作業室での作業を開始することができない。そして、一般にアイソレータでは、作業室内における1つの作業が終了した後、次の作業に際して滅菌処理を実施している。そのため、アイソレータでの作業効率の向上を図るためには、滅菌処理に要する時間の短縮化が求められる。   On the other hand, the operation in the working chamber cannot be started until the gas in the working chamber is rendered harmless in the removal step and the concentration of the sterilized substance in the working chamber becomes a concentration that does not adversely affect the workpiece. In general, in an isolator, after one operation in the work chamber is completed, a sterilization process is performed for the next operation. Therefore, in order to improve the working efficiency of the isolator, it is required to shorten the time required for the sterilization process.

本発明は本発明者らによるこのような認識に基づいてなされたものであり、その目的は、アイソレータにおける滅菌処理の確実性を向上させるとともに、滅菌処理に要する時間をより短縮することができる技術の提供にある。   The present invention has been made on the basis of such recognition by the present inventors. The purpose of the present invention is to improve the certainty of the sterilization process in the isolator and to further reduce the time required for the sterilization process. Is in the provision of.

本発明のある態様は、アイソレータである。このアイソレータは、気体供給口と気体排出口とを備え、生体由来材料を対象とする作業を行うための作業室と、気体供給口に設けられた供給側微粒子捕集フィルタと、作業室に滅菌物質を供給する滅菌物質供給部と、滅菌物質供給部と供給側微粒子捕集フィルタの気体流れ下流側とを連絡し、作業室に滅菌物質を送るためのフィルタ非経由供給路と、滅菌物質供給部と供給側微粒子捕集フィルタの気体流れ上流側とを連絡し、作業室に滅菌物質を送るためのフィルタ経由供給路と、作業室に供給された滅菌物質を滅菌物質供給部に戻す循環路と、フィルタ非経由供給路とフィルタ経由供給路とを切換える供給路切換部と、供給路切換部の切換を制御する制御部と、備え、制御部は、作業室を滅菌する第1モードではフィルタ非経由供給路に切り換え、作業室および供給側微粒子捕集フィルタを滅菌する第2モードではフィルタ経由供給路に切り換えるように供給路切換部を制御することを特徴とする。   One embodiment of the present invention is an isolator. This isolator includes a gas supply port and a gas discharge port, a work chamber for performing work on biological material, a supply-side particulate collection filter provided in the gas supply port, and a sterilization in the work chamber A sterilizing substance supply unit for supplying substances, a sterilizing substance supply part and a gas flow downstream side of the supply side particulate collection filter, and a non-filter supply path for sending the sterilizing substance to the working room, and a sterilizing substance supply And a supply passage via a filter for sending the sterilizing substance to the working chamber, and a circulation path for returning the sterilizing substance supplied to the working chamber to the sterilizing substance supply section. A supply path switching section that switches between the non-filter supply path and the filter-routed supply path, and a control section that controls switching of the supply path switching section. The control section is a filter in the first mode for sterilizing the work chamber. In the non-passage supply path Rikae, and controlling the supply path switching so as to switch the filter via the supply passage having a working chamber and a second mode of sterilizing the supply-side particulate collection filter.

この態様によれば、アイソレータにおける滅菌処理の確実性を向上させるとともに、滅菌処理に要する時間をより短縮することができる。   According to this aspect, the reliability of the sterilization process in the isolator can be improved, and the time required for the sterilization process can be further shortened.

上記態様において、気体排出口に設けられた排出側微粒子捕集フィルタを備え、循環路は、排出側微粒子捕集フィルタの気体流れ下流側と滅菌物質供給部とを連絡するフィルタ経由循環路、および排出側微粒子捕集フィルタの気体流れ上流側と滅菌物質供給部とを連絡するフィルタ非経由循環路の少なくとも1つを含んでいてもよい。   In the above aspect, it is provided with a discharge-side particulate collection filter provided at the gas discharge port, and the circulation path is a circulation path through a filter that communicates the gas flow downstream side of the discharge-side particulate collection filter and the sterilizing substance supply unit, and It may include at least one non-filter circulation path that connects the upstream side of the gas flow of the discharge side particulate collection filter and the sterilizing substance supply unit.

また、上記態様において、循環路は、フィルタ経由循環路およびフィルタ非経由循環路を含み、フィルタ非経由循環路とフィルタ経由循環路とを切換える循環路切換部を備え、制御部は、第1モードではフィルタ非経由循環路に切り換え、第2モードではフィルタ経由循環路に切り換えてもよい。   In the above aspect, the circulation path includes a circulation path through a filter and a circulation path without a filter, and includes a circulation path switching unit that switches between a circulation path without a filter and a circulation path through a filter. May be switched to a non-filter circulation path, and may be switched to a filter circulation path in the second mode.

また、上記態様において、作業室内への気体の供給および排出を行うためのファンが循環路に設けられてもよい。   In the above aspect, a fan for supplying and discharging gas into the work chamber may be provided in the circulation path.

また、上記態様において、滅菌物質供給部は、滅菌物質を収容する滅菌物質収容タンクと、滅菌物質収容タンクから供給された滅菌物質を作業室に送り出す滅菌物質送出部と、滅菌物質収容タンクと滅菌物質送出部とを連絡する滅菌物質供給路と、を備え、滅菌物質供給路に微粒子捕集フィルタが設けられ、循環路が滅菌物質送出部に連絡してもよい。   Further, in the above aspect, the sterilizing substance supply unit includes a sterilizing substance containing tank that contains the sterilizing substance, a sterilizing substance sending unit that sends the sterilizing substance supplied from the sterilizing substance containing tank to the work room, a sterilizing substance containing tank, and a sterilizing substance. A sterilizing substance supply path that communicates with the substance delivery section, a particulate collection filter may be provided in the sterilization substance supply path, and the circulation path may communicate with the sterilization substance delivery section.

また、上記態様において、循環路は、滅菌物質を除去する除去部を通る除去部経由循環路を含み、作業室に供給された滅菌物質が除去部経由循環路を通るように流路を切換える除去部経由循環路切換部を備え、制御部は、第1モードおよび第2モードにおける所定のタイミングで除去部経由循環路に切り換えるように除去部経由循環路切換部を制御してもよい。   Further, in the above aspect, the circulation path includes a removal-route via the removal section that passes through the removal section that removes the sterilizing substance, and the removal is performed by switching the flow path so that the sterilization substance supplied to the working chamber passes through the removal-path circulation path. And a control unit may control the removal unit via-circulation path switching unit to switch to the removal unit via-circulation path at a predetermined timing in the first mode and the second mode.

なお、上述した各要素を適宜組み合わせたものも、本件特許出願によって特許による保護を求める発明の範囲に含まれうる。   A combination of the above-described elements as appropriate can also be included in the scope of the invention for which patent protection is sought by this patent application.

本発明によれば、アイソレータにおける滅菌処理の確実性を向上させるとともに、滅菌処理に要する時間をより短縮することができる。   According to the present invention, the reliability of the sterilization process in the isolator can be improved and the time required for the sterilization process can be further shortened.

実施形態1に係るアイソレータの構成を示す概略図である。1 is a schematic diagram illustrating a configuration of an isolator according to a first embodiment. 過酸化水素ミスト発生器の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of a hydrogen peroxide mist generator. 実施形態2に係るアイソレータの構成を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a configuration of an isolator according to a second embodiment. 変形例に係るアイソレータの構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the isolator which concerns on a modification.

以下、本発明を好適な実施の形態をもとに図面を参照しながら説明する。各図面に示される同一または同等の構成要素、部材、処理には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、実施の形態は、発明を限定するものではなく例示であって、実施の形態に記述されるすべての特徴やその組み合わせは、必ずしも発明の本質的なものであるとは限らない。   The present invention will be described below based on preferred embodiments with reference to the drawings. The same or equivalent components, members, and processes shown in the drawings are denoted by the same reference numerals, and repeated descriptions are omitted as appropriate. The embodiments do not limit the invention but are exemplifications, and all features and combinations thereof described in the embodiments are not necessarily essential to the invention.

(実施形態1)
図1は、実施形態1に係るアイソレータ100の構成を示す概略図である。
図1に示すように、実施形態1に係るアイソレータ100は、作業室10と、滅菌物質供給部30と、気体供給部50と、気体排出部60とを備える。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration of an isolator 100 according to the first embodiment.
As shown in FIG. 1, the isolator 100 according to the first embodiment includes a work chamber 10, a sterilizing substance supply unit 30, a gas supply unit 50, and a gas discharge unit 60.

作業室10は、細胞抽出、細胞培養などの生体由来材料を対象とする作業を行うための空間である。作業室10には前面扉12が開閉可能に設けられており、前面扉12の所定の位置には、作業室10内で作業を行うための作業用グローブ14が設けられている。作業者は前面扉12に設けられた図示しない開口部から作業用グローブ14に手を挿入して、作業用グローブ14を通じて作業室10内で作業を行うことができる。ここで、生体由来材料とは、細胞を含む生物そのもの、あるいは生物を構成する物質、または生物が生産する物質などを含む材料を意味する。   The work chamber 10 is a space for performing work on biological materials such as cell extraction and cell culture. A front door 12 is provided in the work chamber 10 so as to be openable and closable, and a work glove 14 for performing work in the work chamber 10 is provided at a predetermined position of the front door 12. An operator can insert a hand into the work glove 14 through an opening (not shown) provided in the front door 12 and perform work in the work chamber 10 through the work glove 14. Here, the living body-derived material means a material including a living organism including a cell itself, a substance constituting the living organism, or a substance produced by the living organism.

また、作業室10は、気体供給口16と気体排出口18とを備える。気体供給口16には、供給側微粒子捕集フィルタとしての供給HEPAフィルタ20(HEPA:High Efficiency Particulate Air)が設けられ、気体排出口18には排出側微粒子捕集フィルタとしての排出HEPAフィルタ22が設けられている。さらに、作業室10には、供給HEPAフィルタ20の気体流れ下流側に設けられ、後述するフィルタ非経由供給路70が連結する開口部24が設けられている。   The working chamber 10 includes a gas supply port 16 and a gas discharge port 18. The gas supply port 16 is provided with a supply HEPA filter 20 (HEPA: High Efficiency Particulate Air) as a supply-side particulate collection filter, and the gas discharge port 18 is provided with a discharge HEPA filter 22 as a discharge-side particulate collection filter. Is provided. Further, the working chamber 10 is provided with an opening 24 that is provided on the downstream side of the gas flow of the supply HEPA filter 20 and is connected to a non-filter supply path 70 described later.

