Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP5829563B2 - Silicon nitride-based sintered body and decorative part using the same - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP5829563B2 - Silicon nitride-based sintered body and decorative part using the same - Google Patents

Silicon nitride-based sintered body and decorative part using the same Download PDF

Info

Publication number
JP5829563B2
JP5829563B2 JP2012074076A JP2012074076A JP5829563B2 JP 5829563 B2 JP5829563 B2 JP 5829563B2 JP 2012074076 A JP2012074076 A JP 2012074076A JP 2012074076 A JP2012074076 A JP 2012074076A JP 5829563 B2 JP5829563 B2 JP 5829563B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon nitride
sintered body
less
mass
decorative
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012074076A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012214372A (en
Inventor
和洋 石川
和洋 石川
明利 山口
明利 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2012074076A priority Critical patent/JP5829563B2/en
Publication of JP2012214372A publication Critical patent/JP2012214372A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5829563B2 publication Critical patent/JP5829563B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Adornments (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Description

本発明は、窒化珪素質焼結体に関するものであり、とりわけ腕時計用ケース,腕時計用バンド駒等に好適に用いられて美しい色調を醸し出すことができる窒化珪素質焼結体およびこれを用いた装飾部品に関する。   The present invention relates to a silicon nitride-based sintered body, and particularly to a silicon nitride-based sintered body that can be suitably used for a wristwatch case, a wristwatch band piece, and the like to produce a beautiful color tone, and a decoration using the same. Regarding parts.

窒化珪素質焼結体は、原料としてα型の窒化珪素粉末を主成分とする粉末を用いて焼結体を得ると、焼結過程においてα型からβ型の相移転が起こるほか、生成したβ型の窒化珪素の結晶粒子が柱状になり、これら結晶粒子が互いに絡み合った組織となり、等方的な形状の結晶からなる組織よりも機械的特性が向上することが知られている。   A silicon nitride sintered body was produced when a sintered body was obtained using a powder mainly composed of α-type silicon nitride powder as a raw material, as well as phase transfer from α-type to β-type occurred in the sintering process. It is known that β-type silicon nitride crystal grains are columnar and have a structure in which these crystal grains are entangled with each other, and mechanical properties are improved compared to a structure made of isotropic crystals.

このような機械的特性が高い窒化珪素質焼結体として、特許文献1では、窒化ケイ素−添加物系の焼結体からなる窒化ケイ素系セラミックスにおいて、β型窒化ケイ素の柱状結晶が一平面に平行にならんでおり、そのならんでいる面のX線回析法を用いて得られる、β−窒化ケイ素の(101)面の強度(I101)と、(210)面の強度(I210)の比(I101/I210)が0.4以下である窒化ケイ素系セラミックスが提案されている。   As a silicon nitride-based sintered body having such high mechanical properties, in Patent Document 1, in a silicon nitride-based ceramic made of a silicon nitride-additive sintered body, β-type silicon nitride columnar crystals are in one plane. Ratio of (101) plane strength (I101) and (210) plane strength (I210) of β-silicon nitride obtained by X-ray diffraction of the parallel plane. Silicon nitride ceramics having (I101 / I210) of 0.4 or less have been proposed.

特許第2563392号公報Japanese Patent No. 2563392

しかしながら、特許文献1に記載された窒化ケイ素系セラミックスは、高温強度および破壊靱性が高くなるものの、加工効率が考慮されたものではなく、その表面をラップ装置,バレル装置等を用いて研磨しようとすると、加工効率が低いという問題があった。   However, although the silicon nitride ceramics described in Patent Document 1 have high temperature strength and high fracture toughness, the processing efficiency is not considered, and the surface is intended to be polished using a lapping device, a barrel device, or the like. Then, there was a problem that processing efficiency was low.

本発明は、上記課題を解決すべく案出されたものであり、加工効率が高い窒化珪素質焼結体およびこれを用いた装飾部品を提供することを目的とするものである。   The present invention has been devised to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a silicon nitride sintered body having high processing efficiency and a decorative part using the same.

本発明の窒化珪素質焼結体は、β−窒化珪素を主成分としてなり、X線回折法を用いて得られる、前記β−窒化珪素の(101)面および(210)面のそれぞれの回折強度をI(101),I(210)としたとき、算術平均粗さRaが0.06μm以上0.25μm以下に研磨された表面にX線を照射した際に得られる前記回折強度の比I(101)
/I(210)1よりも大きく、前記表面よりも深部にあたる内部における、前記表面に略平行な面にX線を照射した際に得られる前記回折強度の比I(101)/I(210)が1よりも小さいことを特徴とするものである。
The silicon nitride sintered material of the present invention, beta-made silicon nitride as a main component, obtained using X-ray diffraction method, the beta-nitride of silicon (101) plane and (210) each diffraction plane the intensity I (101), when the I (210), the ratio of the diffraction intensity arithmetic average roughness Ra of that obtained when irradiated with X-rays to the polished surface below 0.25μm or 0.06μm I (101)
/ I (210) is much larger than the 1, inside falls deeper than the surface, the ratio of the diffraction intensity obtained when X-rays were irradiated in a plane substantially parallel to said surface I (101) / I ( 210) is less than one.

また、本発明の装飾部品は、上記の窒化珪素質焼結体を用いたことを特徴とするものである。   The decorative part of the present invention is characterized by using the above-mentioned silicon nitride sintered body.

本発明の窒化珪素質焼結体によれば、β−窒化珪素を主成分としてなり、X線回折法を用いて得られる、前記β−窒化珪素の(101)面および(210)面のそれぞれの回折強度をI(101),I(210)としたとき、算術平均粗さRaが0.06μm以上0.25μm以下に研磨された表面にX線を照射した際に得られる前記回折強度の比I(101)/I(210)1よりも大きく、前記表面よりも深部にあたる内部における、前記表面に略平行な面にX線を照射した際に得られる前記回折強度の比I(101)/I(210)が1よりも小さいことから、内部から上記表面に向かって結晶の配向性が変化しているので、内部および上記表面における回折強度の比I(101)/I(210)が1よりも小さい場合に比べて、上記表面における破壊靱性は低くなり、加工効率が高くなる。
According to the silicon nitride sintered body of the present invention, beta-made silicon nitride as a main component, obtained using X-ray diffraction method, the beta-nitride (101) silicon surface and (210) plane of each the diffraction intensity of the I (101), when the I (210), the diffraction intensity arithmetic average roughness Ra of that obtained when irradiated with X-rays to the polished surface below 0.25μm or 0.06μm the ratio I (101) / I (210 ) is much larger than the 1, ratio of the diffraction intensity obtained when inside falls deeper than the surface was irradiated with X-rays in a plane substantially parallel to the surface I Since (101) / I (210) is smaller than 1 , the orientation of the crystal changes from the inside toward the surface, so the ratio of the diffraction intensities in the inside and the surface I (101) / I ( 210) is less than 1 compared to Fracture toughness in the surface is lowered, the processing efficiency is increased.

また、本発明の装飾部品によれば、本発明の窒化珪素質焼結体を用いてなることから、加工効率が高くなることにより、生産効率を高くすることができるので、付加価値の高い装飾部品とすることができる。   In addition, according to the decorative part of the present invention, since the silicon nitride sintered body of the present invention is used, the production efficiency can be increased by increasing the processing efficiency. Can be a part.

本実施形態の窒化珪素質焼結体にX線を照射して得られる、(a)は内部、(b)は、研磨された表面をX線回折した結果を示す図の一例である。(A) is obtained by irradiating the silicon nitride-based sintered body of the present embodiment with X-rays, (b) is an example of a diagram showing a result of X-ray diffraction of a polished surface. (a)〜(f)は、それぞれ本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた装飾部品の一例を示す、装飾面を平面視した模式図である。(A)-(f) is the schematic diagram which looked at the decorative surface planarly, which shows an example of the decorative component using the silicon nitride sintered body of this embodiment, respectively. 本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた時計用装飾部品である時計用ケースの一例を示す、(a)は時計用ケースを表側から見た斜視図であり、(b)は(a)の時計用ケースを裏側からみた斜視図である。An example of a watch case which is a decorative part for a watch using the silicon nitride sintered body of the present embodiment is shown, (a) is a perspective view of the watch case as viewed from the front side, and (b) is (a) FIG. 本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた時計用装飾部品である時計用ケースの他の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the other example of the case for timepieces which is a decorative component for timepieces using the silicon nitride sintered body of this embodiment. 本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた時計用装飾部品である時計用裏蓋の一例を示す底面図である。It is a bottom view which shows an example of the back cover for timepieces which is a decorative part for timepieces using the silicon nitride based sintered body of this embodiment. 本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた時計用装飾部品である時計用バンドの構成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of a structure of the timepiece band which is a decorative part for timepieces using the silicon nitride sintered body of this embodiment.

以下、本実施形態の一例について図面を参照しつつ詳細に説明する。   Hereinafter, an example of this embodiment will be described in detail with reference to the drawings.

本実施形態の窒化珪素質焼結体は、β−窒化珪素を主成分としてなる窒化珪素質焼結体であって、例えば、アルミニウム,カルシウム,マグネシウムおよび希土類元素の各酸化物の少なくとも1種と、クロム,マンガン,鉄,コバルト,ニッケル,モリブデンおよびタングステンの各珪化物の少なくとも1種を含むことが好適である。   The silicon nitride sintered body of the present embodiment is a silicon nitride sintered body containing β-silicon nitride as a main component, and includes, for example, at least one oxide of aluminum, calcium, magnesium, and rare earth elements. It is preferable to contain at least one of chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, molybdenum and tungsten silicides.

ここで、アルミニウム,カルシウム,マグネシウムおよび希土類元素の各酸化物は、焼結を促進する焼結助剤として作用する。より具体的には、組成式が、例えば、Al,CaO,MgOおよびRE(以下、REは希土類元素を示す。)として表される成分である。また、クロム,マンガン,鉄,コバルト,ニッケル,モリブデンおよびタングステンの各珪化物は、粒界相の固化を制御し高温強度を高めるとともに、焼結体の色調を黒色化し、焼結体の内部と表面との色調差を少なくする作用をなす。より具体的には、組成式が、例えば、CrSi,MnSi,FeSi,FeSi,CoSi,NiSi,MoSi,WSiおよびWSi等として表される成分である。 Here, each oxide of aluminum, calcium, magnesium and rare earth elements acts as a sintering aid for promoting the sintering. More specifically, the composition formula is a component represented by, for example, Al 2 O 3 , CaO, MgO, and RE 2 O 3 (hereinafter, RE represents a rare earth element). In addition, each silicide of chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, molybdenum, and tungsten controls the solidification of the grain boundary phase to increase the high temperature strength, and also blackens the color of the sintered body. It works to reduce the color difference from the surface. More specifically, composition formula, for example, a component represented as CrSi 2, MnSi 2, FeSi, FeSi 2, CoSi 2, NiSi 3, MoSi 2, WSi 2 and W 5 Si 3 and the like.

本実施形態の窒化珪素質焼結体は、β−窒化珪素の含有量が81.8質量%以上であり、例えば、残部が焼結助剤として、酸化カルシウム,酸化アルミニウムおよび希土類元素の酸化物を含み、酸化カルシウム,酸化アルミニウムおよび希土類元素の酸化物の含有量は、酸化カルシウム,酸化アルミニウムおよび希土類元素の酸化物の合計100質量%に対して
、それぞれ0.3質量%以上1.5質量%以下,14.2質量%以上48.8質量%以下であって、残部が希土類元素の酸化物からなる。また、珪化物は、例えば、珪化鉄および珪化タングステンであって、これらの珪化物の含有量は、それぞれFe換算で0.2質量%以上10質量%以
下,W換算で0.1質量%以上3質量%以下である。なお本実施形態の窒化珪素質焼結体は
、不可避不純物が窒化珪素質焼結体100質量%に対して、1質量%以下含んでいても何ら
差しつかえもない。
The silicon nitride-based sintered body of the present embodiment has a β-silicon nitride content of 81.8% by mass or more, for example, the balance includes calcium oxide, aluminum oxide, and rare earth element oxide as a sintering aid. The content of calcium oxide, aluminum oxide and rare earth element oxide is 0.3% by mass to 1.5% by mass and 14.2% by mass, respectively, with respect to 100% by mass of the total of calcium oxide, aluminum oxide and rare earth element oxide. The content is 48.8% by mass or less, and the balance is made of a rare earth element oxide. Further, the silicide is, for example, iron silicide and tungsten silicide, and the content of these silicides is 0.2 mass% to 10 mass% in terms of Fe and 0.1 mass% to 3 mass% in terms of W, respectively. It is. In the silicon nitride sintered body of this embodiment, there is no problem even if unavoidable impurities are contained in an amount of 1% by mass or less with respect to 100% by mass of the silicon nitride sintered body.

