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JP5950255B2 - Process for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compounds - Google Patents
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Process for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compounds Download PDF

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Description

本発明は、有機合成の技術分野に属し、特に、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の新規な製造方法に関する。   The present invention belongs to the technical field of organic synthesis, and particularly relates to a novel process for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or an analogous compound thereof.

ベンゼン環の1,2位に置換基をもつ芳香族化合物は、有機合成の分野において、重要な役割を担うもの(例えば種々の合成反応の前駆体や中間体として)が多い反面、その隣接する置換基がもたらす立体障害性のために、合成方法が困難であるものも多い。   Aromatic compounds having substituents at positions 1 and 2 of the benzene ring often play an important role in the field of organic synthesis (for example, as precursors and intermediates for various synthetic reactions), but are adjacent to each other. Many of them are difficult to synthesize due to the steric hindrance caused by the substituents.

このような芳香族化合物として、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物がある。1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物は、様々な有機合成に必要とされる重要な化合物が多く、とりわけ1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンは、ベンザインを経る合成反応や様々な金属交換反応で用いられる優れた前駆体として、極めてニーズの高い重要な化合物である。   As such an aromatic compound, there is 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or an analogous compound thereof. 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compounds are many important compounds required for various organic syntheses, and in particular, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene is a synthetic reaction through benzyne and various other compounds. As an excellent precursor used in a metal exchange reaction, it is an important compound with extremely high needs.

現在のところ1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法としては、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)を溶媒に用いる方法が収率が高く最も確立された方法である。例えば、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンは、出発原料を1,2−ジクロロベンゼンとして、溶媒にヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)を用いて、金属マグネシウムおよびクロロトリメチルシランを加えることで、収率70〜85%で得られる方法が知られている(非特許文献1、2参照)。   Currently, as a method for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compounds, a method using hexamethylphosphoric triamide (HMPA) as a solvent is the most established method with high yield. For example, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene can be obtained by adding metal magnesium and chlorotrimethylsilane using 1,2-dichlorobenzene as a starting material and hexamethylphosphoric triamide (HMPA) as a solvent. A method obtained at a rate of 70 to 85% is known (see Non-Patent Documents 1 and 2).

しかし、この製造方法では、溶媒として必要となるヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)の毒性が極めて高いという安全面で大きな問題がある。加えて、温度100℃で2日間反応させることが要求され反応条件も厳しい。そのため、この製造方法に代替できるような1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法が希求されている。   However, in this production method, there is a big problem in terms of safety that the toxicity of hexamethylphosphoric triamide (HMPA) required as a solvent is extremely high. In addition, it is required to react at a temperature of 100 ° C. for 2 days, and the reaction conditions are severe. Therefore, there is a demand for a method for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compounds that can be substituted for this production method.

このような状況の中、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)の使用を回避する1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法が様々に試みられている。   Under such circumstances, various attempts have been made to produce 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compounds that avoid the use of hexamethylphosphoric triamide (HMPA).

例えば、出発原料を1,2−ジブロモベンゼンとして、溶媒にテトラヒドロフラン(THF)を用いて、tert−ブチルリチウム(t−BuLi)およびトリメチルシリルトリフラート(TMSOTf)を加えてBr−Li交換を行い、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンを得る方法がある(非特許文献3参照)。しかし、Br−Li交換を起こすためには、−120℃もの極低温が必要となる。また、tert−ブチルリチウム(t−BuLi)は極めて反応性の高い反応剤であり、反応時間が進むにつれて副生成物である黄色混合物が生成されてしまう。該黄色混合物の生成を抑えるために、トリメチルシリルトリフラート(TMSOTf)を過剰に加えた後、すぐに濃塩酸およびエタノール下で急冷させるという特殊な操作も要求される。さらに、反応の結果として、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンとともにトリメチルシリルベンゼンが得られるが、トリメチルシリルベンゼンのほうが立体構造的に優位に得られるため、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの収率は低いものとなってしまう。   For example, the starting material is 1,2-dibromobenzene, tetrahydrofuran (THF) is used as a solvent, tert-butyllithium (t-BuLi) and trimethylsilyl triflate (TMSOTf) are added, and Br-Li exchange is performed. There is a method for obtaining 2-bis (trimethylsilyl) benzene (see Non-Patent Document 3). However, in order to cause Br—Li exchange, an extremely low temperature of −120 ° C. is required. Further, tert-butyllithium (t-BuLi) is a very reactive reagent, and as a reaction time proceeds, a yellow mixture as a by-product is generated. In order to suppress the formation of the yellow mixture, a special operation is required in which trimethylsilyl triflate (TMSOTf) is added in excess and then immediately cooled under concentrated hydrochloric acid and ethanol. Furthermore, as a result of the reaction, trimethylsilylbenzene is obtained together with 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene, but since trimethylsilylbenzene is obtained in a three-dimensional structure, the yield of 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene is obtained. Will be low.

