以下、発明を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態(照明装置)
照明装置がエッジライト方式となっている例
光変調素子が設けられている例
2.第1の実施の形態の変形例(照明装置)
3.第2の実施の形態(照明装置)
照明装置が直下方式となっている例
4.第2の実施の形態の変形例(照明装置)
5.第3の実施の形態(照明装置)
照明装置がエッジライト方式となっている例
導光板に散乱領域が設けられている例
6.第3の実施の形態の変形例(照明装置)
7.第4の実施の形態(表示装置)
各実施の形態の照明装置をバックライトとして用いた例
8.実施例(表示装置)
<1.第1の実施の形態>
図1は、本技術の第1の実施の形態に係る照明装置1の断面構成を表すものである。この照明装置1は、表示装置のバックライトとして適用可能なものであり、例えば、図1に示したように、導光板10と、導光板10の側面に配置した光源20と、導光板10の背後に配置した光変調素子30および反射板40と、光変調素子30を駆動する駆動回路50とを備えている。
なお、導光板10は、「第1透明基板」または「第2透明基板」の一具体例に相当する。光源20は、「光源」の一具体例に相当する。反射板40は、「反射板」の一具体例に相当する。駆動回路50は、「駆動部」の一具体例に相当する。光源20および光変調素子30からなる光学系が、「照明光学系」の一具体例に相当する。
導光板10は、導光板10の側面に配置した光源20からの光を導光板10の上面側(具体的には照明装置1の光出射面1A)に導くものである。導光板10は、例えば、導光板10の上面に配置される被照射物(例えば後述の表示パネル210)に対応した形状になっており、例えば、上面、下面および側面で囲まれた直方体状となっている。なお、以下では、導光板10の側面のうち光源20からの光が入射する側面を光入射面10Aと称するものとする。
導光板10は、例えば、上面および下面の少なくとも一方の面に、所定のパターン化された形状を有しており、光入射面10Aから入射した光を散乱し、均一化する機能を有している。なお、光変調素子30に印加する電圧を変調することによって輝度の均一化を行う場合には、パターン化されていない平坦な導光板を導光板10として用いることも可能である。導光板10は、例えば、ポリカーボネート樹脂(PC)やアクリル樹脂(ポリメチルメタクリレート(PMMA)などの透明熱可塑性樹脂を主に含んで構成されている。
光源20は、線状光源であり、例えば、熱陰極管(HCFL;Hot Cathode Fluorescent Lamp)、冷陰極管(CCFL;Cold Cathode Fluorescent Lamp)、または複数のLED(Light Emitting Diode)を一列に配置したものなどからなる。光源20が複数のLEDからなる場合には、効率、薄型化、均一性の観点から、全てのLEDがホワイトLEDであることが好ましい。なお、光源20が、例えば、赤色LED、緑色LEDおよび青色LEDを含んで構成されていてもよい。光源20は、導光板10の一の側面にだけ設けられていてもよいし(図1参照)、導光板10の2つの側面、3つの側面または全ての側面に設けられていてもよい。
光変調素子30は、本実施の形態において、導光板10の背後(下面)に空気層を介さずに密着しており、例えば接着剤(図示せず)を介して導光板10の背後に接着されている。光変調素子30は、例えば、図2に示したように、透明基板31、下側電極32、配向膜33、光変調層34、配向膜35、上側電極36および透明基板37を反射板40側から順に配置されたものである。なお、下側電極32および上側電極36が「電極」の一具体例に相当する。
透明基板31,37は、光変調層34を支持するものであり、一般に、可視光に対して透明な基板、例えば、ガラス板や、プラスチックフィルムによって構成されている。上側電極36は、透明基板37のうち透明基板31との対向面上に設けられたものであり、例えば、面内全体に渡って形成された1枚のベタ膜からなる。一方、下側電極32は、透明基板31のうち透明基板37との対向面上に設けられたものであり、例えば、図3に示したように、複数の部分電極32Aによって構成されている。
複数の部分電極32Aは、例えば、図3に示したように、面内の一の方向(例えば光入射面10Aに平行な方向)に延在する帯状の形状となっている。複数の部分電極32Aのうち特定の複数の部分電極32A(以下、「部分電極32B」と称する。)は、表示装置において三次元表示を行うときに、線状照明光の生成に用いられるものである。複数の部分電極32Bは、表示装置において三次元表示を行うときの画素のピッチP3(図61参照)に対応するピッチP1(画素のピッチP3と同一ピッチまたはそれに近いピッチ)で配列されている。
複数の部分電極32Aのうち部分電極32Bを除く複数の部分電極32A(以下、「部分電極32C」と称する。)は、表示装置において二次元表示を行うときに、部分電極32Aと共に、面状照明光の生成に用いられるものである。つまり、表示装置において二次元表示を行うときには、面状照明光を生成するために、全ての部分電極32Aが用いられる。複数の部分電極32Bおよび複数の部分電極32Cは、光入射面10Aと直交する方向において規則的に配列されている。例えば、図2、図3に示したように、1つの部分電極32Bおよび2つの部分電極32Cを一組として、複数組の部分電極群が光入射面10Aと直交する方向に配列されている。部分電極32Bの幅は、例えば、表示装置の画素の幅よりも狭くなっている。
各部分電極32Aは、例えば、図4に示したように、ブロック形状となっており、かつ複数の部分電極32Aが2次元配置されていてもよい。この場合には、複数の部分電極32Aを1つの線状電極32Dとみなしたときに、各線状電極32Dが上記の部分電極32B,32Cとして用いられてもよい。例えば、複数の線状電極32Dのうち特定の複数の線状電極32Dが、部分電極32Bとして用いられる。複数の線状電極32Dのうち部分電極32Bとして用いられるものを除く複数の線状電極32Dが、部分電極32Cとして用いられる。
なお、各部分電極32Aがブロック形状となっており、かつ複数の部分電極32Aが2次元配置されている場合に、表示装置において三次元表示を行うときに、個々の部分電極32Aが点状照明光の生成に用いられてもよい。また、各部分電極32Aがブロック形状となっており、かつ複数の部分電極32Aが2次元配置されている場合に、表示装置において2視点から互いに異なる二次元映像を視認可能な二次元表示を行うときにも、個々の部分電極32Aが点状照明光の生成に用いられてもよい。
また、例えば、図5、図6に示したように、互いに隣接する部分電極32B同士の間に、部分電極32Bの幅よりも広い幅の部分電極32Cが設けられていてもよい。このとき、さらに、例えば、図7に示したように、各部分電極32Bが複数の部分電極32Aで構成されると共に、各部分電極32Cが複数の部分電極32Aで構成されていてもよい。
また、例えば、図8に示したように、各部分電極32Aが、光入射面10Aと直角以外の角度で斜めに交差する方向に延在していてもよい。また、各部分電極32Aがブロック形状となっており、かつ複数の部分電極32Aが2次元配置されている場合に、例えば、図9に示したように、各線状電極32Dが、光入射面10Aと直角以外の角度で斜めに交差する方向に延在していてもよい。なお、各部分電極32Aが光入射面10Aの法線と斜めに交差する方向に延在している場合に、各部分電極32Aの延在方向が、後述の表示パネル210の画素の配列方向と交差する方向に延在していることが好ましい。このようにした場合には、三次元表示時に、光入射面10Aの法線と平行な方向の解像度と、光入射面10Aと平行な方向の解像度との差を小さくすることができる。
下側電極32および上側電極36はともに、透明導電膜によって構成されている。この透明導電膜は、例えば、以下の式で示されるような特性を有していることが好ましい(図10(A)参照)。この透明導電膜は、例えば、ITOを含む膜(以下、「ITO膜」と称する。)によって構成されている。なお、下側電極32および上側電極36は、酸化インジウム亜鉛(IZO;Indium Zinc Oxide)、メタルナノワイヤ、カーボンナノチューブ、グラフェンなどによって構成されていてもよい。
|A1−A2|≦2.00
A1:450nm〜650nmにおける最大光吸収率(%)
A2:450nm〜650nmにおける最小光吸収率(%)
照明光としては、可視光が使用されるので、380〜780nmの範囲で、透明導電膜の光吸収の差が少ないことが好ましい。380〜780nmの範囲で光吸収率の最大値と最小値の差が、10.00以下であることが好ましく、7.00以下であることがより好ましい。特に、透明導電膜がバックライトなどに適用される場合は、使用する光源の波長領域の範囲内で光吸収率の最大値と最小値の差が2.00以下であることが好ましく、1.00以下であることがより好ましい。一般的なLEDを光源として光源などを用いた場合、450〜650nm範囲で、光吸収率の最大値と最小値の差が、2.00以下であることが好ましく、1.00以下であることがより好ましい。なお、吸収率の測定は日本分光製V−550を用い、基板法線方向から5°入射にて反射率、透過率を測定し、100%から反射率、透過率の値を引いた値を吸収率とした。
このように、透明導電膜が上記の式に示した特性となっている場合には、光源20から出射された光が導光板10内を伝播していく過程で光変調素子30内の透明導電膜を繰り返し通過したときに、透明導電膜における、吸収の波長依存性が抑制される。透明導電膜が、一般的なITO膜からなる場合には、例えば、図10(B),(C)の破線および図11(A)の矢印に示したように、光源20からの距離が遠くなるにつれて、長波長側の成分が増大していく。一方、透明導電膜が、上記の式に示した特性を有する、膜質改善されたITO膜からなる場合には、例えば、図10(B),(C)の実線および図11(B)に示したように、長波長側の成分が光源20からの距離に応じて変化する割合が低減している。なお、図10(B),(C)の縦軸のΔu’v’は、その値が大きくなるほど、長波長側の成分が大きくなることに対応する指標である。
また、例えば、下側電極32および上側電極36がITO膜によって構成されているとき、導光している光路中のどこか(例えば、導光板10および光変調素子30の少なくとも一方)に、例えば、長波長側の光を短波長側の光よりもより多く吸収する染料・顔料が含まれていることが好ましい。上記の染料・顔料として、公知の材料を使用することができる。特に、光変調層34の形成に紫外線照射によるプロセスを含む場合には、例えば、光変調素子30を形成した後に、染料・顔料を含む導光板10と光変調素子30とを互いに貼り合わせたり、染料・顔料が紫外線によってダメージを受けないように、染料・顔料を含む部分を紫外線吸収層で紫外線から保護することが好ましい。このように、導光している光路中のどこかに上記の染料・顔料を添加することにより、光源20から出射された光が導光板10内を伝播していく過程で光変調素子30を繰り返し通過したときに、ITO膜を含む光変調素子30の吸収の波長依存性が抑制される。
下側電極32および上側電極36を光変調素子30の法線方向から見たときに、光変調素子30のうち下側電極32および上側電極36が互いに対向している箇所に対応する部分が光変調セル30−1を構成している(図2、図5参照)。
光変調セル30−1は、光変調素子30のうち部分電極32Aおよび上側電極36が互いに対向している箇所に対応する部分に相当する。複数の光変調セル30−1のうち部分電極32Bを含むセル30a(図2〜図9参照)が、表示装置において三次元表示を行うときに、線状照明光の生成に用いられる。複数の光変調セル30−1のうち部分電極32Cを含むセル30b(図2〜図9参照)が、表示装置において二次元表示を行うときに、複数のセル30aと共に、面状照明光の生成に用いられる。つまり、表示装置において二次元表示を行うときには、面状照明光を生成するために、全ての光変調セル30−1が用いられる。
各光変調セル30−1は、部分電極32Aおよび上側電極36に所定の電圧を印加することにより別個独立に駆動することの可能なものであり、部分電極32Aおよび上側電極36に印加される電圧値の大きさに応じて、光源20からの光に対して透明性を示したり、散乱性を示したりする。なお、透明性、散乱性については、光変調層34を説明する際に詳細に説明する。
配向膜33,35は、例えば、光変調層34に用いられる液晶やモノマーを配向させるものである。配向膜の種類としては、例えば、垂直配向膜および水平配向膜があるが、本実施の形態では、配向膜33,35には水平配向膜が用いられる。水平配向膜としては、例えば、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリビニルアルコールなどをラビング処理することにより形成された配向膜、転写やエッチングなどにより溝形状が付与された配向膜が挙げられる。また、水平配向膜としては、例えば、酸化ケイ素などの無機材料を斜方蒸着することにより形成された配向膜、イオンビーム照射により形成されたダイヤモンドライクカーボン配向膜、電極パターンスリットの形成された配向膜が挙げられる。透明基板31,37としてプラスチックフィルムを用いる場合には、製造工程において、透明基板31,37の表面に配向膜33,35を塗布した後の焼成温度ができるだけ低いことが好ましいことから、配向膜33,35として、100℃以下の温度で形成可能なポリアミドイミドを用いることが好ましい。
また、垂直、水平いずれの配向膜においても、液晶とモノマーを配向させる機能があれば十分であり、通常の液晶ディスプレイに要求される電圧の繰り返し印加による信頼性などは必要ない。デバイス作成後の電圧印加による信頼性は、モノマーを重合したものと液晶との界面で決まるためである。また、配向膜を用いなくても、例えば、下側電極32および上側電極36間に電場や磁場を印加することによっても、光変調層34に用いられる液晶やモノマーを配向させることが可能である。つまり、下側電極32および上側電極36間に電場や磁場を印加しながら、紫外線照射して電圧印加状態での液晶やモノマーの配向状態を固定させることができる。配向膜の形成に電圧を用いる場合には、配向用と駆動用とで別々の電極を形成するか、液晶材料に周波数によって誘電率異方性の符号が反転する二周波液晶などを用いることができる。また、配向膜の形成に磁場を用いる場合、配向膜として磁化率異方性の大きい材料を用いることが好ましく、例えば、ベンゼン環の多い材料を用いることが好ましい。
光変調層34は、電場の大きさに応じて、光源20からの光に対して散乱性もしくは透明性を示すものである。光変調層34は、電場が相対的に小さいときに、光源20からの光に対して透明性を示し、電場が相対的に大きいときに、光源20からの光に対して散乱性を示すものである。光変調層34は、例えば、図2に示したように、バルク34Aと、バルク34A内に分散された微粒子状の複数の微粒子34Bとを含んだ複合層となっている。バルク34Aおよび微粒子34Bは光学異方性を有している。
図12(A)は、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時の、微粒子34B内の配向状態の一例を模式的に表したものである。なお、図12(A)において、バルク34A内の配向状態についての記載を省略した。図12(B)は、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時の、バルク34Aおよび微粒子34Bの屈折率異方性を示す屈折率楕円体の一例を表したものである。この屈折率楕円体は、様々な方向から入射した直線偏光の屈折率をテンソル楕円体で表したものであり、光が入射する方向からの楕円体の断面を見ることによって、幾何的に屈折率を知ることができるものである。図12(C)は、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時の、正面方向に向かう光L1と、斜め方向に向かう光L2とが光変調層34を透過する様子の一例を模式的に表したものである。
図13(A)は、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されている時の、微粒子34B内の配向状態の一例を模式的に表したものである。なお、図13(A)において、バルク34A内の配向状態についての記載を省略した。図13(B)は、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されている時の、バルク34Aおよび微粒子34Bの屈折率異方性を示す屈折率楕円体の一例を表したものである。図13(C)は、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されている時の、正面方向に向かう光L1と、斜め方向に向かう光L2とが光変調層34において散乱される様子の一例を模式的に表したものである。
