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JP5836777B2 - Wiring board - Google Patents
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Description

本発明は、電子機器(例えば各種オーディオビジュアル機器、家電機器、通信機器、コンピュータ機器およびその周辺機器)等に使用される配線基板に関するものである。   The present invention relates to a wiring board used for electronic devices (for example, various audiovisual devices, home appliances, communication devices, computer devices, and peripheral devices thereof).

従来、電子機器に使用される配線基板としては、例えば特許文献1に開示されたもののように、樹脂材料から成る絶縁層を有する配線基板が用いられている。   Conventionally, as a wiring board used in an electronic device, for example, a wiring board having an insulating layer made of a resin material as disclosed in Patent Document 1 is used.

しかし、従来の配線基板では、絶縁層に樹脂材料を使用しているために、配線基板とこの配線基板に実装される電子部品との熱膨張差が大きくなってしまう。   However, since the conventional wiring board uses a resin material for the insulating layer, the difference in thermal expansion between the wiring board and the electronic component mounted on the wiring board becomes large.

そして、その熱膨張差に起因して、配線基板と電子部品との接続部に応力が印加されやすく、その結果、配線基板の接続信頼性が低下していた。   Then, due to the difference in thermal expansion, stress is easily applied to the connection portion between the wiring board and the electronic component, and as a result, the connection reliability of the wiring board has been reduced.

特開平8−116174号公報JP-A-8-116174

本発明は、電気的信頼性を改善した配線基板およびそれを用いた実装構造体を提供することを目的とするものである。   An object of the present invention is to provide a wiring board with improved electrical reliability and a mounting structure using the wiring board.

本発明の一形態に係る配線基板は、絶縁層と、該絶縁層上に形成された導電層とを備え、前記絶縁層が、可視光の波長よりも粒径が小さく、かつ少なくとも一部が互いに接続している複数の第1無機絶縁粒子と、該第1無機絶縁粒子よりも粒径が大きく、互いの間に該第1無機絶縁粒子を介在させて該第1無機絶縁粒子と結合している複数の着色材粒子と、可視光の波長よりも粒径が大きく、かつ前記第1無機絶縁粒子を介して少なくとも一部が互いに接続されている複数の第2無機絶縁粒子と、複数の前記第1、第2無機絶縁粒子および複数の前記着色材粒子の周りに充填された樹脂材とを有するとともに、前記着色材
粒子は前記第2無機絶縁粒子よりも粒径が小さいことを特徴とするものである。
Wiring board according to an embodiment of the present invention includes an insulating layer, and a formed in the insulating layer over the conductive layer, the insulating layer is smaller particle size than the wavelength of visible light, or hanging even without least a plurality of first inorganic insulating particles partially connected to each other, larger particle size than the first inorganic insulating particles, the first inorganic insulating particles with intervening first inorganic insulating particles between each other A plurality of colorant particles bonded to each other , and a plurality of second inorganic insulating particles having a particle diameter larger than the wavelength of visible light and at least partially connected to each other via the first inorganic insulating particles A plurality of the first and second inorganic insulating particles and a resin material filled around the plurality of the colorant particles, and the colorant
The particles have a smaller particle size than the second inorganic insulating particles .

本発明の一形態に係る配線基板によれば、絶縁層が、可視光の波長よりも粒径が小さく、かつ少なくとも一部が互いに接続している複数の第1無機絶縁粒子と、該第1無機絶縁粒子よりも粒径が大きく、互いの間に該第1無機絶縁粒子を介在させて該第1無機絶縁粒子と結合している複数の着色材粒子と、可視光の波長よりも粒径が大きく、かつ第1無機絶縁粒子を介して少なくとも一部が互いに接続されている複数の第2無機絶縁粒子とを有し、絶縁層が熱膨張率の小さい第1無機絶縁粒子を主成分として形成されていることから、絶縁層の熱膨張率を低減することができる。その結果、配線基板と電子部品との接続部への熱応力の印加を低減でき、配線基板の電気的信頼性を向上させることができる。
According to the wiring board according to an embodiment of the present invention, the insulating layer is smaller particle size than the wavelength of visible light, and if Tsu even without least a plurality of partially connected to one another first inorganic insulating particles, A plurality of colorant particles having a particle size larger than that of the first inorganic insulating particles and interposing the first inorganic insulating particles between the first inorganic insulating particles and being bonded to the first inorganic insulating particles; A plurality of second inorganic insulating particles having a large particle size and at least a part of which are connected to each other via the first inorganic insulating particles, and the insulating layer has a first inorganic insulating particle having a low coefficient of thermal expansion. Since it is formed as a main component, the thermal expansion coefficient of the insulating layer can be reduced. As a result, application of thermal stress to the connection portion between the wiring board and the electronic component can be reduced, and the electrical reliability of the wiring board can be improved.

また、絶縁層が、可視光の波長よりも粒径が小さい第1無機絶縁粒子と、該第1無機絶縁粒子よりも粒径が大きく、互いの間に第1無機絶縁粒子を介在させて互いに離れている複数の着色材粒子と、着色材粒子よりも粒径が大きい第2無機絶縁粒とを有することによって、絶縁層を均一に着色し、この着色された絶縁層と絶縁層上に形成された導電層との識別性を向上させることができる。その結果、パターニングされた導電層の検査ミスを低減することが容易となるので、電気的信頼性を向上させることができる。
The insulating layer has a first inorganic insulating particle having a particle diameter smaller than the wavelength of visible light, and a particle diameter larger than the first inorganic insulating particle, and the first inorganic insulating particles are interposed between each other. By having a plurality of separated colorant particles and second inorganic insulating particles having a particle size larger than that of the colorant particles , the insulating layer is uniformly colored and formed on the colored insulating layer and the insulating layer. The distinguishability from the conductive layer formed can be improved. As a result, it becomes easy to reduce inspection errors of the patterned conductive layer, and thus electrical reliability can be improved.

本発明の一実施形態にかかる実装構造体を厚み方向に切断した断面図である。It is sectional drawing which cut | disconnected the mounting structure concerning one Embodiment of this invention in the thickness direction. 図2は、図1に示した実装構造体のR1部分を拡大して示した断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of the R1 portion of the mounting structure shown in FIG. 図3は、図2に示した実装構造体のR2部分を拡大して示した断面図である。3 is an enlarged cross-sectional view of the R2 portion of the mounting structure shown in FIG. 図4(a)および(b)は、それぞれ図1に示す実装構造体の製造工程を説明する厚み方向に切断した断面図であり、図4(c)は、図4(b)のR3部分を拡大して示した断面図である。4 (a) and 4 (b) are cross-sectional views cut in the thickness direction for explaining the manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 1, and FIG. 4 (c) is an R3 portion of FIG. 4 (b). It is sectional drawing which expanded and showed. 図5(a)〜(c)は、それぞれ図1に示す実装構造体の製造工程を説明する厚み方向に切断した断面図である。5A to 5C are cross-sectional views cut in the thickness direction for explaining the manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 図6(a)〜(c)は、それぞれ図1に示す実装構造体の製造工程を説明する厚み方向に切断した断面図である。6A to 6C are cross-sectional views cut in the thickness direction for explaining the manufacturing process of the mounting structure shown in FIG. 図7(a)および(b)は、それぞれ図1に示す実装構造体の製造工程を説明する厚み方向に切断した断面図である。7 (a) and 7 (b) are cross-sectional views cut in the thickness direction for explaining the manufacturing process of the mounting structure shown in FIG.

以下に、本発明の一実施形態に係る配線基板を含む実装構造体を、図面を参照しつつ詳細に説明する。   Hereinafter, a mounting structure including a wiring board according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1に示した本発明の一実施形態にかかる実装構造体1は、例えば各種オーディオビジュアル機器、家電機器、通信機器、コンピュータ装置またはその周辺機器等の電子機器に使用されるものである。この実装構造体1は、電子部品2と電子部品2が実装された配線基板3とを含んでいる。   A mounting structure 1 according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 1 is used for electronic devices such as various audiovisual devices, home appliances, communication devices, computer devices or peripheral devices thereof. The mounting structure 1 includes an electronic component 2 and a wiring board 3 on which the electronic component 2 is mounted.

電子部品2は、例えばICまたはLSI等の半導体素子であり、配線基板3に半田等の導電材料からなるバンプ4を介してフリップチップ実装されている。   The electronic component 2 is a semiconductor element such as an IC or LSI, and is flip-chip mounted on the wiring substrate 3 via bumps 4 made of a conductive material such as solder.

配線基板3は、電子部品2を支持するとともに、電子部品2を駆動もしくは制御するための電源や信号を電子部品2へ供給する機能を有する。この配線基板3は、コア基板5と、コア基板5の両主面に形成された一対のビルドアップ層6とを含んでいる。   The wiring board 3 supports the electronic component 2 and has a function of supplying power and signals for driving or controlling the electronic component 2 to the electronic component 2. The wiring substrate 3 includes a core substrate 5 and a pair of buildup layers 6 formed on both main surfaces of the core substrate 5.

