JP5949038B2 - Coating device - Google Patents
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Description
本発明は、塗布ポンプを使用してサブタンクからダイヘッドへ塗布液を送液する塗布装置に関する。 The present invention relates to a coating apparatus that feeds a coating liquid from a sub tank to a die head using a coating pump.
半導体の生産工程やそのほかの任意の塗布工程において、シート材の上に材料を塗布する塗布装置としては、図5に示すものが知られている。この塗布装置は、別工程で製作した塗布液を収容する1次タンク1と、この1次容器1から塗布液を供給するサブタンク2とを備えており、両者の間には、送液ポンプP1を設置したサブタンク送液用配管R1が設けられている。そして、サブタンク2とダイヘッド3との間にはダイヘッド送液用配管R2が設けられており、このダイヘッド送液用配管R2には塗布ポンプP2が設置されている。そして、この塗布ポンプP2を作動させてサブタンク2からダイヘッド3に送液し、このダイヘッド3に設けられたスリットから塗布液をわずかに押し出す。一方、シート材は図示しないロール上に巻き取られており、このロールから巻き出されて、バックローラ4に巻きつくように走行する。ダイヘッド3とバックローラ4との間隙は120〜150μm程度であり、この間隙に押し出された塗布液に走行するシート材を接触させることにより、このシート材に塗布液を塗布している。塗布膜の厚みは100〜150μm程度であり、要求される膜厚精度は1μm以内である。膜厚や塗布質量の変動が大きいと、製造された2次電池の性能や品質に影響するのである。なお、図中、V1はリターンバルブを示しており、非塗布時にはこのリターンバルブV1を閉じ、リターン用配管R4を通じて塗布液をサブタンク2にリターンさせる。また、塗布時にはリターンバルブV1と塗布バルブV2の両者を開く。
As a coating apparatus for coating a material on a sheet material in a semiconductor production process or any other coating process, the one shown in FIG. 5 is known. This coating apparatus includes a primary tank 1 that stores a coating liquid manufactured in a separate process, and a
この装置にあっっては、長時間の塗布に伴ってサブタンク2内の塗布液が減少するため、サブタンク2には下限センサLLと中間センサMLとが設けられており、下限センサLLによって塗布液の減少を検知すると、1次タンク1から塗布液の送液を開始する。また、中間センサMLが塗布液の増加を検知すると、送液を停止する。
In this apparatus, since the coating liquid in the
また、特許文献1には、モータとボールネジを使用してサブタンクを上下動可能に構成した塗布装置が提案されている。この装置には、サブタンク内の塗布液の液面を検出するレベルセンサが設けられており、このレベルセンサが液面変動を検出すると、モータとボールネジを使用してサブタンク自体を上昇させて、その液面高さを維持する。 Patent Document 1 proposes a coating apparatus in which a sub tank can be moved up and down using a motor and a ball screw. This device is provided with a level sensor that detects the liquid level of the coating liquid in the sub-tank. When this level sensor detects a liquid level fluctuation, the sub-tank itself is raised using a motor and a ball screw. Maintain liquid level.
