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JP5799059B2 - Thin plate transfer device and thin plate cleaning system - Google Patents
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Description

本発明は、薄板移送装置及び薄板清掃システムに関する。   The present invention relates to a thin plate transfer device and a thin plate cleaning system.

液晶表示装置等に使用されるガラスのような薄板の表裏面には、光学被膜等が形成される。薄板が汚れていると光学被膜等が適切に形成できない場合があるため、薄板を清掃するシステムが必要とされている。   An optical coating or the like is formed on the front and back surfaces of a thin plate such as glass used in a liquid crystal display device or the like. If the thin plate is dirty, an optical coating or the like may not be formed properly. Therefore, a system for cleaning the thin plate is required.

ベルトコンベヤ上に敷いた清浄な布の上に薄板を載置して、アルコールを散布した無塵の布で薄板の上面全体の汚れを払拭する清掃装置が提案されている(中国特許出願公開第102698988号)。このような構成では、薄板のサイズに関わらず、薄板表面を清掃できる。しかしながら、この装置では、薄板の片面しか清掃できない。このため、薄板の片面を清掃した後に、裏返してこの清掃装置でもう一方の面を清掃する必要がある。   A cleaning device has been proposed in which a thin plate is placed on a clean cloth laid on a belt conveyor and the entire upper surface of the thin plate is wiped off with a dust-free cloth sprinkled with alcohol (Chinese Patent Application No. 1) 102698988). In such a configuration, the surface of the thin plate can be cleaned regardless of the size of the thin plate. However, this apparatus can clean only one side of a thin plate. For this reason, after cleaning one side of the thin plate, it is necessary to turn it over and clean the other side with this cleaning device.

ここで、特開平08−89910号公報の図10には、両端を把持して薄板を反転させる構成及び薄板の一面を清掃する構成が記載されている。この構成では、薄板の一面を清掃した後に、薄板を反転させて、他方の面を清掃する。   Here, FIG. 10 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-89910 describes a configuration for holding both ends and inverting the thin plate and a configuration for cleaning one surface of the thin plate. In this configuration, after cleaning one surface of the thin plate, the thin plate is inverted and the other surface is cleaned.

中国特許出願公開第102698988号Chinese Patent Application No. 102688988 特開平8−89910号公報JP-A-8-89910

特開平08−89910号公報の図10に記載の構成では、チャックの外側にモータ等が配置されているため、モータ等を超えてチャックを開くことができない。したがって、大きなサイズの薄板に対応できない。また、この構成では、薄板の両端を把持するため、すでに清掃した箇所に把持するためのチャックの一部が接触する。このため、薄板の両端を完全に清掃することは難しい。   In the configuration shown in FIG. 10 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-89910, since the motor or the like is disposed outside the chuck, the chuck cannot be opened beyond the motor or the like. Therefore, it cannot respond to a large-sized thin plate. Moreover, in this structure, in order to hold | grip both ends of a thin plate, a part of chuck | zipper for holding to the already cleaned location contacts. For this reason, it is difficult to completely clean both ends of the thin plate.

そこで、本発明は、薄板を効率よく反転できる反転できる薄板移送装置、及びこの薄板移送装置を備えることで、効率よく薄板の両面を容易かつ確実に清掃できる薄板清掃システムを提供することを課題とする。   SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a thin plate transfer device capable of reversing a thin plate efficiently and a reversible thin plate transfer device, and a thin plate cleaning system capable of efficiently and reliably cleaning both surfaces of a thin plate by including this thin plate transfer device. To do.

上記課題を解決するためになされた発明は、所定の第1受渡領域において薄板の一方の面を吸着し、所定の第2受渡領域において上記薄板を解放する吸着部と、この吸着部が一端側に付設されているアームと、このアームの他端側を支持し、上記吸着部に吸着されているときの上記薄板と平行な平面上に位置する回転軸を中心に回転可能な回転部とを備える薄板移送装置である。   The invention made in order to solve the above-mentioned problems is characterized in that an adsorption part that adsorbs one surface of a thin plate in a predetermined first delivery area and releases the thin plate in a predetermined second delivery area, and this adsorption part is on one end side An arm attached to the arm, and a rotating part that supports the other end of the arm and is rotatable about a rotation axis located on a plane parallel to the thin plate when adsorbed to the adsorbing part. It is a thin plate transfer apparatus provided.

当該薄板移送装置は、回転部から延出するアームの先端側に設けた吸着部によって薄板の一方の面を吸着し、吸着部に吸着されている薄板と実質的に平行な回転軸を中心に回転部を回転することによりアームを縦に旋回させて、円弧を描くように薄板を移動させると共に薄板の一方の面及び他方の面を反転させる。これにより、薄板の他方の面に触れることなく薄板を移送及び反転できる。   The thin plate transfer device sucks one surface of a thin plate by a suction portion provided on the tip side of an arm extending from the rotation portion, and centers on a rotation axis substantially parallel to the thin plate sucked by the suction portion. By rotating the rotating part, the arm is swung vertically to move the thin plate so as to draw an arc and to invert one surface and the other surface of the thin plate. Thereby, a thin plate can be transferred and reversed without touching the other surface of the thin plate.

当該薄板移送装置において、複数の上記吸着部及び上記アームが、上記回転部を中心に略対称に配置されており、上記第1受渡領域と上記第2受渡領域とが上記回転軸を中心に略対称に位置するとよい。この構成によれば、第1受渡領域において一方の吸着部が薄板を吸着するとき、他方の吸着部が第2受渡領域に配置されるため、第1受渡領域における薄板の吸着と同時に第2受渡領域における薄板の解放が可能である。このため、当該薄板移送装置は、効率よく薄板を移送できる。   In the thin plate transfer device, the plurality of suction portions and the arms are disposed substantially symmetrically about the rotating portion, and the first delivery region and the second delivery region are substantially centered on the rotation axis. It should be located symmetrically. According to this configuration, when one suction part sucks the thin plate in the first delivery area, the other suction part is arranged in the second delivery area. Therefore, the second delivery is performed simultaneously with the thin plate suction in the first delivery area. The release of thin plates in the area is possible. For this reason, the said thin plate transfer apparatus can transfer a thin plate efficiently.

当該薄板移送装置は、上記回転部と上記アームとの間に設けられ、上記回転部に対して上記アームを上記吸着部の吸引方向に突出又は後退する突出機構を備え、上記吸着部が、上記第1受渡領域において、上記突出機構が上記アームを後退させることによって上記薄板よりも下方に退避し、上記突出機構が上記アームを突出させることによって上記薄板を持ち上げるとよい。この構成によれば、回転体を回転することなく、突出機構がアームを突出させることによって吸着部により薄板を持ち上げられる。このため、第1受渡領域における薄板の吸着と第2受渡領域における薄板の解放とを同期せずに行えるので、前後の装置を待たせる可能性が小さい。また、この構成では、搬送速度の遅れや搬送中のトラブルが発生した場合であっても、柔軟に対応できる。   The thin plate transfer device includes a projecting mechanism that is provided between the rotating unit and the arm, and projects or retracts the arm in the suction direction of the adsorbing unit with respect to the rotating unit. In the first delivery area, the projecting mechanism retracts below the thin plate by retracting the arm, and the projecting mechanism raises the thin plate by projecting the arm. According to this configuration, the thin plate can be lifted up by the suction portion by causing the protruding mechanism to protrude the arm without rotating the rotating body. For this reason, since adsorption | suction of the thin plate in a 1st delivery area | region and release | release of a thin plate in a 2nd delivery area | region can be performed without synchronizing, there is little possibility of waiting the apparatus of front and back. Further, with this configuration, even when a conveyance speed delay or a trouble during conveyance occurs, it can be flexibly dealt with.

当該薄板移送装置は、上記吸着部及び上記回転体の動作を制御する制御装置を備え、上記制御装置が、上記第1受渡領域において、上記薄板が移動している状態で上記吸着部が上記薄板を吸着するよう制御する吸着制御要素と、上記第2受渡領域において、確認信号に応じて上記吸着部が上記薄板を解放するよう制御する解放制御要素と、上記第1受渡領域における上記薄板の吸着と、上記第2受渡領域における上記薄板の解放とが共に完了した後、上記回転部が回転するよう制御する回転制御要素とを有するとよい。このように、吸着制御要素、解放制御要素及び回転制御要素を有することにより、第1受渡領域における薄板の吸着と、第2受渡領域における薄板の解放と、第1受渡領域から第2受渡領域への薄板の移送とを効率よく行える。   The thin plate transfer device includes a control device that controls the operation of the suction portion and the rotating body, and the suction device is in the state where the thin plate is moving in the first delivery region. An adsorption control element that controls to adsorb the sheet, a release control element that controls the adsorption unit to release the thin plate in response to a confirmation signal in the second delivery area, and an adsorption of the thin board in the first delivery area And a rotation control element for controlling the rotating portion to rotate after the release of the thin plate in the second delivery area is completed. Thus, by having the suction control element, the release control element, and the rotation control element, the thin plate suction in the first delivery region, the thin plate release in the second delivery region, and the first delivery region to the second delivery region. The thin plate can be transferred efficiently.

当該薄板移送装置において、上記吸着制御要素が、上記第2受渡領域における上記薄板の解放と同時に、上記第1受渡領域において上記吸着部が上記薄板を吸着するよう制御するとよい。第1受渡領域における薄板の吸着のタイミングと第2受渡領域における薄板の解放のタイミングとが同じであれば、薄板の移送サイクルを短くできる。   In the thin plate transfer device, the suction control element may control the suction portion to suck the thin plate in the first delivery region simultaneously with the release of the thin plate in the second delivery region. If the timing of thin plate adsorption in the first delivery region is the same as the timing of thin plate release in the second delivery region, the thin plate transfer cycle can be shortened.

ここで、伸縮不能なアームを備えた薄板移送装置の場合には、どのようなサイズの薄板であっても、吸着部上に薄板が移動した時点で回転部が回転して薄板を移送する。しかしながら、このような構成の場合、薄板のサイズによっては効率的ではない場合が存在する。例えば、小さい薄板の搬送に合わせて、アームを長く設定している場合には、大きい薄板を搬送する際には、回転部を中心として大きな薄板が回転することとなるため大きなスペースが必要となる。一方で大きな薄板の搬送に合わせて短いアームに設定されている場合には、小さい薄板を搬送する際には、アームの吸着部が位置する箇所まで、薄板を搬送する機構が必要となる。   Here, in the case of a thin plate transfer device provided with an arm that cannot be expanded and contracted, the rotating portion rotates to transfer the thin plate when the thin plate moves on the suction portion, regardless of the size of the thin plate. However, in such a configuration, there is a case where it is not efficient depending on the size of the thin plate. For example, when the arm is set to be long in accordance with the conveyance of a small thin plate, a large space is required because the large thin plate rotates around the rotating portion when conveying a large thin plate. . On the other hand, when the short arm is set in accordance with the conveyance of the large thin plate, a mechanism for conveying the thin plate to the position where the suction part of the arm is located is necessary when conveying the small thin plate.

