JP5940482B2 - Water scrubber and exhaust gas treatment equipment - Google Patents
Water scrubber and exhaust gas treatment equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP5940482B2 JP5940482B2 JP2013078385A JP2013078385A JP5940482B2 JP 5940482 B2 JP5940482 B2 JP 5940482B2 JP 2013078385 A JP2013078385 A JP 2013078385A JP 2013078385 A JP2013078385 A JP 2013078385A JP 5940482 B2 JP5940482 B2 JP 5940482B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- water
- gas
- tower
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Incineration Of Waste (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Description
本発明は、例えば半導体の製造工程から排出された排ガスを洗浄して水と反応する成分を除去する水スクラバと、この水スクラバから排出された排ガスを燃焼或いは熱分解させて除害する排ガスの処理装置に関するものである。 The present invention provides, for example, a water scrubber that cleans exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing process and removes a component that reacts with water, and an exhaust gas that burns or pyrolyzes the exhaust gas discharged from the water scrubber. The present invention relates to a processing apparatus.
半導体装置の製造工程から、シラン(SiH4)、ジシラン(Si2H6)、ジボラン(B2H6)、ホスフィン(PH3)、アルシン(AsH3)、三フッ化窒素(NF3)等の毒性を有する排ガスや、四フッ化炭素(CF4)や六フッ化硫黄(SF6)等に代表されるフッ化物等の地球環境に悪影響を与える排ガスが排出されることが知られている。そして、このような排ガスは大気への放出に際して予め除害することが要求されている。 From semiconductor device manufacturing processes, silane (SiH 4 ), disilane (Si 2 H 6 ), diborane (B 2 H 6 ), phosphine (PH 3 ), arsine (AsH 3 ), nitrogen trifluoride (NF 3 ), etc. It is known that exhaust gases that have adverse effects on the global environment such as exhaust gases that have toxic effects and fluorides typified by carbon tetrafluoride (CF 4 ) and sulfur hexafluoride (SF 6 ) are discharged. . Such exhaust gas is required to be detoxified in advance when released into the atmosphere.
このため、上記の如き排ガスを燃焼させて除害した後、大気へ放出することで上記要求を満足させることが出来る有毒性排ガスの処理方法及び装置が提案されている(例えば特許文献1参照)。特許文献1に記載された技術は、上記のような排ガスを一端が閉鎖された筒状の燃焼室に導入し、該燃焼室に配置されたバーナーにより水素、メタン、エタン、プロパン、ブタン等の燃料ガスが燃焼するとき生成する高温部で分解し、或いは助燃用空気の作用により燃焼することで除害し、その後、燃焼排ガス搬送通路を通って水スクラバに供給し、該水スクラバで冷却すると共に粉末状の固形物や有害な燃焼副生成ガス等を吸収し、所定の煙道を通して大気に排出するものである。 For this reason, a treatment method and apparatus for toxic exhaust gas capable of satisfying the above requirements by burning the exhaust gas as described above and detoxifying it, and then releasing it to the atmosphere has been proposed (see, for example, Patent Document 1). . The technique described in Patent Document 1 introduces the exhaust gas as described above into a cylindrical combustion chamber whose one end is closed, and hydrogen, methane, ethane, propane, butane, and the like by a burner disposed in the combustion chamber. It decomposes at the high temperature part generated when the fuel gas burns or burns by the action of auxiliary combustion air, then supplies to the water scrubber through the combustion exhaust gas transfer passage, and cools with the water scrubber At the same time, it absorbs powdered solids, harmful combustion by-product gases, etc., and discharges them to the atmosphere through a predetermined flue.
特許文献1に記載された処理方法では、排ガスに含まれるフッ化物を除害する際に処理装置を構成する金属部分が腐食したり、分解しきれていない状態のフッ化物が放出される虞がある、という問題が生じる。この問題を解決することを目的として特許文献2に記載された除害装置が提案されている。 In the treatment method described in Patent Document 1, when removing the fluoride contained in the exhaust gas, there is a possibility that the metal part constituting the treatment apparatus is corroded or the fluoride in an undecomposed state is released. The problem that there is. In order to solve this problem, an abatement apparatus described in Patent Document 2 has been proposed.
特許文献2に記載された除害装置は、排ガスに含まれる加水分解性ガス又は水溶性ガスを水洗除去する入口スクラバと、入口スクラバで水洗された洗浄排ガスに含まれる水不溶性の熱分解性ガスを加熱して熱分解する加熱反応部と、熱分解によって生じた加水性ガスを水洗除去する出口スクラバと、両スクラバから排出された洗浄水を収納する受槽と、を有して構成されている。 The detoxification device described in Patent Document 2 includes an inlet scrubber for washing and removing hydrolyzable gas or water-soluble gas contained in exhaust gas, and a water-insoluble pyrolyzable gas contained in the washed exhaust gas washed with the inlet scrubber And a heating reaction section for thermally decomposing, an outlet scrubber for removing the hydrolytic gas generated by the pyrolysis with water, and a receiving tank for storing the wash water discharged from both scrubbers. .
上記除害装置では、入口スクラバの天井部分に半導体製造装置から導出された排ガス導入管が接続されており、天井よりも低い位置にシャワーノズルが設けられている。従って、排ガス導入管から導入された排ガスが上方から下方へと流れる間でシャワーノズルから噴射された洗浄水が作用して加水分解性ガス、水溶性ガスが水洗除去され、その後、加熱反応部で熱分解性ガスが熱分解される。このため、金属腐食性ガスを除去することが可能となり、除害装置を構成する金属部分の腐食を軽減することができる。 In the abatement apparatus, the exhaust gas introduction pipe led out from the semiconductor manufacturing apparatus is connected to the ceiling portion of the inlet scrubber, and the shower nozzle is provided at a position lower than the ceiling. Therefore, while the exhaust gas introduced from the exhaust gas introduction pipe flows from the upper side to the lower side, the washing water sprayed from the shower nozzle acts to remove the hydrolyzable gas and water-soluble gas by washing, and then in the heating reaction section The pyrolytic gas is pyrolyzed. For this reason, it becomes possible to remove a metal corrosive gas and to reduce the corrosion of the metal part which comprises an abatement apparatus.
特許文献2に記載された半導体排ガスの除害装置では、半導体製造装置から導出された排ガスは、入口スクラバの上方から下方へと流れる間でシャワーノズルから噴射された洗浄水によって洗浄される。このため、洗浄水と排ガスが同一方向に流れることとなり、両者の接触時間が短くなり、或いは確実な接触がなされなくなって洗浄効率が落ちる虞がある。 In the semiconductor exhaust gas abatement apparatus described in Patent Document 2, the exhaust gas derived from the semiconductor manufacturing apparatus is cleaned by the cleaning water sprayed from the shower nozzle while flowing from the upper side to the lower side of the inlet scrubber. For this reason, the cleaning water and the exhaust gas flow in the same direction, and the contact time between the two becomes short, or there is a possibility that the cleaning efficiency is lowered due to the fact that reliable contact is not made.