また、特許文献2にも、サブタンクを上下動可能に構成した塗布装置が提案されている。サブタンクはオーバーフロータンクの構造を有しており、塗布開始前に、サブタンク全体を上下方向に移動させて、その液面が塗布ノズルの先端高さに一致するように設定する。そして、次に、サブタンクと塗布ノズルとの間の配管に設置された圧送装置を作動させ塗布液を塗布ノズルに送液して、塗布を開始する。
しかし、図5に示す塗布装置では、下限センサLLと中間センサMLとでサブタンク2内の塗布液の液面を制御していても、その液面の変動を防ぐことは困難であった。そして、この液面変動に伴って塗布ポンプP2に対する1次圧力が変化するため、塗布ポンプP2を一定回転数で回転させていても、塗布ポンプP2を流れる流量が変化し、ダイヘッド3から吐出する塗布液の量が変動していた。
However, in the coating apparatus shown in FIG. 5, even if the liquid level of the coating liquid in the
すなわち、図5に示すように、この装置では、サブタンク2内の液面が低下して、時刻T1に下限センサLLが液面を検知すると、1次タンクからの塗布液の供給を開始する。このとき、サブタンク2内の液面は低く、塗布ポンプP2に対する1次圧力が小さいため、この塗布ポンプP2を流れる流量も少ない。そして、1次タンクからの供給に伴い、サブタンク2内の液面が上昇し、また、塗布ポンプP2に対する1次圧力も増大して、塗布ポンプP2を流れる流量も増加する。そして、時刻T2にサブタンク2内の液面を中間センサMLが検知すると、1次タンクからの塗布液の供給を停止する。この停止に伴い、サブタンク2内の液面は徐々に低下し、この低下に伴って、塗布ポンプP2に対する1次圧力も低下し、塗布ポンプP2を流れる流量も減少する。そして、このような塗布液の量の変動に伴って、シート材に形成された塗布膜の厚みや塗布質量が不均一なものとなり、安定した品質の塗布ができないのである。
That is, as shown in FIG. 5, in this apparatus, when the liquid level in the
これに対して、前記下限センサLLと中間センサMLとの間を狭くして、1次タンク1からの送液を頻繁に制御する方法があるが、この方法によっても、サブタンク2内の塗布液の液面変動が小さくなるだけで、液面変動を完全になくすことはできない。しかも、サブタンク送液用配管R1の送液ポンプP1を頻繁に制御する必要があるため、その寿命が低下する。なお、サブタンク2の容量を大きくして液面変動を小さくすることもできるが、この方法では、塗布液がサブタンク2内に長期間保存されることになり、塗布液の状態が変化する可能性が高くなる。
On the other hand, there is a method in which the space between the lower limit sensor LL and the intermediate sensor ML is narrowed to frequently control liquid feeding from the primary tank 1, but this method also applies the coating liquid in the
また、特許文献1に記載の塗布装置では、液面変動を検知してからモータを制御しているため、この間の制御遅れを避けることができない。そして、この制御遅れにより、送液される塗布液の量が変動するという問題がある。 Further, in the coating apparatus described in Patent Document 1, since the motor is controlled after detecting the liquid level fluctuation, a control delay during this time cannot be avoided. And there exists a problem that the quantity of the coating liquid sent by this control delay fluctuates.
また、特許文献2に記載の塗布装置では、塗布開始前にサブタンクの液面を所定の高さに一致させることができるが、塗布工程中の液面変動を防ぐことはできないという問題がある。
Further, in the coating apparatus described in
そこで、本発明は、塗布ポンプを使用して塗布液をダイヘッドに送液する塗布装置において、この塗布ポンプに対する1次圧力を一定に維持してダイヘッドに対する送液を安定させることにより、長時間運転しても均一な塗布膜を形成することのできる塗布装置を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention is a coating apparatus that uses a coating pump to feed a coating solution to a die head, and maintains the primary pressure to the coating pump at a constant level to stabilize the solution feeding to the die head, thereby operating for a long time. Even so, an object of the present invention is to provide a coating apparatus capable of forming a uniform coating film.
前記目的を達成するため、本発明に係る塗布装置は、塗布液を収容するサブタンクと、サブタンクから送液される塗布液を被塗布物に塗布するダイヘッドとを備え、サブタンクとダイヘッドとの間のダイヘッド送液用配管に設置された塗布ポンプによりサブタンク内の塗布液をダイヘッドに送液する塗布装置において、前記サブタンクが、前記ダイヘッド送液用配管が接続されたサブタンク本体と、サブタンク本体からオーバーフローした塗布液を受け止めるオーバーフロー受け部と、オーバーフロー受け部内の塗布液をサブタンク本体に循環供給する循環用配管とを備え、前記ダイヘッド送液用配管に開閉に応じて塗布液の送液方向を変える切り替えバルブが設置され、かつ、この切り替えバルブと前記オーバーフロー受け部とを接続してリターン用配管が設けられることを特徴とする。 In order to achieve the above object, a coating apparatus according to the present invention includes a sub tank that stores a coating liquid, and a die head that applies a coating liquid fed from the sub tank to an object to be coated, and is provided between the sub tank and the die head. In a coating apparatus for feeding the coating liquid in the sub tank to the die head by a coating pump installed in the die head liquid feeding pipe, the sub tank overflows from the sub tank main body to which the die head liquid feeding pipe is connected and the sub tank main body. A switching valve that includes an overflow receiving portion that receives the coating liquid and a circulation pipe that circulates and supplies the coating liquid in the overflow receiving section to the sub-tank body, and changes the liquid feeding direction of the coating liquid according to opening and closing of the die head liquid feeding pipe. Is connected, and this switching valve is connected to the overflow receiving part. Turn for piping and said Rukoto provided.