当該薄板移送装置において、上記アームが上記他端から上記一端に向かう方向に伸縮可能であるとよい。当該薄板移送装置は、薄板のサイズに合わせてアームを伸縮することで、供給された瞬間の薄板を吸着してしっかりと保持できる。これにより多様なサイズの薄板を確実に反転させつつ移送できる。また、例えば、小さなサイズの薄板の場合には、アームを伸長させた状態で薄板を吸着部が吸着し、かつアームを伸長させた状態で回転部が回転することにより、アームが収縮した状態で薄板を吸着する場合よりも薄板の搬送距離が短くなり、かつ回転部の回転によって遠くまで薄板を搬送することができる。一方で、大きなサイズの薄板の場合には、アームを伸ばした状態で吸着部上の薄板が移動した瞬間に吸着した場合には、吸着するのが難しい場合がある。例えば、薄板の一部が薄板の搬送機構に残っているため、吸着に大きな力が必要な場合や、アームを伸ばして薄板を回転させるためのスペースを確保しにくい場合等には、アームを伸長した状態で回転部を回転させることは難しい。この場合には、アームを収縮させた状態で薄板を吸着部が吸着し、回転部が回転することで大きなサイズの薄板であっても問題なく、反転させつつ移送することができる。   The said thin plate transfer apparatus WHEREIN: It is good for the said arm to be able to expand-contract in the direction which goes to the said one end from the said other end. The said thin plate transfer apparatus can adsorb | suck and hold the thin plate of the supplied instant firmly by extending | stretching an arm according to the size of a thin plate. Thereby, thin plates of various sizes can be transferred while being reliably reversed. Also, for example, in the case of a thin plate of a small size, the arm is contracted by the suction unit adsorbing the thin plate with the arm extended, and the rotating unit rotating with the arm extended. The transport distance of the thin plate is shorter than when the thin plate is adsorbed, and the thin plate can be transported far by the rotation of the rotating unit. On the other hand, in the case of a thin plate having a large size, it may be difficult to suck if the thin plate on the suction portion moves while the arm is extended. For example, if a large part of the thin plate remains in the thin plate transport mechanism and a large force is required for suction, or if it is difficult to secure a space to rotate the thin plate by extending the arm, extend the arm. It is difficult to rotate the rotating part in this state. In this case, the thin plate can be transported while being reversed without any problem even if it is a large-sized thin plate by the sucking unit sucking the thin plate with the arm contracted and the rotating unit rotating.

当該薄板搬送装置において、上記アームが、上記回転部に固定されている固定部材と、上記吸着部が付設されると共に上記固定部材に対して上記他端から上記一端に向かう方向にスライド可能に設けられているスライド部材とを有するとよい。スライドによりアームを伸縮する簡素な構成とすることで、当該薄板搬送装置を過度に複雑化させない。   In the thin plate conveying apparatus, the arm is provided with a fixing member fixed to the rotating portion and the suction portion and is slidable in the direction from the other end to the one end with respect to the fixing member. It is good to have a slide member. By adopting a simple configuration in which the arm is extended and contracted by sliding, the thin plate conveying device is not excessively complicated.

当該薄板搬送装置は、上記第1受渡領域において上記アームを伸長した際の上記吸着部の近傍で上記薄板の有無を検出する上流側センサと、上記第1受渡領域において上記アームを収縮した際の上記他端の近傍で上記薄板の有無を検出する下流側センサとを備えるとよい。上流側センサは薄板が供給システムから離間して吸着部による保持が可能となったことを検出し、下流側センサは薄板が吸着部による保持が可能な範囲を通過しようとしていることを検出する。このように、2つのセンサを用いることで、簡単な制御で薄板の確実な吸着が可能となる。   The thin plate conveying device includes an upstream sensor that detects the presence or absence of the thin plate in the vicinity of the suction portion when the arm is extended in the first delivery region, and an arm when the arm is contracted in the first delivery region. It is good to provide the downstream sensor which detects the presence or absence of the said thin plate in the vicinity of the said other end. The upstream sensor detects that the thin plate is separated from the supply system and can be held by the suction portion, and the downstream sensor detects that the thin plate is about to pass through a range where the thin plate can be held by the suction portion. Thus, by using two sensors, the thin plate can be reliably adsorbed by simple control.

当該薄板搬送装置は、上記吸着部、上記アーム及び上記回転部の動作を制御する制御装置を備え、上記制御装置が、上記アームの伸縮方向における上記薄板の長さが所定の基準長さ以下である場合には、上記アームが伸長した状態で上記上流側センサが上記薄板を検出しなくなったときに上記吸着部が上記薄板を吸着するよう制御し、上記アームの伸縮方向における上記薄板の長さが上記基準長さを超える場合には、上記アームが収縮した状態で上記下流側センサが上記薄板を検出したときに上記吸着部が上記薄板を吸着するよう制御するとよい。アームを伸長して短い薄板を吸着する場合には上流側センサのみを使用し、アームを収縮して長い薄板を吸着する場合には下流側センサのみを使用するので、制御が簡単でありながら薄板を確実の吸着できる。   The thin plate conveying device includes a control device that controls operations of the suction unit, the arm, and the rotating unit, and the control device is configured such that the length of the thin plate in the expansion and contraction direction of the arm is equal to or less than a predetermined reference length. In some cases, when the upstream sensor stops detecting the thin plate with the arm extended, the suction unit controls the suction of the thin plate, and the length of the thin plate in the expansion and contraction direction of the arm. Is more than the reference length, it may be controlled so that the suction portion sucks the thin plate when the downstream sensor detects the thin plate with the arm contracted. Only the upstream sensor is used when the arm is extended to adsorb a short thin plate, and only the downstream sensor is used when the arm is contracted to adsorb a long thin plate. Can be reliably adsorbed.

当該薄板搬送装置は、上記第1受渡領域に供給された上記薄板の上記一方の面を支持できると共に、上記吸着部がそれらの間を通過できるように上記第1受渡領域に配設された複数の仮受部材を備えるとよい。一度仮受部材で薄板を支持するので、供給システムの影響をなくして薄板を確実に吸着できる。   The thin plate conveying device can support the one surface of the thin plate supplied to the first delivery region, and a plurality of disposed in the first delivery region so that the suction portion can pass between them. The provisional receiving member may be provided. Since the thin plate is once supported by the provisional receiving member, the thin plate can be reliably adsorbed without the influence of the supply system.

当該薄板搬送装置において、上記制御装置が、上記第2受渡領域において上記アームが伸長した状態で上記吸着部が上記薄板を解放し、上記薄板を解放した後であって上記回転部が回転する前に上記アームが収縮するよう制御する解放制御要素を有するとよい。アームを伸長して回転部の回転中心から離れた位置において下流側装置に薄板を受け渡し、アームを収縮することで回転部の回転時にアームが下流側装置及び下流側装置が保持する薄板と干渉しないようにできる。このため下流側装置の状態にかかわらず回転部が回転できる。   In the thin plate conveying device, the control unit releases the thin plate with the arm extended in the second delivery area, and after the thin plate is released and before the rotating unit rotates. It is preferable to have a release control element for controlling the arm to contract. Extending the arm and delivering the thin plate to the downstream device at a position away from the rotation center of the rotating unit, and contracting the arm prevents the arm from interfering with the downstream device and the thin plate held by the downstream device when the rotating unit rotates. You can For this reason, a rotation part can rotate irrespective of the state of a downstream apparatus.

上記課題を解決するためになされた別の発明は、当該薄板移送装置と、上記薄板の他方の面を清掃し、上記薄板移送装置に薄板を供給する第1クリーニング装置と、上記薄板の一方の面を清掃し、上記薄板移送装置から薄板が供給される第2清掃部を有する第2クリーニング装置とを備える薄板清掃システムである。   Another invention made to solve the above-mentioned problems is the thin plate transfer device, a first cleaning device for cleaning the other surface of the thin plate and supplying the thin plate to the thin plate transfer device, and one of the thin plates. A thin plate cleaning system comprising: a second cleaning device having a second cleaning unit for cleaning a surface and supplying a thin plate from the thin plate transfer device.

当該薄板移送装置が薄板の他方の面に触れることなく多様なサイズの薄板を移送及び反転できるので、薄板清掃システムは多様なサイズの薄板の両面を容易かつ確実に清掃できる。   Since the thin plate transfer device can transfer and invert thin plates of various sizes without touching the other surface of the thin plate, the thin plate cleaning system can easily and reliably clean both surfaces of thin plates of various sizes.

本発明の薄板移送装置は、アームの伸縮により多様なサイズの薄板を吸着部が確実に吸着し、回転部の回転によって薄板を移送しながら反転させることができる。また、当該薄板移送装置を備える本発明の薄板清掃システムでは、薄板を反転させる際に清掃済みの面にアーム等が接触することがないため、多様なサイズの薄板の両面を容易かつ確実に清掃できる。   In the thin plate transfer device of the present invention, the suction portion can reliably suck thin plates of various sizes by the expansion and contraction of the arm, and can be reversed while the thin plate is being transferred by the rotation of the rotating portion. Further, in the thin plate cleaning system of the present invention provided with the thin plate transfer device, the arm or the like does not come into contact with the cleaned surface when inverting the thin plate, so that both surfaces of various sizes of thin plates can be easily and reliably cleaned. it can.

本発明の一実施形態の薄板清掃システムを示す模式的側面図である。It is a typical side view which shows the thin plate cleaning system of one Embodiment of this invention. 図1の薄板清掃システムの薄板移送装置を示す模式的平面図である。It is a typical top view which shows the thin plate transfer apparatus of the thin plate cleaning system of FIG. 図2の薄板移送装置の模式的側面図である。It is a typical side view of the thin plate transfer apparatus of FIG. 薄板移送装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of a thin plate transfer apparatus. 短い薄板を移送する場合の薄板移送装置の待機状態を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the standby state of the thin plate transfer apparatus in the case of transferring a short thin plate. 図5の次の状態における薄板移送装置を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the thin plate transfer apparatus in the next state of FIG. 図6の次の状態における薄板移送装置を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the thin plate transfer apparatus in the next state of FIG. 図7の次の状態における薄板移送装置を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the thin plate transfer apparatus in the next state of FIG. 長い薄板を移送する場合の薄板移送装置の待機状態を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the standby state of the thin plate transfer apparatus in the case of transferring a long thin plate. 図9の次の状態における薄板移送装置を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the thin plate transfer apparatus in the next state of FIG. 図10の次の状態における薄板移送装置の待機状態を例示する模式的側面図である。It is a typical side view which illustrates the standby state of the thin plate transport apparatus in the next state of FIG. 図1とは異なる実施形態の薄板清掃システムに係る薄板移送装置の模式的平面図である。It is a typical top view of the thin plate transfer apparatus which concerns on the thin plate cleaning system of embodiment different from FIG.

以下、適宜図面を参照しつつ、本発明の実施の形態を詳説する。先ず、図1から図11を参照しながら、本発明の第一実施形態の薄板清掃システムについて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. First, a thin plate cleaning system according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 11.