バルク34Aおよび微粒子34Bは、例えば、図12(A),(B)に示したように、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時に、バルク34Aの光軸AX1および微粒子34Bの光軸AX2の向きが互いに一致する(平行となる)構成となっている。なお、光軸AX1,AX2とは、偏光方向によらず屈折率が一つの値になるような光線の進行方向と平行な線を指している。また、光軸AX1および光軸AX2の向きは常に互いに一致している必要はなく、光軸AX1の向きと光軸AX2の向きとが、例えば製造誤差などによって多少ずれていてもよい。
また、微粒子34Bは、例えば、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時に、光軸AX2が導光板10の光入射面10Aと平行となる構成となっている。微粒子34Bは、さらに、例えば、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時に、光軸AX2が透明基板31,37の表面と僅かな角度θ1で交差する構成となっている(図12(B)参照)。なお、角度θ1については、微粒子34Bを構成する材料を説明する際に詳述する。
一方、バルク34Aは、例えば、下側電極32および上側電極36間への電圧印加の有無に拘らず、バルク34Aの光軸AX1が一定となる構成となっている。具体的には、バルク34Aは、例えば、図12(A),(B),図13(A),(B)に示したように、バルク34Aの光軸AX1が導光板10の光入射面10Aと平行となると共に透明基板31,37の表面と所定の角度θ1で交差する構成となっている。つまり、バルク34Aの光軸AX1は、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時に、微粒子34Bの光軸AX2と平行となっている。
なお、光軸AX2が常に、光入射面10Aと平行となると共に透明基板31,37の表面と角度θ1で交差している必要はなく、例えば製造誤差などによって透明基板31,37の表面と、角度θ1とは若干異なる角度で交差していてもよい。また、光軸AX1,AX2が常に光入射面10Aと平行となっている必要はなく、例えば製造誤差などによって光入射面10Aと、小さな角度で交差していてもよい。
ここで、バルク34Aおよび微粒子34Bの常光屈折率が互いに等しく、かつバルク34Aおよび微粒子34Bの異常光屈折率が互いに等しいことが好ましい。この場合に、例えば、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時には、図12(A)に示したように、正面方向および斜め方向を含むあらゆる方向において屈折率差がほとんどなく、高い透明性が得られる。これにより、例えば、図12(C)に示したように、正面方向に向かう光L1および斜め方向に向かう光L2は、光変調層34内で散乱されることなく、光変調層34を透過する。その結果、例えば、図14(A),(B)に示したように、光源20からの光L(斜め方向からの光)は、光変調層34のうち透明な領域(透過領域30A)の界面(透明基板31の下面および導光板10の上面)において全反射され、透過領域30Aの輝度(黒表示の輝度)が、全面を均一に発光させた場合(図14(B)中の一点鎖線)と比べて下がる。なお、図14(B)の正面輝度のプロファイルは、導光板10上に拡散シート(図示せず)を設置し、その拡散シートを介して測定することにより得られたものである。
なお、透過領域30Aの界面の1つである導光板10の上面(図14中では光出射面1A)は、当該照明装置1が表示装置のバックライトとして用いられたときに、導光板10の上面が、導光板10の上面の屈折率よりも低い屈折率の材料と接していることが好ましい。そのような低屈折率材料は、典型的には空気である。なお、当該照明装置1が表示装置のバックライトとして用いられたときに、導光板10の上面が表示装置内の他の光学部材(例えば表示パネル)と接着されている場合には、導光板10の上面に接する低屈折率材料は、粘着剤もしくは接着剤であってもよい。
バルク34Aおよび微粒子34Bは、例えば、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されている時には、図13(A),(B)に示したように、光軸AX1および光軸AX2の向きが互いに異なる(交差またはほぼ直交する)構成となっている。また、微粒子34Bは、例えば、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されている時に、微粒子34Bの光軸AX2が導光板10の光入射面10Aと平行となると共に透明基板31,37の表面と角度θ1よりも大きな角度θ2(例えば90°)で交差する構成となっている。なお、角度θ2については、微粒子34Bを構成する材料を説明する際に詳述する。
したがって、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されている時には、光変調層34において、正面方向および斜め方向を含むあらゆる方向において屈折率差が大きくなり、高い散乱性が得られる。これにより、例えば、図13(C)に示したように、正面方向に向かう光L1および斜め方向に向かう光L2は、光変調層34内で散乱される。その結果、例えば、図14(A)に示したように、光源20からの光L(斜め方向からの光)は、散乱領域30Bの界面(透明基板31または導光板10と空気との界面)を透過すると共に、反射板40側に透過した光は反射板40で反射され、光変調素子30を透過する。従って、散乱領域30Bの輝度は、全面を均一に発光させた場合(図14(B)中の一点鎖線)と比べて極めて高くなり、しかも、透過領域30Aの輝度が低下した分だけ、部分的な白表示の輝度(輝度突き上げ)が大きくなる。なお、散乱領域30Bが本技術の「第1領域」の一具体例に相当する。
なお、バルク34Aおよび微粒子34Bの常光屈折率は、例えば製造誤差などによって多少ずれていてもよく、例えば、0.1以下であることが好ましく、0.05以下であることがより好ましい。また、バルク34Aおよび微粒子34Bの異常光屈折率についても、例えば製造誤差などによって多少ずれていてもよく、例えば、0.1以下であることが好ましく、0.05以下であることがより好ましい。
また、バルク34Aの屈折率差(ΔnP=異常光屈折率neP−常光屈折率noP)や、微粒子34Bの屈折率差(ΔnL=異常光屈折率neL−常光屈折率noL)は、できるだけ大きいことが好ましく、0.05以上であることが好ましく、0.1以上であることがより好ましく、0.15以上であることがさらに好ましい。バルク34Aおよび微粒子34Bの屈折率差が大きい場合には、光変調層34の散乱能が高くなり、導光条件を容易に破壊することができ、導光板10からの光を取り出しやすいからである。
また、バルク34Aおよび微粒子34Bは、電場に対する応答速度が互いに異なっている。バルク34Aは、例えば、微粒子34Bの応答速度よりも遅い応答速度を有する筋状構造(図15(A),(B)参照)、多孔質構造、または棒状構造となっている。なお、図15(A),(B)は、光変調素子30に対して電場を印加したときの偏光顕微鏡写真であり、図15(A),(B)中で筋状に明るい箇所が上述した筋状構造に相当している。図15(A)には、液晶とモノマーの重量比を95:5としたときのバルク34Aの筋状構造の様子が示されており、図15(B)には、液晶とモノマーの重量比を90:10としたときのバルク34Aの筋状構造の様子が示されている。バルク34Aは、例えば、低分子モノマーを重合化することにより得られた高分子材料によって形成されている。バルク34Aは、例えば、微粒子34Bの配向方向または配向膜33,35の配向方向に沿って配向した、配向性および重合性を有する材料(例えばモノマー)を熱および光の少なくとも一方によって重合させることにより形成されている。
バルク34Aの筋状構造、多孔質構造もしくは棒状構造は、例えば、導光板10の光入射面10Aと平行となると共に透明基板31,37の表面と僅かな角度θ1で交差する方向に長軸を有している。バルク34Aが筋状構造となっている場合に、短軸方向の平均的な筋状組織サイズは、導光光の散乱性を高くするという観点からは、0.1μm以上10μm以下となっていることが好ましく、0.2μm以上2.0μm以下の範囲であることがより好ましい。短軸方向の平均的な筋状組織サイズが0.1μm以上10μm以下となっている場合には、光変調素子30内での散乱能が、380〜780nmの可視領域において略等しくなる。そのため、面内で、ある特定の波長成分の光のみが増加したり、減少したりすることがないので、可視領域でのバランスを面内で取ることができる。短軸方向の平均的な筋状組織サイズが0.1μm未満である場合や、10μmを超える場合には、波長に関係なく、光変調素子30の散乱能が低く、光変調素子30が光変調素子として機能しにくい。
また、散乱の波長依存性を少なくするという観点からは、短軸方向の平均的な筋状組織サイズは、0.5μm以上5μm以下の範囲であることが好ましく、1〜3μmの範囲であることがより好ましい。このようにした場合には、光源20から出射された光が導光板10内を伝播していく過程で光変調素子30内のバルク34Aを繰り返し通過したときに、バルク34Aにおける、散乱の波長依存性が抑制される。筋状組織のサイズは、偏光顕微鏡、共焦点顕微鏡、電子顕微鏡などで観察することができる。
一方、微粒子34Bは、例えば、液晶材料を主に含んで構成されており、バルク34Aの応答速度よりも十分に早い応答速度を有している。微粒子34B内に含まれる液晶材料(液晶分子)は、例えば棒状分子である。微粒子34B内に含まれる液晶分子として、正の誘電率異方性を有するもの(いわゆるポジ型液晶)を用いることが好ましい。
ここで、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時には、微粒子34B内において、液晶分子の長軸方向は、光軸AX1と平行となっている。このとき、微粒子34B内の液晶分子の長軸は、導光板10の光入射面10Aと平行となると共に透明基板31,37の表面と僅かな角度θ1で交差している。つまり、微粒子34B内の液晶分子は、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない時には、導光板10の光入射面10Aと平行な面内において角度θ1だけ傾斜した状態で配向している。この角度θ1は、プレチルト角と呼ばれるもので、例えば0.1°以上30°以下の範囲であることが好ましい。この角度θ1は、0.5°以上10°以下の範囲であることがより好ましく、0.7°以上2°以下の範囲であることがさらにより好ましい。角度θ1を大きくすると、後述するような理由から散乱の効率が低下する傾向にある。また、角度θ1を小さくし過ぎると、電圧印加時に液晶の立ち上がる方位角がばらつく。例えば、180°反対側の方位(リバースチルト)に液晶が立ち上がることもある。これにより、微粒子34Bとバルク34Aとの屈折率差を有効に利用できないので、散乱効率が低くなり、輝度が小さくなる傾向にある。
また、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されている時には、微粒子34B内において、液晶分子の長軸方向は、光軸AX1と交差(もしくは直交)している。このとき、微粒子34B内の液晶分子の長軸は、導光板10の光入射面10Aと平行となると共に透明基板31,37の表面と角度θ1よりも大きな角度θ2(例えば90°)で交差している。つまり、微粒子34B内の液晶分子は、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されている時には、導光板10の光入射面10Aと平行な面内において角度θ2だけ傾斜した状態もしくは角度θ2(=90°)で真っ直ぐ立った状態で配向している。
上記した、配向性および重合性を有するモノマーとしては、光学的に異方性を有しており、かつ液晶と複合する材料であればよいが、本実施の形態では紫外線で硬化する低分子モノマーであることが好ましい。電圧無印加の状態で、液晶と、低分子モノマーを重合化することにより形成されたもの(高分子材料)との光学的異方性の方向が一致していることが好ましいので、紫外線硬化前において、液晶と低分子モノマーが同一方向に配向していることが好ましい。微粒子34Bとして液晶が用いられる場合に、その液晶が棒状分子であるときには、使用するモノマー材料の形状も棒状であることが好ましい。以上のことから、モノマー材料としては重合性と液晶性を併せ持つ材料を用いることが好ましく、例えば、重合性官能基として、アクリレート基、メタクリレート基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルエーテル基およびエポキシ基からなる群から選ばれた少なくとも1つの官能基を有することが好ましい。これらの官能基は、紫外線、赤外線または電子線を照射したり、加熱したりすることによって重合させることができる。紫外線照射時の配向度低下を抑制するために、多官能基をもつ液晶性材料を添加することもできる。バルク34Aを上述した筋状構造とする場合には、バルク34Aの原料として、2官能液晶性モノマーを用いることが好ましい。また、バルク34Aの原料に対して、液晶性を示す温度の調整を目的に単官能モノマーを添加したり、架橋密度向上を目的に3官能以上のモノマーを添加したりすることもできる。
駆動回路50は、例えば、一の光変調セル30−1において微粒子34Bの光軸AX2がバルク34Aの光軸AX1と平行もしくはほぼ平行となり、他の光変調セル30−2において微粒子34Bの光軸AX2がバルク34Aの光軸AX1と交差もしくは直交するように各光変調セル30−1の一対の電極(部分電極32A、上側電極36)へ印加する電圧の大きさを制御するようになっている。つまり、駆動回路50は、電場制御によって、バルク34Aおよび微粒子34Bの光軸AX1,AX2の向きを互いに一致(もしくはほぼ一致)させたり、互いに異ならせたり(もしくは直交させたり)することができるようになっている。
駆動回路50は、制御信号20Aとして三次元表示を指定する信号が入力されたときには、光変調素子30から複数の線状照明光を出力させるようになっている。具体的には、駆動回路50は、複数の部分電極32Aのうち特定の複数の部分電極32Bに、光変調層34が散乱性を示す電圧を印加するとともに、複数の部分電極32Aのうち複数の部分電極32Bを除く複数の部分電極32Cに、光変調層34が透明性を示す電圧を印加するようになっている。言い換えると、駆動回路50は、光変調素子30内の各セル30aにおいて微粒子34Bの光軸AX2がバルク34Aの光軸AX1と交差し、光変調素子30内のセル30bにおいて微粒子34Bの光軸AX2がバルク34Aの光軸AX1と平行となるように、各光変調セル30−1の一対の電極(部分電極32A、上側電極36)へ印加する電圧の大きさを制御するようになっている。これにより、駆動回路50は、部分電極32Bを含むセル30aに散乱領域30Bを生成させ、部分電極32Cを含むセル30bに透過領域30Aを生成させ、それによって、散乱領域30Bから線状照明光を出力させるようになっている。
また、駆動回路50は、制御信号20Aとして二次元表示を指定する信号が入力されたときには、光変調素子30から面状照明光を出力させるようになっている。具体的には、駆動回路50は、各部分電極32Aに、光変調層34が散乱性を示す電圧を印加するようになっている。言い換えると、駆動回路50は、光変調素子30に含まれる全ての光変調セル30−1において微粒子34Bの光軸AX2がバルク34Aの光軸AX1と交差または直交(もしくはほぼ直交)するように、各光変調セル30−1の一対の電極(部分電極32A、上側電極36)へ印加する電圧の大きさを制御するようになっている。これにより、駆動回路50は、各光変調セル30−1に散乱領域30Bを生成させ、それによって、散乱領域30Bから面状照明光を出力させるようになっている。
なお、駆動回路50は、制御信号20Aとして二次元表示を指定する信号が入力されるとともに、映像データに関する信号も入力されるときには、光変調素子30から、映像データに対応した輝度分布を持った面状照明光(例えば、面内の一部が暗い面状照明光)を出力させるようになっていてもよい。ただし、その場合には、下側電極32が表示パネルの画素に対応したレイアウトになっていることが好ましい。下側電極32が表示の画素に対応したレイアウトになっている場合に、駆動回路50は、映像データに応じて、複数の部分電極32Aの一部に、光変調層34が散乱性を示す電圧を印加するとともに、複数の部分電極32Aのうち、光変調層34が散乱性を示す電圧を印加していない1または複数の部分電極32Aに、光変調層34が透明性を示す電圧を印加するようになっている。
