JP5863386B2 - Magnetic field generator - Google Patents
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Description
本発明は、マグネトロンスパッタリング装置用の磁界発生装置に関するものである。 The present invention relates to a magnetic field generator for a magnetron sputtering apparatus.
基板表面に薄膜を形成するために用いられるスパッタリング装置として、ターゲットの裏面に設けた磁気回路を用いてターゲットの表面側に磁場を発生させ、この磁場によりプラズマ密度を高めることで成膜効率を上げる所謂マグネトロンスパッタリング装置が広く利用されている。 As a sputtering device used to form a thin film on the surface of a substrate, a magnetic circuit is provided on the surface side of the target using a magnetic circuit provided on the back surface of the target, and the plasma density is increased by this magnetic field to increase the film formation efficiency. A so-called magnetron sputtering apparatus is widely used.
ところで、このマグネトロンスパッタリング装置には、ターゲットが均等にスパッタされず、一部が集中してスパッタされる(エロージョン領域が狭い)ことで、スパッタされにくい部位に比較的多くのターゲット材料が残ったままターゲット寿命が尽きてしまう問題点があり、例えば特許文献1に開示されるように、ターゲットをできるだけ均等にスパッタすべく磁気回路を構成する永久磁石の配置等を設定するなどしてターゲット寿命の長期化を図っているのが現状である。 By the way, in this magnetron sputtering apparatus, the target is not sputtered evenly, and a part of the target is sputtered in a concentrated manner (the erosion region is narrow), so that a relatively large amount of target material remains in a region that is difficult to be sputtered. There is a problem that the target life is exhausted. For example, as disclosed in Patent Document 1, the target life is extended by setting the arrangement of permanent magnets constituting the magnetic circuit so as to sputter the target as evenly as possible. The current situation is to make it easier.
本発明は、上述のような現状に鑑み、ターゲット寿命の更なる長期化を図るべくなされたもので、ターゲットのスパッタされる領域(エロージョン領域)が拡大され、より均等にターゲットをスパッタでき、また、膜厚分布調整を行う際の磁場分布補正のための磁性板の配置も容易となるなど、極めて実用性に優れた磁界発生装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the current situation as described above, and is intended to further extend the life of the target. The sputtered area (erosion area) of the target is enlarged, and the target can be sputtered more evenly. An object of the present invention is to provide a magnetic field generator with extremely excellent practicality, such as facilitating the arrangement of a magnetic plate for correcting the magnetic field distribution when adjusting the film thickness distribution.
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。 The gist of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