[第一実施形態]
図1の薄板清掃システム1は、透明な薄板Pの一方の面(第1面)を支持して他方の面(第2面)を清掃する第1クリーニング装置10と、薄板Pの第2面を支持して第1面を清掃する第2クリーニング装置20と、薄板Pを第1クリーニング装置10から第2クリーニング装置20に移送する薄板移送装置30とを備える。ここで、薄板Pには、例えば、液晶表示装置等に用いられるガラスや樹脂素材の基板が含まれる。
[First embodiment]
A thin plate cleaning system 1 in FIG. 1 supports a first surface (first surface) of a transparent thin plate P and cleans the other surface (second surface), and a second surface of the thin plate P. And a second cleaning device 20 for cleaning the first surface and a thin plate transfer device 30 for transferring the thin plate P from the first cleaning device 10 to the second cleaning device 20. Here, the thin plate P includes, for example, a glass or resin substrate used in a liquid crystal display device or the like.

<第1クリーニング装置>
第1クリーニング装置10は、第1搬送部11と、第1清掃部12とを有する。第1搬送部11は、第1面が接触するように薄板Pが載置される薄板供給領域A1から、薄板Pが清掃される第1清掃領域A2を介して、薄板Pを薄板移送装置30に受け渡す第1受渡領域A3まで薄板Pを搬送するベルトコンベアからなる。第1清掃部12は、第1清掃領域A2において第1搬送部11上に載置されている薄板Pの第2面を清掃する。
<First cleaning device>
The first cleaning device 10 includes a first transport unit 11 and a first cleaning unit 12. The first transport unit 11 transfers the thin plate P from the thin plate supply region A1 where the thin plate P is placed so that the first surface is in contact via the first cleaning region A2 where the thin plate P is cleaned. It consists of a belt conveyor that conveys the thin plate P to the first delivery area A3. The first cleaning unit 12 cleans the second surface of the thin plate P placed on the first transport unit 11 in the first cleaning region A2.

第1清掃部12は、以下のようにして薄板Pの第2面に付着している汚れを払拭するよう構成されている。まず、塵埃を生じないように形成された清浄な長尺布13に不図示の散布装置によってアルコールが散布される。そして、鉛直な偏心軸を中心に回転する円盤14によって、第1搬送部11上に載置されている薄板Pに長尺布13が押し当てられる。これにより、長尺布13は、薄板Pの上で円を描くように動かされ、薄板Pの第2面の汚れを払拭する。   The 1st cleaning part 12 is constituted so that the dirt adhering to the 2nd surface of thin plate P may be wiped off as follows. First, alcohol is sprayed on a clean long cloth 13 formed so as not to generate dust by a spraying device (not shown). Then, the long cloth 13 is pressed against the thin plate P placed on the first transport unit 11 by the disk 14 rotating around the vertical eccentric shaft. Thereby, the long cloth 13 is moved to draw a circle on the thin plate P, and wipes off the dirt on the second surface of the thin plate P.

<第2クリーニング装置>
第2クリーニング装置20は、第2搬送部21と、第2清掃部22とを有する。第2搬送部21は、薄板移送装置30より薄板Pを受け取る第2受渡領域A4から薄板Pが清掃される第2清掃領域A5を介して薄板Pを排出する薄板排出領域A6まで薄板Pを搬送する。第2清掃部22は、第2清掃領域A5において薄板Pの第1面を清掃する。
<Second cleaning device>
The second cleaning device 20 includes a second transport unit 21 and a second cleaning unit 22. The second transport unit 21 transports the thin plate P from the second delivery region A4 that receives the thin plate P from the thin plate transfer device 30 to the thin plate discharge region A6 that discharges the thin plate P through the second cleaning region A5 where the thin plate P is cleaned. To do. The second cleaning unit 22 cleans the first surface of the thin plate P in the second cleaning region A5.

第2搬送部21は、ベルトコンベア23と、ベルトコンベア23上に供給され、ベルトコンベア23と同じ速度で移動する清浄な載置用長尺布24とを有する。薄板Pは、常に新しく供給される載置用長尺布24の上に、第1クリーニング装置10によって清掃された第2面が接触するように載置される。また、第2クリーニング装置20の第2搬送部21が薄板Pに接触する高さは、第1クリーニング装置10の第1搬送部11が薄板Pに接面する高さ未満である。   The second transport unit 21 includes a belt conveyor 23 and a clean long elongate cloth 24 that is supplied onto the belt conveyor 23 and moves at the same speed as the belt conveyor 23. The thin plate P is placed on the long fabric 24 for placement that is always newly supplied so that the second surface cleaned by the first cleaning device 10 is in contact therewith. In addition, the height at which the second transport unit 21 of the second cleaning device 20 contacts the thin plate P is less than the height at which the first transport unit 11 of the first cleaning device 10 contacts the thin plate P.

第2清掃部22は、以下のようにして薄板Pの第2面の汚れを払拭するよう構成されている。まず、塵埃を生じないように形成された清浄な長尺布25に不図示の散布装置によってアルコールが散布される。そして、鉛直な偏心軸を中心に回転する円盤26によって、第2搬送部21上に載置されている薄板Pに長尺布25が押し当てられる。これにより、長尺布25は、薄板Pの上で円を描くように動かされ、薄板Pの第1面の汚れを払拭する。   The 2nd cleaning part 22 is constituted so that the dirt on the 2nd surface of thin plate P may be wiped off as follows. First, alcohol is sprayed on a clean long cloth 25 formed so as not to generate dust by a spraying device (not shown). Then, the long cloth 25 is pressed against the thin plate P placed on the second transport unit 21 by the disk 26 rotating around the vertical eccentric shaft. Thereby, the long cloth 25 is moved to draw a circle on the thin plate P, and wipes off the dirt on the first surface of the thin plate P.

<薄板移送装置>
図2は、薄板移送装置30の平面を図示し、図3は、薄板移送装置30の平面を図示する。薄板移送装置30は、図2及び図3に詳しく示すように、仮受部材31と、吸着部32と、アーム33と、突出機構34と、回転部35とを備える。仮受部材31は、第1受渡領域A3において第1クリーニング装置10(図1参照)から排出された薄板Pの第1面を一時的に支持する。吸着部32は、仮受部材31に支持されている薄板Pの第1面を吸着する。アーム33は、吸着部32が一端側に付設されており、他端から上記一端に向かう方向に伸縮可能である。突出機構34は、アーム33の他端側を支持するエアシリンダからなる。回転部35は、突出機構34が固定され、吸着部32に吸着される薄板Pと実質的に平行(吸着部32の吸引方向と垂直、第1搬送部11が薄板Pを搬送する方向に垂直かつ水平な方向)に延びる回転軸を中心に回転可能である。吸着部32、アーム33及び突出機構34は、回転部35の回転軸を中心に対称に二組配設されている。
<Thin plate transfer device>
FIG. 2 illustrates the plane of the thin plate transfer device 30, and FIG. 3 illustrates the plane of the thin plate transfer device 30. As shown in detail in FIGS. 2 and 3, the thin plate transfer device 30 includes a provisional receiving member 31, a suction portion 32, an arm 33, a protruding mechanism 34, and a rotating portion 35. The temporary receiving member 31 temporarily supports the first surface of the thin plate P discharged from the first cleaning device 10 (see FIG. 1) in the first delivery area A3. The suction part 32 sucks the first surface of the thin plate P supported by the temporary receiving member 31. The arm 33 is provided with a suction portion 32 on one end side, and can extend and contract in a direction from the other end toward the one end. The protruding mechanism 34 is composed of an air cylinder that supports the other end of the arm 33. The rotation unit 35 is substantially parallel to the thin plate P to which the protrusion mechanism 34 is fixed and is sucked by the suction unit 32 (perpendicular to the suction direction of the suction unit 32, and perpendicular to the direction in which the first transport unit 11 transports the thin plate P. And a rotation axis extending in a horizontal direction). Two sets of the suction portion 32, the arm 33, and the protrusion mechanism 34 are arranged symmetrically about the rotation axis of the rotation portion 35.

仮受部材31は、第1搬送部11の搬送方向に並んで配置された複数列のプーリーからなる。仮受部材31は、上流側(図1における第1クリーニング装置10側)の方が下流側よりも、第1搬送部11の搬送方向に小さい間隔で配置されている。また、仮受部材31は、アーム33が通過できるように、第1搬送部11の搬送方向に直交する横断方向においてアーム33の幅より広い間隔で配列されている。そして、仮受部材31は、上流側では幅の小さい薄板Pを支持できるように第1搬送部11の搬送方向に直交する横断方向に小さい間隔で配列され、下流側では幅の大きい薄板Pを支持できるように横断方向に大きい間隔で配列されている。   The temporary receiving member 31 includes a plurality of rows of pulleys arranged side by side in the transport direction of the first transport unit 11. The provisional receiving members 31 are arranged on the upstream side (the first cleaning device 10 side in FIG. 1) at smaller intervals in the transport direction of the first transport unit 11 than on the downstream side. Further, the provisional receiving members 31 are arranged at intervals wider than the width of the arms 33 in the transverse direction orthogonal to the conveying direction of the first conveying unit 11 so that the arms 33 can pass through. The provisional receiving members 31 are arranged at small intervals in the transverse direction orthogonal to the conveying direction of the first conveying unit 11 so that the thin plate P having a small width can be supported on the upstream side, and the thin plate P having a large width on the downstream side. They are arranged at large intervals in the transverse direction so that they can be supported.

吸着部32は、アーム33に取り付けられた複数のバキュームパッド36を有する。アーム33には、不図示の真空源に接続された流路に連通し、バキュームパッド36を取り付け可能な複数の吸引穴37が形成されている。バキュームパッド36は、薄板Pを吸着して支持する。これらのバキュームパッド36は、吸着すべき薄板Pの大きさに応じて適当な位置に取り付けられる。バキュームパッド36を取り付けない吸引穴37はプラグで封止される。   The suction part 32 has a plurality of vacuum pads 36 attached to the arm 33. The arm 33 is formed with a plurality of suction holes 37 that communicate with a flow path connected to a vacuum source (not shown) and to which a vacuum pad 36 can be attached. The vacuum pad 36 sucks and supports the thin plate P. These vacuum pads 36 are attached at appropriate positions according to the size of the thin plate P to be sucked. The suction hole 37 to which the vacuum pad 36 is not attached is sealed with a plug.

アーム33は、吸着部32の吸引方向と垂直な方向(図3に示すように吸着部32に吸着した薄板Pに平行な方向)であって、吸着部32を第1受渡領域A3に配置したときに第1搬送部11の搬送方向Dと平行な水平方向に伸縮可能である。このため、アーム33は、突出機構34に支持された固定部材38と、固定部材38に対してスライド可能に設けられたスライド部材39とを有する。具体的に説明すると、固定部材38は、ロッドレスシリンダのスライドチューブ38a及びハウジング38bを含み、スライド部材39は、ロッドレスシリンダのスライドテーブル39aと、このスライドテーブル39aからロッドレスシリンダの動作方向に延設され、スライドテーブル39aと反対側に吸着部32が付設される細長い厚板状の部材39bとを含む。   The arm 33 is in a direction perpendicular to the suction direction of the suction portion 32 (a direction parallel to the thin plate P sucked by the suction portion 32 as shown in FIG. 3), and the suction portion 32 is arranged in the first delivery area A3. Sometimes it can extend and contract in the horizontal direction parallel to the transport direction D of the first transport unit 11. Therefore, the arm 33 includes a fixing member 38 supported by the protruding mechanism 34 and a slide member 39 provided so as to be slidable with respect to the fixing member 38. More specifically, the fixing member 38 includes a slide tube 38a of a rodless cylinder and a housing 38b. The slide member 39 includes a slide table 39a of the rodless cylinder and an operation direction of the rodless cylinder from the slide table 39a. It includes an elongated plate-like member 39b that extends and is provided with a suction portion 32 on the opposite side to the slide table 39a.