反射板40は、導光板10の背後から光変調素子30を介して漏れ出てきた光を導光板10側に戻すものである。反射板40は、例えば、反射、拡散、散乱などの機能を有している。これにより、光源20からの出射光を効率的に利用することができ、また、正面輝度の向上にも役立っている。反射板40の微細形状の表面は、鏡面となっていることが好ましい。この場合には、光変調層40からの出射光を正反射(鏡面反射)することができ、効率的に焦点C(後述)に反射することができる。反射板40は、例えば、発泡PET(ポリエチレンテレフタレート)や銀蒸着フィルム、多層膜反射フィルム、白色PETなどからなる。反射板40に正反射(鏡面反射)の機能を持たせる場合には、反射板40は、例えば、銀蒸着フィルム、多層膜反射フィルム、アルミニウム蒸着フィルムなどで構成されていることが好ましい。反射板40に微細形状を付与する場合は、反射板40は、熱可塑性樹脂を用いた熱プレス成型や溶融押し出し成型などの手法で一体的に形成されていてもよいし、また、例えばPETなどからなる基材上にエネルギー線(たとえば紫外線)硬化樹脂を塗布したのち、そのエネルギー線硬化樹脂に形状を転写して形成されていてもよい。ここで、熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、PMMA(ポリメチルメタクリレート樹脂)などのアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、MS(メチルメタクリレートとスチレンの共重合体)などの非晶性共重合ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂およびポリ塩化ビニル樹脂などが挙げられる。また、エネルギー線(たとえば紫外線)硬化樹脂に形状を転写する場合は、基材はガラスであってもよい。反射板40と光変調素子30の位置合わせが重要である場合には、反射板40と導光板10や透明基板31、透明基板37の材質は互いに同一であるか、もしくは線膨張係数の互いに近いものであることが好ましい。外温の変化や熱による位置ずれを防止するためである。
反射板40は、例えば、図16に示したように、光変調層34の底面から距離H1だけ離れた位置に配置されており、光変調層34側に反射面40Aを有している。反射面40Aは、光源20からの出射光の一部を光出射面1Aの方へ反射するものである。より具体的には、反射板40は、表示装置において三次元表示を行うときに、散乱領域30Bにおいて生成される線状照明光を反射することにより、焦点を結ぶ反射光を生成するものである。
なお、反射板40は、表示装置において三次元表示を行うときに、散乱領域30Bにおいて生成される、複数の点状照明光の集合体である線状照明光を反射することにより、焦点を結ぶ反射光を生成するものであってもよい。また、反射板40は、表示装置において2視点から互いに異なる二次元映像を視認可能な二次元表示を行うときに、散乱領域30Bにおいて生成される点状照明光を反射することにより、焦点を結ぶ反射光を生成するものであってもよい。
反射板40は、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)を通過する平面であって、かつ反射板40を含む平面と垂直な平面上またはその平面の近傍に反射光を反射するようになっている。より具体的には、反射板40は、線状照明光において、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)を通過する線分であって、かつ反射板40を含む平面の法線と平行な線分の上またはその線分の近傍に焦点を結ぶ反射光を生成する凹凸形状を有している。さらに、反射板40は、線状照明光において、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)と垂直な平面と交差する光の成分を考えた場合に、線状照明光からの光を、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)またはその近傍に反射する凹凸形状を有している。ここで、反射面40Aが、生成された光を、その光が生成された方へ反射させるようになっている場合、これを式で表すと、例えば以下のようになる。つまり、反射板40は、2次元再帰性の反射の性質を有している。
反射前の光のベクトルV=(Vx,Vy,Vz)
反射後の光のベクトルV=(Vx,−Vy,−Vz)
例えば、図16に示したように、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、反射板40は、線分AX3の上またはその線分AX3の近傍であって、かつ散乱領域30Bの直下に反射光が焦点Cを結ぶ凹凸形状を有している。このとき、焦点Cの位置と、反射板40の上面との距離H2は、距離H1よりも短くなっており、(H1/n1−W1)以上、H1未満となっていることが好ましい。ここで、反射板40の上面とは、反射板40の上面に形成された複数の頂部を含む平面を指している。なお、W1は、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)の幅である。n1は、反射板40の上面と、焦点Cの位置との間の領域の屈折率であり、本実施の形態では透明基板31の屈折率である。AX3は、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)を通過する線分であって、かつ反射板40を含む平面の法線と平行な線分である。
なお、例えば、図17に示したように、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、反射板40は、線分AX3の上またはその線分AX3の近傍であって、かつ散乱領域30Bの直上に反射光が焦点Cを結ぶ凹凸形状を有していてもよい。このとき、距離H2は、距離H1よりも長くなっており、H1よりも大きく、(H1/n1+W1)以下となっていることが好ましい。なお、例えば、図18に示したように、反射板40は、線分AX3の上またはその線分AX3の近傍であって、かつ散乱領域30B内に反射光が焦点Cを結ぶ凹凸形状を有していてもよい。このとき、距離H2は、距離H1と概ね等しくなる。
反射板40は、線状照明光を生成する部位(散乱領域30B)と対向する位置に、中心軸が焦点Cを通過する円柱の内面の一部を反射面40Aとして有している。反射面40Aは、散乱領域30Bと対向する位置が最も深くなっていることが好ましい。
焦点Cの位置は、図16、図17、図18を比較した場合、図16に記載した位置(散乱領域30Bの直下)となっていることが最も良い。このとき、焦点Cの位置は、H2=H1/n1を満たす位置となっていることが最も良い。反射板40の反射面40Aにおける立体形状のピッチP2は、光変調層34内の散乱領域30B(線状照明光を生成する部位)のピッチP1と一致しているか、またはほぼ一致していることが最も良い。この場合に、さらに、反射面40Aのうち円柱の内面の一部に相当する部分の半径は、(H22+(P1/2)2)1/2となっていることが最も良い。このようにした場合には、反射面40Aで反射された光が、焦点Cに向かって進み、透明基板31の底面で屈折され、散乱領域30Bに再帰的に到達する。
次に、反射板40によって生成される反射光の正面輝度分布および角度輝度分布について説明する。図19(A)は、光変調層34の散乱領域30Bから出射された光のうち光出射面1A側に出射された光L13の正面輝度分布および角度輝度分布の一例を表したものである。図19(B)は、光変調層34の散乱領域30Bから出射された光のうち光出射面1Aとは反対側に出射され、反射板40で反射された光L12の正面輝度分布および角度輝度分布の一例を表したものである。図19(A),(B)は、透明基板41の屈折率n=1.515、H1=700μm、H2=462μm(=H1/n)、焦点Cと反射面40Aとの距離(半径R)=526μm、P1=P2=504μm、W1=63μm、焦点Cが散乱領域30Bの直下にある、としたときの結果である。
なお、図19(A),(B)の左側のグラフが正面輝度分布であり、図19(A),(B)の右側のグラフが角度輝度分布である。正面輝度分布とは、光変調層34の法線方向に出射される光の面内の輝度分布を指しており、横軸の原点が散乱領域30Bの直上に対応している。角度輝度分布とは、散乱領域30B内の面内中心点を通過した光のうち、光変調層34の法線方向に発散する光の輝度分布の角度分布を指しており、横軸の原点が光変調層34の法線方向に対応している。
図19(A),(B)から、光L12の正面輝度分布および角度輝度分布は、光L13の正面輝度分布および角度輝度分布と同一またはほぼ同一となっていることがわかる。つまり、反射板40は、散乱領域30Bから光出射面1A側に出力される光の正面輝度分布および角度輝度分布をほとんど崩すことなく、光L13を散乱領域30Bに戻している。これは、反射光が光変調素子34の透過領域30Aに入射する割合を小さくすることができるという効果だけでなく、三次元表示に必要のない角度方向に出射する光を増やさないという効果もあることを意味している。
図20は、比較例に係る反射板41を、光源21と共に模式的に表したものである。反射板41は、光源21からの光を反射して平行光を生成する放物面を有している。図20において、光源21から上方に直接に出射された光が光L16であり、光源21から反射板41側に出射された光が光L14であり、光L14のうち反射板41で反射された光が光L15である。図21(A)は、光L16の正面輝度分布および角度輝度分布の一例を表したものである。図21(B)は、光L15の正面輝度分布および角度輝度分布の一例を表したものである。なお、図21(A),(B)の左側のグラフが正面輝度分布であり、図21(A),(B)の右側のグラフが角度輝度分布である。
図21(A),(B)から、光L15の正面輝度分布および角度輝度分布が、光L16の正面輝度分布および角度輝度分布とは全く異なっていることがわかる。光L15の正面輝度分布は、面内の場所によらずおおむね一定となっており、光L15が光変調素子34の透過領域30Aにかなりの割合で入射している。また、光L15の角度輝度分布が正面方向に大きく偏っており、三次元表示の際に表示品質の低下が懸念される。
図22は、比較例に係る反射板42を、光源21と共に模式的に表したものである。反射板42は、光源21からの光を正反射する平坦面を有している。図22において、光源21から上方に直接に出射された光が光L16であり、光源21から反射板42側に出射された光のうち反射板42で正反射された光が光L17である。図23(A)は、光L16の正面輝度分布および角度輝度分布の一例を表したものである。図23(B)は、光L17の正面輝度分布および角度輝度分布の一例を表したものである。なお、図23(A),(B)の左側のグラフが正面輝度分布であり、図23(A),(B)の右側のグラフが角度輝度分布である。
図23(A),(B)から、光L17の正面輝度分布および角度輝度分布が、光L16の正面輝度分布および角度輝度分布とは全く異なっていることがわかる。光L17の正面輝度分布は、正面方向にピークを持っているが、正面方向以外の方向にも大きな成分を持っており、光L17が光変調素子34の透過領域30Aにかなりの割合で入射している。また、光L17の角度輝度分布が角度によらず一定となっており、三次元表示の際に表示品質の低下が懸念される。
なお、本実施の形態において、反射板40は透明基板31と接着されていてもよい。反射板40と透明基板31との接着には、全面接着、外周部分の接着(表示領域以外の部分を環状に接着)、または点状接着(表示領域以外の部分を点状に接着)が考えられる。反射板40と透明基板31とを全面接着する場合には、反射板40の頂点部分を透明基板31に接着することが考えられる。このとき、反射板40の頂点部分が、若干の平坦面となっていてもよい。
また、本実施の形態において、反射板40は、例えば、図24に示したように、透明基板31と接する部位にブラック43を有していてもよい。このブラック43は、例えば、反射板40を透明基板31の裏面に固定する接着剤に黒色の顔料を混ぜたものであってもよい。
以下に、本実施の形態の照明装置1の製造方法について、図25(A)〜(C)から図27(A)〜(C)を参照しながら説明する。
まず、ガラス基板またはプラスチックフィルム基板からなる透明基板31上に、ITOなどの透明導電膜32Eを形成する(23(A))。次に、表面全体にレジスト層を形成したのち、パターニングによりレジスト層に電極パターンを形成する。続いて、露光、現像により下側電極32を形成し、レジスト層を除去する(図25(B))。
パターニングの方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法、レーザー加工法、パターン印刷法、スクリーン印刷法などを用いることが可能である。また、例えば、メルク社の"ハイパーエッチ"材料を用いてスクリーン印刷した後に所定の加熱を行い、その後、水洗することでパターニングを行うこともできる。電極パターンは駆動方法および部分駆動の分割数によって決定される。電極パターンは、例えば、使用する表示装置の画素ピッチか、それに近いピッチで加工される。電極の加工幅は、加工方法にも依存するが、光りの取り出し効率という観点においてできるだけ細いことが好ましい。電極の加工幅は、例えば、50μm以下、好ましくは20μm、さらに好ましくは5μm以下である。また、ITOナノ粒子をパターン印刷した後、それを焼成することによって電極パターンを形成してもよい。
次に、表面全体に配向膜33を塗布したのち、乾燥させ、焼成する(図25(C))。配向膜33としてポリイミド系材料を用いる場合には、溶媒にNMP(N−メチル−2−ピロリドン)を用いることが多いが、そのときには、大気下では200℃程度の温度が必要である。なお、この場合に、透明基板31としてプラスチック基板を用いる場合には、配向膜33を100℃で真空乾燥させ、焼成することもできる。その後、配向膜33に対してラビング処理を行う。これにより、配向膜33が水平配向用の配向膜として機能し、さらに配向膜33のラビング方向にプレチルトを形成することが可能となる。
同様にして、ガラス基板またはプラスチックフィルム基板からなる透明基板37上に、ITOなどの透明導電膜を形成する。次に、表面全体にレジスト層を形成したのち、パターニングによりレジスト層に電極パターンを形成する。続いて、露光、現像により上側電極36を形成し、レジスト層を除去する。次に、表面全体に配向膜35を塗布したのち、乾燥させ、焼成する。その後、配向膜35に対してラビング処理を行う。これにより、配向膜35が水平配向用の配向膜として機能し、さらに配向膜35のラビング方向にプレチルトを形成することが可能となる。
次に、配向膜33上に、セルギャップを形成するためのスペーサ38を乾式または湿式で散布する(図26(A))。なお、真空貼り合わせ法にて光変調セル30−1を作成する場合には、滴下する混合物中にスペーサ38を混合しておいてもよい。また、スペーサ38の替わりとして、フォトリソ法によって柱スペーサを形成することもできる。続いて、配向膜35上に、貼り合わせおよび液晶の漏れを防止するためのシール剤パターン39を、例えば額縁状に塗布する(図26(B))。このシール剤パターン39はディスペンサー法やスクリーン印刷法にて形成することができる。
以下に、真空貼り合わせ法(One Drop Fill法、ODF法)について説明するが、真空注入法やロール貼合方式などで光変調セル30−1を作成することも可能である。
まず、セルギャップ、セル面積などから決まる体積分にあたる液晶とモノマーの混合物44を面内に均一に滴下する(図26(C))。混合物44の滴下にはリニアガイド方式の精密ディスペンサーを用いることが好ましいが、シール剤パターン39を土手として利用して、ダイコータなどを用いてもよい。
液晶とモノマーは前述の材料を用いることができるが、液晶とモノマーの重量比は98:2〜50:50、好ましくは95:5〜75:25、より好ましくは92:8〜85:15である。液晶の比率を多くすることで駆動電圧を低くすることができるが、あまり液晶を多くしすぎると電圧印加時の白色度が低下したり、電圧オフ後に応答速度が低下するなど透明時に戻りにくくなったりする傾向がある。
混合物44には、液晶とモノマーの他には、重合開始剤を添加する。使用する紫外線波長に応じて、添加する重合開始剤のモノマー比を0.1〜10重量%の範囲内で調整する。混合物42には、この他に、重合禁止剤や可塑剤、粘度調整剤なども必要に応じて添加可能である。モノマーが室温で固体やゲル状である場合には、口金やシリンジ、基板を加温することが好ましい。
透明基板31および透明基板37を真空貼り合わせ機(図示せず)に配置したのち、真空排気し、貼り合わせを行う(図27(A))。その後、貼り合わせたものを大気に解放し、大気圧での均一加圧によってセルギャップを均一化する。セルギャップは白輝度(白色度)と駆動電圧の関係から適宜選定できるが、5〜40μm、好ましくは6〜20μm、より好ましくは7〜10μmである。
貼り合わせ後、必要に応じて配向処理を行うことが好ましい(図示せず)。クロスニコル偏光板の間に、貼り合わせたセルを挿入した際に、光り漏れが生じている場合には、セルをある一定時間加熱処理したり、室温で放置したりして配向させる。その後、紫外線L3を照射してモノマーを重合させてポリマー化する(図27(B))。このようにして、光変調素子30が製造される。
