JP5843802B2 - ハニカム触媒担体 - Google Patents
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Description
図1〜図4に示されるように、本発明の一実施形態のハニカム触媒担体50は、流体の流路となる複数のセル7を区画形成する多孔質の隔壁9を備える。隔壁9は、気孔率が40%以上である。ハニカム触媒担体50では、隔壁9の水銀圧入法により測定された細孔径分布において、細孔径15μm〜300μmの範囲にある第1細孔群と、細孔径1μm以上15μm未満の範囲にある第2細孔群とが存在する。そして、第1細孔群を含む細孔径15〜300μmの範囲において、細孔径分布のピーク(I)が少なくとも1つ存在する。また、第2細孔群を含む細孔径1μm以上15μm未満の範囲において、細孔径分布のピーク(II)が少なくとも1つ存在する。さらに、第1細孔群の細孔容積が全細孔容積の50〜80%である。また、第2細孔群の細孔容積が全細孔容積の20〜50%である。
式(1):C=108×8FTV/[{πD2(P2−13.8392)/13.839}×68947.6]
次に、本実施形態のハニカム触媒担体を製造する方法について説明する。本実施形態の製造方法では、坏土調製工程、成形工程、焼成工程を順次行うことによりハニカム触媒担体を得る。坏土調製工程は、セラミック原料を含有する成形原料を混合し混練して坏土を得る工程である。成形工程は、坏土調製工程によって得られた坏土をハニカム形状に押出成形し、複数のセルが形成されたハニカム成形体を得る工程である。焼成工程は、ハニカム成形体を焼成してハニカム触媒担体を得る工程である。
坏土調製工程においては、セラミック原料を含有する成形原料を混合し混練して坏土を得る。
乱式粒度測定装置(例えば、商品名「LA−920」(堀場製作所社製)等)により測定
した、50%粒子径の値をいう。
成形工程では、坏土調製工程で得られた坏土をハニカム形状に押出成形してハニカム成形体を得る。このハニカム成形体では、ハニカム成形体を貫通する複数のセルが形成されている。押出成形は、口金を用いて行うことができる。口金に関しては、ハニカム成形体におけるセル形状、隔壁の交差部の形状、隔壁厚さ、セル密度に対応させたかたちで、スリット形状、スリット幅、ピンの密度などを適宜設計すればよい。口金の材質としては、摩耗し難い超硬合金が好ましい。
焼成工程では、上述の成形工程で得られるハニカム成形体を焼成し、ハニカム触媒担体を得る。こうして得られるハニカム触媒担体は、流体の流路となる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁を備えている。
上述の製造方法によって得られたハニカム触媒担体については、以下に述べる触媒担持方法を用いることにより、ハニカム触媒体を得ることが可能である。
(ハニカム構造体の作製)
コージェライト化原料として、アルミナ、水酸化アルミニウム、カオリン、タルク、およびシリカを使用した(コージェライト化原料の詳細は表1に示す)。コージェライト化原料100質量部に、平均粒径100μmの造孔材2.5質量部、水(分散媒)62質量部、メチルセルロース(有機バインダ)5.6質量部、および界面活性剤0.5質量部を添加した。その後、混合、さらに混練して、坏土を得た。
平均粒子径4.1μmのβ−ゼオライト200gに水800g、分散剤(今回はヘキサメタリン酸ナトリウム)1.5g加え、ボールミルにて湿式開砕した。得られた解砕粒子にバインダとして、アルミナゾル(アルミナゾル中の固形分は20wt%)を20g加えて触媒スラリーを得た。この触媒スラリーは、粘度3mPa・sとなるように調製した。そして、図5に示した方法によって、触媒スラリー注入工程を実施した。余分なスラリーを圧縮空気で除去後、120℃で20分乾燥させ、450℃で1時間焼成した。このようにしてハニカム触媒体を得た。
実施例2〜4のハニカム触媒担体は、各条件を表1および表2に示すものとなるようにした以外は、実施例1と同様に作製した。
比較例1〜3のハニカム触媒担体は、各条件を表1および表2に示すものとなるようにした以外は、実施例1と同様に作製した。
ハニカム触媒担体における気孔率(%)は、水銀ポロシメーター(水銀圧入法)によって測定した。水銀ポロシメーターとしては、Micromeritics社製、商品名:Auto Pore III 型式9405を用いた。
ハニカム触媒担体における細孔径分布は、水銀ポロシメーター(水銀圧入法)によって測定した。水銀ポロシメーターとしては、Micromeritics社製、商品名:Auto Pore III 型式9405を用いた。なお、グラフにおける縦軸の頻度(%)は、(100×log微分細孔容積)/全細孔容積、で表している。
ハニカム触媒担体におけるlog微分細孔容積(cc/g)は、水銀ポロシメーター(水銀圧入法)によって測定した。水銀ポロシメーターとしては、Micromeritics社製、商品名:Auto Pore III 型式9405を用いた。
触媒担持前(触媒担体)の隔壁の厚さは、画像解析装置(ニコン社製、商品名「NEXIV、VMR−1515」)によって測定した。また、触媒担持後(触媒体)の隔壁の厚さ(触媒コート後の隔壁の厚さ)は、後述の[圧力損失]の算出方法で述べる方法に従って算出した。