突出機構34は、アーム33を吸着部32の吸引方向と平行に、突出(回転部35から離間)又は後退(回転部35に接近)させる。吸着部32を第1受渡領域A3において支持するようにアーム33が水平に配置された状態で、突出機構34がアーム33を後退させると仮受部材31が薄板Pを支持する高さよりも下方に吸着部32のバキュームパッド36全体が位置し、突出機構34がアーム33を突出させると仮受部材31が薄板Pを支持する高さより上方にバキュームパッド36の吸着面が位置する。   The protrusion mechanism 34 causes the arm 33 to protrude (separate from the rotating part 35) or retreat (approach to the rotating part 35) in parallel with the suction direction of the suction part 32. In a state where the arm 33 is horizontally disposed so as to support the suction portion 32 in the first delivery area A3, when the protruding mechanism 34 moves the arm 33 backward, the temporary receiving member 31 is below the height at which the thin plate P is supported. When the entire vacuum pad 36 of the suction portion 32 is positioned and the protruding mechanism 34 protrudes the arm 33, the suction surface of the vacuum pad 36 is positioned above the height at which the temporary receiving member 31 supports the thin plate P.

回転部35は、モータ40によって回転軸を中心に回転させられる。この回転部35の回転軸は、第1搬送部11が薄板Pと接触する部分と第2搬送部21が薄板Pと接触する部分との間の高さに配設されている。回転部35が回転すると、アーム33は、仮受部材31の間を通過して旋回するように移動する。   The rotating unit 35 is rotated around the rotation axis by the motor 40. The rotating shaft of the rotating unit 35 is disposed at a height between a portion where the first transport unit 11 contacts the thin plate P and a portion where the second transport unit 21 contacts the thin plate P. When the rotating part 35 rotates, the arm 33 moves so as to turn between the provisional receiving members 31.

また、薄板移送装置30は、上流側センサ41、下流側センサ42及び解放側センサ43とを備える。上流側センサ41は、第1受渡領域A3においてアーム33を伸長した際の吸着部32の近傍かつ吸着部32よりも伸長側(上流側)で薄板Pの有無を検出する。下流側センサ42は、第1受渡領域A3においてアーム33を収縮した際の吸着部32の近傍かつ吸着部32よりも収縮側(下流側)で薄板Pの有無を検出する。解放側センサ43は、第2受渡領域A4においてアーム33を伸長した際の吸着部32の近傍かつ吸着部32よりも伸長側(下流側)で薄板Pの有無を検出する。上流側センサ41、下流側センサ42及び解放側センサ43は、好ましくは光電センサ等の非接触型のセンサであり、回転部35の回転によって他の構成要素と干渉しない位置に固定される。   The thin plate transfer device 30 includes an upstream sensor 41, a downstream sensor 42, and a release sensor 43. The upstream sensor 41 detects the presence or absence of the thin plate P in the vicinity of the suction portion 32 when the arm 33 is extended in the first delivery area A3 and on the extension side (upstream side) of the suction portion 32. The downstream sensor 42 detects the presence or absence of the thin plate P in the vicinity of the suction portion 32 when the arm 33 is contracted in the first delivery area A3 and on the contraction side (downstream side) of the suction portion 32. The release side sensor 43 detects the presence or absence of the thin plate P in the vicinity of the suction part 32 when the arm 33 is extended in the second delivery area A4 and on the extension side (downstream side) of the suction part 32. The upstream sensor 41, the downstream sensor 42, and the release sensor 43 are preferably non-contact type sensors such as photoelectric sensors, and are fixed at positions that do not interfere with other components by the rotation of the rotating unit 35.

さらに、薄板移送装置30は、上述の各構成要素の動作を制御する制御装置44を備える。制御装置44は、好ましくはプログラム可能なマイクロコンピュータ等によって構成される。   Further, the thin plate transfer device 30 includes a control device 44 that controls the operation of each of the above-described components. The control device 44 is preferably constituted by a programmable microcomputer or the like.

図4のブロック図に、薄板移送装置30の制御に係る各構成要素の関係を示す。制御装置44には、設定入力部45を介して移送する薄板Pのサイズ等の条件設定が予め入力される。また、制御装置44には、上流側センサ41、下流側センサ42及び解放側センサ43の検出信号が入力される。制御装置44は、これらの入力に基づいて、吸着部32の吸引動作、アーム33の伸縮動作、突出機構34の突出後退動作、及び回転部35の回転動作を制御する。薄板移送装置30は、二組の吸着部32、アーム33及び突出機構34が回転部35の回転軸を中心に対称に配置されている。各構成要素が個別に制御されるため、必要に応じてそれらの構成要素に「第1」又は「第2」の番号を冠して区別する。   The block diagram of FIG. 4 shows the relationship among the components related to the control of the thin plate transfer device 30. Condition settings such as the size of the thin plate P to be transferred are input in advance to the control device 44 via the setting input unit 45. In addition, detection signals from the upstream sensor 41, the downstream sensor 42, and the release sensor 43 are input to the control device 44. Based on these inputs, the control device 44 controls the suction operation of the suction portion 32, the expansion / contraction operation of the arm 33, the protrusion / retraction operation of the protrusion mechanism 34, and the rotation operation of the rotation portion 35. In the thin plate transfer device 30, two sets of suction portions 32, arms 33, and protruding mechanisms 34 are arranged symmetrically about the rotation axis of the rotation portion 35. Since each component is individually controlled, the components are distinguished from each other by adding a “first” or “second” number as necessary.

制御装置44は、吸着制御要素46と、解放制御要素47と、回転制御要素48とを有する。吸着制御要素46は、第1受渡領域A3において吸着部32が薄板Pを吸着するための動作を制御する。解放制御要素47は、第2受渡領域A4において吸着部32が薄板Pを解放して第2クリーニング装置20に受け渡すための動作を制御する。回転制御要素48は、回転部35を回転して薄板Pを第1受渡領域A3から第2受渡領域A4に移送するための動作を制御する。これらの吸着制御要素46、解放制御要素47及び回転制御要素48は、制御装置44の回路又はプログラムの一部であり、回路モジュール又はサブルーチンのように他の部分と区別可能に構成されることが好ましい。   The control device 44 includes an adsorption control element 46, a release control element 47, and a rotation control element 48. The adsorption control element 46 controls the operation for the adsorption unit 32 to adsorb the thin plate P in the first delivery area A3. The release control element 47 controls the operation for the suction part 32 to release the thin plate P and deliver it to the second cleaning device 20 in the second delivery area A4. The rotation control element 48 controls an operation for rotating the rotating unit 35 to transfer the thin plate P from the first delivery area A3 to the second delivery area A4. The suction control element 46, the release control element 47, and the rotation control element 48 are part of the circuit or program of the control device 44, and can be configured to be distinguishable from other parts such as a circuit module or a subroutine. preferable.

吸着制御要素46は、予め設定入力部45において設定された薄板Pのアーム33の伸縮方向(第1搬送部11の搬送方向D)の長さが所定の基準長さL以下である場合には、第1受渡領域A3においてアーム33が伸長し、かつ突出機構34がアーム33を下方に後退させた状態で待機し、上流側センサ41が薄板Pを検出しなくなったときに突出機構34がアーム33を上方に突出させると共に吸着部32が薄板Pを吸着するよう制御する。吸着制御要素46は、設定された薄板Pの長さが基準長さLを超える場合には、第1受渡領域A3においてアーム33が収縮した状態で待機し、下流側センサ42が薄板Pを検出したときに突出機構34がアーム33を上方に突出させると共に吸着部32が薄板Pを吸着するよう制御する。   When the length of the arm 33 of the thin plate P in the expansion / contraction direction (conveying direction D of the first conveying unit 11) set in advance in the setting input unit 45 is equal to or less than a predetermined reference length L, the suction control element 46 In the first delivery area A3, the arm 33 extends and the projection mechanism 34 stands by with the arm 33 retracted downward, and when the upstream sensor 41 stops detecting the thin plate P, the projection mechanism 34 33 is controlled to protrude upward and the suction part 32 sucks the thin plate P. When the set length of the thin plate P exceeds the reference length L, the suction control element 46 stands by with the arm 33 contracted in the first delivery area A3, and the downstream sensor 42 detects the thin plate P. In this case, the protrusion mechanism 34 controls the arm 33 to protrude upward and the suction portion 32 sucks the thin plate P.

解放制御要素47は、第2受渡領域A4において突出機構34がアーム33を下方に突出させた状態で待機し、解放側センサ43の検出信号(確認信号)に応じて、吸着部32の吸引を停止して吸着している薄板Pを解放し、第2クリーニング装置20の第2搬送部21の上に薄板Pを載置するよう吸着部32を制御する。より詳しくは、制御要素47は、先の制御サイクルにおいて吸着部32が薄板Pを解放した後、一度解放側センサ43が薄板Pを検出してから、再度薄板Pを検出しなくなったときに、薄板Pが第2受渡領域A4から第2清掃領域A5に移送され、第2受渡領域A4に薄板Pがないと判断する。また、解放制御要素47は、吸着部32が薄板Pを解放した後、第2受渡領域A4側の突出機構34にアーム33を上方に後退させると共にこの第2受渡領域A4側のアーム33を収縮させる。   In the second delivery area A4, the release control element 47 stands by in a state where the protruding mechanism 34 protrudes the arm 33 downward, and sucks the suction portion 32 according to the detection signal (confirmation signal) of the release side sensor 43. The thin plate P stopped and released is released, and the suction unit 32 is controlled to place the thin plate P on the second transport unit 21 of the second cleaning device 20. More specifically, the control element 47, when the suction part 32 releases the thin plate P in the previous control cycle, once the release side sensor 43 detects the thin plate P and then no longer detects the thin plate P, The thin plate P is transferred from the second delivery region A4 to the second cleaning region A5, and it is determined that there is no thin plate P in the second delivery region A4. In addition, after the suction part 32 releases the thin plate P, the release control element 47 retracts the arm 33 upward by the protruding mechanism 34 on the second delivery area A4 side and contracts the arm 33 on the second delivery area A4 side. Let

回転制御要素48は、第1受渡領域A3における薄板Pの吸着と、第2受渡領域A4における薄板Pの解放及びアーム33の収縮とが共に完了した後に、上記回転部35が回転するよう制御する。   The rotation control element 48 controls the rotation unit 35 to rotate after the adsorption of the thin plate P in the first delivery area A3 and the release of the thin plate P in the second delivery area A4 and the contraction of the arm 33 are completed. .