また、例えば、出発原料を1,2−ジブロモベンゼンとして、溶媒にテトラヒドロフラン(THF)を用いて、クロロトリメチルシラン(TMSCl)、金属マグネシウム[水素化ジイソブチルアルミニウム(DEBAL−H)で活性化したもの]、テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)、塩化鉄を加えて、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンを得る方法がある(非特許文献4参照)。しかし、この方法では、−10℃で18時間反応させるという低温条件が必要であることに加え、収率が高々41%にとどまっている。   Also, for example, using 1,2-dibromobenzene as a starting material and tetrahydrofuran (THF) as a solvent, chlorotrimethylsilane (TMSCl), metal magnesium [activated with diisobutylaluminum hydride (DEBAL-H)] , Tetramethylethylenediamine (TMEDA) and iron chloride are added to obtain 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene (see Non-Patent Document 4). However, this method requires a low temperature condition of reacting at −10 ° C. for 18 hours, and the yield is only 41% at most.

また、例えば、出発原料を1,2−ジブロモベンゼンとして、溶媒にテトラヒドロフラン(THF)を用いて、クロロトリメチルシラン(TMSCl)、テトラヒドロフラン(THF)中金属カリウムと無水塩化マグネシウムから注意深く調製されたRiekeマグネシウムを加えて温度0℃で反応させて、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンを得る方法がある(非特許文献5参照)。しかし、この方法では、収率が高々65%にとどまっている。また、削り状の金属マグネシウム、1,2−ジブロモベンゼン、過剰のクロロトリメチルシラン(TMSCl)のテトラヒドロフラン(THF)溶媒に、1,2−ジブロモエタンを加えて温度20℃で反応させても1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンを得ることができるが(非特許文献5参照)、この方法だと厳密な不活性ガス雰囲気条件が必要で、収率も52%と中程度である。   Also, for example, Rieke magnesium carefully prepared from chlorotrimethylsilane (TMSCl), metal potassium in anhydrous tetrahydrofuran (THF) and anhydrous magnesium chloride using 1,2-dibromobenzene as a starting material and tetrahydrofuran (THF) as a solvent. There is a method in which 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene is obtained by reacting at a temperature of 0 ° C. (see Non-Patent Document 5). However, with this method, the yield is at most 65%. Further, even if 1,2-dibromoethane is added to a tetrahydrofuran (THF) solvent of shaved metal magnesium, 1,2-dibromobenzene, excess chlorotrimethylsilane (TMSCl) and reacted at 20 ° C., 1, Although 2-bis (trimethylsilyl) benzene can be obtained (see Non-Patent Document 5), this method requires strict inert gas atmosphere conditions and a moderate yield of 52%.

上記のように、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)の使用を回避する従来の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの製造方法は、出発原料に1,2−ジブロモベンゼンを用いることで、溶媒のヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)をテトラヒドロフラン(THF)に代替できるものの、依然として厳しい反応条件が要求されるとともに、目的物である1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの収率も低い。さらに、出発原料である1,2−ジブロモベンゼンの入手コストは、1,2−ジクロロベンゼンよりも約120倍も高い。   As described above, the conventional method for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene that avoids the use of hexamethylphosphoric triamide (HMPA) uses 1,2-dibromobenzene as a starting material, Although hexamethylphosphoric triamide (HMPA) can be replaced with tetrahydrofuran (THF), severe reaction conditions are still required, and the yield of 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene, which is the target product, is low. Furthermore, the cost of obtaining the starting material 1,2-dibromobenzene is about 120 times higher than that of 1,2-dichlorobenzene.

このように、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)の使用を回避する従来の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの製造方法は、高コストかつ低収率なものであり実用化には程遠い状況にある。   Thus, the conventional method for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene that avoids the use of hexamethylphosphoric triamide (HMPA) is expensive and low in yield, and is far from practical use. is there.

Journal of Organometallic Chemistry, vol.84, page 165−175, 1975.Journal of Organometallic Chemistry, vol. 84, page 165-175, 1975. Organic Syntheses, Coll. vol.10, page 653 (2004); vol.78, page 104 (2002)Organic Synthesis, Coll. vol. 10, page 653 (2004); vol. 78, page 104 (2002) Journal of Organic Chemistry, vol.72, page 9750−9752, 2007.Journal of Organic Chemistry, vol. 72, page 9750-9752, 2007. Synthesis, No.16, page 2759−2762, 2010.Synthesis, No. 16, page 2759-2762, 2010. Advanced Synthesis & Catalysis, vol.352, page 3443−3449, 2010.Advanced Synthesis & Catalysis, vol. 352, page 3443-3449, 2010.

