JP5772517B2 - Exhaust gas dilution device - Google Patents
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Description
本発明は、エンジンまたは車両等の内燃機関の排出ガスを、その排出量測定のために希釈する排出ガス希釈装置に関する。 The present invention relates to an exhaust gas dilution device for diluting exhaust gas of an internal combustion engine such as an engine or a vehicle for measuring the amount of the exhaust gas.
車両等に用いられる内燃機関は、年々強化される排出ガス規制に適合するために、エンジン本体及び排出ガス後処理装置の改良により、その排出ガスは非常に低濃度となり、排出量の測定の感度、精度は高いものが要求されるようになってきている。 The internal combustion engine used in vehicles and the like conforms to exhaust gas regulations that are being strengthened year by year. Due to improvements in the engine body and exhaust gas after-treatment device, the exhaust gas has a very low concentration, and the sensitivity of measuring emissions Therefore, high accuracy is required.
排出ガス中の微小粒子の測定（粒子質量、粒径、粒子数、表面積等）は、フィルターへの捕集や微小粒子の測定装置により行われるが、エンジンの排出ガスの温度は３００〜４００℃ともなり、微小粒子の安定化、試料温度の低下のため、通常、清浄な空気により排出ガスを希釈・冷却して行われる。その際に用いる希釈用の清浄空気は、高性能フィルターにより微小粒子を除去し、必要な場合には活性炭あるいは触媒等によりガス状不純物も除去する必要がある。 Measurement of fine particles in exhaust gas (particle mass, particle size, number of particles, surface area, etc.) is carried out by collecting on a filter or measuring device for fine particles. The temperature of engine exhaust gas is 300 to 400 ° C. At the same time, in order to stabilize the fine particles and lower the sample temperature, the exhaust gas is usually diluted and cooled with clean air. The clean air for dilution used at that time needs to remove fine particles with a high-performance filter, and if necessary, it is also necessary to remove gaseous impurities with activated carbon or a catalyst.
そのような測定に用いられる希釈装置には各種あるが（例えば、特許文献１）、回転式ディスクを用いた希釈装置には（例えば、特許文献２）、流路途中に希釈比を制御するためのバルブ、オリフィス等を設置する必要がないため、微小粒子の損失が少なく、排出ガスの汚染による故障が少ないという利点がある。また、構造も簡略かつ希釈比の制御範囲の大きさから装置の小型化に適している。 There are various types of diluting devices used for such measurement (for example, Patent Document 1), but for diluting devices using a rotary disk (for example, Patent Document 2), in order to control the dilution ratio in the middle of the flow path. There is no need to install a valve, an orifice, etc., so there are advantages that there is little loss of fine particles and there are few failures due to exhaust gas contamination. Further, the structure is simple and suitable for downsizing of the apparatus because of the size of the control range of the dilution ratio.
排出ガスの微小粒子の測定を行う際には、エンジンの排出ガスを希釈装置に導入し、希釈装置において清浄空気と混合することにより、排出ガスを清浄空気と共に希釈排出ガスとして測定系（フィルターや測定装置など）に供給する。 When measuring fine particles of exhaust gas, the exhaust gas of the engine is introduced into the dilution device and mixed with clean air in the dilution device, so that the exhaust gas is diluted with the clean air as a diluted exhaust gas. Supply to measuring equipment).
回転ディスク式の希釈装置には、回転ディスクを支持する台座の台座面に排出ガス導入部と排出ガス希釈部が形成されており、これら排出ガス導入部と排出ガス希釈部にエンジンの排出ガスと希釈用の清浄空気がそれぞれ導入されている。排出ガス導入部に導入した排出ガスの一部を回転ディスクの台座面側に形成した凹みに採取し、回転ディスクの回転により、清浄空気が導入されている排出ガス希釈部に移送し清浄空気と混合することにより、希釈排出ガスを調製する。 In the rotating disk type dilution device, an exhaust gas introducing part and an exhaust gas diluting part are formed on the pedestal surface of the pedestal that supports the rotating disk. The exhaust gas introducing part and the exhaust gas diluting part are connected to the engine exhaust gas. Clean air for dilution is introduced respectively. Part of the exhaust gas introduced into the exhaust gas introduction part is collected in a recess formed on the pedestal surface side of the rotating disk, and is transferred to the exhaust gas dilution part where the clean air is introduced by the rotation of the rotating disk. Prepare the diluted exhaust gas by mixing.
その際の希釈比は、回転ディスクの回転速度に比例し、清浄空気の流量に反比例する。希釈比の制御は、回転ディスクを回転させるモーターの回転速度を制御することにより行い、サーボモーター、ステッピングモーター等を用いることにより高精度の制御が可能である。 The dilution ratio at that time is proportional to the rotational speed of the rotating disk and inversely proportional to the flow rate of clean air. The dilution ratio is controlled by controlling the rotation speed of a motor that rotates the rotating disk, and high-precision control is possible by using a servo motor, a stepping motor, or the like.
従来の希釈装置は、微小粒子が極低濃度でないエンジンからの排出ガスでは十分な精度で作動するが、最新の排出ガス規制（例えば、０．０１ｇ／ｋＷｈ）に適合するエンジンからの極低濃度排出ガスに対しては、希釈装置自体のバックグラウンド微小粒子が多く、測定精度が確保できない。この要因は、他の方式（トンネル式など）の希釈装置と比べて、希釈操作を行う回転ディスク部に対向する摺動面（回転ディスクと台座の接触面）によるシール部が存在することにある。そのシール部から希釈排出ガスの流路に装置周囲の大気がわずかではあるが侵入し、希釈装置の無視できないバックグラウンド微小粒子に寄与している。 Conventional diluters operate with sufficient accuracy for exhaust emissions from engines where microparticles are not at very low concentrations, but very low concentrations from engines that meet the latest emissions regulations (eg, 0.01 g / kWh) For exhaust gas, there are many background microparticles in the dilution device itself, and measurement accuracy cannot be ensured. This factor is due to the presence of a seal portion by a sliding surface (contact surface between the rotating disc and the pedestal) facing the rotating disc portion that performs the dilution operation, as compared with other types of dilution devices (tunnel type etc.). . A slight amount of the atmosphere surrounding the apparatus penetrates into the flow path of the diluted exhaust gas from the seal portion, contributing to background microparticles that cannot be ignored by the dilution apparatus.