<動作>
これより、薄板移送装置30の状態変化を順番に示す主に図5から図11を参照しながら、順を追って当該薄板清掃システムの動作を説明する。
<Operation>
Hereafter, the operation of the thin plate cleaning system will be described step by step with reference to FIGS. 5 to 11 showing the state changes of the thin plate transfer device 30 in order.

薄板清掃システムが動作を開始する前に、ユーザーがガラス板の大きさを予め操作パネルで入力する。上述のように、第1クリーニング装置10(図1参照)は、第1搬送部11の上に薄板Pを載置して搬送しながら、第1清掃部12によって第1搬送部11上に載置されている薄板Pの第2面を清掃する。そして、図5に示すように、第1搬送部11は、第1受渡領域A3において薄板Pを薄板移送装置30の仮受部材31の上に排出する。   Before the thin plate cleaning system starts operation, the user inputs the size of the glass plate in advance on the operation panel. As described above, the first cleaning device 10 (see FIG. 1) places the thin plate P on the first transport unit 11 and transports it on the first transport unit 11 by the first cleaning unit 12. The second surface of the placed thin plate P is cleaned. And as shown in FIG. 5, the 1st conveyance part 11 discharges | emits the thin plate P on the temporary receiving member 31 of the thin plate transfer apparatus 30 in 1st delivery area | region A3.

このとき、薄板移送装置30は、突出機構34によってアーム33を後退させて吸着部32を仮受部材31の下に退避させた状態で、仮受部材31の上に薄板Pが供給されるのを待つ。図5は、薄板Pの搬送方向における長さが基準長さL以下であり、アーム33を伸長した状態で薄板Pの供給を待つ様子を示す。   At this time, in the thin plate transfer device 30, the thin plate P is supplied onto the temporary receiving member 31 in a state in which the arm 33 is moved backward by the protruding mechanism 34 and the suction portion 32 is retracted below the temporary receiving member 31. Wait for. FIG. 5 shows a state in which the length in the transport direction of the thin plate P is equal to or less than the reference length L and the supply of the thin plate P is waited with the arm 33 extended.

第1搬送部11によって第1受渡領域A3に薄板Pが搬入され始めると、上流側センサ41が薄板Pを検出する。そして、薄板Pの全体が第1搬送部11から仮受部材31に受け渡された直後に、薄板Pの後端縁が上流側センサ41を通過するので上流側センサ41が再び薄板Pを検出できなくなる。この瞬間に、図6に示すように、第1受渡領域A3側の突出機構34がアーム33を突出させて吸着部32のバキュームパッド36を仮受部材31よりも上方に突出させる。そして、これと共に、第1受渡領域A3にある吸着部32が真空源に接続されて吸引力を発生する。これにより、第1受渡領域A3にある吸着部32は、薄板Pを仮受部材31から持ち上げると同時に第1面を吸着して保持する。ここで、バキュームパッド36が薄板Pを吸着する直前には、薄板Pは移動している。このため、薄板Pが移動している状態でバキュームパッド36は薄板Pに吸着する。   When the thin plate P starts to be carried into the first delivery area A3 by the first transport unit 11, the upstream sensor 41 detects the thin plate P. Immediately after the entire thin plate P is transferred from the first transport unit 11 to the temporary receiving member 31, the rear edge of the thin plate P passes through the upstream sensor 41, so the upstream sensor 41 detects the thin plate P again. become unable. At this moment, as shown in FIG. 6, the protrusion mechanism 34 on the first delivery area A <b> 3 side causes the arm 33 to protrude and causes the vacuum pad 36 of the suction portion 32 to protrude above the temporary receiving member 31. At the same time, the suction part 32 in the first delivery area A3 is connected to a vacuum source to generate a suction force. Thereby, the adsorption | suction part 32 in 1st delivery area | region A3 adsorb | sucks and hold | maintains a 1st surface simultaneously with lifting the thin plate P from the provisional receiving member 31. FIG. Here, immediately before the vacuum pad 36 adsorbs the thin plate P, the thin plate P has moved. For this reason, the vacuum pad 36 is attracted to the thin plate P while the thin plate P is moving.

第1受渡領域A3において保持部32が薄板Pを吸着保持してから、図7に示すように回転部35が図7において反時計回りに180°回転する。すなわち、回転部35は、第1受渡領域A3側のアーム33の上流側先端が上方に移動し、第2受渡領域A4側のアーム33の下流側先端が下方に移動するように回転する。   After the holding part 32 sucks and holds the thin plate P in the first delivery area A3, the rotating part 35 rotates 180 ° counterclockwise in FIG. 7 as shown in FIG. That is, the rotating unit 35 rotates so that the upstream tip of the arm 33 on the first delivery region A3 side moves upward and the downstream tip of the arm 33 on the second delivery region A4 side moves downward.

回転部35を回転した後には、図7に示すように、アーム33が保持している薄板Pは第2クリーニング装置20の第2搬送部21の上に配置されている。このため、アーム33は、第2クリーニング装置20からの要求があれば直ちに第2搬送部21の上に薄板Pを載置できる状態となっている。一方、第1受渡領域A3側のアーム33が伸長されて、図5について説明したように第1受渡領域A3において薄板Pを吸着できる状態とされる。   After the rotation unit 35 is rotated, as shown in FIG. 7, the thin plate P held by the arm 33 is disposed on the second transport unit 21 of the second cleaning device 20. For this reason, the arm 33 is in a state in which the thin plate P can be immediately placed on the second transport unit 21 if there is a request from the second cleaning device 20. On the other hand, the arm 33 on the first delivery area A3 side is extended so that the thin plate P can be adsorbed in the first delivery area A3 as described with reference to FIG.

この状態で、先に第1受渡領域A3に次の薄板Pが供給された場合、図8に示すように、第1受渡領域A3側の突出機構34がアーム33を突出させると共に吸着部32が薄板Pを吸着する。そして、第2受渡領域A4側のアーム33は伸長したまま第2搬送部21の上に薄板Pを載置できる状態を維持する。   In this state, when the next thin plate P is first supplied to the first delivery area A3, as shown in FIG. 8, the protrusion mechanism 34 on the first delivery area A3 side causes the arm 33 to protrude and the suction portion 32 The thin plate P is adsorbed. And the arm 33 by the side of 2nd delivery area | region A4 maintains the state which can mount the thin plate P on the 2nd conveyance part 21, with extending | stretching.

解放側センサ43によって、前回の制御サイクルにおいて第2受渡領域A4に供給された薄板Pを第2搬送部21が第2清掃部A5に移送したことを確認できたとき、言い換えると、第2供給領域A4に薄板Pを供給可能な状態となったとき、第2受渡領域A4側の吸着部32が真空源から隔離され、吸着力を喪失することにより薄板Pを解放する。第2受渡領域A4側の吸着部32が薄板Pを解放した後には、第2受渡領域A4側の突出機構34がアーム33を後退させ、このアーム33が収縮して回転部35の回転の際に第2搬送部21と干渉しないようにする。   When the release side sensor 43 has confirmed that the second transport unit 21 has transferred the thin plate P supplied to the second delivery area A4 in the previous control cycle to the second cleaning unit A5, in other words, the second supply When the thin plate P can be supplied to the region A4, the suction portion 32 on the second delivery region A4 side is isolated from the vacuum source, and the thin plate P is released by losing the suction force. After the suction part 32 on the second delivery area A4 side releases the thin plate P, the protruding mechanism 34 on the second delivery area A4 side retracts the arm 33, and the arm 33 contracts to rotate the rotating part 35. So as not to interfere with the second transport unit 21.

図7の状態において、第1受渡領域A3に次の薄板Pが供給される前に解放側センサ43により第2受渡領域A4に薄板Pがないことが確認されたときには、すぐに第2受渡領域A4側の吸着部32が薄板Pを解放し、第2受渡領域A4側のアーム33の収縮及び突出機構34による後退(上昇)が行われ、図5に示した状態で、第1受渡領域A3への薄板Pの供給を待つ。電源投入された後に行われる薄板Pの清掃や、搬送等にトラブルがない場合には、第1受渡領域A3における薄板Pの吸着と、第2受渡領域における薄板Pの解放は同時に行われるよう設定されている。   In the state of FIG. 7, when the release side sensor 43 confirms that there is no thin plate P in the second delivery area A4 before the next thin plate P is supplied to the first delivery area A3, the second delivery area is immediately The suction part 32 on the A4 side releases the thin plate P, and the arm 33 on the second delivery area A4 side contracts and retreats (rises) by the projecting mechanism 34. In the state shown in FIG. 5, the first delivery area A3 Wait for the thin plate P to be supplied. When there is no trouble in cleaning, transporting, etc. of the thin plate P that is performed after the power is turned on, the thin plate P is adsorbed in the first delivery area A3 and the thin plate P is released in the second delivery area at the same time. Has been.

このように、回転部35の回転は、第1受渡領域A3における薄板Pの吸着と、第2受渡領域A4における薄板Pの解放及びアーム33の収縮とが共に完了した後に行われる。   As described above, the rotation of the rotating unit 35 is performed after the adsorption of the thin plate P in the first delivery region A3, the release of the thin plate P in the second delivery region A4, and the contraction of the arm 33 are completed.

以上の図5から図8の動作は、薄板Pの長さが基準長さL以下の場合である。薄板Pの長さが基準長さLをこえる場合、図9〜図11に示すような動作となる。   5 to 8 described above is a case where the length of the thin plate P is equal to or less than the reference length L. When the length of the thin plate P exceeds the reference length L, the operation is as shown in FIGS.

薄板Pの長さが基準長さLをこえる場合、第1受渡領域A3における薄板Pの吸着は、図9に示すように、アーム33を収縮した状態で、薄板Pの供給を待ち、下流側センサ42が薄板Pの前端縁を検出したときにアーム33を上方に突出させると共に吸着部32で薄板Pを吸着する。ここで、バキュームパッド36が薄板Pを吸着する直前には、薄板Pは移動している。このため、薄板Pが移動している状態でバキュームパッド36は薄板Pに吸着する。   When the length of the thin plate P exceeds the reference length L, the adsorption of the thin plate P in the first delivery area A3 waits for the supply of the thin plate P with the arm 33 contracted as shown in FIG. When the sensor 42 detects the front edge of the thin plate P, the arm 33 is protruded upward and the thin plate P is sucked by the suction portion 32. Here, immediately before the vacuum pad 36 adsorbs the thin plate P, the thin plate P has moved. For this reason, the vacuum pad 36 is attracted to the thin plate P while the thin plate P is moving.