紫外線を照射している時には、セルの温度が変化しないようにすることが好ましい。赤外線カットフィルターを用いたり、光源にUV−LEDなどを用いたりすることが好ましい。紫外線照度は複合材料の組織構造に影響を与えるので、使用する液晶材料やモノマー材料、これらの組成から適宜調整することが好ましく、0.1〜500mW/cm2の範囲が好ましく、さらに好ましくは0.5〜30mW/cm2である。紫外線照度が低いほど駆動電圧が低くなる傾向にあり、生産性と特性の両面から好ましい紫外線照度を選定することができる。
そして、導光板10に光変調素子30を貼り合わせる(図27(C))。貼り合わせには、粘着、接着のいずれでもよいが、導光板10の屈折率と光変調素子30の基板材料の屈折率とにできるだけ近い屈折率の材料で粘着、接着することが好ましい。最後に、下側電極32および上側電極36に引き出し線(図示せず)を取り付ける。このようにして、本実施の形態の照明装置1が製造される。
このように、光変調素子30を作成し、最後に導光板10に光変調素子30を貼り合わせるプロセスを説明したが、導光板10の表面に、配向膜35を形成した透明基板37を予め貼り合わせてから、照明装置1を作成することもできる。また、枚葉方式、ロール・ツー・ロール方式のいずれでも照明装置1を作成することができる。
次に、本実施の形態の照明装置1の作用および効果について説明する。
本実施の形態の照明装置1では、三次元表示のときに、各セル30aにおいて微粒子34Bの光軸AX2がバルク34Aの光軸AX1と交差もしくは直交し、各セル30bにおいて微粒子34Bの光軸AX2がバルク34Aの光軸AX1と平行もしくはほぼ平行となるように、各光変調セル30−1の一対の電極(部分電極32A、上側電極36)に電圧が印加される。これにより、光変調素子30において、各セル30aが散乱領域30Bとなり、各セル30bが透過領域30Aとなる。その結果、光源20から出射され、導光板10内に入射した光は、光変調素子30のうち透過領域30Aを透過し、光変調素子30のうち散乱領域30Bにおいて散乱される(図14)。この散乱光のうち散乱領域30Bの下面を透過した光は反射板40で反射され、再度、導光板10に戻されたのち、照明装置1の上面から出射される。また、散乱光のうち、散乱領域30Bの上面に向かった光は、導光板10を透過したのち、照明装置1の上面から出射される。このように、三次元表示のときには、透過領域30Aの上面からは光はほとんど出射されず、散乱領域30Bの上面から光が出射される。このようにして、例えば、図14に示したように、正面方向に線状照明光が出力される。
また、本実施の形態の照明装置1では、二次元表示のときに、例えば、各光変調セル30−1において微粒子34Bの光軸AX2がバルク34Aの光軸AX1と交差もしくは直交するように、各光変調セル30−1の一対の電極(部分電極32A、上側電極36)に電圧が印加される。これにより、光源20から出射され、導光板10内に入射した光は、光変調素子30の全体に形成された散乱領域30Bにおいて散乱される。この散乱光のうち散乱領域30Bの下面を透過した光は反射板40で反射され、再度、導光板10に戻されたのち、照明装置1の上面から出射される。また、散乱光のうち、散乱領域30Bの上面に向かった光は、導光板10を透過したのち、照明装置1の上面から出射される。このように、二次表示のときには、例えば、光変調素子30の上面全体から光が出射され、正面方向に、面状照明光が出力される。
ところで、本実施の形態では、三次元表示に際して、パララックスバリアを設ける必要がない。また、仮に、パララックスバリアを、照明装置1の光出射側に設けたとしても、そのときに、光変調層34の一部を散乱領域30Bとし、その散乱領域30Bをパララックスバリアの光透過領域に対応させることで、光変調層34から出力された光がパララックスバリアで吸収される割合を極めて低くすることができる。また、本実施の形態では、三次元表示に際して、シリンドリカルレンズを必要としないので、シリンドリカルレンズに起因する収差の問題が生じる虞はない。
また、本実施の形態では、線状照明光のうち反射板40側に出射した光が反射板40で反射されることにより、焦点を結ぶ反射光L12が生成される。これにより、反射光L12の正面強度分布および角度強度分布を、線状照明光のうち反射板40とは反対側に出射した光L13の正面強度分布および角度強度分布に近づけることができる。その結果、反射板の上面を平坦面で構成した場合(図22参照)や、平行光を生成する放物曲面で構成した場合(図20参照)と比べて、三次元表示の際に、反射光L13が散乱領域30Bとは異なる領域(つまり透過領域30A)を通過して上面から出射される割合を減らすことができる。さらに、反射光L12が三次元表示に必要のない角度方向に出射される割合を少なくすることもできる。これにより、このような照明装置1を三次元表示用の表示装置のバックライトとして適用した場合に、三次元表示における二重像の生成を低減することができる。従って、三次元表示における表示品質が向上する。
次に、本実施の形態の照明装置1の他の効果について説明する。
一般に、PDLCは、液晶材料と等方性の低分子材料とを混合し、紫外線照射や溶媒の乾燥などにより相分離を起こさせることによって形成され、液晶材料の微小粒子が高分子材料中に分散された複合層となっている。この複合層中の液晶材料は、電圧無印加時にはランダムな方向を向いているので散乱性を示すが、電圧印加時には電場方向に配向するので、液晶材料の常光屈折率と高分子材料の屈折率とが互いに等しい場合には、正面方向(PDLCの法線方向)において高い透明性を示す。しかし、この液晶材料では、斜め方向においては、液晶材料の異常光屈折率と高分子材料の屈折率との差が顕著となり、正面方向が透明性であっても斜め方向において散乱性が発現してしまう。
通常、PDLCを使った光変調素子は、表面に透明導電膜の形成された2枚のガラス板の間にPDLCを挟み込んだ構造となっていることが多い。上述したような構造を有する光変調素子に対して空気中から斜めに光が入射した場合には、その斜め方向から入射した光は空気とガラス板の屈折率差によって屈折し、より小さな角度でPDLCに入射することになる。そのため、このような光変調素子においては、大きな散乱は生じない。例えば、空気中から80°の角度で光が入射した場合には、その光のPDLCへの入射角はガラス界面での屈折によって40°程度にまで小さくなる。
しかし、導光板を用いたエッジライト方式では、導光板越しに光が入射するので、光が80°程度の大きな角度でPDLC中を横切ることになる。そのため、液晶材料の異常光屈折率と高分子材料の屈折率との差が大きく、さらに、より大きな角度で光がPDLC中を横切るので、散乱を受ける光路も長くなる。例えば、常光屈折率1.5、異常光屈折率1.65の液晶材料の微小粒子が屈折率1.5の高分子材料中に分散されている場合には、正面方向(PDLCの法線方向)においては屈折率差がないが、斜め方向においては屈折率差が大きくなる。このため、斜め方向の散乱性を小さくすることができないので、視野角特性が悪い。さらに、導光板上に拡散フィルムなどの光学フィルムを設けた場合には、斜め漏れ光が拡散フィルムなどによって正面方向にも拡散されるので、正面方向の光漏れが大きくなり、正面方向の変調比が低くなってしまう。
一方、本実施の形態では、バルク34Aおよび微粒子34Bが光学異方性材料を主に含んで形成されているので、斜め方向において、散乱性が小さくなり、透明性を向上させることができる。例えば、バルク34Aおよび微粒子34Bが、互いに常光屈折率が等しく、かつ互いに異常光屈折率も等しい光学異方性材料を主に含んで構成され、かつ、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない領域では、これらの光軸の向きが一致もしくはほぼ一致する。これにより、正面方向(光変調素子30の法線方向)および斜め方向を含むあらゆる方向において屈折率差が少なくなるか、またはなくなり、高い透明性が得られる。その結果、視野角の大きい範囲における光の漏洩を低減またはほとんどなくすることができ、視野角特性を良くすることができる。
例えば、常光屈折率1.5、異常光屈折率1.65の液晶と、常光屈折率1.5、異常光屈折率1.65の液晶性モノマーとを混合し、配向膜または電界によって液晶と液晶性モノマーを配向させた状態で液晶性モノマーを重合させると、液晶の光軸と、液晶性モノマーが重合することによって形成されたポリマーの光軸とが互いに一致する。これにより、あらゆる方向で屈折率を一致させることができるので、そのようにした場合には、透明性が高い状態を実現でき、より一層、視野角特性を良くすることができる。
また、本実施の形態では、例えば、図14(A),(B)に示したように、透過領域30Aの輝度(黒表示の輝度)が、全面を均一に発光させた場合(図14(B)中の一点鎖線)と比べて下がっている。他方、散乱領域30Bの輝度は、全面を均一に発光させた場合(図14(B)中の一点鎖線)と比べて極めて高くなり、しかも、透過領域30Aの輝度が低下した分だけ、部分的な白表示の輝度(輝度突き上げ)が大きくなる。
ところで、輝度突き上げとは、全面白表示した場合に比べて、部分的に白表示を行った場合の輝度を高くする技術である。CRTやPDPなどでは一般によく使われている技術である。しかし、液晶ディスプレイでは、バックライトは画像にかかわらず全体に均一発光しているので、部分的に輝度を高くすることはできない。もっとも、バックライトを、複数のLEDを2次元配置したLEDバックライトとした場合には、LEDを部分的に消灯することは可能である。しかし、そのようにした場合には、LEDを消灯した暗領域からの拡散光がなくなるので、全てのLEDを点灯した場合と比べて、輝度が低くなってしまう。また、部分的に点灯しているLEDに対して流す電流を大きくすることにより、輝度を増やすことも可能であるが、そのようにした場合には、非常に短時間に大電流が流れるので、回路の負荷や信頼性の点で問題が残る。
一方、本実施の形態では、バルク34Aおよび微粒子34Bが光学異方性材料を主に含んで形成されているので、斜め方向の散乱性が抑制され、暗状態での導光板からの漏れ光が少ない。これにより、部分的な暗状態の部分から部分的な明状態の部分に導光するので、照明装置1への投入電力を増やすことなく、輝度突き上げを実現することができる。
また、本実施の形態では、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加されていない領域において、微粒子34Bの光軸AX2が、導光板10の光入射面10Aと平行となっており、かつ透明基板31,37の表面と僅かな角度θ1で交差している。つまり、微粒子34B内に含まれる液晶分子が、光入射面10Aと平行な面内において角度θ1だけ傾斜した状態(プレチルト角が付与された状態)で配向している。そのため、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加された時に、微粒子34B内に含まれる液晶材料は、ランダムな方位に立ち上がることはなく、光入射面10Aと平行な面内で立ち上がる。このとき、バルク34Aおよび微粒子34Bの光軸AX1,AX2が、光入射面10Aと平行な面内において互いに交差もしくは直交する。この場合に、導光板10の光入射面10Aから入射した光において、透明基板31に対して垂直に振動する光は、微粒子34Bの異常光屈折率とバルク34Aの常光屈折率との差を感じる。このとき、微粒子34Bの異常光屈折率とバルク34Aの常光屈折率との差は大きいことから、透明基板31に対して垂直に振動する光の散乱効率が高くなる。一方、透明基板31に対して平行に振動する光は、微粒子34Bの常光屈折率とバルク34Aの異常光屈折率の差を感じる。このとき、微粒子34Bの常光屈折率とバルク34Aの異常光屈折率の差も大きいことから、透明基板31に対して平行に振動する光の散乱効率も高くなる。従って、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加された領域を伝播する光は、斜め方向の成分を多く含む。例えば、導光板10としてアクリル導光板を用いた場合には、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加された領域内の光は、41.8°以上の角度で伝播する。その結果、斜め方向を含むあらゆる方向において屈折率差が大きくなり、高い散乱性が得られるので、表示輝度を向上させることができる。また、上記の輝度突き上げの効果により、表示輝度をさらに向上させることができる。
ところで、例えば、電圧無印加時に導光板10の光入射面10Aに垂直に、バルク34Aおよび微粒子34Bの光軸AX1,AX2を配置し、下側電極32および上側電極36間に電圧が印加された時に、微粒子34B内に含まれる液晶材料が、光入射面10Aと垂直な面内で立ち上がるようにした場合には、透明基板31に対して垂直に振動する光は、前述した場合と同様に、微粒子34Bの異常光屈折率とバルク34Aの常光屈折率との差を感じるが、透明基板31に対して平行方向に振動する光は、微粒子34Bの常光屈折率とバルク34Aの常光屈折率との差を感じることになる。ここで、微粒子34Bの常光屈折率とバルク34Aの常光屈折率との差は、ほとんどないか、または全くない。そのため、光入射面10Aから入射した光において、透明基板31に対して垂直に振動する光は、前述した場合と同様に大きな屈折率差を感じるが、透明基板31に対して平行方向に振動する光は、屈折率差をほとんど感じないか、または全く感じない。その結果、透明基板31に対して垂直に振動する光の散乱効率は高くなるが、透明基板31に対して平行に振動する光の散乱効率は低いか、または、ゼロとなる。従って、光入射面10Aに対して光軸AX1,AX2を垂直に配置した場合には、光入射面10Aに対して光軸AX1,AX2を平行に配置した場合に比べて、散乱効率が低くなるので、導光板10から取り出せる輝度が、本実施の形態の光変調素子30よりも低くなる。
以上のことから、本実施の形態では、視野角の大きい範囲における光の漏洩を低減またはほとんどなくしつつ、表示輝度を向上させることができる。その結果、正面方向の変調比を高くすることができる。
<2.第1の実施の形態の変形例>
次に、上記の第1の実施の形態の変形例について説明する。なお、互いに矛盾の無い範囲で、下記の変形例同士を互いに組み合わせたものを、上記の第1の実施の形態に係る表示装置1に適用することが可能である。
[第1変形例]
上記実施の形態では、光変調素子30は、導光板10の背後(下面)に空気層を介さずに密着して接合されていたが、例えば、図28に示したように、導光板10の上面に空気層を介さずに密着して接合されていてもよい。また、光変調素子30は、例えば、図29に示したように、導光板10の内部に設けられていてもよい。ただし、この場合でも、光変調素子30は、導光板10と空気層を介さずに密着して接合されていることが必要である。
[第2変形例]
また、上記実施の形態およびその変形例では、導光板10の上に特に何も設けられていなかったが、例えば、図30に示したように、光学シート90(例えば、拡散板、拡散シート、レンズフィルム、偏光分離シートなど)を設けてもよい。このようにした場合には、導光板10から斜め方向に出射した光の一部が正面方向に立ち上がるので、正面輝度を効果的に向上させることができる。
[第3変形例]
また、上記実施の形態およびその変形例では、上側電極36が面全体に形成されたベタ膜となっており、下側電極32が帯状の複数の部分電極32Aによって構成されていたが、例えば、上側電極36が帯状の複数の部分電極32Aによって構成され、下側電極32が面全体に形成されたベタ膜となっていてもよい。また、例えば、下側電極32が帯状の複数の部分電極32Aによって構成され、上側電極36も帯状の複数の部分電極32Aによって構成されていてもよい。
[第4変形例]
また、上記実施の形態およびその変形例において、下側電極32がブロック状の複数の部分電極32Aが行列状に配置されたものであった場合に、各部分電極32Aに、TFTのソースまたはドレインが接続され、TFTのゲートに走査線が接続され、TFTのソースおよびドレインのうち部分電極32Aに未接続の方がデータ線に接続されていてもよい。この場合に、駆動回路50が、複数の走査線を順次選択すると共に、各データ線に、映像信号に対応する信号電圧を印加するようになっていてもよい。つまり、駆動回路50が、各部分電極32Aをアクティブマトリクス駆動するようになっていてもよい。
[第5変形例]
また、上記実施の形態およびその変形例において、各部分電極32Aに対して、光源20からの距離に拘わらず同一の電圧が駆動回路50から印加されるようになっていてもよいし、光源20からの距離に応じた電圧が駆動回路50から印加されるようになっていてもよい。このようにした場合には、照明装置1上面の一部分だけが白輝度となるような照明光を出力したときに、その白輝度となる部分が光源20に近いときと、光源20から遠いときとで、白輝度の大きさに差が生じる虞を低減することができる。
[第6変形例]