本発明の目的は、上記課題を解決するために提案されたものであり、安全な溶媒を用いて緩和な反応条件のもとで1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物を低コストかつ高収率に製造できる新しいタイプの1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法を提供することにある。   The object of the present invention has been proposed to solve the above-mentioned problems, and it is possible to reduce the cost of 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or a related compound thereof under a mild reaction condition using a safe solvent. Another object of the present invention is to provide a process for producing a new type of 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compounds that can be produced in high yield.

本発明者らは、鋭意研究の結果、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物を合成する際に、より安全な溶媒が適用できる反応条件を新たに見出すとともに、該溶媒の使用下でより安価な出発原料が適用できることを新たに見出した。さらに、本発明者らは、このような新規の合成反応がより緩和な反応条件で十分に進むものであり、さらには1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物が高収率で得られることを新たに見出した。   As a result of intensive studies, the present inventors have newly found reaction conditions to which a safer solvent can be applied when synthesizing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compounds, and under the use of the solvent. And found that cheaper starting materials can be applied. Furthermore, the present inventors have made such a novel synthesis reaction sufficiently proceeding under milder reaction conditions, and furthermore, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compound can be obtained in a high yield. Newly found to be.

かくして、本発明に従えば、下記の一般式(I)で表される1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンを溶媒として、

Figure 0005950255
Thus, according to the present invention, 1,3-dialkyl-2-imidazolidinone represented by the following general formula (I) is used as a solvent,
Figure 0005950255

少なくとも2つの隣接する塩素原子を置換基に有するベンゼン誘導体と、クロロトリメチルシランを、金属マグネシウム、銅塩、および塩化リチウムの存在下に反応させる工程を含むことを特徴とする1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法が提供される。   1,2-bis (characteristically characterized in that it comprises a step of reacting a benzene derivative having at least two adjacent chlorine atoms as substituents with chlorotrimethylsilane in the presence of metallic magnesium, a copper salt and lithium chloride. A process for producing trimethylsilyl) benzene or related compounds thereof is provided.

上記式中、Rは、炭素数1〜4のアルキル基を示す。すなわち、上記の一般式(I)で表される1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンとしては、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)、1,3−ジエチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジプロピル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジイソプロピル−2−イミダゾリジノン、または1,3−ジブチル−2−イミダゾリジノンのいずれかから選択することができ、特に入手のし易さや取扱いの容易さから、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)を用いることが好ましい。 In the above formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. That is, 1,3-dialkyl-2-imidazolidinone represented by the above general formula (I) includes 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI), 1,3-diethyl-2- It can be selected from either imidazolidinone, 1,3-dipropyl-2-imidazolidinone, 1,3-diisopropyl-2-imidazolidinone, or 1,3-dibutyl-2-imidazolidinone, In particular, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI) is preferably used because it is easily available and easy to handle.

本発明で用いる少なくとも2つの隣接する塩素原子を置換基に有するベンゼン誘導体とは、ベンゼン環を有する芳香族化合物のベンゼン環の少なくとも2つの隣接する水素原子を塩素原子で置換したものであれば当該塩素原子以外の置換基の有無に関しては特に限定されない。このようなベンゼン環を有する芳香族化合物としては、例えば、ベンゼン、トルエン、フルオロベンゼンおよびアニソールからなる群から選択することができる。   The benzene derivative having at least two adjacent chlorine atoms as a substituent used in the present invention is the one in which at least two adjacent hydrogen atoms of the benzene ring of an aromatic compound having a benzene ring are substituted with chlorine atoms. The presence or absence of a substituent other than a chlorine atom is not particularly limited. The aromatic compound having such a benzene ring can be selected from the group consisting of benzene, toluene, fluorobenzene and anisole, for example.

従って、本発明で用いる少なくとも2つの隣接する塩素原子を置換基に有するベンゼン誘導体としては、例えば、1,2−ジクロロベンゼン、3,4−ジクロロトルエン、3,4−ジクロロフルオロベンゼン、1,2,4,5−テトラクロロベンゼン、1,2−ジクロロアニソールを挙げることができる。   Accordingly, examples of the benzene derivative having at least two adjacent chlorine atoms as substituents used in the present invention include 1,2-dichlorobenzene, 3,4-dichlorotoluene, 3,4-dichlorofluorobenzene, 1,2 , 4,5-tetrachlorobenzene, 1,2-dichloroanisole.