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体の他の例としては、β−窒化珪素の含有量が81.8質量%以上であり、例えば、残部が焼結助剤として、酸化アルミニウム,酸化マグネシウムおよび酸化カルシウムを含み、酸化アルミニウム,酸化マグネシウムおよび酸化カルシウムの含有量は、酸化アルミニウム,酸化マグネシウムおよび酸化カルシウムの合計100
質量%に対して、それぞれ12質量%以上22質量%以下,20質量%以上33質量%以下であって、残部が酸化カルシウムからなる。また、珪化物は、例えば、珪化鉄および珪化タングステンであって、これらの珪化物の含有量は、それぞれFe換算で0.2質量%以上10質量
%以下,W換算で0.1質量%以上3質量%以下である。
Further, as another example of the silicon nitride sintered body of the present embodiment, the content of β-silicon nitride is 81.8% by mass or more, for example, the balance is aluminum oxide, magnesium oxide and Containing calcium oxide, the total content of aluminum oxide, magnesium oxide and calcium oxide is 100 for aluminum oxide, magnesium oxide and calcium oxide.
12% by mass or more and 22% by mass or less and 20% by mass or more and 33% by mass or less, respectively, and the balance is made of calcium oxide. Further, the silicide is, for example, iron silicide and tungsten silicide, and the content of these silicides is 0.2 mass% to 10 mass% in terms of Fe and 0.1 mass% to 3 mass% in terms of W, respectively. It is.

ここで、窒化珪素質焼結体を構成する成分については、蛍光X線分析法またはICP(Inductively Coupled Plasma)発光分光分析法により含有量を求めればよい。具体的なICP発光分光分析法による含有量の求め方は、まず、前処理として窒化珪素質焼結体の一部を超硬乳鉢にて粉砕した試料にホウ酸および炭酸ナトリウムを加えて融解する。そして、放冷した後に塩酸溶液にて溶解し、溶解液をフラスコに移して水で標線まで薄めて定容とし、検量線用溶液とともにICP発光分光分析装置で測定することにより、窒化珪素質焼結体を構成する成分の金属元素の各含有量を求めることができる。   Here, what is necessary is just to obtain | require content about the component which comprises a silicon nitride sintered compact by a fluorescent X ray analysis method or an ICP (Inductively Coupled Plasma) emission spectroscopy analysis method. The specific content of the ICP emission spectroscopic analysis method is as follows. First, as a pretreatment, a part of a silicon nitride sintered body is pulverized in a cemented mortar, and then boric acid and sodium carbonate are added and melted. . Then, after cooling, the solution is dissolved in a hydrochloric acid solution, and the solution is transferred to a flask, diluted to the standard line with water to obtain a constant volume, and measured with an ICP emission spectrometer together with a calibration curve solution. Each content of the metal element of the component which comprises a sintered compact can be calculated | required.

この値を基に、Si以外の成分、例えば、Al,Ca,MgおよびRE(希土類元素)については、それぞれ酸化物に換算することにより、酸化アルミニウム(Al),酸化カルシウム(CaO),酸化マグネシウム(MgO)および希土類元素の酸化物(RE)の各含有量を求めることができる。また、Cr,Mn,Fe,Co,Ni,MoおよびWについては、それぞれ珪化物に換算することにより、珪化クロム(CrSi),珪化マンガン(MnSi),珪化鉄(FeSi),珪化コバルト(CoSi),珪化ニッケル(NiSi),珪化モリブデン(MoSi)および珪化タングステン(WSi)の各含有量を求めることができる。 Based on this value, components other than Si, for example, Al, Ca, Mg, and RE (rare earth elements) are converted into oxides to obtain aluminum oxide (Al 2 O 3 ), calcium oxide (CaO), respectively. , Magnesium oxide (MgO) and rare earth element oxide (RE 2 O 3 ) can be determined. In addition, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Mo and W are converted into silicides, respectively, thereby providing chromium silicide (CrSi 2 ), manganese silicide (MnSi 2 ), iron silicide (FeSi 2 ), cobalt silicide. Each content of (CoSi 2 ), nickel silicide (NiSi 2 ), molybdenum silicide (MoSi 2 ), and tungsten silicide (WSi 2 ) can be determined.

また、窒化珪素の含有量は、Al,Ca,Mg,RE,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,MoおよびWの各含有量を測定して、それぞれ酸化アルミニウム,酸化カルシウム,酸化マグネシウムおよび希土類元素の酸化物ならびに珪化クロム,珪化マンガン,珪化鉄,珪化コバルト,珪化ニッケル,珪化モリブデンおよび珪化タングステンに換算し、100質
量%から酸化アルミニウム,酸化カルシウム,酸化マグネシウムおよび希土類元素の酸化物の各含有量と、珪化鉄,珪化コバルト,珪化ニッケル,珪化モリブデンおよび珪化タングステンの各含有量との合計を引いた値を窒化珪素の含有量としてもよい。
In addition, the silicon nitride content is determined by measuring the content of Al, Ca, Mg, RE, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Mo and W, respectively, aluminum oxide, calcium oxide, magnesium oxide and rare earth. Element oxides and chromium oxides, manganese silicides, iron silicides, cobalt silicides, nickel silicides, molybdenum silicides, and tungsten silicides, each containing 100% by mass of oxides of aluminum oxide, calcium oxide, magnesium oxide, and rare earth elements The value obtained by subtracting the sum of the amount and each content of iron silicide, cobalt silicide, nickel silicide, molybdenum silicide, and tungsten silicide may be the silicon nitride content.

図1は、本実施形態の窒化珪素質焼結体にX線を照射して得られる、(a)は内部、(b)は、研磨された表面をX線回折した結果を示す図の一例である。   FIG. 1 is an example of a diagram obtained by irradiating a silicon nitride based sintered body of this embodiment with X-rays, (a) is an inside, and (b) is a result of X-ray diffraction of a polished surface. It is.

図1に施した○印および△印は、それぞれβ−窒化珪素の(101)面,(210)面の回折強度I(101),I(210)である。   1 are the diffraction intensities I (101) and I (210) of the (101) plane and (210) plane of β-silicon nitride, respectively.

そして、図1に示す例のように、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、X線回折法を用いて得られる、β−窒化珪素の(101)面および(210)面のそれぞれの回折強度をI(101
),I(210)としたとき、内部における回折強度の比I(101)/I(210)は1よりも
小さく、研磨された表面における回折強度の比I(101)/I(210)は1よりも大きいことが重要である。回折強度の比I(101)/I(210)をこのような関係にすると、内部から表面に向かって結晶の配向性が変化するので、内部および表面における回折強度の比I(101)/I(210)が1よりも小さい場合に比べて、表面における破壊靱性は低くなり、加工効率が高くなる傾向にある。なお、ここでいう研磨された表面とは、焼成してできた窒化珪素質焼結体の表面を深さ方向に10μm以上60μm以下研磨することによってできた面であることが好ましい。
As in the example shown in FIG. 1, the silicon nitride sintered body according to this embodiment is obtained by using the (101) plane and the (210) plane of β-silicon nitride obtained by using the X-ray diffraction method. The diffraction intensity is I (101
), I (210), the internal diffraction intensity ratio I (101) / I (210) is smaller than 1, and the diffraction intensity ratio I (101) / I (210) on the polished surface is It is important that it is greater than 1. When the diffraction intensity ratio I (101) / I (210) is in such a relationship, the crystal orientation changes from the inside to the surface, and therefore the diffraction intensity ratio I (101) / I at the inside and the surface. Compared with the case where (210) is smaller than 1, the fracture toughness on the surface is low, and the processing efficiency tends to be high. Here, the polished surface is preferably a surface formed by polishing the surface of a sintered silicon nitride-based sintered body in the depth direction by 10 μm or more and 60 μm or less.

特に、回折強度の比I(101)/I(210)は、上述の関係を維持した上で、内部における回折強度の比I(101)/I(210)と研磨された表面における回折強度の比I(101)
/I(210)との差が0.65以上であり、内部における回折強度の比I(101)/I(210)
が0.45以下であることが好適である。このようにすると、内部における破壊靱性が高くなり、研磨された表面における破壊靱性が内部の破壊靱性よりも低くなって、加工効率および機械的特性ともに高い焼結体となりやすい。
In particular, the diffraction intensity ratio I (101) / I (210) is the ratio of the diffraction intensity ratio I (101) / I (210) in the interior to the diffraction intensity ratio on the polished surface while maintaining the above relationship. Ratio I (101)
/ I (210) is 0.65 or more, and the ratio of the diffraction intensity inside I (101) / I (210)
Is preferably 0.45 or less. By doing so, the fracture toughness inside becomes high, the fracture toughness on the polished surface becomes lower than the internal fracture toughness, and it becomes easy to obtain a sintered body having both high processing efficiency and mechanical properties.

なお、窒化珪素質焼結体を構成するβ−窒化珪素の同定については、X線回折法を用い、PDF(登録商標)Number:00−033−1160で示されるカードと照合すればよい。   In addition, what is necessary is just to collate with the card | curd shown by PDF (trademark) Number: 00-033-1160 using the X-ray-diffraction method about identification of (beta) -silicon nitride which comprises a silicon nitride sintered body.

また、研磨された表面とは、例えば、ラップ研磨,ポリッシング研磨,バレル研磨およびバフ研磨等によって得られる面であFurther, the polished surface, for example, lapping, polishing abrasive, Ru surface der obtained by barrel polishing and buffing.

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、研磨された表面における炭素の含有量が0.3
質量%以下(但し、0質量%を除く)であることが好適である。炭素の含有量が0.3質量
%以下であるときには、炭素が窒化珪素に拡散して固溶体を形成して焼結を促進するため、硬度を高くすることができるとともに、炭素の呈する黒色により、無彩色化の傾向が僅かに現れて色むらが抑制されると思われ、窒化珪素質焼結体が、例えば、装飾部品として用いられる場合にはクロマティクネス指数a*およびb*ならびに以下の式(A)で規定される色調感の差である色差(△E*ab)を小さくすることができるので、装飾部品間で発生する色差をほとんど感じることのない好ましい極黒色とすることができる。特に、破壊靱性や硬度等の機械的特性を十分高くすることができるという観点から、研磨された表面における炭素の含有量は0.1質量%以上であることが好適である。
△E*ab=((△L*)+(△a*)+(△b*)))1/2・・・(A)
また、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、研磨された表面における開気孔率が0.5%以
下であることが好適である。開気孔率が0.5%以下であるときには、気孔が形成する輪郭
による色むらが減少して表面における色調が濃くなるため、明度指数L*の値が小さくなり、窒化珪素質焼結体が、例えば、装飾部品として用いられる場合には、より質感が増すため、高い美的満足感を得られやすくなる。
Further, the silicon nitride sintered body of this embodiment has a carbon content of 0.3 on the polished surface.
It is preferable that it is less than or equal to mass% (excluding 0 mass%). When the carbon content is 0.3% by mass or less, the carbon diffuses into silicon nitride to form a solid solution and promotes sintering, so that the hardness can be increased and the black color of the carbon causes an achromatic color. When the silicon nitride sintered body is used, for example, as a decorative part, the chromaticness index a * and b * and the following formula (A The color difference (ΔE * ab), which is the difference in color tone defined by (1), can be reduced, so that it is possible to obtain a preferable extremely black color that hardly feels the color difference generated between decorative parts. In particular, from the viewpoint that mechanical properties such as fracture toughness and hardness can be sufficiently increased, the carbon content in the polished surface is preferably 0.1% by mass or more.
ΔE * ab = ((ΔL *) 2 + (Δa *) 2 + (Δb *) 2 )) 1/2 (A)
In addition, the silicon nitride sintered body of this embodiment preferably has an open porosity of 0.5% or less on the polished surface. When the open porosity is 0.5% or less, the color unevenness due to the contour formed by the pores is reduced and the color tone on the surface is deepened. Therefore, the value of the lightness index L * is reduced, and the silicon nitride sintered body is, for example, When used as a decorative part, since the texture is further increased, high aesthetic satisfaction is easily obtained.