磁界発生用の磁気回路とこの磁気回路に近接して配置されるターゲットを支持するターゲット支持体とを備えたマグネトロンスパッタリング装置用の磁界発生装置において、前記磁気回路は、底部ヨーク1に接着されターゲット面に対して直交する方向に沿った磁化方向を有する内側永久磁石2と、この内側永久磁石2を取り囲むように前記底部ヨーク1に接着され内側永久磁石2とは反対方向の磁化方向を有する外側永久磁石3と、ターゲット表面における磁束密度の垂直成分がゼロ点を3回交差するゼロ点交差領域を形成するか若しくは前記磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域が形成されるように前記底部ヨーク1に接着される補助永久磁石とを有し、前記補助永久磁石は、前記内側永久磁石2に隣接するように前記底部ヨーク1に接着され、前記内側永久磁石2とは反対方向の磁化方向を有する第一の補助永久磁石4と、前記外側永久磁石3に隣接するように前記底部ヨーク1に接着され、前記外側永久磁石3とは反対方向の磁化方向を有する第二の補助永久磁石5と、前記第一の補助永久磁石4と前記第二の補助永久磁石5との間で前記底部ヨーク1に接着され、前記磁気回路の磁束密度の垂直成分がゼロ点を3回交差するゼロ点交差領域を形成するか若しくは前記磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域が形成されるように磁化方向が設定される第三の補助永久磁石6とから成り、前記内側永久磁石2及び前記第一の補助永久磁石4若しくは前記外側永久磁石3及び前記第二の補助永久磁石5の先端部には磁性板7が載置され、この磁性板7により前記ゼロ周辺領域を−30[G]以上+30[G]以下の範囲に設定したことを特徴とする磁界発生装置に係るものである。
In a magnetic field generator for a magnetron sputtering apparatus comprising a magnetic circuit for generating a magnetic field and a target support for supporting a target disposed in close proximity to the magnetic circuit, the magnetic circuit is bonded to the bottom yoke 1 and is a target. An inner
また、前記内側永久磁石2及びこの内側永久磁石2に隣接する前記第一の補助永久磁石4の先端部は、この先端部に磁性板7が載置できるように同一高さに設定したことを特徴とする請求項1に記載の磁界発生装置に係るものである。
Further, the front end portions of the inner
また、前記外側永久磁石3及びこの外側永久磁石3に隣接する前記第二の補助永久磁石5の先端部は、この先端部に磁性板7が載置できるように同一高さに設定したことを特徴とする請求項1,2のいずれか1項に記載の磁界発生装置に係るものである。
Further, the outer
また、前記内側永久磁石2、前記外側永久磁石3、前記第一の補助永久磁石4、前記第二の補助永久磁石5及び前記第三の補助永久磁石6が、Nd−Fe−B系磁石から構成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁界発生装置に係るものである。
Further, the inner
また、前記内側永久磁石2及び前記第一の補助永久磁石4若しくは前記外側永久磁石3及び前記第二の補助永久磁石5のユニットサイズを当該永久磁石の先端部に載置する磁性板7の形状と同一形状に設定したことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の磁界発生装置に係るものである。
Further, the shape of the magnetic plate 7 on which the unit sizes of the inner
また、前記内側永久磁石2及び前記第一の補助永久磁石4並びに前記外側永久磁石3及び前記第二の補助永久磁石5の磁化方向の傾きが、夫々、隣接する永久磁石と所定角度で交差するように前記各補助永久磁石を配置したことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の磁界発生装置に係るものである。
In addition, the inclinations of the magnetization directions of the inner
本発明は上述のように構成したから、ターゲットのエロージョン領域が拡大し、より均等にターゲットをスパッタでき、また、磁場分布補正を行う磁性板の配置も容易となるなど、極めて実用性に優れた磁界発生装置となる。 Since the present invention is configured as described above, the erosion area of the target is expanded, the target can be sputtered more evenly, and the arrangement of the magnetic plate for correcting the magnetic field distribution can be easily performed. It becomes a magnetic field generator.
好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。 An embodiment of the present invention which is considered to be suitable will be briefly described with reference to the drawings showing the operation of the present invention.
磁気回路により生じる磁界は、ターゲット表面における磁束密度の垂直成分がゼロ点を3回交差するゼロ点交差領域を形成するか若しくは前記磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域を形成する。 The magnetic field generated by the magnetic circuit forms a zero-point crossing region where the perpendicular component of the magnetic flux density on the target surface intersects the zero point three times, or forms a zero peripheral region where the perpendicular component of the magnetic flux density is flat at the zero point. To do.