また、上記実施の形態およびその変形例において、透明基板31および透明基板37のうち少なくとも一方が、導光板10と一体に形成されたものであってもよい。例えば、上記実施の形態およびそれらの変形例において、透明基板37が導光板10と接している場合には、透明基板37が導光板10と一体に形成されていてもよい。このとき、透明基板37は、「第1透明基板」または「第2透明基板」の一具体例に相当する。また、例えば、上記実施の形態およびそれらの変形例において、透明基板31が導光板10と接している場合には、透明基板31が導光板10と一体に形成されていてもよい。このとき、透明基板31は、「第1透明基板」または「第2透明基板」の一具体例に相当する。また、例えば、上記実施の形態およびそれらの変形例において、透明基板31,37がともに導光板10と接している場合には、透明基板31,37が導光板10と一体に形成されていてもよい。このとき、透明基板31または透明基板37が、「第1透明基板」または「第2透明基板」の一具体例に相当する。
[第7変形例]
また、上記実施の形態およびその変形例において、各部分電極32Aが、面内の一の方向であって、かつ光入射面10Aと交差または直交(もしくはほぼ直交)する方向に延在する帯状の形状となっている場合に、例えば、図31に示したように、各部分電極32Aのうち、表示パネル内の1つの画素210aに使われる部分の面積(図中のグレー部分の面積)が、光源20からの距離に応じて変化していてもよい。このとき、部分電極32Aによって生成される帯状照明光の、単位面積あたりの発光面積も、光源20からの距離に応じて変化している。
具体的には、各部分電極32Aの幅が、光源20からの距離に応じて変化しており、光源20寄りの箇所で相対的に細く、光源20から離れた箇所で相対的に太くなっている。例えば、図31に示したように、各部分電極32Aの幅が、光源20からの距離に比例して太くなっている。このとき、部分電極32Aによって生成される帯状照明光の幅も、光源20寄りの箇所で相対的に細く、光源20から離れた箇所で相対的に太くなっている。
また、例えば、各部分電極32Aが、ブロック形状となっており、かつ複数の部分電極32Aが2次元配置されている場合に、例えば、図32に示したように、各線状電極32Dのうち、表示パネル210内の1つの画素210aに使われる部分の面積(図中のグレー部分の面積)が、光源20からの距離に応じて変化していてもよい。
[第8変形例]
また、上記各実施の形態およびその変形例において、上側電極36が、面内全体に渡って形成された1枚のベタ膜(面状電極)となっている場合に、その面状電極内に、パターニングを有していてもよい。例えば、図33、図34に例示したように、上側電極36が、複数の開口Hを有していてもよい。開口Hは、例えば、円形状、楕円形状、方形状、多角形状など、種々の形状を採ることができる。
ここで、開口Hの半径は光源20からの距離に応じて異なっていてもよい。例えば、図33、図34に示したように、開口Hの半径は、光入射面10Aと直交する方向において、光源20寄りの箇所で相対的に大きく、光源20から離れた箇所で相対的に小さくなっていることが好ましい。このようにした場合には、光入射面10Aと直交する方向において、光源20寄りの輝度を、開口Hを設けていない場合よりも低く抑え、かつ光源20から離れた箇所の輝度を、開口Hを設けていない場合よりも高くすることができる。その結果、例えば、照明装置1の光射出領域全体を明状態とした場合に、面内輝度を均一化することができる。また、例えば、光入射面10Aと直交する方向において、光源20に近い領域と、光源20から遠い領域とにおいて白表示をしたときに、双方の領域の白輝度を等しくすることが可能となる。
さらに、光源20が、複数の光源ブロック21(または複数の光源21)からなる場合に、互いに隣接する2つの光源ブロック21間(または互いに隣接する2つの複数の光源21間)の距離が、互いに隣接する2つの部分電極32A間の距離と比べて長い場合には、開口Hの半径は、光入射面10Aと平行な方向において、光源ブロック25(または光源21)寄りの箇所で相対的に大きく、光源ブロック25(または光源21)から離れた箇所で相対的に小さくなっていることが好ましい。このようにした場合には、光入射面10Aと平行な方向において、光源ブロック25(または光源21)寄りの輝度を、開口Hを設けていない場合よりも低く抑え、かつ光源ブロック25(または光源21)から離れた箇所の輝度を、開口Hを設けていない場合よりも高くすることができる。その結果、例えば、照明装置1の光射出領域全体を明状態とした場合に、面内輝度を均一化することができる。また、例えば、光入射面10Aと平行な方向において、光源ブロック25(または光源21)に近い領域と、光源ブロック25(または光源21)から遠い領域とにおいて白表示をしたときに、双方の領域の白輝度を等しくすることが可能となる。
[第9変形例]
また、上記実施の形態およびその変形例において、散乱領域30Bが点状照明光を生成するときに、反射板40は、球面の一部を反射面40Aとして有していてもよい。このとき、反射板40は、散乱領域30Bと対向する位置が最も深くなっていることが好ましい。反射板40がこのような反射面40Aを有している場合であっても、この照明装置1を三次元表示用の表示装置のバックライトとして適用した場合に、三次元表示における二重像の生成を低減することができる。従って、三次元表示における表示品質が向上する。
[第10変形例]
また、上記実施の形態およびその変形例において、配向膜33,35として水平配向膜が用いられていたが、垂直配向膜が用いられていてもよい。ただし、その場合には、微粒子34B内に含まれる液晶分子として、負の誘電率異方性を有するもの(いわゆるネガ型液晶)を用いることが好ましい。
[第11変形例]
また、上記実施の形態およびその変形例において、例えば、図35に示したように、導光板10の上面にバリア層80が設けられていてもよい。
バリア層80は、三次元表示を行うときに、照明装置1の光出力領域を、各散乱領域30Bとの対向領域またはそれに対応する領域に限定し、各散乱領域30Bに隣接する領域(つまり透過領域30A)から出力され得るノイズ光を遮断するものである。また、バリア層80は、二次元表示を行うときに、照明装置1の光出力領域を、全ての散乱領域30Bとの対向領域またはそれに対応する領域に拡張し、全ての散乱領域30Bから出力される光を透過するものである。
バリア層80は、例えば、図35、図36に示したように、反射板40側から順に、偏光板81、透明基板82、透明電極83、配向膜84、液晶層85、配向膜86、透明電極87、透明基板88および偏光板89を有している。
透明基板82,88は、可視光に対して透明な基板、例えば板ガラスからなる。なお、反射板40側の透明基板82には、例えば、図示しないが、透明電極83に電気的に接続されたTFTおよび配線などを含むアクティブ型の駆動回路が形成されている。透明電極83,87は、例えばITOからなる。透明電極83は、例えば、図36に示したように、複数の部分電極83Aによって構成されている。複数の部分電極83Aは、透明基板82上に形成されている。
複数の部分電極83Aは、面内の一の方向(光入射面70Aに平行な方向)に延在する帯状の形状となっている。複数の部分電極83Aのうち特定の複数の部分電極83aの幅は、複数の部分電極83Aのうち部分電極83aを除く複数の部分電極83bの幅と同一またはほぼ同一となっている。なお、図37に示したように、部分電極83aの幅が、部分電極83bの幅よりも狭くなっていてもよい。
複数の部分電極83aは、表示装置において三次元表示を行うときに、線状照明光の透過、遮断に用いられるものである。複数の部分電極83aは、表示装置において三次元表示を行うときの画素のピッチP3(図61参照)に対応するピッチ(ピッチP3と同一ピッチまたはそれに近いピッチ)で配列されている。複数の部分電極83aおよび複数の部分電極83bは、配列方向(光入射面70Aと直交する方向)において規則的に配列されている。例えば、1つの部分電極83aおよび2つの部分電極83bを一組として、複数組の部分電極群が光入射面10Aと直交する方向に配列されている。なお、表示装置におい二次元表示を行うときには、面状照明光を生成するために、全ての部分電極83Aが用いられる。
透明電極87は、透明基板88上に一面に形成されたものであり、各部分電極83Aに対して対向する共通電極として機能する。配向膜84,86は、例えばポリイミドなどの高分子材料からなり、液晶に対して配向処理を行う。液晶層85は、例えば、VAモード、TNモードまたはSTNモードの液晶からなり、駆動回路50からの印加電圧により、導光板70側からの光の偏光軸の向きを部分電極83Aとの対向部分ごとに変える機能を有する。偏光板81,89は、光学シャッタの一種であり、ある一定の振動方向の光(偏光)のみを通過させる。なお、偏光板81,89は、透過軸以外の振動方向の光(偏光)を吸収する吸収型の偏光素子であってもよいが、導光板70側に反射する反射型の偏光素子であってもよい。偏光板81,89はそれぞれ、偏光軸が互いに90°異なるように又は平行に配置されており、これにより導光板70側からの光が液晶層85を介して透過し、あるいは遮断されるようになっている。
駆動回路50は、制御信号204Aとして三次元表示を指定する信号が入力されたときには、バリア層80をスリット状の光透過部として機能させるようになっている。具体的には、駆動回路50は、複数の部分電極83Aのうち特定の複数の部分電極83aに、バリア層80が透過性を示す電圧を印加するとともに、複数の部分電極83Aのうち複数の部分電極83aを除く複数の部分電極83bに、バリア層80が遮光性を示す電圧を印加するようになっている。
また、駆動回路50は、制御信号204Aとして二次元表示を指定する信号が入力されたときには、バリア層80全体を光透過部として機能させるようになっている。具体的には、駆動回路50は、各部分電極83Aに、バリア層80が透過性を示す電圧を印加するようになっている。
本変形例では、照明装置1の光出射側に、バリア層80が設けられているので、導光板10から複数の線状照明光が出力されているときに、散乱領域30Bに隣接する領域から出力され得るノイズ光を遮断することができる。これにより、三次元表示の際に、所定の画素に対して各線状照明光が入射する角度とは異なる角度で入射する光を低減することができる。その結果、鮮明な三次元映像を得ることができる。
<3.第2の実施の形態>
図38は、第2の実施の形態に係る照明装置2の断面構成を表すものである。照明装置2は、表示装置のバックライトとして適用可能なものであり、例えば、図38に示したように、反射板40と、反射板40の上に配置した光源60とを備えている。なお、光源60が、「照明光学系」の一具体例に相当する。
光源60は、例えば、図39に示したように、複数の光源61によって構成されている。各光源61は、例えば、図39に示したように、面内の一の方向(例えば光入射面10Aに平行な方向)に延在する線状光源である。複数の光源61のうち特定の複数の光源61(以下、「光源61a」と称する。)は、表示装置において三次元表示を行うときに、線状照明光の生成に用いられるものである。複数の光源61aは、表示装置において三次元表示を行うときの画素のピッチP3(図61参照)に対応するピッチP1(画素のピッチP3と同一ピッチまたはそれに近いピッチ)で配列されている。
複数の光源61のうち光源61aを除く複数の光源61(以下、「光源61b」と称する。)は、表示装置において二次元表示を行うときに、光源61aと共に、面状照明光の生成に用いられるものである。つまり、表示装置において二次元表示を行うときには、面状照明光を生成するために、全ての光源61が用いられる。複数の光源61aおよび複数の光源61bは、光入射面10Aと直交する方向において規則的に配列されている。例えば、図39に示したように、1つの光源61aおよび2つの光源61bを一組として、複数組の部分電極群が光入射面10Aと直交する方向に配列されている。光源61の幅は、例えば、表示装置の画素の幅よりも狭くなっている。
各光源61は、例えば、図40に示したように、ブロック形状となっており、かつ複数の光源61が2次元配置されていてもよい。この場合には、複数の光源61を1つの線状光源62とみなしたときに、各線状光源62が上記の光源61a,61bとして用いられてもよい。例えば、複数の線状光源62のうち特定の複数の線状光源62(線状光源62a)が、光源61aとして用いられる。さらに、例えば、複数の線状光源62のうち線状光源61aとして用いられるものを除く複数の線状光源62(線状光源62b)が、光源61bとして用いられる。
なお、各光源61がブロック形状となっており、かつ複数の光源61が2次元配置されている場合に、表示装置において三次元表示を行うときに、個々の光源61が点状照明光の生成に用いられてもよい。また、各光源61がブロック形状となっており、かつ複数の光源61が2次元配置されている場合に、表示装置において2視点から互いに異なる二次元映像を視認可能な二次元表示を行うときにも、個々の光源61が点状照明光の生成に用いられてもよい。
また、例えば、図41に示したように、各光源61が、光入射面10Aと直角以外の角度で斜めに交差する方向に延在していてもよい。また、各光源61がブロック形状となっており、かつ複数の光源61が2次元配置されている場合に、例えば、図42に示したように、各線状光源62が、光入射面10Aと直角以外の角度で斜めに交差する方向に延在していてもよい。
本実施の形態において、反射板40は、光源60からの光を光源60側に戻すものである。反射板40は、例えば、反射、拡散、散乱などの機能を有している。これにより、光源60からの出射光を効率的に利用することができ、また、正面輝度の向上にも役立っている。反射板40の微細形状の表面は、鏡面となっていることが好ましい。この場合には、光源60からの出射光を正反射(鏡面反射)することができ、効率的に焦点Cに反射することができる。反射板40の材料は、上記の第1の実施の形態で既に述べたものと同様のものからなる。
反射板40は、例えば、図43に示したように、光源61から距離H1だけ離れた位置に配置されており、光源61側に反射面40Aを有している。反射面40Aは、光源60からの出射光の一部を、照明装置2の上面の方へ反射するものである。より具体的には、反射板40は、表示装置において三次元表示を行うときに、光源61aにおいて生成される線状照明光を反射することにより、焦点を結ぶ反射光を生成するものである。
なお、反射板40は、各光源61が点状照明光を生成する場合であって、かつ表示装置において三次元表示を行うときに、各点状照明光を反射することにより、焦点を結ぶ線状の反射光を生成するものであってもよい。また、反射板40は、各光源61が点状照明光を生成する場合であって、かつ表示装置において2視点から互いに異なる二次元映像を視認可能な二次元表示を行うときに、各点状照明光を反射することにより、焦点を結ぶ線状の反射光を生成するものであってもよい。
反射板40は、線状照明光を生成する部位(光源61a)を通過する平面であって、かつ反射板40を含む平面と垂直な平面上またはその平面の近傍に反射光を反射するようになっている。より具体的には、反射板40は、線状照明光において、線状照明光を生成する部位(光源61a)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、線状照明光を生成する部位(光源61a)を通過する線分であって、かつ反射板40を含む平面の法線と平行な線分の上またはその線分の近傍に焦点を結ぶ反射光を生成する凹凸形状を有している。さらに、反射板40は、線状照明光において、線状照明光を生成する部位(光源61a)と垂直な平面と交差する光の成分を考えた場合に、線状照明光からの光を、線状照明光を生成する部位(光源61a)またはその近傍に反射する凹凸形状を有している。ここで、反射面40Aが、生成された光を、その光が生成された方へ反射させるようになっている場合、これを式で表すと、例えば以下のようになる。つまり、反射板40は、2次元再帰性の反射の性質を有している。
反射前の光のベクトルV=(Vx,Vy,Vz)
反射後の光のベクトルV=(Vx,−Vy,−Vz)
例えば、図43に示したように、線状照明光を生成する部位(光源61a)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、反射板40は、線分AX3の上またはその線分AX3の近傍であって、かつ光源61aの直下に反射光が焦点Cを結ぶ凹凸形状を有している。このとき、焦点Cの位置と、反射板40の上面との距離H2は、距離H1よりも短くなっており、(H1/n1−W1)以上、H1未満となっていることが好ましい。なお、n1は、反射板40の上面と、焦点Cの位置との間の領域の屈折率であり、本実施の形態では例えば大気の屈折率である。