また、最新のエンジンからの排出ガスを後処理装置であるＤＰＦ装置に通すと、排出ガス中の微小粒子の濃度が数十個／ｃｍ3にまで低減され、さらに希釈装置にて１００倍程度に希釈されると、０．１個／ｃｍ3程度の濃度で測定系に供給される。一方、大気中には数千個／ｃｍ3の微小粒子が含まれ、シール性が不十分な従来の希釈装置では、微小粒子のバックグラウンドが測定値と同程度か１０倍以上の値にもなり、希釈排出ガス中の濃度を正確に測定することができなかった。 In addition, when exhaust gas from the latest engine is passed through a DPF device, which is a post-processing device, the concentration of fine particles in the exhaust gas is reduced to several tens of particles / cm 3 , and is further increased to about 100 times with a dilution device. When diluted, it is supplied to the measurement system at a concentration of about 0.1 / cm 3 . On the other hand, in a conventional dilution apparatus that contains thousands of fine particles / cm 3 in the atmosphere and the sealing performance is insufficient, the background of the fine particles is about the same as the measured value or 10 times or more. Therefore, the concentration in the diluted exhaust gas could not be measured accurately.
摺動面のシール性を向上するために、面の仕上げ精度の向上、ダイアモンド等のコーティングをしているが、大気中の微小粒子濃度が比較的高いため、わずかなシール部の漏れによってもバックグラウンド微小粒子は測定される。特に、近年のエンジン本体及び排出ガス後処理装置では、排出ガスが極低濃度となっているため、摺動面からわずかな大気が侵入しただけでも、大気中に含まれるバックグラウンド成分が測定結果に大きく影響してしまうという課題があった。 In order to improve the sealing performance of the sliding surface, surface finishing accuracy is improved and diamond coating is applied. Ground microparticles are measured. In particular, in recent engine bodies and exhaust gas aftertreatment devices, the exhaust gas has a very low concentration, so even if a slight amount of air enters from the sliding surface, the background components contained in the air are measured. There has been a problem of greatly affecting
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、エンジン又は車両等に用いられている内燃機関からの排出ガス、その中でも特に排気微小粒子の排出量を測定する際に、排出ガスを希釈・冷却するために用いられる希釈装置のバックグラウンドを低減することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems. When measuring exhaust gas from an internal combustion engine used in an engine, a vehicle, or the like, particularly exhaust gas fine particles, the exhaust gas is measured. The object is to reduce the background of the diluter used for diluting and cooling.
上記目的を達成するために創案された本発明は、回転ディスクとその回転ディスクを回転自在に支持する台座からなり、回転ディスク側の台座面の円周上に、エンジンの排出ガスを導入する排出ガス取込部が形成されると共に排出ガス取込部と対向した円周上に希釈用の清浄空気を導入する排出ガス希釈部が形成され、回転ディスクの台座面側に、排出ガス取込部と排出ガス希釈部に臨んだ凹みが形成され、回転ディスクの回転で、前記排出ガス取込部に導入された排出ガスの一部を凹み内に採取し、これを前記排出ガス希釈部に移送し、その排出ガス希釈部から排出ガスを清浄空気と共に希釈排出ガスとして測定系に供給する排出ガス希釈装置において、前記台座と回転ディスク間で、かつ排出ガス取込部と排出ガス希釈部の外周側に、シール用の清浄空気流路を形成した排出ガス希釈装置である。 The present invention devised to achieve the above object comprises a rotating disk and a pedestal that rotatably supports the rotating disk, and is a discharge that introduces engine exhaust gas on the circumference of the pedestal surface on the rotating disk side. An exhaust gas diluting section for introducing clean air for dilution is formed on the circumference facing the exhaust gas intake section, and the exhaust gas intake section is formed on the pedestal surface side of the rotating disk. A recess facing the exhaust gas dilution section is formed, and by rotating the rotating disk, a part of the exhaust gas introduced into the exhaust gas intake section is collected in the recess and transferred to the exhaust gas dilution section. In the exhaust gas dilution device for supplying exhaust gas from the exhaust gas dilution section to the measurement system as clean exhaust air as diluted exhaust gas, between the pedestal and the rotating disk, and between the exhaust gas intake section and the exhaust gas dilution section On the side, A discharge gas dilution device forming a clean air channel for Le.
また本発明は、回転ディスクとその回転ディスクを回転自在に支持する台座からなり、回転ディスク側の台座面の円周上に、エンジンの排出ガスを導入する排出ガス取込部が形成されると共に排出ガス取込部と対向した円周上に希釈用の清浄空気を導入する排出ガス希釈部が形成され、回転ディスクの台座面側に、排出ガス取込部と排出ガス希釈部に臨んだ凹みが形成され、回転ディスクの回転で、前記排出ガス取込部に導入された排出ガスの一部を凹み内に採取し、これを前記排出ガス希釈部に移送し、その排出ガス希釈部から排出ガスを清浄空気と共に希釈排出ガスとして測定系に供給する排出ガス希釈装置において、前記台座に、回転ディスクの外周を覆う清浄空気チャンバーを設けた排出ガス希釈装置である。 The present invention also includes a rotating disk and a pedestal that rotatably supports the rotating disk, and an exhaust gas intake portion for introducing engine exhaust gas is formed on the circumference of the pedestal surface on the rotating disk side. An exhaust gas dilution part that introduces clean air for dilution is formed on the circumference facing the exhaust gas intake part, and a recess facing the exhaust gas intake part and the exhaust gas dilution part on the pedestal surface side of the rotating disk A part of the exhaust gas introduced into the exhaust gas intake part is collected in the recess by the rotation of the rotating disk, transferred to the exhaust gas dilution part, and discharged from the exhaust gas dilution part In the exhaust gas dilution device for supplying gas to the measurement system as diluted exhaust gas together with clean air, the exhaust gas dilution device is provided with a clean air chamber covering the outer periphery of the rotating disk on the pedestal.