本発明に係る製造方法によれば1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物が得られる。ここで本発明でいう1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの類縁化合物とは、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンと同様にベンゼン環上に(原料となる少なくとも2つの隣接する塩素原子を置換基に有するベンゼン誘導体における当該塩素原子置換基の位置に対応して)少なくとも2つの隣接するトリメチルシリル基を有する化合物を意味し、このような1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの類縁化合物の例としては、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン、3,4−ビス(トリメチルシリル)トルエン、1,2,4,5−テトラキス(トリメチルシリル)ベンゼン、3,4−ビス(トリメチルシリル)フルオロベンゼン等を挙げることができる。   According to the production method of the present invention, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or an analogous compound thereof can be obtained. Here, the 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene analogue referred to in the present invention is substituted on the benzene ring (substitutes at least two adjacent chlorine atoms as raw materials) in the same manner as 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene. Means a compound having at least two adjacent trimethylsilyl groups (corresponding to the position of the chlorine atom substituent in the benzene derivative in the group), and examples of such 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene analogues Includes 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene, 3,4-bis (trimethylsilyl) toluene, 1,2,4,5-tetrakis (trimethylsilyl) benzene, 3,4-bis (trimethylsilyl) fluorobenzene, etc. Can do.

本発明で用いるクロロトリメチルシランは、市販されているクロロトリメチルシラン(TMSCl)を使用することができる。   As the chlorotrimethylsilane used in the present invention, commercially available chlorotrimethylsilane (TMSCl) can be used.

本発明で用いる金属マグネシウムは、削り状のものや粉末状のものを使用することができるが、反応を促進させる点からは、表面積が大きい粉末状のものを使用することが好ましい。このような粉末状の金属マグネシウムとしては、例えば、粒子径が212〜600μmのものを使用することができ、特に粉末状の99%純度の金属マグネシウムを使用することが好ましい。   As the magnesium metal used in the present invention, a machined or powdered one can be used. From the viewpoint of promoting the reaction, it is preferable to use a powdery one having a large surface area. As such powdery metal magnesium, for example, those having a particle size of 212 to 600 μm can be used, and it is particularly preferable to use powdery 99% pure metal magnesium.

本発明で用いる銅塩は、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、または金属銅を用いることができるが、このうち取扱いの容易さから塩化銅またはヨウ化銅を用いることが好ましい。   As the copper salt used in the present invention, copper chloride, copper bromide, copper iodide, or metallic copper can be used. Of these, copper chloride or copper iodide is preferably used because of easy handling.

本発明で用いる塩化リチウムは、市販されているものを使用することができる。   Commercially available lithium chloride can be used for the present invention.

このような本発明の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法は、例えば、次の反応式(1)で示される。すなわち、上述の出発原料のベンゼン誘導体として式(1a)で示される1,2−ジクロロベンゼンを、上述の1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンとして1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)を、上述の銅塩として塩化銅を各々用いることで、式(1b)で示される1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンを得ることができる。   Such a method for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or an analogous compound thereof according to the present invention is represented, for example, by the following reaction formula (1). That is, 1,2-dichlorobenzene represented by the formula (1a) as the benzene derivative as the above starting material, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone as the above 1,3-dialkyl-2-imidazolidinone. By using (DMI) and copper chloride as the above-described copper salts, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene represented by the formula (1b) can be obtained.

Figure 0005950255
Figure 0005950255

上記反応式(1)で示されるような1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物を製造する反応は、常温常圧において一昼夜程度の時間、すなわち10〜20時間(例えば17時間)で十分に進む。なお、反応温度については、常温でも十分に反応が進むが、好ましくは、常温〜90℃であり、より好ましくは50℃〜90℃であり、例えば50℃とすることができる。   The reaction for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compound as shown in the above reaction formula (1) takes about a day or night at room temperature and normal pressure, that is, 10 to 20 hours (for example, 17 hours). Proceed well. In addition, about reaction temperature, although reaction progresses sufficiently also at normal temperature, Preferably it is normal temperature-90 degreeC, More preferably, it is 50 degreeC-90 degreeC, for example, can be 50 degreeC.

本発明の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法は、毒性の極めて高いヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)を用いることなく、しかも常圧下、常温〜90℃で十分に反応が進み、最大90%を超える高収率で1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物が得られるという優れた特徴を有する(後述の実施例参照)。   The method for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compound according to the present invention can sufficiently react at normal temperature to 90 ° C under normal pressure without using highly toxic hexamethylphosphoric triamide (HMPA). Thus, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or an analogous compound thereof can be obtained in a high yield exceeding 90% at maximum (see Examples described later).