この際、内側永久磁石2に隣接配置した第一の補助永久磁石4及び外側永久磁石3に隣接配置した第二の補助永久磁石5を用いることで、磁束密度垂直成分の磁石真上からの勾配を急峻にすることができると共に、これらに加えて第三の補助永久磁石6を用いることで、ゼロ点交差領域若しくはゼロ周辺領域を従来技術(特許文献1)よりも一層広く確保することが可能となり、よって、エロージョン領域を広くすることが可能で、それだけ材料使用効率を改善することができる。
At this time, by using the first auxiliary
また、よりむらのない磁界を形成すべく、磁性板を用いて一部の磁場強度を弱くしたい場合がある。この場合、磁束密度垂直成分の特性形状を大きく変えることなく磁場強度を弱くするには、磁石直上に磁性板を貼り付ける必要がある。しかし、従来技術(特許文献1)では底部ヨーク33に設けられる磁石直上に磁性板30を貼ろうとすると、磁束密度が集中しているN極31とS極32との間に磁性板30がずれてしまう(図3(a)参照)。そのため、磁性板30を固定するためには、接着材を用いる必要があり、それだけ固定に時間がかかる。
In addition, in order to form a more uniform magnetic field, it may be desired to weaken a part of the magnetic field strength using a magnetic plate. In this case, in order to weaken the magnetic field strength without greatly changing the characteristic shape of the magnetic flux density vertical component, it is necessary to attach a magnetic plate directly above the magnet. However, in the prior art (Patent Document 1), if the
この点、本発明は、N極とS極とが互いに隣接するため(例えば外側永久磁石3及び第二の補助永久磁石5、図3(b)参照)、磁束密度が集中する箇所が隣接する磁石同士の境界部分となって極めてずれ難くなり、磁性板7の固定に接着材を用いる必要がない。よって、磁性板7の貼り付けに要する時間を大幅に短縮することが可能となり、簡単に、よりむらのない磁界を形成できることになる。
In this respect, in the present invention, since the N pole and the S pole are adjacent to each other (for example, the outer
更に、例えば、前記内側永久磁石2及び前記第一の補助永久磁石4若しくは前記外側永久磁石3及び前記第二の補助永久磁石5のユニットサイズを当該永久磁石の先端部に載置する磁性板7の形状と同一形状に設定した場合には、どの位置に磁性板7を貼り付けるかの目安になり、磁性板7の貼り付けに要する時間を一層短縮することが可能となる。
Further, for example, the magnetic plate 7 for placing the unit size of the inner
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。 Specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
本実施例は、磁界発生用の磁気回路とこの磁気回路に近接して配置されるターゲットを支持するターゲット支持体とを備えたマグネトロンスパッタリング装置用の磁界発生装置において、前記磁気回路は、底部ヨーク1に接着されターゲット面に対して直交する方向に沿った磁化方向を有する内側永久磁石2と、この内側永久磁石2を取り囲むように前記底部ヨーク1に接着され内側永久磁石2とは反対方向の磁化方向を有する外側永久磁石3と、ターゲット表面における磁束密度の垂直成分がゼロ点を3回交差するゼロ点交差領域を形成するか若しくは前記磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域が形成されるように前記底部ヨークに接着される補助永久磁石とを有し、前記補助永久磁石は、前記内側永久磁石2に隣接するように前記底部ヨーク1に接着され、前記内側永久磁石2とは反対方向の磁化方向を有する第一の補助永久磁石4と、前記外側永久磁石3に隣接するように前記底部ヨーク1に接着され、前記外側永久磁石3とは反対方向の磁化方向を有する第二の補助永久磁石5と、前記第一の補助永久磁石4と前記第二の補助永久磁石5との間で前記底部ヨーク1に接着され、前記磁気回路の磁束密度の垂直成分がゼロ点を3回交差するゼロ点交差領域を形成するか若しくは前記磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域が形成されるように磁場方向が設定される第三の補助永久磁石6とから成るものである。
The present embodiment relates to a magnetic field generator for a magnetron sputtering apparatus including a magnetic circuit for generating a magnetic field and a target support that supports a target disposed in close proximity to the magnetic circuit. The magnetic circuit includes a bottom yoke. 1 and an inner
本実施例は、水平板状の底部ヨーク1に各永久磁石(夫々Nd−Fe−B系磁石から成る)を立設状態に設けて磁気回路を構成し、更にこの各永久磁石上(磁気回路上)に、水平板状のターゲット支持体(図示省略)を設けたものである。このターゲット支持体にターゲットが支持される。 In this embodiment, each permanent magnet (each made of an Nd-Fe-B magnet) is provided upright on the horizontal plate-shaped bottom yoke 1 to form a magnetic circuit, and further on each permanent magnet (magnetic circuit). The upper plate is provided with a horizontal plate-like target support (not shown). A target is supported on the target support.