洗浄効率を向上させる方法として、洗浄水の流れに対し排ガスの流れを対向させることで両者の接触時間をながくして洗浄効率を向上させる方法、水平な膜状に形成した洗浄水に排ガスを通過させて両者を確実に接触させて洗浄効率を向上させる方法、等の方法がある。これらの方法では、排ガスと洗浄水を反対方向に流すことによって両者の接触時間を長くし、或いは水膜を通過させることで確実な接触を実現することができる。 As a method of improving the cleaning efficiency, the exhaust gas flow is opposed to the flow of the cleaning water to shorten the contact time between them, and the cleaning efficiency is improved. The exhaust gas passes through the cleaning water formed in a horizontal film. And a method for improving the cleaning efficiency by reliably bringing them into contact with each other. In these methods, the contact time between the two can be increased by flowing the exhaust gas and the washing water in opposite directions, or reliable contact can be realized by passing the water film.
このため、洗浄水が上方から下方へと流れるのに対し、排ガスの流れを下方から上方へと向かうようにすることが必要となる。即ち、水スクラバは、排ガスの洗浄機能を有する構造体と、この構造体の下方に排ガスを導入する導入路と、洗浄水や水と反応して生成した固形化物を貯留する槽と、を有することが必要となる。 For this reason, it is necessary to make the flow of exhaust gas flow from the bottom to the top while the wash water flows from the top to the bottom. That is, the water scrubber has a structure having an exhaust gas cleaning function, an introduction path for introducing the exhaust gas below the structure, and a tank for storing the solidified material generated by the reaction with the cleaning water or water. It will be necessary.
本件発明者等が上記の如き水スクラバを構成したところ、排ガスの導入路に導入された排ガスに含まれた粉塵が該導入路の内壁面に付着して塊状の固形化物となり、且つこの固形化物が成長して導入路の面積を減少させる等、付着した固形化物が導入路としての機能を阻害するという問題が生じた。 When the present inventors configured the water scrubber as described above, the dust contained in the exhaust gas introduced into the exhaust gas introduction path adheres to the inner wall surface of the introduction path and becomes a lump solidified product, and this solidified product As a result, the solidified material adhering to the material interferes with the function of the introduction path.
本発明の目的は、導入された排ガスに含まれた粉塵から生成した固形化物が導入路の内壁面に付着した場合でも、付着した固形化物を排除することができる水スクラバと、この水スクラバを用いた排ガスの処理装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a water scrubber capable of eliminating the attached solidified material even when the solidified material generated from dust contained in the introduced exhaust gas adheres to the inner wall surface of the introduction path, and the water scrubber. An object of the present invention is to provide an exhaust gas treatment apparatus used.
上記課題を解決するために本発明に係る水スクラバは、排ガスを高温にして燃焼或いは分解して排気する排ガスの処理装置に用いる水スクラバであって、上部筒体と該上部筒体よりも大きい径を有する下部筒体を有し起立した筒状体からなり、上部筒体に形成された排ガスの供給口と、下端に形成された排ガスの排気口と、前記上部筒体と前記下部筒体との間に配置され内径が前記上部筒体の内径と略等しく且つ垂下片の下端部が前記下部筒体の内壁面に向けて拡径した堰部材を有し該内壁に沿って水を流すための堰部と、排ガスの流れ方向上流側から前記堰部の下流側に向けて配置されたスクレーパと、前記スクレーパを駆動する駆動モータと、を有するガス導入塔と、前記ガス導入塔と並列して配置され、下方に形成した開口から供給された排ガスに水を作用させて該排ガスを洗浄し、洗浄した排ガスを排出口から排出するガス洗浄塔と、前記ガス導入塔及びガス洗浄塔に配置され、前記ガス導入塔の排気口と前記ガス洗浄塔の下方に形成した開口を接続する排ガス通路を構成すると共に、排ガスに作用する水及び排ガスに含有され水と反応して生成した固形化物を貯留する槽と、を有して構成されるものである。 In order to solve the above problems, a water scrubber according to the present invention is a water scrubber used in an exhaust gas treatment apparatus that exhausts exhaust gas at a high temperature to burn or decompose, and is larger than the upper cylinder and the upper cylinder. An exhaust gas supply port formed in the upper cylindrical body, an exhaust gas exhaust port formed in the lower end, the upper cylindrical body and the lower cylindrical body, which has an upright cylindrical body having a lower cylindrical body having a diameter And a weir member having an inner diameter substantially equal to the inner diameter of the upper cylindrical body and a lower end portion of the hanging piece expanded toward the inner wall surface of the lower cylindrical body, and water along the inner wall. A gas introduction tower having a weir part for flowing, a scraper disposed from an upstream side in the flow direction of exhaust gas toward a downstream side of the weir part, a drive motor for driving the scraper, and the gas introduction tower, Arranged in parallel and supplied from the opening formed below The exhaust gas is cleaned by letting water act on the exhaust gas, and the exhaust gas discharged from the exhaust port is disposed in the gas introduction tower and the gas cleaning tower. The exhaust port of the gas introduction tower and the gas The exhaust gas passage connecting the opening formed below the washing tower is configured, and the tank has a tank that stores water acting on the exhaust gas and a solidified product that is generated by reacting with the water contained in the exhaust gas. Is.
また本発明に係る排ガスの処理装置は、上記の如く構成した水スクラバと、前記水スクラバを構成するガス洗浄塔の排出口と接続された洗浄ガス供給口を有し、該洗浄ガス供給口から供給された排ガスを高温にして燃焼或いは分解して排気する燃焼室とを有するものである。 An exhaust gas treatment apparatus according to the present invention includes a water scrubber configured as described above, and a cleaning gas supply port connected to a discharge port of a gas cleaning tower that constitutes the water scrubber, from the cleaning gas supply port. And a combustion chamber for exhausting the supplied exhaust gas at a high temperature for combustion or decomposition.