従来の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法では、毒性の極めて高いヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)を溶媒に用いないことで安全性を高めたものもあるが、その反面で、高価な出発原料[例えば、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの場合、1,2−ジブロモベンゼン]が必要となるために製造コストが増加するのみならず、要求される温度条件も厳しくなるうえ収率も低いものにとどまっている。これに対して、本発明によれば、ヘキサメチルリン酸トリアミド(HMPA)を溶媒に用いないことのみにとどまらず、安価な1,2−ジクロロベンゼンを出発原料として使用できる[例えば、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの場合、1,2−ジブロモベンゼンに比べてコストが約1/120の1,2−ジクロロベンゼンを用いる]ことから製造コストが抑えられるとともに、常圧下、常温〜90℃で十分に反応が進み、さらに高い収率も実現できるという従来例のない全く新規な優れた反応を行うことができる。   Some conventional methods for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or its related compounds have improved safety by not using hexamethylphosphoric triamide (HMPA), which is extremely toxic, as a solvent. On the other hand, expensive starting materials [for example, 1,2-dibromobenzene in the case of 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene] are required, which not only increases the production cost but also requires the required temperature conditions. It becomes severe and the yield is low. On the other hand, according to the present invention, not only hexamethylphosphoric triamide (HMPA) is not used as a solvent, but also inexpensive 1,2-dichlorobenzene can be used as a starting material [for example, 1,2 In the case of -bis (trimethylsilyl) benzene, 1,2-dichlorobenzene having a cost of about 1/120 compared to 1,2-dibromobenzene is used], so that the production cost can be reduced and normal temperature to 90 ° C. under normal pressure. Thus, a completely new and excellent reaction without a conventional example that the reaction proceeds sufficiently and a higher yield can be realized.

また、別の観点では、本発明に係る1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法は、特殊な装置や熟練した技術も必要としておらず、反応操作も簡便であるため、工業的な大量合成法にも容易に適用できるという非常に優れた合成法である。   In another aspect, the method for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or a related compound thereof according to the present invention does not require special equipment or skilled techniques, and the reaction operation is simple. It is a very excellent synthesis method that can be easily applied to industrial mass synthesis methods.

このような本発明の優れた合成反応が得られる詳細なメカニズムについては未だ解明されていないが、金属マグネシウムと銅塩の混合物(「ハイブリッドグリニャール試薬」(Hybrid Grignard Reagent)とでも呼べるもの)が、塩化リチウム存在下の1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノン(例えば、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI))溶媒中においてその活性が著しく高められることによって、上記反応式(1)で示されるようなトリメチルシリル化反応を強く促進しているものと推察される。   Although the detailed mechanism by which such an excellent synthesis reaction of the present invention is obtained has not yet been elucidated, a mixture of magnesium metal and copper salt (also referred to as “hybrid Grignard reagent”), In the presence of lithium chloride, the activity is remarkably enhanced in a 1,3-dialkyl-2-imidazolidinone (eg, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI)) solvent, whereby the above reaction formula ( It is presumed that the trimethylsilylation reaction shown in 1) is strongly promoted.

このようにして得られた本発明に係る1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンおよびその類縁化合物は、ベンザイン合成をはじめとする種々の合成反応の前駆体や中間体として幅広い用途に利用することができる。   The 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene and related compounds according to the present invention thus obtained can be used in a wide range of applications as precursors and intermediates for various synthetic reactions including benzyne synthesis. it can.

なお、上記では、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物として、説明の便宜上、主として1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの場合を中心に記載したが、本発明の製造方法によって得られる1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンおよびその類縁化合物は、これに限定されるものではなく、出発原料のベンゼン誘導体を選定することによって、種々の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンおよびその類縁化合物が同様にして得られる。すなわち、本発明の製造方法によって得られる1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンおよびその類縁化合物としては、例えば、以下に示すような1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン、3,4−ビス(トリメチルシリル)トルエン、1,2,4,5−テトラキス(トリメチルシリル)ベンゼン、3,4−ビス(トリメチルシリル)フルオロベンゼン等が挙げられる。   In the above description, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or a related compound thereof is mainly described for the sake of convenience mainly for the case of 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene, but it is obtained by the production method of the present invention. The 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene and its related compounds to be obtained are not limited to this, and various 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene and its related compounds can be selected by selecting a starting benzene derivative. The compound is obtained analogously. That is, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene and related compounds obtained by the production method of the present invention include, for example, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene, 3,4-bis (trimethylsilyl) as shown below. ) Toluene, 1,2,4,5-tetrakis (trimethylsilyl) benzene, 3,4-bis (trimethylsilyl) fluorobenzene and the like.

Figure 0005950255
Figure 0005950255

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited only to these Examples.