滅菌物質供給部30は、作業室10内に滅菌物質を供給するためのものであり、アイソレータ100は、作業室10内に滅菌物質を供給することで作業室10内を無菌環境とすることができる。ここで、無菌環境とは、作業室で行われる作業に必要な物質以外の混入を回避するために限りなく無塵無菌に近い環境をいう。滅菌物質供給部30は、滅菌物質を収容する滅菌物質収容タンク32と、滅菌物質収容タンク32から供給された滅菌物質を作業室10に送り出す滅菌物質送出部34と、滅菌物質収容タンク32と滅菌物質送出部34とを連絡する滅菌物質供給路36と、を備える。また、滅菌物質供給路36には、微粒子捕集フィルタとしてのメンブレンフィルタ38が設けられている。また、滅菌物質供給路36の滅菌物質収容タンク32とメンブレンフィルタ38との間には弁40が設けられ、弁40の開閉によって滅菌物質収容タンク32から滅菌物質送出部34への滅菌物質の供給が制御される。   The sterilizing substance supply unit 30 is for supplying a sterilizing substance into the work chamber 10, and the isolator 100 may supply the sterilizing substance into the working chamber 10 to make the inside of the working chamber 10 an aseptic environment. it can. Here, the aseptic environment refers to an environment that is almost as dust-free aseptic in order to avoid contamination other than substances necessary for work performed in the work room. The sterilizing material supply unit 30 includes a sterilizing material storage tank 32 that stores the sterilizing material, a sterilizing material sending unit 34 that sends the sterilizing material supplied from the sterilizing material storage tank 32 to the work chamber 10, and the sterilizing material storage tank 32 and the sterilizing material. A sterilizing substance supply path 36 communicating with the substance delivery unit 34. The sterilizing substance supply path 36 is provided with a membrane filter 38 as a particulate collection filter. Further, a valve 40 is provided between the sterilizing substance storage tank 32 and the membrane filter 38 in the sterilizing substance supply path 36, and supply of the sterilizing substance from the sterilizing substance storage tank 32 to the sterilizing substance delivery unit 34 by opening and closing the valve 40. Is controlled.

本実施形態において滅菌物質は過酸化水素であり、滅菌物質送出部34はたとえば図2に示す過酸化水素ミスト発生器200によって構成することができる。この場合、過酸化水素はミスト状態で作業室10内に送り出されるが、大部分はすみやかに気化し、作業室10内では過酸化水素ガスとして存在する。以下、過酸化水素ミストを含めて過酸化水素ガスという場合がある。図2は、過酸化水素ミスト発生器200の概略断面図である。   In this embodiment, the sterilizing substance is hydrogen peroxide, and the sterilizing substance delivery unit 34 can be configured by, for example, a hydrogen peroxide mist generator 200 shown in FIG. In this case, hydrogen peroxide is sent into the working chamber 10 in a mist state, but most of the hydrogen peroxide is quickly vaporized and exists as hydrogen peroxide gas in the working chamber 10. Hereinafter, hydrogen peroxide gas including hydrogen peroxide mist may be referred to. FIG. 2 is a schematic sectional view of the hydrogen peroxide mist generator 200.

図2に示すように、過酸化水素ミスト発生器200は、制御基板202、過酸化水素水タンク204、水封キャップ206、過酸化水素水槽208、超音波発振子210、過酸化水素供給管212を有する。滅菌物質収容タンク32には過酸化水素水が収容されており、たとえば制御基板202によって弁40の開閉が制御されて、滅菌物質収容タンク32から過酸化水素水タンク204に過酸化水素水201が供給される。   As shown in FIG. 2, the hydrogen peroxide mist generator 200 includes a control substrate 202, a hydrogen peroxide water tank 204, a water seal cap 206, a hydrogen peroxide water tank 208, an ultrasonic oscillator 210, and a hydrogen peroxide supply pipe 212. Have The sterilizing substance storage tank 32 stores hydrogen peroxide water. For example, the control board 202 controls the opening and closing of the valve 40, so that the hydrogen peroxide solution 201 is transferred from the sterilization substance storage tank 32 to the hydrogen peroxide solution tank 204. Supplied.

過酸化水素ミスト発生器200は、制御基板202による制御の下、過酸化水素水タンク204内の過酸化水素水201を水封キャップ206から過酸化水素水槽208に供給する。そして、過酸化水素水槽208内の過酸化水素水201に対して超音波発振子210から超音波振動を与えることにより、過酸化水素ミスト203を発生させる。発生させた過酸化水素ミスト203は、過酸化水素供給管212から作業室10に向けて送り出される。   The hydrogen peroxide mist generator 200 supplies the hydrogen peroxide solution 201 in the hydrogen peroxide solution tank 204 from the water seal cap 206 to the hydrogen peroxide solution tank 208 under the control of the control board 202. Then, the hydrogen peroxide mist 203 is generated by applying ultrasonic vibration from the ultrasonic oscillator 210 to the hydrogen peroxide solution 201 in the hydrogen peroxide bath 208. The generated hydrogen peroxide mist 203 is sent out from the hydrogen peroxide supply pipe 212 toward the work chamber 10.

また、滅菌物質送出部34には後述する循環路80が連絡している。なお、滅菌物質送出部34は過酸化水素ミスト発生器200に限らず、たとえば滴下した過酸化水素水に空気を当てて気化させることで過酸化水素ガスを発生させる過酸化水素ガス発生器などであってもよい。また、滅菌物質は過酸化水素に限定されず、たとえばオゾンなどの活性酸素種を含む物質であってもよい。   In addition, a circulatory path 80 to be described later communicates with the sterilizing substance delivery unit 34. The sterilizing substance delivery unit 34 is not limited to the hydrogen peroxide mist generator 200, but may be, for example, a hydrogen peroxide gas generator that generates hydrogen peroxide gas by applying air to the dropped hydrogen peroxide solution to vaporize it. There may be. The sterilizing substance is not limited to hydrogen peroxide, and may be a substance containing an active oxygen species such as ozone.

気体供給部50は、作業室10の気体流れ上流側に設けられている。気体供給部50は、吸気口52を備え、吸気口52から取り込まれたアイソレータ100外部の空気などの気体を作業室10内に供給する。気体供給部50から取り込まれた気体の作業室10内への供給は、弁56の開閉によって制御される。また、気体供給部50は、吸気口52の気体流れ下流側に、活性炭、白金触媒などからなる滅菌物質除去フィルタ54を備え、これにより作業室10から過酸化水素ガスが逆流し、アイソレータ100外部に過酸化水素ガスが流出するのを防いでいる。   The gas supply unit 50 is provided on the upstream side of the gas flow in the work chamber 10. The gas supply unit 50 includes an intake port 52 and supplies a gas such as air outside the isolator 100 taken in from the intake port 52 into the work chamber 10. Supply of the gas taken in from the gas supply unit 50 into the working chamber 10 is controlled by opening and closing the valve 56. In addition, the gas supply unit 50 includes a sterilizing substance removal filter 54 made of activated carbon, a platinum catalyst, or the like on the downstream side of the gas flow of the intake port 52, whereby the hydrogen peroxide gas flows backward from the work chamber 10, This prevents hydrogen peroxide gas from flowing out.

気体排出部60は、作業室10の気体流れ下流側に設けられている。気体排出部60は、排気口62を備え、作業室10内の気体は排気口62からアイソレータ100外部に排出される。作業室10内から排気口62を介したアイソレータ100外部への気体の排出は、弁66の開閉によって制御される。また、気体排出部60は、排気口62の気体流れ上流側に滅菌物質除去フィルタ54と同様の構成を持つ滅菌物質除去フィルタ64を備え、これにより作業室10からアイソレータ100外部への過酸化水素ガスの流出を防いでいる。   The gas discharge part 60 is provided on the gas flow downstream side of the work chamber 10. The gas exhaust unit 60 includes an exhaust port 62, and the gas in the work chamber 10 is exhausted from the isolator 100 through the exhaust port 62. The discharge of gas from the work chamber 10 to the outside of the isolator 100 through the exhaust port 62 is controlled by opening and closing the valve 66. In addition, the gas discharge unit 60 includes a sterilization substance removal filter 64 having the same configuration as the sterilization substance removal filter 54 on the upstream side of the gas flow of the exhaust port 62, whereby hydrogen peroxide from the working chamber 10 to the outside of the isolator 100 is provided. Prevents gas outflow.

アイソレータ100は、フィルタ非経由供給路70と、フィルタ経由供給路72とを備える。フィルタ非経由供給路70とフィルタ経由供給路72とは、供給路切換部としての三方弁90を介して滅菌物質供給部30の滅菌物質送出部34に連結している。そのため、アイソレータ100は、三方弁90によって、滅菌物質送出部34から送り出された過酸化水素ガスを作業室10に供給する経路を、フィルタ非経由供給路70とフィルタ経由供給路72とで切り換えることができる構成となっている。   The isolator 100 includes a non-filter supply path 70 and a filter supply path 72. The non-filter supply path 70 and the filter supply path 72 are connected to the sterilizing substance delivery section 34 of the sterilizing substance supply section 30 via a three-way valve 90 as a supply path switching section. Therefore, the isolator 100 switches the path for supplying the hydrogen peroxide gas sent from the sterilizing substance delivery unit 34 to the work chamber 10 between the non-filter supply path 70 and the filter supply path 72 by the three-way valve 90. It has a configuration that can.

フィルタ非経由供給路70の三方弁90と反対側の端部は開口部24に連結しており、すなわち、フィルタ非経由供給路70は、滅菌物質供給部30と供給HEPAフィルタ20の気体流れ下流側とを連絡している。フィルタ経由供給路72の三方弁90と反対側の端部は三方弁92を介して気体供給口16に連結しており、すなわち、フィルタ経由供給路72は、滅菌物質供給部30と供給HEPAフィルタ20の気体流れ上流側とを連絡している。   The end of the non-filter supply path 70 opposite to the three-way valve 90 is connected to the opening 24. That is, the non-filter supply path 70 is downstream of the gas flow of the sterilizing substance supply section 30 and the supply HEPA filter 20. We are in contact with the side. The end of the supply passage 72 on the side opposite to the three-way valve 90 is connected to the gas supply port 16 via the three-way valve 92. That is, the supply passage 72 via the filter is connected to the sterilizing substance supply section 30 and the supply HEPA filter. The 20 gas flow upstream side is connected.

三方弁92には気体供給部50が連結しており、気体供給部50は、三方弁92を介して気体供給口16に連結している。そのため、アイソレータ100は、三方弁92によって、気体供給部50からアイソレータ100外部の気体を作業室10に供給するか、フィルタ経由供給路72を介して滅菌物質供給部30から過酸化水素ガスを作業室10に供給するかを切り換えることができる構成となっている。   A gas supply unit 50 is connected to the three-way valve 92, and the gas supply unit 50 is connected to the gas supply port 16 via the three-way valve 92. Therefore, the isolator 100 supplies the gas outside the isolator 100 from the gas supply unit 50 to the work chamber 10 by the three-way valve 92 or works hydrogen peroxide gas from the sterilizing substance supply unit 30 via the supply path 72 via the filter. It can be switched to supply to the chamber 10.