また本発明は、回転ディスクと、その回転ディスクの上下を挟み込むと共に回転ディスクを回転自在に支持する一対の台座とからなり、回転ディスクと接する上下の台座面の円周上に、回転ディスクを隔てて排出ガス導入部と排出ガス放出部が向かい合うように形成されると共に、排出ガス導入部と排出ガス放出部の各円周上で対向する清浄空気導入部と希釈排出ガス放出部が形成され、回転ディスクに、排出ガス導入部と排出ガス放出部及び清浄空気導入部と希釈排出ガス放出部を連通する貫通孔が形成され、回転ディスクの回転で、排出ガス導入部と排出ガス放出部を連通した貫通孔内に排出ガスを採取すると共に、これを清浄空気導入部と希釈排出ガス放出部に移送し、貫通孔内の排出ガスを清浄空気導入部から清浄空気と共に希釈排出ガスとして希釈排出ガス放出部を介して測定系に供給する排出ガス希釈装置において、前記上下の台座と回転ディスク間に、排出ガス導入・放出部又は清浄空気導入・放出部が形成された円周より外周側に位置してシール用の清浄空気流路を形成した排出ガス希釈装置である。 Further, the present invention comprises a rotating disk and a pair of pedestals that sandwich the rotating disk and support the rotating disk in a rotatable manner, with the rotating disk being spaced apart on the circumference of the upper and lower pedestal surfaces in contact with the rotating disk. The exhaust gas introduction part and the exhaust gas discharge part are formed so as to face each other, and the clean air introduction part and the diluted exhaust gas discharge part that are opposed on each circumference of the exhaust gas introduction part and the exhaust gas discharge part are formed, A through hole is formed in the rotating disk to connect the exhaust gas introduction part, the exhaust gas discharge part, the clean air introduction part, and the diluted exhaust gas discharge part. The rotation of the rotary disk allows the exhaust gas introduction part and the exhaust gas discharge part to communicate with each other. The exhaust gas is collected in the through-hole, and transferred to the clean air introduction part and the diluted exhaust gas discharge part, and the exhaust gas in the through-hole is diluted and discharged together with the clean air from the clean air introduction part. In an exhaust gas dilution apparatus that supplies gas to a measurement system as a gas through a diluted exhaust gas discharge part, a circumference in which an exhaust gas introduction / discharge part or clean air introduction / discharge part is formed between the upper and lower pedestals and the rotating disk This is an exhaust gas diluting device which is located on the outer peripheral side and forms a clean air flow path for sealing.
本発明によれば、エンジン又は車両等に用いられている内燃機関からの排出ガス、その中でも特に排気微小粒子の排出量を測定する際に、排出ガスを希釈・冷却するために用いられる希釈装置のバックグラウンドを低減することができる。 According to the present invention, a dilution device used for diluting / cooling exhaust gas when measuring exhaust gas from an internal combustion engine used in an engine or a vehicle, in particular, exhaust gas fine particles among them. The background can be reduced.
以下、本発明の好適な実施の形態に係る排出ガス希釈装置（以下、単に希釈装置という）について、エンジンからの排出ガスを測定する場合を例にして、添付図面を用いて説明する。 Hereinafter, an exhaust gas dilution apparatus (hereinafter simply referred to as a dilution apparatus) according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings, taking as an example the case of measuring exhaust gas from an engine.
図１は、本実施の形態に係る希釈装置を用いた排出ガス測定システムの構成の一例を示す模式図である。また図２は、本実施の形態に係る希釈装置の構造を示す図である。 FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the configuration of an exhaust gas measurement system using the dilution apparatus according to the present embodiment. Moreover, FIG. 2 is a figure which shows the structure of the dilution apparatus based on this Embodiment.
図１に示す排出ガス測定システム１００において、エンジンＥ内で発生した排出ガスは、排気管１を通って大気中へ放出される。排出ガスの排出量等を測定するには、その一部を排気管１の途中でサンプリングプローブ２により分岐し、排出ガス導入配管３を通じて希釈装置１０へ導入する。希釈装置１０に導入する排出ガスの流量は、例えば１Ｌ／ｍｉｎ程度とされる。 In the exhaust gas measurement system 100 shown in FIG. 1, exhaust gas generated in the engine E is released into the atmosphere through the exhaust pipe 1. In order to measure the amount of exhaust gas discharged or the like, a part thereof is branched by the sampling probe 2 in the middle of the exhaust pipe 1 and introduced into the diluting device 10 through the exhaust gas introduction pipe 3. The flow rate of the exhaust gas introduced into the diluting device 10 is, for example, about 1 L / min.
希釈装置１０では、外部から清浄空気導入配管５を通じて清浄空気の供給を受け、導入された排出ガスの一部と清浄空気を混合して希釈排出ガスとする。その希釈排出ガスを、希釈排出ガス放出配管６を通じて下流の測定系１０１（微小粒子捕集用フィルター１０１ａ、あるいは微小粒子の性状（質量、粒子数、表面積等）を測定するための測定装置１０１ｂ）へ、適切な希釈比、ガス温度にて供給し、微小粒子の測定を実施する。希釈装置１０に導入された排出ガスのうち測定に用いない余剰分の排出ガス（余剰ガス）は、排出ガス放出配管４を通じて希釈装置１０から外部へ放出される。測定系１０１の下流側は図示しない吸引ポンプに接続され、負圧で清浄空気や希釈排出ガスが導入される。 In the diluting device 10, clean air is supplied from the outside through the clean air introduction pipe 5, and a part of the introduced exhaust gas and clean air are mixed to form a diluted exhaust gas. A measurement system 101 downstream of the diluted exhaust gas through the diluted exhaust gas discharge pipe 6 (a filter 101a for collecting fine particles or a measuring device 101b for measuring properties (mass, number of particles, surface area, etc.) of the fine particles) And supply at an appropriate dilution ratio and gas temperature, and measure fine particles. Of the exhaust gas introduced into the diluting device 10, an excessive exhaust gas (surplus gas) that is not used for measurement is discharged from the diluting device 10 to the outside through the exhaust gas discharge pipe 4. The downstream side of the measurement system 101 is connected to a suction pump (not shown), and clean air and diluted exhaust gas are introduced at a negative pressure.
この希釈装置１０の詳細を図２（ａ），（ｂ）により説明する。 Details of the diluting device 10 will be described with reference to FIGS.
希釈装置１０は、回転ディスク１１と、その回転ディスク１１を回転自在に支持する台座１２とからなる。回転ディスク１１は台座１２の台座面１２Ｆ上に摺動可能に載置されると共に、台座１２の回転ディスク１１と反対側には回転ディスク１１を回転させるためのモーター１１ａが配置され、モーター１１ａの回転軸１１ｂが台座１２の中央に挿通されて回転ディスク１１に連結されることで、回転ディスク１１は台座１２に回転可能に支持される。回転ディスク１１および台座１２は、ステンレス鋼を用いて形成される。 The dilution apparatus 10 includes a rotating disk 11 and a base 12 that rotatably supports the rotating disk 11. The rotating disk 11 is slidably mounted on a pedestal surface 12F of the pedestal 12, and a motor 11a for rotating the rotating disk 11 is disposed on the opposite side of the pedestal 12 from the rotating disk 11. The rotating shaft 11b is inserted into the center of the pedestal 12 and connected to the rotating disk 11, so that the rotating disk 11 is rotatably supported by the pedestal 12. The rotary disk 11 and the pedestal 12 are formed using stainless steel.