なお、研磨された表面における開気孔率は、以下のようにして算出する。まず、光学顕微鏡を用いて、倍率を200倍にしてCCDカメラで装飾面の画像を取り込む。次に、画像
解析装置((株)ニレコ製LUZEX−FS等)により、画像内の1視野の測定面積を2.25×10−2mm,測定視野数を20,つまり測定総面積を4.5×10−1mmとして、当
該測定総面積における開気孔の面積を求める。当該開気孔の面積を測定総面積で除して、測定総面積における当該開気孔の面積の割合を表面の開気孔率とする。これにより、表面における開気孔率を算出することができる。
The open porosity on the polished surface is calculated as follows. First, using an optical microscope, the magnification is set to 200 times, and an image of the decorative surface is captured by a CCD camera. Next, using an image analyzer (LUZEX-FS manufactured by Nireco Corporation), the measurement area of one visual field in the image is 2.25 × 10 −2 mm 2 , the number of measurement visual fields is 20, that is, the total measurement area is 4.5 × 10. The area of open pores in the measured total area is determined as −1 mm 2 . The area of the open pores is divided by the total measurement area, and the ratio of the area of the open pores in the total measurement area is defined as the surface open porosity. Thereby, the open porosity on the surface can be calculated.

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、研磨された表面における開気孔の最大開口径が0.1mm以下であることが好適である。表面における開気孔の最大開口径が0.1mm以下であると、開気孔が形成する輪郭によって他の部分との違いによる色むらが減少するとともに、例えば、この窒化珪素質焼結体を腕時計用バンド駒として用いると、隣り合うバンド駒との色調の違いがほとんどなくなるため、部品交換をしても違和感を低減できる。   In the silicon nitride sintered body of this embodiment, it is preferable that the maximum opening diameter of the open pores on the polished surface is 0.1 mm or less. If the maximum opening diameter of the open pores on the surface is 0.1 mm or less, uneven color due to differences from other parts is reduced due to the contour formed by the open pores. For example, this silicon nitride sintered body is used as a wristwatch band. When used as a piece, there is almost no difference in color tone between adjacent band pieces, so that the sense of discomfort can be reduced even if parts are replaced.

特に、研磨された表面における開気孔の最大開口径が0.05mm以下であることがより好適である。   In particular, the maximum opening diameter of the open pores on the polished surface is more preferably 0.05 mm or less.

開気孔の最大開口径については、光学顕微鏡を用いて測定することができる。   The maximum opening diameter of the open pores can be measured using an optical microscope.

具体的には、倍率を100倍とし、窒化珪素質焼結体の研磨された表面から1箇所当たり
の面積を1235μm×926μmに設定した範囲を5箇所抜き取り、その中で最も大きい開気
孔の径を測定することで求められる。
Specifically, the magnification was set to 100 times, and five areas where the area per area was set to 1235 μm × 926 μm were extracted from the polished surface of the silicon nitride sintered body, and the diameter of the largest open pore among them was extracted. It is calculated | required by measuring.

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、表面の算術平均粗さRaを0.06μm以上0.25μm以下とすることが好ましい。   The silicon nitride sintered body of this embodiment preferably has a surface arithmetic average roughness Ra of 0.06 μm or more and 0.25 μm or less.

この様な表面状態であれば、表面全体が適度に荒れた状態となり、開気孔が部分的に集中した場合でも、開気孔の輪郭が見えにくくなり色むらが生じることを抑制することができる。また、このような表面状態であれば、窒化珪素質焼結体の親水性がさらに向上するので、皮脂に由来する油成分の汚れなどが付着しにくくなり、清潔感が保たれやすくなる。   In such a surface state, the entire surface is appropriately roughened, and even when the open pores are partially concentrated, it is possible to suppress the appearance of the contours of the open pores and the occurrence of uneven color. Further, in such a surface state, the hydrophilicity of the silicon nitride sintered body is further improved, so that dirt of oil components derived from sebum is less likely to adhere, and a clean feeling is easily maintained.

さらに、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、表面の粗さ曲線から求められるクルトシス(Rku)が2.5以上4.5以下であることが好ましい。   Furthermore, the silicon nitride sintered body of this embodiment preferably has a kurtosis (Rku) determined from a surface roughness curve of 2.5 or more and 4.5 or less.

このような表面状態であれば、開気孔によって形成される輪郭にも山や谷となっている先端部分が、適度に丸みを帯びたものと尖りを帯びたものに分散されていることから、輪郭の境目がさらに薄れた状態となって色むらをさらに抑制することができる。   If it is such a surface state, because the tip portion that is a mountain or valley in the contour formed by the open pores is dispersed in a moderately rounded and pointed one, It becomes a state where the boundary of the contour is further thinned, and color unevenness can be further suppressed.

表面の算術平均粗さRaおよびクルトシス(Rku)はJIS B 0601−2001(ISO
4287−1997)に準拠して測定すればよく、測定長さおよびカットオフ値をそれぞれ5m
mおよび0.8mmとし、触針式の表面粗さ計を用いて測定する場合であれば、例えば、窒
化珪素質焼結体の研磨された表面に、触針先端半径が2μmの触針を当て、触針の走査速度は0.5mm/秒に設定し、この測定で得られた5箇所の平均値を算術平均粗さRaおよ
びクルトシス(Rku)の値とする。
The arithmetic average roughness Ra and kurtosis (Rku) of the surface is JIS B 0601-2001 (ISO
4287-1997), and the measurement length and cutoff value are 5m each.
m and 0.8 mm, and when measuring using a stylus type surface roughness meter, for example, a stylus having a stylus tip radius of 2 μm is applied to the polished surface of a silicon nitride sintered body. The scanning speed of the stylus is set to 0.5 mm / second, and the average values of the five locations obtained by this measurement are the values of arithmetic average roughness Ra and kurtosis (Rku).

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体の構成成分である窒化珪素は、組成式がSi6−ZAl8−Z(z=0.1〜1)で表されるβ−サイアロンであることが好適である。組成式がSi6−ZAl8−Z(z=0.1〜1)で表されるβ−サイアロン
とは、β−Si内にAl,O,N成分が固溶した結晶から構成されるものであり、固溶量zの値が上記範囲内であるβ−サイアロンであるときには、異常に成長した柱状結晶が少なくなるため、強度がほとんど低下せず、また、β−Siの結晶対称性がほとんど損なわれていないため、熱伝導率が低下しにくく、摺動を伴う装飾部品として用いられる場合には、摩擦熱の発生に伴う局部的な温度上昇を抑制することができる。特に、固溶量zは0.35以上0.70以下であることがより好適である。
Further, silicon nitride, which is a constituent component of the silicon nitride-based sintered body of the present embodiment, has a composition formula represented by Si 6-Z Al Z O Z N 8-Z (z = 0.1 to 1). -Sialon is preferred. The represented β- SiAlON a composition formula Si 6-Z Al Z O Z N 8-Z (z = 0.1~1), Al, O, is N components in solid solution in the β-Si 3 N 4 When it is β-sialon that is composed of crystals and the value of the solid solution amount z is within the above range, the number of abnormally grown columnar crystals decreases, so that the strength hardly decreases, and β− Since the crystal symmetry of Si 3 N 4 is hardly impaired, the thermal conductivity is unlikely to decrease, and when used as a decorative part with sliding, the local temperature rise due to the generation of frictional heat is suppressed. can do. In particular, the solid solution amount z is more preferably 0.35 or more and 0.70 or less.

ここで、固溶量zは、次のようにして算出することができる。まず、ASTM E 11−61に記載されている粒度番号が200のメッシュを通過するまで試料を粉砕し、得られた粉
末に粉末X線回折法における回折角の角度補正用サンプルである高純度α−窒化珪素粉末(宇部興産製E−10グレード、アルミニウム含有量は20質量ppm以下)を60質量%添加して乳鉢にて均一になるように混合し、粉末X線回折法により解析範囲2θを33〜37°とし、走査ステップ幅を0.002°として、Cu−Kα線(λ=1.54056Å)にてプロファイル強度を測定する。なお、角度の補正は、角度補正用サンプルより得られるピークの最大値を用いて補正する。
Here, the solid solution amount z can be calculated as follows. First, a sample is pulverized until it passes through a mesh having a particle size number of 200 described in ASTM E 11-61, and the obtained powder is a high-purity α which is a sample for correcting an angle of diffraction in a powder X-ray diffraction method. -Add 60 mass% of silicon nitride powder (Ebe grade made by Ube Industries, aluminum content is 20 mass ppm or less) and mix it uniformly in a mortar, and set the analysis range 2θ by powder X-ray diffraction method. The profile intensity is measured with a Cu-Kα line (λ = 1.40556 mm) with a scanning step width of 0.002 ° at 33 to 37 °. Note that the angle is corrected using the maximum peak value obtained from the angle correction sample.

そして、2θ=34.565°付近に現れるα(102)の0.002°毎に得られるピーク強度の上位10点の平均2θと34.565°との差(Δ2θ)、および2θ=35.333°付近に現れるα
(210)の0.002°毎に得られるピーク強度の上位10点の平均2θと35.333°との差(Δ2θ)をそれぞれ求め、その差の平均(Δ2θ+Δ2θ)/2を補正Δ2θとする。
Then, the difference (Δ2θ 1 ) between the average 2θ of the top 10 peak intensities obtained every 0.002 ° of α (102) appearing near 2θ = 34.565 ° and 34.565 °, and α appearing near 2θ = 35.333 °
The difference (Δ2θ 2 ) between the average 2θ of the top 10 peak intensities obtained every 0.002 ° of (210) and 35.333 ° is obtained, and the average (Δ2θ 1 + Δ2θ 2 ) / 2 of the difference is set as the corrected Δ2θ. .

次に、2θ=36.055°付近に現れるβ(210)の0.002°毎に得られるピーク強度の上位10点の平均2θを補正Δ2θによって補正した角度を試料のβ(210)のピーク位置(2
θβ)とする。そして、ピーク位置(2θβ),λ=1.54056Å,(hkl)=(210)を以下の数式に代入して格子定数a(Å)を算出する。
sinθβ=λ(h+hk+k)/(3a)+λ/(4c
この数式で、算出した格子定数a(Å)と、K. H. Jack,J. Mater. Sci.,11(1976)1135−1158,Fig. 13に記載された格子定数a(Å)−固溶量zのグラフとから、固溶量
zを求めることができる。
Next, the angle obtained by correcting the average 2θ of the top 10 peak intensities obtained every 0.002 ° of β (210) appearing in the vicinity of 2θ = 36.055 ° by the correction Δ2θ is the peak position (2 of the sample β (210)
θ β ). Then, the lattice constant a (Å) is calculated by substituting the peak position (2θ β ), λ = 1.40556Å, and (hkl) = (210) into the following equation.
sin 2 θ β = λ 2 (h 2 + hk + k 2 ) / (3a 2 ) + λ 2 l 2 / (4c 2 )
In this equation, the calculated lattice constant a (Å) and the lattice constant a (Å) −solid solution amount z described in KH Jack, J. Mater. Sci., 11 (1976) 1135-1158, FIG. From this graph, the solid solution amount z can be determined.

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、研磨された表面のうち、装飾性が求められる面(以下、装飾面という。)の可視光線領域における反射率が13.6%以下であることが好適である。可視光線領域における反射率が13.6%以下であると、可視光線に対する反射が抑制されているので、可視光線に対する反射の抑制が求められる装飾部品として用いることができる。   In addition, the silicon nitride sintered body of the present embodiment has a reflectance of 13.6% or less in the visible light region of the polished surface, which is required to have a decorative property (hereinafter referred to as a decorative surface). Is preferred. When the reflectance in the visible light region is 13.6% or less, since the reflection with respect to the visible light is suppressed, it can be used as a decorative part that is required to suppress the reflection with respect to the visible light.