また、アイソレータ100は、作業室10に供給された過酸化水素ガスを滅菌物質供給部30に戻す循環路80を備える。本実施形態のアイソレータ100において、循環路80は、作業室10の気体排出口18と連結し、排出HEPAフィルタ22の気体流れ下流側と滅菌物質供給部30とを連絡するフィルタ経由循環路81を含む。また、循環路80には、作業室10内への気体の供給および排出を行うためのファン110が設けられている。また、循環路80におけるファン110の気体流れ下流側には三方弁94が設けられており、気体排出部60が三方弁94を介して循環路80に連結されている。そのため、アイソレータ100は、三方弁94によって、作業室10内の気体を滅菌物質供給部30に戻すか、気体排出部60から排出するかを切り換えることができる構成となっている。   The isolator 100 also includes a circulation path 80 that returns the hydrogen peroxide gas supplied to the work chamber 10 to the sterilizing substance supply unit 30. In the isolator 100 of the present embodiment, the circulation path 80 is connected to the gas discharge port 18 of the work chamber 10, and a filter-passage circulation path 81 that communicates the downstream side of the gas flow of the discharge HEPA filter 22 and the sterilizing substance supply unit 30. Including. In addition, the circulation path 80 is provided with a fan 110 for supplying and discharging gas into the work chamber 10. A three-way valve 94 is provided on the downstream side of the gas flow of the fan 110 in the circulation path 80, and the gas discharge unit 60 is connected to the circulation path 80 via the three-way valve 94. Therefore, the isolator 100 is configured to be able to switch whether the gas in the working chamber 10 is returned to the sterilizing substance supply unit 30 or discharged from the gas discharge unit 60 by the three-way valve 94.

循環路80の作業室10と反対側の端部は、滅菌物質送出部34に連結しており、作業室10内に供給された過酸化水素ガスが、滅菌物質送出部34において新たに生成された過酸化水素ミスト203と混合されて、再び作業室10に供給される。   The end of the circulation path 80 opposite to the work chamber 10 is connected to the sterilizing substance delivery unit 34, and hydrogen peroxide gas supplied into the work chamber 10 is newly generated in the sterilization substance delivery unit 34. It is mixed with the hydrogen peroxide mist 203 and supplied to the working chamber 10 again.

循環路80は、過酸化水素ガスを除去する除去部としての滅菌物質除去フィルタ83を有する除去部経由循環路82を含む。滅菌物質除去フィルタ83は、滅菌物質除去フィルタ54と同様の構成を持つ。除去部経由循環路82は、除去部経由循環路切換部としての三方弁96を介して循環路80から枝分かれし、三方弁96と反対側の端部が循環路80における滅菌物質供給部30の気体流れ下流側に合流している。そのため、アイソレータ100は、三方弁96によって、作業室10内の気体を除去部経由循環路82を通すか否かを切り換えることができる。作業室10内の気体を除去部経由循環路82に通すことで、作業室10内に存在する過酸化水素ガスを除去することができる。   The circulation path 80 includes a removal section via-circulation path 82 having a sterilizing substance removal filter 83 as a removal section for removing the hydrogen peroxide gas. The sterilizing substance removing filter 83 has the same configuration as the sterilizing substance removing filter 54. The removal unit circulation path 82 branches off from the circulation path 80 via a three-way valve 96 serving as a removal unit via circulation path switching unit, and the end opposite to the three-way valve 96 is connected to the sterilizing substance supply unit 30 in the circulation path 80. It merges downstream of the gas flow. Therefore, the isolator 100 can switch whether or not the gas in the working chamber 10 is passed through the removal-parts circulation path 82 by the three-way valve 96. By passing the gas in the work chamber 10 through the removal portion circulation path 82, the hydrogen peroxide gas present in the work chamber 10 can be removed.

アイソレータ100は、制御部300を備える。制御部300は、弁56、弁66、三方弁90、三方弁92、三方弁94、および三方弁96の開閉と、ファン110のON/OFFとを制御し、また滅菌物質供給部30の制御基板202に対して過酸化水素ミストの生成の開始および停止を指示する。   The isolator 100 includes a control unit 300. The control unit 300 controls the opening / closing of the valve 56, the valve 66, the three-way valve 90, the three-way valve 92, the three-way valve 94, and the three-way valve 96, and ON / OFF of the fan 110, and also controls the sterilizing substance supply unit 30. The substrate 202 is instructed to start and stop the production of hydrogen peroxide mist.

続いて、上述の構成を備えたアイソレータ100における滅菌処理について説明する。まず、作業室10で作業が行われている状態では、制御部300は、三方弁92を気体供給部50側が開となるように制御し、三方弁94を気体排出部60側が開となるように制御する。これにより、アイソレータ100外部の気体、たとえば空気が気体供給部50から供給HEPAフィルタ20を介して作業室10に供給され、作業室10内の空気が排出HEPAフィルタ22を介して気体排出部60からアイソレータ100外部に排出されるという気体流路が形成される。   Next, the sterilization process in the isolator 100 having the above-described configuration will be described. First, in a state where work is performed in the work chamber 10, the control unit 300 controls the three-way valve 92 so that the gas supply unit 50 side is opened, and the three-way valve 94 is opened on the gas discharge unit 60 side. To control. Thereby, the gas outside the isolator 100, for example, air is supplied from the gas supply unit 50 to the work chamber 10 through the supply HEPA filter 20, and the air in the work chamber 10 is supplied from the gas discharge unit 60 through the discharge HEPA filter 22. A gas flow path is formed that is discharged to the outside of the isolator 100.

アイソレータ100の滅菌処理は、前処理工程と、滅菌工程と、除去工程とを含む。前処理工程においては、まず、制御部300が気体供給部50からのアイソレータ100外部の空気の供給と気体排出部60からの作業室10内の空気の排出を停止するように三方弁92および三方弁94を制御する。続いて、作業室10内における過酸化水素ガスの濃度が作業室10内の滅菌に必要な濃度以上となるまで、過酸化水素ガスがフィルタ非経由供給路70あるいはフィルタ経由供給路72を通して作業室10内に供給される。前処理工程において作業室10内における過酸化水素ガスが所定濃度以上となった後、滅菌工程が開始される。   The sterilization process of the isolator 100 includes a pretreatment process, a sterilization process, and a removal process. In the pretreatment process, first, the control unit 300 stops the supply of the air outside the isolator 100 from the gas supply unit 50 and the discharge of the air in the work chamber 10 from the gas discharge unit 60. The valve 94 is controlled. Subsequently, the hydrogen peroxide gas passes through the non-filter supply path 70 or the filter supply path 72 until the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work chamber 10 becomes equal to or higher than the concentration required for sterilization in the work chamber 10. 10 is supplied. After the hydrogen peroxide gas in the working chamber 10 reaches a predetermined concentration or more in the pretreatment process, the sterilization process is started.

滅菌工程では、滅菌物質供給部30から送り出された過酸化水素ガスが、フィルタ非経由供給路70あるいはフィルタ経由供給路72を経由して、作業室10、フィルタ経由循環路81、滅菌物質供給部30へと循環して滅菌が行われる。滅菌工程が終了した後、滅菌処理は除去工程に入る。   In the sterilization process, the hydrogen peroxide gas sent out from the sterilizing substance supply unit 30 passes through the non-filter supply path 70 or the filter supply path 72 to the working chamber 10, the filter circulation path 81, and the sterilization substance supply section. Circulation to 30 is performed for sterilization. After the sterilization process is completed, the sterilization process enters the removal process.

除去工程では、滅菌物質供給部30からの過酸化水素ガスの供給が停止されるとともに、作業室10内の気体が除去部経由循環路82を通り、滅菌物質除去フィルタ83によって過酸化水素ガスが分解除去される。また、作業室10内の気体が除去部経由循環路82、フィルタ非経由供給路70あるいはフィルタ経由供給路72、作業室10へと循環することで、滅菌物質除去フィルタ83における過酸化水素ガスの除去が繰り返される。作業室10内の過酸化水素ガス濃度が所定値以下となったら、制御部300は、三方弁92を気体供給部50側が開となるように制御し、三方弁94を気体排出部60側が開となるように制御する。   In the removal step, the supply of hydrogen peroxide gas from the sterilizing substance supply unit 30 is stopped, the gas in the working chamber 10 passes through the removal unit circulation path 82, and the sterilizing substance removal filter 83 causes the hydrogen peroxide gas to flow. Decomposed and removed. In addition, the gas in the working chamber 10 is circulated to the removal portion circulation circuit 82, the non-filter supply passage 70 or the filter supply passage 72, and the work chamber 10, so that the hydrogen peroxide gas in the sterilizing substance removal filter 83 is reduced. The removal is repeated. When the hydrogen peroxide gas concentration in the working chamber 10 becomes a predetermined value or less, the control unit 300 controls the three-way valve 92 so that the gas supply unit 50 side is opened, and the three-way valve 94 is opened on the gas discharge unit 60 side. Control to be

これにより、アイソレータ100内には、吸気口52より取り込まれた空気が、供給HEPAフィルタ20を通過して作業室10内に至り、作業室10内から排出HEPAフィルタ22を通過して、排気口62から排出されるという気体流路が形成される。その結果、作業室10内の気体が空気に置換され、作業室10内の過酸化水素ガスは作業室10から除去される。また、除去工程では、アイソレータ100内の作業室10以外の領域、たとえばフィルタ非経由供給路70あるいはフィルタ経由供給路72内に残存する過酸化水素ガスや供給HEPAフィルタ20に吸着している過酸化水素も除去される。   As a result, the air taken in from the air inlet 52 into the isolator 100 passes through the supply HEPA filter 20 and reaches the work chamber 10, passes from the work chamber 10 through the exhaust HEPA filter 22, and is discharged into the exhaust port. A gas flow path that is discharged from 62 is formed. As a result, the gas in the work chamber 10 is replaced with air, and the hydrogen peroxide gas in the work chamber 10 is removed from the work chamber 10. Further, in the removing step, the hydrogen peroxide gas remaining in the region other than the work chamber 10 in the isolator 100, for example, the non-filter supply path 70 or the filter supply path 72, or the peroxide adsorbed on the supply HEPA filter 20 is used. Hydrogen is also removed.

除去工程の初期では過酸化水素ガス濃度が高いため、除去工程の開始とともに作業室10内の気体を気体排出部60からアイソレータ100外部に排出しようとすると、滅菌物質除去フィルタ64での過酸化水素ガスの分解に長い時間がかかってしまう。一方、本実施形態では、除去工程において作業室10内の気体が繰り返し除去部経由循環路82を通って過酸化水素ガスが分解されている。そのため、短時間に過酸化水素ガス濃度を低下させることができ、その結果、滅菌処理時間を短縮することができる。また、過酸化水素ガス濃度を十分に低減した後に作業室10内の気体が気体排出部60からアイソレータ100外部に排出されているため、過酸化水素ガスの外部への漏出を防止できる。   Since the hydrogen peroxide gas concentration is high at the initial stage of the removal process, when the gas in the working chamber 10 is exhausted from the gas discharge unit 60 to the outside of the isolator 100 at the start of the removal process, the hydrogen peroxide in the sterilizing substance removal filter 64 is used. It takes a long time to decompose the gas. On the other hand, in the present embodiment, the gas in the working chamber 10 is repeatedly decomposed through the removal portion circulating circuit 82 in the removal step, and the hydrogen peroxide gas is decomposed. Therefore, the hydrogen peroxide gas concentration can be reduced in a short time, and as a result, the sterilization time can be shortened. Further, since the gas in the working chamber 10 is discharged from the gas discharge unit 60 to the outside of the isolator 100 after the hydrogen peroxide gas concentration is sufficiently reduced, leakage of the hydrogen peroxide gas to the outside can be prevented.