台座１２には、回転ディスク１１側の台座面１２Ｆの円周上に、円弧状の排出ガス取込部１４が形成される。この排出ガス取込部１４は、円弧の一端から排出ガスを取り込み、他端から放出するためのものである。また排出ガス取込部１４に対向する円周上には、円弧状の排出ガス希釈部１５が形成される。この排出ガス希釈部１５は、円弧の一端から希釈用の清浄空気を取り込み、他端から放出するためのものである。 On the pedestal 12, an arc-shaped exhaust gas intake portion 14 is formed on the circumference of the pedestal surface 12F on the rotating disk 11 side. The exhaust gas intake section 14 is for taking in exhaust gas from one end of the arc and releasing it from the other end. In addition, an arc-shaped exhaust gas dilution portion 15 is formed on the circumference facing the exhaust gas intake portion 14. The exhaust gas dilution unit 15 is for taking in clean air for dilution from one end of the arc and discharging it from the other end.
排出ガス取込部１４には、その円弧の一端に排出ガス導入配管３と接続するための入口１４ａが形成され、円弧の他端に排出ガス放出配管４と接続するための出口１４ｂが形成される。同様に、排出ガス希釈部１５には、その円弧の一端に清浄空気導入配管５と接続するための入口１５ａが形成され、円弧の他端に希釈排出ガス放出配管６と接続するための出口１５ｂが形成される。これら入・出口１４ａ，１４ｂ，１５ａ，１５ｂは、台座１２の側面に開口するように形成される。 The exhaust gas intake portion 14 has an inlet 14a for connecting to the exhaust gas introduction pipe 3 at one end of the arc, and an outlet 14b for connecting to the exhaust gas discharge pipe 4 at the other end of the arc. The Similarly, in the exhaust gas dilution section 15, an inlet 15a for connecting to the clean air introduction pipe 5 is formed at one end of the arc, and an outlet 15b for connecting to the diluted exhaust gas discharge pipe 6 at the other end of the arc. Is formed. These entrances / exits 14a, 14b, 15a, 15b are formed so as to open on the side surface of the base 12.
清浄空気導入配管５は、導入する清浄空気の流量を計測するための流量計１３を備える。 The clean air introduction pipe 5 includes a flow meter 13 for measuring the flow rate of the clean air to be introduced.
回転ディスク１１には、その台座面１２Ｆ側に、排出ガス取込部１４と排出ガス希釈部１５に臨んだ凹み１６が形成される。具体的には、凹み１６を、排出ガス取込部１４および排出ガス希釈部１５と同一の円周上に形成することで、凹み１６が排出ガス取込部１４と排出ガス希釈部１５に臨むこととなる。 The rotary disk 11 is formed with a recess 16 facing the exhaust gas intake part 14 and the exhaust gas dilution part 15 on the base surface 12F side. Specifically, the recess 16 faces the exhaust gas intake part 14 and the exhaust gas dilution part 15 by forming the recess 16 on the same circumference as the exhaust gas intake part 14 and the exhaust gas dilution part 15. It will be.
この凹み１６は、回転ディスク１１の回転により、排出ガス取込部１４に導入された排出ガスの一部を内部に採取し、これを排出ガス希釈部１５に移送して、排出ガス希釈部１５に導入されている清浄空気に混合するためのものである。凹み１６の数や形状は特に限定されず、一例では直径０．８ｃｍ〜１．０ｃｍ程度の半球状の凹み１６を４〜１０個程度（図２では４個）で設けることができる。 The recess 16 collects a part of the exhaust gas introduced into the exhaust gas intake unit 14 by the rotation of the rotating disk 11, and transfers the sample to the exhaust gas dilution unit 15. It is for mixing with the clean air introduced in the. The number and shape of the recesses 16 are not particularly limited, and for example, about 4 to 10 hemispherical recesses 16 having a diameter of about 0.8 cm to 1.0 cm can be provided (four in FIG. 2).
この希釈装置１０において、排出ガス導入配管３より流入した排出ガスは、排出ガス取込部１４を通過して排出ガス放出配管４より放出され、その際に排出ガス取込部１４において回転ディスク１１の凹み１６内の空気が排出ガスにより置換される。凹み１６に採取された排出ガスは回転ディスク１１の回転に伴い移動し、排出ガス希釈部１５において清浄空気導入配管５より流入した清浄空気と混合され、希釈排出ガスが調製される。 In the diluting device 10, the exhaust gas flowing in from the exhaust gas introduction pipe 3 passes through the exhaust gas intake section 14 and is discharged from the exhaust gas discharge pipe 4. At this time, the rotary disk 11 is discharged in the exhaust gas intake section 14. The air in the recess 16 is replaced by exhaust gas. The exhaust gas collected in the recess 16 moves as the rotary disk 11 rotates, and is mixed with the clean air flowing in from the clean air introduction pipe 5 in the exhaust gas dilution section 15 to prepare diluted exhaust gas.
なお、希釈装置１０の希釈比ＤＲは、回転ディスク１１の回転速度Ｒ（ｒｐｍ）、凹み１６の容積ｖ（Ｌ）、凹み１６の個数ｎ、清浄空気の流量Ｖ（Ｌ／ｍｉｎ）とすると、以下の式で表される。
ＤＲ＝Ｖ／（ｎｖＲ）
The dilution ratio DR of the diluting device 10 is defined as the rotational speed R (rpm) of the rotating disk 11, the volume v (L) of the recesses 16, the number n of the recesses 16, and the flow rate V (L / min) of clean air. It is expressed by the following formula.
DR = V / (nvR)
希釈排出ガスの流量は供給する清浄空気の流量Ｖと同一となるため、希釈排出ガスの必要流量（例えば、５Ｌ／ｍｉｎ程度）から清浄空気の流量Ｖを設定し、目標とする希釈比ＤＲを（例えば２０〜１０００程度に）設定して回転ディスク１１の回転速度Ｒの制御値を決定する。 Since the flow rate of the diluted exhaust gas is the same as the flow rate V of the supplied clean air, the flow rate V of the clean air is set from the required flow rate of the diluted exhaust gas (for example, about 5 L / min), and the target dilution ratio DR is set. The control value of the rotational speed R of the rotary disk 11 is determined by setting (for example, about 20 to 1000).
さて、回転ディスク式の希釈装置１０では、台座１２と回転ディスク１１が摺動する摺動面のシール性を確保するため、回転ディスク１１とその台座１２の面圧を一定値以上確保する必要があり、スプリング等の機械力、あるいは空気圧等により外部から両者を加圧しておく必要がある。しかし、摺動面のシール性と回転ディスク１１の駆動力とはトレードオフの関係にあるため、摺動面を完全にシールすることはできない。 Now, in the rotating disk type diluting device 10, in order to ensure the sealing performance of the sliding surface on which the pedestal 12 and the rotating disk 11 slide, it is necessary to secure the surface pressure of the rotating disk 11 and the pedestal 12 to a certain value or more. There is a need to pressurize both from the outside by mechanical force such as a spring or air pressure. However, since the sealing performance of the sliding surface and the driving force of the rotary disk 11 are in a trade-off relationship, the sliding surface cannot be completely sealed.