本発明によれば、サブタンクをサブタンク本体とオーバーフロー受け部とで構成し、サブタンク本体からオーバーフローした塗布液をオーバーフロー受け部に受け止めた後、このオーバーフロー受け部内の塗布液をサブタンク本体に循環させる。 According to the present invention, the sub tank is constituted by the sub tank main body and the overflow receiving portion, and after the coating liquid overflowing from the sub tank main body is received by the overflow receiving portion, the coating liquid in the overflow receiving portion is circulated to the sub tank main body.
このため、塗布工程の開始から終了までの全過程にわたってこの循環を行なうことによりサブタンク本体をオーバーフロー状態に維持することができ、その液面高さを一定に保つことができる。そして、このサブタンク本体にダイヘッド送液用配管が接続されているから、ダイヘッド送液用配管に設置された塗布ポンプに対する1次圧力を一定に維持して、ダイヘッドに対する送液を安定させることができ、長時間運転しても、均一な塗布膜を安定して形成することができる。 Therefore, by performing this circulation over the entire process from the start to the end of the coating process, the sub tank body can be maintained in an overflow state, and the liquid level can be kept constant. And since the pipe for die head feeding is connected to the sub tank body, the primary pressure for the coating pump installed in the pipe for feeding the die head can be kept constant, and the feeding to the die head can be stabilized. Even when operated for a long time, a uniform coating film can be stably formed.
本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。図面の図1は本発明の第1の実施形態の説明図である。
第1の実施形態の塗布装置10は、塗布液を収容するサブタンク2と、サブタンク2から送液される塗布液を塗布するダイヘッド3とを必須の構成要素とするものである。このほか、別工程で製作した塗布液を収容する1次タンク1を備えることが望ましい。この実施形態の塗布装置は1次タンク1を備えており、1次タンク1内部の塗布液をサブタンク2に送液し、塗布に必要な塗布液は、サブタンク2からダイヘッド3に供給する構成としている。このため、1次タンク1とサブタンク2との間には、1次タンク1に貯められた塗布液をサブタンク2に送液するサブタンク送液用配管R1が設けられている。また、サブタンク2とダイヘッド3との間には、サブタンク2に収容された塗布液をダイヘッド3に送液するダイヘッド送液用配管R2が設けられており、このダイヘッド送液用配管R2の途中には塗布ポンプP2が設置されている。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 of the drawings is an explanatory diagram of a first embodiment of the present invention.