なお、例えば、図44に示したように、線状照明光を生成する部位(光源61a)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、反射板40は、線分AX3の上またはその線分AX3の近傍であって、かつ光源61aの直上に反射光が焦点Cを結ぶ凹凸形状を有していてもよい。このとき、距離H2は、距離H1よりも長くなっており、H1よりも大きく、(H1/n1+W1)以下となっていることが好ましい。また、例えば、図45に示したように、線状照明光を生成する部位(光源61a)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、反射板40は、線分AX3の上またはその線分AX3の近傍であって、かつ光源61a内に反射光が焦点Cを結ぶ凹凸形状を有していてもよい。このとき、距離H2は、距離H1と概ね等しくなる。
反射板40は、中心軸が焦点Cを通過する円柱の内面の一部を反射面40Aとして有している。反射面40Aは、光源61aと対向する位置が最も深くなっていることが好ましい。
焦点Cの位置は、図43、図44、図45を比較した場合、図45に記載した位置(光源61a内)となっていることが最も良い。このとき、焦点Cの位置は、H2=H1/n1を満たす位置となっていることが最も良い。反射板40の反射面40Aにおける立体形状のピッチP2は、光源61(線状照明光を生成する部位)のピッチP1と一致しているか、またはほぼ一致していることが最も良い。この場合に、さらに、反射面40Aのうち円柱の内面の一部に相当する部分の半径は、(H22+(P1/2)2)1/2となっていることが最も良い。このようにした場合には、反射面40Aで反射された光が、焦点Cに向かって進み、光源61に再帰的に到達する。なお、本実施の形態における反射板40によって生成される反射光の正面輝度分布および角度輝度分布は、上記第1の実施の形態における反射板40のそれらと同様である。
次に、本実施の形態の照明装置2の作用および効果について説明する。
本実施の形態の照明装置2では、三次元表示のときに、光源60において、各光源61aが発光し、各光源61bが消光している。各光源61aから発せられた光は直接、正面方向に出射されると共に、反射板40で反射された光が正面方向に出射される。これにより、正面方向に線状照明光が出力される。
また、本実施の形態の照明装置2では、二次元表示のときに、光源60において、全ての光源61が発光している。各光源61から発せられた光は直接、正面方向に出射されると共に、反射板40で反射された光が正面方向に出射される。これにより、正面方向に面状照明光が出力される。
ところで、本実施の形態では、三次元表示に際して、パララックスバリアを設ける必要がない。また、仮に、パララックスバリアを、照明装置2の光出射側に設けたとしても、そのときに、複数の光源61のうちのパララックスバリアの光透過領域に対応する光源61を選択的に発光させることで、光源60から出力された光がパララックスバリアで吸収される割合を極めて低くすることができる。また、本実施の形態では、三次元表示に際して、シリンドリカルレンズを必要としないので、シリンドリカルレンズに起因する収差の問題が生じる虞はない。
また、本実施の形態では、線状照明光が反射板40で反射されることにより、焦点を結ぶ反射光L12が生成される。これにより、反射光L12の正面強度分布および角度強度分布を、線状照明光のうち反射板40とは反対側に出射された光L13の正面強度分布および角度強度分布に近づけることができる。その結果、反射板の上面を平坦面で構成した場合(図22参照)や、平行光を生成する放物曲面で構成した場合(図20参照)と比べて、三次元表示の際に、反射光L13が光源61とは異なる領域を通過して上面から出射される割合を減らすことができる。さらに、反射光L13が三次元表示に必要のない角度方向に出射される割合を少なくすることもできる。これにより、このような照明装置2を三次元表示用の表示装置のバックライトとして適用した場合に、三次元表示における二重像の生成を低減することができる。従って、三次元表示における表示品質が向上する。
<4.第2の実施の形態の変形例>
上記第2の実施の形態において、光源61が点状照明光を生成するときに、反射板40は、球面の一部を反射面40Aとして有していてもよい。このとき、反射板40は、光源61と対向する位置が最も深くなっていることが好ましい。反射板40がこのような反射面40Aを有している場合であっても、この照明装置2を三次元表示用の表示装置のバックライトとして適用した場合に、三次元表示における二重像の生成を低減することができる。従って、三次元表示における表示品質が向上する。
<5.第3の実施の形態>
図46は、第3の実施の形態に係る照明装置3の断面構成を表すものである。この照明装置3は、表示装置のバックライトとして適用可能なものであり、例えば、図46に示したように、導光板70と、導光板70の側面に配置した光源20と、導光板70の背後に配置された反射板40とを備えている。なお、導光板70および光源20が、「照明光学系」の一具体例に相当する。
導光板70は、導光板10の側面に配置した光源20からの光を導光板70の上面側(例えば照明装置3の光出射面3A(図46参照))に導くものである。この導光板70は、例えば、導光板70の上面に配置される被照射物(例えば後述の表示パネル210)に対応した形状になっており、例えば、上面、下面および側面で囲まれた直方体状となっている。なお、以下では、導光板70の側面のうち光源20からの光が入射する側面を光入射面70Aと称するものとする。
導光板70は、例えば、導光板70内を伝播する光を散乱させる散乱部を有している。散乱部は、例えば、フィラーを含んだ部位であったり、散乱材が印刷されたものであったり、微細な突起(凸部)であったりする。以下では、導光板70が、散乱部として、微細な突起である凸部71を複数、上面に有しているものとして本実施の形態を説明する。なお、以下の説明において、凸部71を散乱部と読み替えることが可能である。
複数の凸部71は、例えば、図47に示したように、面内の一の方向(例えば光入射面70Aに平行な方向)に延在する帯状の形状となっている。各凸部71は、表示装置において三次元表示を行うときに、線状照明光の生成に用いられるものである。複数の凸部71は、表示装置において三次元表示を行うときの画素のピッチP3(図61参照)に対応するピッチP1(画素のピッチP3と同一ピッチまたはそれに近いピッチ)で配列されている。
各凸部71は、導光板70内を伝播する光を散乱させる材料(例えばフィラー)または構造(例えば光散乱面)を含んでいる。そのため、各凸部71の全体または一部が散乱領域72となっている。例えば、図47に示したように、導光板70の面内において、各凸部71の全体が散乱領域72となっている。このとき、各散乱領域72は、帯状の形状となっている。なお、図示しないが、導光板70の面内において、各凸部71の一部が散乱領域72となっていてもよい。このとき、各散乱領域72がブロック形状となっており、かつ複数の散乱領域72が導光板70の面内において2次元配置されていてもよい。各凸部71は、例えば、図48に示したように、ブロック形状となっており、かつ複数の凸部71が2次元配置されていてもよい。この場合には、複数の凸部71を1つの線状凸部73とみなしたときに、各線状凸部73が、図47の凸部71として用いられてもよい。複数の凸部73は、表示装置において三次元表示を行うときの画素のピッチP3(図61参照)に対応するピッチP1(画素のピッチP3と同一ピッチまたはそれに近いピッチ)で配列されている。
本実施の形態において、反射板40は、光源20からの光を導光板70側に戻すものである。反射板40は、例えば、反射、拡散、散乱などの機能を有している。これにより、光源20からの出射光を効率的に利用することができ、また、正面輝度の向上にも役立っている。反射板40の微細形状の表面は、鏡面となっていることが好ましい。この場合には、光源20からの出射光を正反射(鏡面反射)することができ、効率的に焦点C(後述)に反射することができる。反射板40の材料は、上記の第1の実施の形態で既に述べたものと同様のものからなる。
反射板40は、例えば、図49に示したように、散乱領域72から距離H1だけ離れた位置に配置されており、導光板70側に反射面40Aを有している。反射面40Aは、光源20からの出射光の一部を、照明装置3の上面の方(具体的には光出射面3A)へ反射するものである。
なお、反射板40は、各散乱領域72が点状照明光を生成する場合であって、かつ表示装置において三次元表示を行うときに、各点状照明光を反射することにより、焦点を結ぶ線状の反射光を生成するものであってもよい。また、反射板40は、各散乱領域72が点状照明光を生成する場合であって、かつ表示装置において2視点から互いに異なる二次元映像を視認可能な二次元表示を行うときに、各点状照明光を反射することにより、焦点を結ぶ線状の反射光を生成するものであってもよい。
反射板40は、線状照明光を生成する部位(散乱領域72)を通過する線分であって、かつ反射板40を含む平面と垂直な平面上またはその平面の近傍に反射光を反射するようになっている。より具体的には、反射板40は、線状照明光において、線状照明光を生成する部位(散乱領域72)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、線状照明光を生成する部位(散乱領域72)を通過する線分であって、かつ反射板40を含む平面の法線と平行な線分の上またはその線分の近傍に焦点を結ぶ反射光を生成する凹凸面を有している。さらに、反射板40は、線状照明光において、線状照明光を生成する部位(光源61散乱領域72)と垂直な平面と交差する光の成分を考えた場合に、線状照明光からの光を、線状照明光を生成する部位(散乱領域72)またはその近傍に反射する凹凸面を有している。ここで、反射面40Aが、生成された光を、その光が生成された方へ反射させるようになっている場合、これを式で表すと、例えば以下のようになる。つまり、反射板40は、2次元再帰性の反射の性質を有している。
反射前の光のベクトルV=(Vx,Vy,Vz)
反射後の光のベクトルV=(Vx,−Vy,−Vz)
反射板40は、線状照明光を生成する部位(散乱領域72)を通過する線分であって、かつ反射板40を含む平面の法線と平行な線分AX3の上またはその線分AX3の近傍に反射光が焦点を結ぶ凹凸形状を有している。つまり、反射板40は、再帰的な反射の性質を有している。例えば、図49に示したように、反射板40は、線分AX3の上またはその線分AX3の近傍であって、かつ散乱領域72の直下に反射光が焦点Cを結ぶ凹凸形状を有している。このとき、焦点Cの位置と、反射板40の上面との距離H2は、距離H1よりも短くなっており、(H1/n1−W1)以上、H1未満となっていることが好ましい。なお、n1は、反射板40の上面と、焦点Cの位置との間の領域の屈折率であり、本実施の形態では導光板70の屈折率である。
なお、例えば、図50に示したように、線状照明光を生成する部位(散乱領域72)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、反射板40は、線分AX3の上またはその線分AX3の近傍であって、かつ散乱領域72の直上に反射光が焦点Cを結ぶ凹凸形状を有していてもよい。このとき、距離H2は、距離H1よりも長くなっており、H1よりも大きく、(H1/n1+W1)以下となっていることが好ましい。また、例えば、図51に示したように、線状照明光を生成する部位(散乱領域72)と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、反射板40は、線分AX3の上またはその線分AX3の近傍であって、かつ散乱領域72内に反射光が焦点Cを結ぶ表面形状を有していてもよい。このとき、距離H2は、距離H1と概ね等しくなる。
反射板40は、中心軸が焦点Cを通過する円柱の内面の一部を反射面40Aとして有している。反射板40は、散乱領域72と対向する位置が最も深くなっていることが好ましい。
焦点Cの位置は、図49、図50,図51を比較した場合、図49に記載した位置(散乱領域72の直下)となっていることが最も良い。このとき、焦点Cの位置は、H2=H1/n1を満たす位置となっていることが最も良い。反射板40の反射面40Aにおける立体形状のピッチP2は、導光板70内の散乱領域72のピッチP1と等しいか、またはほぼ等しくなっていることが最も良い。この場合に、さらに、反射面40Aのうち円柱の内面の一部に相当する部分の半径は、(H22+(P1/2)2)1/2となっていることが最も良い。このようにした場合には、反射面40Aで反射された光が、焦点Cに向かって進み、導光板70の底面で屈折され、散乱領域72に再帰的に到達する。
なお、各凸部71は、例えば、図52、図53、図54に示したように、導光板70の下面に形成されていてもよい。このようにした場合には、焦点Cの位置は、図54に記載した位置(散乱領域72内)となっていることが最も良い。焦点Cの位置が図54に記載した位置となっている場合には、反射板40で反射された光が、導光板70の底面で屈折されることなく、直接、散乱領域72に入射するので、照明装置3の設計が容易となる。
なお、本実施の形態において、反射板40は導光板70と接着されていてもよい。反射板40と導光板70との接着には、全面接着、外周部分の接着(表示領域以外の部分を環状に接着)、または点状接着(表示領域以外の部分を点状に接着)が考えられる。反射板40と導光板70とを全面接着する場合には、反射板40の頂点部分を導光板70に接着することが考えられる。このとき、反射板40の頂点部分が、若干の平坦面となっていてもよい。
また、本実施の形態において、反射板40は、例えば、図示しないが、導光板70と接する部位に、図24に示したようなブラック43を有していてもよい。このブラック43は、例えば、反射板40を導光板70の裏面に固定する接着剤に黒色の顔料を混ぜたものであってもよい。
本実施の形態では、導光板70の各凸部71に設けられた散乱領域72から線状照明光が出力される。このとき、本実施の形態では、線状照明光が反射板40で反射されることにより、焦点を結ぶ反射光L12が生成される。これにより、反射光L12の正面強度分布および角度強度分布を、線状照明光のうち反射板40とは反対側に出射された光L13の正面強度分布および角度強度分布に近づけることができる。その結果、反射板の上面を平坦面で構成した場合(図22参照)や、平行光を生成する放物曲面で構成した場合(図20参照)と比べて、三次元表示の際に、反射光L13が散乱領域72とは異なる領域を通過して上面から出射される割合を減らすことができる。これにより、このような照明装置3を三次元表示用の表示装置のバックライトとして適用した場合に、三次元表示における二重像の生成を低減することができる。従って、三次元表示における表示品質が向上する。
<6.第3の実施の形態の変形例>
また、上記第3の実施の形態において、各凸部71の一部が散乱領域72となっているときに、反射板40は、球面の一部を反射面40Aとして有していてもよい。このとき、反射板40は、散乱領域72と対向する位置が最も深くなっていることが好ましい。反射板40がこのような反射面40Aを有している場合であっても、この照明装置3を三次元表示用の表示装置のバックライトとして適用した場合に、三次元表示における二重像の生成を低減することができる。従って、三次元表示における表示品質が向上する。
<7.上記各実施の形態に共通する変形例>
[第1共通変形例]
上記各実施の形態およびそれらの変形例において、反射面40Aは、例えば、図55に示したように、フレネルレンズとなっていてもよい。このようにした場合には、反射面40Aのうち円弧側の面とは異なる面40Bを利用して、迷光となり得る領域に伝播していった光L4を、光L4が生成された方へ反射させる(再帰反射させる)ことができる。ここで、「迷光となり得る領域に伝播していった光L4」とは、散乱領域30B、光源61aまたは散乱領域72から出射された光のうち、直下の円弧面(範囲P2)を超えて隣の円弧面へ直接伝播した光のことをいう。また、反射板40を薄くすることもできる。
[第2共通変形例]
また、上記各実施の形態およびそれらの変形例において、反射板40は、例えば、図56に示したように、反射板40の上面を平坦化するとともに反射面40Aを埋め込む埋め込み層45を有していてもよい。ただし、この場合には、埋め込み層45と、導光板10、光変調層30、光源60または導光板70との間に、空隙(大気)が存在していることが必要である。このようにした場合には、散乱領域30B、光源61aまたは散乱領域72から出射された光L11の光路と、反射板40で反射された光L12の光路とが互いに平行となる。そのため、焦点Cの位置は、散乱領域30B内、光源61a内または散乱領域72内となっていることが最も良い。
[第3共通変形例]
また、上記各実施の形態およびそれらの変形例において、反射板40が、線状照明光を生成する部位(第1部位)から発せられた光を、線状照明光を生成する部位であって、かつ第1部位に隣接する部位(第2部位)に向けて反射するようになっていてもよい。