そのため、本実施の形態では、排出ガス取込部１４と排出ガス希釈部１５の摺動面を外部大気から遮断するように、その周囲にシール用の清浄空気流路１７を設置することにより、外部大気の希釈部への流入を抑止するようにした。すなわち本発明は、回転式ディスクを用いた希釈装置１０の排出ガスと清浄空気との混合希釈部の周囲に、清浄な空気の流路等を設けることにより、希釈装置１０の外部より侵入する大気を遮断して、希釈装置１０のバックグラウンドを低減することを特徴とする。 Therefore, in the present embodiment, by installing a sealing clean air flow path 17 around the exhaust gas intake unit 14 and the exhaust gas dilution unit 15 so as to block the sliding surfaces from the external atmosphere, The inflow to the dilution part of the external atmosphere was suppressed. That is, the present invention provides a clean air flow path or the like around the mixed dilution section of the exhaust gas and the clean air of the dilution device 10 using a rotary disk, thereby allowing the atmosphere to enter from the outside of the dilution device 10. And the background of the diluting device 10 is reduced.
この清浄空気流路１７について詳細に説明する。 The clean air channel 17 will be described in detail.
清浄空気流路１７は、台座１２と回転ディスク１１の間（摺動面）で、排出ガス取込部１４と排出ガス希釈部１５を取り囲むようにして、台座１２に、または台座１２と回転ディスク１１の摺動面を跨いで設けられる。本実施の形態では清浄空気流路１７を断面視（図２（ｂ）参照）で丸底の溝状に形成したが、平底に形成することもできる。清浄空気流路１７には、その外周へ延出する導入口１７ａおよび放出口１７ｂが設けられる。これら導入口１７ａおよび放出口１７ｂは、台座１２に設けられる。導入口１７ａから導入された清浄空気は、清浄空気流路１７を通って放出口１７ｂから希釈装置１０外へ放出される。 The clean air flow path 17 is between the base 12 and the rotating disk 11 (sliding surface) and surrounds the exhaust gas intake part 14 and the exhaust gas dilution part 15 so as to surround the base 12 or the base 12 and the rotating disk. 11 straddling the sliding surface. In the present embodiment, the clean air channel 17 is formed in a round bottom groove shape in a cross-sectional view (see FIG. 2B), but it can also be formed in a flat bottom. The clean air channel 17 is provided with an introduction port 17a and a discharge port 17b extending to the outer periphery thereof. The introduction port 17 a and the discharge port 17 b are provided in the base 12. The clean air introduced from the introduction port 17 a is discharged from the discharge port 17 b to the outside of the diluting device 10 through the clean air channel 17.
清浄空気流路１７に導入するシール用の清浄空気には、排出ガス希釈部１５に導入する希釈用の清浄空気の一部を用いることができる。具体的には、清浄空気導入配管５の流量計１３よりも上流側に、シール用清浄空気導入配管１７ｐを接続し、コンプレッサで加圧して、清浄空気流路１７に加圧清浄空気を導入すると良い。また、シール用の清浄空気を供給するシール用配管を別途設け、希釈用とは別系統とすることもできる。これにより、希釈装置１０外部の大気の侵入を加圧清浄空気でさらに抑止することができる。 As the clean air for sealing introduced into the clean air flow path 17, a part of the clean air for dilution introduced into the exhaust gas dilution section 15 can be used. Specifically, when a clean air introduction pipe 17p for sealing is connected to the upstream side of the flow meter 13 of the clean air introduction pipe 5 and pressurized with a compressor, the pressurized clean air is introduced into the clean air flow path 17. good. Further, a sealing pipe for supplying clean air for sealing may be provided separately, and a system separate from that for dilution may be used. Thereby, the penetration | invasion of the air | atmosphere outside the dilution apparatus 10 can further be suppressed with pressurized clean air.
この希釈装置１０を用いることにより、例えば、粒子数濃度の計測において、従来装置のバックグラウンドが０．１個／ｃｍ3レベルに対し、本発明ではその１／１０以下のバックグラウンドを得ることが可能となり、最新の低排出ガスエンジンの排出量評価の精度を向上させることが可能である。 By using this diluting device 10, for example, in the measurement of the particle number concentration, the background of the conventional device can be obtained at a level of 0.1 piece / cm 3 , and in the present invention, a background of 1/10 or less can be obtained. It becomes possible, and it is possible to improve the accuracy of the latest low emission engine emission assessment.
次に、第二の実施の形態について図３により説明する。 Next, a second embodiment will be described with reference to FIG.
図３に示す希釈装置１０ａは、上述の希釈装置１０に設けた清浄空気流路１７に代えて、台座１２に、回転ディスク１１の外周を覆う清浄空気チャンバー１８を設けたことを特徴とする。より具体的には、希釈装置１０ａは、回転ディスク１１より幅広に形成された台座１２上に、その台座１２と略同程度の外径を有する円筒状の清浄空気チャンバー１８を設けたことを特徴とする。言い換えると、希釈装置１０ａは、台座１２と清浄空気チャンバー１８とで区画された清浄空気流路を回転ディスク１１の外周に有する。清浄空気チャンバー１８の側面には、シール用の清浄空気を清浄空気チャンバー１８内に導入するためのチャンバー用清浄空気導入配管１８ａと、導入された清浄空気を清浄空気チャンバー１８から放出するためのチャンバー用清浄空気放出配管１８ｂが接続される。 The diluting device 10a shown in FIG. 3 is characterized in that a clean air chamber 18 that covers the outer periphery of the rotating disk 11 is provided on the base 12 in place of the clean air flow path 17 provided in the diluting device 10 described above. More specifically, the diluting device 10 a is characterized in that a cylindrical clean air chamber 18 having an outer diameter substantially the same as that of the pedestal 12 is provided on a pedestal 12 formed wider than the rotating disk 11. And In other words, the diluting device 10 a has a clean air flow path partitioned by the pedestal 12 and the clean air chamber 18 on the outer periphery of the rotating disk 11. On the side surface of the clean air chamber 18, a chamber clean air introduction pipe 18 a for introducing clean air for sealing into the clean air chamber 18 and a chamber for discharging the introduced clean air from the clean air chamber 18. A clean air discharge pipe 18b is connected.