The
次に、サブタンク2は、前記ダイヘッド送液用配管R2が側面に接続されたサブタンク本体21と、サブタンク本体21からオーバーフローした塗布液を受け止めるオーバーフロー受け部22とを備えている。この実施形態では、オーバーフロー受け部22の中央にサブタンク本体21を配置して、サブタンク本体21の上部の開口部の周囲からオーバーフローした塗布液をオーバーフロー受け部22で受け止める構造としている。また、サブタンク2は、これらサブタンク本体21とオーバーフロー受け部22に加えて、オーバーフロー受け部22内の塗布液をサブタンク本体に循環供給する循環用配管R3を備えて構成されている。そして、このようにサブタンク本体21、オーバーフロー受け部22および循環用配管R3の三者は、塗布液を循環する循環経路を構成している。このため、塗布工程の開始から終了までの全過程にわたってサブタンク本体21をオーバーフロー状態に維持し、オーバーフローした塗布液をオーバーフロー受け部22で受け止め、そして、このオーバーフロー受け部22内の塗布液をサブタンク本体21に循環させることができる。そして、この間、すなわち、塗布工程の開始から終了までの全過程にわたってサブタンク本体21をオーバーフロー状態に維持するため、その液面高さを一定に保つことができる。そして、このサブタンク本体21にはダイヘッド送液用配管R2が接続されているから、このダイヘッド送液用配管R2に設置された塗布ポンプP2に対する1次圧力を一定に維持して、ダイヘッド3に対する送液を安定させることができる。
Next, the
次に、サブタンク本体21について説明する。
前述のように、サブタンク本体21は、ダイヘッド3につながるダイヘッド送液用配管R2を接続したもので、塗布工程の開始から終了までの全過程にわたって、その液面の高さを一定に保ち、こうして塗布ポンプP2に対する1次圧力を一定に保つ役割を果たすものである。サブタンク本体21の役割はこのようなものであるから、その容積は小さいものでよい。容積の小さいサブタンク本体21を使用することにより、サブタンク本体21内の塗布液の再凝集を防ぐことができるという利点がある。
Next, the sub tank
As described above, the sub tank
ダイヘッド送液用配管R2はサブタンク本体21の側面に接続されている。サブタンク本体21内の塗布液に含まれる気泡は塗布液中を上昇するから、オーバーフローする塗布液とともに除去される。このため、サブタンク本体21の側面に接続されたダイヘッド送液用配管R2に気泡が混入することを防止することができる。また、塗布液に含まれる異物はサブタンク本体21の底部に沈殿するから、サブタンク本体21の側面に接続されたダイヘッド送液用配管R2を通って異物がダイヘッド3に供給されることも防止することもできる。
The die head liquid feeding pipe R <b> 2 is connected to the side surface of the sub tank
次に、サブタンク本体21の開口部近傍には液面センサL1が設置されており、サブタンク本体21の液面を常時監視している。仮にサブタンク本体21の液面が低下した場合には、サブタンク本体21のオーバーフロー状態を維持できておらず、異常な状態と判断して塗布を中止することができる。このような異常な状態としては、たとえば、後述する循環用配管R3に設置された循環ポンプP3の故障やフィルタF3の目詰まりなどが想定できる。
Next, a liquid level sensor L1 is installed in the vicinity of the opening of the sub tank
なお、沈殿した異物を除去するため、サブタンク本体21には、その底面のもっとも低い位置にドレインD1を設置している。この実施例では、サブタンク本体21の底面を円錐状の傾斜面とし、もっとも低い中央部位にドレインD1を設置している。そして、適時ドレインD1を開放することにより、長期間運転によって沈殿した異物を除去することができる。
In addition, in order to remove the settled foreign material, the drain D1 is installed in the lowest position on the bottom surface of the sub tank
次に、オーバーフロー受け部22について説明する。
オーバーフロー受け部22は、サブタンク本体21からオーバーフローした塗布液を受け止め、循環用配管R3を通じてサブタンク本体21にこの塗布液を循環供給する役割を有するものである。循環用配管R3はオーバーフロー受け部22の底面に接続されており、また、循環ポンプP3が設けられていて、この循環ポンプP3を作動させることより、オーバーフロー受け部22内の塗布液をサブタンク本体21に循環供給することができる。なお、循環用配管R3にはフィルタF3が配置されており、このフィルタF3を通すことにより、オーバーフロー受け部22の内部で生成した異物をろ過することができる。
Next, the
The
また、オーバーフロー受け部22は、サブタンク2に存在する塗布液の量を監視し、塗布液が多い場合には1次タンク1からサブタンク本体21に供給される塗布液の量を減少させ、多い場合には1次タンク1からサブタンク本体21に供給される塗布液の量を増加させる役割を併せ持つ。この役割を果たすため、オーバーフロー受け部22には、液面センサL2とL3とが設置されており、オーバーフロー受け部22内の塗布液の液面を常時監視している。