例えば、図57に示したように、反射板40は、図中で相対的に左側に位置する部位(線状照明光を生成する部位)から発せられた光を、その光が発せられた部位の右隣りの部位(線状照明光を生成する部位)に向けて反射する曲面を反射面40Aとして有している。さらに、例えば、図57に示したように、反射板40は、図中で相対的に右側に位置する部位(線状照明光を生成する部位)から発せられた光を、その光が発せられた部位の左隣りの部位(線状照明光を生成する部位)に向けて反射する曲面を反射面40Aとして有している。
ここで、線状照明光を生成する部位と、反射板40との間に屈折率が変化する境界が無い場合には、例えば、図58に示したように、反射面40Aは、線状照明光を生成する部位に焦点Cを有している。一方、線状照明光を生成する部位と、反射板40との間に屈折率が変化する境界がある場合には、例えば、図59、図60に示したように、反射面40Aは、線状照明光を生成する部位よりも上方または下方に焦点Cを有している。特に、線状照明光を生成する部位が屈折率n1の透明基板の内部に存在する場合は、焦点Cの位置と、反射板40の上面との距離H2は、H1/n1−W1≦H2≦H1/n1+W1となっていることが好ましく、H2=H1/n1となっていることが好ましい。なお、W1は、線状照明光を生成する部位(30B、61aまたは72)の幅である。
また、線状照明光を生成する部位と、反射板40との間に屈折率が変化する境界が無い場合には、例えば、図61に示したように、反射面40Aは、反射面40A上の任意の部位40Cと、反射面40Aと対向する、線状照明光を生成する2つの部位(30B,61aまたは72)とを直線L21,L22で結んだとき、部位40Cでの法線L23が、直線L20,L21の二等分線となるような曲面となっている。また、線状照明光を生成する部位と、反射板40との間に屈折率が変化する境界が1つある場合には、例えば、図62、図63に示したように、反射面40Aは、反射面40A上の任意の部位40Cと、反射面40Aと対向する、線状照明光を生成する2つの部位(30B,61aまたは72)の上方または下方の部位(図中の焦点C)とを直線L24,L25で結んだとき、部位40Cでの法線L23が、直線L24,L25の二等分線となるような曲面となっている。特に、線状照明光を生成する部位が屈折率n1の透明基板の内部に存在する場合は、反射面40Aは、反射面40A上の任意の部位40Cと、反射面40Aと対向する、線状照明光を生成する2つの部位(30B、61aまたは72)の下方の部位(焦点Cの位置と、反射板40の上面との距離H2は、H1/n1−W1≦H2≦H1/n1+W1となっていることが好ましく、H2=H1/n1となっていることが好ましい。)とを直線L24,L25で結んだとき、部位40Cでの法線L23が、直線L24,L25の二等分線となるような曲面となっている。また、線状照明光を生成する部位と、反射板40との間で屈折率が高、低、高の順に変化する場合には、例えば、図61に示したように、反射面40Aは、反射面40A上の任意の部位40Cと、反射面40Aと対向する、線状照明光を生成する2つの部位(30B,61aまたは72)とを直線L21,L22で結んだとき、部位40Cでの法線L23が、直線L20,L21の二等分線となるような曲面となっている。この場合は、線状照明光を生成する部位が透明基板の内部に存在し、かつ、後述するように、反射板40の上面を平坦化するとともに反射面40Cを埋め込む埋め込み層45を有している場合に相当する。
反射板40における立体形状のピッチP2(反射面40Aの幅)は、線状照明光を生成する部位(30B,61aまたは72)のピッチP1の2倍となっている。反射面40Aは、互いに隣接する2つの部位(30B,61aまたは72)の中間領域と対向する位置が最も深い凹状の曲面となっている。
本変形例では、上記各実施の形態と同様、線状照明光が反射板40で反射されることにより、焦点を結ぶ反射光が生成される。これにより、反射光の正面強度分布および角度強度分布を、線状照明光のうち反射板40とは反対側に出射された光の正面強度分布および角度強度分布に近づけることができる。その結果、反射板の上面を平坦面で構成した場合(図22参照)や、平行光を生成する放物曲面で構成した場合(図20参照)と比べて、三次元表示の際に、反射光が線状照明光を生成する部位とは異なる領域を通過して上面から出射される割合を減らすことができる。これにより、このような照明装置を三次元表示用の表示装置のバックライトとして適用した場合に、三次元表示における二重像の生成を低減することができる。従って、三次元表示における表示品質が向上する。
なお、本変形例において、反射板40が、例えば、図64に示したように、フレネルレンズとなっていてもよい。このようにした場合には、反射板40を薄くすることができる。また、本変形例において、反射板40が、図65に示したように、反射板40の上面を平坦化するとともに反射面40Cを埋め込む埋め込み層45を有していてもよい。ただし、この場合には、埋め込み層45と、導光板10、光変調層30、光源60または導光板70との間に、空隙(大気)が存在していることが必要である。このようにした場合には、散乱領域30B、光源61aまたは散乱領域72から出射された光の光路と、反射板40で反射された光の光路とが互いに平行となる。そのため、焦点Cの位置は、散乱領域30B内、光源61a内または散乱領域72内となっていることが最も良い。
<8.第4の実施の形態>
次に、上記各実施の形態およびそれらの変形例に係る照明装置1,2,3を備えた、テレビ放送信号の受送信システムについて説明する。
図66は、第4の実施の形態に係る、テレビ放送信号100Aの受送信システムの構成例を示すブロック図である。この受送信システムは、例えば、有線(ケーブルTVなど)や無線(地上デジタル波、衛星波など)を介してテレビ放送信号を送信する送信側装置100と、上記の有線や無線を介して送信側装置100からのテレビ放送信号を受信する受信側装置200とを備えている。なお、受信側装置200が「表示装置」の一具体例に相当する。
テレビ放送信号100Aは、二次元表示(平面表示)用の映像データ、または三次元表示(立体表示)用の映像データを含んでいる。ここで、二次元表示用の映像データとは、視点情報を持たない二次元映像データを指している。また、三次元表示用の映像データとは、視点情報を持った二次元映像データを指しており、三次元表示用の映像データは、視点が互いに異なる複数の二次元映像データを含んで構成されている。送信側装置100は、例えば、放送局に設置されたテレビ放送信号送信装置、またはインターネット上のサーバなどである。
[受信側装置200の機能ブロック]
図67は、受信側装置200の構成例を示すブロック図である。受信側装置200は、例えば、上記の有線や無線に接続可能なテレビジョンである。受信側装置200は、例えば、アンテナ端子201、デジタルチューナ202、デマルチプレクサ203、演算回路204、およびメモリ205を有している。受信側装置200は、また、例えば、デコーダ206、映像信号処理回路207、グラフィック生成回路208、パネル駆動回路209、表示パネル210、バックライト211、音声信号処理回路212、音声増幅回路213、およびスピーカ214を有している。受信側装置200は、さらに、例えば、リモコン受信回路215、およびリモコン送信機216を有している。
なお、バックライト211が、上記各実施の形態およびそれらの変形例に係る照明装置1,2,3に相当する。また、表示パネル210が「表示パネル」の一具体例に相当し、バックライト211が「照明装置」の一具体例に相当する。
アンテナ端子201は、受信アンテナ(図示せず)で受信されたテレビ放送信号を入力する端子である。デジタルチューナ202は、例えば、アンテナ端子201に入力されたテレビ放送信号を処理して、ユーザの選択チャネルに対応した所定のトランスポートストリームを出力するようになっている。デマルチプレクサ203は、例えば、デジタルチューナ202で得られたトランスポートストリームから、ユーザの選択チャネルに対応したパーシャルTS(Transport Stream)を抽出するようになっている。
演算回路204は、受信側装置200の各部の動作を制御するものである。演算回路204は、例えば、デマルチプレクサ203で得られたパーシャルTSをメモリ205内に格納したり、メモリ205から読み出したパーシャルTSをデコーダ206に送信したりするようになっている。また、演算回路204は、例えば、二次元表示または三次元表示を指定する制御信号204Aを映像信号処理回路207およびバックライト211に送信するようになっている。演算回路204は、上記の制御信号204Aを、例えば、メモリ205内に格納された設定情報、パーシャルTSに含まれる所定の情報、またはリモコン受信回路215から入力された設定情報に基づいて設定するようになっている。
メモリ205は、例えば、受信側装置200の設定情報の格納およびデータ管理を行うものである。メモリ205は、例えば、デマルチプレクサ203で得られたパーシャルTSや、表示方法などの設定情報を格納することが可能となっている。
デコーダ206は、例えば、デマルチプレクサ203で得られたパーシャルTSに含まれる映像PES(Packetized Elementary Stream)パケットに対してデコード処理を行うことにより映像データを得るようになっている。デコーダ206は、また、例えば、デマルチプレクサ203で得られたパーシャルTSに含まれる音声PESパケットに対してデコード処理を行うことにより音声データを得るようになっている。ここで、映像データとは、二次元表示用の映像データ、または三次元表示用の映像データを指している。
映像信号処理回路207およびグラフィック生成回路208は、例えば、デコーダ206で得られた映像データに対して、必要に応じてマルチ画像処理、グラフィックスデータの重畳処理等を行うようになっている。
映像信号処理回路207は、演算回路204から制御信号204Aとして三次元表示を指定する信号が入力された場合であって、かつ、デコーダ206から入力された映像データが三次元表示用の映像データであったときには、例えば、デコーダ206から入力された三次元表示用の映像データに含まれる、視点の互いに異なる複数の二次元映像データを用いて1つの二次元映像データを作成し、作成した二次元映像データを、グラフィック生成回路208に出力する映像データとして選択するようになっている。例えば、三次元表示用の映像データに、視点の互いに異なる2つの二次元映像データが含まれている場合には、映像信号処理回路207は、2つの二次元映像データを、水平方向に1つずつ交互に並べる処理を各行で行っていき、2つの二次元映像データが水平方向に交互に並んだ1つの映像データを作成するようになっている。同様に、例えば、三次元表示用の映像データに、視点の互いに異なる4つの二次元映像データが含まれている場合には、映像信号処理回路207は、4つの二次元映像データを、水平方向に1つずつ周期的に並べる処理を各行で行っていき、4つの二次元映像データが水平方向に1つずつ周期的に並んだ1つの映像データを作成するようになっている。
映像信号処理回路207は、演算回路204から制御信号204Aとして二次元表示を指定する信号が入力された場合であって、かつ、デコーダ206から入力された映像データが三次元表示用の映像データであったときには、例えば、デコーダ206から入力された三次元表示用の映像データに含まれる、視点の互いに異なる複数の二次元映像データのいずれか1つの映像データを、グラフィック生成回路208に出力する映像データとして選択するようになっている。映像信号処理回路207は、演算回路204から制御信号204Aとして二次元表示を指定する信号が入力された場合であって、かつ、デコーダ206から入力された映像データが二次元表示用の映像データであったときには、例えば、デコーダ206から入力された二次元表示用の映像データを、グラフィック生成回路208に出力する映像データとして選択するようになっている。
グラフィック生成回路208は、例えば、画面表示の際に使用するUI(User Interface)画面を生成するようになっている。パネル駆動回路209は、例えば、グラフィック生成回路208から出力された映像データに基づいて表示パネル210を駆動するようになっている。
表示パネル210の構成は、後に詳述する。音声信号処理回路212は、例えば、デコーダ206で得られた音声データに対してD/A変換等の処理を行うようになっている。音声増幅回路213は、例えば、音声信号処理回路212から出力された音声信号を増幅してスピーカ214に供給するようになっている。
リモコン受信回路215は、例えば、リモコン送信機216から送信されたリモートコントロール信号を受信し、演算回路204に供給するようになっている。演算回路204は、例えば、リモートコントロール信号に従って受信側装置200の各部を制御するようになっている。
[受信側装置200の断面構成]
図68は、受信側装置200における表示部の断面構成の一例を表したものである。なお、図68は、模式的に表したものであり、実際の寸法や形状と同一であるとは限らない。受信側装置200は、表示パネル210と、表示パネル210の背後に配置されたバックライト211とを備えている。
表示パネル210は、2次元配置された複数の画素を有しており、各画素または特定の画素が駆動されることにより映像を表示するものである。表示パネル210は、例えば、映像信号に応じて各画素または特定の画素が駆動される透過型の液晶表示パネル(LCD(Liquid Crystal Display))であり、液晶層を一対の透明基板で挟み込んだ構造を有している。表示パネル210は、例えば、図示しないが、バックライト211側から順に、偏光板、透明基板、画素電極、配向膜、液晶層、配向膜、共通電極、カラーフィルタ、透明基板および偏光板を有している。なお、表示パネル210において、透明基板、画素電極、配向膜、液晶層、配向膜、共通電極、カラーフィルタおよび透明基板からなる積層体が図69の液晶パネル210Aに相当する。また、バックライト211側の偏光板が図69の偏光板210Bに相当し、バックライト211とは反対側の偏光板が図69の偏光板210Cに相当する。
透明基板は、可視光に対して透明な基板、例えば板ガラスからなる。なお、バックライト211側の透明基板には、図示しないが、画素電極に電気的に接続されたTFT(Thin Film Transistor;薄膜トランジスタ)および配線などを含むアクティブ型の駆動回路が形成されている。画素電極および共通電極は、例えば、酸化インジウムスズ(ITO;Indium Tin Oxide)からなる。画素電極は、透明基板上に2次元配列されたものであり、画素ごとの電極として機能する。他方、共通電極は、カラーフィルタ上に一面に形成されたものであり、各画素電極に対して対向する共通電極として機能する。配向膜は、例えばポリイミドなどの高分子材料からなり、液晶に対して配向処理を行う。
液晶層は、例えば、VA(Vertical Alignment)モード、TN(Twisted Nematic)モードまたはSTN(Super Twisted Nematic)モードの液晶からなり、駆動回路(図示せず)からの印加電圧により、バックライト211からの出射光の偏光軸の向きを画素ごとに変える機能を有する。なお、液晶の配列を多段階で変えることにより画素ごとの透過軸の向きが多段階で調整される。カラーフィルタは、液晶層を透過してきた光を、例えば、赤(R)、緑(G)および青(B)の三原色にそれぞれ色分離したり、または、R、G、Bおよび白(W)などの四色にそれぞれ色分離したりするカラーフィルタを、画素電極の配列と対応させて配列したものである。
偏光板は、光学シャッタの一種であり、ある一定の振動方向の光(偏光)のみを通過させる。なお、偏光板は、透過軸以外の振動方向の光(偏光)を吸収する吸収型の偏光素子であってもよいが、バックライト211側に反射する反射型の偏光素子であることが輝度向上の観点から好ましい。2枚の偏光板はそれぞれ、偏光軸が互いに90°異なるように配置されており、これによりバックライト211からの出射光が液晶層を介して透過し、あるいは遮断されるようになっている。
ところで、本実施の形態において、電圧無印加時に、バルク34Aの光軸AX1および微粒子34Bの光軸AX2が、同一の方向に光軸の成分を主に有しており、例えば、図69に示したように、配向膜33,35のラビング方向を向いていることが好ましい。さらに、電圧無印加時に、光軸AX1,AX2は、例えば、図69に示したように、バックライト211側の偏光板210Bの透過軸AX10と平行な方向に光軸の成分を主に有していることが好ましい。透過軸AX10は、例えば、図69に示したように、配向膜33,35のラビング方向を向いていることが好ましい。
電圧無印加時には、光軸AX1,AX2は、例えば、図69に示したように、光入射面10Aの法線AX5と交差または直交(もしくはほぼ直交)する方向を向いていることが好ましい。さらに、電圧無印加時には、光軸AX1,AX2は、例えば、図2、図69に示したように、透明基板31と平行またはほぼ平行となっていることが好ましい。つまり、電圧無印加時には、光軸AX1,AX2は、概ね図69中のY軸方向を向いていることが好ましい。その理由は、上記第1の実施の形態中の[異方性散乱]の欄に記載されている。