ここで、前記「所定値」は、たとえば滅菌処理時間の短縮と過酸化水素ガスの漏出の防止を両立し得る値であり、その値は実験により求めることができる。また、作業室10内の過酸化水素ガス濃度は、作業室10内に赤外吸光式センサなどのセンサを設けることで求めることができる。あるいは作業室10内の過酸化水素ガス濃度が所定値になるまでの除去工程開始からの時間を算出し、当該時間の経過を監視することで作業室10内の過酸化水素ガス濃度が所定値となったことを検知するようにしてもよい。   Here, the “predetermined value” is a value that can achieve both shortening of the sterilization time and prevention of leakage of hydrogen peroxide gas, for example, and the value can be obtained by experiment. The hydrogen peroxide gas concentration in the work chamber 10 can be obtained by providing a sensor such as an infrared absorption sensor in the work chamber 10. Alternatively, the time from the start of the removal process until the concentration of hydrogen peroxide gas in the work chamber 10 reaches a predetermined value is calculated, and by monitoring the passage of the time, the concentration of hydrogen peroxide gas in the work chamber 10 is a predetermined value. You may make it detect that it became.

除去工程を経て、作業室10内の過酸化水素ガス濃度が所定濃度以下となった場合に、作業室10が使用可能な状態となる。ここで、作業室10が使用可能な状態となる過酸化水素ガスの濃度は、作業に用いられる生体由来材料に、作業上無視できない程度の影響を与えない濃度である。この濃度は、たとえばACGIH(American Conference of Governmental Industrial Hygienists)によって規定されている1ppm(TWA:時間加重平均値)以下の濃度である。   When the hydrogen peroxide gas concentration in the work chamber 10 is equal to or lower than a predetermined concentration after the removal process, the work chamber 10 becomes usable. Here, the concentration of the hydrogen peroxide gas at which the working chamber 10 can be used is a concentration that does not affect the biological material used in the work to a degree that cannot be ignored in the work. This concentration is, for example, a concentration of 1 ppm (TWA: time-weighted average value) or less defined by ACGIH (American Conference of Global Industrial Hygienists).

ここで、本実施形態のアイソレータ100は、滅菌処理モードとして、作業室10を滅菌する第1モードと、作業室10および供給HEPAフィルタ20を滅菌する第2モードとを備える。アイソレータ100は、ユーザが指示部310を介して第1モードと第2モードの選択が可能となっている。   Here, the isolator 100 according to the present embodiment includes a first mode for sterilizing the work chamber 10 and a second mode for sterilizing the work chamber 10 and the supply HEPA filter 20 as sterilization processing modes. The isolator 100 allows the user to select the first mode and the second mode via the instruction unit 310.

アイソレータ100は指示部310を備え、制御部300は、指示部310からのユーザの指示に応じて、第1モードではフィルタ非経由供給路70に切り換え、第2モードではフィルタ経由供給路72に切り換えるように三方弁90を制御する。制御部300は、図示しない記憶部を備え、記憶部には第1モードを実行するためのプログラムと第2モードを実行するためのプログラムが予め記憶されている。制御部300はこれらのプログラムを呼び出して実行することで、各モードに応じた滅菌処理を実行する。   The isolator 100 includes an instruction unit 310, and the control unit 300 switches to the non-filter supply path 70 in the first mode and switches to the filter supply path 72 in the second mode in accordance with a user instruction from the instruction unit 310. Thus, the three-way valve 90 is controlled. The control unit 300 includes a storage unit (not shown), and a program for executing the first mode and a program for executing the second mode are stored in advance in the storage unit. The control unit 300 calls and executes these programs to execute a sterilization process corresponding to each mode.

第1モードでは、滅菌物質供給部30の滅菌物質送出部34から送り出された過酸化水素ガスは、フィルタ非経由供給路70を通って、開口部24から作業室10内に供給される。そして、第1モードでは、過酸化水素ガスが滅菌物質供給部30からフィルタ非経由供給路70、作業室10、およびフィルタ経由循環路81を通って、滅菌物質供給部30へと循環する流通経路が形成される。このように、第1モードでは、過酸化水素ガスが供給HEPAフィルタ20を通過することなく作業室10内に供給される。   In the first mode, the hydrogen peroxide gas sent out from the sterilizing substance supply unit 34 of the sterilizing substance supply unit 30 is supplied into the working chamber 10 from the opening 24 through the non-filter supply path 70. In the first mode, the hydrogen peroxide gas is circulated from the sterilizing substance supply unit 30 to the sterilizing substance supply unit 30 through the non-filter supply path 70, the working chamber 10, and the filter circulation path 81. Is formed. Thus, in the first mode, the hydrogen peroxide gas is supplied into the working chamber 10 without passing through the supply HEPA filter 20.

一方、第2モードでは、滅菌物質供給部30の滅菌物質送出部34から送り出された過酸化水素ガスは、フィルタ経由供給路72を通って、供給HEPAフィルタ20を通過して作業室10内に供給される。そして、第2モードでは、過酸化水素ガスが滅菌物質供給部30からフィルタ経由供給路72、供給HEPAフィルタ20、作業室10、およびフィルタ経由循環路81を通って、滅菌物質供給部30へと循環する流通経路が形成される。このように、第2モードでは、過酸化水素ガスが供給HEPAフィルタ20を通過して作業室10内に供給される。   On the other hand, in the second mode, the hydrogen peroxide gas sent from the sterilizing substance delivery unit 34 of the sterilizing substance supply unit 30 passes through the supply passage 72 via the filter, passes through the supply HEPA filter 20 and enters the working chamber 10. Supplied. In the second mode, the hydrogen peroxide gas passes from the sterilizing substance supply unit 30 through the filter supply path 72, the supply HEPA filter 20, the work chamber 10, and the filter circulation path 81 to the sterilization substance supply unit 30. A circulation channel that circulates is formed. Thus, in the second mode, the hydrogen peroxide gas is supplied into the working chamber 10 through the supply HEPA filter 20.

供給HEPAフィルタ20に吸着した過酸化水素は、供給HEPAフィルタ20を通過する気体によって剥離するが、供給HEPAフィルタ20を通過する気体の流速が小さい場合には剥離することが困難である。そのため、供給HEPAフィルタ20に吸着した過酸化水素は比較的長い時間をかけて徐々に剥離し、作業室10内に放出される。その結果、作業室10内の過酸化水素ガス濃度が、作業室10を使用可能な濃度まで下がるのに時間がかかってしまう。したがって、上述の第2モードの所要時間は、第1モードの所要時間よりも長くなる。いいかえれば、第1モードは、第2モードよりも所要時間が短く設定できる。   The hydrogen peroxide adsorbed on the supply HEPA filter 20 is peeled off by the gas passing through the supply HEPA filter 20, but is difficult to peel off when the flow rate of the gas passing through the supply HEPA filter 20 is small. Therefore, the hydrogen peroxide adsorbed on the supply HEPA filter 20 is gradually separated over a relatively long time and is released into the working chamber 10. As a result, it takes time for the concentration of the hydrogen peroxide gas in the work chamber 10 to decrease to a concentration at which the work chamber 10 can be used. Therefore, the time required for the second mode is longer than the time required for the first mode. In other words, the first mode can be set to be shorter than the second mode.

そこで、たとえば、作業室内における1つの作業が終了した後、次の作業に際して実施する滅菌処理のモードを第1モードとすることで、滅菌処理時間を短くし、早期に次の作業を開始できるようになる。一方、たとえば1日の作業が終了し、次の作業が翌日に実施されるような場合、あるいは定期的なメンテナンスを実施する場合には、第2モードの滅菌処理を実施することで、供給HEPAフィルタ20を含むより広い領域を滅菌処理し、アイソレータ100での滅菌処理の確実性を向上させることができる。   Therefore, for example, after one work in the work room is completed, the mode of sterilization performed at the next work is set to the first mode, so that the sterilization time can be shortened and the next work can be started early. become. On the other hand, for example, when one day of work is completed and the next work is performed on the next day, or when regular maintenance is performed, supply HEPA is performed by performing sterilization processing in the second mode. A wider area including the filter 20 can be sterilized, and the reliability of the sterilization process in the isolator 100 can be improved.

なお、第1モードにおいて、過酸化水素ガスが排出HEPAフィルタ22を通過するため、排出HEPAフィルタ22には過酸化水素が吸着する。そして、排出HEPAフィルタ22に吸着した過酸化水素の剥離には、供給HEPAフィルタ20の場合と同様に比較的長時間を要する。しかしながら、排出HEPAフィルタ22から剥離した過酸化水素は、作業中に生じている作業室10から気体排出部60に向かう空気の流れに乗って気体排出部60側に送り出され、作業室10内に逆流する可能性は低い。そのため、第1モードでは、排出HEPAフィルタ22に吸着した過酸化水素の存在にかかわらず、滅菌処理時間を第2モードよりも短くすることができる。   In the first mode, since hydrogen peroxide gas passes through the exhaust HEPA filter 22, hydrogen peroxide is adsorbed on the exhaust HEPA filter 22. The hydrogen peroxide adsorbed on the exhaust HEPA filter 22 requires a relatively long time as in the case of the supply HEPA filter 20. However, the hydrogen peroxide peeled from the discharge HEPA filter 22 is sent to the gas discharge unit 60 side along the air flow from the work chamber 10 to the gas discharge unit 60 generated during the work, and enters the work chamber 10. The possibility of backflow is low. Therefore, in the first mode, the sterilization time can be made shorter than that in the second mode regardless of the presence of hydrogen peroxide adsorbed on the exhaust HEPA filter 22.