コア基板5は、配線基板3の剛性を高めつつ一対のビルドアップ層6間の導通を図るものである。このコア基板5は、基体7と、基体7の両主面に形成された絶縁層8と、基体7および絶縁層8を貫通して形成される円筒状のスルーホール導体9と、スルーホール導体9の中空を埋める絶縁体10とを含んでいる。   The core substrate 5 is intended to enhance electrical connection between the pair of buildup layers 6 while increasing the rigidity of the wiring substrate 3. The core substrate 5 includes a base body 7, an insulating layer 8 formed on both main surfaces of the base body 7, a cylindrical through-hole conductor 9 formed through the base body 7 and the insulating layer 8, and a through-hole conductor. 9 and an insulator 10 that fills the hollow of 9.

基体7は、コア基板5の剛性を高めるものである。この基体7は、例えば、樹脂部11と樹脂部11に被覆された基材12とを含んでいる。この基体7の平面方向への熱膨張率は、例えば3ppm/℃以上20ppm/℃以下に設定されている。また、基体7の厚み方向への熱膨張率は、例えば30ppm/℃以上50ppm/℃以下に設定されている。ここで、熱膨張率は、例えば、市販のTMA(Thermo-Mechanical Analysis:熱機械分析)装置を用いてJISK7197−1991に準じた測定方法によって測定される。   The base 7 increases the rigidity of the core substrate 5. The base 7 includes, for example, a resin part 11 and a base material 12 covered with the resin part 11. The coefficient of thermal expansion in the planar direction of the substrate 7 is set to, for example, 3 ppm / ° C. or more and 20 ppm / ° C. or less. The coefficient of thermal expansion in the thickness direction of the substrate 7 is set to, for example, 30 ppm / ° C. or more and 50 ppm / ° C. or less. Here, the coefficient of thermal expansion is measured by a measuring method according to JISK7197-1991 using, for example, a commercially available TMA (Thermo-Mechanical Analysis) apparatus.

樹脂部11は、基体7の主要部をなすものである。この樹脂部11は、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、芳香族液晶ポリエステル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂またはポリエーテルケトン樹脂等の材料を使用することができる。樹脂部11の熱膨張率は、例えば20ppm/℃以下以上50ppm/℃以下に設定されている。   The resin part 11 is a main part of the base body 7. The resin portion 11 is made of, for example, epoxy resin, bismaleimide triazine resin, cyanate resin, polyparaphenylene benzbisoxazole resin, wholly aromatic polyamide resin, polyimide resin, aromatic liquid crystal polyester resin, polyether ether ketone resin or polyether ketone. A material such as a resin can be used. The thermal expansion coefficient of the resin part 11 is set to, for example, 20 ppm / ° C. or less and 50 ppm / ° C. or less.

基材12は、基体7の剛性を高めつつ、熱膨張を低減するものである。この基材12は、繊維により構成された織布もしくは不織布繊維を一方向に配列したものを使用することができる。繊維としては、例えばガラス繊維、樹脂繊維、炭素繊維または金属繊維等を使用することができる。   The base 12 reduces thermal expansion while increasing the rigidity of the base 7. This base material 12 can use what arranged the woven fabric or the nonwoven fabric fiber comprised by the fiber in one direction. As the fiber, for example, glass fiber, resin fiber, carbon fiber or metal fiber can be used.

絶縁層8は、コア基板5の剛性を高めつつ、熱膨張を低減させるとともに、コア基板5の両主面に形成されるビルドアップ層6に含まれる導電層13を支持するものである。この絶縁層8は、無機絶縁構造体14と、無機絶縁構造体14が有する間隙に充填された樹脂材15とを含んでいる。   The insulating layer 8 supports the conductive layer 13 included in the buildup layers 6 formed on both main surfaces of the core substrate 5 while reducing the thermal expansion while increasing the rigidity of the core substrate 5. The insulating layer 8 includes an inorganic insulating structure 14 and a resin material 15 filled in a gap of the inorganic insulating structure 14.

絶縁層8は、無機絶縁構造体14を65体積%以上含み、樹脂材12を35体積%以下含むことが望ましい。その結果、絶縁層8の平面方向および厚み方向の熱膨張率は、例えば0ppm/℃以上10ppm/℃以下に設定されている。なお、体積含有率は、無機絶縁層8の研摩面を電界放出型電子顕微鏡で撮影し、画像解析装置等を用いて、無機絶縁構造体14の面積比率(面積%)を10個の断面にて測定し、その測定値の平均値を算出して含有量(体積%)とみなすことによって求められる。   The insulating layer 8 preferably contains 65% by volume or more of the inorganic insulating structure 14 and 35% by volume or less of the resin material 12. As a result, the thermal expansion coefficient in the planar direction and the thickness direction of the insulating layer 8 is set to, for example, 0 ppm / ° C. or more and 10 ppm / ° C. or less. The volume content is determined by photographing the polished surface of the inorganic insulating layer 8 with a field emission electron microscope, and using an image analysis device or the like, the area ratio (area%) of the inorganic insulating structure 14 is set to 10 cross sections. It is calculated | required by calculating the average value of the measured value, and considering it as content (volume%).

無機絶縁構造体14は、絶縁層8の主要部をなすものであり、絶縁層8の剛性を向上させるとともに、熱膨張を低減させるものである。この無機絶縁構造体14は、第1無機絶縁粒子16と、第1無機絶縁粒子16よりも粒径が大きい着色材粒子17と、着色材粒子17よりも粒径が大きい第2無機絶縁粒子18とを含んでいる。この無機絶縁構造体14は、図2および図3に示すように、複数の第1無機絶縁粒子16が、複数の第2無機絶縁粒子18同士間および複数の着色材粒子17同士間、あるいは第2無機絶縁粒子18と着色材粒子17との間に介在している。また、無機絶縁構造体14内の第1無機絶縁粒子16同士、および第1無機絶縁粒子16と第2無機絶縁粒子18とが、互いの少なくとも一部でネック構造を介して接続している。また、無機絶縁構造体14は、複数の第1、第2無機絶縁粒子16、18とネック構造とに囲まれた間隙を有する。   The inorganic insulating structure 14 is a main part of the insulating layer 8 and improves the rigidity of the insulating layer 8 and reduces thermal expansion. The inorganic insulating structure 14 includes a first inorganic insulating particle 16, a colorant particle 17 having a larger particle diameter than the first inorganic insulating particle 16, and a second inorganic insulating particle 18 having a larger particle diameter than the colorant particle 17. Including. As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the inorganic insulating structure 14 includes a plurality of first inorganic insulating particles 16 arranged between a plurality of second inorganic insulating particles 18 and a plurality of coloring material particles 17, or 2 Intervene between the inorganic insulating particles 18 and the colorant particles 17. In addition, the first inorganic insulating particles 16 in the inorganic insulating structure 14 and the first inorganic insulating particles 16 and the second inorganic insulating particles 18 are connected to each other through a neck structure at least in part. The inorganic insulating structure 14 has a gap surrounded by the plurality of first and second inorganic insulating particles 16 and 18 and the neck structure.

無機絶縁構造体14は、第1無機絶縁粒子16を6体積%以上35体積%以下含み、第2無機絶縁粒子18を60体積%以上93体積%以下含み、着色材粒子17を1体積%以上5体積%以下含むことが望ましい。   The inorganic insulating structure 14 includes 6% to 35% by volume of the first inorganic insulating particles 16, includes 60% to 93% by volume of the second inorganic insulating particles 18, and includes 1% by volume or more of the colorant particles 17. It is desirable to contain 5 volume% or less.

その結果、熱膨張率の小さい第1無機絶縁粒子16および第2無機絶縁粒子18を主成分としているので、無機絶縁構造体14の熱膨張率は低減される。また、複数の着色材粒子17が互いに離れて配置されていることから、無機絶縁構造体14中で着色材粒子17が凝集するのを効果的に抑制することができるので、無機絶縁構造体14を均一に着色し、絶縁層8と絶縁層8上に形成された導電層13との識別性を向上させることができる。   As a result, since the first inorganic insulating particles 16 and the second inorganic insulating particles 18 having a small coefficient of thermal expansion are the main components, the coefficient of thermal expansion of the inorganic insulating structure 14 is reduced. In addition, since the plurality of coloring material particles 17 are arranged apart from each other, the aggregation of the coloring material particles 17 in the inorganic insulating structure 14 can be effectively suppressed, so that the inorganic insulating structure 14 Can be uniformly colored to improve the discrimination between the insulating layer 8 and the conductive layer 13 formed on the insulating layer 8.