なお、本実施の形態は台座１２や清浄空気チャンバー１８の形状などを限定するものではなく、例えば台座１２を回転ディスク１１と同程度の外径に形成すると共に、清浄空気チャンバー１８の下端にその外径を縮径する縮径部を設け、その縮径部の端部を台座１２の側面に固定することで、回転ディスク１１の外周を覆うようにすることもできる。 The present embodiment does not limit the shape of the pedestal 12 or the clean air chamber 18. For example, the pedestal 12 is formed to have the same outer diameter as that of the rotating disk 11, and It is also possible to cover the outer periphery of the rotating disk 11 by providing a reduced diameter portion that reduces the outer diameter and fixing the end of the reduced diameter portion to the side surface of the base 12.
この希釈装置１０ａは、回転ディスク１１の摺動面全体を清浄空気が流通する清浄空気チャンバー１８で覆う構造であり、既存の希釈装置への小改造に適した構成である。 The dilution device 10a has a structure in which the entire sliding surface of the rotary disk 11 is covered with a clean air chamber 18 through which clean air flows, and is suitable for small modifications to the existing dilution device.
次に、第三の実施の形態について図４により説明する。 Next, a third embodiment will be described with reference to FIG.
図４に示す希釈装置１０ｂは、主として回転ディスク１１と、その回転ディスク１１の上下を挟み込むと共に回転ディスク１１を回転自在に支持する一対の台座１２ａ，１２ｂとからなる。図４では、モーター１１ａは、下部台座１１ｂの下方に配置されているが、本発明はモーターの位置を特に限定するものではない。 A diluting device 10b shown in FIG. 4 mainly includes a rotating disk 11 and a pair of bases 12a and 12b that sandwich the rotating disk 11 and support the rotating disk 11 rotatably. In FIG. 4, although the motor 11a is arrange | positioned under the lower base 11b, this invention does not specifically limit the position of a motor.
回転ディスク１１と接する上下の台座面１２Ｆ，１２Ｆのうち、一方の台座面１２Ｆの円周上には、排出ガスを導入する排出ガス導入部１９が形成され、他方の台座面１２Ｆには、導入した排出ガスを放出する排出ガス放出部２０が回転ディスク１１を隔てて排出ガス導入部１９に向かい合うように形成される。また、上下の台座面１２Ｆ，１２Ｆのうち、一方の台座面１２Ｆであって、排出ガス導入部１９または排出ガス放出部２０に対向した円周上には、清浄空気を導入する清浄空気導入部２１が形成され、他方の台座面１２Ｆには、導入した清浄空気を放出する（測定系１０１へ供給する）希釈排出ガス放出部２２が回転ディスク１１を隔てて清浄空気導入部２１に向かい合うように形成される。 Of the upper and lower pedestal surfaces 12F, 12F in contact with the rotary disk 11, an exhaust gas introduction part 19 for introducing exhaust gas is formed on the circumference of one pedestal surface 12F, and introduced into the other pedestal surface 12F. The exhaust gas discharge part 20 for discharging the exhaust gas thus formed is formed so as to face the exhaust gas introduction part 19 with the rotary disk 11 interposed therebetween. In addition, a clean air introduction unit that introduces clean air on one of the upper and lower pedestal surfaces 12F and 12F and on the circumference facing the exhaust gas introduction unit 19 or the exhaust gas discharge unit 20 on one pedestal surface 12F. 21 is formed, and on the other pedestal surface 12F, the diluted exhaust gas discharge part 22 that discharges the introduced clean air (supplied to the measurement system 101) faces the clean air introduction part 21 across the rotary disk 11. It is formed.
すなわち、回転ディスク１１と接する上下の台座面１２Ｆ，１２Ｆの円周上には、回転ディスク１１を隔てて排出ガス導入部１９と排出ガス放出部２０が向かい合うように形成され、排出ガス導入部１９と排出ガス放出部２０の各円周上で対向する清浄空気導入部２１と希釈排出ガス放出部２２が形成される。ここでは、回転ディスク１１の上面に接する上部台座１２ａに排出ガス導入部１９および清浄空気導入部２１を形成し、回転ディスク１１の下面に接する下部台座１２ｂに排出ガス放出部２０および希釈排出ガス放出部２２を形成した。 That is, the exhaust gas introduction part 19 and the exhaust gas discharge part 20 are formed on the circumference of the upper and lower pedestal surfaces 12F, 12F in contact with the rotary disk 11 so as to face each other with the rotary disk 11 therebetween. And a clean air introduction portion 21 and a diluted exhaust gas discharge portion 22 which are opposed to each other on each circumference of the exhaust gas discharge portion 20 are formed. Here, the exhaust gas introduction part 19 and the clean air introduction part 21 are formed on the upper base 12a in contact with the upper surface of the rotary disk 11, and the exhaust gas discharge part 20 and the diluted exhaust gas release are formed in the lower base 12b in contact with the lower surface of the rotary disk 11. Part 22 was formed.
排出ガス導入部１９には、排出ガス導入配管３と接続するための入口１９ａが形成され、排出ガス放出部２０には、排出ガス放出配管４と接続するための出口２０ａが形成される。同様に、清浄空気導入部２１には、清浄空気導入配管５と接続するための入口２１ａが形成され、希釈排出ガス放出部２２には、希釈排出ガス放出配管６と接続するための出口２２ａが形成される。これら入・出口１９ａ〜２２ａは、各台座１２ａ，１２ｂの側面に開口するように形成される。 The exhaust gas introduction part 19 is formed with an inlet 19 a for connection with the exhaust gas introduction pipe 3, and the exhaust gas discharge part 20 is formed with an outlet 20 a for connection with the exhaust gas discharge pipe 4. Similarly, the clean air introduction part 21 is formed with an inlet 21a for connection with the clean air introduction pipe 5, and the diluted exhaust gas discharge part 22 has an outlet 22a for connection with the diluted exhaust gas discharge pipe 6. It is formed. These entrance / exit 19a-22a are formed so that it may open to the side surface of each base 12a, 12b.