本実施例においては、各永久磁石は平面視ロ字状の枠状体に形成されている。尚、本実施例においては、ターゲットが中心部にターゲットクランプ用の溝が設けられた場合を想定して内側永久磁石2も枠状体として磁気回路の中心部分に空間を設けるようにしているが、ターゲットにクランプ用の溝が不要な場合などには、内側永久磁石2は枠状体とする必要はなく、棒状(I字状)等、他の形状としても良い。
In the present embodiment, each permanent magnet is formed in a frame-like body having a square shape in plan view. In this embodiment, assuming that the target has a target clamping groove in the center, the inner
なお、各永久磁石は、内側永久磁石2の頂面側がN極の場合、外側永久磁石3の頂面側はS極、第一の補助永久磁石4の頂面側はS極、第二の補助永久磁石5の頂面側はN極となる(逆の場合も同様)。また、第三の補助永久磁石6は、周囲の他の永久磁石により磁界に応じて頂面側をN極若しくはS極に適宜設定する。
Each permanent magnet has an S pole on the top side of the outer
上述のように構成された磁気回路は、概ね内側永久磁石2と外側永久磁石3との間の中央線部分に磁束密度の垂直成分の中央のゼロ点が存在し、更にこの中央のゼロ点の左右に補助永久磁石により形成されるゼロ点が少なくとも左右1点ずつ2点存在するように構成される。そして内側永久磁石2と外側永久磁石3との間に磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域が形成されるようにしている(即ち、ターゲット表面における磁束密度の垂直成分がゼロ点を3回交差し、且つ、前記磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域を形成している。)。従って、ターゲットには平面視ロ字状に形成されるゼロ周辺領域に沿ってエロージョン領域が形成されることになる。
In the magnetic circuit configured as described above, there is a central zero point of the vertical component of the magnetic flux density in the central line portion between the inner
更に、本実施例では、永久磁石の先端部に磁性板7を載置し、この磁性板7により前記ゼロ周辺領域を−30[G]以上+30[G]以下の範囲に設定する。従って、それだけむらのないゼロ周辺領域を形成できることになる。 Furthermore, in the present embodiment, the magnetic plate 7 is placed on the tip of the permanent magnet, and the magnetic plate 7 sets the zero peripheral region to a range of −30 [G] to +30 [G]. Therefore, it is possible to form a uniform zero peripheral region.
また、通常、当該磁気回路の内側若しくは外側のいずれかの磁場強度を補正すればむらを可及的になくすことができるため、少なくとも、内側永久磁石2及びこの内側永久磁石2に隣接する第一の補助永久磁石4の先端部(頂面)か、若しくは、外側永久磁石3及びこの外側永久磁石3に隣接する第二の補助永久磁石5の先端部(頂面)の、いずれか一方は、先端部に磁性板7が載置できるように同一高さに設定する。
In general, if the magnetic field strength inside or outside the magnetic circuit is corrected, unevenness can be eliminated as much as possible. Therefore, at least the inner
本実施例においては、各永久磁石の頂面は同一高さとなるように設定している。ターゲット支持体を良好に設けると共に、磁性体7を良好に設けられるようにするためである。 In this embodiment, the top surfaces of the permanent magnets are set to have the same height. This is because the target support is provided well and the magnetic body 7 is provided well.
また、磁気回路を構成する各永久磁石(内側永久磁石2及び第一の補助永久磁石4若しくは外側永久磁石3及び第二の補助永久磁石5)のユニットサイズを、載置される磁性板7の平面視形状と同一平面視形状に設定すると、膜厚分布の評価結果を用いて磁性板7を貼り付ける位置を決定する際の目安になり、磁性板7の貼り付けに要する時間を一層短縮することができる。
Moreover, the unit size of each permanent magnet (the inner
また、本実施例においては、隣接するNS組の磁石の磁化方向の傾きが所定角度で交差するように各永久磁石を配置している。 In the present embodiment, the permanent magnets are arranged so that the inclinations of the magnetization directions of adjacent NS pairs of magnets intersect at a predetermined angle.