以上説明した構成による作用効果を総括すると、実施形態1のアイソレータ100は、フィルタ非経由供給路70とフィルタ経由供給路72とを備える。また、制御部300が作業室10を滅菌する第1モードではフィルタ非経由供給路70に切り換え、作業室10および供給HEPAフィルタ20を滅菌する第2モードではフィルタ経由供給路72に切り換えている。このような構成において、状況に応じて滅菌処理のモードを選択することで、アイソレータ100における滅菌処理の確実性を向上させるとともに、滅菌処理に要する時間をより短縮することができる。また、アイソレータ100における滅菌処理の確実性が向上することで、アイソレータ100で処理した被処理物の信頼性が向上する。また、滅菌処理に要する時間の短縮によりアイソレータ100の使用効率が向上し、被処理物の生成量を増大させることができる。   Summarizing the operational effects of the configuration described above, the isolator 100 according to the first embodiment includes the non-filter supply path 70 and the filter supply path 72. Further, the control unit 300 switches to the non-filter supply path 70 in the first mode in which the work chamber 10 is sterilized, and switches to the filter supply path 72 in the second mode in which the work chamber 10 and the supply HEPA filter 20 are sterilized. In such a configuration, by selecting the sterilization mode according to the situation, the reliability of the sterilization process in the isolator 100 can be improved and the time required for the sterilization process can be further shortened. Moreover, the reliability of the to-be-processed object processed with the isolator 100 improves because the certainty of the sterilization process in the isolator 100 improves. Moreover, the use efficiency of the isolator 100 can be improved by shortening the time required for the sterilization treatment, and the amount of the object to be processed can be increased.

また、第1モードでは供給HEPAフィルタ20を経由せずに過酸化水素ガスが作業室10に供給されるため、供給HEPAフィルタ20に吸着することによる過酸化水素ガスの無駄な消費を抑えることができる。また、作業室10に供給される過酸化水素ガスの濃度ムラを減らすことができる。   In the first mode, since the hydrogen peroxide gas is supplied to the work chamber 10 without passing through the supply HEPA filter 20, wasteful consumption of the hydrogen peroxide gas due to adsorption to the supply HEPA filter 20 can be suppressed. it can. Further, the concentration unevenness of the hydrogen peroxide gas supplied to the work chamber 10 can be reduced.

また、アイソレータ100は、循環路80にファン110を有し、ファン110によって作業室10内への気体の供給および排出を行っている。ファン110を循環路80に設けたことで、気体供給部50からの気体の供給および気体排出部60からの気体の排出だけでなく、フィルタ非経由供給路70あるいはフィルタ経由供給路72を介した過酸化水素ガスの循環をも実施することができる。そのため、必要なファンの数が減り、アイソレータ100の部品点数を削減できる。   Further, the isolator 100 has a fan 110 in the circulation path 80, and supplies and discharges gas into the work chamber 10 by the fan 110. By providing the fan 110 in the circulation path 80, not only the supply of gas from the gas supply unit 50 and the discharge of gas from the gas discharge unit 60, but also through the non-filter supply path 70 or the filter supply path 72. A circulation of hydrogen peroxide gas can also be carried out. Therefore, the number of necessary fans is reduced, and the number of parts of the isolator 100 can be reduced.

さらに、滅菌物質供給部30の滅菌物質供給路36にメンブレンフィルタ38を設けている。そのため、滅菌物質収容タンク32側からの汚染物質の混入を回避でき、作業室10内の無菌環境を確保できる。また、循環路80に、滅菌物質除去フィルタ83を有する除去部経由循環路82を設け、滅菌処理における除去工程では、作業室10内の気体を除去部経由循環路82に繰り返し通して過酸化水素ガスを分解している。そのため、短時間に過酸化水素ガス濃度を低下させることができ、その結果、滅菌処理時間を短縮することができる。また、過酸化水素ガスの外部への漏出を防止でき、アイソレータ100の安全性が向上する。   Furthermore, a membrane filter 38 is provided in the sterilizing substance supply path 36 of the sterilizing substance supply unit 30. For this reason, it is possible to avoid contamination from the sterilizing substance storage tank 32 and to ensure a sterile environment in the working chamber 10. Further, the circulation path 80 is provided with a removal part circulation path 82 having a sterilizing substance removal filter 83, and in the removal process in the sterilization process, the gas in the working chamber 10 is repeatedly passed through the removal part circulation path 82 to generate hydrogen peroxide. Decomposing gas. Therefore, the hydrogen peroxide gas concentration can be reduced in a short time, and as a result, the sterilization time can be shortened. Moreover, leakage of hydrogen peroxide gas to the outside can be prevented, and the safety of the isolator 100 is improved.

(実施形態2)
実施形態2では、循環路80がフィルタ非経由循環路を含む点が実施形態1と異なる。それ以外のアイソレータ100および滅菌物質送出部34の構成などについては実施形態1と同様であるため、同一の図面を用いるとともに説明は適宜省略する。
(Embodiment 2)
The second embodiment is different from the first embodiment in that the circulation path 80 includes a non-filter circulation circuit. Other configurations of the isolator 100 and the sterilizing substance delivery unit 34 are the same as those in the first embodiment, and therefore, the same drawings are used and description thereof is omitted as appropriate.

図3は、実施形態2に係るアイソレータ100の構成を示す概略図である。
図3に示すように、実施形態2に係るアイソレータ100は、作業室10と、滅菌物質供給部30と、気体供給部50と、気体排出部60とを備える。作業室10は前面扉12と、作業用グローブ14と、気体供給口16と、気体排出口18とを備え、気体供給口16には供給HEPAフィルタ20が、気体排出口18には排出HEPAフィルタ22が設けられている。さらに、作業室10には、フィルタ非経由供給路70が連結する開口部24と、排出HEPAフィルタ22の気体流れ上流側に設けられ、後述するフィルタ非経由循環路84が連結する開口部26が設けられている。
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating the configuration of the isolator 100 according to the second embodiment.
As shown in FIG. 3, the isolator 100 according to the second embodiment includes a work chamber 10, a sterilizing substance supply unit 30, a gas supply unit 50, and a gas discharge unit 60. The working chamber 10 includes a front door 12, a work globe 14, a gas supply port 16, and a gas discharge port 18, a supply HEPA filter 20 at the gas supply port 16, and a discharge HEPA filter at the gas discharge port 18. 22 is provided. Further, the working chamber 10 has an opening 24 to which the non-filter supply path 70 is connected, and an opening 26 which is provided on the upstream side of the gas flow of the exhaust HEPA filter 22 and to which a non-filter circulation circuit 84 described later is connected. Is provided.

滅菌物質供給部30は、滅菌物質収容タンク32と、滅菌物質送出部34と、滅菌物質供給路36とを備える。滅菌物質供給路36には、メンブレンフィルタ38と弁40とが設けられ、弁40の開閉によって滅菌物質収容タンク32から滅菌物質送出部34への滅菌物質の供給が制御される。本実施形態において滅菌物質は過酸化水素である。また、滅菌物質送出部34には循環路80が連絡している。   The sterilizing substance supply unit 30 includes a sterilizing substance storage tank 32, a sterilizing substance delivery unit 34, and a sterilizing substance supply path 36. The sterilizing substance supply path 36 is provided with a membrane filter 38 and a valve 40, and the supply of the sterilizing substance from the sterilizing substance storage tank 32 to the sterilizing substance delivery unit 34 is controlled by opening and closing the valve 40. In this embodiment, the sterilizing substance is hydrogen peroxide. In addition, a circulation path 80 communicates with the sterilizing substance delivery unit 34.

気体供給部50は、吸気口52と、滅菌物質除去フィルタ54と、弁56とを備える。気体供給部50から作業室10内への気体の供給は、弁56の開閉によって制御される。気体排出部60は、排気口62と、滅菌物質除去フィルタ64と、弁66とを備える。作業室10内からアイソレータ100外部への気体の排出は、弁66の開閉によって制御される。   The gas supply unit 50 includes an intake port 52, a sterilizing substance removal filter 54, and a valve 56. Gas supply from the gas supply unit 50 into the working chamber 10 is controlled by opening and closing the valve 56. The gas discharge unit 60 includes an exhaust port 62, a sterilizing substance removal filter 64, and a valve 66. The discharge of gas from the work chamber 10 to the outside of the isolator 100 is controlled by opening and closing the valve 66.

アイソレータ100は、フィルタ非経由供給路70と、フィルタ経由供給路72とを備え、これらは三方弁90を介して滅菌物質送出部34に連結している。フィルタ非経由供給路70の他端は開口部24に連結し、フィルタ経由供給路72の他端は、三方弁92を介して気体供給口16に連結している。また、気体供給部50は、三方弁92を介して気体供給口16に連結している。   The isolator 100 includes a non-filter supply path 70 and a filter supply path 72, which are connected to the sterilizing substance delivery unit 34 via a three-way valve 90. The other end of the non-filter supply path 70 is connected to the opening 24, and the other end of the filter supply path 72 is connected to the gas supply port 16 via a three-way valve 92. Further, the gas supply unit 50 is connected to the gas supply port 16 via a three-way valve 92.

また、アイソレータ100は、循環路80を備える。本実施形態では循環路80は、フィルタ経由循環路81と、除去部経由循環路82と、フィルタ非経由循環路84とを含んでいる。フィルタ経由循環路81は作業室10の気体排出口18と連結しており、排出HEPAフィルタ22の気体流れ下流側と滅菌物質供給部30とを連絡している。一方、フィルタ非経由循環路84は、開口部26に連結しており、排出HEPAフィルタ22の気体流れ上流側と滅菌物質供給部30とを連絡している。   The isolator 100 also includes a circulation path 80. In the present embodiment, the circulation path 80 includes a filter passage circulation path 81, a removal unit passage circulation path 82, and a filter non-passage circulation path 84. The circulation path 81 via the filter is connected to the gas outlet 18 of the working chamber 10 and communicates the downstream side of the gas flow of the exhaust HEPA filter 22 and the sterilizing substance supply unit 30. On the other hand, the non-filter circulation path 84 is connected to the opening 26 and communicates the upstream side of the gas flow of the exhaust HEPA filter 22 and the sterilizing substance supply unit 30.

フィルタ経由循環路81の気体排出口18と反対側の端部と、フィルタ非経由循環路84の開口部26と反対側の端部とは、循環路切換部としての三方弁98に連結している。そのため、アイソレータ100は、三方弁98によって作業室10内の気体をフィルタ経由循環路81を経由して循環路80に送るか、フィルタ非経由循環路84を経由して循環路80に送るかを切り換えることができる構成となっている。   An end portion of the circulation path 81 opposite to the gas discharge port 18 and an end portion of the non-filter circulation path 84 opposite to the opening portion 26 are connected to a three-way valve 98 serving as a circulation path switching portion. Yes. Therefore, the isolator 100 uses the three-way valve 98 to send the gas in the working chamber 10 to the circulation path 80 via the filter circulation path 81 or to the circulation path 80 via the non-filter circulation path 84. It can be switched.

循環路80には、ファン110が設けられている。具体的には、循環路80における三方弁98の気体流れ下流側に設けられている。また、循環路80におけるファン110の気体流れ下流側には三方弁94が設けられ、気体排出部60が三方弁94を介して循環路80に連結されている。循環路80の作業室10と反対側の端部は、滅菌物質送出部34に連結している。除去部経由循環路82は、滅菌物質除去フィルタ83を有し、三方弁96を介して循環路80から枝分かれし、他端が循環路80に合流している。   A fan 110 is provided in the circulation path 80. Specifically, it is provided on the downstream side of the gas flow of the three-way valve 98 in the circulation path 80. A three-way valve 94 is provided on the downstream side of the gas flow of the fan 110 in the circulation path 80, and the gas discharge unit 60 is connected to the circulation path 80 via the three-way valve 94. The end of the circulation path 80 on the side opposite to the work chamber 10 is connected to the sterilizing substance delivery unit 34. The removal portion circulation path 82 has a sterilizing substance removal filter 83, branches from the circulation path 80 via a three-way valve 96, and the other end joins the circulation path 80.