各台座１２ａ，１２ｂには、排出ガス導入・放出部１９，２０と清浄空気導入・放出部２１，２２のそれぞれに対応するように、排出ガス導入配管３、排出ガス放出配管４、清浄空気導入配管５、希釈排出ガス放出配管６がそれぞれ接続される。ここでは、上下の台座１２ａ，１２ｂのうち、排出ガス導入部１９と清浄空気導入部２１を形成した上部台座１２ａに排出ガス導入配管３と清浄空気導入配管５が接続され、排出ガス放出部２０と希釈排出ガス放出部２２を形成した下部台座１２ｂに排出ガス放出配管４と希釈排出ガス放出配管６が接続される。 Each pedestal 12a, 12b has an exhaust gas introduction pipe 3, an exhaust gas discharge pipe 4, a clean air introduction so as to correspond to the exhaust gas introduction / discharge parts 19, 20 and the clean air introduction / discharge parts 21, 22, respectively. A pipe 5 and a diluted exhaust gas discharge pipe 6 are connected to each other. Here, the exhaust gas introduction pipe 3 and the clean air introduction pipe 5 are connected to the upper pedestal 12a formed with the exhaust gas introduction part 19 and the clean air introduction part 21 among the upper and lower pedestals 12a and 12b, and the exhaust gas discharge part 20 The exhaust gas discharge pipe 4 and the diluted exhaust gas discharge pipe 6 are connected to the lower pedestal 12b where the diluted exhaust gas discharge part 22 is formed.
一方、回転ディスク１１には、排出ガス導入部１９と排出ガス放出部２０及び清浄空気導入部２１と希釈排出ガス放出部２２を連通する貫通孔２３が形成される。この貫通孔２３が排出ガス導入部１９と排出ガス放出部２０の間にあるとき、排出ガス導入部１９から貫通孔２３を通り排出ガス放出部２０に至る排出ガスの流路が形成される。また、貫通孔２３が清浄空気導入部２１と希釈排出ガス放出部２２の間にあるとき、清浄空気導入部２１から貫通孔２３を通り希釈排出ガス放出部２２に至る清浄空気の流路が形成される。 On the other hand, the rotating disk 11 is formed with a through-hole 23 that communicates the exhaust gas introduction part 19 and the exhaust gas discharge part 20 and the clean air introduction part 21 and the diluted exhaust gas discharge part 22. When the through hole 23 is between the exhaust gas introduction part 19 and the exhaust gas discharge part 20, a flow path of exhaust gas from the exhaust gas introduction part 19 through the through hole 23 to the exhaust gas discharge part 20 is formed. Further, when the through hole 23 is between the clean air introduction part 21 and the diluted exhaust gas discharge part 22, a clean air flow path from the clean air introduction part 21 through the through hole 23 to the diluted exhaust gas discharge part 22 is formed. Is done.
さらに、希釈装置１０ｂには、上述した実施の形態と同様に、シール用の清浄空気流路１７が台座に形成される。より具体的には、上下の台座１２ａ，１２ｂと回転ディスク１１の間に、２つのシール用の清浄空気流路１７，１７が形成される。また、これらの清浄空気流路１７，１７は、排出ガス導入・放出部１９，２０又は清浄空気導入・放出部２１，２２が形成された円周より外周側に位置して形成される。 Further, in the diluting device 10b, a clean air flow path 17 for sealing is formed on the pedestal as in the above-described embodiment. More specifically, two clean air flow paths 17 and 17 for sealing are formed between the upper and lower pedestals 12 a and 12 b and the rotary disk 11. The clean air channels 17 and 17 are formed on the outer peripheral side of the circumference where the exhaust gas introduction / discharge portions 19 and 20 or the clean air introduction / discharge portions 21 and 22 are formed.
この希釈装置１０ｂは、回転ディスク１１の回転で、まず、排出ガス導入部１９と排出ガス放出部２０を連通した貫通孔２３内に排出ガスを採取する。これを清浄空気導入部２１と希釈排出ガス放出部２２に移送し、貫通孔２３内の排出ガスを清浄空気導入部２１からの清浄空気で押出して、清浄空気と共に希釈排出ガスとして希釈排出ガス放出部２２を介して測定系１０１へ供給する。なお、貫通孔２３が連通していないときには、排出ガス、清浄空気は希釈装置１０ｂのバイパス配管２４，２５をそれぞれ通流する。 In the diluter 10b, the exhaust gas is first collected in the through-hole 23 that communicates the exhaust gas introduction part 19 and the exhaust gas discharge part 20 by the rotation of the rotary disk 11. This is transferred to the clean air introduction part 21 and the diluted exhaust gas discharge part 22, and the exhaust gas in the through hole 23 is extruded with the clean air from the clean air introduction part 21, and the diluted exhaust gas is discharged as a diluted exhaust gas together with the clean air. This is supplied to the measurement system 101 via the unit 22. When the through-hole 23 is not in communication, exhaust gas and clean air flow through the bypass pipes 24 and 25 of the diluter 10b, respectively.
このとき、希釈装置１０ｂは回転ディスク１１と接する上下の台座１２ａ，１２ｂにそれぞれ清浄空気流路１７，１７を形成されるため、摺動面のシールは２ヶ所となり、本発明の効果はより大きなものとなる。また希釈装置１０ｂは上下の台座１２ａ，１２ｂで回転ディスク１１を挟み込む構造であるので、台座１２ａ，１２ｂを使用して回転ディスク１１を押さえ込みやすく、面圧をかけて摺動面のリークを抑えやすい。 At this time, since the diluting device 10b is formed with clean air channels 17 and 17 on the upper and lower pedestals 12a and 12b in contact with the rotating disk 11, respectively, there are two seals on the sliding surface, and the effect of the present invention is greater. It will be a thing. Further, since the diluter 10b has a structure in which the rotating disk 11 is sandwiched between the upper and lower pedestals 12a and 12b, the rotating disk 11 can be easily pressed using the pedestals 12a and 12b, and the surface pressure can be easily applied to suppress leakage of the sliding surface. .
以上説明したように、本発明では、回転ディスク式の希釈装置に、台座と回転ディスクとの間（摺動面）へ外部より侵入する大気を遮断するための清浄空気流路を形成するようにした。 As described above, in the present invention, a clean air flow path is formed in the rotating disk type diluting device to block the air that enters from the outside between the pedestal and the rotating disk (sliding surface). did.
これにより、例えば排出ガス中の粒子数濃度の計測において、従来装置のバックグラウンドが０．１個／ｃｍ3レベルに対し、本発明ではその１／１０以下のバックグラウンドを得ることが可能となる。内燃機関の排出ガスの低減技術の進展に伴い、排出量の測定の精度・感度に対する要求が厳しくなるが、その測定の際に排出ガスの希釈装置が必要となる場合には、本発明の装置を用いることにより、低濃度の排出ガスを装置のバックグラウンドに妨害されることなく測定することができる。 Thereby, for example, in the measurement of the particle number concentration in the exhaust gas, the background of the conventional apparatus is 0.1 / cm 3 level, and the present invention can obtain a background of 1/10 or less of the background. . With the progress of technology for reducing exhaust gas from internal combustion engines, the requirements for accuracy and sensitivity of the measurement of exhaust emissions become stricter, but when an exhaust gas dilution device is required for the measurement, the device of the present invention By using this, it is possible to measure a low concentration exhaust gas without being obstructed by the background of the apparatus.