薄板移送装置30において、薄板Pが長い場合には、薄板Pが吸着部32から上流側にはみ出した状態で吸着保持される。仮に、アーム33を伸長した状態で長い薄板Pを吸着部32によって吸着するとすれば、薄板Pの上流側の部分が未だ第1搬送部11上に位置している間に吸着部32によって薄板Pを持ち上げる必要がある。しかしながら、第1搬送部11と薄板Pとは当接面積が大きいので、第1搬送部11上にある薄板Pをその面に垂直に持ち上げようとすると第1搬送部11と薄板Pとの間に真空(気圧低下)が生じて大きな抵抗となる。よって、アーム33を収縮した状態とすることで、薄板Pが完全に第1搬送部11から離脱してから吸着部32が薄板Pを持ち上げつつ吸着するようにできる。   In the thin plate transfer device 30, when the thin plate P is long, the thin plate P is sucked and held in a state of protruding from the suction portion 32 to the upstream side. Assuming that the long thin plate P is sucked by the suction portion 32 with the arm 33 extended, the thin plate P is removed by the suction portion 32 while the upstream portion of the thin plate P is still positioned on the first transport portion 11. Need to lift. However, since the contact area between the first transport unit 11 and the thin plate P is large, when the thin plate P on the first transport unit 11 is lifted perpendicularly to the surface, the first transport unit 11 and the thin plate P are disposed between the first transport unit 11 and the thin plate P. A vacuum (atmospheric pressure drop) is generated and the resistance becomes large. Therefore, by setting the arm 33 in the contracted state, the suction unit 32 can lift and suck the thin plate P after the thin plate P is completely detached from the first transport unit 11.

吸着部32が薄板Pを吸着した後、図10に示すように、回転部35が回転する。その後、突出機構34がアーム33を退避させる。そして、図11に示すように、アーム33が伸張して、薄板Pが第2受渡領域A4に配置される。その後、解放側センサ43により第2受渡領域A4に薄板Pがないことが確認されると、吸着部32は薄板Pを解放する。この後、アーム32が収縮してから、回転部35が回転する。   After the suction part 32 sucks the thin plate P, the rotating part 35 rotates as shown in FIG. Thereafter, the protruding mechanism 34 retracts the arm 33. And as shown in FIG. 11, the arm 33 expand | extends and the thin plate P is arrange | positioned in 2nd delivery area | region A4. Thereafter, when it is confirmed by the release side sensor 43 that there is no thin plate P in the second delivery area A4, the suction unit 32 releases the thin plate P. Thereafter, after the arm 32 contracts, the rotating unit 35 rotates.

<利点>
当該薄板清掃システムは、第1クリーニング装置10により薄板Pの第2面全体を清掃し、薄板移送装置30により薄板Pを第2面に触れることなく移送及び反転し、第2クリーニング装置20により薄板Pの第1面全体を清掃する。このため、当該薄板清掃システムは、人が介在することなく薄板Pの両面を短時間で容易かつ確実に清掃できる。
<Advantages>
In the thin plate cleaning system, the first cleaning device 10 cleans the entire second surface of the thin plate P, the thin plate transfer device 30 transfers and inverts the thin plate P without touching the second surface, and the second cleaning device 20 performs the thin plate cleaning. Clean the entire first surface of P. For this reason, the said thin plate cleaning system can clean both surfaces of the thin plate P easily and reliably in a short time, without a person intervening.

当該薄板清掃システムにおいて、薄板移送装置30は、第1受渡領域A3において一方のアーム33に取り付けられた吸着部32が薄板Pを吸着するとき、回転軸を中心に対称位置に配置された他方のアーム33に取り付けられた吸着部32が第2受渡領域A4に配置される。このため、第1受渡領域A3における薄板Pの吸着と同時に第2受渡領域A4における薄板Pの解放が可能である。したがって、第1受渡領域A3における薄板Pの吸着と第2受渡領域A4における薄板Pの解放のタイミングが異なる場合よりも、効率が良い。   In the thin plate cleaning system, the thin plate transfer device 30 is configured such that, when the suction portion 32 attached to one arm 33 in the first delivery region A3 sucks the thin plate P, the other is arranged in a symmetrical position around the rotation axis. The suction part 32 attached to the arm 33 is arranged in the second delivery area A4. For this reason, it is possible to release the thin plate P in the second delivery region A4 simultaneously with the adsorption of the thin plate P in the first delivery region A3. Therefore, the efficiency is better than when the adsorption timing of the thin plate P in the first delivery area A3 and the release timing of the thin plate P in the second delivery area A4 are different.

当該薄板清掃システムにおいて、薄板移送装置30は、吸着部32によって薄板Pを吸着する際、回転部35を回転させずに突出機構34を用いてアーム33を突出させて薄板Pを持ち上げる。このため、第1受渡領域A3における第1クリーニング装置10からの薄板Pの受け取りと、第2受渡領域A4における第2クリーニング装置20への薄板Pの受け渡しとを同期せずに異なるタイミングで行える。つまり、当該薄板清掃システムは、第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20が互いの動作を待たずに独立して稼働できるので、処理能力が高い。   In the thin plate cleaning system, when the thin plate transfer device 30 sucks the thin plate P by the suction portion 32, the thin plate P is lifted by protruding the arm 33 using the protruding mechanism 34 without rotating the rotating portion 35. Therefore, the reception of the thin plate P from the first cleaning device 10 in the first delivery region A3 and the delivery of the thin plate P to the second cleaning device 20 in the second delivery region A4 can be performed at different timings without synchronization. That is, the thin plate cleaning system has a high processing capability because the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 can operate independently without waiting for each other's operation.

当該薄板清掃システムにおいて、第1搬送部11が薄板Pと接触する高さ位置が回転部35の高さ以上であり、第2搬送部21が薄板Pと接触する高さ位置が回転部35の高さ以下である。これにより、薄板移送装置30は、平面視で回転部35に重なるように薄板Pを保持できるので、第1受渡領域A3と第2受渡領域A4とを近く設定でき、当該薄板清掃システムの専有面積を小さくできる。   In the thin plate cleaning system, the height position at which the first transport unit 11 is in contact with the thin plate P is equal to or higher than the height of the rotating unit 35, and the height position at which the second transport unit 21 is in contact with the thin plate P is at the rotating unit 35. Below the height. Thereby, since the thin plate transfer apparatus 30 can hold | maintain the thin plate P so that it may overlap with the rotation part 35 by planar view, the 1st delivery area | region A3 and 2nd delivery area | region A4 can be set closely, and the exclusive area of the said thin plate cleaning system Can be reduced.

薄板移送装置30において、制御装置44の解放制御要素47は、第2受渡領域A4において吸着部32が薄板Pを解放した後にアーム33を収縮させる。これにより、回転部35の回転時にアーム33が第2搬送部21と干渉しない。   In the thin plate transfer device 30, the release control element 47 of the control device 44 contracts the arm 33 after the suction portion 32 releases the thin plate P in the second delivery area A4. Thus, the arm 33 does not interfere with the second transport unit 21 when the rotating unit 35 rotates.

薄板移送装置30において、搬送方向において薄板Pが長い場合にはアーム33を収縮した状態で薄板Pを受け取るので、薄板Pは、完全に第1搬送部11から離脱した後に、吸着部32により持ち上げつつ吸着される。これにより、第1搬送部11と薄板Pが接触した状態で薄板Pを持ち上げる場合と比べて、吸着部32の吸引負荷を低減することができる。このため、薄板移送装置30では、多様なサイズの薄板Pを確実に搬送しつつ反転できる。さらに、第1受渡領域A3においてアーム33を収縮した状態で薄板Pを受け取り、回転した後に、アーム33を伸長させて、薄板Pを解放するため、第1受渡領域A3において、アーム33を伸長して薄板A3を受け取る場合と比べて、薄板A3を第2清掃領域に近い位置まで搬送することができる。このため、搬送速度を速めることができる。   In the thin plate transfer device 30, when the thin plate P is long in the transport direction, the thin plate P is received with the arm 33 contracted, so that the thin plate P is lifted by the suction unit 32 after completely separating from the first transport unit 11. It is adsorbed while. Thereby, the suction load of the adsorption | suction part 32 can be reduced compared with the case where the thin board P is lifted in the state which the 1st conveyance part 11 and the thin board P contacted. For this reason, in the thin plate transfer apparatus 30, the thin plate P of various sizes can be reversed while being reliably conveyed. Furthermore, in order to release the thin plate P by receiving and rotating the thin plate P with the arm 33 contracted in the first delivery region A3, the arm 33 is extended in the first delivery region A3. Compared to the case of receiving the thin plate A3, the thin plate A3 can be transported to a position close to the second cleaning region. For this reason, the conveyance speed can be increased.

薄板移送装置30において、アーム33は、固定部材38及びスライド部材39からなり、吸着部32が吸着している薄板Pと平行に伸縮する。このため、第2受渡領域A4において、薄板Pを第2搬送部21上に解放する位置を選択できる。   In the thin plate transfer device 30, the arm 33 includes a fixing member 38 and a slide member 39, and expands and contracts in parallel with the thin plate P to which the suction portion 32 is sucked. For this reason, in the 2nd delivery area A4, the position which releases thin plate P on the 2nd conveyance part 21 can be chosen.

薄板移送装置30において、制御装置44の吸着制御要素46は、第1受渡領域における薄板Pの吸着のタイミングを、薄板Pの搬送方向長さが基準長さLを超える場合には上流側センサ41のみによって決定し、薄板Pの搬送方向長さが基準長さL以下の場合には下流側センサ42のみによって決定する。よって、簡単な制御で多様なサイズの薄板Pを吸着できる。   In the thin plate transfer device 30, the suction control element 46 of the control device 44 determines the suction timing of the thin plate P in the first delivery area, and the upstream sensor 41 when the transport direction length of the thin plate P exceeds the reference length L. Only when the transport direction length of the thin plate P is equal to or less than the reference length L, it is determined only by the downstream sensor 42. Therefore, thin plates P of various sizes can be adsorbed with simple control.

薄板移送装置30は、仮受部材31を備えるので、完全に第1搬送部11から離間するまで薄板Pを支持できる。つまり、吸着部32で薄板Pを吸着するために突出機構34がアーム33を突出させるときに薄板Pを第1搬送部11から無理矢理引き剥がす必要がない。このため、吸着部32に過大な負荷がかからず、薄板Pの確実な吸着が可能である。   Since the thin plate transfer device 30 includes the provisional receiving member 31, it can support the thin plate P until it is completely separated from the first transport unit 11. That is, it is not necessary to forcibly peel the thin plate P from the first transport unit 11 when the protrusion mechanism 34 protrudes the arm 33 in order to suck the thin plate P by the suction unit 32. For this reason, the adsorption | suction part 32 is not overloaded, and the thin plate P can be reliably adsorbed.

[第二実施形態]
本発明の第二実施形態の薄板清掃システムは、第一実施形態と同じ第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20と、図12に示す薄板移送装置30aとを有する。本実施形態について、第一実施形態と同じ構成要素には同じ符号を付して重複する説明を省略する。
[Second Embodiment]
The thin plate cleaning system of the second embodiment of the present invention includes the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 that are the same as those of the first embodiment, and the thin plate transfer device 30a shown in FIG. About this embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as 1st embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図12の薄板清掃システムでは、第1クリーニング装置10と第2クリーニング装置20とが平面視で平行に並んで配置されている。詳しくは、第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20は、第1クリーニング装置10の第1搬送部11による薄板Pの搬送方向D1と第2クリーニング装置20の第2搬送部21による薄板Pの搬送方向D2とが反対向きになるように配置されている。   In the thin plate cleaning system of FIG. 12, the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 are arranged in parallel in a plan view. Specifically, the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 are configured so that the thin plate P is transported in the transport direction D1 of the thin plate P by the first transport unit 11 of the first cleaning device 10 and the second transport unit 21 of the second cleaning device 20. It arrange | positions so that the conveyance direction D2 may become the opposite direction.