また、他の排ガスの処理装置は、上記の如く構成した水スクラバを複数配置し、各水スクラバを構成するガス導入塔の供給口どうしを供給側配管によって接続すると共に供給側バルブを介して何れかの水スクラバに選択的に排ガスを供給し得るように構成し、ガス洗浄塔の排出口どうし及び燃焼室の洗浄ガス供給口を排出側配管によって接続すると共に前記供給側バルブと同期して駆動される排出側バルブを介して何れかの水スクラバから燃焼室に対し選択的に洗浄した排ガスを供給し得るように構成したものである。 In addition, other exhaust gas treatment apparatuses are provided with a plurality of water scrubbers configured as described above, and supply ports of gas introduction towers constituting each water scrubber are connected by a supply side pipe, and any one of them via a supply side valve. The exhaust gas can be selectively supplied to the water scrubber, and the exhaust ports of the gas cleaning tower and the cleaning gas supply port of the combustion chamber are connected by exhaust side piping and driven in synchronization with the supply side valve. The exhaust gas that has been selectively cleaned from any of the water scrubbers to the combustion chamber can be supplied via the discharge side valve.
本発明に係る水スクラバでは、ガス導入塔の上部から供給された排ガスを下端に形成された排出口から排出し、排ガス通路を経て下方に形成した開口からガス洗浄塔に供給することができ、該ガス洗浄塔を下方から上方に流れる過程で洗浄することができる。 In the water scrubber according to the present invention, the exhaust gas supplied from the upper part of the gas introduction tower can be discharged from the discharge port formed at the lower end, and can be supplied to the gas cleaning tower from the opening formed below through the exhaust gas passage, The gas cleaning tower can be cleaned while flowing from below to above.
特に、ガス導入塔には堰部の下流側に向けたスクレーパが配置されているため、ガス導入塔の内壁面に付着し、且つ成長する固形化物を掻き落とすことができる。このため、ガス導入塔内部の排ガス通路を確保しておくことが可能となり、排ガス通路としての機能を保持することができる。 In particular, since a scraper directed toward the downstream side of the weir portion is disposed in the gas introduction tower, solidified substances that adhere to the inner wall surface of the gas introduction tower and grow can be scraped off. For this reason, the exhaust gas passage inside the gas introduction tower can be secured, and the function as the exhaust gas passage can be maintained.
そして、ガス導入塔の堰部から内壁に沿って流れた水及びスクレーパによって掻き落とされた固形化物を槽に貯留すると共に、ガス洗浄塔の内部で排ガスに作用した水を槽に貯留することができる。 Then, the water flowing along the inner wall from the weir portion of the gas introduction tower and the solidified material scraped off by the scraper are stored in the tank, and the water that has acted on the exhaust gas inside the gas cleaning tower can be stored in the tank. it can.
また本発明に係る排ガスの処理装置では、上記水スクラバのガス洗浄塔の排出口と燃焼室の洗浄ガス供給口とを接続して構成されているので、水スクラバから排出された洗浄済の排ガスを燃焼或いは分解して除害することができる。 Further, in the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention, since the exhaust port of the gas scrubber of the water scrubber is connected to the cleaning gas supply port of the combustion chamber, the cleaned exhaust gas discharged from the water scrubber Can be removed by combustion or decomposition.
また、本発明に係る他の排ガスの処理装置は、排ガスの発生源と複数の水スクラバの何れかを選択的に接続すると共に、選択された水スクラバと燃焼室を接続することができる。このため、水スクラバを切り替えつつ燃焼室を連続的に稼働させて排ガスの燃焼或いは分解することができ、水スクラバの保守作業を確実に行うことができる。 Further, another exhaust gas processing apparatus according to the present invention can selectively connect an exhaust gas generation source and any of a plurality of water scrubbers, and can connect the selected water scrubber and the combustion chamber. For this reason, the combustion chamber can be operated continuously while switching the water scrubber to burn or decompose the exhaust gas, and the maintenance work of the water scrubber can be performed reliably.
先ず、本発明に係る水スクラバについて説明する。半導体の製造設備や液晶パネルの製造設備から発生する排ガスには多くの酸化珪素の成分が含まれる。この酸化珪素は生成した段階では微小な粉末からなる粉塵であり、装置の内壁面や内部に形成された突起部分に付着する。付着した固形化物は強固な塊状となり、稼働時間の増加に伴って成長し、この結果、排ガスの通路が狭くなるという問題が生じる。 First, the water scrubber according to the present invention will be described. Exhaust gas generated from semiconductor manufacturing equipment and liquid crystal panel manufacturing equipment contains many silicon oxide components. This silicon oxide is dust made up of fine powder at the stage of generation, and adheres to the inner wall surface of the apparatus and the protrusions formed inside. The adhering solidified material becomes a strong lump and grows with an increase in operating time, resulting in a problem that the passage of exhaust gas is narrowed.
本発明に係る水スクラバは、半導体の製造装置や液晶パネルの製造装置から排出された排ガスを熱分解或いは燃焼させて除害する排ガス処理装置に用いられるものである。即ち、排ガスを熱分解或いは燃焼させるのに先立って水によって洗浄することで、該排ガスに含まれた水と反応する物質を固形化物として分離するものである。そして、水と反応した物質を除去した排ガスを燃焼室に供給することで、燃焼室の負担を軽減させて除害効率を向上させるようにしたものである。 The water scrubber according to the present invention is used in an exhaust gas treatment apparatus that removes heat by pyrolyzing or burning exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing apparatus or a liquid crystal panel manufacturing apparatus. That is, the substance reacting with water contained in the exhaust gas is separated as a solidified product by washing with water prior to thermal decomposition or combustion of the exhaust gas. The exhaust gas from which the substance that has reacted with water is removed is supplied to the combustion chamber, thereby reducing the burden on the combustion chamber and improving the detoxification efficiency.