なお、本発明は上記実施の形態に限られず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えうることは言うまでもない。 Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
例えば、上記実施の形態では、希釈装置への排出ガス供給はエンジン排気管から直接行っていたが、規制排出ガス測定に用いられる希釈装置（希釈トンネル等）を経由してサンプリングすることも可能であり、他の排出ガス成分と同様な条件での測定も可能である。 For example, in the above embodiment, the exhaust gas is supplied directly to the dilution device from the engine exhaust pipe, but it is also possible to sample via a dilution device (dilution tunnel, etc.) used for regulated exhaust gas measurement. Yes, measurement under the same conditions as other exhaust gas components is also possible.
３ 排出ガス導入配管
４ 排出ガス放出配管
５ 清浄空気導入配管
６ 希釈排出ガス放出配管
１０ 排出ガス希釈装置（希釈装置）
１１ 回転ディスク
１１ａ モーター
１１ｂ 回転軸
１２ 台座
１２Ｆ 台座面
１３ 流量計
１４ 排出ガス取込部
１５ 排出ガス希釈部
１６ 凹み
１７ 清浄空気流路
１７ａ 導入口
１７ｂ 放出口
3 Exhaust gas introduction pipe 4 Exhaust gas discharge pipe 5 Clean air introduction pipe 6 Diluted exhaust gas discharge pipe 10 Exhaust gas dilution device (dilution device)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Rotating disk 11a Motor 11b Rotating shaft 12 Pedestal 12F Pedestal surface 13 Flow meter 14 Exhaust gas intake part 15 Exhaust gas dilution part 16 Recess 17 Clean air flow path 17a Inlet port 17b Outlet port
Claims (3)
前記台座と回転ディスク間で、かつ排出ガス取込部と排出ガス希釈部の外周側に、シール用の清浄空気流路を形成したことを特徴とする排出ガス希釈装置。 The rotating disk and a pedestal that rotatably supports the rotating disk are formed with an exhaust gas intake portion for introducing engine exhaust gas on the circumference of the pedestal surface on the rotating disk side and the exhaust gas intake. An exhaust gas dilution part for introducing clean air for dilution is formed on the circumference facing the intake part, and a recess facing the exhaust gas intake part and the exhaust gas dilution part is formed on the base surface side of the rotating disk. A part of the exhaust gas introduced into the exhaust gas intake part is collected in the recess by the rotation of the rotating disk, transferred to the exhaust gas dilution part, and the exhaust gas is purified from the exhaust gas dilution part. In the exhaust gas dilution device that supplies the measurement system as diluted exhaust gas with air,
An exhaust gas diluting apparatus, wherein a clean air flow path for sealing is formed between the pedestal and the rotating disk and on the outer peripheral side of the exhaust gas intake part and the exhaust gas dilution part.
前記台座に、回転ディスクの外周を覆う清浄空気チャンバーを設けたことを特徴とする排出ガス希釈装置。 The rotating disk and a pedestal that rotatably supports the rotating disk are formed with an exhaust gas intake portion for introducing engine exhaust gas on the circumference of the pedestal surface on the rotating disk side and the exhaust gas intake. An exhaust gas dilution part for introducing clean air for dilution is formed on the circumference facing the intake part, and a recess facing the exhaust gas intake part and the exhaust gas dilution part is formed on the base surface side of the rotating disk. A part of the exhaust gas introduced into the exhaust gas intake part is collected in the recess by the rotation of the rotating disk, transferred to the exhaust gas dilution part, and the exhaust gas is purified from the exhaust gas dilution part. In the exhaust gas dilution device that supplies the measurement system as diluted exhaust gas with air,
An exhaust gas dilution apparatus characterized in that a clean air chamber is provided on the pedestal to cover the outer periphery of the rotating disk.
前記上下の台座と回転ディスク間に、排出ガス導入・放出部又は清浄空気導入・放出部が形成された円周より外周側に位置してシール用の清浄空気流路を形成したことを特徴とする排出ガス希釈装置。 The rotating disk and a pair of bases sandwiching the upper and lower sides of the rotating disk and rotatably supporting the rotating disk, and the exhaust gas introduction section across the rotating disk on the circumference of the upper and lower pedestal surfaces in contact with the rotating disk Are formed so that the exhaust gas discharge part and the exhaust gas discharge part face each other, and a clean air introduction part and a diluted exhaust gas discharge part that are opposed to each other on the circumferences of the exhaust gas introduction part and the exhaust gas discharge part are formed, and are discharged to the rotating disk. A through-hole that connects the gas introduction part, the exhaust gas discharge part, the clean air introduction part, and the diluted exhaust gas discharge part is formed, and the rotation of the rotating disk causes the exhaust gas introduction part and the exhaust gas discharge part to communicate with each other. Collect the exhaust gas and transfer it to the clean air introduction part and the diluted exhaust gas discharge part, and dilute the exhaust gas in the through-hole from the clean air introduction part with the clean air as diluted exhaust gas. In exhaust gas dilution device for supplying the measurement system via the exhaust gas discharge portion,
A clean air flow path for sealing is formed between the upper and lower pedestals and the rotating disk, located on the outer peripheral side from the circumference where the exhaust gas introduction / discharge part or the clean air introduction / discharge part is formed. Exhaust gas dilution device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011242396A JP5772517B2 (en) | 2011-11-04 | 2011-11-04 | Exhaust gas dilution device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011242396A JP5772517B2 (en) | 2011-11-04 | 2011-11-04 | Exhaust gas dilution device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013096946A JP2013096946A (en) | 2013-05-20 |
| JP5772517B2 true JP5772517B2 (en) | 2015-09-02 |
Family
ID=48619004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011242396A Expired - Fee Related JP5772517B2 (en) | 2011-11-04 | 2011-11-04 | Exhaust gas dilution device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5772517B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101292957B1 (en) | 2013-04-12 | 2013-08-02 | 주식회사 산청 | Intake valve for air filling of chemical proof clothes |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04331352A (en) * | 1991-05-03 | 1992-11-19 | Horiba Ltd | Particulate analysis device |
| JPH0726763U (en) * | 1993-10-09 | 1995-05-19 | 株式会社堀場製作所 | Sealing device for continuous particulate measuring device |
| AT9603U3 (en) * | 2007-08-16 | 2008-08-15 | Avl List Gmbh | ROTATION THINNER FOR FLUID FLOWS |
-
2011
- 2011-11-04 JP JP2011242396A patent/JP5772517B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013096946A (en) | 2013-05-20 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140918 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150415 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150615 |
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