アイソレータ100は、制御部300を備え、弁56、弁66、三方弁90、三方弁92、三方弁94、三方弁96、および三方弁98の開閉と、ファン110のON/OFFとを制御し、また滅菌物質供給部30の制御基板202に対して過酸化水素ミストの生成の開始および停止を指示する。   The isolator 100 includes a control unit 300, and controls opening / closing of the valve 56, valve 66, three-way valve 90, three-way valve 92, three-way valve 94, three-way valve 96, and three-way valve 98 and ON / OFF of the fan 110. In addition, the control substrate 202 of the sterilizing substance supply unit 30 is instructed to start and stop the generation of hydrogen peroxide mist.

続いて、上述の構成を備えたアイソレータ100における滅菌処理について説明する。作業室10で作業が行われている状態では、制御部300は実施形態1と同様に制御し、空気が気体供給部50から作業室10、気体排出部60に流れる気体流路を形成する。   Next, the sterilization process in the isolator 100 having the above-described configuration will be described. In a state where work is performed in the work chamber 10, the control unit 300 performs control in the same manner as in the first embodiment, and forms a gas flow path in which air flows from the gas supply unit 50 to the work chamber 10 and the gas discharge unit 60.

滅菌処理の前処理工程においては、制御部300は、気体供給部50からの空気の供給と気体排出部60からの空気の排出を停止させ、過酸化水素ガスをフィルタ非経由供給路70あるいはフィルタ経由供給路72を通して作業室10内に供給する。作業室10内の過酸化水素ガスが所定濃度以上となった後、滅菌工程が開始される。滅菌工程では、滅菌物質供給部30から送り出された過酸化水素ガスが、フィルタ非経由供給路70あるいはフィルタ経由供給路72を経由して、作業室10、フィルタ経由循環路81あるいはフィルタ非経由循環路84、滅菌物質供給部30へと循環して滅菌が行われる。滅菌工程が終了した後、滅菌処理は除去工程に入る。   In the pretreatment process of the sterilization process, the control unit 300 stops the supply of air from the gas supply unit 50 and the discharge of air from the gas discharge unit 60, and supplies hydrogen peroxide gas to the non-filter supply path 70 or the filter. Supply into the working chamber 10 through the via supply path 72. After the hydrogen peroxide gas in the work chamber 10 reaches a predetermined concentration or higher, the sterilization process is started. In the sterilization process, the hydrogen peroxide gas sent out from the sterilizing substance supply unit 30 is circulated through the working chamber 10, the filter-circulated circuit 81, or the filter-free path via the filter-less-routed supply path 70 or the filter-routed supply path 72. Sterilization is performed by circulating to the path 84 and the sterilizing substance supply unit 30. After the sterilization process is completed, the sterilization process enters the removal process.

除去工程では、滅菌物質供給部30からの過酸化水素ガスの供給が停止され、作業室10内の気体が除去部経由循環路82を通って過酸化水素ガスが分解除去される。また、作業室10内の気体がフィルタ経由循環路81あるいはフィルタ非経由循環路84、除去部経由循環路82、フィルタ非経由供給路70あるいはフィルタ経由供給路72、作業室10へと循環する。作業室10内の過酸化水素ガス濃度が所定値以下となったら、制御部300は、三方弁92を気体供給部50側が開となるように制御し、三方弁94を気体排出部60側が開となるように制御する。これにより、作業室10内の気体が外部の空気に置換される。   In the removal step, the supply of hydrogen peroxide gas from the sterilizing substance supply unit 30 is stopped, and the gas in the working chamber 10 is decomposed and removed through the removal unit circulation path 82. In addition, the gas in the work chamber 10 circulates to the filter circulation path 81 or the non-filter circulation path 84, the removal part circulation circuit 82, the non-filter supply path 70 or the filter supply path 72, and the work chamber 10. When the hydrogen peroxide gas concentration in the working chamber 10 becomes a predetermined value or less, the control unit 300 controls the three-way valve 92 so that the gas supply unit 50 side is opened, and the three-way valve 94 is opened on the gas discharge unit 60 side. Control to be Thereby, the gas in the working chamber 10 is replaced with external air.

また、除去工程では、アイソレータ100内の作業室10以外の領域、たとえばフィルタ非経由供給路70もしくはフィルタ経由供給路72内、またはフィルタ経由循環路81もしくはフィルタ非経由循環路84内に残存する過酸化水素ガスや供給HEPAフィルタ20および排出HEPAフィルタ22に吸着している過酸化水素も除去される。除去工程を経て、作業室10内の過酸化水素ガス濃度が所定濃度以下となった場合に、作業室10が使用可能な状態となる。   Further, in the removal step, excess remaining in a region other than the working chamber 10 in the isolator 100, for example, in the non-filter supply path 70 or the filter supply path 72, or in the filter bypass circuit 81 or the filter bypass circuit 84. Hydrogen oxide gas and hydrogen peroxide adsorbed on the supply HEPA filter 20 and the exhaust HEPA filter 22 are also removed. When the hydrogen peroxide gas concentration in the work chamber 10 is equal to or lower than a predetermined concentration after the removal process, the work chamber 10 becomes usable.

ここで、本実施形態のアイソレータ100は、滅菌処理モードとして、作業室10を滅菌する第1モードと、作業室10および供給HEPAフィルタ20を滅菌する第2モードとを備える。制御部300は、第1モードではフィルタ非経由供給路70に切り換え、第2モードではフィルタ経由供給路72に切り換えるように三方弁90を制御する。また、制御部300は、第1モードではフィルタ非経由循環路84に切り換え、第2モードではフィルタ経由循環路81に切り換えるように三方弁98を制御する。   Here, the isolator 100 according to the present embodiment includes a first mode for sterilizing the work chamber 10 and a second mode for sterilizing the work chamber 10 and the supply HEPA filter 20 as sterilization processing modes. The control unit 300 controls the three-way valve 90 to switch to the non-filter supply path 70 in the first mode and to switch to the filter supply path 72 in the second mode. The control unit 300 controls the three-way valve 98 so as to switch to the non-filter circulation path 84 in the first mode and to switch to the filter circulation path 81 in the second mode.

したがって、第1モードでは、過酸化水素ガスは、フィルタ非経由供給路70を通って開口部24から作業室10内に供給され、開口部26からフィルタ非経由循環路84を通る。よって、第1モードでは、過酸化水素ガスが供給HEPAフィルタ20および排出HEPAフィルタ22を通過しない。一方、第2モードでは、過酸化水素ガスは、フィルタ経由供給路72を通って、供給HEPAフィルタ20を通過して作業室10内に供給され、排出HEPAフィルタ22を通過してフィルタ経由循環路81を通る。したがって、第2モードでは、過酸化水素ガスが供給HEPAフィルタ20と排出HEPAフィルタ22とを通過する。   Therefore, in the first mode, the hydrogen peroxide gas is supplied into the working chamber 10 from the opening 24 through the non-filter supply path 70 and passes through the non-filter circulation path 84 from the opening 26. Therefore, in the first mode, the hydrogen peroxide gas does not pass through the supply HEPA filter 20 and the exhaust HEPA filter 22. On the other hand, in the second mode, the hydrogen peroxide gas passes through the supply passage 72 via the filter, passes through the supply HEPA filter 20, is supplied into the working chamber 10, passes through the discharge HEPA filter 22, and passes through the filter passage. Pass 81. Therefore, in the second mode, hydrogen peroxide gas passes through the supply HEPA filter 20 and the exhaust HEPA filter 22.

供給HEPAフィルタ20もしくは排出HEPAフィルタ22に吸着した過酸化水素は、剥離に時間がかかるため、第2モードの所要時間は、第1モードの所要時間よりも長くなる。そこで、たとえば、作業と作業の合間に行う滅菌処理のモードを第1モードで実施することで、滅菌処理時間を短くし、早期に次の作業を開始できるようになる。一方、たとえば定期的なメンテナンスなどを実施する場合には、第2モードの滅菌処理を実施することで、アイソレータ100での滅菌処理の確実性を向上させることができる。   Since the hydrogen peroxide adsorbed on the supply HEPA filter 20 or the discharge HEPA filter 22 takes time to peel off, the time required for the second mode is longer than the time required for the first mode. Therefore, for example, by performing the sterilization processing mode performed between operations in the first mode, the sterilization processing time can be shortened and the next operation can be started at an early stage. On the other hand, for example, when performing regular maintenance, the reliability of the sterilization process in the isolator 100 can be improved by performing the sterilization process in the second mode.

以上説明した構成による作用効果を総括すると、実施形態2のアイソレータ100は、実施形態1の構成に加えて、さらにフィルタ非経由循環路84を備える。そして、第1モードでフィルタ非経由循環路84に過酸化水素ガスを通すことで、過酸化水素ガスが供給HEPAフィルタ20だけでなく排出HEPAフィルタ22をも通過しないようにしている。そのため、第1モードで滅菌後の作業室10内で作業を実施している際に、排出HEPAフィルタ22から作業室10への気体の流れが生じた場合であっても、排出HEPAフィルタ22には過酸化水素が吸着していないため、作業室10内に過酸化水素が混入することがない。したがって、実施形態2のアイソレータ100によれば、実施形態1の効果に加えて、アイソレータ100で処理した被処理物の信頼性がさらに向上するという効果が得られる。   Summarizing the operational effects of the configuration described above, the isolator 100 of the second embodiment further includes a non-filter circulation path 84 in addition to the configuration of the first embodiment. In the first mode, the hydrogen peroxide gas is passed through the non-filter circulation path 84 so that the hydrogen peroxide gas does not pass through the exhaust HEPA filter 22 as well as the supply HEPA filter 20. Therefore, even when a gas flow from the discharge HEPA filter 22 to the work chamber 10 occurs when the work is performed in the work chamber 10 after sterilization in the first mode, the discharge HEPA filter 22 Since hydrogen peroxide is not adsorbed, hydrogen peroxide is not mixed into the work chamber 10. Therefore, according to the isolator 100 of the second embodiment, in addition to the effect of the first embodiment, the effect of further improving the reliability of the workpiece processed by the isolator 100 can be obtained.

また、過酸化水素ガスを排出HEPAフィルタ22に通さないため、排出HEPAフィルタ22への吸着による過酸化水素の消費を抑えることができる。そのため、滅菌処理に要する過酸化水素の量を低減することができ、その結果ランニングコストを低減できるという効果が得られる。   Further, since the hydrogen peroxide gas is not passed through the exhaust HEPA filter 22, consumption of hydrogen peroxide due to adsorption to the exhaust HEPA filter 22 can be suppressed. Therefore, the amount of hydrogen peroxide required for sterilization can be reduced, and as a result, the running cost can be reduced.