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、装飾面のCIE1976L*a*b*色空間におけるクロマティクネス指数a*およびb*がそれぞれ−0.5以上+0.5以下および−1.0以
上+1.0以下であることが好適である。クロマティクネス指数a*およびb*がこの範囲
であると、装飾面は洗練された印象を醸し出すことができるので、本実施形態の窒化珪素質焼結体を装飾部品として用いると、視覚を通じて、高級感,美的満足感および精神的安らぎを得ることができる。
Further, in the silicon nitride sintered body of the present embodiment, the chromaticness index a * and b * in the CIE1976L * a * b * color space of the decorative surface is −0.5 or more and +0.5 or less and −1.0 or more and +1.0, respectively. It is preferable that: If the chromaticness indices a * and b * are within this range, the decorative surface can create a refined impression. Therefore, when the silicon nitride sintered body of the present embodiment is used as a decorative part, it is visually high-class. A feeling, aesthetic satisfaction and mental comfort can be obtained.

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、装飾面のCIE1976L*a*b*色空間における明度指数L*が40以上45以下であることが好適である。明度指数L*がこの範囲であると、極黒色の色調にほどよい明るさが発現できるので、神々しい黒色が得られるため、高級感が増して、美的満足感もより高くなり、より精神的安らぎを得ることができる。   In addition, the silicon nitride sintered body of this embodiment preferably has a lightness index L * of 40 to 45 in the CIE1976 L * a * b * color space of the decorative surface. If the lightness index L * is within this range, a moderate brightness can be achieved in the color tone of extremely black, so a gorgeous black color is obtained, which increases the sense of quality, increases aesthetic satisfaction, and makes it more spiritual. You can get peace.

上記装飾面の可視光線領域における反射率ならびにCIE1976L*a*b*色空間における明度指数L*の値およびクロマティクネス指数a*,b*の値は、JIS Z 8722−2000に準拠して測定することで求められる。例えば、分光測色計(コニカミノルタホールディングス(株)製CM−3700d等)を用い、光源をCIE標準光源D65,視野角を10°,測定範囲を5mm×7mmに設定して測定することができる。   The reflectance of the decorative surface in the visible light region, the value of the lightness index L * and the value of the chromaticness index a *, b * in the CIE1976 L * a * b * color space are measured in accordance with JIS Z 8722-2000. It is required by that. For example, a spectrocolorimeter (such as CM-3700d manufactured by Konica Minolta Holdings Co., Ltd.) can be used, and the light source can be measured with a CIE standard light source D65, the viewing angle set to 10 °, and the measurement range set to 5 mm × 7 mm. .

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体は、希土類元素の酸化物を構成する希土類元素(RE)が、ランタノイド系元素(La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu)であることが好適であり、熱伝導率が高いセラミックスとするには、この中でもエルビウム(Er),イッテルビウム(Yb)およびルテチウム(Lu)の少なくとも1種であることが好適である。その理由は、エルビウム(Er),イッテルビウム(Yb)およびルテチウム(Lu)は、周期表第3族元素の中でイオン半径が小さい元素であることから、組成式がSi6−ZAl8−Z(z=0.1〜1)で表されるβ−サイアロンを構成する元素であるSi,O,Nとの結合が強
いためにフォノンの伝達がよく、熱伝導率を高くすることができるからである。併せて、エルビウム(Er),イッテルビウム(Yb)およびルテチウム(Lu)は、Si,O,Nとの結合が強いために熱エネルギーによる格子振動が小さく、温度変化による体積膨張が小さいので、熱膨張係数を小さくすることができ、耐熱衝撃特性を高くすることができるからである。
In the silicon nitride sintered body of the present embodiment, the rare earth element (RE) constituting the oxide of the rare earth element is a lanthanoid element (La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb). , Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu), and in order to obtain a ceramic having high thermal conductivity, among these, at least erbium (Er), ytterbium (Yb), and lutetium (Lu). One type is preferred. The reason is that erbium (Er), ytterbium (Yb) and lutetium (Lu) are elements having a small ionic radius among the Group 3 elements of the periodic table, and therefore the composition formula is Si 6 -Z Al Z O Z. Since the bond with Si, O, and N which are elements constituting β-sialon represented by N 8 -Z (z = 0.1 to 1) is strong, the transmission of phonons is good and the thermal conductivity is increased. Because it can. In addition, erbium (Er), ytterbium (Yb), and lutetium (Lu) have a strong bond with Si, O, and N, so that lattice vibration due to thermal energy is small and volume expansion due to temperature change is small. This is because the coefficient can be reduced and the thermal shock resistance can be improved.

図2(a)〜(f)は、それぞれ本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた装飾部品の一例を示す、装飾面を平面視した模式図である。   FIGS. 2A to 2F are schematic views of an example of a decorative part using the silicon nitride sintered body of the present embodiment, as viewed from above.

図2(a)〜(f)に示す装飾部品3は、装飾面を平面視して、極黒色を呈する本実施形態の窒化珪素質焼結体からなる装飾部材1と、装飾部材1と異なる色調の装飾面を有する装飾部材2とが並べて配置されているものの例である。装飾部材1および装飾部材2の形状として、図2(a)はいずれも三角形状であり、(b)はいずれも四角形状であり、(c)はいずれも平行四辺形状であり、(d)は六角形状と三角形状との組み合わせであり、(e)は八角形状と四角形状との組み合わせであり、(f)は四角形状の装飾部材1と装飾部材1の周囲を囲んだ装飾部材2との組み合わせである。   The decorative component 3 shown in FIGS. 2A to 2F is different from the decorative member 1 and the decorative member 1 made of the silicon nitride-based sintered body of the present embodiment that exhibits an extremely black color when the decorative surface is viewed in plan view. It is an example of what is arrange | positioned along with the decorative member 2 which has a decorative surface of a color tone. As the shapes of the decorative member 1 and the decorative member 2, FIG. 2 (a) is a triangular shape, (b) is a quadrangular shape, (c) is a parallelogram shape, and (d) Is a combination of a hexagonal shape and a triangular shape, (e) is a combination of an octagonal shape and a quadrangular shape, and (f) is a quadrilateral decorative member 1 and a decorative member 2 surrounding the decorative member 1 and It is a combination.

また、装飾部材2の色調が黄金色であれば、装飾部材1の呈する色調の極黒色との組み合わせによって、視認性が高まり、遠方からの視認が求められる用途、例えば、案内板等の表示部品として好適に用いることができる。さらに、装飾部材2の色調が銀色であれば、より高級感に溢れた装飾性を高めることができる。   Further, if the color tone of the decorative member 2 is golden, the combination with the extremely black color tone exhibited by the decorative member 1 enhances the visibility, and uses for which visual recognition from a distance is required, for example, display components such as a guide plate Can be suitably used. Furthermore, if the color tone of the decorative member 2 is silver, it is possible to enhance the decorativeness that is more luxurious.

なお、装飾部材2は、装飾部材1と異なる色調で装飾性を高めるものであればよいため、材質は問わず、また、装飾部材1および装飾部材2の形状や組み合わせについては、これらの図2(a)〜(f)に限定されるものでないことは言うまでもない。   The decorative member 2 may be any material that enhances the decorativeness with a color tone different from that of the decorative member 1. Therefore, the material is not limited, and the shapes and combinations of the decorative member 1 and the decorative member 2 are those shown in FIG. Needless to say, the present invention is not limited to (a) to (f).

また、本実施形態の装飾部品の他の例である時計用装飾部品は、上記構成の本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いたことを特徴とし、その例としては、時計用ケースや時計用バンド駒がある。   Moreover, a decorative part for a watch which is another example of the decorative part of the present embodiment is characterized by using the silicon nitride sintered body of the present embodiment having the above-described configuration, and examples thereof include a watch case and There is a watch band piece.

図3は本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた時計用装飾部品である時計用ケースの一例を示しており、(a)は時計用ケースを表側から見た斜視図であり、(b)は(a)の時計用ケースを裏側から見た斜視図である。また、図4は本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた時計用装飾部品である時計用ケースの他の例を示す斜視図である。また、図5は本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた時計用装飾部品である時計用裏蓋の一例を示す底面図である。また、図6は本実施形態の窒化珪素質焼結体を用いた時計用装飾部品である時計用バンドの構成の一例を示す模式図である。なお、これらの図において同じ部位を示す場合は同じ符号を付してある。   FIG. 3 shows an example of a watch case that is a decorative part for a watch using the silicon nitride sintered body of the present embodiment, and (a) is a perspective view of the watch case as viewed from the front side. (b) is the perspective view which looked at the case for timepieces of (a) from the back side. FIG. 4 is a perspective view showing another example of a watch case which is a decorative part for a watch using the silicon nitride sintered body of the present embodiment. FIG. 5 is a bottom view showing an example of a watch back cover, which is a watch decorative part using the silicon nitride sintered body of the present embodiment. FIG. 6 is a schematic view showing an example of the configuration of a watch band that is a decorative part for a watch using the silicon nitride sintered body of the present embodiment. In addition, when showing the same site | part in these figures, the same code | symbol is attached | subjected.

図3(a)および(b)に示す時計用ケース10Aは、図示しないムーブメント(駆動機構)を収容する凹部11と、腕に時計を装着するための時計用バンド(図示しない)を固定する足部12とを備えており、凹部11は厚みの薄い底部13と厚みの厚い胴部14とからなる。また、図4に示す時計用ケース10Bは、図示しないムーブメント(駆動機構)が入る穴部15と、胴部14に形成された腕に時計を装着するための時計用バンド(図示しない)を固定する足部12とを備えている。   A watch case 10A shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b) has a recess 11 for housing a movement (drive mechanism) (not shown), and a foot for fixing a watch band (not shown) for mounting the watch on an arm. The concave portion 11 includes a thin bottom portion 13 and a thick trunk portion 14. The watch case 10B shown in FIG. 4 fixes a hole 15 for receiving a movement (drive mechanism) (not shown) and a watch band (not shown) for attaching the watch to the arm formed on the body 14. And a foot 12 to be provided.

図5に示す時計用裏蓋17は、周辺側に設けられた複数の取付け孔18にネジ(図示しない)を介して、例えば図4に示す時計用ケース10Bの裏側から取り付けられている。   A watch case back cover 17 shown in FIG. 5 is attached to a plurality of attachment holes 18 provided on the peripheral side through screws (not shown), for example, from the back side of the watch case 10B shown in FIG.

図6に示す時計用バンド50を構成するバンド駒は、ピン40が挿入される貫通孔21を有する中駒20と、中駒20を挟むようにして配置され、ピン40の両端が差し込まれるピン穴31を有する外駒30とから構成されており、中駒20の貫通孔21にピン40が挿入され、挿入されたピン40の両端が外駒30のピン穴31に差し込まれることにより、中駒20と外駒30とが順次連結されて時計用バンド50が構成されている。   The band piece constituting the watch band 50 shown in FIG. 6 has a middle piece 20 having a through hole 21 into which the pin 40 is inserted, and a pin hole 31 into which the both ends of the pin 40 are inserted. The pin 40 is inserted into the through hole 21 of the middle piece 20, and both ends of the inserted pin 40 are inserted into the pin holes 31 of the outer piece 30, thereby And the outer piece 30 are sequentially connected to form a watch band 50.

これら、時計用ケース10A,10B,時計用裏蓋17および時計用バンド50を構成するバン
ド駒として用いられる本実施形態の装飾部品は、本実施形態の窒化珪素質焼結体からなるものであることから、時計としての高級感,美的満足感を十分に得ることができ、視覚を通じて精神的安らぎを得ることができるとともに、加工効率が高くなることにより、生産効率を高くすることができるので、付加価値の高い装飾部品とすることができる。
The decorative parts of the present embodiment used as the band pieces constituting the watch cases 10A and 10B, the watch back cover 17 and the watch band 50 are made of the silicon nitride sintered body of the present embodiment. Therefore, it is possible to obtain a high-class feeling and aesthetic satisfaction as a watch, to obtain mental comfort through vision and to increase production efficiency by increasing processing efficiency. It can be a decorative component with high added value.

なお、本実施形態の時計用装飾部品は、手首に装着するタイプの心拍計および脈拍計用装飾部品も含むものとする。   The watch decorative part of the present embodiment includes a heart rate monitor and a pulse meter decorative part of the type attached to the wrist.

