JP5771897B2 - 液晶表示装置及びその駆動方法 - Google Patents
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Description
画素電極(Pix)101は、トランジスタ102を介してソース電位に充電される。対向電極(COM)103には対向電極を駆動する電圧(Vcom)が印加され、対向電極103と画素電極101との電位差が液晶駆動電圧(Vlcd)となる。基板104側には補助容量電極(Cs)105が設けられている。補助容量電極105は、トランジスタ102のゲート電位変動やオフ時のリーク電流に起因して画素電極101に生じる電位変動を緩和している。この補助容量電極105の配線は通常、ゲート配線と平行に敷設されている。この配線は対向電極103と接続される。これにより、補助容量電極105の電位は対向電極103と共通電位となっている。液晶は、焼き付きや電気分解を防ぐため交流駆動される。
K=Cst/(Clc+Cst+Cdg) (1)
ここで、Cstは補助容量112の容量、Clcは液晶セル115の容量、Cdgはトランジスタ114のドレイン−ゲート間の寄生容量である。
図1は本発明の液晶表示装置1の構成を示すブロック図であり、図2〜4は本発明の液晶表示装置1における表示部10の一例を示している。
図1に示すように、本発明の液晶表示装置1は、点線で囲んだ表示部10と、表示部10の周辺に、走査線駆動回路20と信号線駆動回路22と対向電極駆動回路24と補助容量線駆動回路26と、が配置されて構成されている。
なお、上記の場合には液晶表示装置1を白黒表示として説明しているカラー表示に対応した画素でもよい。
なお、補助容量16は、図2及び図3に示したカラー液晶表示装置1では、第1の基板41上に設けた補助容量電極48aと絶縁膜52,59と画素電極47とにより形成されているが、カラー液晶表示装置1の画素構造に応じて他の構造を用いてもよい。
これにより、画素電極13と対向電極14との電位差の絶対値を増加させることができる。
図5(A)に示すように、対向電極用駆動信号は、走査線用駆動信号のパルス幅に対応して、ハイレベル(VcomH)及びローレベル(VcomL)の振幅を繰り返す矩形波であり、走査線用駆動信号がオンとなるt0〜t1及びt5〜t6ではそれぞれ、ハイレベル(VcomH)及びローレベル(VcomL)の振幅を有するような波形である。図5(C)に示した波形は、液晶に最大電圧を与える場合の信号線用駆動信号の一例である。図5(D)に示すように、走査線用駆動信号は矩形波であり、t0〜t1及びt5〜t6の期間が充電期間となる所謂ハイレベルの振幅と、t1〜t5及びt6〜t10の期間が保持期間となるローレベルの振幅とを有している。t1〜t5の時間周期においては、図に示す数周期ではなく、数百以上のパルスで占められていることに注意すべきである。同様に、対向電極用駆動信号Vcomのレベルは、t5〜t6の時間周期においては、t1〜t2の時間周期とは反転した信号になることに注意すべきである。これは、各フレームで繰り返される。
図5(B)に示すように、補助容量線用駆動信号Vcsは、走査線用駆動信号が充電期間(t0〜t1の期間)のとき第1の電圧、つまり、対向電極14に印加される電圧VcomHと同じ電圧Vcs1(Vcs1=VcomH)であり、t1〜t2のとき対向電極14に印加される電圧と同じVcomLであり、次のt2〜t3のとき対向電極14に印加される電圧VcomHとは異なる第2の電圧(Vcs2)である。t3〜t5のとき、補助容量16は補助容量線駆動回路26によりフローティング状態となる。つまり、各走査線が選択され、走査線(G1)に接続される画素15のスイッチング素子12がオン状態となり画素電極13に表示信号に基づく電圧が印加されたとき、補助容量線駆動回路26は、各補助容量線に対して対向電極用駆動信号の第1周期には第1の電圧を印加する。次に、対向電極用駆動信号のオン期間(t0からt2)の次の半周期(t2〜t3)には、補助容量線駆動回路26は各補助容量線に対してこの半周期に同期した別の第2の電圧を印加し、この半周期の後の保持期間(t3〜t6)では開状態とする信号を出力する。補助容量線駆動回路26は、各行の走査線用駆動信号毎に各行の補助容量線に対して上記の電圧信号を印加する。
なお、第2の電圧を印加する期間は半周期に限らず、p+1/2周期(ここで、pは0又は自然数)としてもよい。以下の説明においては、第2の電圧を印加する期間は半周期として説明する。