The
ダイヘッド送液用配管R2を通じてサブタンク2から排出される塗布液の量に比較して、1次タンク1からサブタンク2に供給される塗布液の量が多い場合、長時間の塗布を続けると、サブタンク2に存在する塗布液の量が増加する。サブタンク本体21はオーバーフロー状態を維持しているため、このサブタンク本体21に収容されている塗布液の量は変化しないから、サブタンク2内の塗布液の増加分はオーバーフロー受け部22に収容された塗布液の増加分と等しい。すなわち、サブタンク2から排出される塗布液の量に比較して、サブタンク2に供給される塗布液の量が多い場合、オーバーフロー受け部22に収容される塗布液の量が増加する。そこで、2つの液面センサのうち高い位置に配置したセンサL2によって液面を検知した場合には、サブタンク2から排出される塗布液の量に比較して、1次タンク1からサブタンク2に供給される塗布液の量が多いと判断して、1次タンク1からの供給量を減らし、あるいは供給を停止する。なお、1次タンク1からの供給を停止した場合でも、サブタンク本体21にはオーバーフロー受け部22内の塗布液が供給されているから、サブタンク本体21のオーバーフロー状態を維持することができる。
If the amount of coating liquid supplied from the primary tank 1 to the
他方、ダイヘッド送液用配管R2を通じてサブタンク2から排出される塗布液の量に比較して、1次タンク1からサブタンク2に供給される塗布液の量が少ない場合に、その塗布を長時間続けると、サブタンク本体21のオーバーフローが維持できなくなる。この場合にはオーバーフロー受け部22内の塗布液の液面が低下するから、2つの液面センサのうち低い位置に配置したセンサL3によって液面を検知した場合には、サブタンク2から排出される塗布液の量に比較して、1次タンク1からサブタンク2に供給される塗布液の量が少ないと判断して、1次タンク1からの供給量を増加させ、あるいは供給を再開する。
On the other hand, when the amount of the coating liquid supplied from the primary tank 1 to the
なお、沈殿した異物を除去するため、オーバーフロー受け部22の底面のもっとも低い位置にドレインD2を設置している。すなわち、オーバーフロー受け部22は、その底面を一方向に単純に傾斜した傾斜面とし、もっとも低い端部にドレインD2を設置している。そして、適時ドレインD2を開放することにより、沈殿した異物を除去することができる。
In addition, in order to remove the settled foreign matter, the drain D2 is installed at the lowest position on the bottom surface of the
次に、サブタンク送液用配管R1について説明する。塗布液はサブタンク本体21とオーバーフロー受け部22との間の循環経路を循環しているため、1次タンク1内の塗布液はこの循環経路のどの位置に供給してもよい。この第1の実施形態では、サブタンク送液用配管R1の排出口をサブタンク本体21に配置して、1次タンク1内の塗布液をサブタンク本体21に供給している。そして、このため、サブタンク本体21には、サブタンク送液用配管R1を通って1次タンク1から供給される塗布液と、オーバーフロー受け部22に収容され循環用配管R3を通って供給される塗布液の両者が供給されることになる。なお、サブタンク送液用配管R1には送液ポンプP1とフィルタF1とが設置されており、送液ポンプP1を作動させて1次タンク1内の塗布液をサブタンク本体21に供給している。また、このフィルタF1を通すことにより、ごみや塗布液の異物などを除去して、清浄な塗布液としている。
Next, the sub tank liquid supply pipe R1 will be described. Since the coating liquid circulates in the circulation path between the sub tank
次に、ダイヘッド送液用配管R2と、このダイヘッド送液用配管R2から枝分かれしたリターン用配管R4について説明する。
ダイヘッド送液用配管R2はサブタンク本体21内の塗布液をダイヘッド3に送液するもので、このため、ダイヘッド送液用配管R2の途中に塗布ポンプP2が設置されている。そして、この塗布ポンプP2を作動させることにより、サブタンク本体21内の塗布液をダイヘッド3に供給することができる。この際、この塗布ポンプP2にかかる1次圧力は一定に維持されているから、送液する塗布液の流量を一定に維持することができ、ダイヘッド3から吐出する塗布液の量も安定する。なお、塗布ポンプP2とダイヘッド3との間にはフィルタF2が設置されており、このフィルタF2を通ってダイヘッド3に送液される。このため、ダイヘッド送液用配管R2の途中で生成した異物を除去することができ、したがって、清浄な塗布液をダイヘッド3に供給することができる。
Next, the die head liquid feeding pipe R2 and the return pipe R4 branched from the die head liquid feeding pipe R2 will be described.