また、本実施形態の窒化珪素質焼結体では、装飾面のビッカース硬度(Hv)が長期信頼性に影響を与える要因の一つとなり、ビッカース硬度(Hv)が13GPa以上であることが好ましい。ビッカース硬度(Hv)をこの範囲にすると、装飾面は傷が入りにくくなるので、ガラスまたは金属からなる塵埃のような硬度の高い物質と接触しても装飾面に容易に傷が生じることがないからである。この装飾面のビッカース硬度(Hv)はJIS R 1610−2003に準拠して測定することができる。   In the silicon nitride sintered body of this embodiment, the Vickers hardness (Hv) of the decorative surface is one of the factors affecting the long-term reliability, and the Vickers hardness (Hv) is preferably 13 GPa or more. When the Vickers hardness (Hv) is in this range, the decorative surface is difficult to be damaged, so that the decorative surface is not easily damaged even when it comes into contact with a substance having high hardness such as dust made of glass or metal. Because. The Vickers hardness (Hv) of this decorative surface can be measured according to JIS R 1610-2003.

また、破壊靱性は加工特性および装飾面の耐磨耗性に影響し、両方の特性を兼ね備えた焼結体とするには、本実施形態の窒化珪素質焼結体では6.5MPa・m1/2以上8MP
a・m1/2以下であることが好ましい。この破壊靱性はJIS R 1607−1995で規定する圧子圧入法(IF法)に準拠して測定することができる。
Further, the fracture toughness affects the processing characteristics and the wear resistance of the decorative surface. In order to obtain a sintered body having both characteristics, the silicon nitride-based sintered body of the present embodiment has 6.5 MPa · m 1/2. 2 or more 8MP
a · m ½ or less is preferable. This fracture toughness can be measured in accordance with the indenter press-in method (IF method) defined in JIS R 1607-1995.

窒化珪素質焼結体が身に付けて用いられるようなものである場合は、軽い方が好まれるため、本実施形態の窒化珪素質焼結体では、その見掛け密度は3.4g/cm以下(0g
/cmを除く)であることが好適であり、この見掛け密度はJIS R 1634−1998に準拠して測定される。また、水銀,ニッケル,錫,亜鉛およびパラジウム等のアレルギー金属は、皮膚に長時間触れると、皮膚が炎症を起こすおそれがあるので、その含有量は少ない方が好ましく、これらアレルギー金属は窒化珪素質焼結体100質量%に対して、それぞ
れの含有量は0.1質量%以下であり、合計で0.5質量%以下であることが好適である。このようなアレルギー金属の含有量は、ICP(Inductively Coupled Plasma:誘導結合プラズマ)発光分光分析法で測定することができる。
In the case where the silicon nitride sintered body is worn and used, the lighter one is preferred. Therefore, in the silicon nitride sintered body of this embodiment, the apparent density is 3.4 g / cm 3 or less. (0g
/ Cm 3 is preferable to be the exception), the apparent density is measured according to JIS R 1634-1998. In addition, allergens such as mercury, nickel, tin, zinc, and palladium may cause irritation to the skin if they are exposed to the skin for a long time. Each content is 0.1% by mass or less with respect to 100% by mass of the sintered body, and is preferably 0.5% by mass or less in total. The content of such allergic metals can be measured by ICP (Inductively Coupled Plasma) emission spectroscopy.

次に、本実施形態の窒化珪素質焼結体および装飾部品のそれぞれの製造方法の一例について説明する。   Next, an example of each manufacturing method of the silicon nitride sintered body and the decorative part of the present embodiment will be described.

まず、β化率が40%以下であって、組成式がSi6−ZAl8−Zで表される、固溶量zが0.5以下である、アスペクト比の平均値が1.4以上である窒化珪素の粉末と、焼結助剤として酸化カルシウム,酸化アルミニウムおよび希土類元素の酸化物の各粉末とを、バレルミル,回転ミル,振動ミル,ビーズミルまたはアトライター等を用いて湿式混合し、粉砕してスラリーとする。なお、組成式がSi6−ZAl8−Z(z=0.1〜1)で表されるβ−サイアロンである窒化珪素を主成分とする柱状結晶を得るには、
固溶量zが0.05以上0.5以下である窒化珪素の粉末を用いればよい。
First, the β conversion rate is 40% or less, the composition formula is represented by Si 6-Z Al Z O Z N 8-Z , the solid solution amount z is 0.5 or less, and the average value of the aspect ratio is 1.4. The above silicon nitride powder and calcium oxide, aluminum oxide and rare earth oxide powders as a sintering aid are wet mixed using a barrel mill, rotary mill, vibration mill, bead mill or attritor. Pulverize into a slurry. In order to obtain a columnar crystal mainly composed of silicon nitride which is β-sialon represented by a composition formula of Si 6-Z Al Z O Z N 8-Z (z = 0.1 to 1),
A silicon nitride powder having a solid solution amount z of 0.05 or more and 0.5 or less may be used.

ここで、焼結助剤である酸化カルシウム,酸化アルミニウムおよび希土類元素の酸化物の各粉末の合計は、窒化珪素質粉末とこれら焼結助剤の粉末の合計との総和を100質量%
としたときに、3質量%以上18.2質量%以下になるようにすればよく、また各焼結助剤の含有量は、酸化カルシウム,酸化アルミニウムおよび希土類元素の酸化物の合計100質量
%に対して、酸化カルシウムおよび酸化アルミニウムの含有量はそれぞれ0.3質量%以上1.5質量%以下,14.2質量%以上48.8質量%以下であって、残部を希土類元素の酸化物とすればよい。また、窒化珪素の粉末とこれら焼結助剤の粉末の合計に対して、酸化第2鉄および酸化タングステンの各粉末をそれぞれFe換算で0.2質量%以上3質量%以下,W換
算で0.1質量%以上3質量%以下添加してもよい。
Here, the total of the powders of calcium oxide, aluminum oxide and rare earth element oxides, which are sintering aids, is 100% by mass of the sum of the silicon nitride powder and the sum of these sintering aid powders.
3 mass% or more and 18.2 mass% or less, and the content of each sintering aid is based on the total of 100 mass% of calcium oxide, aluminum oxide and rare earth element oxide. The contents of calcium oxide and aluminum oxide are 0.3% by mass or more and 1.5% by mass or less and 14.2% by mass or more and 48.8% by mass or less, respectively, and the remainder may be an oxide of a rare earth element. Further, with respect to the total of the silicon nitride powder and the sintering aid powder, each of the ferric oxide and tungsten oxide powders is 0.2% by mass to 3% by mass in terms of Fe, and 0.1% by mass in terms of W. More than 3 mass% may be added.

なお、添加した酸化第2鉄および酸化タングステンの各粉末は、後述する焼成で主相である窒化珪素と反応して、酸素を脱離し、鉄およびタングステンの珪化物をそれぞれ生成する。   The added ferric oxide and tungsten oxide powders react with silicon nitride, which is the main phase in the firing described later, to release oxygen and produce iron and tungsten silicides, respectively.

また、他の例としては、焼結助剤の含有量を、酸化アルミニウム,酸化マグネシウムおよび酸化カルシウムの合計100質量%に対して、酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウ
ムの含有量はそれぞれ12質量%以上22質量%以下,20質量%以上33質量%以下であって、残部が酸化カルシウムとする。
As another example, the content of the sintering aid is 100% by mass of aluminum oxide, magnesium oxide and calcium oxide, and the content of aluminum oxide and magnesium oxide is 12% by mass or more and 22% by mass, respectively. % Or less, 20 mass% or more and 33 mass% or less, with the balance being calcium oxide.

ところで、窒化珪素には、その結晶構造の違いにより、α型およびβ型という2種類の窒化珪素が存在する。α型は低温で、β型は高温で安定であり、1400℃以上でα型からβ型への相転移が不可逆的に起こる。ここで、β化率とは、X線回折法で得られたα(102
)回折線とα(210)回折線との各ピーク強度の和をIα、β(101)回折線とβ(210)
回折線との各ピーク強度の和をIβとしたときに、次の式によって算出される値である。β化率={Iβ/(Iα+Iβ)}×100(%)
窒化珪素の粉末のβ化率は、窒化珪素を主成分とするセラミックスの強度および破壊靱性値に影響する。β化率が40%以下の窒化珪素の粉末を用いるのは、強度および破壊靱性値をともに高くすることができるからである。β化率が40%を超える窒化珪素の粉末は、焼成工程で粒成長の核となって、粗大で、しかもアスペクト比の小さい結晶となりやすく、強度および破壊靱性値が低下するおそれがある。そのため、特に、β化率が10%以下の窒化珪素の粉末を用いるのが好ましく、これにより、固溶量zを0.05以上にすることができる。
By the way, there are two types of silicon nitride, α-type and β-type, due to the difference in crystal structure of silicon nitride. The α type is stable at low temperatures, the β type is stable at high temperatures, and the phase transition from α type to β type occurs irreversibly at 1400 ° C or higher. Here, the β conversion rate is α (102 obtained by the X-ray diffraction method.
) The sum of the peak intensities of the diffraction lines and α (210) diffraction lines is I α , β (101) diffraction lines and β (210)
This is a value calculated by the following equation, where I β is the sum of peak intensities with diffraction lines. β conversion rate = {I β / (I α + I β )} × 100 (%)
The β conversion rate of the silicon nitride powder affects the strength and fracture toughness values of ceramics mainly composed of silicon nitride. The reason why silicon nitride powder having a β conversion ratio of 40% or less is used is that both strength and fracture toughness values can be increased. Silicon nitride powder having a β conversion ratio of more than 40% becomes a nucleus of grain growth in the firing step, tends to be coarse and crystals having a small aspect ratio, and there is a risk that strength and fracture toughness values are lowered. Therefore, it is particularly preferable to use a silicon nitride powder having a β conversion rate of 10% or less, whereby the solid solution amount z can be 0.05 or more.

また、固溶量zは、本実施形態の窒化珪素質焼結体の熱伝導率に影響し、固溶量zが0.5以下の粉末を用いるのは、焼結後にアスペクト比が5以上の柱状結晶が得られ、窒化珪
素質焼結体の強度および熱伝導率をともに高くすることができるからである。
Further, the solid solution amount z affects the thermal conductivity of the silicon nitride sintered body of the present embodiment, and the use of powder having a solid solution amount z of 0.5 or less is a columnar shape having an aspect ratio of 5 or more after sintering. This is because crystals are obtained and both the strength and thermal conductivity of the silicon nitride sintered body can be increased.

窒化珪素の粉末の粉砕で用いるボールは、窒化珪素質,ジルコニア質およびアルミナ質等の各種焼結体からなるボールを用いることができるが、不純物が混入しにくい材質、あるいは同じ材料組成の窒化珪素質焼結体からなるボールが好適である。   As balls used for pulverizing silicon nitride powder, balls made of various sintered bodies such as silicon nitride, zirconia, and alumina can be used. However, a material that does not easily contain impurities, or silicon nitride having the same material composition. A ball made of a sintered material is suitable.

なお、窒化珪素の粉末の粉砕は、粒度分布曲線の累積体積の総和を100%としたときの
累積体積が90%となる粒径(D90)が3μm以下となるまで粉砕することが、焼結性の向上および結晶組織の柱状化の点から好ましい。なお、粉砕によって得られる粒度分布は、ボール等の外径,ボール等の量,スラリーの粘度,粉砕時間等で調整することができる。
It should be noted that the silicon nitride powder is pulverized until the particle size (D 90 ) at which the cumulative volume is 90% when the sum of the cumulative volume of the particle size distribution curve is 100% is 3 μm or less. It is preferable from the viewpoint of improving the cohesiveness and making the crystal structure columnar. The particle size distribution obtained by pulverization can be adjusted by the outer diameter of the ball, the amount of the ball, the viscosity of the slurry, the pulverization time, and the like.

そして、短時間で粉砕するには、予め累積体積50%となる粒径(D50)が1μm以下の粉末を用いることが好ましい。 Then, the ground in a short time, the particle diameter (D 50) in advance at a cumulative 50% volume it is preferable to use the following powder 1 [mu] m.