対向電極14と画素電極13との間の容量(Clc)と、画素電極13と捕助容量電極17との聞の容量(Ccs)は、液晶の誘電率変化を考慮しなければ一定である。さらに、画素電極13と補助容量電極17との間の容量(Ccs)も一定である。画素15の充電が終了したときの画素電極13の電位をVpixl、充電中の対向電極14の電位をVcomW、充電中の補助容量電極17の電位をVcslとすると、画素電極13(Pix)には、
Q=Clc×(Vpix1−VcomW)+Ccs×(Vpixl−Vcsl)
で示す電荷が充電されている。画素15の充電(例えば、図5のt1参照)が終了すれば画素15のトランジスタ12がオフになるため、画素15はフローティング状態となり、このQは次の充電まで一定のまま保持される。従来例では、この状態からVpixを含めた全体の電位が、対向電極14の電位に合わせて図15のように振動する。
Q=Clc×(Vpixl−VcomW)+Ccs×(Vpixl−Vcsl)
=Clc×(Vpix2−VcomW)+Ccs×(Vpix2−Vcs2)
の関係が成り立ち、このため画素電極の電位Vpixは
Vpix2−Vpixl=Ccs/(Clc+Ccs)×(Vcs2−Vcsl)だけ変化する。液晶に印加される電圧はVpix−Vcomなので、Vpix2−Vpixl>0、すなわちVcs2−Vcsl>0(図5のt7〜t8参照)であるようにVcs2を設定すれば画素15の電圧が昇圧されることになる。Vcs2<Vcsl(図5のt2〜t3参照)であれば降圧となる。これはLSI内部で昇圧に用いられているチャージポンプと類似の現象であるが、Vcomという電位が関与する点が異なる。
ここでポイントとなるのが、補助容量電極17の電圧をVcslからVcs2に変化させるとき、Vcomが画素15の充電時と同じ電位であることである。Vcsl、Vcs2が共にドライバLSIから供給可能な電圧(Vsとの差が4.8V以内)であることはこのタイミングで実現できる。対向電極駆動用信号の第1周期の後のp+1/2周期(pは0又は自然数)とは、この条件が満たされる周期を示している。
図6は、補助容量16と画素補助容量18とを別々に設けた場合のブロック図を示し、図7(A)、(B)は具体的な画素構造を示す図である。
図6に示すように、補助容量は第1及び第2の補助容量16,18からなっている。この構成の場合には、第1の補助容量16を単に補助容量と呼び、第2の補助容量を画素補助容量18と呼ぶ。補助容量16を形成する他端の補助容量電極17がCS端子に接続され、画素補助容量18の他端の電極がCOM電極(対向電極14にも接続される)に接続されているので、補助容量16と画素補助容量18との電極には独立に電圧が印加される。つまり、補助容量16及び画素補助容量18の一端が画素電極13に共通に接続され、補助容量16と画素補助容量18との他端はそれぞれ個別に配設されている。補助容量16の他端が補助容量線駆動回路26に接続されると共に、画素補助容量18の他端が対向電極14に接続されている。つまり、画素補助容量18は画素15と並列に接続される。
走査線駆動回路20の各走査線に接続されるn個の画素電極13は、補助容量16の一端が接続され、補助容量16の他端が共通電極として形成されている。この共通電極は、走査線駆動回路20の本数分だけ設けられている。この補助容量16の共通電極からなる配線を補助容量線(Cs1〜Csm)48と呼ぶ。つまり、補助容量線48のそれぞれは、1本ずつ分離された状態となり、その両端に設けた第1及び第2の補助容量駆動用トランジスタ31,32で駆動される。
これにより、COM2ラインの電圧であるVcom2が、1行中の補助容量線48(Cs1)へ第2の補助容量駆動用トランジスタCTr23を介して印加される。補助容量電極17には第2の補助容量駆動用トランジスタCTr23経由で補助容量線駆動回路からの電圧(COM2)が印加される。このとき、COM2の電位は、COM1とは異なる電位であり、補助容量電極17の電位はCOM1からCOM2に変化する。従って、このとき1行中の液晶セル15の対向電極14には電圧Vcom1が供給され、一方、補助容量線48(Cs1)には電圧Vcom2が供給される。この電位変化が、補助容量線48経由で画素電極13とCOM1の電位差を広げる。すなわち、チャージポンプと類似の効果で液晶印加電圧を昇圧する。