即ち、図4(a)、(b)に図示したように、内側永久磁石2及び第一の補助永久磁石4(外側永久磁石3及び第二の補助永久磁石5)の磁化方向の傾きが、夫々平行となるように配置した場合、膜厚分布にむらが生じてしまう。この点、本実施例においては、可及的にむらが生じないように、図4(c)、(d)に図示したように夫々所定角度(例えば数°)で僅かに交差するように、各永久磁石の磁化方向の傾きを調整して配置している。図4中の矢印は各永久磁石の磁化方向の傾きを示す(白抜き、黒塗りは夫々異なる極性)。なお、図4(a)〜(d)のいずれの場合も、第三の補助永久磁石6の傾きは0°である。
That is, as illustrated in FIGS. 4A and 4B, the inclination of the magnetization direction of the inner
永久磁石の磁化方向の傾きは、磁石の製造工程における磁界中成型プロセスにおいて、粉砕された磁石材料の磁化容易軸(磁性体において、その磁化し易い特定の結晶方向)を、磁界方向に沿って完全に揃えることができないことに起因して生じるものであり、この磁化方向の傾きは、測定することで評価できるが、傾きが0[deg.]に近い磁石ピースを選別して磁気回路を構成するには、長納期化・高コスト化は避けられない。 The inclination of the magnetization direction of the permanent magnet is such that, in the magnetic field molding process in the magnet manufacturing process, the magnetization easy axis of the pulverized magnet material (in the magnetic material, the specific crystal direction that is easily magnetized) is along the magnetic field direction. The inclination of the magnetization direction can be evaluated by measurement, but the inclination is 0 [deg. In order to configure a magnetic circuit by selecting magnet pieces close to], it is inevitable that the delivery time is increased and the cost is increased.
この点、上述したように永久磁石の磁化方向の傾きを考慮して調整・配置した場合、磁石ピースの選別を行って磁気回路を構成する場合より、安価に磁気回路を構成することができるだけでなく、ゼロ周辺領域のむらを抑制できることを確認している。 In this regard, as described above, when the adjustment / arrangement is performed in consideration of the inclination of the magnetization direction of the permanent magnet, the magnetic circuit can be configured at a lower cost than the case where the magnetic circuit is configured by selecting the magnet pieces. It has been confirmed that unevenness in the zero peripheral region can be suppressed.
本実施例は上述のように構成したから、磁気回路により生じる磁界は、ターゲット表面における磁束密度の垂直成分がゼロ点を3回交差し、且つ、前記磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域を形成する。 Since the present embodiment is configured as described above, the magnetic field generated by the magnetic circuit is such that the vertical component of the magnetic flux density on the target surface intersects the zero point three times, and the vertical component of the magnetic flux density is flat at the zero point. Forming a zero peripheral region.
この際、内側永久磁石2に隣接配置した第一の補助永久磁石4及び外側永久磁石3に隣接配置した第二の補助永久磁石5を用いることで、磁束密度垂直成分の磁石真上からの勾配を急峻にすることができると共に、これらに加えて第三の補助永久磁石6を用いることで、ゼロ周辺領域を従来技術(特許文献1)よりも一層広く確保することが可能となり、よって、エロージョン領域を広くすることが可能で、それだけ材料使用効率を改善することができる。
At this time, by using the first auxiliary
また、補助永久磁石4,5を上記のように配置することで、N極とS極とが互いに隣接するため(例えば外側永久磁石3及び第二の補助永久磁石5、図3(b)参照)、磁束密度が集中する箇所が隣接する磁石同士の境界部分となって、磁性板7を配置しても極めてずれ難くなり、磁性板7の固定に接着材を用いる必要がない。よって、磁性板7の貼り付けに要する時間を大幅に短縮することが可能となり、簡単に、よりむらのない磁界を形成できることになる。
Further, since the auxiliary
尚、この場合、貼り付ける磁性板7の厚みを種々変更することにより、磁束密度垂直成分のゼロ点近傍で生じる垂直磁場強度のむらを補正することができる。 In this case, by varying the thickness of the magnetic plate 7 to be attached, it is possible to correct the unevenness of the vertical magnetic field strength that occurs near the zero point of the magnetic flux density vertical component.