次に、ASTM E 11−61に記載されている粒度番号が200のメッシュまたはこのメッ
シュより細かいメッシュの篩いにスラリーを通し、異物を除去した後に、このスラリーをスプレードライヤーを用いて噴霧乾燥し、顆粒にする。
Next, the slurry is passed through a mesh having a particle size number of 200 described in ASTM E 11-61 or a sieve having a finer mesh than this mesh to remove foreign matters, and then the slurry is spray-dried using a spray dryer. Granulate.

そして、得られた顆粒と可塑性樹脂とをニーダに投入し、加熱しながら混練して得られた坏土をペレタイザーに投入することによって、インジェクション成形用の原料となるペレットを得る。なお、ニーダに投入する熱可塑性樹脂としては、エチレン酢酸ビニル共重合体やポリスチレンやアクリル系樹脂などを、得られた顆粒100質量部に対して10質量%
以上35質量%以下で添加すればよい。また、ニーダの混練の条件として、加熱温度は140
℃以上180℃以下に設定すればよく、圧力等のその他の条件は、用いるセラミックスの原
料、熱可塑性樹脂や添加材の種類に応じて適宜設定すればよい。得られたペレット状の混練体を所定形状の成形型を備えた射出成形機を用いて、射出成形機に付属しているシリンダーの温度を約150℃に加熱して混練体を溶融させ、例えば、加圧力,加圧時間および射
出速度をそれぞれ50MPa以上200MPa以下,10秒以上180秒以下,50cm/秒以上1000cm/秒以下として成形することにより、所望の成形体を得ることができる。
Then, the obtained granules and the plastic resin are put into a kneader, and the clay obtained by kneading while heating is put into a pelletizer to obtain pellets as a raw material for injection molding. In addition, as a thermoplastic resin thrown into the kneader, ethylene vinyl acetate copolymer, polystyrene, acrylic resin, etc. are 10% by mass with respect to 100 parts by mass of the obtained granules.
It may be added at 35% by mass or less. As the kneader kneading conditions, the heating temperature is 140.
What is necessary is just to set to 180 degreeC or more, and what is necessary is just to set suitably other conditions, such as a pressure, according to the raw material of the ceramic to be used, the kind of thermoplastic resin, or an additive. The obtained pellet-shaped kneaded body is melted by heating the cylinder attached to the injection molding machine to about 150 ° C. using an injection molding machine equipped with a mold having a predetermined shape. The desired molded product can be obtained by molding the pressing force, pressurizing time, and injection speed at 50 MPa to 200 MPa, 10 seconds to 180 seconds, and 50 cm 3 / second to 1000 cm 3 / second, respectively.

ここで、窒化珪素質焼結体の研磨された表面における回折強度の比I(101)/I(210)を1よりも大きくするには、溶融させた混練体と接する表面が予め放電加工によって算術平均粗さRaが制御された成形型を用いることにより、成形型の表面近傍における、混練体を構成する結晶粒子の向きを変えることにより、窒化珪素質焼結体の内部における窒化珪素の結晶粒子の向きと研磨された表面の窒化珪素質焼結体とを異ならせるようにすることが好ましい。さらに好ましくは、その表面のクルトシスRkuの数値を3より大きくすればさらに混練体を構成する結晶粒子の向きを容易に変えられるので良い。   Here, in order to make the diffraction intensity ratio I (101) / I (210) on the polished surface of the silicon nitride-based sintered body greater than 1, the surface in contact with the melted kneaded body is previously subjected to electric discharge machining. By using a mold having a controlled arithmetic average roughness Ra, by changing the orientation of the crystal grains constituting the kneaded body in the vicinity of the surface of the mold, the silicon nitride crystals inside the silicon nitride-based sintered body It is preferable to make the direction of the particles different from the polished silicon nitride sintered body on the surface. More preferably, if the value of the kurtosis Rku on the surface is larger than 3, the orientation of crystal grains constituting the kneaded body can be easily changed.

また、表面における開気孔率が0.5%以下である窒化珪素質焼結体を得るには、予め累
積体積50%となる粒径(D50)が1μm以下の窒化珪素の粉末を用いればよい。
Moreover, in order to obtain a silicon nitride sintered body having an open porosity of 0.5% or less on the surface, a silicon nitride powder having a particle size (D 50 ) of 1 μm or less with a cumulative volume of 50% may be used in advance.

また、表面における開気孔の最大開口径が0.1mm以下である窒化珪素質焼結体を得る
には、例えば、上記加圧力を120MPa以上とすればよい。
In order to obtain a silicon nitride sintered body having a maximum opening diameter of open pores on the surface of 0.1 mm or less, for example, the pressure may be set to 120 MPa or more.

得られた成形体は、窒素雰囲気中または真空雰囲気中などで、例えば保持時間を15時間以上48時間以下で脱脂する。脱脂温度は、添加した有機バインダの種類によって異なるが、900℃以下がよく、特に500℃以上800℃以下とすることが好適である。また、窒化珪素
質焼結体の表面における含有量は、脱脂における保持時間によって制御することができ、炭素の含有量を0.3質量%以下とするには、保持時間を、例えば、24時間以上48時間以下
とすればよい。
The obtained molded body is degreased in a nitrogen atmosphere or a vacuum atmosphere, for example, with a holding time of 15 hours to 48 hours. The degreasing temperature varies depending on the kind of the added organic binder, but it is preferably 900 ° C. or lower, and particularly preferably 500 ° C. or higher and 800 ° C. or lower. Further, the content on the surface of the silicon nitride-based sintered body can be controlled by the retention time in degreasing. To make the carbon content 0.3 mass% or less, the retention time is, for example, 24 hours or more 48 It should be less than the time.

次に、一般的な窒化珪素質成形体の焼成に用いる黒鉛抵抗発熱体が設置された焼成炉内に成形体を配置し、焼成する。温度については、室温から300〜1000℃までは真空雰囲気
中にて昇温し、その後、窒素ガスを導入して、窒素分圧を10〜2000kPaに維持する。このとき成形体の開気孔率は40〜55%程度であるため、成形体中には窒素ガスが十分充填される。昇温を続けると、1000〜1400℃付近では上記含有成分が固相反応を経て、液相成分を形成し、約1400℃以上の温度域で、β−サイアロンを析出する。そして、微細な結晶組織を得るには、さらに昇温を続け、焼成温度を1700℃以上1800℃未満として、10〜15時間保持すればよい。
Next, the compact is placed in a firing furnace in which a graphite resistance heating element used for firing a general silicon nitride shaped compact is placed and fired. About temperature, it heats up in a vacuum atmosphere from room temperature to 300-1000 degreeC, Then, nitrogen gas is introduce | transduced and nitrogen partial pressure is maintained at 10-2000 kPa. At this time, since the open porosity of the compact is about 40 to 55%, the compact is sufficiently filled with nitrogen gas. When the temperature is continued to rise, the above-mentioned components undergo a solid phase reaction in the vicinity of 1000 to 1400 ° C. to form a liquid phase component, and β-sialon is precipitated in a temperature range of about 1400 ° C. or higher. In order to obtain a fine crystal structure, the temperature should be further increased and the firing temperature may be set to 1700 ° C. or higher and lower than 1800 ° C. and held for 10 to 15 hours.

また、成形体の配置方法として、成形体を窒化珪素または炭化珪素を主成分とする粉末中に埋設する方法を用いれば、電気炉において大気中で焼成することができる。このような方法を用いると、成形体をそれら粉末中に埋設したことにより大気中の酸素ガスは遮断され、実質的に焼成雰囲気は窒素雰囲気となる。   Further, if a method of embedding the compact in a powder mainly composed of silicon nitride or silicon carbide is used as a method for arranging the compact, it can be fired in the air in an electric furnace. When such a method is used, since the molded body is embedded in the powder, oxygen gas in the atmosphere is shut off, and the firing atmosphere is substantially a nitrogen atmosphere.

そして、得られた焼結体は、表面を必要に応じてラップ加工した後、バレル研磨することにより、本実施形態の装飾部品を得ることができる。   And the decorative part of this embodiment can be obtained by carrying out the barrel grinding | polishing, after lapping the surface of the obtained sintered compact as needed.

ここで、装飾面となる表面の算術平均粗さRaを0.06μm以上0.25μm以下として調整するには、錫製のラップ盤を用いて、例えば平均粒径が1.5μm以上3μm以下のダイヤ
モンド砥粒を用い、ラップ加工時間を2時間以上6時間以下とすればよい。また、算術平均粗さRaを0.03μm以下とするためには、平均粒径が1μm以下のダイヤモンド砥粒を用い、ラップ加工時間を4時間以上15時間以下とすればよい。
Here, in order to adjust the arithmetic average roughness Ra of the surface to be a decorative surface to 0.06 μm or more and 0.25 μm or less, diamond abrasive grains having an average particle diameter of 1.5 μm or more and 3 μm or less, for example, using a tin lapping machine And the lapping time may be 2 hours or more and 6 hours or less. In order to make the arithmetic average roughness Ra 0.03 μm or less, diamond abrasive grains having an average particle diameter of 1 μm or less may be used, and the lapping time may be 4 hours or more and 15 hours or less.

また、表面の算術平均粗さRaが0.06μm以上0.25μm以下であり、かつ表面の粗さ曲線から求められるクルトシス(Rku)を2.5以上4.5以下とするには、回転バレル研磨機を用いて加工すればよい。例えば、メディアとしては、5〜10mmの大きさの球状、三角柱状、菱形状、円柱状および斜円柱状などから選択し、砥粒としては、番手が#80〜#8000であるグリーンカーボランダム(GC)を回転バレル研磨機に投入し、湿式で10時間以上行なえばよい。また、算術平均粗さRaを0.03μm以下とするためには、砥粒の番手を#3000〜#8000とすればよい。また、表面の算術平均粗さRaを0.06μm以上0.25μm以
下とするためには、砥粒の番手を#120〜#2000とし、さらに表面の粗さ曲線から求めら
れるクルトシス(Rku)を2.5以上4.5以下とするためには、バレル時間を14時間以上30時間以下とすればよい。
In addition, when the arithmetic average roughness Ra of the surface is 0.06 μm or more and 0.25 μm or less and the kurtosis (Rku) obtained from the surface roughness curve is 2.5 or more and 4.5 or less, it is processed using a rotating barrel polishing machine. do it. For example, the medium is selected from spherical, triangular, rhomboid, cylindrical, and slanted cylinders having a size of 5 to 10 mm, and the abrasive grains are green carborundum (# 80 to # 8000). GC) may be put into a rotary barrel grinder and performed wet for 10 hours or more. In order to make the arithmetic average roughness Ra 0.03 μm or less, the count of the abrasive grains may be set to # 3000 to # 8000. In addition, in order to make the arithmetic average roughness Ra of the surface 0.06 μm or more and 0.25 μm or less, the number of abrasive grains is set to # 120 to # 2000, and the kurtosis (Rku) obtained from the surface roughness curve is 2.5 or more. In order to make it 4.5 or less, the barrel time may be 14 hours or more and 30 hours or less.