第1無機絶縁粒子16は、無機絶縁構造体14の主要部を成すものである。この第1無機絶縁粒子16は、良好に無機絶縁構造体14の絶縁を図るために、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムから成る。また、第1無機絶縁粒子16は、非晶質体を用いることが望ましい。その結果、第1無機絶縁粒子16の結晶構造に起因した無機絶縁構造体14におけるクラックの発生を低減することができる。また、第1無機絶縁粒子16は、球状であることが望ましい。球状であると、第1無機絶縁粒子16を充填しやすくなるため、無機絶縁構造体14の内部構造を緻密にできる。   The first inorganic insulating particles 16 constitute the main part of the inorganic insulating structure 14. The first inorganic insulating particles 16 are made of, for example, silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, or calcium oxide in order to satisfactorily insulate the inorganic insulating structure 14. The first inorganic insulating particles 16 are preferably made of an amorphous material. As a result, the generation of cracks in the inorganic insulating structure 14 due to the crystal structure of the first inorganic insulating particles 16 can be reduced. The first inorganic insulating particles 16 are preferably spherical. Since it becomes easy to fill the 1st inorganic insulating particle 16 when it is spherical, the internal structure of the inorganic insulating structure 14 can be made dense.

また、第1無機絶縁粒子16の粒径は、可視光の波長よりも小さい。その結果、第1無機絶縁粒子16の粒径が非常に微小であることから、比表面積が大きく表面エネルギーが大きくなり、表面の原子が活発に運動するため、第1無機絶縁粒子16は、他の第1無機絶縁粒子16あるいは第2無機絶縁粒子18と強固に結合する。なお、可視光の波長とは
、JISZ8120−2001に準じ、その波長範囲が360nm以上830nm以下のものをいう。したがって、第1無機絶縁粒子16の粒径は、可視光の波長範囲の下限値である360nmよりも小さいことが好ましい。
The particle diameter of the first inorganic insulating particles 16 is smaller than the wavelength of visible light. As a result, since the particle diameter of the first inorganic insulating particles 16 is very small, the specific surface area is large, the surface energy is increased, and the surface atoms actively move. The first inorganic insulating particles 16 or the second inorganic insulating particles 18 are firmly bonded. In addition, the wavelength of visible light means a thing whose wavelength range is 360 nm or more and 830 nm or less according to JISZ8120-2001. Therefore, the particle diameter of the first inorganic insulating particles 16 is preferably smaller than 360 nm which is the lower limit value of the visible light wavelength range.

特に、このような第1無機絶縁粒子16としては、粒径が3nm以上110nm以下であることが望ましい。粒径がこの範囲にあると、第1無機絶縁粒子16を結晶開始温度以下といった低温で、非晶質体である第1無機絶縁粒子16の結晶構造を維持しつつ、第1無機絶縁粒子16同士を強固に結合させることができる。   In particular, the first inorganic insulating particles 16 preferably have a particle size of 3 nm to 110 nm. When the particle size is in this range, the first inorganic insulating particles 16 are maintained at a low temperature, such as the crystal start temperature or lower, while maintaining the crystal structure of the first inorganic insulating particles 16 that are amorphous. They can be firmly bonded to each other.

なお、第1無機絶縁粒子16の粒径は、絶縁層8の研摩面または破断面を電界放出型電子顕微鏡で観察し、20粒子数以上50粒子数以下の粒子を含むように拡大した断面を撮影し、各粒子のこの拡大した断面に現れた最大径を測定して平均値を算出することによって求められる。以下、着色材粒子17および第2無機絶縁粒子18の粒径も、第1無機絶縁粒子16の粒径と同様に測定して求められる。   The particle diameter of the first inorganic insulating particles 16 is obtained by observing the polished surface or fractured surface of the insulating layer 8 with a field emission electron microscope and expanding the cross section so as to include particles of 20 particles or more and 50 particles or less. This is obtained by photographing and measuring the maximum diameter appearing in this enlarged cross section of each particle to calculate an average value. Hereinafter, the particle diameters of the colorant particles 17 and the second inorganic insulating particles 18 are also determined by measurement in the same manner as the particle diameters of the first inorganic insulating particles 16.

着色材粒子17は、可視光の波長を選択的に吸収することによって無機絶縁構造体14、ひいては絶縁層8を着色するためのものである。この着色材粒子17は、例えばベンガラ、ウルトラマリン、ジンクイエロー、ジンクグリーン、孔雀石、マンガンバイオレット、メチルバイオレット、グラファイト、酸化鉄黒等の無機材料から成る。また、着色材粒子17は、その粒径が、例えば0.4μm以上0.9μm以下に設定されている。   The colorant particles 17 are for coloring the inorganic insulating structure 14 and thus the insulating layer 8 by selectively absorbing the wavelength of visible light. The colorant particles 17 are made of an inorganic material such as bengara, ultramarine, zinc yellow, zinc green, peacock stone, manganese violet, methyl violet, graphite, iron oxide black, and the like. Further, the colorant particles 17 have a particle size set to 0.4 μm or more and 0.9 μm or less, for example.

第2無機絶縁粒子18は、第1無機絶縁粒子16とともに無機絶縁構造体14の主要部を成すものである。この第2無機絶縁粒子18は、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムまたは酸化カルシウムから成る。また、第1無機絶縁粒子16は、第1無機絶縁粒子16の結晶構造に起因した無機絶縁構造体14におけるクラックの発生を低減するために、非晶質体を用いることが望ましい。また、第2無機絶縁粒子18は、球状であることが望ましい。球状であると、第2無機絶縁粒子18の表面が滑らかになり、この表面における応力が分散されるので、第2無機絶縁粒子18の表面を起点としたクラックの発生を低減することができる。   The second inorganic insulating particles 18 form the main part of the inorganic insulating structure 14 together with the first inorganic insulating particles 16. The second inorganic insulating particles 18 are made of, for example, silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, or calcium oxide. The first inorganic insulating particles 16 are preferably made of an amorphous material in order to reduce the generation of cracks in the inorganic insulating structure 14 due to the crystal structure of the first inorganic insulating particles 16. The second inorganic insulating particles 18 are preferably spherical. When it is spherical, the surface of the second inorganic insulating particle 18 becomes smooth, and stress on the surface is dispersed, so that the generation of cracks starting from the surface of the second inorganic insulating particle 18 can be reduced.

また、第2無機絶縁粒子18は、第1無機絶縁粒子16よりも粒径が大きい。これにより、第1無機絶縁粒子16同士の結合が破壊されて生じた無機絶縁構造体14内のクラックの伸長において、このクラックが粒径の大きい第2無機絶縁粒子18を迂回して伸長する分、その伸長に大きなエネルギーが必要となる。それゆえ、第1無機絶縁粒子16よりも粒径の大きい第2無機絶縁粒子18によって、良好に無機絶縁構造体14におけるクラックの伸長を抑制することができる。なお、第2無機絶縁粒子18の粒径は、可視光の波長の最小値(360nm)よりも大きく設定されており、例えば0.5μm以上5μm以下に設定されている。また、第2無機絶縁粒子18の粒径は、可視光の波長の最大値(830nm)よりも大きく設定されていることが望ましい。   Further, the second inorganic insulating particles 18 have a larger particle size than the first inorganic insulating particles 16. As a result, in the extension of the crack in the inorganic insulating structure 14 generated by breaking the bond between the first inorganic insulating particles 16, the crack extends around the second inorganic insulating particle 18 having a large particle diameter. A large amount of energy is required for the extension. Therefore, the extension of cracks in the inorganic insulating structure 14 can be satisfactorily suppressed by the second inorganic insulating particles 18 having a particle diameter larger than that of the first inorganic insulating particles 16. The particle diameter of the second inorganic insulating particles 18 is set to be larger than the minimum value (360 nm) of the wavelength of visible light, and is set to 0.5 μm or more and 5 μm or less, for example. The particle diameter of the second inorganic insulating particles 18 is desirably set to be larger than the maximum value of visible light wavelength (830 nm).

また、第2無機絶縁粒子18は、第1無機絶縁粒子16と同じ材料で形成することが好ましい。この場合には、粒子同士の結合が強固になり、無機絶縁構造体14に生じるクラックを良好に低減することができる。なお、第2無機絶縁粒子18は、第1無機絶縁粒子16と異なる材料で形成しても構わない。   The second inorganic insulating particles 18 are preferably formed of the same material as the first inorganic insulating particles 16. In this case, the bonds between the particles are strengthened, and cracks generated in the inorganic insulating structure 14 can be favorably reduced. Note that the second inorganic insulating particles 18 may be formed of a material different from that of the first inorganic insulating particles 16.