(実施例1)
1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの製造
Example 1
Production of 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene

マグネシウム、塩化銅(I)、塩化リチウム、および1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンは各々、和光純薬工業株式会社製のものを使用し、クロロトリメチルシランおよび1,2−ジクロロベンゼンは東京化成工業株式会社製のものを使用した。H及び13C NMRはJEOL製AL−300装置を用いて測定した。 Magnesium, copper (I) chloride, lithium chloride, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone are those manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., and chlorotrimethylsilane and 1,2-dichlorobenzene are The thing made by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. was used. 1 H and 13 C NMR were measured using a JEOL AL-300 apparatus.

100mlの三つ口丸底フラスコ、還流管、コックを130℃の乾燥機の中に1時間入れて器具を乾燥させた。乾燥させた器具を乾燥機から取り出し器具を組み立てた。このとき還流管上部には乾燥管をつけ、100mlの三つ口丸底フラスコにスターラバーを入れた。三つ口丸底フラスコの一方にコックを取り付け、アルゴンガスを5分流し反応器具の中をアルゴンガスで満たした。三つ口丸底フラスコのもう一方からマグネシウム(8mmol)、塩化銅(I)(1mmol)、塩化リチウム(8mmol)、モレキュラシーブス4Aで乾燥させた10mlの1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)、蒸留済みのクロロトリメチルシラン(TMSCl)(16mmol)を加えて常温で15分攪拌した。その後、以下の反応式(1)に従い、式(1a)で示される出発原料である1,2−ジクロロベンゼン(1mmol)を加え、55℃で攪拌した。反応が完了したのを確認後、溶液に飽和炭酸水素ナトリウムを入れて中和した。中和が完了したのを確認後、マグネシウムなどの残骸を吸引濾過で取り除き、分液漏斗に入れてヘキサンで3回抽出した(水層は分液漏斗の下から流しヘキサン層は上から出した)。ヘキサン層を飽和食塩水で洗い、ヘキサン層を取り出し硫酸ナトリウムを加え乾燥させた。粉末ロートに綿を詰め硫酸ナトリウムを取り除きエバポレーターで溶液を濃縮した。濃縮した溶液はデシケーターに入れて一晩乾燥させた。乾燥濃縮させた溶液に内部標準物質(1,4−ジメトキシベンゼン)を0.1mmol加えH NMRで収率を決定したところ、式(1b)で示される1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン(収率 93%)が得られた。なお、銅塩にヨウ化銅(CuI)を用いた場合にも、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン(収率80%)が得られた。また、銅塩に金属銅(銅粉末)を用いた場合にも、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンが得られたことが確認された。なお、上記と同様の手順により、スケールを大きくして、1,2−ジクロロベンゼン(50mmol)に、マグネシウム(400mmol)、塩化銅(I)(50mmol)、塩化リチウム(400mmol)、モレキュラシーブス入りの300mlの1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)、蒸留済みのクロロトリメチルシラン(TMSCl)(800mmol)を加えて反応させたところ、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン(収率 87%)が得られた。このことから、1,2−ジクロロベンゼンについてスケールを大きくしても(50mmolスケールの場合でも)、上述の1mmolスケールと同等の収率が得られることがわかった。

Figure 0005950255
A 100 ml three-necked round bottom flask, a reflux tube and a cock were placed in a dryer at 130 ° C. for 1 hour to dry the apparatus. The dried instrument was removed from the dryer and assembled. At this time, a drying tube was attached to the upper part of the reflux tube, and a star rubber was put into a 100 ml three-necked round bottom flask. A cock was attached to one of the three-necked round bottom flasks, and argon gas was flowed for 5 minutes to fill the reactor with argon gas. 10 ml of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone dried with magnesium (8 mmol), copper (I) chloride (1 mmol), lithium chloride (8 mmol) and molecular sieves 4A from the other end of the three-necked round bottom flask (DMI) and distilled chlorotrimethylsilane (TMSCl) (16 mmol) were added and stirred at room temperature for 15 minutes. Then, according to the following reaction formula (1), 1,2-dichlorobenzene (1 mmol) which is a starting material represented by the formula (1a) was added and stirred at 55 ° C. After confirming the completion of the reaction, the solution was neutralized with saturated sodium bicarbonate. After confirming the completion of neutralization, debris such as magnesium was removed by suction filtration, put into a separatory funnel and extracted three times with hexane (the aqueous layer was poured from the bottom of the separatory funnel, and the hexane layer was taken out from above ). The hexane layer was washed with saturated brine, and the hexane layer was taken out and dried by adding sodium sulfate. A powder funnel was filled with cotton, sodium sulfate was removed, and the solution was concentrated with an evaporator. The concentrated solution was placed in a desiccator and dried overnight. When 0.1 mmol of an internal standard substance (1,4-dimethoxybenzene) was added to the dried and concentrated solution and the yield was determined by 1 H NMR, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene represented by the formula (1b) ( Yield 93%) was obtained. Note that 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene (yield 80%) was also obtained when copper iodide (CuI) was used as the copper salt. It was also confirmed that 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene was obtained when metal copper (copper powder) was used as the copper salt. In addition, by the same procedure as described above, the scale was increased, and 1,2-dichlorobenzene (50 mmol) was added with magnesium (400 mmol), copper (I) chloride (50 mmol), lithium chloride (400 mmol), and molecular sieves. When 300 ml of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI) and distilled chlorotrimethylsilane (TMSCl) (800 mmol) were added and reacted, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene (yield 87 %)was gotten. From this, it was found that even if the scale was increased for 1,2-dichlorobenzene (even in the case of 50 mmol scale), a yield equivalent to the 1 mmol scale described above was obtained.
Figure 0005950255