<薄板移送装置>
薄板移送装置30aは、水平かつ第1搬送部11の搬送方向D1及び第2搬送部21の搬送方向D2と平行な回転軸を中心に回転する回転部35aを有する。回転部35aの回転軸は、第1クリーニング装置10と第2クリーニング装置20との間に配置されている。この回転部35aは、回転軸と垂直に延伸する腕状の部材であり、第1受渡領域A3よりも第1搬送部11の搬送方向D1の下流側、かつ第2受渡領域A4よりも第2搬送部21の搬送方向D2の上流側に配置されている。そして、回転部35aは、両端部の第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20側の側部に突出機構34を支持している。
<Thin plate transfer device>
The thin plate transfer device 30 a includes a rotation unit 35 a that rotates about a rotation axis that is horizontal and parallel to the conveyance direction D 1 of the first conveyance unit 11 and the conveyance direction D 2 of the second conveyance unit 21. The rotation shaft of the rotation unit 35 a is disposed between the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20. The rotating portion 35a is an arm-like member extending perpendicularly to the rotation axis, and is downstream from the first delivery area A3 in the transport direction D1 of the first transport section 11 and second from the second delivery area A4. It arrange | positions in the upstream of the conveyance direction D2 of the conveyance part 21. FIG. The rotating portion 35a supports the protruding mechanism 34 on the side of the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 on both ends.

このような構成を有する当該薄板清掃システムは、全長が短いので、設置場所の確保が容易である。   Since the thin plate cleaning system having such a configuration has a short overall length, it is easy to secure an installation place.

[その他の実施形態]
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更(構成の置換、付加及び削除)が含まれることが意図される。
[Other Embodiments]
The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is not limited to the configuration of the embodiment described above, but is defined by the scope of the claims, and all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims (substitutions, additions, and Deletion) is intended to be included.

例えば、吸着制御要素及び解放制御要素がアームの収縮を行わず、回転制御要素が回転部の回転前にアームの収縮を行ってもよい。また、本発明は、必ずしもアーム33が伸縮可能な構成である必要はない。   For example, the adsorption control element and the release control element may not contract the arm, and the rotation control element may contract the arm before the rotation unit rotates. In the present invention, the arm 33 is not necessarily configured to be extendable and contractible.

また、第2受渡領域に薄板を受け渡す別の機構を設ければ、例えば第2搬送部をスライドエッジ型のコンベアとすれば、薄板移送装置は、アームを収縮した状態で薄板を第2クリーニング装置に受け渡すことができる。   Further, if another mechanism for delivering the thin plate is provided in the second delivery area, for example, if the second transport unit is a slide edge type conveyor, the thin plate transfer device performs the second cleaning of the thin plate with the arm contracted. Can be handed over to the device.

上記の実施形態では、第1クリーニング装置10及び第2クリーニング装置20は、それぞれ第1清掃部12及び第2清掃部22を有する構成について説明したが、本発明はこれに限らず、例えば、第1クリーニング装置10が2つの第1清掃部12を有し、第2クリーニング装置20が2つの第2清掃部22を有する構成であってもよい。また、第1清掃部12や第2清掃部22とは異なる清掃機構を備えた装置であってもよい。   In the above embodiment, the first cleaning device 10 and the second cleaning device 20 have been described as having the first cleaning unit 12 and the second cleaning unit 22, respectively. However, the present invention is not limited to this, for example, The 1 cleaning device 10 may include two first cleaning units 12 and the second cleaning device 20 may include two second cleaning units 22. Moreover, the apparatus provided with the cleaning mechanism different from the 1st cleaning part 12 or the 2nd cleaning part 22 may be sufficient.

上記の実施形態では、アーム33を突出機構34によって突出又は後退させる構成としたが、本発明はこれに限らず、突出機構34を有していない構成であってもよい。   In the above embodiment, the arm 33 is protruded or retracted by the protrusion mechanism 34. However, the present invention is not limited to this, and the structure without the protrusion mechanism 34 may be used.

上記の実施形態では、アーム33は伸長及び収縮の2つの状態にのみ変化し得る構成について説明したが、本発明はこれに限らず、3段階又はそれ以上の段階に変化し得るアームを備えた構成であっても良い。この場合には、上記の実施形態よりもさらに、様々なサイズの薄板に対応することができる。   In the above-described embodiment, the configuration in which the arm 33 can change only in two states of extension and contraction has been described, but the present invention is not limited to this, and the arm 33 includes an arm that can change in three or more stages. It may be a configuration. In this case, it can respond to the thin plate of various sizes further than said embodiment.

上記の実施形態では、第1クリーニング装置10には、第2クリーニング装置20の載置用長尺布24に相当する構成は配置されていないが、本発明はこれに限らず、第1クリーニング装置10にも第2クリーニング装置20の載置用長尺布24に相当する構成を設けてもよい。   In the above embodiment, the first cleaning device 10 is not provided with a configuration corresponding to the placing long cloth 24 of the second cleaning device 20, but the present invention is not limited to this, and the first cleaning device is not limited thereto. 10 may be provided with a configuration corresponding to the placing long cloth 24 of the second cleaning device 20.

上記の実施形態では、薄板Pを吸着部32により吸着することで保持する構成を用いたが、本発明は吸着する構成に限らず、薄板Pを粘着力等、他の方法で保持する構成であってもよい。   In the above-described embodiment, the configuration in which the thin plate P is held by being sucked by the suction portion 32 is used. There may be.

また、第2受渡領域における薄板Pの解放のタイミングを定める確認信号としては、第2クリーニング装置20から薄板Pの供給を求めるために薄板移送装置30に入力される外部信号を用いてもよい。   Further, as a confirmation signal for determining the release timing of the thin plate P in the second delivery area, an external signal input to the thin plate transfer device 30 in order to obtain supply of the thin plate P from the second cleaning device 20 may be used.

また、上記第二実施形態では、回転体35aが回転軸と平行にアーム33を支持しているが、アーム33を異なる角度に支持することで、第1クリーニング装置10の第1搬送部11による薄板Pの搬送方向D1と第2クリーニング装置20の第2搬送部21による薄板Pの搬送方向D2とが所望の角度になるように配置できる。   In the second embodiment, the rotator 35a supports the arm 33 in parallel with the rotation axis. However, by supporting the arm 33 at a different angle, the first transport unit 11 of the first cleaning device 10 performs the operation. It can arrange | position so that the conveyance direction D1 of the thin plate P and the conveyance direction D2 of the thin plate P by the 2nd conveyance part 21 of the 2nd cleaning apparatus 20 may become a desired angle.

上記の実施形態においては、薄板移送装置30は、第1クリーニング装置10から第2クリーニング装置20に薄板Pを移送するために用いたが、本発明はこれに限られない。一端に吸着部を取り付けたアームと、アームの他端に取り付けられた回転部とを備えた装置は、第1クリーニング装置に薄板Pに供給するために用いることもでき、第2クリーニング装置20からクリーニング済みの薄板Pを収納ボックスに移送するために用いることもできる。   In the above embodiment, the thin plate transfer device 30 is used to transfer the thin plate P from the first cleaning device 10 to the second cleaning device 20, but the present invention is not limited to this. An apparatus provided with an arm having a suction portion attached to one end and a rotating portion attached to the other end of the arm can also be used to supply the thin plate P to the first cleaning device. It can also be used for transferring the cleaned thin plate P to the storage box.

上記の実施形態では、薄板移送装置30は2つのアーム33を備えているが、本発明はこれに限らない。2つ以上、例えば4つのアームを備えた薄板移送装置であっても良い。   In said embodiment, although the thin plate conveying apparatus 30 is provided with the two arms 33, this invention is not limited to this. It may be a thin plate transfer device having two or more, for example, four arms.

本発明の薄板清掃システムは、携帯機器の表示装置に用いられるガラス基板等の薄板の清掃に好適に利用できる。   The thin plate cleaning system of the present invention can be suitably used for cleaning thin plates such as glass substrates used in display devices of portable devices.

10 第1クリーニング装置
11 第1搬送部
12 第1清掃部
20 第2クリーニング装置
21 第2搬送部
22 第2清掃部
23 ベルトコンベア
30 薄板移送装置
31 仮受部材
32 吸着部
33 アーム
34 突出機構
35 回転部
38 固定部材
39 スライド部材
41 上流側センサ
42 下流側センサ
43 解放側センサ
44 制御装置
46 吸着制御要素
47 解放制御要素
48 回転制御要素
A3 第1受渡領域
A4 第2受渡領域
P 薄板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st cleaning apparatus 11 1st conveyance part 12 1st cleaning part 20 2nd cleaning apparatus 21 2nd conveyance part 22 2nd cleaning part 23 Belt conveyor 30 Thin plate transfer apparatus 31 Temporary receiving member 32 Adsorption part 33 Arm 34 Projection mechanism 35 Rotating unit 38 Fixed member 39 Slide member 41 Upstream sensor 42 Downstream sensor 43 Release side sensor 44 Control device 46 Adsorption control element 47 Release control element 48 Rotation control element A3 First delivery area A4 Second delivery area P Thin plate

Claims (15)