本発明に係る水スクラバの実施例について図1、2を用いて説明する。図に示す水スクラバAは、排ガスが導入されるガス導入塔(以下「導入塔」という)10と、導入塔10と並列して配置されたガス洗浄塔(以下「洗浄塔」という)20と、導入塔10と洗浄塔20を上部に設けた槽30と、を有して構成されている。導入塔10から導入された排ガスは、導入塔10の下方から槽30の上部に形成された排ガス通路34を通って洗浄塔20の下部に至り、洗浄塔20の下方から上方へと流れる途中で洗浄された後、水スクラバAから排出され、図3、4に示す燃焼室Bに供給される。
An embodiment of a water scrubber according to the present invention will be described with reference to FIGS. The water scrubber A shown in the figure includes a gas introduction tower (hereinafter referred to as “introduction tower”) 10 into which exhaust gas is introduced, and a gas cleaning tower (hereinafter referred to as “washing tower”) 20 arranged in parallel with the
導入塔10は、槽30の上部に起立した筒状体11によって構成されている。筒状体11は、上部筒体11aと下部筒体11bに分割されており、下部筒体11bが槽30の上部に固定され、上部筒体11aは接続部11cを介して下部筒体11bに対し着脱可能に接続されている。上部筒体11aと下部筒体11bとを接続する接続部11cの構造は限定するものではなく、フランジ接続或いはねじ接続等を選択することが可能である。特に、導入塔10の内部は大気圧よりも低い圧力を有するため、JISB8365に規定された「真空装置用クランプ形継手」を採用することが好ましい。このため、下部筒体11bから上部筒体11aを取り外すことで、導入塔10の内部を開放することが可能となり、この状態で清掃することが可能である。
The
下部筒体11bは上部筒体11aよりも大きい径を有しており、両筒体11a、11bの接合部分に堰12が形成されている。堰12は、下部筒体11bの内壁面に略一様な厚さを持つ水膜を形成するためのものである。このため、下部筒体11bの上端外周にはリング状の水路12aが形成されると共に、上端部分の全周にわたって切欠12bが形成されている。また、下部筒体11bの上端部分には堰部材12cが配置されており、該堰部材12cの本体12c1から垂下された垂下片12c2の先端が切欠12bよりも下方に位置して下部筒体11bの内壁面との間に略一定の隙間を形成している。
The lower
特に、堰部材12cは筒状に形成されており、下部筒体11bの上端部分に設けた上部筒体11aとの接続部11cに取り付けられている。堰部材12cは上部筒体11aの内径と略等しい内径を有し、且つ下部筒体11bよりも小さい内径を有している。このため、上部筒体11aから堰部材12cにかけての内壁面は段差のない一様な面として形成されており、上部筒体11a、堰部材12cから下部筒体11bにわたる部分で内径が拡大するように形成されている。
In particular, the
上部筒体11aの上部側面には、図示しない半導体の製造装置或いは液晶パネルの製造装置等の排ガスを発生する工程と接続されて排ガスが供給される供給口13aが形成されている。また、下部筒体11bの下端は槽30に向けて開口しており、該開口が排ガスの排気口13bとして構成されている。そして、供給口13aと排気口13bを結ぶ通路が排ガスの導入路13として構成されている。
On the upper side surface of the
導入塔10の内部にスクレーパ14が配置されており、上部筒体11aの上端部に設けた駆動モータ15に駆動されて該導入塔10の中心を回転中心として回転し得るように構成されている。
A
スクレーパ14は、導入塔10を構成する上部筒体11a、下部筒体11bの内部に付着し、成長した固形化物を掻き取るものであり、先端が排ガスの流れ方向堰12の下流側まで到達している。即ち、堰12よりも下流側では、下部筒体11bの内壁面に堰12から流れた水によって略一様な厚さを持つ水膜が形成されることから、固形化物が付着することがない。このため、スクレーパ14は堰部材12cの垂下片12c2よりも下方まで到達し得るものであれば良い。
The
導入塔10に於ける堰12よりも上流側では水膜が形成されることがないため、排ガスに含まれた固形化物が付着し、且つ付着した固形化物が成長する。特に、排ガスの流れ方向に於ける堰12よりも上流側の内壁面、例えば上部筒体11aの内壁面に固形化物が付着するのは、導入塔10内部の湿気が該導入塔10に供給された排ガスに含まれた粉塵に作用することによって、或いは内壁面の微小な凹凸等の影響を受けることによるものが多い。このため、スクレーパ14を堰12の下流側に向けて形成することで、付着し成長した固形化物を掻き取ることが可能となる。
Since no water film is formed on the upstream side of the
スクレーパ14の形状は特に限定するものではなく、丸棒や角棒或いはフラットバー等であって良い。また、スクレーパ14の長さは垂下片12c2の下流側に到達し得るものであれば良い。
The shape of the
スクレーパ14と堰12を構成する垂下片12c2とで構成される隙間は限定するものではなく、可及的に小さいことが好ましい。しかし、堰部材12cを下部筒体11bに取り付けたときに偏心する虞があるため、このような組立上の公差を考慮して前記隙間、言い換えるとスクレーパ14の導入塔10の中心からの距離が設定されている。
The gap formed by the
尚、水スクラバAが稼働しているとき、常にスクレーパ14を駆動するか、定期的に駆動するかは限定するものではなく、排ガスに含まれる粉塵の種類や量、稼働時間の増加に伴う固形化物の成長度合い、を含む種々の条件を考慮して適宜設定することが好ましい。
In addition, when the water scrubber A is in operation, it is not limited whether the
上記の如く構成された導入塔10では、堰12の水路12aに水を供給して下部筒体11bの内壁面に水膜を形成しつつ、導入路13に排気ガスを流通させると、この排気ガスの流通に伴って、排ガスに含まれた粉塵が固形化物として堰部材12cに付着する。更に、付着した固形化物は、稼働時間の増加に伴って成長する。このため、駆動モータ15を駆動してスクレーパ14を回転させることで、該スクレーパ14によって堰部材12cに付着した固形化物を掻き落とすことが可能である。
In the
スクレーパ14は導入塔10の内部にあるため、このスクレーパ14も固形化物の付着対象となり、付着した固形化物を排除するための清掃作業も必要となる。このため、接続部11cを操作して上部筒体11aをスクレーパ14と共に下部筒体11bから取り外し、この状態でスクレーパ14と、堰部材12cの清掃を行うことが可能である。
Since the
洗浄塔20は導入塔10と並列して槽30の上部に配置されている。洗浄塔20は、導入塔10を経て供給され下方から上方へと流れる排ガスに水を作用させて洗浄することで、排ガスに含まれた水分と反応する成分を除去するものである。この洗浄塔20では、排ガスを水と対向させて流すことで、高い洗浄効率を実現することが可能である。
The cleaning
洗浄塔20には、下方に槽30に向けて開口した開口部21aが形成されると共に上部に洗浄した排ガスを排出する排出口21bが形成されており、開口部21aから排出口21bの間にガス通路21が構成されている。従って、開口部21aから供給された排ガスは、上方に向かって流れて排出口21bから排出される。
The cleaning
洗浄塔20の内部であって開口部21a側(排ガスの流れ方向上流側)には、ガス通路21を横断してシャワー配管22aが配置されており、このシャワー配管22aに複数のシャワーノズル22bが設けられている。
Inside the
また、洗浄塔20の内部であってシャワーノズル22bよりも排出口21b側(排ガスの流れ方向下流側)には、ガス通路21を横断して水膜を形成する濾過部材23が配置されている。濾過部材23は多数の孔が形成された孔板23aと、孔板23aの上部に形成される水膜の厚さを規定する堰23bと、堰23bから溢れた水を受ける樋23cと、を有して構成されている。
Further, a
濾過部材23に形成される水膜の厚さ(堰23bの高さ)は洗浄塔20の排出口21bに作用する負圧の値よりも充分に小さく、開口部21aから供給された排ガスを濾過部材23の水膜を通過させて排出口21bから排出することが可能である。また、洗浄塔20に於ける濾過部材23の設置数は特に限定するものではなく、1又は複数であって良い。本実施例では、濾過部材23を2段にわたって構成している。