図10(A)に示すように、対向電極用駆動信号(Vcom1)は矩形波であり、第2の共通電極用駆動信号(Vcom2)は対向電極用駆動信号(Vcom1)の逆相信号である(図10(B)参照)。図10(C)に示すように、信号線用駆動信号は、対向電極用駆動信号とは逆相の矩形波である。図10(D)〜(F)に示すように、走査線用駆動信号は矩形波であり、選択/充電期間がハイレベルの振幅を有している。走査線用駆動信号G1において、t0〜t1及びt5〜t6が充電のオンとなるハイレベルの振幅を有し、上記のオン期間以外は、全てオフ、つまりローレベルの振幅を有するような波形である。同様に、走査線用駆動信号G2は、t1〜t2及びt6〜t7が充電のオンとなるハイレベルの振幅を有しており、上記のオン期間以外は、全てオフ、つまりローレベルの振幅を有するような波形である。走査線用駆動信号G3は、t2〜t3及びt7〜t8が充電のオンとなるハイレベルの振幅を有しており、上記のオン期間以外は、全てオフ、つまりローレベルの振幅を有するような波形である。上記走査線用駆動信号のローレベルとなる期間を「保持時間」と呼ぶ。
さらに、図10に示すVcom2の振幅は、図10(B)に示す値よりも小さな値に変更することができる。Vcom2に対しては、液晶セル15に印加される電圧を昇圧させる限り、Vcom2の電圧や周期は多くの変形が可能である。
図11に示すように、画素補助容量18と補助容量16との一端は画素電極13に共通に接続され、画素補助容量18と他端と補助容量16との他端となる補助容量電極17は、それぞれ個別に配設されている。図示の場合には、画素補助容量18の他端は対向電極14に接続されると共に、補助容量16の他端は補助容量線駆動回路26に接続されている。
図11及び図12に示すように、各画素に関する補助容量16と画素補助容量18の構造は、図6及び図7に示す構造と同様のものである。
上記例では、独立に駆動される補助容量線48は、画素容量の対向する電極に接続される容量線とは平行に配設されている。従って、パターンレイアウトのうえで自由度が増える利点がある。容量を形成するための対向する電極及び容量線のパターンは任意に設計することができるので、パターン設計の自由度が達成される。これが利点である。例えば、補助容量16及び画素補助容量18を形成するための対向する電極のパターンを、それぞれ任意に設計する。これにより、画素15に蓄積させる電荷の保持するための蓄積容量を十分にし、同時に、液晶セル15に印加される電圧(Vpp、ピーク間電圧)を昇圧するように画素電極13と補助容量電極17とで生じる容量結合を得るようにすることができる。
ここで、補助容量線駆動回路26は、表示部10に隣接して設けることができる。補助容量線駆動回路26は、図2及び図3で説明したように、画素15に接続されるスイッチング素子12と同様に、アモルファスシリコン又はポリシリコンを用いて第1の透明基板41に形成し、TFTアレイ基板を構成することができる。
図13は図2に示した画素の信号線45と補助容量線48との交差部を示す断面模式図である。図13は図2のA−A線に沿う断面図であり、各補助容量線48は信号線45と交差しているので、各交差部で寄生容量Cstを形成する。
図15は、画素の変形例の構成を示す部分透視平面図であり、図16は、図15のX−X線に沿った断面図を示している。
図15に示すように、画素70は、信号線45と補助容量線48との間に生じる寄生容量Cstを遮蔽するための寄生容量遮蔽配線72を備えている。図15に示すように、寄生容量遮蔽配線72は、直線部72aと凸部72bとを有している。
寄生容量遮蔽配線72は、補助容量線48とスイッチング素子46との間の領域において補助容量線48及び補助容量電極48a側に、かつ平行に配設されており、補助容量線48に平行な直線部7aと、補助容量線48と信号線45との交差部とを覆う凸部72bと、を有している。この凸部72bは、信号直線部72aから紙面上方に垂直に折れ曲がるように延出している。このため、寄生容量遮蔽配線72は、各列の信号線45と各行の補助容量線48との交差部を通過するように配設されている。なお、凸部72bは信号線45と補助容量線48との交差部に設けられているので、単に交差部とも呼ぶ。
第1の基板41上に金属層を堆積し、パターンニングすることでゲート電極51と補助容量線48のパターンを形成する。金属層は、遮光性のクロム、クロム合金、アルミニウム、アルミニウム合金、モリブデン等を用いることができる。