The die head liquid feeding pipe R2 feeds the coating liquid in the sub tank
そして、このダイヘッド送液用配管R2には、リターンバルブV1と塗布バルブV2とが順次設けられている。
リターンバルブV1は、その開閉に応じて、塗布液の送液方向を変えるものである。未塗布時には、このリターンバルブV1を閉じることによって、ダイヘッド3に対する送液を停止し、塗布液をダイヘッド送液用配管R2から枝分かれしたリターン用配管R4に送液する。また、リターンバルブV1を開くことによってリターン用配管R4への送液を停止し、続いて塗布バルブV2を開くことによって、塗布液をダイヘッド3に送液することができる。なお、リターンバルブV1は、ダイヘッド送液用配管R2に背圧を掛けることにより、塗布バルブV2を開いた時における塗布液の立ち上がり特性を向上させる機能も有している。
A return valve V1 and a coating valve V2 are sequentially provided in the die head liquid supply pipe R2.
The return valve V1 changes the liquid feeding direction of the coating liquid according to the opening and closing thereof. When not applied, the return valve V1 is closed to stop the liquid supply to the
ところで、リターンバルブV1の開閉を繰り返すことにより、バルブシール面に塗布液の固まりが挟まることがある。そして、リターン用配管R4に供給された塗布液には、こうして生じた塗布液の固まりが混入していることがある。 By the way, by repeatedly opening and closing the return valve V1, a lump of coating liquid may be caught on the valve seal surface. The coating liquid supplied to the return pipe R4 may contain a lump of the coating liquid thus generated.
このような塗布液の固まりがダイヘッド3に供給されると、被塗布物に形成された塗布膜が不均一なものとなり、安定した品質の塗布ができないという問題が生じる。例えば、ダイヘッド3が微小なスリット状間隙から塗布液をわずかに押し出し、このわずかな塗布液に被塗布物を接触させて塗布するものである場合には、ダイヘッドの先端と被塗布物との間の間隙はわずかに120〜150μmしかない。このような微小な間隙に前述の異物が挟まると、スジ状の塗布むらが発生する。また、このような塗布液の異物や固まりがダイヘッド送液用配管R2を通ることによりフィルタF2が目詰まりを起こし、フィルタF2や塗布ポンプP2の寿命を縮めることがある。
When such a lump of coating solution is supplied to the
そこで、この第1の実施形態では、リターン用配管R4をオーバーフロー受け部22につなぎ、リターン用配管R4内の塗布液をオーバーフロー受け部22に送液している。オーバーフロー受け部22においては、塗布液の異物は沈殿し、こうして沈殿した塗布液の異物はドレインD2によって除去され、また、ドレインD2で除去されない塗布液の異物もフィルタF3を通すことで除去している。したがって、これら塗布液の異物がサブタンク本体21を通ってダイヘッド送液用配管R2やダイヘッド3に供給されることがない。そして、このため、リターンバルブV1で生じた塗布液の異物に起因する塗布むらを防止することができる。また、フィルタF2の目詰まりを削減して、塗布ポンプP2の出力変化を小さくし安定した流量の塗布液をダイヘッド3に送液することができる。また、塗布ポンプP2の出力変化を小さくできるから、塗布ポンプP2の寿命を長くすることが可能である。
Therefore, in the first embodiment, the return pipe R4 is connected to the
次に、この塗布装置に適用されるダイヘッド3としては、例えば、ダイヘッド3先端に微小なスリット状間隙を有するダイヘッド3が使用できる。このようなダイヘッド3においては、そのダイヘッド3先端に塗布液がわずかに突出するようにスリットから押し出し、こうしてわずかに突出した塗布液に、被塗布物を接触させて塗布することができる。被塗布物としては、巻き取り状のシート材を採用することができる。例えば、巻き取り状の箔である。そして、ダイヘッド3先端から120〜150μmの間隙を介してバックローラ4を配置し、このバックローラ4上を巻き取り状のシート材を走行させながら、このシート材に塗布液を塗布することができる。
Next, as the
次に、この塗布装置の使用方法について説明する。