また、上述したように、電圧印加時には、光軸AX1は、電圧無印加時と同一またはほぼ同一の方向を向いていることが好ましい。電圧印加時には、光軸AX1は、偏光板210Bの透過軸AX10と平行な方向に光軸の成分を主に有しており、例えば、図69に示したように、透過軸AX10と平行な方向を向いていることが好ましい。電圧印加時には、光軸AX1は、光源20の光軸AX5と交差または直交(もしくはほぼ直交)する方向を向いており、さらに、透明基板31と平行またはほぼ平行となっていることが好ましい。
一方、光軸AX2は、電圧印加時には、下側電極32および上側電極36に印加された電圧によって生成される電場の影響を受けて所定の方向に変位していることが好ましい。電圧印加時には、光軸AX2は、例えば、図2、図69に示したように、透明基板31と交差または直交(もしくはほぼ直交)していることが好ましい。つまり、光軸AX2は、下側電極32および上側電極36への電圧印加により、光軸AX2と透明基板31の法線とのなす角度が小さくなる方向に変位していることが好ましい。このとき、光軸AX2は、光軸AX1と交差または直交(もしくはほぼ直交)しており、透明基板31と交差または直交(もしくはほぼ直交)していることが好ましい。
次に、本実施の形態の受信側装置200の作用および効果について説明する。
本実施の形態の受信側装置200では、バックライト211として上記実施の形態およびその変形例に係る照明装置1,照明装置2または照明装置3が用いられる。これにより、三次元表示のときに、バックライト211の光射出面のうち所定の領域から、正面方向に、複数の線状照明光が出力される。これにより、正面方向に出力された各線状照明光が表示パネル210の背面に入射する。
ここで、各線状照明光に対応する画素配列において各画素行が三次元用画素210Aとなるように三次元表示用の二次元映像データが映像信号処理回路207で生成されたときには、例えば、図70に示したように、各三次元用画素210A内の共通の位置にある画素(例えば、図70では、210−1,210−2,210−3または210−4)には、各線状照明光が略同一の角度で入射する。その結果、各三次元用画素210A内の共通の位置にある画素からは、その画素によって変調された映像光が所定の角度で出力される。このとき、観察者は、左右の目で、互いに異なる視差の映像を観察することになるので、観察者は、表示パネル210に三次元映像(立体映像)が表示されていると認識する。なお、図70には、バックライト211として照明装置1を用いている場合が例示されているが、バックライト211として他の照明装置2,3を用いることはもちろん可能である。
また、本実施の形態の受信側装置200では、二次元表示のときに、バックライト211の光射出面全体から光が出射され、正面方向に、面状照明光が出力される。これにより、正面方向に出力された面状照明光が表示パネル210の背面に入射する。
ここで、各画素210Eに対応して二次元表示用の二次元映像データが映像信号処理回路207で生成されたときには、例えば、図71に示したように、各画素210Bには、面状照明光があらゆる角度で入射し、各画素210Bからは、各画素210Bによって変調された映像光が出力される。このとき、観察者は、両目で互いに同一の映像を観察することになるので、観察者は、表示パネル210に二次元映像(平面映像)が表示されていると認識する。なお、図71には、バックライト211として照明装置1を用いている場合が例示されているが、バックライト211として他の照明装置2,3を用いることはもちろん可能である。
ところで、本実施の形態では、バックライト211において、線状照明光が反射板40で反射されることにより、焦点を結ぶ反射光L12が生成される。これにより、反射光L12の正面強度分布および角度強度分布を、線状照明光のうち反射板40とは反対側に出射された光L13の正面強度分布および角度強度分布に近づけることができる。その結果、反射板の上面を平坦面で構成した場合(図22参照)や、平行光を生成する放物曲面で構成した場合(図20参照)と比べて、三次元表示の際に、反射光L13が線状照明光を生成する部位とは異なる部位を通過して上面から出射される割合を減らすことができる。さらに、反射光L13が三次元表示に必要のない角度方向に出射される割合を少なくすることもできる。これにより、このような照明装置1、照明装置2または照明装置3を受信側装置200のバックライト211として適用した場合に、三次元表示における二重像の生成を低減することができる。従って、三次元表示における表示品質が向上する。
<8.実施例>
次に、上記各実施の形態およびそれらの変形例に係るバックライト211の一実施例について説明する。
図72は、本実施例に係るバックライト211の下側電極32および上側電極36のレイアウトの一例を表したものである。図73は、図72中の下側電極32の一部を拡大して表したものである。なお、本実施例では、下側電極32は、1つの部分電極32Bおよび3つの部分電極32Cを一組として、複数組を配列した構成となっている。さらに、下側電極32は、各部分電極32Bと接続された配線32Eと、各部分電極32Cと接続された配線32Fを表示領域外に有している。
横60mm×縦85mm×厚さ0.7mmの基板上に、ITO膜を成膜し、パターニングすることにより、下側電極32を形成した。このとき、下側電極32を、三次元表示および二次元表示に際して用いられる1本の部分電極32Bと、二次元表示にだけ用いられる3本の部分電極32Cとで構成し、各部分電極32B,32Cを、光入射面10Aと71.56度で交差する方向に傾けた。各部分電極32Bの最大幅(L_3D)を45μmとし、各部分電極32Cの最大幅(L_2D)を165μmとした。また、部分電極32Bと部分電極32Cとの間隙の幅(L_B)を15μmとし、部分電極32Bのピッチ(P)を240μmとした。そして、各部分電極32B,32Cを横50mm×縦75mmのエリアに配置した。
また、横60mm×縦85mm×厚さ0.7mmの基板上に、ITO膜を成膜し、パターニングすることにより、上側電極36を形成した。このとき、上側電極36を、横50mm×縦75mmの面状電極36Sと、面状電極36Sから引き出した配線36Sとで構成した。
下側電極32および上側電極36の表面上に配向膜を塗布後、それぞれの配向膜を所定の方向(図69参照)にラビングし、下側電極32上の配向膜の表面に4μmのスペーサを散布し、上側電極36上の配向膜の表面に、環状の封止剤を描画した。その後、面状電極36Sが部分電極32B,32Cと対向する領域に配置されるとともに、配線36Sが配線32Eまたは配線32Fと対向する領域であって、光源20からできるだけ離れた箇所となるように、下側電極32と、上側電極36とを貼り合わせた。次に、下側電極32と、上側電極36との隙間にPDLCを真空注入し、表示パネルを完成させた。次に、LED光源を7mm間隔で7個、長さが60mmの方の端面に配置し、表示パネルの背面に黒色板を配置し、照明装置を完成させた。なお、透明基板41として屈折率1.515のガラス基板を用いた。
また、反射板40として、図16に示した構成のものを用い、各寸法を、H1=700μm、H2=387〜567μm(n=1.515であり、H2=462μmのときにH2=H1/nとなっている。)、焦点Cと反射面40Aとの距離(半径R)=368〜555μm、P1=P2=240μm、W1=45μmとした。なお、各実施例1〜7におけるRおよびH2の値を表1に示した。表1中の比較例1では、PDLCの代わりにバリア層を用い、反射板の表面を平坦面(鏡面反射)とした。また、表1中の比較例2では、実施例1〜7と同様にPDLCを用い、反射板の表面を平坦面かつ光吸収面とした。また、表1中の比較例3では、実施例1〜7と同様にPDLCを用い、反射板の表面を平坦面(鏡面反射)とした。
この照明装置を、三次元表示時には、部分電極32Bを60Hz100Vパルスで駆動するとともに、部分電極32Cと上側電極36をGNDとした。また、必要に応じて、照明装置上に表示パネルを配置し、表示装置として評価を行った。各実施例の詳細を以下に示す。
表1から、実施例1〜7全てにおいて、比較例1,2,3より輝度が高く、比較例3よりコントラスト比が高いことがわかった。また、表1から、実施例2〜6において、コントラスト比がほぼ一致しており、RやH2を上記の範囲内で変化させても、コントラスト比に大きな変化が生じないことがわかった。従って、半径Rが477μm±W1(45μm)の範囲内となっており、かつH2が462μm±W1(45μm)の範囲内となっていれば、実施例4に示した結果とほぼ同等のコントラスト比が得られることがわかった。ここで、H2=462μmn=H1/nであり、半径R=477μm=((H1/n)2+(P1/2)2)1/2である。
また、例えば、本技術は以下のような構成を取ることができる。
(1)
複数の線状照明光もしくは複数の点状照明光が2次元配置されて形成された線状照明光を生成する照明光学系と、
前記線状照明光を反射する反射板と
を備え、
前記反射板は、前記線状照明光を生成する部位を通過する平面であって、かつ前記反射板を含む平面と垂直な平面上またはその平面の近傍に前記線状照明光を反射するようになっている
照明装置。
(2)
前記反射板は、前記線状照明光において、前記線状照明光を生成する部位と垂直な平面と平行な光の成分を考えた場合に、前記線状照明光を生成する部位を通過する線分であって、かつ前記反射板を含む平面の法線と平行な線分の上またはその線分の近傍に焦点を結ぶ反射光を生成するようになっている
(1)に記載の照明装置。
(3)
前記反射板は、前記線状照明光を生成する部位の直下に前記反射光が焦点を結ぶ表面形状を有する
(1)または(2)に記載の照明装置。
(4)
前記反射板は、前記反射光が以下の式を満たす位置で焦点を結ぶ表面形状を有する
(1)ないし(3)のいずれか1つに記載の照明装置。
H1/n1−W1≦H2≦H1/n1+W1
H1:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記線状照明光を生成する部位との距離
H2:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記焦点の位置との距離
n1:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記焦点の位置との間の領域の屈折率
W1:前記線状照明光を生成する部位の幅
(5)
前記反射板は、前記反射光が以下の式を満たす位置で焦点を結ぶ表面形状を有する
(1)ないし(3)のいずれか1つに記載の照明装置。
H2=H1/n1
H1:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記線状照明光を生成する部位との距離
H2:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記焦点の位置との距離
n1:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記焦点の位置との間の領域の屈折率
(6)
前記反射板は、前記線状照明光を生成する部位と対向する位置に、円柱の内面の一部を反射面として有する
(1)ないし(5)のいずれか1つに記載の照明装置。
(7)
前記反射面における立体形状のピッチは、前記線状照明光を生成する部位のピッチと一致している
(1)ないし(6)のいずれか1つに記載の照明装置。
(8)
前記反射面のうち、円柱の内面の一部に相当する部分の半径rは、以下の式を満たす
(1)ないし(7)のいずれか1つに記載の照明装置。
r=(H22+(P1/2)2)1/2
H2:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記焦点の位置との距離
P1:前記線状照明光を生成する部位のピッチ
(9)
前記反射板は、前記反射光が以下の式(1)を満たす位置で焦点を結ぶ表面形状を有しており、かつ、前記線状照明光を生成する部位と対向する位置に、円柱の内面の一部を反射面として有し、
前記反射面における立体形状のピッチは、前記線状照明光を生成する部位のピッチと一致しており、
前記反射面のうち、円柱の内面の一部に相当する部分の半径rは、以下の式(2)を満たす
(1)ないし(7)のいずれか1つに記載の照明装置。
H2=H1/n1…(1)
r=(H22+(P1/2)2)1/2…(2)
H1:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記線状照明光を生成する部位との距離
H2:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記焦点の位置との距離
n1:前記反射板の上面に形成された複数の頂部を含む平面と、前記焦点の位置との間の領域の屈折率
P1:前記線状照明光を生成する部位のピッチ
(10)
前記反射板は、前記線状照明光を生成する部位の幅の2倍のピッチの規則的な凹凸形状を有する
(1)ないし(6)のいずれか1つに記載の照明装置。
(11)
前記反射面は、前記線状照明光を生成する第1部位から発せられた光を、前記線状照明光を生成する部位であって、かつ前記第1部位に隣接する第2部位に向けて反射するようになっている
(1)ないし(6)のいずれか1つに記載の照明装置。
(12)
前記反射面は、鏡面となっている
(1)ないし(11)のいずれか1つに記載の照明装置。
(13)
前記照明光学系は、導光板と、前記導光板の側面に配置された光源とを有し、
前記反射板は、前記導光板に貼り合わされている
(1)ないし(12)のいずれか1つに記載の照明装置。
(14)
前記照明光学系は、
前記線状照明光を生成する部位を間にして互いに対向配置された第1透明基板および第2透明基板と、
前記第1透明基板および前記第2透明基板の少なくとも一方の表面に設けられた電極と、
前記第1透明基板の端面に光を照射する光源と、
前記第1透明基板と前記第2透明基板との間隙に設けられ、かつ電場の大きさに応じて、前記光源からの光に対して散乱性もしくは透明性を示す光変調層と、
前記電極を駆動する駆動部と
を有し、
前記光変調層は、電場が相対的に小さいときに、前記光源からの光に対して透明性を示し、電場が相対的に大きいときに、前記光源からの光に対して散乱性を示し、
前記駆動部は、前記電極を駆動することにより、前記光変調層に、散乱性を示す複数の第1領域を生成させ、それによって、前記第1領域から、前記線状照明光を出力させる
(1)ないし(13)のいずれか1つに記載の照明装置。
(15)
前記駆動部は、前記電極を駆動することにより、前記光変調層の全体に前記第1領域を生成させ、それによって、前記光変調層の全体から面状照明光を出力させる
(14)に記載の照明装置。
(16)
映像信号に基づいて駆動される複数の画素を有する表示パネルと、
前記表示パネルを照明する照明装置と
を備え、
前記照明装置は、
複数の線状照明光もしくは複数の点状照明光が2次元配置されて形成された線状照明光を生成する照明光学系と、
前記線状照明光を反射する反射板と
を有し、
前記反射板は、前記線状照明光を生成する部位を通過する平面であって、かつ前記反射板を含む平面と垂直な平面上またはその平面の近傍に前記線状照明光を反射するようになっている
表示装置。
(17)
前記照明装置は、
前記線状照明光を生成する部位を間にして互いに対向配置された第1透明基板および第2透明基板と、
前記第1透明基板および前記第2透明基板の少なくとも一方の表面に設けられた電極と、
前記第1透明基板の端面に光を照射する光源と、
前記第1透明基板と前記第2透明基板との間隙に設けられ、かつ電場の大きさに応じて、前記光源からの光に対して散乱性もしくは透明性を示す光変調層と、
映像信号に基づいて前記電極を駆動する駆動部と
を有し、
前記光変調層は、電場が相対的に小さいときに、前記光源からの光に対して透明性を示し、電場が相対的に大きいときに、前記光源からの光に対して散乱性を示し、
前記駆動部は、前記電極を三次元表示モードに駆動することにより、前記光変調層に、散乱性を示す複数の第1領域を生成させ、それによって、前記第1領域から、前記線状照明光を出力させるようになっている
(16)に記載の表示装置。
(18)
当該表示装置は、前記表示パネルを間にして互いに対向する一対の偏光板をさらに備え、
前記光変調層は、光学異方性を有すると共に電場に対する応答性が相対的に高い第1領域と、光学異方性を有すると共に電場に対する応答性が相対的に低い第2領域とを含み、
前記光変調層が透明性を示すとき、前記第1領域および前記第2領域は、前記一対の偏光板のうち前記照明装置側の偏光板の透過軸と平行な方向に光軸の成分を主に有し、
前記光変調層が散乱性を示すとき、前記第2領域は、前記一対の偏光板のうち前記照明装置側の偏光板の透過軸と平行な方向に光軸の成分を主に有し、前記第1領域は、前記第2領域の光軸と交差または直交すると共に前記第1透明基板と交差または直交する方向に光軸を有する
(16)または(17)に記載の表示装置。