H NMR (300 MHz, CDCl) δ 0.37 (s, 18H, Me), 7.31−7.34 (m, 2H, ArH), 7.65−7.68 (m, 2H, ArH).
13C NMR (75 MHz, CDCl) δ 2.48, 128.21, 135.57, 146.10.
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 0.37 (s, 18H, Me), 7.31-7.34 (m, 2H, ArH), 7.65-7.68 (m, 2H, ArH ).
13 C NMR (75 MHz, CDCl 3 ) δ 2.48, 128.21, 135.57, 146.10.

(実施例2)
3,4−ビス(トリメチルシリル)トルエンの製造
上述の実施例1と同様の手順にて、以下の反応式(2)に従い、出発原料を式(2a)で示される3,4−ジクロロトルエン(1mmol)として、式(2b)で示される3,4−ビス(トリメチルシリル)トルエン(収率92%)を得た。

Figure 0005950255
(Example 2)
Production of 3,4-bis (trimethylsilyl) toluene According to the following reaction formula (2), the starting material is 3,4-dichlorotoluene (1 mmol) represented by formula (2a) in the same procedure as in Example 1 above. ), 3,4-bis (trimethylsilyl) toluene (92% yield) represented by the formula (2b) was obtained.
Figure 0005950255

H NMR (300 MHz, CDCl) δ 0.35 (s, 9H, Me), 0.36 (s, 9H, Me), 2.34 (s, 3H, Me), 7,16 (d, J = 7.5 Hz, ArH), 7,49 (s, 1H, ArH), 7.58 (d, J = 7.5 Hz, ArH).
13C NMR (75 MHz, CDCl) δ 1.96, 2.02, 21,42, 128.57, 135.42, 136.16, 137.11, 142.20, 145,89.
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 0.35 (s, 9H, Me), 0.36 (s, 9H, Me), 2.34 (s, 3H, Me), 7, 16 (d, J = 7.5 Hz, ArH), 7, 49 (s, 1H, ArH), 7.58 (d, J = 7.5 Hz, ArH).
13 C NMR (75 MHz, CDCl 3 ) δ 1.96, 2.02, 21, 42, 128.57, 135.42, 136.16, 137.11, 142.20, 145, 89.

(実施例3)
1,2,4,5−テトラキス(トリメチルシリル)ベンゼンの製造
上述の実施例1と同様の手順にて、以下の反応式(3)に従い、出発原料を式(3a)で示される1,2,4,5−テトラクロロベンゼン(1mmol)として、式(3b)で示される1,2,4,5−テトラキス(トリメチルシリル)ベンゼン(収率77%)を得た。

Figure 0005950255
Example 3
Production of 1,2,4,5-tetrakis (trimethylsilyl) benzene In the same procedure as in Example 1 described above, the starting material is represented by the formula (3a) according to the following reaction formula (3). As 1,2,4,5-tetrachlorobenzene (1 mmol), 1,2,4,5-tetrakis (trimethylsilyl) benzene represented by the formula (3b) (yield 77%) was obtained.
Figure 0005950255

H NMR (300 MHz, CDCl) δ 0.37 (s, 36H, Me), 7.96 (s, 2H, ArH).
13C NMR (75 MHz, CDCl) δ 1.83, 141.52, 144,76.
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 0.37 (s, 36H, Me), 7.96 (s, 2H, ArH).
13 C NMR (75 MHz, CDCl 3 ) δ 1.83, 141.52, 144, 76.