また、アイソレータ100は、循環路80における三方弁98の下流側にファン110を設けている。そのため、ファン110によって、気体供給部50からの気体の供給および気体排出部60からの気体の排出だけでなく、フィルタ非経由供給路70もしくはフィルタ経由供給路72、およびフィルタ経由循環路81もしくはフィルタ非経由循環路84を介した過酸化水素ガスの循環をも実施することができる。そのため、必要なファンの数が減り、アイソレータ100の部品点数を削減できる。   Further, the isolator 100 is provided with a fan 110 on the downstream side of the three-way valve 98 in the circulation path 80. Therefore, the fan 110 not only supplies the gas from the gas supply unit 50 and discharges the gas from the gas discharge unit 60, but also supplies the non-filter supply path 70 or the filter supply path 72, and the filter connection circulation path 81 or filter. Circulation of hydrogen peroxide gas via the bypass circuit 84 can also be performed. Therefore, the number of necessary fans is reduced, and the number of parts of the isolator 100 can be reduced.

本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形を加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれうるものである。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications such as design changes can be added based on the knowledge of those skilled in the art. Embodiments to which such modifications are added Can also be included in the scope of the present invention.

たとえば、上述の各実施形態では、気体供給部50および気体排出部60を備えた構成であるが、図4に示すように、気体供給部50および気体排出部60を備えない構成であってもよい。図4は、変形例に係るアイソレータ100の構成を示す概略図である。図4に示すアイソレータ100は、気体供給部50および三方弁92と、気体排出部60および三方弁94とを有しない点を除いて、実施形態2に係るアイソレータ100と同様の構成である。   For example, in each of the above-described embodiments, the gas supply unit 50 and the gas discharge unit 60 are provided. However, as illustrated in FIG. 4, the gas supply unit 50 and the gas discharge unit 60 may not be provided. Good. FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a configuration of an isolator 100 according to a modification. The isolator 100 shown in FIG. 4 has the same configuration as the isolator 100 according to the second embodiment except that the gas supply unit 50 and the three-way valve 92 and the gas discharge unit 60 and the three-way valve 94 are not included.

また、循環路80は、フィルタ経由循環路81およびフィルタ非経由循環路84の少なくとも1つを含んでいればよく、したがって、たとえば循環路80はフィルタ非経由循環路84のみを含む構成であってもよい。   Further, the circulation path 80 only needs to include at least one of the filter circulation path 81 and the non-filter circulation path 84. Therefore, for example, the circulation path 80 includes only the non-filter circulation path 84. Also good.

10 作業室、 12 前面扉、 14 作業用グローブ、 16 気体供給口、 18 気体排出口、 20 供給HEPAフィルタ、 22 排出HEPAフィルタ、 24、26 開口部、 30 滅菌物質供給部、 32 滅菌物質収容タンク、 34 滅菌物質送出部、 36 滅菌物質供給路、 38 メンブレンフィルタ、 40、56、66 弁、 50 気体供給部、 52 吸気口、 54、64、83 滅菌物質除去フィルタ、 60 気体排出部、 62 排気口、 70 フィルタ非経由供給路、 72 フィルタ経由供給路、 80 循環路、 81 フィルタ経由循環路、 82 除去部経由循環路、 84 フィルタ非経由循環路、 90、92、94、96、98 三方弁、 100 アイソレータ、 110 ファン、 200 過酸化水素ミスト発生器、 201 過酸化水素水、 202 制御基板、 203 過酸化水素ミスト、 204 過酸化水素水タンク、 206 水封キャップ、 208 過酸化水素水槽、 210 超音波発振子、 212 過酸化水素供給管、 300 制御部、 310 指示部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Work room, 12 Front door, 14 Work glove, 16 Gas supply port, 18 Gas discharge port, 20 Supply HEPA filter, 22 Discharge HEPA filter, 24, 26 Opening part, 30 Sterilization substance supply part, 32 Sterilization substance accommodation tank , 34 Sterilization substance delivery part, 36 Sterilization substance supply path, 38 Membrane filter, 40, 56, 66 Valve, 50 Gas supply part, 52 Inlet, 54, 64, 83 Sterilization substance removal filter, 60 Gas discharge part, 62 Exhaust gas Port, 70 Filter-free supply path, 72 Filter-routed supply path, 80 Circulation path, 81 Filter-routed circulation path, 82 Removal section-routed circulation path, 84 Filter-free path circulation path, 90, 92, 94, 96, 98 Three-way valve , 100 isolators, 110 fans, 200 hydrogen peroxide Generator, 201 hydrogen peroxide solution, 202 control substrate, 203 hydrogen peroxide mist, 204 hydrogen peroxide solution tank, 206 water seal cap, 208 hydrogen peroxide solution tank, 210 ultrasonic oscillator, 212 hydrogen peroxide supply pipe , 300 control unit, 310 instruction unit.

Claims (12)