よって、本実施例は、ターゲットのエロージョン領域が拡大し、より均等にターゲットをスパッタでき、また、磁場分布補正を行う磁性板の配置も容易となるなど、極めて実用性に優れたものとなる。 Therefore, the present embodiment is extremely practical because the erosion region of the target is expanded, the target can be sputtered more evenly, and the magnetic plate for correcting the magnetic field distribution can be easily arranged.
尚、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。 Note that the present invention is not limited to this embodiment, and the specific configuration of each component can be designed as appropriate.
1 底部ヨーク
2 内側永久磁石
3 外側永久磁石
4 第一の補助永久磁石
5 第二の補助永久磁石
6 第三の補助永久磁石
7 磁性板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (6)
前記補助永久磁石は、前記内側永久磁石に隣接するように前記底部ヨークに接着され、前記内側永久磁石とは反対方向の磁化方向を有する第一の補助永久磁石と、
前記外側永久磁石に隣接するように前記底部ヨークに接着され、前記外側永久磁石とは反対方向の磁化方向を有する第二の補助永久磁石と、
前記第一の補助永久磁石と前記第二の補助永久磁石との間で前記底部ヨークに接着され、前記磁気回路の磁束密度の垂直成分がゼロ点を3回交差するゼロ点交差領域を形成するか若しくは前記磁束密度の垂直成分がゼロ点でフラットとなるゼロ周辺領域が形成されるように磁化方向が設定される第三の補助永久磁石とから成り、
前記内側永久磁石及び前記第一の補助永久磁石若しくは前記外側永久磁石及び前記第二の補助永久磁石の先端部には磁性板が載置され、この磁性板により前記ゼロ周辺領域を−30[G]以上+30[G]以下の範囲に設定したことを特徴とする磁界発生装置。 In a magnetic field generator for a magnetron sputtering apparatus comprising a magnetic circuit for generating a magnetic field and a target support for supporting a target disposed in close proximity to the magnetic circuit, the magnetic circuit is bonded to a bottom yoke and is attached to a target surface An inner permanent magnet having a magnetization direction along a direction perpendicular to the inner permanent magnet, an outer permanent magnet adhered to the bottom yoke so as to surround the inner permanent magnet, and having a magnetization direction opposite to the inner permanent magnet, and a target The bottom yoke is formed such that the vertical component of the magnetic flux density on the surface forms a zero point crossing region where the zero point intersects the zero point three times, or a zero peripheral region where the vertical component of the magnetic flux density is flat at the zero point is formed. An auxiliary permanent magnet to be bonded,
The auxiliary permanent magnet is bonded to the bottom yoke so as to be adjacent to the inner permanent magnet, and has a first auxiliary permanent magnet having a magnetization direction opposite to the inner permanent magnet;
A second auxiliary permanent magnet bonded to the bottom yoke adjacent to the outer permanent magnet and having a magnetization direction opposite to the outer permanent magnet;
Bonded to the bottom yoke between the first auxiliary permanent magnet and the second auxiliary permanent magnet to form a zero point crossing region where the vertical component of the magnetic flux density of the magnetic circuit crosses the zero point three times. to or Ri consists a third auxiliary permanent magnets whose magnetization direction is set to zero peripheral region vertical component of the magnetic flux density is flat at zero point is formed,
A magnetic plate is placed at the tip of the inner permanent magnet and the first auxiliary permanent magnet or the outer permanent magnet and the second auxiliary permanent magnet, and this magnetic plate defines the zero peripheral region at −30 [G ] A magnetic field generator characterized by being set in a range of not less than +30 [G] .
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