(実施例4)
3,4−ビス(トリメチルシリル)フルオロベンゼンの製造
上述の実施例1と同様の手順にて、以下の反応式(4)に従い、出発原料を式(4a)で示される3,4−ジクロロフルオロベンゼン(1mmol)として、式(4b)で示される3,4−ビス(トリメチルシリル)フルオロベンゼン(収率88%)を得た。

Figure 0005950255
Example 4
Production of 3,4-bis (trimethylsilyl) fluorobenzene In the same procedure as in Example 1, the starting material is 3,4-dichlorofluorobenzene represented by the formula (4a) according to the following reaction formula (4). As (1 mmol), 3,4-bis (trimethylsilyl) fluorobenzene (yield 88%) represented by the formula (4b) was obtained.
Figure 0005950255

H NMR (300 MHz, CDCl) δ 0.37 (s, 9H, Me), 3.38 (s, 9H, Me), 7.00 (dt, J = 3.0, 8.4 Hz, 1H, ArH), 7.37 (dd, J = 3.0, 10.8 Hz, 1H, ArH), 7.65 (dd, J = 6.6, 8.4 Hz, 1H, ArH).
13C NMR (75 MHz, CDCl) δ 1.70、2.00、114.32 (d, J = 18.6 Hz), 121.97 (d, J = 17.3 Hz), 137.30 (d, J = 6.2 Hz), 141.33, 149.72, 173.64.
1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 0.37 (s, 9H, Me), 3.38 (s, 9H, Me), 7.00 (dt, J = 3.0, 8.4 Hz, 1H, ArH), 7.37 (dd, J = 3.0, 10.8 Hz, 1H, ArH), 7.65 (dd, J = 6.6, 8.4 Hz, 1H, ArH).
13 C NMR (75 MHz, CDCl 3 ) δ 1.70, 2.00, 114.32 (d, J = 18.6 Hz), 121.97 (d, J = 17.3 Hz), 137.30 (D, J = 6.2 Hz), 141.33, 149.72, 173.64.

Claims (5)

1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼン、またはその類縁化合物として、1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンを構成するベンゼン環に含まれる水素原子が、フッ素原子、メチル基、又は2つのトリメチルシリル基の少なくともいずれかで置換されたその類縁化合物の製造方法であって、
下記の一般式(I)で表される1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンを溶媒として、
Figure 0005950255
(式中、Rは、炭素数1〜4のアルキル基を示す。)
少なくとも2つの隣接する塩素原子を置換基に有するベンゼン誘導体と、クロロトリメチルシランを、金属マグネシウム、銅塩、および塩化リチウムの存在下に反応させる工程を含むことを特徴とする1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法。
1,2-bis (trimethylsilyl) benzene, or a related compound thereof, wherein a hydrogen atom contained in a benzene ring constituting 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene is a fluorine atom, a methyl group, or at least two trimethylsilyl groups A method for producing an analogous compound substituted with any of the following:
1,3-dialkyl-2-imidazolidinone represented by the following general formula (I) as a solvent,
Figure 0005950255
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
1,2-bis (characteristically characterized in that it comprises a step of reacting a benzene derivative having at least two adjacent chlorine atoms as substituents with chlorotrimethylsilane in the presence of metallic magnesium, a copper salt and lithium chloride. A method for producing trimethylsilyl) benzene or its related compounds.
1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンが、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)であることを特徴とする請求項1に記載の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法。   The 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene according to claim 1, wherein the 1,3-dialkyl-2-imidazolidinone is 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI). A method for producing the related compound. 少なくとも2つの隣接する塩素原子を置換基に有するベンゼン誘導体が、1,2−ジクロロベンゼン、3,4−ジクロロトルエン、3,4−ジクロロフルオロベンゼン、1,2,4,5−テトラクロロベンゼン、1,2−ジクロロアニソールのいずれかであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法。   A benzene derivative having at least two adjacent chlorine atoms as substituents is 1,2-dichlorobenzene, 3,4-dichlorotoluene, 3,4-dichlorofluorobenzene, 1,2,4,5-tetrachlorobenzene, 1 The process for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene or an analogous compound thereof according to claim 1 or 2, wherein the compound is any one of 1,2-dichloroanisole. 銅塩が、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、または金属銅のいずれかであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンまたはその類縁化合物の製造方法。   The copper salt is copper chloride, copper bromide, copper iodide, or metallic copper, 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene according to any one of claims 1 to 3, or its A method for producing an analogous compound. 1,3−ジアルキル−2−イミダゾリジノンが1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)であり、少なくとも2つの隣接する塩素原子を置換基に有するベンゼン誘導体が1,2−ジクロロベンゼンであり、銅塩が塩化銅であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の1,2−ビス(トリメチルシリル)ベンゼンの製造方法。
1,3-dialkyl-2-imidazolidinone is 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI), and a benzene derivative having at least two adjacent chlorine atoms as substituents is 1,2-dichlorobenzene The method for producing 1,2-bis (trimethylsilyl) benzene according to any one of claims 1 to 4, wherein the copper salt is copper chloride.
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