次に、ゲート電極51及び補助容量線48のパターンが形成された第1の基板41の表面全体を覆うように所定の厚さの第1のゲート絶縁膜74を堆積する。第1のゲート絶縁膜74は、ゲート絶縁膜52と同様に窒化シリコンや酸化シリコン等の絶縁材料から構成されている。
次に、第1のゲート絶縁膜74上に金属層を堆積し、パターンニングすることで寄生容量遮蔽配線72を形成する。寄生容量遮蔽配線72の材料は、ゲート電極51及び補助容量線48となる金属層と同様の材料を用いることができる。
寄生容量遮蔽配線72のパターンが形成された第1のゲート絶縁膜74の表面全体に所定の厚さの第2のゲート絶縁膜75を堆積する。第2のゲート絶縁膜75は、ゲート絶縁膜52と同様に窒化シリコンや酸化シリコン等の絶縁材料を用いることができ、第1の絶縁膜74と同じ材料でもよい。これ以降の工程は、図2の液晶表示装置1において説明した製造工程と同様に行なえばよい。
図18は、画素80の構成を示す部分透視平面図であり、図19は、図18のX−X線に沿った断面図を示している。
図示するように、画素80では、寄生容量遮蔽配線82は、第1の基板41上に補助容量線48と平行になるように配設されている直線部82aと、第2のゲート絶縁膜75上の補助容量線48と信号線45との交差部となる領域に配置される凸部82bと、から構成されている。第1のゲート絶縁膜74には、寄生容量遮蔽配線82を露出させるコンタクトホール84が配設されている。寄生容量遮蔽配線の凸部82bは、第2のゲート絶縁膜75上に配設されると共に、コンタクトホール84を介して寄生容量遮蔽配線の直線部82aと接続されている。
図示するように、補助容量線48と寄生容量遮蔽配線の凸部82bは第1のゲート絶縁膜74を挟んで対向しているので、補助容量線48と寄生容量遮蔽配線の凸部82bとの間に第1の交差部容量76が生じる。さらに、寄生容量遮蔽配線の凸部82bと信号線45とは第2のゲート絶縁膜75を挟んで対向しているので、寄生容量遮蔽配線の凸部72bと信号線45との間に第2の交差部容量77が生じる。従って、補助容量線48と信号線45との間には、共に寄生容量遮蔽配線82との間に第1及び第2の交差部容量76,77が形成されるが、補助容量線48と信号線45との間には直接結合する寄生容量Cstが形成されなくなる。寄生容量遮蔽配線の凸部82bは、コンタクトホール84を介して寄生容量遮蔽配線の直線部82aと接続されているので、補助容量線48と信号線45との間には画素70と同様に寄生容量遮蔽配線82で遮蔽されることになる。
先ず、第1の基板41上に補助容量線48と寄生容量遮蔽配線の直線部82aとを同一の低抵抗の導電膜を用いてパターンを形成する。次に、第1のゲート絶縁膜74を所定の厚さに堆積し、寄生容量遮蔽配線の直線部82a上にコンタクトホール84を設ける。
続いて、寄生容量遮蔽配線の凸部82bとなる電極層を所定の厚さに堆積し、寄生容量遮蔽配線の直線部82aと接続するパターンを形成する。寄生容量遮蔽配線の凸部82bの材料は静電遮蔽できればよい。このため、寄生容量遮蔽配線の凸部82bは、図15に示す画素70の寄生容量遮蔽配線72のように電圧信号の遅延を防ぐための低抵抗の金属を用いる必要はなく、ITO等の透明導電膜を使用することができる。これにより、画素80は、上記画素70よりも開口効率が向上する。
次に、第1のゲート絶縁膜74の全面に第2のゲート絶縁膜75を所定の厚さに堆積する。この工程以降は、図2の液晶表示装置において説明した製造工程と同様に行えばよい。
10:表示部
12,46:スイッチング素子(薄膜トランジスタ)
13,47:画素電極
14,63:対向電極
15,70,80:画素
16:補助容量
17:補助容量電極
18:画素補助容量
20:走査線駆動回路
22:信号線駆動回路
24:対向電極駆動回路
26:補助容量線駆動回路
31:第1の補助容量駆動用トランジスタ
32:第2の補助容量駆動用トランジスタ
41:第1の基板
42:第2の基板
43:液晶
44:走査線
45:信号線
48:補助容量線
51:ゲート電極
52:ゲート絶縁膜
53:半導体薄膜
54:保護膜
55,56:コンタクト層
57:ドレイン電極
58:ソース電極
59:オーバーコート膜(平坦化膜)
60,84:コンタクトホール
61:ブラックマトリクス
62:カラーフィルタ要素
72,82:寄生容量遮蔽配線
72a,82a:直線部