所定の第1受渡領域において薄板の下側の面を吸着し、所定の第2受渡領域において上記薄板を解放する吸着部と、
この吸着部が一端側に付設されているアームと、
このアームの他端側を支持し、上記吸着部に吸着されているときの上記薄板と平行な平面上に位置する回転軸を中心に360°回転可能な回転部と
を備え、
複数の上記吸着部及び上記アームが、上記回転部を中心に略対称に配置されており、
上記第1受渡領域と上記第2受渡領域とが上記回転軸を中心に略対称に位置し、
上記回転部と上記アームとの間に設けられ、上記回転部に対して上記アームを上記吸着部の吸引方向に突出又は後退する突出機構を備え、
上記吸着部が、上記第1受渡領域において、上記突出機構が上記アームを後退させることによって上記薄板よりも下方に退避し、上記突出機構が上記アームを突出させることによって上記薄板を持ち上げる薄板移送装置。
An adsorbing portion that adsorbs a lower surface of the thin plate in a predetermined first delivery region and releases the thin plate in a predetermined second delivery region;
An arm having this suction portion attached to one end;
The other end of the arm support, e Bei a 360 ° rotatable rotary unit about an axis of rotation located on the thin plate parallel to plane when being adsorbed on the adsorption unit,
The plurality of suction portions and the arms are arranged substantially symmetrically about the rotating portion,
The first delivery area and the second delivery area are located approximately symmetrically about the rotation axis;
A protrusion mechanism provided between the rotating portion and the arm, and protruding or retracting the arm in the suction direction of the suction portion with respect to the rotating portion;
A thin plate transfer device in which the suction portion retreats below the thin plate by retracting the arm in the first delivery region, and the protruding mechanism lifts the thin plate by projecting the arm. .
上記吸着部、上記アーム及び上記回転部の動作を制御する制御装置をさらに備える請求項1に記載の薄板移送装置。The thin plate transfer apparatus according to claim 1, further comprising a control device that controls operations of the suction unit, the arm, and the rotating unit. 所定の第1受渡領域において薄板の下側の面を吸着し、所定の第2受渡領域において上記薄板を解放する吸着部と、An adsorbing portion that adsorbs a lower surface of the thin plate in a predetermined first delivery region and releases the thin plate in a predetermined second delivery region;
この吸着部が一端側に付設されているアームと、An arm having this suction portion attached to one end;
このアームの他端側を支持し、上記吸着部に吸着されているときの上記薄板と平行な平The other end side of this arm is supported, and a flat surface parallel to the thin plate when being adsorbed by the adsorbing portion.
面上に位置する回転軸を中心に360°回転可能な回転部と、A rotating part capable of rotating 360 ° around a rotation axis located on the surface;
を備え、With
上記アームが上記他端から上記一端に向かう方向に伸縮可能であり、The arm is extendable in the direction from the other end to the one end;
上記第2受渡領域において上記アームが伸長した状態で上記吸着部が上記薄板を解放し、上記薄板を解放した後であって上記回転部が回転する前に上記アームが収縮するよう制御する制御装置をさらに備える薄板移送装置。A control device for controlling the arm to contract after the suction portion releases the thin plate with the arm extended in the second delivery area and before the rotating portion rotates after releasing the thin plate. A thin plate transfer device.
複数の上記吸着部及び上記アームが、上記回転部を中心に略対称に配置されており、The plurality of suction portions and the arms are arranged substantially symmetrically about the rotating portion,
上記第1受渡領域と上記第2受渡領域とが上記回転軸を中心に略対称に位置する請求項3に記載の薄板移送装置。The thin plate transfer device according to claim 3, wherein the first delivery area and the second delivery area are positioned substantially symmetrically about the rotation axis.
記制御装置が、
上記第1受渡領域において、上記薄板が移動している状態で上記吸着部が上記薄板を吸着するよう制御する吸着制御要素と、
上記第2受渡領域において、確認信号に応じて上記吸着部が上記薄板を解放するよう制御する解放制御要素と、
上記第1受渡領域における上記薄板の吸着と、上記第2受渡領域における上記薄板の解放とが共に完了した後、上記回転部が回転するよう制御する回転制御要素とを有する請求項2、請求項3又は請求項4に記載の薄板移送装置。
Above Symbol control device,
An adsorption control element that controls the adsorption unit to adsorb the thin plate while the thin plate is moving in the first delivery area;
A release control element that controls the suction portion to release the thin plate in response to a confirmation signal in the second delivery area;
And adsorption of the thin plate in the first transfer area, after the above-described and release of the sheet in the second transfer region has been completed together claim 2 and a rotation control element for controlling such that the rotating unit rotates, claim The thin plate transfer apparatus according to claim 3 or 4 .
上記制御装置が、The control device is
上記第1受渡領域において、上記薄板が移動している状態で上記吸着部が上記薄板を吸着するよう制御する吸着制御要素と、An adsorption control element that controls the adsorption unit to adsorb the thin plate while the thin plate is moving in the first delivery area;
上記第2受渡領域において、確認信号に応じて上記吸着部が上記薄板を解放するよう制御する解放制御要素と、A release control element that controls the suction portion to release the thin plate in response to a confirmation signal in the second delivery area;
上記第1受渡領域における上記薄板の吸着と、上記第2受渡領域における上記薄板の解放とが共に完了した後、上記回転部が回転するよう制御する回転制御要素とを有し、A rotation control element for controlling the rotating portion to rotate after the adsorption of the thin plate in the first delivery region and the release of the thin plate in the second delivery region are both completed;
上記吸着制御要素が、上記第2受渡領域における上記薄板の解放と同時に、上記第1受渡領域において上記吸着部が上記薄板を吸着するよう制御する請求項2又は請求項4に記載の薄板移送装置。The thin plate transfer device according to claim 2 or 4, wherein the suction control element controls the suction portion to suck the thin plate in the first delivery region simultaneously with the release of the thin plate in the second delivery region. .
上記アームが上記他端から上記一端に向かう方向に伸縮可能である請求項2に記載の薄板移送装置。 The thin plate transfer device according to claim 2 , wherein the arm can be expanded and contracted in a direction from the other end toward the one end. 上記アームが、上記回転部に固定されている固定部材と、上記吸着部が付設されると共に上記固定部材に対して上記他端から上記一端に向かう方向にスライド可能に設けられているスライド部材とを有する請求項3、請求項4又は請求項7に記載の薄板移送装置。 A fixing member fixed to the rotating part; a sliding member provided with the suction part and slidable in the direction from the other end to the one end with respect to the fixing member; The thin plate transfer apparatus according to claim 3, 4 or 7 . 上記第1受渡領域において上記アームを伸長した際の上記吸着部の近傍で上記薄板の有無を検出する上流側センサと、上記第1受渡領域において上記アームを収縮した際の上記他端の近傍で上記薄板の有無を検出する下流側センサとを備える請求項3、請求項4、請求項7又は請求項8に記載の薄板移送装置。 An upstream sensor that detects the presence or absence of the thin plate in the vicinity of the suction portion when the arm is extended in the first delivery area, and in the vicinity of the other end when the arm is contracted in the first delivery area. The thin plate transfer apparatus according to claim 3, further comprising a downstream sensor that detects the presence or absence of the thin plate. 上記制御装置が、上記アームの伸縮方向における上記薄板の長さが所定の基準長さ以下である場合には、上記アームが伸長した状態で上記上流側センサが上記薄板を検出しなくなったときに上記吸着部が上記薄板を吸着するよう制御し、上記アームの伸縮方向における上記薄板の長さが上記基準長さを超える場合には、上記アームが収縮した状態で上記下流側センサが上記薄板を検出したときに上記吸着部が上記薄板を吸着するよう制御する吸着制御要素を有する請求項9に記載の薄板移送装置。 When the length of the thin plate in the extending / contracting direction of the arm is equal to or less than a predetermined reference length, the control device detects that the upstream sensor no longer detects the thin plate with the arm extended. When the suction portion controls the thin plate so that the length of the thin plate in the expansion and contraction direction of the arm exceeds the reference length, the downstream sensor causes the thin plate to be in a state where the arm is contracted. The thin plate transfer apparatus according to claim 9 , further comprising a suction control element that controls the suction portion to suck the thin plate when detected. 上記第1受渡領域に供給された上記薄板の上記下側の面を支持できると共に、上記吸着部がそれらの間を通過できるように上記第1受渡領域に配設された複数の仮受部材を備える請求項3、請求項4並びに請求項7から請求項10のいずれか1項に記載の薄板移送装置。 A plurality of temporary receiving members disposed in the first delivery area so that the lower surface of the thin plate supplied to the first delivery area can be supported and the suction portion can pass between them. The thin plate transfer apparatus according to any one of claims 3, 4, and 7 to 10 . 上記制御装置が、上記第2受渡領域において上記アームが伸長した状態で上記吸着部が上記薄板を解放し、上記薄板を解放した後であって上記回転部が回転する前に上記アームが収縮するよう制御する解放制御要素を有する請求項3、請求項4並びに請求項7から請求項11のいずれか1項に記載の薄板移送装置。 The controller releases the thin plate with the arm extended in the second delivery area, and the arm contracts after the thin plate is released and before the rotating unit rotates. The thin plate transfer apparatus according to any one of claims 3, 4, and 7 to 11, further comprising a release control element for controlling the release. 請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の薄板移送装置と、
上記薄板の上面を清掃し、上記薄板移送装置に薄板を供給する第1クリーニング装置と、
上記薄板移送装置から薄板が反転されて供給され、この薄板の上面を清掃する第2清掃部を有する第2クリーニング装置と
を備える薄板清掃システム。
A thin plate transfer device according to any one of claims 1 to 12 ,
A first cleaning device for cleaning the upper surface of the thin plate and supplying the thin plate to the thin plate transfer device;
A thin plate cleaning system comprising: a second cleaning device having a second cleaning unit that is supplied by inverting the thin plate from the thin plate transfer device and cleaning an upper surface of the thin plate.
所定の第1受渡領域において薄板の下側の面を吸着し、所定の第2受渡領域において上記薄板を解放する吸着部と、An adsorbing portion that adsorbs a lower surface of the thin plate in a predetermined first delivery region and releases the thin plate in a predetermined second delivery region;
この吸着部が一端側に付設されているアームと、An arm having this suction portion attached to one end;
このアームの他端側を支持し、上記吸着部に吸着されているときの上記薄板と平行な平The other end side of this arm is supported, and a flat surface parallel to the thin plate when being adsorbed by the adsorbing portion.
面上に位置する回転軸を中心に360°回転可能な回転部と、A rotating part capable of rotating 360 ° around a rotation axis located on the surface;
上記第1受渡領域において上記アームを伸長した際の上記吸着部の近傍で上記薄板の有無を検出する上流側センサと、An upstream sensor for detecting the presence or absence of the thin plate in the vicinity of the suction portion when the arm is extended in the first delivery region;
上記第1受渡領域において上記アームを収縮した際の上記他端の近傍で上記薄板の有無を検出する下流側センサとA downstream sensor for detecting the presence or absence of the thin plate in the vicinity of the other end when the arm is contracted in the first delivery region;
を備え、With
上記アームが上記他端から上記一端に向かう方向に伸縮可能である薄板移送装置。A thin plate transfer device in which the arm can extend and contract in a direction from the other end toward the one end.
所定の第1受渡領域において薄板の下側の面を吸着し、所定の第2受渡領域において上記薄板を解放する吸着部と、
この吸着部が一端側に付設されているアームと、
このアームの他端側を支持し、上記吸着部に吸着されているときの上記薄板と平行な平面上に位置する回転軸を中心に360°回転可能な回転部と、
上記第1受渡領域に供給された上記薄板の上記下側の面を支持できると共に、上記吸着部がそれらの間を通過できるように上記第1受渡領域に配設された複数の仮受部材と
を備え、
上記アームが上記他端から上記一端に向かう方向に伸縮可能である薄板移送装置。
An adsorbing portion that adsorbs a lower surface of the thin plate in a predetermined first delivery region and releases the thin plate in a predetermined second delivery region;
An arm having this suction portion attached to one end;
A rotating part that supports the other end of the arm and can rotate 360 ° around a rotation axis located on a plane parallel to the thin plate when being adsorbed by the adsorbing part;
A plurality of temporary receiving members arranged in the first delivery area so that the lower surface of the thin plate supplied to the first delivery area can be supported and the suction portion can pass between them; With
A thin plate transfer device in which the arm can extend and contract in a direction from the other end toward the one end.
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