The thickness of the water film formed on the filter member 23 (height of the
洗浄塔20の内部であって濾過部材23よりも排出口21b側(排ガスの流れ方向下流側)には水切部材24が配置されている。水切部材24はシャワーノズル22b、濾過部材23を通過した排ガスに含まれた水分を除去するためのものであり、排ガスの流れ方向上流側から下流側にかけて複数段の水切り板24aを配列して構成されている。
A draining
上記の如く構成された洗浄塔20では、下方に形成された開口部21aから流入した排ガスはガス通路21を通って上方に流れて排出口21bに至る過程で、水の作用によって洗浄され、水と反応する成分が除去される。即ち、開口部21aの近傍でシャワーノズル22bから噴射された水滴と接触して洗浄され、その後、濾過部材23に形成された水膜を潜ることで更に洗浄され、更に、排ガスに含まれた水分は水切部材24と衝突して分離される。そして、水分が除去された排ガスが排出口21bから排出される。
In the cleaning
槽30は水や落下した固形化物を貯留する機能と、導入塔10と洗浄塔20を接続して排ガスの通路を構成する機能を有している。槽30の上部には導入塔10と洗浄塔20が並列した状態で配置されており、これらの塔10、20が配置されていない部分は蓋部材31によって閉塞されている。
The
槽30の上部が閉塞されていることによって、導入塔10、槽30、洗浄塔20の内部は導入塔10の供給口13aから洗浄塔20の排出口21bに至る一連の密閉空間となる。このため、供給口13aと排出口21bに作用する圧力差によって、供給口13aから供給された排ガスが、導入路13、排ガス通路34、ガス通路21を通って排出口21bに流れるように構成されている。
Since the upper portion of the
槽30は、導入塔10を構成する下部筒体11bの内壁面に水膜を形成した水、及び洗浄塔20に配置されたシャワーノズル22bから噴射された水、及び濾過部材23から流れた水、を受け入れるように構成されている。そして、槽30の水位は予め設定された範囲内の昇降をするものの、この範囲内で略一定に保持され、この水面と蓋部材31とで構成された内部空間が、導入塔10と洗浄塔20を接続する排ガス通路34として機能する。
The
槽30の内壁面であって水面から蓋部材31までの間は流れる排ガスに晒されることとなり、この内壁面に粉塵が付着する虞がある。このため、槽30の水面よりも上部の内壁面には導入塔10の下部筒体11bと同様に水膜が形成されている。
Between the water surface and the
また、槽30の導入塔10の下方では、スクレーパ14によって掻き落とされた固形化物が落下する。このため、槽30の内部であって導入塔10の下方には籠32が配置されており、導入塔10から落下した固形化物を籠32に収容、貯留することが可能である。そして、図1に示す槽30の左側面には取り外し可能な蓋(図示せず)が設けられており、該蓋を取り外して籠32を槽30から取り出すことで収容した固形化物を清掃することが可能である。
Moreover, the solidified material scraped off by the
槽30が導入塔10と洗浄塔20から受け入れた水には、水と反応して固形化した粉塵が混在しており、この粉塵が槽30の底部に貯留される。このため、槽30の側面には取り外し可能な蓋33が形成されており、該蓋33を取り外すことによって内部を清掃することが可能である。
The water received by the
上記の如く構成された水スクラバAでは、導入塔10の供給口13aから供給された排ガスは下方に形成された排気口13bから排ガス通路34を通り、洗浄塔20の下方に形成された開口部21aに至る。そして、開口部21aから洗浄塔20の内部を上昇する過程で、シャワーノズル22bから噴射される水滴との接触、濾過部材23に形成された水膜を潜ることで、排ガスに含まれた水と反応する成分が除去、洗浄される。更に、水により洗浄された排ガスに含まれた水分は水切部材24によって分離され、水分が分離された排ガスが排出口21bから排出される。
In the water scrubber A configured as described above, the exhaust gas supplied from the
特に、導入塔10の堰部材12cに付着し、成長した固形化物を回転するスクレーパ14によって掻き落とすことで、稼働時間の如何に関わらず導入路13の断面積を確保することが可能となる。
In particular, it is possible to secure the cross-sectional area of the
次に、上記の如く構成された水スクラバAを用いた排ガスの処理装置の構成について図3により説明する。本実施例に係る処理装置Dは、筐体に組み込まれた1台の水スクラバAと1台の燃焼室Bとを有しており、燃焼室Bの下流側に1台の水スクラバCを配置して構成されている。しかし、本発明の排ガスの処理装置としては、燃焼室Bの下流側に配置された水スクラバCは必須ではない。 Next, the configuration of the exhaust gas treatment apparatus using the water scrubber A configured as described above will be described with reference to FIG. The processing apparatus D according to the present embodiment has one water scrubber A and one combustion chamber B incorporated in a casing, and one water scrubber C is disposed downstream of the combustion chamber B. It is arranged and configured. However, the water scrubber C disposed on the downstream side of the combustion chamber B is not essential for the exhaust gas treatment apparatus of the present invention.
本実施例に係る処理装置Dに於いて、水スクラバAの供給口13aには配管61が接続されている。配管61は図示しない製造工程に接続した枝配管66a、66b、66cが分岐しており、何れかの工程から排出された排ガスが枝配管66a〜66c、配管61を介して水スクラバAに供給される。また、水スクラバAの排出口21bと燃焼室Bとは配管62によって接続されており、水スクラバAで洗浄した排ガスを燃焼室Bに供給し得るように構成されている。
In the processing apparatus D according to this embodiment, a
燃焼室Bは、水スクラバAから供給された排ガスをバーナーの火炎によって燃焼或いは分解し、生成した燃焼排ガスを水スクラバCに向けて排気するものであり、従来の排ガス処理装置に用いられている燃焼室と同一のものを用いることが可能である。燃焼室Bの形状や容量は限定するものではなく、処理すべき排ガスの種類や量に対応させて適宜設計される。同様にバーナーの数や燃料ガスの性質も特に限定するものではなく、処理すべき排ガスの種類や量に対応させて適宜設定される。 In the combustion chamber B, the exhaust gas supplied from the water scrubber A is burned or decomposed by a flame of a burner, and the generated combustion exhaust gas is exhausted toward the water scrubber C, and is used in a conventional exhaust gas treatment apparatus. The same combustion chamber can be used. The shape and capacity of the combustion chamber B are not limited and are appropriately designed according to the type and amount of exhaust gas to be treated. Similarly, the number of burners and the nature of the fuel gas are not particularly limited, and are appropriately set according to the type and amount of exhaust gas to be treated.