樹脂材15は、絶縁層8が含む第1無機絶縁粒子16、着色材粒子17および第2無機絶縁粒子18の周囲に充填されるものであり、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、シアネート樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂またはビスマレイドトリアジン樹脂等の樹脂材料を用いることができる。また、樹脂材15の屈折率は、第2無機絶縁粒子18と異なるものが用いられる。このような樹脂材15
の屈折率は、例えば、第2無機絶縁粒子18の屈折率の0.9倍よりも小さく、または第2無機絶縁粒子18の屈折率の例えば1.1倍よりも大きく設定される。
The resin material 15 is filled around the first inorganic insulating particles 16, the colorant particles 17 and the second inorganic insulating particles 18 included in the insulating layer 8. For example, an epoxy resin, a polyimide resin, an acrylic resin, and a cyanate resin are used. Resin materials such as fluororesin, silicon resin, polyphenylene ether resin, and bismaleide triazine resin can be used. In addition, the refractive index of the resin material 15 is different from that of the second inorganic insulating particles 18. Such resin material 15
For example, the refractive index is set to be smaller than 0.9 times the refractive index of the second inorganic insulating particles 18 or larger than 1.1 times the refractive index of the second inorganic insulating particles 18.

また、無機絶縁構造体14の間隙中に充填される樹脂材15は、上記の樹脂材料の中でもエポキシ樹脂を用いることが望ましい。エポキシ樹脂は、分子構造が接着に好適な構造であるため、着色材粒子17と樹脂材15との接着が強固となり、絶縁層8にクラックが入りにくくなり、基板の薄型化にも対応することができる。   The resin material 15 filled in the gaps of the inorganic insulating structure 14 is preferably an epoxy resin among the above resin materials. Since the epoxy resin has a molecular structure suitable for adhesion, the adhesion between the colorant particles 17 and the resin material 15 becomes stronger, the insulating layer 8 is less likely to crack, and the substrate can be made thinner. Can do.

また、着色材粒子17の表面をシランカップリング剤で適切に処理しておけば、着色材粒子17の表面に配された水酸基が樹脂材15のエポキシ基と強固に結合する。エポキシ基は大気中の水分と反応し、両端に水酸基(OH基)を形成し、次に、エポキシ基に形成された水酸基と着色材粒子17の表面に配された水酸基とが脱水縮合することで、樹脂材15のエポキシ基は着色材粒子17の表面に配された水酸基と結合し、樹脂材15との接着も強固になり、配線基板3の強度をより向上できる点で好ましい。   Further, if the surface of the colorant particle 17 is appropriately treated with a silane coupling agent, the hydroxyl group disposed on the surface of the colorant particle 17 is firmly bonded to the epoxy group of the resin material 15. Epoxy groups react with moisture in the atmosphere to form hydroxyl groups (OH groups) at both ends, and then the hydroxyl groups formed on the epoxy groups and the hydroxyl groups disposed on the surface of the colorant particles 17 undergo dehydration condensation. Thus, the epoxy group of the resin material 15 is preferably bonded to the hydroxyl group disposed on the surface of the colorant particle 17, and the adhesion to the resin material 15 becomes strong, which is preferable in that the strength of the wiring board 3 can be further improved.

一方、コア基板5の上下面には、上述した如く、一対のビルドアップ層6が形成されている。ビルドアップ層6は、絶縁層8、導電層13およびビア導体19を含んでいる。   On the other hand, as described above, a pair of buildup layers 6 are formed on the upper and lower surfaces of the core substrate 5. The buildup layer 6 includes an insulating layer 8, a conductive layer 13, and a via conductor 19.

絶縁層8は、後述する導電層13を支持する支持部材として機能し、導電層13同士の短絡を抑制する絶縁部材として機能するものであり、上述したものと同様である。そして、上述した樹脂材15と同様の材料から成る接着層20を介して積層される。   The insulating layer 8 functions as a supporting member that supports the conductive layer 13 described later, functions as an insulating member that suppresses short circuit between the conductive layers 13, and is the same as described above. And it laminates | stacks through the contact bonding layer 20 which consists of the material similar to the resin material 15 mentioned above.

導電層13は、絶縁層8上に形成され、絶縁層8を介して厚み方向に互いに離して配置されている。導電層13としては、例えば銅、銀、金、アルミニウムまたはニッケルクロム等の金属材料によって形成されたものを使用することができる。   The conductive layers 13 are formed on the insulating layer 8 and are arranged apart from each other in the thickness direction via the insulating layer 8. As the conductive layer 13, for example, a layer formed of a metal material such as copper, silver, gold, aluminum, or nickel chrome can be used.

ビア導体19は、厚み方向に互いに離して配置した導電層13同士を相互に接続するものであり、コア基板5に向って径が小さくなる柱状に形成されている。ビア導体19としては、例えば銅、銀、金、アルミニウムまたはニッケルクロム等の導電材料によって形成されたものを使用することができる。   The via conductor 19 connects the conductive layers 13 arranged apart from each other in the thickness direction, and is formed in a columnar shape whose diameter decreases toward the core substrate 5. As the via conductor 19, for example, a conductor formed of a conductive material such as copper, silver, gold, aluminum, or nickel chrome can be used.

導電層13およびビア導体19は、互いに電気的に接続されており、接地用配線、電力供給用配線および/または信号用配線を含む配線部を構成している。   The conductive layer 13 and the via conductor 19 are electrically connected to each other, and constitute a wiring portion including a ground wiring, a power supply wiring, and / or a signal wiring.

ところで、第1無機絶縁粒子16の粒径が可視光の波長よりも小さいことから、可視光は、第1無機絶縁粒子16によって反射されにくいため、無機絶縁構造体14内を透過しやすい。そして、可視光が、可視光の波長よりも大きい球体である第2無機絶縁粒子18に到達すると、入射してきた方向と同じ方向に光が反射(再帰性反射)しやすい。これは、具体的には、以下のようにして起こる。   By the way, since the particle diameter of the first inorganic insulating particles 16 is smaller than the wavelength of visible light, the visible light is not easily reflected by the first inorganic insulating particles 16, and thus easily passes through the inorganic insulating structure 14. When the visible light reaches the second inorganic insulating particles 18 that are spheres larger than the wavelength of visible light, the light is likely to be reflected (recursive reflection) in the same direction as the incident direction. Specifically, this occurs as follows.

まず、可視光が、可視光の波長よりも大きい第2無機絶縁粒子18の外表面に達すると、可視光は、一般的に透光性の高い酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムまたは酸化カルシウム等の材料から成る第2無機絶縁粒子18の中に入る。そして、第2無機絶縁粒子18の中に入った可視光は、第2無機絶縁粒子18の内表面において、第2無機絶縁粒子18と樹脂材15との屈折率の違いによって反射し、第2無機絶縁粒子18の外へ出る。この際、反射された可視光は、第2無機絶縁粒子18の中に入る際の屈折と、第2無機絶縁粒子18の内表面における反射と、第2無機絶縁粒子18の外に出る際の屈折とによって、第2無機絶縁粒子18に対して入射してきた方向と同じ方向に光が反射(再帰性反射)することとなる。   First, when visible light reaches the outer surface of the second inorganic insulating particle 18 that is larger than the wavelength of visible light, the visible light generally has high translucent silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, calcium oxide, or the like. It enters the second inorganic insulating particles 18 made of the following material. The visible light that has entered the second inorganic insulating particles 18 is reflected on the inner surface of the second inorganic insulating particles 18 due to the difference in refractive index between the second inorganic insulating particles 18 and the resin material 15, and the second It goes out of the inorganic insulating particles 18. At this time, the reflected visible light is refracted when entering the second inorganic insulating particles 18, reflected on the inner surface of the second inorganic insulating particles 18, and when going out of the second inorganic insulating particles 18. Due to the refraction, light is reflected (recursively reflected) in the same direction as the direction of incidence on the second inorganic insulating particles 18.

ここで、例えば、光を照射して反射光のコントラストによって、絶縁層8上に形成された導電層13の配線パターンを検査する際に、絶縁層8が再帰性反射しやすいと、照射した光を金属光沢を有する導電層13と同様に反射する部材として絶縁層8が認識されてしまい、導電層13と絶縁層8との識別性が低下しやすい。   Here, for example, when inspecting the wiring pattern of the conductive layer 13 formed on the insulating layer 8 by irradiating light and using the contrast of the reflected light, if the insulating layer 8 is easily retroreflected, the irradiated light The insulating layer 8 is recognized as a member that reflects in the same manner as the conductive layer 13 having a metallic luster, and the distinguishability between the conductive layer 13 and the insulating layer 8 tends to decrease.

一方、本実施形態の配線基板3においては、無機絶縁構造体14が着色材粒子17を含んでいることから、着色材粒子17が可視光を吸収するため、無機絶縁構造体14内を透過あるいは無機絶縁構造体14から反射する可視光の量を低減することができる。したがって、絶縁層8において、上述した再帰性反射による可視光の反射を低減することができるため、導電層13と絶縁層8との識別性を高めることができる。   On the other hand, in the wiring substrate 3 of the present embodiment, since the inorganic insulating structure 14 includes the colorant particles 17, the colorant particles 17 absorb visible light, and thus pass through the inorganic insulating structure 14. The amount of visible light reflected from the inorganic insulating structure 14 can be reduced. Therefore, since the reflection of visible light due to the above-described retroreflection can be reduced in the insulating layer 8, the distinguishability between the conductive layer 13 and the insulating layer 8 can be improved.