気体供給口と気体排出口と開口部とを備え、作業を行うための作業室と、
前記気体供給口に設けられた供給側微粒子捕集フィルタと、
前記気体排出口に設けられた排出側微粒子捕集フィルタと、
前記作業室に滅菌物質を供給する滅菌物質供給部と、
前記滅菌物質供給部と前記開口部とを連絡し、前記作業室に前記滅菌物質を送るためのフィルタ非経由供給路と、
前記滅菌物質供給部と前記供給側微粒子捕集フィルタの気体流れ上流側とを連絡し、前記作業室に前記滅菌物質を送るためのフィルタ経由供給路と、
前記排出側微粒子捕集フィルタの気体流れ下流側と前記滅菌物質供給部または外気とを連絡し、前記作業室に供給された前記滅菌物質を前記作業室から排出する排出路と、
前記フィルタ非経由供給路と前記フィルタ経由供給路とを切換える供給路切換部と、
前記供給路切換部の切換を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記フィルタ非経由供給路に切り換えて前記滅菌物質を前記作業室に供給して前記作業室を滅菌する第1モード前記フィルタ経由供給路に切り換えて前記滅菌物質を前記供給側微粒子捕集フィルタを通過させて前記作業室に供給して前記作業室および前記供給側微粒子捕集フィルタを滅菌する第2モードと、を選択可能であり、前記第1モードの実施時間を前記第2モードの実施時間よりも短く設定することを特徴とするアイソレータ。
A working chamber for performing work, comprising a gas supply port, a gas discharge port and an opening;
A supply-side particulate collection filter provided at the gas supply port;
A discharge-side particulate collection filter provided at the gas discharge port;
A sterilizing substance supply unit for supplying a sterilizing substance to the working chamber;
A non-filter supply path for communicating the sterilizing substance supply unit and the opening, and sending the sterilizing substance to the working chamber;
Connecting the sterilizing substance supply unit and the gas flow upstream side of the supply side particulate collection filter, a supply path via a filter for sending the sterilizing substance to the working chamber;
A discharge path for communicating the downstream side of the gas flow of the discharge-side particulate collection filter and the sterilizing substance supply unit or outside air, and discharging the sterilizing substance supplied to the working chamber from the working chamber;
A supply path switching unit that switches between the non-filter supply path and the filter supply path;
A control unit that controls switching of the supply path switching unit,
Wherein the control unit includes a first mode for sterilizing the working chamber by supplying the sterilizing material to the working chamber by switching the filter non-through the supply path, the supplying the sterilizing material is switched through to the supply path the filter A second mode of passing through the side particle collection filter and supplying it to the working chamber to sterilize the working chamber and the supply side particle collection filter , and the execution time of the first mode can be selected. An isolator characterized in that it is set shorter than the execution time of the second mode .
前記作業室内からの気体の排出を行うためのファンが前記排出路に設けられたことを特徴とする請求項1に記載のアイソレータ。   The isolator according to claim 1, wherein a fan for discharging gas from the work chamber is provided in the discharge path. 前記滅菌物質供給部は、滅菌物質を収容する滅菌物質収容タンクと、前記滅菌物質収容タンクから供給された滅菌物質を前記作業室に送り出す滅菌物質送出部と、前記滅菌物質収容タンクと前記滅菌物質送出部とを連絡する滅菌物質供給路と、を備え、
前記滅菌物質供給路に微粒子捕集フィルタが設けられ、
前記排出路が前記滅菌物質送出部に連絡することを特徴とする請求項1または2に記載のアイソレータ。
The sterilizing material supply unit includes a sterilizing material storage tank for storing a sterilizing material, a sterilizing material sending unit for sending the sterilizing material supplied from the sterilizing material storage tank to the working chamber, the sterilizing material storage tank, and the sterilizing material A sterilizing substance supply path communicating with the delivery section,
A particulate collection filter is provided in the sterilizing substance supply path,
The isolator according to claim 1, wherein the discharge path communicates with the sterilizing substance delivery unit.
前記排出路は、前記滅菌物質を除去する除去部を通る除去部経由循環路を含み、
前記作業室に供給された前記滅菌物質が前記除去部経由循環路を通るように流路を切換える除去部経由循環路切換部を備え、
前記制御部は、所定のタイミングで前記除去部経由循環路に切り換えるように前記除去部経由循環路切換部を制御することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のアイソレータ。
The discharge path includes a circulation path via a removal section that passes through a removal section that removes the sterilizing substance,
A removal unit via-circulation path switching unit that switches the flow path so that the sterilized substance supplied to the working chamber passes through the removal unit-circulation circuit;
The isolator according to any one of claims 1 to 3, wherein the control unit controls the removal unit routed circulation path switching unit to switch to the removal unit routed circulation path at a predetermined timing.
気体供給口と気体排出口と第1開口部と第2開口部とを備え、作業を行うための作業室と、
前記気体供給口に設けられた供給側微粒子捕集フィルタと、
前記気体排出口に設けられた排出側微粒子捕集フィルタと、
前記作業室に滅菌物質を供給する滅菌物質供給部と、
前記滅菌物質供給部と前記第1開口部とを連絡し、前記作業室に前記滅菌物質を送るためのフィルタ非経由供給路と、
前記滅菌物質供給部と前記供給側微粒子捕集フィルタの気体流れ上流側とを連絡し、前記作業室に前記滅菌物質を送るためのフィルタ経由供給路と、
前記排出側微粒子捕集フィルタの気体流れ下流側と前記滅菌物質供給部または外気とを連絡し、前記作業室に供給された前記滅菌物質を前記作業室から排出するフィルタ経由排出路と、
前記第2開口部と前記滅菌物質供給部または外気とを連絡し、前記作業室に供給された前記滅菌物質を前記作業室から排出するフィルタ非経由排出路と、
前記フィルタ非経由供給路と前記フィルタ経由供給路とを切換える供給路切換部と、
前記フィルタ非経由排出路と前記フィルタ経由排出路とを切換える排出路切換部と、
前記供給路切換部および前記排出路切換部の切換を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記作業室を滅菌する第1モードでは前記フィルタ非経由供給路を通って前記滅菌物質が前記作業室に供給され、前記作業室および前記供給側微粒子捕集フィルタを滅菌する第2モードでは前記フィルタ経由供給路を通って前記滅菌物質が前記供給側微粒子捕集フィルタを通過して前記作業室に供給されるように前記供給路切換部を制御するとともに、前記第1モードでは前記フィルタ非経由排出路に切り換え、前記第2モードでは前記フィルタ経由排出路に切り換えるように前記排出路切換部を制御することを特徴とするアイソレータ。
A work chamber for performing work, comprising a gas supply port, a gas discharge port, a first opening and a second opening;
A supply-side particulate collection filter provided at the gas supply port;
A discharge-side particulate collection filter provided at the gas discharge port;
A sterilizing substance supply unit for supplying a sterilizing substance to the working chamber;
A non-filter supply path for communicating the sterilizing substance supply unit and the first opening, and sending the sterilizing substance to the working chamber;
Connecting the sterilizing substance supply unit and the gas flow upstream side of the supply side particulate collection filter, a supply path via a filter for sending the sterilizing substance to the working chamber;
A filter-passage discharge path for communicating the downstream side of the gas flow of the discharge-side particulate collection filter and the sterilizing substance supply unit or the outside air, and discharging the sterilizing substance supplied to the working chamber from the working chamber;
A non-filter discharge passage for communicating the second opening and the sterilizing substance supply unit or outside air, and discharging the sterilizing substance supplied to the working chamber from the working chamber;
A supply path switching unit that switches between the non-filter supply path and the filter supply path;
A discharge path switching unit that switches between the non-filter discharge path and the filter discharge path;
A control unit that controls switching of the supply path switching unit and the discharge path switching unit,
In the first mode of sterilizing the working chamber, the control unit supplies the sterilizing substance to the working chamber through the non-filter supply path , and sterilizes the working chamber and the supply-side particulate collection filter. with the second mode controls the supply path switching section to so that is supplied to the working chamber said sterilizing material through the feed passage through the filter passes through the supply-side particulate collection filter, in the first mode The isolator is configured to control the discharge path switching unit to switch to the non-filter discharge path and to switch to the filter discharge path in the second mode.
前記作業室内からの気体の排出を行うためのファンが前記フィルタ経由排出路又は前記フィルタ非経由排出路に設けられたことを特徴とする請求項5に記載のアイソレータ。 6. The isolator according to claim 5, wherein a fan for discharging gas from the work chamber is provided in the exhaust passage through the filter or the exhaust passage through the filter . 前記滅菌物質供給部は、滅菌物質を収容する滅菌物質収容タンクと、前記滅菌物質収容タンクから供給された滅菌物質を前記作業室に送り出す滅菌物質送出部と、前記滅菌物質収容タンクと前記滅菌物質送出部とを連絡する滅菌物質供給路と、を備え、
前記滅菌物質供給路に微粒子捕集フィルタが設けられ、
前記フィルタ経由排出路又は前記フィルタ非経由排出路が前記滅菌物質送出部に連絡することを特徴とする請求項5または6に記載のアイソレータ。
The sterilizing material supply unit includes a sterilizing material storage tank for storing a sterilizing material, a sterilizing material sending unit for sending the sterilizing material supplied from the sterilizing material storage tank to the working chamber, the sterilizing material storage tank, and the sterilizing material A sterilizing substance supply path communicating with the delivery section,
A particulate collection filter is provided in the sterilizing substance supply path,
The isolator according to claim 5 or 6, wherein the discharge passage via the filter or the discharge passage not through the filter communicates with the sterilizing substance delivery section.
前記フィルタ経由排出路又は前記フィルタ非経由排出路は、前記滅菌物質を除去する除去部を通る除去部経由循環路を含み、
前記作業室に供給された前記滅菌物質が前記除去部経由循環路を通るように流路を切換える除去部経由循環路切換部を備え、
前記制御部は、所定のタイミングで前記除去部経由循環路に切り換えるように前記除去部経由循環路切換部を制御することを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一項に記載のアイソレータ。
The filter passing discharge path or the filter non-passing discharge path includes a removal part passing circulation path that passes through a removal part that removes the sterilizing substance,
A removal unit via-circulation path switching unit that switches the flow path so that the sterilized substance supplied to the working chamber passes through the removal unit-circulation circuit;
The isolator according to any one of claims 5 to 7, wherein the control unit controls the removal unit via-circulation path switching unit to switch to the removal unit via-circulation path at a predetermined timing.
気体供給口と気体排出口と開口部とを有する作業室と、前記作業室に滅菌物質を供給する滅菌物質供給部と、供給側微粒子捕集フィルタを介して前記気体供給口と前記滅菌物質供給部とを連絡するフィルタ経由供給路と、供給側微粒子捕集フィルタを介さずに前記開口部と前記滅菌物質供給部とを連絡するフィルタ非経由供給路と、排出側微粒子捕集フィルタを介して前記気体排出口と前記滅菌物質供給部または外気とを連絡する排出路と、前記フィルタ非経由供給路と前記フィルタ経由供給路とを切換える供給路切換部と、を備えたアイソレータの制御方法であって、
前記供給路切換部により前記フィルタ非経由供給路に切り換えて前記滅菌物質供給部から前記滅菌物質を前記作業室に供給することによって、前記作業室を滅菌する第1滅菌工程と、
前記供給路切換部により前記フィルタ経由供給路に切り換えて前記滅菌物質供給部から前記滅菌物質を前記作業室に供給することによって、前記作業室および前記供給側微粒子捕集フィルタを滅菌する第2滅菌工程と、
を備えることを特徴とするアイソレータの制御方法。
A working chamber having a gas supply port, a gas discharge port, and an opening, a sterilizing material supply unit that supplies a sterilizing material to the working chamber, and the gas supply port and the sterilizing material supply via a supply-side particulate collection filter A filter supply path that communicates with the unit, a non-filter supply path that communicates the opening and the sterilizing substance supply unit without going through the supply-side particulate collection filter, and a discharge-side particulate collection filter A control method for an isolator comprising: a discharge path that communicates between the gas discharge port and the sterilizing substance supply section or outside air; and a supply path switching section that switches between the non-filter supply path and the filter supply path. And
A first sterilization step of sterilizing the working chamber by switching the supply path switching unit to the non-filter supply path and supplying the sterilizing substance from the sterilizing substance supply unit to the working chamber;
Second sterilization for sterilizing the working chamber and the supply-side particulate collection filter by switching the supply path switching section to the supply path via the filter and supplying the sterilizing substance from the sterilizing substance supply section to the working chamber. Process,
An isolator control method comprising:
前記排出路は、前記滅菌物質を除去する除去部を通る除去部経由循環路を含み、
前記作業室に供給された前記滅菌物質が前記除去部経由循環路を通るように流路を切換える除去部経由循環路切換部を備え、
前記第1滅菌工程の後、および前記第2滅菌工程の後、前記除去部経由循環路切換部により前記除去部経由循環路に切り換えて前記作業室内に供給された滅菌物質を前記除去部に通す除去工程と、
を備えることを特徴とする請求項9に記載のアイソレータの制御方法。
The discharge path includes a circulation path via a removal section that passes through a removal section that removes the sterilizing substance,
A removal unit via-circulation path switching unit that switches the flow path so that the sterilized substance supplied to the working chamber passes through the removal unit-circulation circuit;
After the first sterilization step and after the second sterilization step, the removal unit circulation circuit switching unit switches to the removal unit circulation circuit and passes the sterilized substance supplied into the working chamber through the removal unit. A removal step;
The method of controlling an isolator according to claim 9, comprising:
気体供給口と気体排出口と開口部とを有する作業室と、前記作業室に滅菌物質を供給する滅菌物質供給部と、供給側微粒子捕集フィルタを介して前記気体供給口と前記滅菌物質供給部とを連絡するフィルタ経由供給路と、供給側微粒子捕集フィルタを介さずに前記開口部と前記滅菌物質供給部とを連絡するフィルタ非経由供給路と、排出側微粒子捕集フィルタを介して前記気体排出口と前記滅菌物質供給部とを連絡するフィルタ経由循環路と、前記フィルタ非経由供給路と前記フィルタ経由供給路とを切換える供給路切換部と、を備えたアイソレータの制御方法であって、
前記フィルタ非経由供給路を通して、前記作業室内の前記滅菌物質の濃度が所定濃度以上となるまで、前記滅菌物質供給部から前記滅菌物質を前記作業室に供給する前処理工程と、
前記前処理工程の後、前記滅菌物質を、前記滅菌物質供給部から前記フィルタ経由供給路、前記作業室、前記フィルタ経由循環路を経由して、前記滅菌物質供給部へと循環させる滅菌工程と、
を備えることを特徴とするアイソレータの制御方法。
A working chamber having a gas supply port, a gas discharge port, and an opening, a sterilizing material supply unit that supplies a sterilizing material to the working chamber, and the gas supply port and the sterilizing material supply via a supply-side particulate collection filter A filter supply path that communicates with the unit, a non-filter supply path that communicates the opening and the sterilizing substance supply unit without going through the supply-side particulate collection filter, and a discharge-side particulate collection filter A control method for an isolator comprising: a circulation path through a filter that connects the gas outlet and the sterilizing substance supply section; and a supply path switching section that switches between the non-filter supply path and the filter supply path. And
A pretreatment step of supplying the sterilizing substance from the sterilizing substance supply unit to the working chamber through the non-filter supply path until the concentration of the sterilizing substance in the working chamber is equal to or higher than a predetermined concentration;
A sterilization step of circulating the sterilizing substance from the sterilizing substance supply unit to the sterilizing substance supply unit via the filter supply path, the working chamber, and the filter circulation path after the pretreatment step; ,
An isolator control method comprising:
前記フィルタ経由循環路は、前記滅菌物質を除去する除去部を通る除去部経由循環路を含み、
前記作業室に供給された前記滅菌物質が前記除去部経由循環路を通るように流路を切換える除去部経由循環路切換部を備え、
前記滅菌工程の後、前記除去部経由循環路切換部により前記除去部経由循環路に切り換え、前記作業室内の気体を、前記作業室から前記フィルタ経由循環路、前記除去部経由循環路、前記フィルタ非経由供給路又は前記フィルタ経由供給路、前記作業室へと循環させる除去工程と、
を備えることを特徴とする請求項11に記載のアイソレータの制御方法。
The circulation path via the filter includes a removal path via a removal section that passes through a removal section that removes the sterilizing substance,
A removal unit via-circulation path switching unit that switches the flow path so that the sterilized substance supplied to the working chamber passes through the removal unit-circulation circuit;
After the sterilization step, the removal unit circulation circuit switching unit switches to the removal unit circulation circuit, and the gas in the working chamber is transferred from the working chamber to the filter circulation circuit, the removal unit circulation circuit, and the filter. A non-passage supply path or a removal path for circulation to the filter supply path, the working chamber;
The method of controlling an isolator according to claim 11, comprising:
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