燃焼室Bは、主燃焼室41を有しており、該主燃焼室41の一方の端部側は閉鎖され、他方の端部は開放している。前記閉鎖された端部には、配管62を介して水スクラバAの排出口21bと接続された洗浄ガス供給口42と、複数のバーナー43が設けられており、主燃焼室41の他方の端部には排気筒44が接続されている。
The combustion chamber B has a
本実施例に於いて、主燃焼室41は起立して配置された円筒体によって構成されており、内周面には全面にわたって耐火層45が形成されている。また主燃焼室41の他方の端部側に接続された排気筒44の主燃焼室41との接続部位にも耐火層45が形成されている。
In this embodiment, the
排気筒44は主燃焼室41の下方に配置されており、燃焼室Bで燃焼した後の燃焼ガスを急速冷却する。また、排気筒44には水スクラバCと連通した燃焼ガス通路46が接続している。燃焼ガス通路46は、燃焼室Bと水スクラバCとを接続し、且つ予め設定された範囲で昇降するものの、該範囲内で略一定の水位を保持し得るように水を貯留した槽47に形成されている。
The
尚、燃焼室Bは本実施例のように、円筒体を縦方向に起立させた構造にのみ限定するものではなく、円筒体を水平に配置した構造であっても良い。即ち、燃焼室Bとしては、縦方向又は横方向に配置された筒体からなる主燃焼室41と、主燃焼室41の端面又は筒体の側面に設けた排ガスが供給される洗浄ガス供給口42と、主燃焼室41の端面又は筒体の側面にであって排ガスの流通方向の下流側に設けた複数のバーナー43と、を有するものであれば良い。
The combustion chamber B is not limited to the structure in which the cylindrical body is erected in the vertical direction as in the present embodiment, and may be a structure in which the cylindrical body is disposed horizontally. That is, as the combustion chamber B, a
水スクラバCは、燃焼ガスに含まれた粉塵成分やガス成分を除去するためのものであり、槽47を介して燃焼室Bと一体的に構成されている。この水スクラバCは前述した水スクラバAの洗浄塔20と類似した構成を有している。即ち、水スクラバCは、槽47の上部に配置された筒体51からなり、該筒体51の下方に燃焼ガス通路46に接続した開口51aが形成され、上方に排出口51bが形成されている。また、筒体51の内部には、水スクラバAの濾過部材23と同様の濾過部材52が配置され、更に、水切部材24と同様の水切部材53が配置されている。この濾過部材52は、水スクラバAの濾過部材23と同じものである必要はない。
The water scrubber C is for removing dust components and gas components contained in the combustion gas, and is configured integrally with the combustion chamber B via the
水スクラバCの排出口51bには吸引部材55が接続されており、該吸引部材55によって発生した負圧が水スクラバCの排出口51bを介して、排ガスの処理装置を構成する燃焼室B、水スクラバAに作用するように構成されている。尚、吸引部材55は排ガスの処理装置の全体の系を考慮して、ブロワやファン、或いは真空ポンプ等から適宜選択することが可能である。
A
上記の如く構成された処理装置Dでは、水スクラバAのシャワーノズル22bから水を噴射させると共に濾過部材23及び水スクラバCの濾過部材52に水を供給して水膜を形成して、吸引部材55を稼働させる。吸引部材55の稼働に伴って、水スクラバC、燃焼室B、配管62、水スクラバAの内部が負圧となり、これらを通して一連のガス通路が形成される。
In the processing apparatus D configured as described above, water is ejected from the
そして、配管61を介して水スクラバAの導入塔10の供給口13aに排ガスを供給すると、この排ガスは水スクラバAの導入塔10から洗浄塔20を通過する。この過程で、排ガスに含まれた水と反応する成分は水によって洗浄、除去され、水と共に槽30に落下する。
When exhaust gas is supplied to the
このとき、導入塔10を構成する上部筒体11aの内壁面及び堰部材12cの内面には、排ガスに含まれた粉塵が付着して経時的に成長する。しかし、スクレーパ14を連続して或いは適宜回転駆動することによって、付着し且つ成長した粉塵からなる固形化物を掻き落とすことが可能である。そして、スクレーパ14によって掻き落とされた固形化物は槽30に配置された籠32に収容、貯留される。
At this time, dust contained in the exhaust gas adheres to the inner wall surface of the upper
水スクラバAに於いて洗浄され、水と反応する成分が除去された排ガスは、配管62を経て燃焼室Bに供給される。燃焼室Bでは、バーナー43に形成された火炎によって供給された排ガスは、有害成分が燃焼、或いは熱分解によって除害されて燃焼ガスとなり、水スクラバCに供給される。排ガスの燃焼、熱分解によって生じた粉塵成分であって、大きく固形化した塊は槽47に落下する。
The exhaust gas that has been washed in the water scrubber A and from which the component that reacts with water has been removed is supplied to the combustion chamber B via the
水スクラバCでは、高温の燃焼ガスを濾過部材52に形成された水膜を通過させることで洗浄する。このとき、燃焼室Bから排出された燃焼ガスに含まれた微小な粉塵成分は、濾過部材52に形成された水膜を通過する際に洗浄され、該水膜を形成した水と共に槽47に落下する。
In the water scrubber C, high temperature combustion gas is washed by passing through a water film formed on the
このようにして、排ガスに含まれた水と反応する成分は水スクラバAによって除去され、水と反応することのない成分は燃焼室Bに於ける燃焼、熱分解によって除害される。また、燃焼室Bから排出された燃焼ガスは水スクラバCによって含まれる粉塵成分やガス成分が洗浄されて除害される。そして、除害され且つ冷却された排ガスは、水スクラバCの排出口51bから吸引部材55を経て大気に排出される。
In this way, the component that reacts with water contained in the exhaust gas is removed by the water scrubber A, and the component that does not react with water is removed by combustion and thermal decomposition in the combustion chamber B. Further, the combustion gas discharged from the combustion chamber B is cleaned by removing dust components and gas components contained in the water scrubber C. The exhaust gas that has been detoxified and cooled is discharged from the
次に、図4により他の処理装置Eの構成について説明する。図に示す処理装置Eは筐体に2台の水スクラバAa、Abと、1台の燃焼室Bとを組み込んで構成されている。特に、処理装置Eは、燃焼室Bに対し2台の水スクラバAa、Abを選択的に接続することによって、燃焼室Bを連続させつつ、水スクラバAa、Abの稼働を停止させて清掃作業を行えるように構成されている。 Next, the configuration of another processing apparatus E will be described with reference to FIG. The processing apparatus E shown in the drawing is configured by incorporating two water scrubbers Aa and Ab and one combustion chamber B in a casing. In particular, the processing apparatus E performs cleaning work by selectively connecting two water scrubbers Aa and Ab to the combustion chamber B to stop the operation of the water scrubbers Aa and Ab while keeping the combustion chamber B continuous. It is comprised so that it can perform.