この塗布装置は、塗布工程の開始から終了までの全過程にわたって、サブタンク本体21をオーバーフロー状態に維持して使用する。このとき、サブタンク本体21に供給される塗布液は、サブタンク送液用配管R1を通って1次タンク1から送液される塗布液と、循環用配管R3を通ってオーバーフロー受け部22から送液される塗布液の両者である。他方、サブタンク本体21から排出される塗布液は、ダイヘッド送液用配管R2を通じて送液される塗布液と、サブタンク本体21からオーバーフローする塗布液の両者である。
Next, the usage method of this coating device is demonstrated.
This coating apparatus uses the sub-tank
なお、オーバーフロー受け部22から送液される塗布液には、サブタンク本体21からオーバーフローした塗布液に加えて、リターン用配管R4を通ってオーバーフロー受け部22に送液される塗布液が含まれている。
そこで、1次タンク1からサブタンク2に供給される塗布液の量が多いことをセンサL2によって検知した場合には、1次タンク1からの供給量を減らし、あるいは供給を停止する。また、1次タンク1からサブタンク2に供給される塗布液の量が少ないことをセンサL3によって検知した場合には、1次タンク1からの供給量を増加させ、あるいは供給を再開する。また、サブタンク本体21の液面の低下をセンサL1が検知した場合には、塗布装置を停止する。
The coating liquid sent from the
Therefore, when the sensor L2 detects that the amount of the coating liquid supplied from the primary tank 1 to the
また、未塗布時には、リターンバルブV1を閉じて、リターン用配管R4を通してオーバーフロー受け部22に塗布液を送液する。また、適時ドレインD1およびD2を開放して、沈殿した異物を除去する。
Further, when not applied, the return valve V1 is closed, and the application liquid is sent to the
次に、図2を参照して、本発明の第2の実施形態を説明する。
第2の実施形態の塗布装置20は、サブタンク2の構成が第1の実施形態の塗布装置10と異なっている。すなわち、第1の実施形態では、オーバーフロー受け部22の中央にサブタンク本体21を配置することによってサブタンク2を構成していたが、第2の実施形態では、段差のついた2つの槽によってサブタンク2を構成している。すなわち、2つの槽のうち、上面開口部が高い位置にある槽をサブタンク本体21とし、他方の槽をオーバーフロー受け部22として、サブタンク本体21からオーバーフローした塗布液をオーバーフロー受け部22で受け止めている。
なお、サブタンク本体21の底面は一方向に単純に傾斜した傾斜面とされており、もっとも低い端部にドレインD1が設置されている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The
The bottom surface of the sub tank
次に、図3を参照して、本発明の第3の実施形態を説明する。
第3の実施形態の塗布装置30は、1次タンク1に貯められた塗布液をサブタンク2に送液するサブタンク送液用配管R1を、オーバーフロー受け部22に接続した点で第1の実施形態の塗布装置10と異なっている。したがって、1次タンク1からサブタンク送液用配管R1を通ってオーバーフロー受け部22に送液された塗布液は、サブタンク本体21からオーバーフローした塗布液やリターン用配管R4からオーバーフロー受け部22に送液された塗布液と混合した後、循環用配管R3を通ってサブタンク本体21に送液され、このサブタンク本体21からダイヘッド3に送液される。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The
ところで、1次タンク1に貯められた塗布液は一般に粘度が低く、一方、リターン用配管R4から送液された塗布液は一般に粘度が高いから、この両者をオーバーフロー受け部22で混合することによって、ダイヘッド3に送液される塗布液の粘度変化を小さくすることができる。
By the way, the coating liquid stored in the primary tank 1 is generally low in viscosity, whereas the coating liquid sent from the return pipe R4 is generally high in viscosity. The viscosity change of the coating solution fed to the
また、1次タンク1に貯められた塗布液をサブタンク本体21に直接送液することがないから、サブタンク本体21に供給される塗布液の量が少なくなる。このため、サブタンク本体21の容量を小さくすることができる。これにより、サブタンク本体21に供給される塗布液は速やかにダイヘッド3に送液され、サブタンク本体21の内部に滞留する時間が短くなるため、サブタンク本体21の内部における塗布液の状態変化や異物生成を低減することができる。しかも、こうして塗布液の状態変化や異物生成の少ない塗布液をさらにフィルタF2を通してダイヘッド3に送液するから、清浄な塗布液を送液できる、という利点もある。