以上のようにして得られる本実施形態の装飾部品は、特に美しい色調として評価の高い極黒色を呈し、高級感があって、美的満足感を得ることができ、その結果、視覚を通じて精神的安らぎを得ることができるので、上述のように、時計用ケース,時計用バンド駒等の時計用装飾部品や携帯電話機,ノート型パーソナルコンピュータ,スマートフォン等の携帯端末機用装飾部品を始め、石鹸ケース,コーヒーカップセット,ナイフ,フォーク,ハブラシやカミソリの柄,耳かき,ハサミ,印材や名刺等の生活部品用装飾部品や、メーカー名や車種名等のエンブレムやコーナーポール等の車両用装飾部品や、ゴルフクラブやスパイクシューズを装飾するスポーツ用品用装飾部品や、ギター等を装飾する楽器用装飾部品や、イヤホンユニットの装飾や人工歯冠,めがね,ブローチ,ネックレス,イヤリング,リング,ブレスレット,アンクレット,ネクタイピン,タイタック,メダル,ボタン等の装身具用装飾部品や、ヘッドホンまたは補聴器用筐体などの音響機器用部品や、床,壁,天井を飾るタイルあるいはドアハンドル用のグリップ等の建材用装飾部品として好適に用いることができる。また、時計と携帯電話とが複合化され、両者の機能を兼ね備えた腕時計型携帯電話機用装飾部品としても好適に用いることができる。   The decorative part of the present embodiment obtained as described above exhibits extremely black color, which is highly evaluated as a particularly beautiful color tone, has a high-class feeling, and can obtain aesthetic satisfaction. As described above, the watch case, the watch decorative piece such as the watch band piece, the mobile phone, the notebook personal computer, the decorative part for the mobile terminal such as the smartphone, the soap case, Coffee cup set, knife, fork, toothbrush, razor handle, earpick, scissors, decorative parts for daily parts such as stamps and business cards, vehicle decorative parts such as emblems and corner poles of manufacturers and car models, golf Decorative parts for sports equipment to decorate clubs and spiked shoes, decorative parts for musical instruments to decorate guitars, etc. And artificial dental crowns, eyeglasses, brooches, necklaces, earrings, rings, bracelets, anklets, tie pins, tie tacks, medals, buttons and other accessories for audio equipment such as headphones or hearing aid casings, floors It can be suitably used as a decorative part for building materials such as tiles for decorating walls and ceilings or grips for door handles. In addition, a watch and a mobile phone are combined, and can be suitably used as a decorative part for a wristwatch type mobile phone having both functions.

以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。   Examples of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited to these examples.

まず、平均粒径が0.6μmであって、アスペクトの平均値が1.4である窒化珪素の粉末が85質量%と、残部が焼結助剤として、酸化カルシウム,酸化アルミニウムおよび酸化イットリウムの各粉末とを用意した。そして、窒化珪素質焼結体における酸化カルシウム,酸化アルミニウムおよび酸化イットリウムの各含有量が、酸化カルシウム,酸化アルミニウムおよび酸化イットリウムの合計100質量%に対して、それぞれ0.9質量%,31.5質量%、残部が希土類元素の酸化物からなるように秤量した混合粉末を溶媒である水と窒化珪素質からなるボールともに振動ミルに投入して、振動ミルを用いて72時間粉砕混合し、スラリーを作製した。なお、窒化珪素の粉末は、β化率が10%であって、いずれの試料も組成式Si6−ZAl8−Zにおける固溶量zが0.05である窒化珪素の粉末を用いた。 First, 85% by mass of silicon nitride powder having an average particle diameter of 0.6 μm and an average aspect ratio of 1.4, and the balance as powders of calcium oxide, aluminum oxide, and yttrium oxide as sintering aids. Prepared. And each content of calcium oxide, aluminum oxide and yttrium oxide in the silicon nitride sintered body is 0.9% by mass, 31.5% by mass, and the balance with respect to 100% by mass in total of calcium oxide, aluminum oxide and yttrium oxide, respectively. The mixed powder weighed so as to be composed of oxides of rare earth elements was placed in a vibration mill together with water as a solvent and a ball of silicon nitride, and pulverized and mixed for 72 hours using the vibration mill to prepare a slurry. Note that the silicon nitride powder has a β conversion ratio of 10%, and all samples are silicon nitride powders having a solid solution amount z of 0.05 in the composition formula Si 6-Z Al Z O Z N 8-Z . Using.

次に、これらのスラリーをスプレードライヤーを用いて噴霧乾燥し、顆粒を作製した。   Next, these slurries were spray-dried using a spray dryer to produce granules.

そして、得られた顆粒100質量%に対し、アクリル系樹脂、ポリスチレン、エチレン−
酢酸ビニル共重合体、ステアリン酸、及びフタル酸ブチル(DBP)を合計で25質量%加えてニーダに投入し、150℃に加熱しながら混練して得られた坏土をペレタイザーに投入
することによって、インジェクション成形用の原料となるペレットを得た。得られたペレット状の混練体を、図6に示す例の腕時計用バンドの中駒20を成形するための成形型を備えた射出成形機を用いて、射出成形機に付属しているシリンダーの温度を150℃に加熱し
て混練体を溶融させ、加圧力,加圧時間および射出速度をそれぞれ100MPa,100秒,50
0cm/秒として成形することにより、所定形状の成形体を得た。
And with respect to 100 mass% of obtained granules, acrylic resin, polystyrene, ethylene-
By adding 25% by mass of vinyl acetate copolymer, stearic acid, and butyl phthalate (DBP) to the kneader, and adding the clay obtained by kneading while heating to 150 ° C. to the pelletizer Then, a pellet was obtained as a raw material for injection molding. The obtained pellet-shaped kneaded body was molded using a cylinder attached to the injection molding machine using an injection molding machine equipped with a molding die for molding the middle piece 20 of the wristwatch band shown in FIG. The kneaded body is melted by heating the temperature to 150 ° C., and the pressure, pressurization time and injection speed are 100 MPa, 100 seconds, 50
A molded body having a predetermined shape was obtained by molding at 0 cm 3 / sec.

なお、成形型は、各試料毎に変更し、溶融した混練体と接する、成形型の表面の算術平均粗さRaは、表1に示す値に成るように加工した成形型を用いた。   The molding die was changed for each sample, and the molding die processed so that the arithmetic average roughness Ra of the surface of the molding die in contact with the melted kneaded body was a value shown in Table 1 was used.

次に、600℃の窒素雰囲気中で、保持時間を20時間としてポリビニルアルコール(PV
A)を脱脂した後、黒鉛抵抗発熱体が設置された焼成炉内に配置し、窒素分圧を110kP
aに維持した状態で、窒素分圧,焼成温度および保持時間をそれぞれ200kPa,1780℃
,10時間として焼成し、焼結体を得た。ここで、各焼結体の表面の算術平均粗さRaを
測定し、その値を表1に示した。なお、算術平均粗さRaはJIS B 0601−2001(ISO 4287−1997)に準拠して測定し、測定長さおよびカットオフ値をそれぞれ5mmおよ
び0.8mmとし、焼結体の表面に、触針先端半径が2μmの触針を当て、触針の走査速度
は0.5mm/秒に設定し、この測定で得られた5箇所の平均値を算術平均粗さRaの値と
した。
Next, in a nitrogen atmosphere at 600 ° C., the holding time is 20 hours, and polyvinyl alcohol (PV
After degreasing A), it is placed in a firing furnace in which a graphite resistance heating element is installed, and the nitrogen partial pressure is 110 kP.
While maintaining a, nitrogen partial pressure, firing temperature and holding time are 200 kPa and 1780 ° C, respectively.
, And fired for 10 hours to obtain a sintered body. Here, the arithmetic average roughness Ra of the surface of each sintered body was measured, and the value is shown in Table 1. The arithmetic average roughness Ra is measured in accordance with JIS B 0601-2001 (ISO 4287-1997). The measurement length and the cut-off value are 5 mm and 0.8 mm, respectively. A stylus having a tip radius of 2 μm was applied, the scanning speed of the stylus was set to 0.5 mm / sec, and the average value of the five locations obtained by this measurement was used as the value of arithmetic average roughness Ra.

そして、得られた焼結体の表面をバレル研磨して、図6に示す例の腕時計用バンドの中駒20である試料No.1〜4を得た。なお、いずれの試料も装飾面の算術平均粗さRaは、0.03μm以下であった。装飾面の算術平均粗さRaは、上述した方法と同じ方法で測定した。   Then, the surface of the obtained sintered body was barrel-polished, and the sample No. 1-4 were obtained. In all samples, the arithmetic average roughness Ra of the decorative surface was 0.03 μm or less. The arithmetic average roughness Ra of the decorative surface was measured by the same method as described above.

そして、各試料の内部および研磨された表面における、β−窒化珪素の(101)面およ
び(210)面のそれぞれの回折強度I(101),I(210)を、X線回折法を用いて測定し
、回折強度の比I(101)/I(210)を算出した。
Then, the diffraction intensities I (101) and I (210) of the (101) plane and the (210) plane of β-silicon nitride in each sample and on the polished surface are obtained by using an X-ray diffraction method. Measurement was performed to calculate the diffraction intensity ratio I (101) / I (210).

また、JIS JIS R 1607−2010(ISO 15732−2003(MOD))で規定される
圧子圧入法(IF法)に準拠して各試料の破壊靭性を測定した。
これらの値を表1に示す。
Further, the fracture toughness of each sample was measured in accordance with an indenter press-in method (IF method) defined by JIS JIS R 1607-2010 (ISO 15732-2003 (MOD)).
These values are shown in Table 1.

Figure 0005829563
Figure 0005829563

表1に示す結果から分かるように、試料No.2〜4は、内部における回折強度の比I(101)/I(210)は1よりも小さく、研磨された表面における回折強度の比I(101)
/I(210)は1よりも大きいことから、内部および上記表面における回折強度の比I(101)/I(210)が1よりも小さい試料No.1と比べ、上記表面における破壊靱性は低
くなり、加工効率が高くなるといえる。
As can be seen from the results shown in Table 1, Sample No. 2 to 4, the internal diffraction intensity ratio I (101) / I (210) is smaller than 1, and the diffraction intensity ratio I (101) on the polished surface.
/ I (210) is larger than 1, sample No. 1 having a diffraction intensity ratio I (101) / I (210) smaller than 1 in the inside and the surface. Compared to 1, the fracture toughness at the surface is low, and it can be said that the processing efficiency is high.

実施例1で示した方法と同じ方法で成形体を作製した。なお、いずれの試料も、溶融した混練体と接する表面の算術平均粗さRaが0.12μmである成形型を備えた射出成形機を用いた。   A molded body was produced by the same method as shown in Example 1. In each sample, an injection molding machine provided with a mold having an arithmetic average roughness Ra of 0.12 μm on the surface in contact with the melted kneaded body was used.

次に、600℃の窒素雰囲気中、表2に示す保持時間でポリビニルアルコール(PVA)
を脱脂した後、黒鉛抵抗発熱体が設置された焼成炉内に配置し、窒素分圧を110kPaに
維持した状態で、窒素分圧,焼成温度および保持時間をそれぞれ200kPa,1780℃,10
時間として焼成し、焼結体を得た。
Next, polyvinyl alcohol (PVA) with a retention time shown in Table 2 in a nitrogen atmosphere at 600 ° C.
After degreasing, the nitrogen partial pressure, the firing temperature and the holding time were respectively set to 200 kPa, 1780 ° C., 10 in a state where the graphite resistance heating element was installed and the nitrogen partial pressure was maintained at 110 kPa.
It baked as time and the sintered compact was obtained.

そして、得られた焼結体の表面をバレル研磨して、図6に示す例の腕時計用バンドの中駒20である試料No.5〜8を得た。なお、いずれの試料も表面の算術平均粗さRaは、0.03μm以下であり、実施例1で示した方法と同じ方法で測定した。   Then, the surface of the obtained sintered body was barrel-polished to obtain a sample No. which is the middle piece 20 of the wristwatch band in the example shown in FIG. 5-8 were obtained. Note that the arithmetic mean roughness Ra of the surface of each sample was 0.03 μm or less, and was measured by the same method as that shown in Example 1.

また、JIS Z 8722−2000に準拠して、分光測色計(コニカミノルタホールディングス(株)製CM−3700d)の光源をCIE標準光源D65,視野角を10°,測定範囲を3×5mmに設定して各試料の装飾面における明度指数およびクロマティクネス指数を測定した。そして、試料No.8を標準試料として、試料No.8に対する各試料の色差を上述した式(A)を用いて算出した。   Also, according to JIS Z 8722-2000, the light source of the spectrocolorimeter (CM-3700d manufactured by Konica Minolta Holdings, Inc.) is set to CIE standard light source D65, the viewing angle is set to 10 °, and the measurement range is set to 3 × 5 mm. Then, the brightness index and chromaticness index on the decorative surface of each sample were measured. And sample no. Sample No. 8 with 8 as the standard sample. The color difference of each sample with respect to 8 was calculated using the above-described formula (A).

結果を表2に示す。   The results are shown in Table 2.