図に於いて、2台の水スクラバAa、Abは何れも図1に示す水スクラバAと同一の構成を有しており、図1と同じ符号を付して説明を省略する。同様に、燃焼室B、水スクラバCも図3に示す燃焼室B、水スクラバCと同一の構成であり、同一の符号を付して説明を省略する。 In the figure, the two water scrubbers Aa and Ab both have the same configuration as the water scrubber A shown in FIG. 1, and the same reference numerals as those in FIG. Similarly, the combustion chamber B and the water scrubber C have the same configuration as the combustion chamber B and the water scrubber C shown in FIG.
図示しない製造工程と接続された配管61は、三方弁等の供給側バルブ63を介して配管61a、61bに分岐している。配管61aは水スクラバAaの導入塔10の供給口13aに接続され、配管61bは水スクラバAbの導入塔10の供給口13aに接続されている。
A
また、水スクラバAaの洗浄塔20の排出口21bには配管62aが接続され、水スクラバAbの洗浄塔20の排出口21bには配管62bが接続され、これらの配管62a、62bは三方弁等の排出側バルブ64を介して配管62に接続されている。そして、配管62は燃焼室Bの洗浄ガス供給口42に接続されている。
A
上記の如く構成された処理装置Eでは、供給側バルブ63、排出側バルブ64を同期して切り替え駆動することによって、配管61を配管61aに切り替えて水スクラバAaに接続すると共に配管62aと配管62を接続することで、水スクラバAaと燃焼室Bを接続することが可能である。同様に、配管61を配管61bに切り替えて水スクラバAbに接続すると共に配管62bと配管62を接続することで、水スクラバAbと燃焼室Bを接続することが可能である。
In the processing apparatus E configured as described above, the
このため、水スクラバAaの槽30の清掃、或いは導入塔10を構成する堰部材12c、スクレーパ14の清掃を行う必要が生じたときには、供給側バルブ63と排出側バルブ64を同期させて操作することによって、水スクラバAbと燃焼室Bを接続することが可能となる。同様に、水スクラバAbの清掃が必要になったときは、水スクラバAaと燃焼室Bとを接続すること
が可能となる。
For this reason, when it becomes necessary to clean the
即ち、燃焼室Bの稼働を停止させることなく、水スクラバAa又は水スクラバAbの清掃を含むメンテナンス作業を行うことが可能となる。 That is, it is possible to perform maintenance work including cleaning of the water scrubber Aa or the water scrubber Ab without stopping the operation of the combustion chamber B.
上記の如く構成された水スクラバは、半導体等の製造工程から排出され水と反応する成分を含む排ガスを除害する際に燃焼室の上流側に設置して有利である。 The water scrubber configured as described above is advantageously installed on the upstream side of the combustion chamber when exhausting exhaust gas containing components that are discharged from the manufacturing process of semiconductors and the like and react with water.
また、排ガスの処理装置は、燃焼室の負担が軽減されるため、連続稼働する際に有利である。 Further, the exhaust gas treatment apparatus is advantageous when continuously operating because the burden on the combustion chamber is reduced.
A、Aa、Ab 水スクラバ
B 燃焼室
C 水スクラバ
D、E 処理装置
10 導入塔
11 筒状体
11a 上部筒体
11b 下部筒体
11c 接続部
12 堰
12a 水路
12b 切欠
12c 堰部材
12c1 本体
12c2 垂下片
13 導入路
13a 供給口
13b 排気口
14 スクレーパ
15 駆動モータ
20 洗浄塔
21 ガス通路
21a 開口部
21b 排出口
22a シャワー配管
22b シャワーノズル
23 濾過部材
23a 孔板
23b 堰
23c 樋
24 水切部材
24a 水切り板
30 槽
31 蓋部材
32 籠
33 蓋
34 排ガス通路
41 主燃焼室
42 洗浄ガス供給口
43 バーナー
44 排気筒
45 耐火層
46 燃焼ガス通路
47 槽
51 筒体
51a 開口
51b 排出口
52 濾過部材
53 水切部材
55 吸引部材
61、61a、61b、62、62a、62b
配管
66a、66b、66c
枝配管
63 供給側バルブ
64 排出側バルブ
A, Aa, Ab Water scrubber B Combustion chamber C Water scrubber D,
Branch piping 63
Claims (3)
上部筒体と該上部筒体よりも大きい径を有する下部筒体を有し起立した筒状体からなり、上部筒体に形成された排ガスの供給口と、下端に形成された排ガスの排気口と、前記上部筒体と前記下部筒体との間に配置され内径が前記上部筒体の内径と略等しく且つ垂下片の下端部が前記下部筒体の内壁面に向けて拡径した堰部材を有し該内壁に沿って水を流すための堰部と、排ガスの流れ方向上流側から前記堰部の下流側に向けて配置されたスクレーパと、前記スクレーパを駆動する駆動モータと、を有するガス導入塔と、
前記ガス導入塔と並列して配置され、下方に形成した開口から供給された排ガスに水を作用させて該排ガスを洗浄し、洗浄した排ガスを排出口から排出するガス洗浄塔と、
前記ガス導入塔及びガス洗浄塔に配置され、前記ガス導入塔の排気口と前記ガス洗浄塔の下方に形成した開口を接続する排ガス通路を構成すると共に、排ガスに作用する水及び排ガスに含有され水と反応して生成した固形化物を貯留する槽と、
を有することを特徴とする水スクラバ。 A water scrubber used in an exhaust gas treatment device that exhausts exhaust gas at a high temperature to burn or decompose,
The upper cylinder and the lower cylinder having a larger diameter than that of the upper cylinder, and an upright cylinder, the exhaust gas supply port formed in the upper cylinder, and the exhaust gas exhaust port formed in the lower end And a weir disposed between the upper cylindrical body and the lower cylindrical body and having an inner diameter substantially equal to the inner diameter of the upper cylindrical body and a lower end portion of the hanging piece expanding toward the inner wall surface of the lower cylindrical body a dam portion for flowing water along the inner wall has a member, and the scraper from the flow direction upstream side of the exhaust gas is disposed to the downstream side of the dam portion, and a drive motor for driving the scraper, the A gas introduction tower having,
A gas cleaning tower disposed in parallel with the gas introduction tower, cleaning the exhaust gas by causing water to act on the exhaust gas supplied from an opening formed below, and discharging the cleaned exhaust gas from an outlet;
The exhaust gas passage is arranged in the gas introduction tower and the gas cleaning tower and connects an exhaust port of the gas introduction tower and an opening formed below the gas cleaning tower, and is contained in water and exhaust gas acting on the exhaust gas. A tank for storing a solidified product generated by reacting with water;
Water scrubber characterized by having.