Further, since the coating liquid stored in the primary tank 1 is not directly sent to the sub tank
次に、図4を参照して、本発明の第4の実施形態を説明する。
第4の実施形態の塗布装置40は、リターンバルブV1とリターン用配管R4とを備えていない点で、第1の実施形態の塗布装置10と異なっている。このような装置は、ストライプ塗布などの連続塗布に適しており、塗布バルブV2の開閉と塗布ポンプP2の回転制御によって塗布液を塗布することができる。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The
本発明に係る塗布装置は、半導体の生産工程やそのほかの任意の塗布工程に利用することができる。特に、長時間の塗布を行っても塗布膜厚や塗布質量を精度よく制御できるから、要求精度の厳しい塗布工程に適している。 The coating apparatus according to the present invention can be used in a semiconductor production process or any other coating process. In particular, the coating film thickness and the coating mass can be accurately controlled even after long-time coating, which is suitable for a coating process with strict required accuracy.
1 1次タンク
2 サブタンク
10 塗布装置
20 塗付装置
21 サブタンク本体
22 オーバーフロー受け部
3 ダイヘッド
30 塗付装置
4 バックローラ
40 塗付装置
R1 サブタンク送液用配管
R2 ダイヘッド送液用配管
R3 循環用配管
R4 リターン用配管
P1 送液ポンプ
P2 塗布ポンプ
P3 循環ポンプ
LL 下限センサ
ML 中間センサ
L1,L2,L3 液面センサ
F1,F2,F3 フィルタ
D1,D2 ドレイン
V1 リターンバルブ
V2 塗布バルブ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (6)
前記サブタンクが、前記ダイヘッド送液用配管が接続されたサブタンク本体と、サブタンク本体からオーバーフローした塗布液を受け止めるオーバーフロー受け部と、オーバーフロー受け部内の塗布液をサブタンク本体に循環供給する循環用配管とを備え、
前記ダイヘッド送液用配管に開閉に応じて塗布液の送液方向を変える切り替えバルブが設置され、かつ、この切り替えバルブと前記オーバーフロー受け部とを接続してリターン用配管が設けられることを特徴とする塗布装置。 A sub-tank that contains the coating liquid and a die head that applies the coating liquid sent from the sub-tank to the object to be coated are provided in the sub-tank by a coating pump installed in a die-head feeding pipe between the sub-tank and the die head. In a coating device for feeding a coating solution to a die head,
The sub tank includes a sub tank main body to which the die head liquid feeding pipe is connected, an overflow receiving part for receiving the coating liquid overflowed from the sub tank main body, and a circulation pipe for circulating the coating liquid in the overflow receiving part to the sub tank main body. Prepared ,
The die head switching valve for changing the feeding direction of the coating liquid according to the opening and closing the liquid feed pipe is installed, and characterized Rukoto return pipe is provided connecting the overflow receiving section and the switching valve A coating device.
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