72b,82b:凸部
74:第1のゲート絶縁膜
75:第2のゲート絶縁膜
76:第1の交差部容量
77:第2の交差部容量
Claims (3)
- 薄膜トランジスタのドレインに画素電極が接続され、前記画素電極と対向電極との間に液晶層が形成されるとともに、前記画素電極と補助容量線との間に補助容量が形成された液晶表示装置の駆動方法であって、
前記液晶表示装置は、前記薄膜トランジスタのソースに接続され、前記補助容量線と交差する領域を有する信号線と、前記補助容量線と前記信号線とが交差している領域において、前記補助容量線と前記信号線との間に絶縁膜を介して上下方向に互いに重なり、前記補助容量線と前記信号線とが交差している交差領域の全体を覆うように設けられ、前記補助容量線と前記信号線とが交差していない領域において、前記補助容量線と互いに重ならないように設けられている寄生容量遮蔽配線と、を有し、
一定期間毎に電圧レベルが第1の電圧レベルVLと第2の電圧レベルVHとの間で交互に切り換わる第1の信号を、前記対向電極に供給し、
連続する2つの前記一定期間を1つの周期とし、前記周期を複数含む一つのフレーム期間に、前記薄膜トランジスタをオン状態にするオン電圧と、前記薄膜トランジスタをオフ状態にするオフ電圧とを、前記薄膜トランジスタのゲートに、それぞれ1回供給し、
連続する複数の前記フレーム期間の各々において、前記オン電圧と前記オフ電圧の供給を行い、
前記オン電圧を継続印加する期間を前記一定期間とし、
第1のフレーム期間において、前記薄膜トランジスタのゲートに対して前記オン電圧の印加が開始されるタイミングから1つの前記周期に対応する時間までの間は前記第1の信号に等しい信号を前記補助容量線に供給し、
その後の前記周期の1/2に対応する時間までの間は電圧レベルVcがVL<Vc<VHの範囲に設定された第2の信号を前記補助容量線に供給し、
さらにその後、前記第1のフレーム期間の直後の第2のフレーム期間において、前記薄膜トランジスタに前記オン電圧の印加が開始されるタイミングまでの間に亘って前記補助容量線をフローティング状態にし、
前記寄生容量遮蔽配線に固定電位の電圧及び前記第1の信号の何れか一方を印加する、
液晶表示装置の駆動方法。 - 前記第2の信号は、電圧レベルVcが(VL+VH)/2に設定されている、請求項1に記載の液晶表示装置の駆動方法。
- 薄膜トランジスタのドレインに画素電極が接続され、前記画素電極と対向電極との間に液晶層が形成されるとともに、前記画素電極と補助容量線との間に補助容量が形成された液晶表示装置あって、
一定期間毎に電圧レベルが第1の電圧レベルVLと第2の電圧レベルVHとの間で交互に切り換わる第1の信号を、前記対向電極に供給する第1の駆動回路と、
連続する2つの前記一定期間を1つの周期とし、前記周期を複数含む一つのフレーム期間に、前記薄膜トランジスタをオン状態にするオン電圧と、前記薄膜トランジスタをオフ状態にするオフ電圧とを、前記薄膜トランジスタのゲートに、それぞれ1回供給し、前記オン電圧を前記一定期間に継続印加し、連続する複数の前記フレーム期間の各々において前記オン電圧と前記オフ電圧の供給を行う第2の駆動回路と、
第1のフレーム期間において、前記薄膜トランジスタのゲートに対して前記第2の駆動回路により前記オン電圧の印加が開始されるタイミングから1つの前記周期に対応する時間までの間は前記第1の信号に等しい信号を前記補助容量線に供給し、
その後の前記周期の1/2に対応する時間までの間は電圧レベルVcがVL<Vc<VHの範囲に設定された第2の信号を前記補助容量線に供給し、
さらにその後、前記第1のフレーム期間の直後の第2のフレーム期間において、前記薄膜トランジスタに前記オン電圧の印加が開始されるタイミングまでの間に亘って前記補助容量線をフローティング状態にする第3の駆動回路と、
前記薄膜トランジスタのソースに接続され、前記補助容量線と交差する領域を有する信号線と、
前記補助容量線と前記信号線とが交差している領域において、前記補助容量線と前記信号線との間に絶縁膜を介して上下方向に互いに重なり、前記補助容量線と前記信号線とが交差している交差領域の全体を覆うように設けられ、前記補助容量線と前記信号線とが交差していない領域において、前記補助容量線と互いに重ならないように設けられている寄生容量遮蔽配線と、
を備える、液晶表示装置。
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