ハニカム触媒担体における隔壁のパーミアビリティーはパームポロメーターによって測定した。パームポロメーターとしては、Porous Materials社製、商品名:Capillary Flow Porometer 型式CPF1100AEXを用いた。
ハニカム触媒担体における圧縮強度はデュアルコラム卓上型万能試験システムによって測定した。デュアルコラム卓上型万能試験システムとしてはINSTRON社製、型式5569を用いた。尚、圧縮強度はJASO M 505−87に準拠し、Z軸方向の長さが25.4mm、これと直角方向の直径が25.4mmの円柱形の試験片をハニカム構造体から刳り貫き、デュアルコラム卓上型万能試験システムによりZ軸方向の圧縮強度を測定した値を意味する。
ハニカム触媒体における隔壁の気孔への触媒の充填率は、二次元画像解析ソフトにより測定した。画像撮影は、HITACHI製走査型電子顕微鏡S−3400Nにより、隔壁の厚さ方向と直角な断面に対して1.3mm×1.0mmの領域に対して行った。撮影した画像を、三谷商事社製二次元画像解析ソフトWinROOFを用いて解析した。具体的には、3箇所で隔壁表面を境に隔壁部分において、画像の2値化処理後に濃淡の異なる空隙、隔壁およびゼオライトの各色の割合を算出し、その割合により、各箇所での充填率を測定した。各箇所(合計3箇所)での充填率から平均値を求めた。充填率の平均値を表2に示す。
(ゼオライト充填の割合/隔壁の気孔の割合)×100=充填率
圧力損失の算出は、特開2005−337086号公報に記載されている方法に準じて行った。ハニカム触媒担体(触媒コート前)における圧力損失は、直径25.4mm、長さ70mmの試料で、入り口温度が25℃、101325.0Pa、風速2m3/分の条件で特開2005−337086号公報に準じて算出した。また、ハニカム触媒体(触媒コート後)における圧力損失の算出については、次のように、隔壁の表面上に堆積したゼオライトの層の厚さを算出した上で行った。まず、ハニカム触媒担体を切り出すことにより、「直径25.4mm、セルの延びる方向の長さ70mm」とし、ゼオライト担持量を200g/Lに設定した。「気孔内充填率から気孔内に充填されたゼオライト量(i)」を求め、ゼオライトの総担持量との差分を「隔壁の表面上に堆積したゼオライト量(ii)」とした。ゼオライトの嵩密度0.6g/ccから隔壁の表面上に堆積したゼオライトの層の厚さを求め、触媒担持前の隔壁の厚さと足し合わせて触媒担持後の隔壁の厚さとした。ハニカム触媒担体(触媒コート前)における圧力損失算出時と同様に、当該試料について、入り口温度が25℃、101325.0Pa、風速2m3/分の条件で特開2005−337086号公報に準じて圧力損失を算出した。なお、上記のゼオライトの嵩密度は、上述の触媒スラリーを直径79mm、高さ25mmの磁製ルツボに入れ、ハニカム触媒体の作製時と同様に120℃で20分乾燥させ、450℃で1時間焼成後に得られた焼成体の寸法及び重量により算出した。
実施例1〜4と比較例1〜3を比較すると、気孔率が同程度の場合、実施例の方が、比較例と比べて、パーミアビリティーおよび圧縮強度が大きくなるという結果を得た。この結果から、実施例1〜4のハニカム触媒担体は、比較例1〜3のハニカム触媒担体と比較して、連通気孔が多く、そのため、触媒を担持させる工程において、水分が隔壁を透過し易く、触媒が細孔内に充填され易くなると考えられた。また、実施例1〜4のハニカム触媒担体は、比較例1,2のハニカム触媒担体と比較して、圧縮強度が高いので、ハニカム触媒担体を缶体内に押圧しながら収納する(キャニングする)のに十分な強度となった。
Claims (4)
- 流体の流路となる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁を備え、
前記隔壁は、気孔率が40%以上であり、
前記隔壁の水銀圧入法により測定された細孔径分布において、
細孔径15μm〜300μmの範囲にあるものを第1細孔群とし、
細孔径1μm以上15μm未満の範囲にあるものを第2細孔群とし、
前記第1細孔群を含む細孔径15〜300μmの範囲において、前記細孔径分布のピーク(I)が少なくとも1つ存在し、
前記第2細孔群を含む細孔径1μm以上15μm未満の範囲において、前記細孔径分布のピーク(II)が少なくとも1つ存在し、
前記第1細孔群の細孔容積が全細孔容積の50〜80%であり、
前記第2細孔群の細孔容積が全細孔容積の20〜50%であり、
前記ピーク(I)の少なくとも1つが細孔径20〜80μmの範囲に存在し、
前記ピーク(II)の少なくとも1つが細孔径6.2μm以上15μm未満の範囲に存在するハニカム触媒担体。 - 前記隔壁の厚さが50〜350μmである請求項1に記載のハニカム触媒担体。
- セル密度が45〜200個/cm2である請求項1または2に記載のハニカム触媒担体。
- 前記隔壁のパーミアビリティーが0.5〜6.0μm2である請求項1〜3のいずれか1項に記載のハニカム触媒担体。
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