また、導電層13のパターン等の検査に関して、配線基板3に光を照射してその反射光を分析する検査手法を使用する場合には、照射する光の明度、彩度、色相を任意に選択して、選択した光を照射する。そして、反射光について最もコントラスト差が認められるパラメータを基に、導電層13による配線パターンを認識し、配線パターンの適否を検討することになる。この場合、例えば、明度を基に配線パターンの検査を行なう際には、その明度差が絶縁層8と導電層13とで例えば10%以上であれば、両者を確実に識別することができる。ここで、明度は、例えば分光光度計(日立U−4100)によって測定される。   In addition, regarding the inspection of the pattern of the conductive layer 13 and the like, when using an inspection method for irradiating the wiring board 3 with light and analyzing the reflected light, the lightness, saturation, and hue of the irradiated light can be arbitrarily selected. Then, the selected light is irradiated. Then, based on the parameter where the contrast difference is most recognized with respect to the reflected light, the wiring pattern formed by the conductive layer 13 is recognized and the suitability of the wiring pattern is examined. In this case, for example, when the wiring pattern is inspected based on the brightness, if the brightness difference between the insulating layer 8 and the conductive layer 13 is, for example, 10% or more, the two can be reliably identified. Here, the brightness is measured by, for example, a spectrophotometer (Hitachi U-4100).

着色材粒子17は、明度、彩度または色相のいずれかにおいて、絶縁層8と導電層13とのコントラストを強調するために機能するものであり、例えばベンガラは褐色、ウルトラマリンは青色、ジンクイエローは黄色、ジンクグリーンおよび孔雀石は緑、マンガンバイオレットおよびメチルバイオレットは紫色、グラファイトは灰色、酸化鉄黒は黒色に絶縁層8を着色する。このうち灰色および黒色は、多くの波長の可視光が吸収された結果の色調なので、絶縁層8が反射する光の量を効率よく低減させるには、グラファイトまたは酸化鉄黒を着色材粒子17に用いることが好ましい。   The colorant particles 17 function to enhance the contrast between the insulating layer 8 and the conductive layer 13 in any one of brightness, saturation, and hue. For example, Bengala is brown, Ultramarine is blue, and zinc yellow The insulating layer 8 is colored yellow, zinc green and peacock stone are green, manganese violet and methyl violet are purple, graphite is gray, and iron oxide black is black. Of these, gray and black are tone colors resulting from absorption of visible light having many wavelengths. Therefore, in order to efficiently reduce the amount of light reflected by the insulating layer 8, graphite or iron oxide black is used for the colorant particles 17. It is preferable to use it.

なお、上述したように、着色材粒子17は、無機絶縁構造体14中に1体積%以上5体積%以下含まれることが望ましい。着色材粒子17が1体積%以上含まれることで良好に絶縁層8が着色され、5体積%以下含まれていることにより、配線基板3の電気的特性等を良好に保持することができる。   As described above, the colorant particles 17 are preferably contained in the inorganic insulating structure 14 in an amount of 1% by volume to 5% by volume. By including 1% by volume or more of the colorant particles 17, the insulating layer 8 is favorably colored, and when 5% by volume or less is included, the electrical characteristics of the wiring board 3 can be satisfactorily maintained.

また、無機絶縁構造体14は、上述したように、複数の第1無機絶縁粒子16が、複数の複数の着色材粒子17同士間に介在して形成されている。すなわち、複数の第1無機絶縁粒子16が着色材粒子17間に介在することによって、複数の着色材粒子17同士は凝集が抑制されて互いに離れて、絶縁層8中に一様に分布している。この結果、絶縁層8は、略均一に入射光あるいは反射光を吸収することができ、一様に絶縁層8を着色することができるため、導電層13による配線パターンとの識別性を向上させることができる。   In addition, as described above, the inorganic insulating structure 14 includes the plurality of first inorganic insulating particles 16 interposed between the plurality of colorant particles 17. That is, by interposing the plurality of first inorganic insulating particles 16 between the colorant particles 17, the plurality of colorant particles 17 are separated from each other and are uniformly distributed in the insulating layer 8. Yes. As a result, the insulating layer 8 can absorb incident light or reflected light substantially uniformly and can uniformly color the insulating layer 8, thereby improving the distinguishability from the wiring pattern by the conductive layer 13. be able to.

また、着色材粒子17を、無機材料とすれば、絶縁層8を低熱膨張にできる点で好ましい。その中でも、着色材粒子17を酸化物とすれば、着色材粒子17の酸素原子と第1無機絶縁粒子16の酸素原子が大気中の水原子を介して水素結合することになり、配線基板3の弾性率を高くし、強度を高くすることができるという点で好ましい。   Further, if the colorant particles 17 are made of an inorganic material, it is preferable in that the insulating layer 8 can have low thermal expansion. Among them, if the colorant particle 17 is an oxide, the oxygen atom of the colorant particle 17 and the oxygen atom of the first inorganic insulating particle 16 are hydrogen-bonded through water atoms in the atmosphere, and the wiring board 3 It is preferable in that the elastic modulus can be increased and the strength can be increased.

そして、無機絶縁構造体14は、第1無機絶縁粒子16が第1無機絶縁粒子16同士および第2無機絶縁粒粒子18と、少なくとも一部でネック構造を介して結合して形成されており、無機絶縁構造体14に含まれた第1無機絶縁粒子16、第2無機絶縁粒子18および着色材粒子17は、球状で存在していることが好ましい。着色材粒子17も球状であることによって、様々な方向から入射してくる光が入射角によらずに着色材粒子17に均一に当たるようになり、あるいは着色材粒子17によって反射される光は、入射光の角度
の差異によって様々な方向に拡散し、絶縁層8内に光をいきわたらせることができるので、着色された絶縁層8における色斑等の発生を良好に低減することができる。
The inorganic insulating structure 14 is formed by bonding the first inorganic insulating particles 16 to the first inorganic insulating particles 16 and the second inorganic insulating particle particles 18 at least partially via a neck structure, The first inorganic insulating particles 16, the second inorganic insulating particles 18 and the colorant particles 17 included in the inorganic insulating structure 14 are preferably present in a spherical shape. Since the colorant particles 17 are also spherical, the light incident from various directions uniformly strikes the colorant particles 17 regardless of the incident angle, or the light reflected by the colorant particles 17 is Since the light can be diffused in various directions depending on the difference in the angle of incident light, and light can be scattered in the insulating layer 8, the occurrence of color spots and the like in the colored insulating layer 8 can be reduced satisfactorily.

さらに、着色材粒子17は、第1無機絶縁粒子16よりも大きく、第2無機絶縁粒子18よりも小さいことが好ましい。着色材粒子17が第1無機絶縁粒子16よりも大きいことで、着色材粒子17の周囲に配された複数の第1無機絶縁粒子16を透過した光、あるいは第1無機絶縁粒子16によって反射または散乱した光が着色材粒子17にとらえられやすくなる。また、第2無機絶縁粒子18は、上述したように再帰性反射を引き起こす主な要因となるが、着色材粒子17が第2無機絶縁粒子18よりも小さいことで、着色材粒子17をより良好に分散して第2無機絶縁粒子18の周囲に配置することが可能になる。これにより、着色材粒子17が第2無機絶縁粒子18の入射光や反射光を効果的にとらえ、第2無機絶縁粒子18からの反射光を低減することができる。   Furthermore, the colorant particles 17 are preferably larger than the first inorganic insulating particles 16 and smaller than the second inorganic insulating particles 18. Since the colorant particles 17 are larger than the first inorganic insulating particles 16, the light transmitted through the plurality of first inorganic insulating particles 16 arranged around the colorant particles 17, or reflected by the first inorganic insulating particles 16 The scattered light is easily captured by the colorant particles 17. In addition, the second inorganic insulating particles 18 are the main factors that cause retroreflection as described above, but the coloring material particles 17 are better than the second inorganic insulating particles 18 because the coloring material particles 17 are smaller than the second inorganic insulating particles 18. And dispersed around the second inorganic insulating particles 18. Thereby, the coloring material particle | grains 17 can catch the incident light and reflected light of the 2nd inorganic insulating particle 18 effectively, and the reflected light from the 2nd inorganic insulating particle 18 can be reduced.

かくして、上述した実装構造体1は、配線基板3から供給される電源や信号に応じて電子部品2を駆動もしくは制御することにより、所望の機能を発揮する。   Thus, the mounting structure 1 described above exhibits a desired function by driving or controlling the electronic component 2 in accordance with the power supply or signal supplied from the wiring board 3.

次に、上述した実装構造体1の製造方法を、図2から図5を参照しつつ説明する。   Next, a method for manufacturing the mounting structure 1 described above will be described with reference to FIGS.

(1)まず、図4(a)に示すように、第1無機絶縁粒子16、第2無機絶縁粒子18、溶剤および着色材粒子17を含む無機絶縁ゾル21と、銅箔22とを準備し、銅箔22の一主面に無機絶縁ゾル21を塗布する。   (1) First, as shown in FIG. 4A, an inorganic insulating sol 21 containing first inorganic insulating particles 16, second inorganic insulating particles 18, a solvent and colorant particles 17, and a copper foil 22 are prepared. The inorganic insulating sol 21 is applied to one main surface of the copper foil 22.

溶剤は、例えばメタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、またはジメチルアセトアミド等の有機溶剤を含むものを使用することができる。なかでも、メタノール、イソプロパノールおよび/またはプロピレングリコールモノメチルエーテルを含むものを使用することが望ましい。その結果、無機絶縁ゾル11xを均一に塗布することができ、かつ、後の工程にて、溶剤を効率良く蒸発させることができる。   Examples of the solvent include organic solvents such as methanol, isopropanol, n-butanol, ethylene glycol, ethylene glycol monopropyl ether, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, xylene, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, or dimethylacetamide. Can be used. Among them, it is desirable to use one containing methanol, isopropanol and / or propylene glycol monomethyl ether. As a result, the inorganic insulating sol 11x can be uniformly applied, and the solvent can be efficiently evaporated in a later step.

無機絶縁ゾル21は、例えば、以下のようにして形成することができる。   The inorganic insulating sol 21 can be formed as follows, for example.

まず、溶剤と第1無機絶縁粒子16とを混合した溶液を準備した後、該溶液に着色材粒子17を混合して攪拌する。このように予め溶液中に第1無機絶縁粒子16を分散させることによって、着色材粒子17を溶液に混合して攪拌する際に、比表面積が大きく表面が活性化している第1無機絶縁粒子16が、その表面を安定化させようとして着色材粒子17の周囲に凝集することになり、攪拌して分散した着色材粒子9同士が凝集することを良好に低減することができる。したがって、複数の着色材粒子17間に、良好に第1無機絶縁粒子16を配することができる。なお、溶液の攪拌は、例えば、ボールミルで約6時間行なうことで、良好に着色材粒子17の周囲に第1無機絶縁粒子16が配される。また、第1無機絶縁粒子16は、溶剤と混合する前に、シランカップリング剤によって表面に水酸基を配置させることが好ましい。その結果、溶剤との親和性が増し、溶液中に良好に分散させることができる。   First, after preparing the solution which mixed the solvent and the 1st inorganic insulating particle 16, the coloring material particle 17 is mixed and stirred in this solution. Thus, by dispersing the first inorganic insulating particles 16 in the solution in advance, when the colorant particles 17 are mixed and stirred in the solution, the first inorganic insulating particles 16 having a large specific surface area and a activated surface. However, it will agglomerate around the colorant particles 17 in an attempt to stabilize the surface, and the agglomeration of the colorant particles 9 dispersed by stirring can be satisfactorily reduced. Therefore, the first inorganic insulating particles 16 can be favorably arranged between the plurality of colorant particles 17. The solution is stirred, for example, by a ball mill for about 6 hours, so that the first inorganic insulating particles 16 are well arranged around the colorant particles 17. Moreover, it is preferable to arrange a hydroxyl group on the surface of the first inorganic insulating particles 16 with a silane coupling agent before mixing with the solvent. As a result, the affinity with the solvent is increased and it can be dispersed well in the solution.

次に、溶液にさらに第2無機絶縁粒子18を混合して攪拌する。その結果、第1無機絶縁粒子16および着色材粒子17を混合した後、第2無機絶縁粒子18を混合することによって、着色材粒子17を、その粒径よりも大きい第2無機絶縁粒子18の周囲に良好に配することができる。なお、第2無機絶縁粒子18の攪拌は、例えばボールミルで12時間行なうことによって、良好に攪拌することができる。   Next, the second inorganic insulating particles 18 are further mixed and stirred in the solution. As a result, after mixing the first inorganic insulating particles 16 and the colorant particles 17, the colorant particles 17 are mixed with the second inorganic insulating particles 18 larger than the particle diameter by mixing the second inorganic insulating particles 18. It can be arranged well around. The second inorganic insulating particles 18 can be satisfactorily stirred by performing, for example, a ball mill for 12 hours.

以上の工程によって、無機絶縁ゾル21を形成することができる。   Through the above steps, the inorganic insulating sol 21 can be formed.

また、無機絶縁ゾル21は、以下のようにして形成しても構わない。   The inorganic insulating sol 21 may be formed as follows.

まず、上述した方法と同様にして、溶剤と第1無機絶縁粒子16とを混合して溶液を作製し、この溶液に着色材粒子17を混合して攪拌する。次に、この攪拌した溶液を噴霧乾燥することによって、溶剤を蒸発させるとともに、第1無機絶縁粒子16と着色材粒子17とから成る粉体を作製する。次に、この粉体と溶剤と第2無機絶縁粒子18とを混合して攪拌することによって、無機絶縁ゾル21を形成する。   First, in the same manner as described above, the solvent and the first inorganic insulating particles 16 are mixed to prepare a solution, and the colorant particles 17 are mixed and stirred in this solution. Next, the stirred solution is spray-dried to evaporate the solvent and produce a powder composed of the first inorganic insulating particles 16 and the colorant particles 17. Next, the inorganic insulating sol 21 is formed by mixing and stirring the powder, the solvent, and the second inorganic insulating particles 18.

この方法では、第1無機絶縁粒子16と着色材粒子17とから成る粉体を作製している。この粉体においては、第1無機絶縁粒子16が着色材粒子17を取り囲んでおり、第1無機絶縁粒子16と着色材粒子17とが強く結合している。その結果、粉体と溶剤と第2無機絶縁粒子とを混合して攪拌する際に、第1無機絶縁粒子16と着色材粒子17との結合を良好に維持することができ、着色材粒子17と第2無機絶縁粒子との間に第1無機絶縁粒子を良好に配することができる。   In this method, a powder composed of the first inorganic insulating particles 16 and the colorant particles 17 is produced. In this powder, the first inorganic insulating particles 16 surround the colorant particles 17, and the first inorganic insulating particles 16 and the colorant particles 17 are strongly bonded. As a result, when the powder, the solvent, and the second inorganic insulating particles are mixed and stirred, the bond between the first inorganic insulating particles 16 and the coloring material particles 17 can be maintained well, and the coloring material particles 17 can be maintained. The first inorganic insulating particles can be favorably disposed between the first inorganic insulating particles and the second inorganic insulating particles.

なお、噴霧乾燥においては、例えばスプレードライ法を用いて行なうことができる。具体的には、溶液を粒状に噴霧するとともに例えば100℃で加熱し、溶剤を蒸発させることによって、粉体を形成することができる。また、粉体と溶剤と第2無機絶縁粒子18とを混合して攪拌する際には、新たに第1無機絶縁粒子16を加えて攪拌することが好ましい。その結果、新たに表面が活性化している第1無機絶縁粒子16を混合することによって、良好に第1無機絶縁粒子16と第2無機絶縁粒子18とを結合することができる。   The spray drying can be performed using, for example, a spray drying method. Specifically, the powder can be formed by spraying the solution in a granular form and heating at, for example, 100 ° C. to evaporate the solvent. Moreover, when mixing and stirring powder, a solvent, and the 2nd inorganic insulating particle 18, it is preferable to add the 1st inorganic insulating particle 16 newly and to stir. As a result, the first inorganic insulating particles 16 and the second inorganic insulating particles 18 can be satisfactorily bonded by mixing the first inorganic insulating particles 16 whose surface is newly activated.

一方、無機絶縁ゾル21の銅箔22への塗布は、例えばディスペンサー、バーコーター、ダイコーターまたはスクリーン印刷を用いて行なうことができる。   On the other hand, the inorganic insulating sol 21 can be applied to the copper foil 22 by using, for example, a dispenser, a bar coater, a die coater, or screen printing.

(2)図4(b)および(c)に示すように、溶剤を蒸発させた後、無機絶縁ゾル21を加熱し、第1無機絶縁粒子16同士を結合させるともに、第1無機絶縁粒子16と第2無機絶縁粒子18とを結合させることにより、無機絶縁ゾル21を無機絶縁構造体14にして、銅箔22と無機絶縁構造体14とを有する積層シート23を形成する。   (2) As shown in FIGS. 4B and 4C, after the solvent is evaporated, the inorganic insulating sol 21 is heated to bond the first inorganic insulating particles 16 to each other, and the first inorganic insulating particles 16. And the second inorganic insulating particles 18 are combined to form the inorganic insulating sol 21 as the inorganic insulating structure 14 to form a laminated sheet 23 having the copper foil 22 and the inorganic insulating structure 14.

無機絶縁ゾル21の加熱は、例えば、150℃〜230℃で2時間加熱することによって、無機絶縁ゾル21を完全に乾燥させて、無機絶縁粒子同士がネック構造を介して接続した無機絶縁構造体14が形成される。ここで、無機絶縁ゾル21は粒径が微小に設定された第1無機絶縁粒子16を含むため、無機絶縁ゾル21の加熱温度が第1無機絶縁粒子16の結晶化開始温度未満と低温であっても、無機絶縁粒子同士を強固に結合させることができる。   The inorganic insulating sol 21 is heated, for example, at 150 ° C. to 230 ° C. for 2 hours to completely dry the inorganic insulating sol 21 and the inorganic insulating particles are connected to each other through a neck structure. 14 is formed. Here, since the inorganic insulating sol 21 includes the first inorganic insulating particles 16 having a small particle size, the heating temperature of the inorganic insulating sol 21 is a low temperature that is lower than the crystallization start temperature of the first inorganic insulating particles 16. However, the inorganic insulating particles can be firmly bonded to each other.

(3)図5(a)に示すように、基体前駆体24を準備する。基体前駆体24は、例えば、未硬化樹脂と基材12とを含む複数の樹脂シートを積層することによって作製することができる。なお、未硬化は、ISO472:1999に準ずるA−ステージB−ステージの状態である。   (3) As shown in FIG. 5A, a substrate precursor 24 is prepared. The substrate precursor 24 can be produced, for example, by laminating a plurality of resin sheets including an uncured resin and the substrate 12. In addition, uncured is a state of A-stage B-stage according to ISO472: 1999.

(4)図5(b)に示すように、基体前駆体24の上下面それぞれに無機絶縁構造体14を含む積層シート23を積層して積層体25とし、この積層体25を上下方向に加熱加圧することによって、基体前駆体24の未硬化樹脂を、無機絶縁構造体14の網目状構造の間隙中に充填しつつ熱硬化する。これにより、無機絶縁構造体14に樹脂材15が充填された絶縁層8を基体7の両主面に形成することができる。   (4) As shown in FIG. 5B, a laminated sheet 23 including the inorganic insulating structure 14 is laminated on the upper and lower surfaces of the substrate precursor 24 to form a laminated body 25, and the laminated body 25 is heated in the vertical direction. By applying pressure, the uncured resin of the substrate precursor 24 is thermally cured while filling the gaps in the network structure of the inorganic insulating structure 14. Thereby, the insulating layer 8 in which the inorganic insulating structure 14 is filled with the resin material 15 can be formed on both main surfaces of the base body 7.

積層体25の加熱加圧は、温度が基体前駆体24の硬化開始温度以上熱分解温度未満に設定されていることが望ましい。具体的には、積層体25の加熱加圧は、温度が例えば170℃以上230℃以下に設定され、圧力が例えば2MPa以上3MPa以下に設定され、時間が例えば0.5時間以上2時間以下に設定されている。なお、硬化開始温度は、樹脂が、ISO472:1999に準ずるC−ステージの状態となる温度である。また、熱分解温度は、ISO11358:1997に準ずる熱質量測定において、樹脂の質量が5%減少する温度である。   The temperature and pressure of the laminated body 25 are preferably set so that the temperature is higher than the curing start temperature of the substrate precursor 24 and lower than the thermal decomposition temperature. Specifically, the heat and pressure of the laminate 25 are set such that the temperature is set to 170 ° C. or higher and 230 ° C. or lower, the pressure is set to 2 MPa or higher and 3 MPa or lower, and the time is set to 0.5 hours or longer and 2 hours or shorter, for example. Is set. The curing start temperature is a temperature at which the resin becomes a C-stage according to ISO 472: 1999. The thermal decomposition temperature is a temperature at which the mass of the resin is reduced by 5% in the thermal mass measurement according to ISO11358: 1997.

(5)図5(c)に示すように、基体7を上下方向に貫通するスルーホール導体9を形成し、基体7上に導電層13を形成する。具体的には、以下のように行なう。   (5) As shown in FIG. 5 (c), a through-hole conductor 9 that penetrates the base 7 in the vertical direction is formed, and a conductive layer 13 is formed on the base 7. Specifically, this is performed as follows.

まず、例えばドリル加工やレーザー加工等により、基体7を厚み方向に貫通するスルーホールTを複数形成する。次に、例えば無電解めっき法、蒸着法、CVD法あるいはスパッタリング法等により、スルーホールTの内壁に導電材料を被着させて、円筒状のスルーホール導体9を形成する。次に、円筒状のスルーホール導体9の内部に、樹脂材料等を充填し、絶縁体10を形成する。次に、例えば無電解めっき法、蒸着法、CVD法あるいはスパッタリング法等により、導電材料を絶縁体10の露出部に被着させる。次に、フォトリソグラフィー技術、エッチング等を用いて銅箔22をパターニングすることにより、配線パターン形状の導電層13を形成する。   First, a plurality of through holes T penetrating the base body 7 in the thickness direction are formed by, for example, drilling or laser processing. Next, a cylindrical through-hole conductor 9 is formed by depositing a conductive material on the inner wall of the through-hole T by, for example, electroless plating, vapor deposition, CVD, sputtering, or the like. Next, the inside of the cylindrical through-hole conductor 9 is filled with a resin material or the like to form the insulator 10. Next, a conductive material is deposited on the exposed portion of the insulator 10 by, for example, an electroless plating method, a vapor deposition method, a CVD method, or a sputtering method. Next, the conductive layer 13 having a wiring pattern shape is formed by patterning the copper foil 22 using a photolithography technique, etching, or the like.

(6)導電層13における配線パターンの検査を行なう。配線パターンの検査は、例えば、光学式自動外観検査(Automated Optical Inspection)装置によって行なうことができる。具体的には、配線基板3に可視光を照射し、その反射光をCCD等の受光素子でとらえ、配線部(主に銅からなる)とその他の部分(主に樹脂からなる)とを画像処理して、色調の差を識別して配線形状を割り出し、これを設計データと比較して適否を判定する。   (6) The wiring pattern in the conductive layer 13 is inspected. The inspection of the wiring pattern can be performed by, for example, an optical automatic optical inspection device. Specifically, the wiring substrate 3 is irradiated with visible light, the reflected light is captured by a light receiving element such as a CCD, and the wiring portion (mainly made of copper) and the other portion (mainly made of resin) are imaged. Processing is performed to identify a difference in color tone to determine a wiring shape, and this is compared with design data to determine suitability.

ここで、上述した如く、絶縁層6が着色材粒子17を含むため、第1無機絶縁粒子16および第2無機絶縁粒子18による可視光の反射を低減することができる。その結果、絶縁層6と導電層13による配線パターンとの識別性を向上させることによって、配線パターンの検査を良好に行なうことができる。   Here, as described above, since the insulating layer 6 includes the colorant particles 17, the reflection of visible light by the first inorganic insulating particles 16 and the second inorganic insulating particles 18 can be reduced. As a result, the wiring pattern can be inspected satisfactorily by improving the discrimination between the insulating layer 6 and the wiring pattern by the conductive layer 13.

以上のようにして、コア基板5を作製することができる。   The core substrate 5 can be manufactured as described above.

(7)図6(a)に示すように、(1)および(2)の工程と同様に、銅箔22と無機絶縁構造体14とを有する積層シート23を形成し、未硬化の樹脂材料から成る接着層前駆体26を、無機絶縁構造体14を介して積層シート23上に貼り合わせる。   (7) As shown in FIG. 6A, similarly to the steps (1) and (2), the laminated sheet 23 having the copper foil 22 and the inorganic insulating structure 14 is formed, and an uncured resin material is formed. The adhesive layer precursor 26 made of is bonded onto the laminated sheet 23 via the inorganic insulating structure 14.

接着層前駆体26は、例えば真空ラミネーター、ロールラミネーターあるいは真空プレスによって、無機絶縁構造体14と接するように貼り合わせる。この貼り合わせの工程では、貼り合わせ時に加圧するともに、樹脂が熱硬化しない温度範囲(樹脂のガラス転移点温度以上、重合開始温度未満)で接着層前駆体26を加熱することにより、接着層前駆体26の樹脂を流動化させ、この流動化した樹脂を無機絶縁構造体14の網目状構造の間隙中に充填させる。なお、接着層前駆体26のうち、無機絶縁構造体14の間隙に充填された未硬化樹脂は、後の工程で硬化されることによって、絶縁層8の樹脂材15と成る。   The adhesive layer precursor 26 is bonded so as to be in contact with the inorganic insulating structure 14 by, for example, a vacuum laminator, a roll laminator, or a vacuum press. In the bonding step, the adhesive layer precursor 26 is heated by heating the adhesive layer precursor 26 in a temperature range (above the glass transition temperature of the resin and less than the polymerization start temperature) that is pressurized during the bonding and the resin is not thermally cured. The resin of the body 26 is fluidized, and the fluidized resin is filled into the gaps of the network structure of the inorganic insulating structure 14. In the adhesive layer precursor 26, the uncured resin filled in the gaps of the inorganic insulating structure 14 is cured in a later step to become the resin material 15 of the insulating layer 8.

(8)図6(b)に示すように、コア基板5の上下面それぞれに接着層前駆体26を介して積層シート23を積層し、該積層体を上下方向に加熱加圧することにより、接着層前駆体26を硬化させて接着層20にする。なお、この積層体の加熱加圧は、例えば(4)
の工程と同様に行なうことができる。
(8) As shown in FIG. 6B, a laminated sheet 23 is laminated on each of the upper and lower surfaces of the core substrate 5 via an adhesive layer precursor 26, and the laminated body is heated and pressed in the vertical direction to bond. The layer precursor 26 is cured to form the adhesive layer 20. In addition, the heating and pressing of this laminated body is, for example, (4)
It can carry out similarly to the process of this.

(9)図6(c)に示すように、例えば硫酸および過酸化水素水の混合液、塩化第二鉄溶液塩化第二銅溶液等を用いたエッチング法により、絶縁層8から銅箔22を剥離する。   (9) As shown in FIG. 6C, the copper foil 22 is removed from the insulating layer 8 by an etching method using, for example, a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide, a ferric chloride solution, a cupric chloride solution, or the like. Peel off.

(10)図7(a)に示すように、第2樹脂層22および絶縁層8を上下方向に貫通するビア導体19を形成し、絶縁層8上に導電層13を形成する。具体的には、以下のように行なう。   (10) As shown in FIG. 7A, the via conductor 19 that penetrates the second resin layer 22 and the insulating layer 8 in the vertical direction is formed, and the conductive layer 13 is formed on the insulating layer 8. Specifically, this is performed as follows.

まず、例えばYAGレーザー装置あるいは炭酸ガスレーザー装置により、第2樹脂層22および絶縁層8にビア孔Vを形成し、ビア孔V内に導電層13の少なくとも一部を露出させる。次に、例えばセミアディティブ法、サブトラクティブ法あるいはフルアディティブ法等により、ビア孔Vにビア導体19を形成するとともに絶縁層8上に導電層13を形成する。   First, via holes V are formed in the second resin layer 22 and the insulating layer 8 by, for example, a YAG laser device or a carbon dioxide laser device, and at least a part of the conductive layer 13 is exposed in the via holes V. Next, the via conductor 19 is formed in the via hole V and the conductive layer 13 is formed on the insulating layer 8 by, for example, a semi-additive method, a subtractive method, or a full additive method.

なお、導電層13を形成した後は、(5)と同様に配線パターンの検査を行なう。   Note that after the conductive layer 13 is formed, the wiring pattern is inspected as in (5).

(11)図7(b)に示すように、(7)〜(10)の工程を繰り返すことにより、コア基板5の上下面にビルドアップ層6を形成する。そして、本工程を繰り返すことにより、ビルドアップ層6を多層化することができる。   (11) As shown in FIG. 7B, the build-up layers 6 are formed on the upper and lower surfaces of the core substrate 5 by repeating the steps (7) to (10). And the buildup layer 6 can be multilayered by repeating this process.

以上のようにして、配線基板3を作製することができる。   The wiring board 3 can be produced as described above.

(12)バンプ4を介して配線基板3に電子部品2をフリップチップ実装することにより、図1に示した実装構造体1を作製することができる。   (12) The mounting structure 1 shown in FIG. 1 can be manufactured by flip-chip mounting the electronic component 2 on the wiring board 3 via the bumps 4.

なお、本発明は、以上の実施の形態の例によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の変更を加えた実施の態様は、いずれも本発明の範囲内に含まれる。   It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and any embodiments to which changes are made without departing from the gist of the present invention are included in the scope of the present invention.

例えば、上述した本発明の実施形態においては、着色材粒子として無機材料から成るものを用いたが、着色材粒子として有機材料から成るものを用いても構わない。この場合には、無機材料と比較して、有機材料が有するπ電子によって分子が活発に運動するため、絶縁層をより効果的に着色することができる。   For example, in the above-described embodiment of the present invention, the colorant particles made of an inorganic material are used, but the colorant particles made of an organic material may be used. In this case, as compared with the inorganic material, the molecules are actively moved by the π electrons of the organic material, so that the insulating layer can be colored more effectively.

この着色材粒子に用いる有機材料は、金属を配位結合してなる錯体を含むことが望ましい。その結果、紫外線が照射された場合に、着色材粒子の錯体が紫外線を吸収するため、紫外線に起因した着色材粒子の有機材料の重合を良好に低減することができる。したがって、有機材料の重合に起因した着色材粒子の変色を低減することができるため、絶縁層の色むらを低減できる。このような有機材料としては、銅フタロシアニンブルーおよび銅フタロシアニングリーンを用いることができる。なお、着色材粒子として有機材料から成るものを用いる場合には、上述した(2)の工程で、着色材粒子を構成する有機材料の分解温度以下で、無機絶縁ゾルを加熱する必要がある。   The organic material used for the colorant particles preferably includes a complex formed by coordinate bonding of a metal. As a result, when the ultraviolet rays are irradiated, the complex of the colorant particles absorbs the ultraviolet rays, so that the polymerization of the organic material of the colorant particles caused by the ultraviolet rays can be reduced satisfactorily. Therefore, discoloration of the colorant particles due to polymerization of the organic material can be reduced, so that uneven color of the insulating layer can be reduced. As such an organic material, copper phthalocyanine blue and copper phthalocyanine green can be used. In addition, when using what consists of organic materials as a coloring material particle, it is necessary to heat inorganic insulation sol below the decomposition temperature of the organic material which comprises a coloring material particle by the process of (2) mentioned above.

1 実装構造体
2 電子部品
3 配線基板
4 バンプ
5 コア基板
6 ビルドアップ層
7 基体
8 絶縁層
9 スルーホール導体
10 絶縁体
11 樹脂部
12 基材
13 導電層
14 無機絶縁構造体
15 樹脂材
16 第1無機絶縁粒子
17 着色材粒子
18 第2無機絶縁粒子
19 ビア導体
20 接着層
21 無機絶縁ゾル
22 銅箔
23 積層シート
24 基体前駆体
25 積層体
26 接着層前駆体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mounting structure 2 Electronic component 3 Wiring board 4 Bump 5 Core board 6 Build-up layer 7 Base body 8 Insulating layer 9 Through-hole conductor 10 Insulator 11 Resin part 12 Base material 13 Conductive layer 14 Inorganic insulating structure 15 Resin material 16 1st DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inorganic insulating particle 17 Colorant particle 18 2nd inorganic insulating particle 19 Via conductor 20 Adhesive layer 21 Inorganic insulating sol 22 Copper foil 23 Laminated sheet 24 Base | substrate precursor 25 Laminated body 26 Adhesive layer precursor

Claims (4)

絶縁層と、該絶縁層上に形成された導電層とを備え、
前記絶縁層が、可視光の波長よりも粒径が小さく、かつ少なくとも一部が互いに接続している複数の第1無機絶縁粒子と、該第1無機絶縁粒子よりも粒径が大きく、互いの間に該第1無機絶縁粒子を介在させて該第1無機絶縁粒子と結合している複数の着色材粒子と、可視光の波長よりも粒径が大きく、かつ前記第1無機絶縁粒子を介して少なくとも一部が互いに接続されている複数の第2無機絶縁粒子と、複数の前記第1、第2無機絶縁粒子および複数の前記着色材粒子の周りに充填された樹脂材とを有するとともに、前記着色材粒子は前記第2無機絶縁粒子よりも粒径が小さいことを特徴とする配線基板。
An insulating layer and a conductive layer formed on the insulating layer;
Wherein the insulating layer is smaller particle size than the wavelength of visible light, and if Tsu even without least a plurality of partially connected to one another first inorganic insulating particles, the particle diameter is larger than the first inorganic insulating particles A plurality of colorant particles bonded to the first inorganic insulating particles with the first inorganic insulating particles interposed between each other, a particle size larger than the wavelength of visible light, and the first inorganic insulating particles A plurality of second inorganic insulating particles at least partially connected to each other through particles, and a resin material filled around the plurality of first and second inorganic insulating particles and the plurality of colorant particles. And the colorant particles have a particle size smaller than that of the second inorganic insulating particles .
請求項に記載の配線基板において、
前記第2無機絶縁粒子の原子の配列構造が、非晶質であることを特徴とする配線基板。
The wiring board according to claim 1 ,
The wiring substrate, wherein the atomic arrangement structure of the second inorganic insulating particles is amorphous.
請求項に記載の配線基板において、
前記第1無機絶縁粒子および前記着色材粒子が、酸化物から成ることを特徴とする配線基板。
The wiring board according to claim 2 ,
The wiring board, wherein the first inorganic insulating particles and the colorant particles are made of an oxide.
請求項に記載の配線基板において、
前記着色材粒子が、有機材料から成ることを特徴とする配線基板。
The wiring board according to claim 2 ,
The wiring board, wherein the colorant particles are made of an organic material.
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