Figure 0005829563
Figure 0005829563

表2に示す結果から分かるように、試料No.6,7は、表面における炭素の含有量が0.3質量%以下であることから、炭素が窒化珪素に拡散して固溶体を形成して焼結を促進
しているため、炭素の呈する黒色により、無彩色化の傾向が僅かに現れて色むらが抑制されていると思われ、色調感の差である色差(△E*ab)を小さくすることができているので、装飾部品間で発生する色調感の差をほとんど感じることがないといえる。
As can be seen from the results shown in Table 2, the sample No. Nos. 6 and 7 have a carbon content of 0.3% by mass or less on the surface, so that carbon diffuses into silicon nitride to form a solid solution and promotes sintering. It seems that the coloration tendency appears slightly and color unevenness is suppressed, and the color difference (ΔE * ab), which is the difference in color tone, can be reduced, so that the color tone generated between decorative parts It can be said that there is almost no difference in feeling.

実施例1で示した方法と同じ方法で成形体を作製し、実施例2で示した焼成条件で焼成して焼結体を得た。   A molded body was produced by the same method as shown in Example 1, and fired under the firing conditions shown in Example 2 to obtain a sintered body.

そして、得られた焼結体の表面をバレル研磨して、図6に示す例の腕時計用バンドの中駒20である試料No.9〜12を得た。なお、いずれの試料も装飾面の算術平均粗さRaは、0.03μm以下であり、実施例1で示した方法と同じ方法で測定した。   Then, the surface of the obtained sintered body was barrel-polished, and the sample No. 9-12 were obtained. In any sample, the arithmetic average roughness Ra of the decorative surface was 0.03 μm or less, and was measured by the same method as that shown in Example 1.

また、各試料の明度指数とクロマティクネス指数については、実施例2で示した方法と同じ方法を用いて測定した。   Further, the brightness index and chromaticness index of each sample were measured using the same method as that shown in Example 2.

Figure 0005829563
Figure 0005829563

表3に示す結果から分かるように、試料No.9〜11は、表面における開気孔率が0.5%以下であることから、気孔が形成する輪郭による色むらが減少して表面における色調が濃くなるため、明度指数L*の値が小さくなり、窒化珪素質焼結体が装飾部品として用いられる場合には、より質感が増すため、高い美的満足感を得られるといえる。   As can be seen from the results shown in Table 3, Sample No. In Nos. 9 to 11, since the open porosity on the surface is 0.5% or less, the color unevenness due to the outline formed by the pores is reduced and the color tone on the surface becomes dark, so the value of the lightness index L * becomes small. When the silicon nitride sintered body is used as a decorative part, it can be said that a higher aesthetic satisfaction can be obtained because the texture is further increased.

実施例1で示した方法と同じ方法で成型体を作製した。なお、成形については、いずれの試料も、溶融した混練体と接する表面の算術平均粗さRaが0.14μmである成形型を備えた射出成形機を用いて、加圧時間および加圧時間をそれぞれ100秒,500cm/秒とし、表4に示す加圧力で成形することにより、成形体を得た。 A molded body was produced by the same method as shown in Example 1. In addition, for molding, each sample was subjected to a pressing time and a pressing time using an injection molding machine provided with a molding die having an arithmetic average roughness Ra of 0.14 μm on the surface in contact with the melted kneaded body. A molded body was obtained by molding at a pressure of 100 seconds and 500 cm 3 / second and with a pressing force shown in Table 4.

次に、600℃の窒素雰囲気中、保持時間を20時間としてポリビニルアルコール(PVA
)を脱脂した後、黒鉛抵抗発熱体が設置された焼成炉内に配置し、窒素分圧を110kPa
に維持した状態で、窒素分圧,焼成温度および保持時間をそれぞれ200kPa,1780℃,10時間として焼成し、焼結体を得た。
Next, in a nitrogen atmosphere at 600 ° C., the holding time is 20 hours, and polyvinyl alcohol (PVA
) Is degreased and placed in a firing furnace in which a graphite resistance heating element is installed, and the nitrogen partial pressure is 110 kPa.
In this state, firing was performed at a partial pressure of nitrogen, a firing temperature and a holding time of 200 kPa, 1780 ° C. and 10 hours, respectively, to obtain a sintered body.

そして、得られた焼結体の表面をバレル研磨して、図6に示す例の腕時計用バンドの中駒20である試料No.13〜16を得た。なお、いずれの試料も装飾面の算術平均粗さRaは、0.03μm以下であり、実施例1で示した方法と同じ方法で測定した。   Then, the surface of the obtained sintered body was barrel-polished, and the sample No. 13-16 were obtained. In any sample, the arithmetic average roughness Ra of the decorative surface was 0.03 μm or less, and was measured by the same method as that shown in Example 1.

Figure 0005829563
Figure 0005829563

表4に示す結果から分かるように、試料No.13〜15は、表面における開気孔の最大開口径が0.1mm以下であることから、開気孔が形成する輪郭によって他の部分との違いに
よる色むらが減少するとともに、この窒化珪素質焼結体が腕時計用バンド駒として用いられると、色調感の差である色差(△E*ab)を小さくすることができるので、隣り合うバンド駒との色調の違いがほとんどなくなるため、部品交換をしても違和感を覚えるようなことがないといえる。
As can be seen from the results shown in Table 4, sample No. 13 to 15, since the maximum opening diameter of the open pores on the surface is 0.1 mm or less, the color unevenness due to the difference from other parts is reduced by the contour formed by the open pores, and this silicon nitride sintered body When used as a watch band piece, the color difference (ΔE * ab), which is the difference in color tone, can be reduced, so there is almost no difference in color tone between adjacent band pieces. It can be said that there is no such thing as feeling uncomfortable.

1:装飾部材
2:装飾部材
3:装飾部品
10A,10B:時計用ケース
11:凹部
12:足部
13:底部
14:胴部
15:穴部
17:時計用裏蓋
20:中駒
21:貫通孔
30:外駒
31:ピン穴
40:ピン
50:時計用バンド
1: decorative member 2: decorative member 3: decorative part
10A, 10B: Watch case
11: Recess
12: Foot
13: Bottom
14: Torso
15: Hole
17: Back cover for watch
20: Nakakoma
21: Through hole
30: Outer piece
31: Pin hole
40: Pin
50: Watch band

Claims (6)

β−窒化珪素を主成分としてなり、X線回折法を用いて得られる、前記β−窒化珪素の(101)面および(210)面のそれぞれの回折強度をI(101),I(210)としたとき、算術平均粗さRaが0.06μm以上0.25μm以下に研磨された表面にX線を照射した際に得られる前記回折強度の比I(101)/I(210)1よりも大きく、前記表面よりも深部にあたる内部における、前記表面に略平行な面にX線を照射した際に得られる前記回折強度の比I(101)/I(210)が1よりも小さいことを特徴とする窒化珪素質焼結体。 it as a main component β- silicon nitride, obtained using X-ray diffraction method, each of the diffraction intensity of the (101) plane and the (210) plane of the β- silicon nitride I (101), I (210) when the the ratio of the diffraction intensity that is obtained when the arithmetic average roughness Ra was irradiated with X-rays to the polished surface below 0.25μm or 0.06μm I (101) / I ( 210) 1 much larger than the, inside falls deeper than the surface, the ratio of the diffraction intensity obtained when X-rays were irradiated in a plane substantially parallel to said surface I (101) / I (210 ) is less than 1 A silicon nitride-based sintered body characterized by the above. 前記表面における炭素の含有量が0.3質量%以下(但し、0質量%を除く)であることを特徴とする請求項1に記載の窒化珪素質焼結体。   2. The silicon nitride based sintered body according to claim 1, wherein a content of carbon on the surface is 0.3 mass% or less (excluding 0 mass%). 前記表面における開気孔率が0.5%以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の窒化珪素質焼結体。   The silicon nitride based sintered body according to claim 1 or 2, wherein an open porosity on the surface is 0.5% or less. 前記表面における開気孔の最大開口径が0.1mm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の窒化珪素質焼結体。   The silicon nitride based sintered body according to any one of claims 1 to 3, wherein a maximum opening diameter of the open pores on the surface is 0.1 mm or less. 前記表面の粗さ曲線から求められるクルトシス(Rku)が2.5以上4.5以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれかに記載の窒化珪素質焼結体。 The silicon nitride based sintered body according to any one of claims 1 to 4 , wherein a kurtosis (Rku) determined from the roughness curve of the surface is 2.5 or more and 4.5 or less. 請求項1乃至請求項のいずれかに記載の窒化珪素質焼結体を用いたことを特徴とする装飾部品。 A decorative part using the silicon nitride sintered body according to any one of claims 1 to 5 .
JP2012074076A 2011-03-30 2012-03-28 Silicon nitride-based sintered body and decorative part using the same Active JP5829563B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012074076A JP5829563B2 (en) 2011-03-30 2012-03-28 Silicon nitride-based sintered body and decorative part using the same

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011075554 2011-03-30
JP2011075554 2011-03-30
JP2012074076A JP5829563B2 (en) 2011-03-30 2012-03-28 Silicon nitride-based sintered body and decorative part using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012214372A JP2012214372A (en) 2012-11-08
JP5829563B2 true JP5829563B2 (en) 2015-12-09

Family

ID=47267588

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012074076A Active JP5829563B2 (en) 2011-03-30 2012-03-28 Silicon nitride-based sintered body and decorative part using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5829563B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2947166A4 (en) * 2013-01-16 2016-11-09 Namiki Precision Jewel Co Ltd Decorative member
JP6204149B2 (en) * 2013-10-30 2017-09-27 京セラ株式会社 Sintered silicon nitride and decorative parts for watches
JP6328999B2 (en) * 2014-05-23 2018-05-23 京セラ株式会社 Button material for clothing
JP7760934B2 (en) * 2022-02-25 2025-10-28 株式会社プロテリアル Silicon nitride substrate and manufacturing method thereof

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2563392B2 (en) * 1986-11-21 1996-12-11 株式会社東芝 Silicon nitride ceramics and method for producing the same
JP3426823B2 (en) * 1995-12-15 2003-07-14 京セラ株式会社 Silicon nitride sintered body and method for producing the same
JP2944953B2 (en) * 1997-02-04 1999-09-06 工業技術院長 Forming method of silicon nitride ceramics
JP2003095748A (en) * 2001-09-20 2003-04-03 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Silicon nitride ceramics and sintering / molding method
JP2004051451A (en) * 2002-07-23 2004-02-19 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Anisotropic porous silicon nitride ceramics and sintering / molding method thereof
JP5292690B2 (en) * 2006-10-31 2013-09-18 新日鐵住金株式会社 Heat storage member and heat exchanger using the same
JP5116353B2 (en) * 2007-04-26 2013-01-09 京セラ株式会社 Protective member and protective equipment using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012214372A (en) 2012-11-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101138264B1 (en) White ceramic
JP5094875B2 (en) Ceramics for decorative parts and decorative parts using the same
JP5829563B2 (en) Silicon nitride-based sintered body and decorative part using the same
JP2012062574A (en) Ceramic sintered product and method for production thereof, and decorative member using ceramic sintered product
JP5091945B2 (en) Ceramics for decorative parts, decorative parts for watches, decorative parts for mobile devices and mobile devices
JPWO2010123104A1 (en) Ceramics for decorative parts and decorative parts using the same
EP3647297B1 (en) Colored ceramic
JP5342740B2 (en) Ceramics for decorative parts and decorative parts for watches using the same
CA2800328A1 (en) High strength diamond-sic compacts and method of making same
JP4596692B2 (en) Sintered alloy and manufacturing method thereof
US9816162B2 (en) Component, and watch, portable terminal, and personal ornament using the same
JP4960070B2 (en) Black ceramics, decorative parts for watches using the same, and methods for producing the black ceramics
EP3249066B1 (en) Cermet ornament member, and watch, portable terminal, and accessory obtained using same
JP6204149B2 (en) Sintered silicon nitride and decorative parts for watches
JP2011047033A (en) Ceramic for ornamental parts and ornamental parts using the same
CN107109549B (en) Decorative parts made of cermet
JP5342742B2 (en) Ceramics for decorative parts and decorative parts for watches using the same
JP7036840B2 (en) Decorative parts
CN114450380A (en) MAX phase-gold composite material and method for producing same
JPH08157990A (en) Silver-colored sintered body and manufacturing method thereof
JPH08157989A (en) Silver-colored sintered body for decorative parts

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140818

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150313

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150428

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150629

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150924

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151022

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5829563

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150