前記水スクラバを構成するガス洗浄塔の排出口と接続された洗浄ガス供給口を有し、該洗浄ガス供給口から供給された排ガスを高温にして燃焼或いは分解して排気する燃焼室と
を有することを特徴とする排ガスの処理装置。 A water scrubber according to claim 1;
A cleaning gas supply port connected to an exhaust port of a gas cleaning tower constituting the water scrubber; and a combustion chamber for exhausting the exhaust gas supplied from the cleaning gas supply port at a high temperature and burning or decomposing the exhaust gas. An exhaust gas treatment apparatus characterized by that.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013078385A JP5940482B2 (en) | 2013-04-04 | 2013-04-04 | Water scrubber and exhaust gas treatment equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013078385A JP5940482B2 (en) | 2013-04-04 | 2013-04-04 | Water scrubber and exhaust gas treatment equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014200735A JP2014200735A (en) | 2014-10-27 |
| JP5940482B2 true JP5940482B2 (en) | 2016-06-29 |
Family
ID=52351689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013078385A Active JP5940482B2 (en) | 2013-04-04 | 2013-04-04 | Water scrubber and exhaust gas treatment equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5940482B2 (en) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014171366A1 (en) | 2013-04-17 | 2014-10-23 | 富士電機株式会社 | Exhaust gas treatment device, vessel, and exhaust gas treatment method |
| JP6461733B2 (en) * | 2015-07-06 | 2019-01-30 | 株式会社荏原製作所 | Fan scrubber and vacuum pump device |
| CN106731361A (en) * | 2017-03-23 | 2017-05-31 | 佛山市兴涛美铝业有限公司 | Casting furnace dust pelletizing system |
| KR101936914B1 (en) * | 2018-07-09 | 2019-01-11 | 엔텍이앤씨 주식회사 | A Prefabricated Circulation Water Pipe System and Scrubber Cleaning System and Method Having the Same |
| CN108854487B (en) * | 2018-09-06 | 2024-03-22 | 常州纺织服装职业技术学院 | Arsine/phosphane waste gas treatment device and arsine/phosphane waste gas treatment method |
| CN111578295B (en) * | 2020-03-31 | 2022-12-09 | 中国船舶重工集团公司第七一八研究所 | Burning washing formula semiconductor exhaust treatment device |
| CN112403239A (en) * | 2020-11-05 | 2021-02-26 | 河北同晖环保工程有限公司 | Combustion flue gas desulfurization and denitrification tower and purification process thereof |
| JP7642422B2 (en) * | 2021-03-31 | 2025-03-10 | 株式会社ディスコ | Pure Water Generator |
| CN116617831A (en) * | 2023-06-02 | 2023-08-22 | 英德市西洲气体有限公司 | Tail gas absorbing device for methane purification |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5450041U (en) * | 1977-09-16 | 1979-04-06 | ||
| JPH09186093A (en) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | Method and apparatus for removing hazard of exhaust gas |
| JP3866404B2 (en) * | 1998-02-06 | 2007-01-10 | カンケンテクノ株式会社 | Semiconductor exhaust gas abatement system |
| JP2002166127A (en) * | 2000-12-04 | 2002-06-11 | Central Glass Co Ltd | Method for detoxifying nf 3 gas |
| JP4174396B2 (en) * | 2003-09-19 | 2008-10-29 | カンケンテクノ株式会社 | Exhaust gas introduction structure and exhaust gas treatment apparatus using the structure |
| GB0326707D0 (en) * | 2003-11-17 | 2003-12-17 | Boc Group Plc | Exhaust gas treatment |
-
2013
- 2013-04-04 JP JP2013078385A patent/JP5940482B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014200735A (en) | 2014-10-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5940482B2 (en) | Water scrubber and exhaust gas treatment equipment | |
| US6969250B1 (en) | Exhaust gas treating device | |
| CN112121588B (en) | Electric heating water-washing type waste gas treatment device | |
| JP4937998B2 (en) | HCD gas removal method and apparatus | |
| TWI665417B (en) | Vacuum pump with abatement function | |
| EP2168655A1 (en) | Exhaust gas cleaning device | |
| JPWO2000032990A1 (en) | Exhaust gas treatment equipment | |
| KR101617691B1 (en) | Device for purifying exhuasted gas from chemical vapor deposition | |
| CN107670459A (en) | Factory's chalk dust removing explosion-protection equipment | |
| KR101210931B1 (en) | Waste gas scrubber | |
| JP4772223B2 (en) | Exhaust gas abatement apparatus and method | |
| KR100998853B1 (en) | Waste gas treatment system | |
| JP2017124345A (en) | Exhaust gas abatement system | |
| KR100939979B1 (en) | The purification apparatus of a heavy metal contamination soil | |
| KR101764815B1 (en) | Pre-treatment apparatus for waste gas treatment apparatus | |
| JP5368003B2 (en) | Filtration type dust collector and exhaust gas abatement system using the same | |
| JP4440754B2 (en) | Exhaust gas abatement system for semiconductor manufacturing equipment | |
| JP6321997B2 (en) | Detoxifying device, scraping part and bearing device used in the detoxifying device | |
| JP2011115736A (en) | Selenium dioxide recovery apparatus and waste gas detoxification apparatus using the same | |
| JP4583880B2 (en) | Exhaust gas treatment method and treatment apparatus | |
| KR20100114631A (en) | Exhaust gas treatment apparatus for use in incineration eouipment | |
| JP2012217910A (en) | Exhaust gas treatment device and exhaust gas treatment method | |
| TW202005703A (en) | Gas abatement apparatus | |
| JP2005003331A (en) | Hazardous gas combustion type abatement system | |
| KR100303149B1 (en) | Burn type dry gas scrubber for manufacturing semiconductor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150312 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160114 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160119 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160303 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160329 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160411 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160426 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160518 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5940482 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |