JP5960989B2 - Titanium oxide-containing porous membrane laminate and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、酸化チタン含有多孔質膜積層体とその製造方法、より詳しくは、酸化チタン含有多孔質膜とITO透明導電膜付きフィルムとの積層体とその製造方法に関する。この積層体は、例えば、電子ペーパー用材料、色素増感太陽電池の電極などのエレクトロニクス製品の基材材料等として利用できる。 The present invention relates to a titanium oxide-containing porous membrane laminate and a method for producing the same, and more particularly to a laminate of a titanium oxide-containing porous membrane and a film with an ITO transparent conductive film and a method for producing the same. This laminate can be used, for example, as a base material for electronic products such as electronic paper materials and electrodes of dye-sensitized solar cells.
近年、米国を始めとする各国では魅力的な電子書籍端末と豊富なコンテンツにより電子書籍が本格的な普及期を迎えつつある。この電子書籍には電子ペーパーや液晶パネルが用いられている。電子ペーパーは、紙のように読みやすく薄型軽量で、超低消費電力を特徴とし、また文字や画像表示を書き換えることが可能である。電子ペーパーの白くなった部分は太陽光や室内照明光を反射し、文字や画像は黒くなった部分で表示する反射型表示方式であるため、印刷物のように人間の目に優しく、長時間にわたって文字を読んでも疲れることがない。一方、携帯電話などの液晶画面は常に光を発しているため、長時間利用すると目が疲れると言われている。このように、電子ペーパーにおいて、紙と同等の視認性が最も優先される研究開発の目標の一つであり、このためには、反射率を高くすることが非常に重要である。各種ある電子ペーパーの方式のうち、最も普及しているマイクロカプセル型電気泳動方式において、反射率は35%程度であり、新聞紙の50〜60%よりも低く、必ずしも現状で十分ではない。反射率を上げることは視認性を上げることにつながり好ましいと言える。 In recent years, in the United States and other countries, electronic books are entering a full-fledged period due to attractive electronic book terminals and abundant contents. Electronic paper and liquid crystal panels are used for this electronic book. Electronic paper is easy to read like paper, is thin and lightweight, features ultra-low power consumption, and can rewrite characters and image display. Since the whitened part of the electronic paper reflects sunlight and indoor illumination light, and the text and images are displayed in the blackened part, it is gentle to the human eye like printed matter, and for a long time. I'm never tired of reading the letters. On the other hand, liquid crystal screens of mobile phones and the like always emit light, and it is said that eyes are tired when used for a long time. Thus, in electronic paper, visibility equal to that of paper is one of the research and development goals where the highest priority is given. For this purpose, it is very important to increase the reflectance. Of the various electronic paper systems, the most popular microcapsule electrophoresis system has a reflectivity of about 35%, which is lower than 50-60% of newspaper, and is not always sufficient at present. It can be said that increasing the reflectance leads to an increase in visibility and is preferable.
一方、再生可能エネルギーの利用拡大が望まれるなか、無尽蔵の太陽光を利用する太陽電池に期待が集まっており、その市場は拡大を続けている。しかしながら、現在の世界市場の9割以上を占める結晶シリコン系太陽電池は高純度シリコン原料の安定供給に不安を抱えている。こうしたなか、色素増感太陽電池に注目が集まっている。コストダウンが期待できるし、カラフルであることから新たな分野への市場拡大も期待される。色素増感太陽電池には、光電極としてしばしば酸化チタンの多孔質膜が使われている。酸化チタン多孔質膜は透明電極上に酸化チタンのペーストを塗布して溶剤を乾燥させることにより形成されるが、密着性、割れなどにおいて課題がある。特開2010−267557号公報、特開2011−034835号公報には、ITO透明導電膜付きフィルムに酸化チタンのみからなる多孔質膜が積層された積層体が提案されている。しかし、酸化チタンのみからなる多孔質膜は脆く、柔軟性に劣るため、製造時に取り扱いにくいという問題がある。 On the other hand, in the hope of expanding the use of renewable energy, there is an expectation for solar cells that use inexhaustible sunlight, and the market continues to expand. However, crystalline silicon solar cells, which account for more than 90% of the current global market, are concerned about the stable supply of high-purity silicon raw materials. In these circumstances, attention has been focused on dye-sensitized solar cells. Cost reduction can be expected and the market is expected to expand into new fields due to its colorfulness. In dye-sensitized solar cells, a porous titanium oxide film is often used as a photoelectrode. The titanium oxide porous film is formed by applying a titanium oxide paste on a transparent electrode and drying the solvent, but there are problems in adhesion and cracking. JP 2010-267557 A and JP 2011-034835 A propose a laminate in which a porous film made of only titanium oxide is laminated on a film with an ITO transparent conductive film. However, a porous film made of only titanium oxide is fragile and inferior in flexibility, and thus has a problem that it is difficult to handle during production.
本発明の目的は、ITO透明導電膜付きフィルムに酸化チタンを含む多孔質膜が積層され、且つ柔軟性に優れた酸化チタン含有多孔質膜積層体を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記酸化チタン含有多孔質膜積層体の工業的に効率のよい製造法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a titanium oxide-containing porous film laminate in which a porous film containing titanium oxide is laminated on a film with an ITO transparent conductive film and is excellent in flexibility.
Another object of the present invention is to provide an industrially efficient method for producing the titanium oxide-containing porous membrane laminate.
本発明者らは前記目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結果、ITO透明導電膜付きフィルムの該ITO透明導電膜上に、多孔質膜を構成すべき高分子と酸化チタン粒子とを含む多孔質膜形成用材料分散液をフィルム状に流延し、その後、これを凝固液中に浸漬し、次いで乾燥すると、予想外にも、酸化チタン含有量が高くても多孔質膜が形成できるとともに、該多孔質膜が密着性よくITO透明導電膜上に積層され、その結果、柔軟でフレキシブルな酸化チタン含有多孔質膜とITO透明導電膜付きフィルムとの積層体が得られることを見出し、本発明を完成した。 In order to achieve the above object, the inventors of the present invention have made extensive studies and as a result, the ITO transparent conductive film of the ITO transparent conductive film includes a polymer and a titanium oxide particle that should form a porous film. When the porous membrane-forming material dispersion is cast into a film and then immersed in a coagulation solution and then dried, unexpectedly, a porous membrane can be formed even if the titanium oxide content is high. Along with this, the porous film is laminated on the ITO transparent conductive film with good adhesion, and as a result, a flexible and flexible laminate of the titanium oxide-containing porous film and the ITO transparent conductive film is obtained, The present invention has been completed.
すなわち、本発明は、ITO透明導電膜付きフィルムの該ITO透明導電膜上に、高分子と酸化チタン粒子とを含む組成物から形成された多孔質膜が積層されていることを特徴とする酸化チタン含有多孔質膜積層体を提供する。 That is, the present invention is an oxidation characterized in that a porous film formed of a composition containing a polymer and titanium oxide particles is laminated on the ITO transparent conductive film of the ITO transparent conductive film-attached film. A titanium-containing porous membrane laminate is provided.
前記多孔質膜において、孔の平均孔径が0.01〜10μm、空孔率が30〜85%であってもよい。 In the porous film, the average pore diameter may be 0.01 to 10 μm, and the porosity may be 30 to 85%.
前記高分子は、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアミド系樹脂及びポリスルホン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。 The polymer is at least one selected from the group consisting of polyimide resins, polyamideimide resins, polyetherimide resins, polyethersulfone resins, cellulose resins, polyamide resins, and polysulfone resins. preferable.
前記酸化チタン粒子の一次粒子の平均粒径は、例えば0.01〜10μmである。 The average particle diameter of the primary particles of the titanium oxide particles is, for example, 0.01 to 10 μm.
前記多孔質膜における酸化チタン粒子の含有量は、例えば10〜95重量%である。 The content of titanium oxide particles in the porous membrane is, for example, 10 to 95% by weight.
前記多孔質膜の厚みは、例えば5〜200μmである。 The thickness of the porous film is, for example, 5 to 200 μm.
前記ITO透明導電膜付きフィルムにおけるフィルム基材はポリエチレンテレフタレートフィルムを含むのが好ましい。 The film substrate in the film with ITO transparent conductive film preferably contains a polyethylene terephthalate film.
前記多孔質膜は、前記多孔質膜を構成すべき前記高分子と前記酸化チタン粒子とを含む多孔質膜形成用材料分散液を、ITO透明導電膜付きフィルムの該ITO透明導電膜上へフィルム状に流延し、その後、これを凝固液中に浸漬し、次いで乾燥に付すことにより形成されたものであってもよい。 The porous film is formed by applying a porous film-forming material dispersion containing the polymer and the titanium oxide particles that constitute the porous film onto the ITO transparent conductive film of the ITO transparent conductive film. It may be formed by casting in the shape of a solid, and then immersing it in a coagulating liquid, followed by drying.
本発明は、前記の酸化チタン含有多孔質膜積層体を製造する方法であって、多孔質膜を構成すべき高分子と酸化チタン粒子とを含む多孔質膜形成用材料分散液を、ITO透明導電膜付きフィルムの該ITO透明導電膜上へフィルム状に流延し、その後、これを凝固液中に浸漬し、次いで乾燥に付す工程を少なくとも含む酸化チタン含有多孔質膜積層体の製造方法を提供する。 The present invention is a method for producing the above-mentioned titanium oxide-containing porous membrane laminate, wherein a porous membrane-forming material dispersion containing a polymer to constitute the porous membrane and titanium oxide particles is made transparent with ITO. A method for producing a titanium oxide-containing porous film laminate comprising at least a step of casting a film with a conductive film onto the ITO transparent conductive film, then immersing it in a coagulating liquid, and then subjecting it to drying provide.
上記製造方法において、前記多孔質膜形成用材料分散液を、ITO透明導電膜付きフィルムの該ITO透明導電膜上へフィルム状に流延した後、相対湿度70〜100%、温度15〜100℃の雰囲気下に0.2分間以上保持し、その後、これを凝固液中に浸漬してもよい。 In the said manufacturing method, after casting the said dispersion material for porous film formation on this ITO transparent conductive film of a film with an ITO transparent conductive film, relative humidity 70-100%, temperature 15-100 degreeC May be kept for 0.2 minutes or more in the atmosphere of, and then immersed in the coagulation liquid.
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体は、ITO透明導電膜付きフィルムに、高分子と酸化チタン粒子とを含む組成物から形成された多孔質膜が積層されているので、柔軟性に優れる。また、前記多孔質膜とITO透明導電製膜付きフィルムとの密着性にも優れる。そのため、製造時、使用時に割れ等の不具合が生じにくい。さらに、本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体は、酸化チタン含有多孔質膜を有するので、ITOを用いた電極に、反射特性、美観、吸着特性(分離特性)、濡れ性、光触媒活性、高誘電性等の機能を付与できる。このため、例えば、電子ペーパー用材料、色素増感太陽電池の電極などのエレクトロニクス製品の基材材料等として利用できる。 The titanium oxide-containing porous membrane laminate of the present invention is excellent in flexibility because a porous membrane formed from a composition containing a polymer and titanium oxide particles is laminated on a film with an ITO transparent conductive film. . Moreover, it is excellent also in the adhesiveness of the said porous film and a film with ITO transparent conductive film formation. For this reason, problems such as cracks are less likely to occur during manufacture and use. Furthermore, since the titanium oxide-containing porous film laminate of the present invention has a titanium oxide-containing porous film, the electrode using ITO has reflection characteristics, aesthetics, adsorption characteristics (separation characteristics), wettability, photocatalytic activity, Functions such as high dielectric properties can be imparted. For this reason, for example, it can utilize as a base material material of electronic products, such as a material for electronic paper, and an electrode of a dye-sensitized solar cell.
より具体的には、本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体は、電子ペーパーの表示デバイスの材料として使用できる。多孔質膜に白色顔料として機能する酸化チタンを含有するため、反射率を高くすることが可能である。液体を使用しない空気中粒子移動方式においても、反射率の高さを利用することは可能であるが、多孔質膜中に液体を含浸させる方式においてより機能を発揮させることができる。酸化チタンを含有しない多孔質膜は、樹脂と空気の界面により乱反射が起こり、反射率が高い状態であるが、多孔質膜中に液体を含浸させると乱反射が抑えられ反射率が低下する傾向がある。しかし、酸化チタンを含有する多孔質膜は、多孔質膜中に液体を含浸しても酸化チタンが高い反射率を持つことにより、反射率の低下は少なくなる。 More specifically, the titanium oxide-containing porous membrane laminate of the present invention can be used as a material for electronic paper display devices. Since the porous film contains titanium oxide that functions as a white pigment, the reflectance can be increased. Even in the air particle movement method that does not use a liquid, it is possible to utilize the high reflectance, but the function can be exhibited more in the method in which the porous film is impregnated with the liquid. Porous membranes that do not contain titanium oxide are in a state where irregular reflection occurs at the interface between the resin and air and the reflectance is high, but when the porous membrane is impregnated with liquid, irregular reflection is suppressed and the reflectance tends to decrease. is there. However, in the porous film containing titanium oxide, even if the porous film is impregnated with a liquid, the titanium oxide has a high reflectance, so that a decrease in reflectance is reduced.
また、本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体は、色素増感太陽電池等の光電極として使用できる。多孔質膜中に酸化チタンを多量に含有させることが可能であり、しかも柔軟性のあるフィルム状で取り扱うことができ、しかも密着性に優れるため、従来の酸化チタンのみからなる多孔質膜を用いた光電極と比較して、割れにくいという利点がある。太陽電池等の製造プロセスにおいても、ITO透明導電膜上に直接酸化チタン含有多孔質膜を積層できるので、簡略化された工程で色素増感太陽電池を製造できる。 Moreover, the titanium oxide containing porous film laminated body of this invention can be used as photoelectrodes, such as a dye-sensitized solar cell. It is possible to contain a large amount of titanium oxide in the porous film, and it can be handled as a flexible film and has excellent adhesion. Therefore, a conventional porous film made only of titanium oxide is used. Compared to the conventional photoelectrode, there is an advantage that it is hard to break. Also in a manufacturing process of a solar cell or the like, since a titanium oxide-containing porous film can be directly laminated on the ITO transparent conductive film, a dye-sensitized solar cell can be manufactured by a simplified process.
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体は、ITO透明導電膜付きフィルムの該ITO透明導電膜上に、高分子と酸化チタン粒子とを含む組成物から形成された多孔質膜が積層されている。 In the titanium oxide-containing porous film laminate of the present invention, a porous film formed from a composition containing a polymer and titanium oxide particles is laminated on the ITO transparent conductive film of a film with an ITO transparent conductive film. Yes.
[ITO透明導電膜付きフィルム]
ITO透明導電膜付きフィルムとしては、フィルム基材表面にITO(indium tin oxide;スズを含むインジウム酸化物)膜が形成されたものであれば特に限定されない。
[Film with ITO transparent conductive film]
The film with an ITO transparent conductive film is not particularly limited as long as an ITO (indium tin oxide) film is formed on the surface of the film substrate.
前記フィルム基材としては、少なくとも樹脂フィルムを有するフィルム基材を使用でき、単層であってもよく、同一又は異なる素材からなる複数の層からなる複合フィルムであってもよい。また、前記フィルム基材は、樹脂フィルムのみで構成されていてもよく、樹脂フィルムと樹脂フィルム以外の薄葉体との積層体であってもよい。樹脂フィルム以外の薄葉体としては、例えば、金属箔等が挙げられる。ITO膜は、前記樹脂フィルム上に、例えばスパッタ法により形成できる。 As said film base material, the film base material which has a resin film at least can be used, A single layer may be sufficient and the composite film which consists of several layers which consist of the same or different raw material may be sufficient. Moreover, the said film base material may be comprised only by the resin film, and the laminated body of thin-leaf bodies other than a resin film and a resin film may be sufficient as it. Examples of the thin leaf other than the resin film include a metal foil. The ITO film can be formed on the resin film, for example, by sputtering.
前記樹脂フィルムを構成する材料としては、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエステル系樹脂(ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリブチレンナフタレート系樹脂、液晶性ポリエステル系樹脂など)、ポリアミド系樹脂(芳香族ポリアミド系樹脂、非芳香族ポリアミド系樹脂)、ポリベンゾオキサゾール系樹脂、ポリベンゾイミダゾール系樹脂、ポリベンゾチアゾール系樹脂、ポリスルホン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、フッ素系樹脂、オレフィン系樹脂(環状オレフィン系樹脂を含む)、ポリアリレート系樹脂等のプラスチック等が挙げられる。これらの材料は単独で又は2種以上を混合して使用してもよく、また、上記樹脂の共重合体を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることもできる。さらに、上記樹脂の骨格(ポリマー鎖)を主鎖又は側鎖に含むポリマー(例えば、ポリシロキサンとポリイミドの骨格を主鎖に含むポリシロキサン含有ポリイミド等)を用いることもできる。 Examples of the material constituting the resin film include polyimide resins, polyamideimide resins, polyethersulfone resins, polyetherimide resins, polycarbonate resins, polyphenylene sulfide resins, polyester resins (polyethylene terephthalate resins). , Polyethylene naphthalate resins, polybutylene naphthalate resins, liquid crystalline polyester resins, etc.), polyamide resins (aromatic polyamide resins, non-aromatic polyamide resins), polybenzoxazole resins, polybenzimidazole resins Resin, polybenzothiazole resin, polysulfone resin, cellulose resin, acrylic resin, polyetheretherketone resin, fluorine resin, olefin resin (including cyclic olefin resin), polyary Plastics such as over preparative resins. These materials may be used alone or in admixture of two or more, and the above copolymer of resins may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, a polymer containing the above resin skeleton (polymer chain) in the main chain or side chain (for example, a polysiloxane-containing polyimide containing a polysiloxane and polyimide skeleton in the main chain) can also be used.
前記フィルム基材としては、少なくともポリエステルフィルム(特にポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等)を含むのが好ましい。この場合、ITO膜は該ポリエステルフィルム上に形成されるのが好ましい。また、前記フィルム基材は、ポリエステルフィルム(特にポリエチレンテレフタレートフィルム)のみから構成されていてもよく、ポリエステルフィルムと、他の樹脂フィルム及び/又は樹脂フィルム以外の薄葉体との積層体であってもよい。 The film substrate preferably contains at least a polyester film (particularly a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, etc.). In this case, the ITO film is preferably formed on the polyester film. Moreover, the said film base material may be comprised only from the polyester film (especially polyethylene terephthalate film), and may be a laminated body of a polyester film, and other thin films other than a resin film and / or a resin film. Good.
ITO透明導電膜付きフィルム(又は、フィルム基材)の厚みは、例えば1〜300μm、好ましくは50〜250μm、さらに好ましくは100〜200μmである。厚みが薄くなりすぎると取り扱いが困難になり、一方厚すぎる場合には柔軟性が低下する場合がある。 The thickness of the film with ITO transparent conductive film (or film substrate) is, for example, 1 to 300 μm, preferably 50 to 250 μm, and more preferably 100 to 200 μm. If the thickness is too thin, handling becomes difficult, while if it is too thick, the flexibility may decrease.
[多孔質膜]
本発明における多孔質膜は高分子と酸化チタンとを含む組成物から形成された多孔質膜であり、多数の微小孔が存在する。前記多孔質膜における孔(微小孔)の平均孔径は0.01〜10μmの範囲が好ましく、空孔率は30〜85%の範囲が好ましい。この多孔質膜においては、酸化チタン粒子が高分子中に良好な均一性で分散している。また、酸化チタン粒子が高分子中に分散しているため、空孔を埋めることなく高い空孔率を維持している。
[Porous membrane]
The porous film in the present invention is a porous film formed from a composition containing a polymer and titanium oxide, and has a large number of micropores. The average pore diameter of pores (micropores) in the porous membrane is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, and the porosity is preferably in the range of 30 to 85%. In this porous film, the titanium oxide particles are dispersed with good uniformity in the polymer. Further, since the titanium oxide particles are dispersed in the polymer, a high porosity is maintained without filling the pores.
多孔質膜を構成する高分子としては、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアミド系樹脂(芳香族ポリアミド系樹脂、非芳香族ポリアミド系樹脂)、ポリスルホン系樹脂、アクリル系樹脂、アラミド系樹脂、ポリイミダゾール系樹脂、ポリパラフェニレンベンズオキサゾール系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂(液晶性ポリエステル樹脂を含む)、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は共重合体(グラフト共重合体、ブロック共重合体、ランダム共重合体)であってもよい。また、上記樹脂の骨格(ポリマー鎖)を主鎖又は側鎖に含むポリマー(例えば、ポリシロキサンとポリイミドの骨格を主鎖に含むポリシロキサン含有ポリイミド等)を用いることもできる。これらの樹脂は単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。 Examples of the polymer constituting the porous membrane include polyimide resins, polyamideimide resins, polyetherimide resins, polyethersulfone resins, cellulose resins, polyamide resins (aromatic polyamide resins, non-aromatics). Group polyamide resins), polysulfone resins, acrylic resins, aramid resins, polyimidazole resins, polyparaphenylene benzoxazole resins, polyphenylene sulfide resins, polyarylate resins, polyester resins (liquid crystalline polyester resins) Include), polycarbonate resins, polyether ether ketone resins, and the like. These resins may be copolymers (graft copolymers, block copolymers, random copolymers). In addition, a polymer containing the resin skeleton (polymer chain) in the main chain or side chain (for example, a polysiloxane-containing polyimide containing a polysiloxane and polyimide skeleton in the main chain) can also be used. These resins can be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも、前記高分子として、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアミド系樹脂(芳香族ポリアミド系樹脂、非芳香族ポリアミド系樹脂)及びポリスルホン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。また、特に、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂(芳香族ポリアミド系樹脂、非芳香族ポリアミド系樹脂)からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂が好ましい。これらの高分子は、特に、耐熱性に優れ、機械的強度、耐薬品性、電気特性に優れる。 Among these, as the polymer, polyimide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polyethersulfone resin, cellulose resin, polyamide resin (aromatic polyamide resin, non-aromatic polyamide resin) And at least one selected from the group consisting of polysulfone resins. In particular, at least one resin selected from the group consisting of polyimide resins, polyamideimide resins, polyetherimide resins, and polyamide resins (aromatic polyamide resins and non-aromatic polyamide resins) is preferable. These polymers are particularly excellent in heat resistance, mechanical strength, chemical resistance, and electrical properties.
なお、多孔質膜を構成する高分子は架橋構造を有する高分子であってもよい。このような高分子は、例えば、後述する本発明の多孔質膜の製造方法において、架橋可能な官能基を有する高分子と、前記架橋可能な官能基と架橋反応しうる架橋剤とを含む多孔質膜形成用材料を用いて多孔質膜を形成し、その後、架橋反応させることにより得ることができる。架橋構造を有する高分子を用いた多孔質膜は、膜強度、耐熱性、耐薬品性、耐久性に優れる。 The polymer constituting the porous film may be a polymer having a crosslinked structure. Such a polymer is, for example, a porous material containing a polymer having a crosslinkable functional group and a crosslinker capable of undergoing a crosslinking reaction with the crosslinkable functional group in the method for producing a porous film of the present invention described later. It can be obtained by forming a porous film using a material for forming a film and then causing a crosslinking reaction. A porous film using a polymer having a crosslinked structure is excellent in film strength, heat resistance, chemical resistance, and durability.
前記架橋可能な官能基としては、例えば、アミド基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アルデヒド基、酸無水物基などが挙げられる。 Examples of the crosslinkable functional group include an amide group, a carboxyl group, an amino group, an isocyanate group, a hydroxyl group, an epoxy group, an aldehyde group, and an acid anhydride group.
ポリイミド系樹脂は、例えば、テトラカルボン酸成分とジアミン成分との反応によりポリアミック酸(ポリイミド前駆体)を得て、それをさらにイミド化することにより製造することができる。多孔質膜をポリイミド系樹脂で構成する場合には、イミド化すると溶解性が悪くなるため、まずポリアミック酸の段階で多孔質膜を形成してからイミド化(熱イミド化、化学イミド化等)することが多い。ポリイミド前駆体の分子中には多数のカルボキシル基やアミド基を有しているため、これを架橋可能な官能基として用いることができる。また、ポリイミド系樹脂は、末端にカルボキシル基、アミノ基等が残存していることが多く、これらも架橋可能な官能基として利用することができる。 A polyimide-type resin can be manufactured by obtaining a polyamic acid (polyimide precursor) by reaction with a tetracarboxylic acid component and a diamine component, and imidating it further, for example. When the porous membrane is composed of a polyimide resin, the solubility becomes worse when imidized. Therefore, after first forming the porous membrane at the polyamic acid stage, imidization (thermal imidization, chemical imidization, etc.) Often done. Since the molecule of the polyimide precursor has many carboxyl groups and amide groups, these can be used as crosslinkable functional groups. In addition, the polyimide resin often has a carboxyl group, an amino group, or the like remaining at the terminal, and these can also be used as crosslinkable functional groups.
ポリアミドイミド系樹脂は、通常、無水トリメリット酸とジイソシアネートとの反応、又は無水トリメリット酸クロライドとジアミンとの反応により重合した後、イミド化することにより製造することができる。ポリアミドイミド系樹脂は、分子中にアミド基を多数有しているため、これを架橋可能な官能基として用いることができる。また、イミドの一部が未反応の前駆体(アミック酸)の状態で反応性を残したものも存在し、このアミック酸を構成するアミド基やカルボキシル基を架橋可能な官能基として利用することができる。また、ポリアミドイミド系樹脂は、上記の反応により製造されるため、末端にカルボキシル基、イソシアネート基、アミノ基等が残存している場合が多く、これらを架橋可能な官能基として利用することもできる。 The polyamide-imide resin can be usually produced by imidization after polymerization by reaction of trimellitic anhydride and diisocyanate or reaction of trimellitic anhydride chloride and diamine. Since the polyamideimide resin has many amide groups in the molecule, it can be used as a functional group capable of crosslinking. In addition, some imides remain reactive in the state of an unreacted precursor (amic acid), and the amide group or carboxyl group constituting this amic acid is used as a crosslinkable functional group. Can do. In addition, since the polyamideimide resin is produced by the above reaction, a carboxyl group, an isocyanate group, an amino group or the like often remains at the terminal, and these can be used as a functional group capable of crosslinking. .
ポリエーテルイミド系樹脂は、例えば、エーテル結合を有する芳香族テトラカルボン酸成分とジアミン成分との反応によりポリアミック酸を得て、それをさらにイミド化することにより製造することができる。このアミック酸を構成するアミド基やカルボキシル基を架橋可能な官能基として利用することができる。また、ポリエーテルイミド系樹脂は、末端に、カルボキシル基、イソシアネート基、アミノ基等が残存している場合が多く、これらも架橋可能な官能基として利用することができる。 The polyetherimide resin can be produced, for example, by obtaining a polyamic acid by a reaction between an aromatic tetracarboxylic acid component having an ether bond and a diamine component, and further imidizing it. The amide group and carboxyl group constituting this amic acid can be used as a crosslinkable functional group. In addition, the polyetherimide resin often has a carboxyl group, an isocyanate group, an amino group, or the like remaining at the terminal, and these can also be used as crosslinkable functional groups.
ポリアミド系樹脂は、ジアミンとジカルボン酸の重縮合、ラクタムの開環重合、アミノカルボン酸の重縮合などによって製造することができる。ポリアミド系樹脂には芳香族ポリアミド系樹脂も含まれる。ポリアミド系樹脂は、分子中に多数のアミド基を有しているため、これを架橋可能な官能基として好ましく用いることができる。また、ポリアミド系樹脂は、末端にカルボキシル基、アミノ基等が残存している場合が多く、これらを架橋可能な官能基として利用することができる。 The polyamide-based resin can be produced by polycondensation of diamine and dicarboxylic acid, ring-opening polymerization of lactam, polycondensation of aminocarboxylic acid, or the like. Polyamide resins also include aromatic polyamide resins. Since the polyamide-based resin has a large number of amide groups in the molecule, it can be preferably used as a crosslinkable functional group. In addition, the polyamide resin often has a carboxyl group, an amino group, or the like remaining at the terminal, and these can be used as a functional group capable of crosslinking.
また、架橋可能な官能基は、樹脂の主鎖に存在していてもよいし、側鎖に存在していてもよい。さらに分子鎖の途中に存在していてもよいし、末端に存在していてもよい。また、架橋可能な官能基は高分子に含まれるベンゼン環等の環に存在していてもよい。 The crosslinkable functional group may be present in the main chain of the resin or may be present in the side chain. Furthermore, it may exist in the middle of the molecular chain or may exist at the end. Moreover, the functional group which can be bridge | crosslinked may exist in rings, such as a benzene ring contained in polymer | macromolecule.
前記架橋剤は、前記高分子が有している架橋可能な官能基と反応して架橋構造を形成しうる化合物である。架橋剤としては、例えば、2個以上のエポキシ基を有する化合物、ポリイソシアネート化合物、シランカップリング剤、メラミン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、アルキッド樹脂、ジアルデヒド化合物、酸無水物などが挙げられる。架橋剤は単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。 The crosslinking agent is a compound that can react with a crosslinkable functional group of the polymer to form a crosslinked structure. Examples of the crosslinking agent include compounds having two or more epoxy groups, polyisocyanate compounds, silane coupling agents, melamine resins, phenol resins, urea resins, guanamine resins, alkyd resins, dialdehyde compounds, acid anhydrides, and the like. Can be mentioned. A crosslinking agent can be used individually or in combination of 2 or more types.
前記2個以上のエポキシ基を有する化合物は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、アミド基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アルデヒド基、酸無水物基と反応しうる。ポリイソシアネート化合物は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、エポキシ基、酸無水物基と反応しうる。シランカップリング剤は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、アミド基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アルデヒド基、酸無水物基と反応しうる。メラミン樹脂は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、アルデヒド基と反応しうる。フェノール樹脂は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アルデヒド基、酸無水物基と反応しうる。尿素樹脂は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、アルデヒド基と反応しうる。グアナミン樹脂は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、アルデヒド基と反応しうる。アルキッド樹脂は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、カルボキシル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、エポキシ基、酸無水物基と反応しうる。ジアルデヒド化合物は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、アミノ基、ヒドロキシル基と反応しうる。酸無水物は、前記高分子が有している架橋可能な官能基、例えば、アミノ基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、エポキシ基と反応しうる。 The compound having two or more epoxy groups is a crosslinkable functional group possessed by the polymer, such as an amide group, a carboxyl group, an amino group, an isocyanate group, a hydroxyl group, an epoxy group, an aldehyde group, an acid. Can react with anhydride groups. The polyisocyanate compound can react with a crosslinkable functional group of the polymer, for example, a carboxyl group, an amino group, a hydroxyl group, an epoxy group, or an acid anhydride group. The silane coupling agent reacts with the crosslinkable functional group of the polymer, for example, amide group, carboxyl group, amino group, isocyanate group, hydroxyl group, epoxy group, aldehyde group, and acid anhydride group. sell. The melamine resin can react with a crosslinkable functional group possessed by the polymer, for example, an amino group, a hydroxyl group, or an aldehyde group. The phenol resin can react with a crosslinkable functional group possessed by the polymer, for example, a carboxyl group, an amino group, an isocyanate group, a hydroxyl group, an epoxy group, an aldehyde group, or an acid anhydride group. The urea resin can react with a crosslinkable functional group possessed by the polymer, for example, an amino group, a hydroxyl group, or an aldehyde group. The guanamine resin can react with a crosslinkable functional group of the polymer, for example, an aldehyde group. The alkyd resin can react with a crosslinkable functional group of the polymer, for example, a carboxyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, an epoxy group, or an acid anhydride group. The dialdehyde compound can react with a crosslinkable functional group of the polymer, for example, an amino group or a hydroxyl group. The acid anhydride can react with a crosslinkable functional group of the polymer, for example, an amino group, an isocyanate group, a hydroxyl group, or an epoxy group.
高分子中の架橋可能な官能基と架橋剤とを反応させる方法としては、熱、活性エネルギー線(可視光線、紫外線、電子線、放射線等)照射による方法が挙げられる。架橋剤との反応は無触媒で進行させることも可能であるが、触媒を添加して反応を促進させることもできる。 Examples of a method of reacting a crosslinkable functional group in a polymer with a crosslinking agent include a method by heat and irradiation with active energy rays (visible light, ultraviolet rays, electron beams, radiation, etc.). The reaction with the cross-linking agent can proceed without a catalyst, but a catalyst can be added to promote the reaction.
前記架橋可能な官能基を有している高分子と架橋剤との配合比については、特に限定されることはなく、所望の架橋度合い、高分子と架橋剤の種類、官能基と架橋剤との反応性等を考慮して、適宜決定される。例えば、架橋剤の配合量は、架橋可能な官能基を有する高分子100重量部に対して、2〜312.5重量部、好ましくは10〜200重量部、さらに好ましくは20〜150重量部である。架橋剤の量が多すぎると、架橋反応に寄与しない架橋剤が架橋処理後の多孔質膜に残存し、多孔質膜の特性を低下させるおそれが生じる。 The blending ratio of the polymer having a crosslinkable functional group and the crosslinking agent is not particularly limited, and the desired degree of crosslinking, the kind of the polymer and the crosslinking agent, the functional group and the crosslinking agent, It is appropriately determined in consideration of the reactivity of For example, the compounding amount of the crosslinking agent is 2 to 312.5 parts by weight, preferably 10 to 200 parts by weight, more preferably 20 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymer having a crosslinkable functional group. is there. If the amount of the crosslinking agent is too large, the crosslinking agent that does not contribute to the crosslinking reaction may remain in the porous film after the crosslinking treatment, and the characteristics of the porous film may be deteriorated.
本発明においては、多孔質膜が酸化チタン粒子を含有するため、多孔質の機能に加えて、反射特性、美観、吸着特性(分離特性)、濡れ性、光触媒活性、高誘電性等の機能を有する。従って、ITOを用いた電極に、空孔特性に加えて、反射特性、美観、吸着特性(分離特性)、濡れ性、光触媒活性、高誘電性等の機能を付与できる。 In the present invention, since the porous film contains titanium oxide particles, in addition to the porous function, functions such as reflection characteristics, aesthetics, adsorption characteristics (separation characteristics), wettability, photocatalytic activity, and high dielectric properties are provided. Have. Therefore, in addition to the hole characteristics, functions such as reflection characteristics, aesthetics, adsorption characteristics (separation characteristics), wettability, photocatalytic activity, and high dielectric properties can be imparted to the electrode using ITO.
酸化チタン粒子の一次粒子の平均粒径は、例えば0.01〜10μm、好ましくは0.05〜8μm、さらに好ましくは0.1〜3μmである。酸化チタン粒子の平均粒径が小さすぎる場合は、凝集が起こりやすく、高分子中に均質に分散するのが難しくなる。また、酸化チタン粒子の平均粒径が大きすぎると、高分子が形成する孔構造を不均質なものにしやすくなる。 The average particle diameter of the primary particles of the titanium oxide particles is, for example, 0.01 to 10 μm, preferably 0.05 to 8 μm, and more preferably 0.1 to 3 μm. When the average particle diameter of the titanium oxide particles is too small, aggregation tends to occur and it becomes difficult to uniformly disperse in the polymer. Moreover, when the average particle diameter of the titanium oxide particles is too large, the pore structure formed by the polymer tends to be inhomogeneous.
前記多孔質膜における酸化チタン粒子の含有量は、例えば10〜95重量%、好ましくは20〜90重量%、さらに好ましくは25〜85重量%である。酸化チタン粒子の含有量が少なすぎると、酸化チタン粒子の添加効果、すなわち酸化チタン粒子に基づく機能性が小さくなり、逆に酸化チタン粒子の含有量が多すぎると、膜が脆くなる傾向となる。 The content of titanium oxide particles in the porous membrane is, for example, 10 to 95% by weight, preferably 20 to 90% by weight, and more preferably 25 to 85% by weight. When the content of titanium oxide particles is too small, the effect of adding titanium oxide particles, that is, the functionality based on the titanium oxide particles is reduced. Conversely, when the content of titanium oxide particles is too large, the film tends to become brittle. .
多孔質膜の厚みは、例えば5〜200μm、好ましくは10〜100μm、さらに好ましくは15〜50μmである。厚みが薄くなりすぎると、安定して製造することが困難になり、また、クッション性、印刷特性、機械強度が低下する場合がある。一方、厚すぎる場合には孔径分布を均一に制御することが困難になる。 The thickness of the porous membrane is, for example, 5 to 200 μm, preferably 10 to 100 μm, and more preferably 15 to 50 μm. If the thickness is too thin, it is difficult to produce stably, and cushioning properties, printing characteristics, and mechanical strength may be reduced. On the other hand, when it is too thick, it becomes difficult to uniformly control the pore size distribution.
本発明において、多孔質膜の多数の微小孔は、連通性の低い独立した微小孔(独立微小孔)であってもよいし、連通性のある微小孔(連続微小孔)であってもよい。独立微小孔の多い多孔質膜は、断熱性やクッション性、非透過性が求められる用途に適しており、連続微小孔の多い多孔質膜は、透過性や吸着性、高触媒活性等が求められる用途に適している。多孔質膜における微小孔の平均孔径[連続微小孔の多い多孔質膜(ガーレー値が30秒/100cc以下の多孔質膜)の場合は、多孔質膜表面の平均孔径であり、独立微小孔の多い多孔質膜(ガーレー値が30秒/100ccを超える多孔質膜)においては多孔質膜内部の微小孔の平均孔径]は、0.01〜10μmである。微小孔の平均孔径は、好ましくは0.1〜8μm、さらに好ましくは0.5〜5μmである。微小孔の平均孔径が上記範囲を外れると、用途に応じた所望の効果が得られにくい。例えば、微小孔の平均孔径が小さすぎる場合には、透過性能及び強度が低下する。また、微小孔の平均孔径が大きすぎる場合は、多孔質膜中で孔径分布を均一に制御することが困難になり、多孔質膜の各部位で比誘電率が不均質となる場合があり、また、分離効率、反射特性、吸着特性、触媒活性等が低下しやすくなる。なお、多孔質膜表面の最大孔径は15μm以下が好ましい。 In the present invention, the numerous micropores of the porous membrane may be independent micropores (independent micropores) with low communication or may be micropores with communication (continuous micropores). . Porous membranes with many independent micropores are suitable for applications that require heat insulation, cushioning, and impermeability, and porous membranes with many continuous micropores require permeability, adsorptivity, and high catalytic activity. Suitable for the intended use. The average pore diameter of the micropores in the porous membrane [in the case of a porous membrane having a large number of continuous micropores (a porous membrane having a Gurley value of 30 seconds / 100 cc or less), the average pore size on the surface of the porous membrane, In many porous membranes (porous membranes with a Gurley value exceeding 30 seconds / 100 cc), the average pore diameter of the micropores in the porous membrane] is 0.01 to 10 μm. The average pore diameter of the micropores is preferably 0.1 to 8 μm, more preferably 0.5 to 5 μm. If the average pore diameter of the micropores is out of the above range, it is difficult to obtain a desired effect according to the application. For example, when the average pore diameter of the micropores is too small, the permeation performance and strength are reduced. If the average pore size of the micropores is too large, it may be difficult to uniformly control the pore size distribution in the porous membrane, and the relative dielectric constant may be inhomogeneous at each part of the porous membrane. In addition, separation efficiency, reflection characteristics, adsorption characteristics, catalytic activity, and the like are likely to decrease. The maximum pore diameter on the porous membrane surface is preferably 15 μm or less.
本発明において、多孔質膜の空孔率(内部の平均開孔率)は、30〜85%であり、好ましくは35〜83%、さらに好ましくは40〜80%である。多孔質膜の空孔率が上記範囲を外れると、用途に応じた所望の空孔特性が得られなくなる。例えば、空孔率が低すぎると、透過性能、吸着特性、クッション性等が充分でなかったり、機能性材料を充填しても機能が発揮できないことがある。一方、空孔率が高すぎると、機械的強度に劣るおそれがある。 In the present invention, the porosity of the porous membrane (internal average porosity) is 30 to 85%, preferably 35 to 83%, and more preferably 40 to 80%. If the porosity of the porous membrane is out of the above range, desired pore characteristics depending on the application cannot be obtained. For example, if the porosity is too low, the permeation performance, adsorption characteristics, cushioning properties, etc. may not be sufficient, or the function may not be exhibited even if functional materials are filled. On the other hand, if the porosity is too high, the mechanical strength may be inferior.
多孔質膜がこのような微小孔の平均孔径と空孔率とを備えることにより、柔軟性と優れた空孔特性を備える一方、適度な剛性を有するため取扱性にも優れる。 When the porous membrane has such an average pore diameter and porosity, the porous membrane has flexibility and excellent pore characteristics, but has excellent rigidity and handling properties.
多孔質膜の表面の開孔率(表面開孔率)としては、例えば48%以上(例えば48〜80%)であり、好ましくは60〜80%程度である。表面開孔率が低すぎると透過性能が充分でない場合が生じる他、空孔に機能性材料を充填してもその機能が十分に発揮できないことがあり、逆に高すぎると機械的強度が低下しやすくなる。 The porosity of the surface of the porous film (surface porosity) is, for example, 48% or more (for example, 48 to 80%), and preferably about 60 to 80%. If the surface area ratio is too low, the transmission performance may not be sufficient, and even if the pores are filled with a functional material, the function may not be fully achieved. It becomes easy to do.
多孔質膜に存在する微小孔の連通性は、透気度を表すガーレー値、及び純水透過速度などを指標とすることができる。膜厚30μmの多孔質膜のガーレー値は、例えば0.2〜30秒/100cc、好ましくは0.5〜25秒/100cc、さらに好ましくは0.8〜20秒/100cc、特に好ましくは1〜10秒/100ccである。数値が大きすぎると、実用上の透過性能が充分でなかったり、機能性材料を充分に充填できないためにその機能が発揮できないことがある。一方、数値が小さすぎると、機械的強度に劣る可能性がある。 The connectivity of the micropores existing in the porous membrane can be determined by using the Gurley value representing the air permeability and the pure water permeation rate as an index. The Gurley value of the porous film having a thickness of 30 μm is, for example, 0.2 to 30 seconds / 100 cc, preferably 0.5 to 25 seconds / 100 cc, more preferably 0.8 to 20 seconds / 100 cc, and particularly preferably 1 to 1. 10 seconds / 100 cc. If the numerical value is too large, the practical permeation performance may not be sufficient, or the functional material may not be sufficiently filled and the function may not be exhibited. On the other hand, if the value is too small, the mechanical strength may be inferior.
多孔質膜の微小孔の径、空孔率、透気度、開孔率は、後述する酸化チタン含有多孔質膜積層体の製造方法において、水溶性ポリマーの種類や量、水の使用量、流延時の湿度、温度及び時間などを適宜選択することにより所望の値に調整することができる。 The pore size, porosity, air permeability, and porosity of the porous membrane are determined in the method for producing a titanium oxide-containing porous membrane laminate described later, the type and amount of water-soluble polymer, the amount of water used, It can be adjusted to a desired value by appropriately selecting the humidity, temperature, time, etc. during casting.
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体は、例えば、下記方法に基づくテープ剥離試験を行ったとき、前記ITO透明導電膜付きフィルムと多孔質膜層との間で界面剥離を起こさないものが好ましい。すなわち、ITO透明導電膜付きフィルムと多孔質膜層とが、下記のテープ剥離試験で界面剥離を起こさない程度の層間密着強度で直接的に積層されていることが好ましい。
テープ剥離試験:
積層体の多孔質膜層表面に24mm幅の寺岡製作所製マスキングテープ[フィルムマスキングテープNo.603(♯25)]をテープ一端から50mmの長さ分貼り付け、貼り付けられた前記テープを、直径30mm、200gf荷重のローラー(Holbein Art Materials Inc.社製、耐油性硬質ゴムローラーNo.10)で圧着し、その後、引張試験機を用いてテープ他端を剥離速度50mm/分で引っ張り、T型剥離を行う。
The titanium oxide-containing porous membrane laminate of the present invention, for example, does not cause interfacial separation between the film with ITO transparent conductive film and the porous membrane layer when a tape peeling test based on the following method is performed. preferable. That is, it is preferable that the ITO transparent conductive film-attached film and the porous film layer are directly laminated with an interlayer adhesion strength that does not cause interface peeling in the following tape peeling test.
Tape peel test:
On the surface of the porous film layer of the laminate, a masking tape [film masking tape No. 603 (# 25)] is applied for a length of 50 mm from one end of the tape, and the attached tape is a roller having a diameter of 30 mm and a load of 200 gf (Holbein Art Materials Inc., oil resistant hard rubber roller No. 10). Then, the other end of the tape is pulled at a peeling speed of 50 mm / min using a tensile tester to perform T-type peeling.
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体は、強度の高いITO透明導電膜付きフィルムに柔軟な多孔質膜が積層された構成であるため、上記のような優れた空孔特性及び酸化チタン粒子の持つ諸特性を有すると同時に十分な耐折性を備えている。耐折性は、下記条件に基づく折り曲げ試験を繰り返し行い、被検材が切断されるまでの回数が10回以上である場合に耐折性を有すると評価する。また、切断までの折り曲げ回数が高いほど優れた耐折性を有すると判断され、例えば電子材料等で繰り返し折り曲げが要求される用途においては切断までの回数が100回以上程度の耐折性を備えていることが好ましい。折曲げ試験は、東洋精機製作所製MIT耐揉疲労試験機MIT−Dを使用し、サンプル形状15×110mm、折り曲げ角度135°、折り曲げ面の曲率半径(R)0.38mm、折り曲げ速度175cpm、張力4.9Nの条件下、JIS C 5016の耐折性試験に準じて行われる。 Since the titanium oxide-containing porous film laminate of the present invention has a structure in which a flexible porous film is laminated on a film with a high strength ITO transparent conductive film, the above-described excellent pore characteristics and titanium oxide particles As well as having the characteristics of, it has sufficient folding resistance. The folding resistance is evaluated by repeatedly performing a bending test based on the following conditions and having folding resistance when the number of times until the test material is cut is 10 times or more. In addition, it is judged that the higher the number of folds until cutting, the better the folding resistance. For example, in applications where repeated bending is required for electronic materials, etc., the number of folds is about 100 or more. It is preferable. The bending test uses an MIT fatigue resistance tester MIT-D manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, sample shape 15 × 110 mm, bending angle 135 °, bending radius of curvature (R) 0.38 mm, bending speed 175 cpm, tension It is performed according to the fold resistance test of JIS C 5016 under the condition of 4.9N.
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体によれば、折り曲げ回数が20000回でも切断されず、極めて優れた耐折性を有しているものも含まれる。このため、優れた加工性、成形性を発揮でき、多様な形態で広範な用途に利用できる。 According to the titanium oxide-containing porous membrane laminate of the present invention, those that are not cut even when the number of folding times is 20000 times and that have extremely excellent folding resistance are included. For this reason, excellent workability and moldability can be exhibited, and it can be used in a wide variety of applications in various forms.
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体の特に好ましい形態は、連通性が高い微小孔を有し、該微小孔の平均孔径が0.01〜10μmである多孔質膜層を有する酸化チタン含有多孔質膜積層体であり、その多孔質膜層の厚みが5〜200μmであり、空孔率が30〜85%であって、ITO透明導電膜付きフィルムの厚みが1〜300μmである。このような酸化チタン含有多孔膜積層体は、多孔質膜層及びITO透明導電膜付きフィルムを構成する材料や厚み、製造条件(例えば、加湿条件)等を適宜設定することにより製造できる。 A particularly preferred form of the titanium oxide-containing porous membrane laminate of the present invention contains a titanium oxide having a porous membrane layer having fine pores with high communication and an average pore diameter of 0.01 to 10 μm. It is a porous film laminate, the thickness of the porous film layer is 5 to 200 μm, the porosity is 30 to 85%, and the thickness of the film with the ITO transparent conductive film is 1 to 300 μm. Such a titanium oxide-containing porous membrane laminate can be produced by appropriately setting the material, thickness, production conditions (for example, humidification conditions) and the like that constitute the porous membrane layer and the film with the ITO transparent conductive film.
[酸化チタン含有多孔質膜積層体の製造]
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体は、相転換法を利用して製造できる。すなわち、多孔質膜(多孔質膜層)を構成すべき高分子と無機粒子とを含む多孔質膜形成用材料の分散液を、ITO透明導電膜付きフィルムの該ITO透明導電膜上へフィルム状に流延し、その後、これを凝固液中に浸漬し、次いで乾燥に付す工程を経ることにより製造できる。
[Production of titanium oxide-containing porous membrane laminate]
The titanium oxide containing porous membrane laminated body of this invention can be manufactured using a phase change method. That is, a dispersion of a porous film-forming material containing a polymer to form a porous film (porous film layer) and inorganic particles is transferred onto the ITO transparent conductive film of the ITO transparent conductive film. Can be produced by immersing it in a coagulating liquid and then subjecting it to drying.
多孔質膜形成用材料の分散液(以下、単に「分散液」と称する場合がある)は、例えば、多孔質膜を構成する主たる素材となる高分子成分、酸化チタン粒子、及び水溶性極性溶媒を含み、必要に応じて水溶性ポリマー、必要に応じて水、必要に応じて架橋剤(高分子の分子内に架橋構造を形成する場合)を含んでいる。該分散液においては、多孔質膜を構成する高分子成分の代わりに、該高分子成分の単量体成分や、そのオリゴマー、イミド化や環化等の前の前駆体等を用いてもよい。 The dispersion of the porous film-forming material (hereinafter sometimes simply referred to as “dispersion”) includes, for example, a polymer component, titanium oxide particles, and a water-soluble polar solvent that are the main materials constituting the porous film. And optionally contains a water-soluble polymer, water if necessary, and a crosslinking agent (if a crosslinked structure is formed in the molecule of the polymer) if necessary. In the dispersion, instead of the polymer component constituting the porous membrane, a monomer component of the polymer component, an oligomer thereof, a precursor before imidization or cyclization, or the like may be used. .
前記分散液に水溶性ポリマーや水を添加することは、膜構造をスポンジ状に多孔化するために効果的である。水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、多糖類等やその誘導体などが挙げられる。これらの水溶性ポリマーは単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。これらの中でも、多孔質膜に存在する微小孔の連通性の点から、ポリビニルピロリドンが特に好ましい。多孔化のためには、水溶性ポリマーの重量平均分子量は200以上がよく、好ましくは300以上、さらに好ましくは1000以上、特に好ましくは5000以上(例えば、5000〜20万)である。水の添加量により孔径を調整でき、例えば、前記分散液への水の添加量を増やすことで孔径を大きくすることが可能となる。 Adding a water-soluble polymer or water to the dispersion is effective for making the membrane structure porous. Examples of the water-soluble polymer include polyethylene glycol, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polysaccharides, and derivatives thereof. These water-soluble polymers can be used alone or in combination of two or more. Among these, polyvinylpyrrolidone is particularly preferable from the viewpoint of the connectivity of the micropores present in the porous membrane. In order to make it porous, the weight average molecular weight of the water-soluble polymer should be 200 or more, preferably 300 or more, more preferably 1000 or more, and particularly preferably 5000 or more (for example, 5000 to 200,000). The pore size can be adjusted by the amount of water added. For example, the pore size can be increased by increasing the amount of water added to the dispersion.
水溶性ポリマーは、膜構造を均質なスポンジ状多孔構造にするのに非常に有効であり、水溶性ポリマーの種類と量を変更することにより多様な構造を得ることができる。このため、水溶性ポリマーは、所望の空孔特性を付与する目的で、多孔質膜を形成する際の添加剤として極めて好適に用いられる。 The water-soluble polymer is very effective for making the membrane structure into a homogeneous sponge-like porous structure, and various structures can be obtained by changing the kind and amount of the water-soluble polymer. For this reason, the water-soluble polymer is very suitably used as an additive for forming a porous film for the purpose of imparting desired pore characteristics.
一方、水溶性ポリマーは、最終的には多孔質膜を構成しない、除去すべき不要な成分である。湿式相転換法を利用する本発明の方法においては、水溶性ポリマーは水等の凝固液に浸漬して相転換する工程において洗浄除去される。これに対し、乾式相転換法においては、多孔質膜を構成しない成分(不要な成分)は加熱により除去され、水溶性ポリマーは通常加熱除去には不向きであることから、添加剤として利用することは極めて困難である。このように、乾式相転換法によっては多様な空孔構造を形成することは困難であるのに対し、本発明の製造方法は、所望の空孔特性を有する多孔質膜を容易に製造することが可能である点で有利である。 On the other hand, the water-soluble polymer is an unnecessary component to be removed that does not ultimately form a porous film. In the method of the present invention using the wet phase conversion method, the water-soluble polymer is removed by washing in a step of phase conversion by dipping in a coagulating liquid such as water. On the other hand, in the dry phase inversion method, components that do not constitute a porous membrane (unnecessary components) are removed by heating, and water-soluble polymers are usually unsuitable for removal by heating, so use them as additives. Is extremely difficult. Thus, while it is difficult to form various pore structures depending on the dry phase conversion method, the production method of the present invention can easily produce a porous film having desired pore characteristics. Is advantageous in that it is possible.
本発明の方法において、水溶性ポリマーの添加量を増やしていくと、孔の連通性が高くなる傾向となる。よって、連通性の低い多孔質膜(独立微小孔の多い多孔質膜)を得たい場合には、水溶性ポリマーの量を最小量とするのが好ましく、水溶性ポリマーを使用しないことも可能である。 In the method of the present invention, when the amount of the water-soluble polymer added is increased, the pore connectivity tends to increase. Therefore, when it is desired to obtain a porous membrane with low connectivity (a porous membrane having many independent micropores), it is preferable to minimize the amount of the water-soluble polymer, and it is also possible not to use the water-soluble polymer. is there.
水溶性極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド,N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、2−ピロリドン、γ−ブチロラクトンなどが挙げられ、前記高分子成分として使用するポリマーの化学骨格に応じて溶解性を有するもの(高分子成分の良溶媒)を使用することができる。これらの溶媒は単独又は2種以上組み合わせて用いることもできる。 Examples of the water-soluble polar solvent include dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide (DMAc), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), 2-pyrrolidone, and γ-butyrolactone. In addition, those having solubility (good solvent for the polymer component) can be used according to the chemical skeleton of the polymer used as the polymer component. These solvents can be used alone or in combination of two or more.
前記分散液における各成分の配合量は、前記分散液を基準として、前記高分子成分8〜25重量%、前記架橋剤0〜25重量%、前記水溶性ポリマー10〜50重量%、水0〜10重量%、及び水溶性極性溶媒30〜82重量%とすることが好ましい。この際に、前記高分子成分の濃度が低すぎると多孔質膜の厚みが不十分となったり、所望の空孔特性が得られにくく、多孔質膜の強度も弱くなる傾向となり、一方、高分子成分の濃度が高すぎると空孔率が小さくなる傾向となる。水溶性ポリマーの濃度が低すぎると多孔質膜内部に10μmを超えるような巨大ボイドが発生し均質性が低下しやすくなる。水溶性ポリマーの濃度が高すぎると、各成分の溶解性が悪くなったり、多孔質膜の強度が低下するなどの不具合が生じやすい。 The amount of each component in the dispersion is 8 to 25% by weight of the polymer component, 0 to 25% by weight of the cross-linking agent, 10 to 50% by weight of the water-soluble polymer, and 0 to 0% by weight of water based on the dispersion. It is preferable to set it as 10 weight% and 30-82 weight% of water-soluble polar solvents. At this time, if the concentration of the polymer component is too low, the thickness of the porous membrane becomes insufficient, the desired pore characteristics are difficult to obtain, and the strength of the porous membrane tends to be weak, while If the concentration of the molecular component is too high, the porosity tends to decrease. If the concentration of the water-soluble polymer is too low, huge voids exceeding 10 μm are generated inside the porous membrane, and the homogeneity tends to be lowered. If the concentration of the water-soluble polymer is too high, problems such as poor solubility of each component and a decrease in the strength of the porous membrane are likely to occur.
前記多孔質膜形成用材料の分散液をITO透明導電膜付きフィルムの該ITO透明導電膜上へフィルム状に流延し、その後、凝固液中に浸漬し、相転換させる。 The dispersion of the porous film-forming material is cast into a film on the ITO transparent conductive film of the ITO transparent conductive film, and then immersed in a coagulating liquid for phase conversion.
相転換法に用いる凝固液としては、高分子成分を凝固させる溶剤(高分子成分の非溶剤)であればよく、高分子成分として使用するポリマーの種類によって適宜選択されるが、例えば、水;メタノール、エタノール等の1価アルコール、グリセリン等の多価アルコールなどのアルコール;ポリエチレングリコール等の水溶性高分子;これらの混合物などの水溶性凝固液などが使用できる。 The coagulation liquid used in the phase change method may be any solvent (non-solvent for the polymer component) that coagulates the polymer component, and is appropriately selected depending on the type of polymer used as the polymer component. Monohydric alcohols such as methanol and ethanol, alcohols such as polyhydric alcohols such as glycerin; water-soluble polymers such as polyethylene glycol; water-soluble coagulating liquids such as a mixture thereof can be used.
前記凝固液の温度は、特に制限されないが、例えば0〜100℃の範囲が好ましい。凝固液の温度が0℃未満であると、溶剤等の洗浄効果が低下しやすい。凝固液の温度が100℃を超えると、溶剤や凝固液が揮発して、作業環境が損なわれる。凝固液としては、コスト、安全性等の観点から、水が好ましく用いられる。凝固液として水を用いた場合、水の温度5〜60℃程度が適切である。前記凝固液中への浸漬時間は、特に制限されないが、水溶性極性溶媒、水溶性ポリマーが十分に洗浄される時間を適宜選択する。洗浄時間が短すぎると、残存した溶媒により、乾燥工程で多孔質構造が壊れるおそれがある。洗浄時間が長すぎると、製造効率が低下し、製品コストの上昇につながる。洗浄時間は、多孔質膜の厚み等にもよるため、一概には言えないが、0.5〜30分間程度とすることができる。 The temperature of the coagulation liquid is not particularly limited, but is preferably in the range of 0 to 100 ° C, for example. When the temperature of the coagulation liquid is less than 0 ° C., the cleaning effect of a solvent or the like tends to be lowered. When the temperature of the coagulating liquid exceeds 100 ° C., the solvent and the coagulating liquid are volatilized and the working environment is impaired. As the coagulating liquid, water is preferably used from the viewpoints of cost, safety and the like. When water is used as the coagulation liquid, a temperature of water of about 5 to 60 ° C. is appropriate. The immersion time in the coagulation liquid is not particularly limited, but the time for sufficiently washing the water-soluble polar solvent and the water-soluble polymer is appropriately selected. If the washing time is too short, the porous structure may be broken in the drying process due to the remaining solvent. If the cleaning time is too long, the production efficiency is lowered and the product cost is increased. Since the cleaning time depends on the thickness of the porous film and the like, it cannot be generally specified, but can be about 0.5 to 30 minutes.
流延後のフィルム状物を凝固液中に浸漬する前に、流延後のフィルム状物を相対湿度70〜100%、温度15〜100℃からなる雰囲気下に、0.2分間以上(例えば、0.2〜180分間)、好ましくは0.2〜60分間、さらに好ましくは0.2〜15分間)保持し、その後、前記凝固液中へ導くのが好ましい。流延後のフィルム状物を上記の加湿条件に置くことにより、均質性の高い多孔質膜が得られやすくなる。加湿下に置くと、水分がフィルム表面から内部へと侵入し、前記分散液の層分離を効率的に促進すると考えられる。そのため、多孔質膜のITO透明導電膜付きフィルム側表面の反対側の表面(多孔質膜の空気側表面)の開孔率が向上するものと推察される。好ましい条件は、相対湿度90〜100%、温度30〜80℃であり、さらに好ましい条件は、相対湿度約100%(例えば、95〜100%)、温度40〜70℃である。 Before immersing the film-like material after casting in the coagulating liquid, the film-like material after casting is 0.2 minutes or more (for example, in an atmosphere consisting of a relative humidity of 70 to 100% and a temperature of 15 to 100 ° C. 0.2 to 180 minutes), preferably 0.2 to 60 minutes, more preferably 0.2 to 15 minutes), and then led into the coagulation liquid. By placing the film-like material after casting under the above humidification conditions, a highly homogeneous porous membrane can be easily obtained. When placed under humidification, it is considered that moisture penetrates from the film surface to the inside, and promotes layer separation of the dispersion efficiently. Therefore, it is guessed that the open area ratio of the surface (the air side surface of a porous film) on the opposite side to the film side surface with an ITO transparent conductive film of a porous film improves. Preferred conditions are a relative humidity of 90 to 100% and a temperature of 30 to 80 ° C., and a more preferred condition is a relative humidity of about 100% (eg, 95 to 100%) and a temperature of 40 to 70 ° C.
次に、フィルム状多孔質層が積層されたITO透明導電膜付きフィルムを、凝固液から取り出して乾燥する。乾燥処理の方法は、特に制限されず、凝固液等の溶剤成分を除去しうる方法であれば特に限定されず、加熱下でもよく、室温による自然乾燥であってもよい。加熱処理の方法は特に制限されず、熱風処理、熱ロール処理、あるいは、恒温槽やオーブン等に投入する方法でもよく、多孔膜積層体を所定の温度にコントロールできるものであればよい。加熱温度は、例えば室温〜600℃程度の広範囲から選択することができる。加熱処理時の雰囲気は空気でも窒素や不活性ガスでもよい。空気を使用する場合が最も安価であるが、酸化反応を伴う可能性がある。これを避ける場合は、窒素や不活性ガスを使用するのがよく、コスト面からは窒素が好適である。加熱条件は、生産性、多孔質膜層及び基材の物性等を考慮して適宜設定される。乾燥に付すことにより、ITO透明導電膜付きフィルム表面に多孔質膜層が直接成形された酸化チタン含有多孔質膜積層体を得ることができる。 Next, the film with the ITO transparent conductive film on which the film-like porous layer is laminated is taken out from the coagulation liquid and dried. The method for the drying treatment is not particularly limited, and is not particularly limited as long as it is a method capable of removing a solvent component such as a coagulation liquid, and may be heated or naturally dried at room temperature. The method for the heat treatment is not particularly limited, and may be a hot air treatment, a hot roll treatment, or a method of putting it in a thermostatic bath, an oven, or the like, as long as the porous film laminate can be controlled to a predetermined temperature. The heating temperature can be selected from a wide range of room temperature to about 600 ° C., for example. The atmosphere during the heat treatment may be air, nitrogen or an inert gas. The use of air is the least expensive but may involve an oxidation reaction. In order to avoid this, nitrogen or an inert gas is preferably used, and nitrogen is preferable from the viewpoint of cost. The heating conditions are appropriately set in consideration of productivity, physical properties of the porous membrane layer and the substrate, and the like. By subjecting to drying, a titanium oxide-containing porous film laminate in which the porous film layer is directly formed on the surface of the ITO transparent conductive film-attached film can be obtained.
こうして得られた酸化チタン含有多孔質膜積層体には、さらに、熱、可視光線、紫外線、電子線、放射線等を用いて架橋処理を施してもよい。前記処理により、多孔質膜層を構成する前駆体の重合、架橋、硬化等が進行して高分子化合物を形成し、剛性や耐薬品性等の特性が一層向上した多孔質膜層を有する積層体を得ることができる。例えば、ポリイミド系前駆体を用いて成形した多孔質膜層には、さらに熱イミド化あるいは化学イミド化等を施すことによりポリイミド多孔質膜層を得ることができる。ポリアミドイミド系樹脂を用いて成形された多孔質膜層には熱架橋を施すことができる。なお、熱架橋は、凝固液に導いた後、乾燥に付すための加熱処理と同時に施すことも可能である。多孔質膜形成用材料の分散液に架橋剤を添加する場合も上記と同様の処理により架橋反応が進行して、高分子の分子内に架橋構造が形成される。 The titanium oxide-containing porous membrane laminate thus obtained may be further subjected to a crosslinking treatment using heat, visible light, ultraviolet rays, electron beams, radiation, or the like. Lamination having a porous membrane layer with improved properties such as rigidity and chemical resistance by polymerizing, crosslinking, curing, etc. of the precursor constituting the porous membrane layer to form a polymer compound by the treatment. You can get a body. For example, a polyimide porous membrane layer can be obtained by subjecting a porous membrane layer formed using a polyimide precursor to thermal imidization or chemical imidization. The porous membrane layer formed using the polyamide-imide resin can be subjected to thermal crosslinking. The thermal crosslinking can also be performed simultaneously with the heat treatment for drying after being led to the coagulation liquid. Even when a cross-linking agent is added to the dispersion of the porous film-forming material, the cross-linking reaction proceeds by the same treatment as above, and a cross-linked structure is formed in the polymer molecule.
なお、酸化チタン含有多孔質膜積層体の多孔質膜(多孔質膜層)の表面上に、後述する各種機能性層を形成する場合には、次の(b)、(c)のように、機能性層の形成(機能性の発現)の際に架橋を起こすようにすれば、多孔質膜と機能性層との密着性向上に有効である。 In addition, when various functional layers described later are formed on the surface of the porous membrane (porous membrane layer) of the titanium oxide-containing porous membrane laminate, the following (b) and (c) If cross-linking occurs during the formation of the functional layer (functional expression), it is effective for improving the adhesion between the porous film and the functional layer.
多孔質膜表面に機能性層を設けて(機能性化処理)、機能性積層体を得る場合には、次のような架橋処理を施すタイミングがある。
(a)得られた多孔質膜(ITO透明導電膜付きフィルム上に形成された多孔質膜)に架橋処理を施し、その後、多孔質膜表面に機能性層を設けて、機能性積層体を得る方法
(b)得られた多孔質膜(ITO透明導電膜付きフィルム上に形成された多孔質膜)表面に機能性層を設けて、その後、架橋処理を施し、機能性積層体を得る方法(加熱による架橋処理は、機能性層の機能発現化のための加熱処理を兼ねてもよい)
(c)得られた多孔質膜(ITO透明導電膜付きフィルム上に形成された多孔質膜)に部分的架橋処理を施し、その後、多孔質膜表面に機能性層を設けて、さらに、再度の架橋処理を施して架橋処理を完全とし、機能性積層体を得る方法[ここで、部分的架橋処理とは、それにより、半硬化状態(いわゆるBステージ)とすることを意図している]
When a functional layer is provided on the surface of the porous membrane (functionalization treatment) to obtain a functional laminate, there is a timing for performing the following crosslinking treatment.
(A) The obtained porous film (porous film formed on a film with an ITO transparent conductive film) is subjected to a crosslinking treatment, and then a functional layer is provided on the surface of the porous film to form a functional laminate. Method (b) A method in which a functional layer is provided on the surface of the obtained porous film (porous film formed on a film with an ITO transparent conductive film), and then a crosslinking treatment is performed to obtain a functional laminate. (Crosslinking treatment by heating may also serve as heat treatment for functionalization of the functional layer)
(C) The obtained porous film (porous film formed on the film with ITO transparent conductive film) is subjected to a partial crosslinking treatment, and then a functional layer is provided on the surface of the porous film, and again, A method of obtaining a functional laminate by carrying out the crosslinking treatment of [the partial crosslinking treatment is intended to be a semi-cured state (so-called B stage)]
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体における多孔質膜には、所望の特性を付与するため、必要に応じて熱処理や被膜形成処理が施されていてもよい。 The porous film in the titanium oxide-containing porous film laminate of the present invention may be subjected to heat treatment or film formation treatment as necessary in order to impart desired characteristics.
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体の製造方法によれば、ITO透明導電膜付きフィルムの該ITO透明導電膜上に、例えば、平均孔径が0.01〜10μm、空孔率が30〜85%であり、厚みが5〜200μm程度の酸化チタン含有多孔質膜層が形成された積層体を容易に得ることができる。多孔質膜の微小孔の径、空孔率等は、前記分散液の構成成分の種類や量、水の使用量、流延時の湿度、温度及び時間などを適宜選択することにより所望の値に調整することができる。 According to the method for producing a titanium oxide-containing porous membrane laminate of the present invention, on the ITO transparent conductive film of the ITO transparent conductive film, for example, the average pore diameter is 0.01 to 10 μm, and the porosity is 30 to 30. A laminate in which a titanium oxide-containing porous membrane layer having a thickness of 85% and a thickness of about 5 to 200 μm is formed can be easily obtained. The pore size, porosity, etc. of the porous membrane are set to desired values by appropriately selecting the type and amount of the constituents of the dispersion, the amount of water used, the humidity during casting, the temperature, the time, and the like. Can be adjusted.
本発明の酸化チタン含有多孔質膜積層体における多孔質膜においては、該多孔質膜に耐薬品性高分子化合物を被覆してもよい。 In the porous membrane in the titanium oxide-containing porous membrane laminate of the present invention, the porous membrane may be coated with a chemical resistant polymer compound.
ここで、薬品とは、従来の多孔質膜を構成する樹脂を溶解、膨潤、収縮、分解して、多孔性フィルムとしての機能を低下させるものとして公知のものであり、多孔質膜の構成素材や用途によって異なり一概に言うことはできないが、このような薬品の具体例として、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、2−ピロリドン、シクロヘキサノン、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、テトラヒドロフラン(THF)等の強い極性溶媒;アルカリ溶液;酸性溶液;及びこれらの混合物等が挙げられる。前記アルカリ溶液には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩;トリエチルアミン等のアミン類;アンモニア等のアルカリ性物質を溶解した水溶液や有機溶媒溶液が含まれる。前記酸性溶液には、塩化水素、硫酸、硝酸等の無機酸;酢酸、フタル酸等のカルボン酸などの有機酸等の酸を溶解した水溶液や有機溶媒溶液が含まれる。 Here, the chemical is known as a material that dissolves, swells, shrinks, and decomposes a resin that constitutes a conventional porous film to lower its function as a porous film. The specific examples of such chemicals are dimethyl sulfoxide (DMSO), N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), N-methyl. Strong polar solvent such as 2-pyrrolidone (NMP), 2-pyrrolidone, cyclohexanone, acetone, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, acetonitrile, methylene chloride, chloroform, tetrachloroethane, tetrahydrofuran (THF); alkaline solution; acidic Solutions; and mixtures thereof. The alkaline solution includes inorganic salts such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, sodium carbonate, and potassium carbonate; amines such as triethylamine; aqueous solutions and organic solvent solutions in which alkaline substances such as ammonia are dissolved. . Examples of the acidic solution include aqueous solutions and organic solvent solutions in which acids such as inorganic acids such as hydrogen chloride, sulfuric acid, and nitric acid; and organic acids such as carboxylic acids such as acetic acid and phthalic acid are dissolved.
耐薬品性高分子化合物としては、強い極性溶媒、アルカリ、酸等の薬品に優れた耐性を有していれば特に制限されないが、例えば、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、ベンゾオキサジン系樹脂、アルキッド系樹脂、トリアジン系樹脂、フラン系樹脂、不飽ポリエステル、エポキシ系樹脂、ケイ素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリイミド系樹脂などの熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂;ポリビニルアルコール、酢酸セルロース系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、フッ素系樹脂、フタル酸系樹脂、マレイン酸系樹脂、飽和ポリエステル、エチレン−ビニルアルコール共重合体、キチン、キトサンなどの熱可塑性樹脂等が挙げられる。これらの高分子化合物は、1種又は2種以上を混合して使用することができる。また、高分子化合物は、共重合物でもよく、グラフト重合物であってもよい。 The chemical resistant polymer compound is not particularly limited as long as it has excellent resistance to chemicals such as strong polar solvents, alkalis, acids, etc. For example, phenolic resin, xylene resin, urea resin, melamine Thermosetting resin such as resin, benzoguanamine resin, benzoxazine resin, alkyd resin, triazine resin, furan resin, unsaturated polyester, epoxy resin, silicon resin, polyurethane resin, polyimide resin, or light Curable resin: Thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, cellulose acetate resin, polypropylene resin, fluorine resin, phthalic acid resin, maleic acid resin, saturated polyester, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chitin, chitosan, etc. Is mentioned. These polymer compounds can be used alone or in combination of two or more. The polymer compound may be a copolymer or a graft polymer.
このような耐薬品性高分子化合物により多孔質膜が被覆されていると、前記強い極性溶媒、アルカリ、酸等の薬品と接触した場合にも、多孔質膜が溶解したり、膨潤して変形するなどの変質が全く生じないか、使用目的や用途に影響のない程度に変質を抑制できる。例えば、多孔質膜と薬品とが接触する時間が短い用途では、その時間内で変質しない程度の耐薬品性が付与されていればよい。 When a porous film is coated with such a chemical-resistant polymer compound, the porous film dissolves or swells and deforms even when it comes into contact with the strong polar solvent, alkali, acid, or other chemicals. The alteration can be suppressed to such an extent that no alteration occurs, such as when it occurs, or there is no influence on the purpose of use or the use. For example, in an application where the porous membrane and the chemical are in contact with each other for a short time, it is only necessary to provide chemical resistance that does not change within that time.
なお、前記耐薬品性高分子化合物は、同時に耐熱性を有する場合が多いため、多孔質膜の耐熱性が低下するおそれが少ない。また、耐薬品性高分子化合物の被覆によって、多孔質膜表面の特性を変化させることも可能である。例えば、フッ素系樹脂を使用すれば、表面を撥水性にすることができ、エチレン−ビニルアルコール共重合体を使用すれば、表面を親水性にすることも可能となる。さらに、フェノール系樹脂を使用すれば、中性の水に対しては表面を撥水性に、アルカリ性の水溶液に対しては表面を親水性にすることも可能となる。このように、被覆に用いる耐薬品性高分子化合物の種類を適宜選択することにより、液体に対する親和性(親水性等)を変更することができる。 In addition, since the said chemical-resistant high molecular compound has many heat resistances simultaneously, there is little possibility that the heat resistance of a porous film | membrane may fall. It is also possible to change the properties of the porous membrane surface by coating with a chemical resistant polymer compound. For example, if a fluororesin is used, the surface can be made water repellent, and if an ethylene-vinyl alcohol copolymer is used, the surface can be made hydrophilic. Furthermore, if a phenolic resin is used, the surface can be rendered water repellent with respect to neutral water and the surface can be rendered hydrophilic with respect to an alkaline aqueous solution. Thus, the affinity (hydrophilicity etc.) with respect to a liquid can be changed by selecting suitably the kind of chemical-resistant high molecular compound used for coating | cover.
[機能性積層体(複合材料)]
本発明の前記酸化チタン含有多孔質膜積層体の該多孔質膜層の表面に、導電体層、誘電体層、半導体層、絶縁体層、抵抗体層などの機能性層を設けることができる。このように、前記酸化チタン含有多孔質膜積層体の多孔質膜層の表面に導電体層などを設けることにより、多孔質膜の空孔特性と酸化チタン粒子の機能特性に加えて、さらに別の機能を付加することができる。このような機能性積層体は複数の機能を備えているため、より広範な分野において多様な用途に利用することができる。本明細書では、このように前記積層体の多孔質膜層の表面に機能性層を設けた機能性積層体を「複合材料」と称する場合がある。
[Functional laminate (composite material)]
Functional layers such as a conductor layer, a dielectric layer, a semiconductor layer, an insulator layer, and a resistor layer can be provided on the surface of the porous membrane layer of the titanium oxide-containing porous membrane laminate of the present invention. . Thus, by providing a conductor layer on the surface of the porous membrane layer of the titanium oxide-containing porous membrane laminate, in addition to the pore properties of the porous membrane and the functional properties of the titanium oxide particles, the Can be added. Since such a functional laminate has a plurality of functions, it can be used for various purposes in a wider field. In the present specification, a functional laminate in which a functional layer is provided on the surface of the porous membrane layer of the laminate is sometimes referred to as a “composite material”.
前記積層体の多孔質膜層の表面上への各種機能性層又はその前駆体層の形成は、例えば、メッキ、印刷技術等により行うことができる。メッキにより形成される層には、金属メッキ層、磁性メッキ層が含まれる。 Formation of various functional layers or precursor layers thereof on the surface of the porous film layer of the laminate can be performed by, for example, plating, printing technology, or the like. The layer formed by plating includes a metal plating layer and a magnetic plating layer.
金属メッキ層は、例えば、前記積層体の多孔質膜層(単に「多孔質膜」と称する場合がある)の表面に薄い金属被覆として形成されていてもよい。金属メッキ層を構成する金属としては、例えば、銅、ニッケル、銀、金、すず、ビスマス、亜鉛、アルミニウム、鉛、クロム、鉄、インジウム、コバルト、ロジウム、白金、パラジウムやこれらの合金等を挙げることができる。さらにニッケル−りん、ニッケル―銅―りん、ニッケル―鉄―りん、ニッケル―タングステン―りん、ニッケル―モリブデン―りん、ニッケル―クロム―りん、ニッケル―ホウ素―りん等多種多様の金属以外の元素を含む合金皮膜も挙げることができる。金属メッキ層は、上記の金属を単独で又は複数を組み合わせて用いてもよく、単層であってもよく、複数の層を積層してもよい。 The metal plating layer may be formed, for example, as a thin metal coating on the surface of the porous film layer of the laminate (sometimes simply referred to as “porous film”). Examples of the metal constituting the metal plating layer include copper, nickel, silver, gold, tin, bismuth, zinc, aluminum, lead, chromium, iron, indium, cobalt, rhodium, platinum, palladium, and alloys thereof. be able to. In addition, nickel-phosphorus, nickel-copper-phosphorus, nickel-iron-phosphorus, nickel-tungsten-phosphorus, nickel-molybdenum-phosphorus, nickel-chromium-phosphorus, nickel-boron-phosphorus, etc. An alloy film can also be mentioned. The metal plating layer may be used alone or in combination of the above metals, may be a single layer, or a plurality of layers may be laminated.
磁性メッキ層を構成する材料としては、磁性を有する化合物であれば特に限定されず、強磁性体及び常磁性体の何れであってもよく、例えばニッケル−コバルト、コバルト−鉄−りん、コバルト−タングステン−りん、コバルト−ニッケル−マンガン等の合金;メトキシアセトニトリル重合体等のラジカルを発生し得る部位を有する化合物、デカメチルフェロセンの電荷移動錯体等の金属錯体系化合物、グラファイト化途上炭素材料であるポリアクリロニトリルなどの化合物からなる有機磁性体等が例示できる。 The material constituting the magnetic plating layer is not particularly limited as long as it is a compound having magnetism, and may be either a ferromagnetic material or a paramagnetic material. For example, nickel-cobalt, cobalt-iron-phosphorus, cobalt- Alloys such as tungsten-phosphorus, cobalt-nickel-manganese; compounds having a site capable of generating radicals, such as methoxyacetonitrile polymer, metal complex compounds such as charge transfer complexes of decamethylferrocene, and carbon materials under graphitization An organic magnetic material composed of a compound such as polyacrylonitrile can be exemplified.
金属メッキ層の形成には、例えば、無電解メッキ及び電解メッキ等の公知の方法を利用できる。本発明においては、多孔質膜が高分子成分で構成されている観点から、無電解メッキが好ましく用いられ、無電解メッキと電解メッキを組み合わせて用いることもできる。 For example, a known method such as electroless plating or electrolytic plating can be used to form the metal plating layer. In the present invention, electroless plating is preferably used from the viewpoint that the porous film is composed of a polymer component, and a combination of electroless plating and electrolytic plating can also be used.
金属メッキ層の形成に用いるメッキ液は、各種の組成のものが知られており、メーカーが販売しているものを入手することもできる。メッキ液の組成は特に制限されず、各種の要望(美観、硬さ、耐磨耗性、耐変色性、耐食性、電気伝導性、熱伝導性、耐熱性、摺動性、撥水性、ぬれ性、半田ぬれ性、シール性、電磁波シールド特性、反射特性等)に合ったものを選択すればよい。 The plating solutions used for forming the metal plating layer are known in various compositions, and those sold by manufacturers can also be obtained. The composition of the plating solution is not particularly limited, and various requests (aesthetics, hardness, abrasion resistance, discoloration resistance, corrosion resistance, electrical conductivity, thermal conductivity, heat resistance, sliding property, water repellency, wettability) The soldering wettability, sealing properties, electromagnetic wave shielding characteristics, reflection characteristics, etc. may be selected.
複合材料の製造方法の一形態は、上記多孔質膜の表面に、光により反応基を生成する化合物からなる感光性組成物を塗布して感光層を設ける工程、前記感光層にマスクを介して露光し、露光部に反応基を生成させる工程、及び露光部に生成された反応基を金属と結合させて導体パターンを形成する工程を含む方法;又は、上記製造方法において、光により反応基を生成する化合物の代わりに光により反応基を消失する化合物を用い、露光部に反応基を消失させる工程、未露光部に残る反応基を金属と結合させて導体パターンを形成する工程を含む方法で行われる。 One embodiment of a method for producing a composite material includes a step of applying a photosensitive composition comprising a compound that generates a reactive group by light to the surface of the porous film to provide a photosensitive layer, and the photosensitive layer through a mask. A method comprising: exposing and forming a reactive group in the exposed portion; and bonding the reactive group generated in the exposed portion with a metal to form a conductor pattern; or A method comprising a step of using a compound that loses a reactive group by light instead of a compound to be generated, a step of eliminating the reactive group in an exposed portion, and a step of forming a conductor pattern by combining a reactive group remaining in an unexposed portion with a metal. Done.
光により反応基を生成する化合物としては、金属(金属イオンを含む)と結合形成可能な反応基を分子内に生成する化合物であれば特に限定されず、例えば、オニウム塩誘導体、スルフォニウムエステル誘導体、カルボン酸誘導体およびナフトキノンジアジド誘導体から選択される少なくとも1種の誘導体を含有する感光性化合物等が挙げられる。これらの感光性化合物は、汎用性に富み、光照射により金属と結合可能な反応基を容易に生成しうるため、微細なパターンを有する導電部を精度良くできる。 The compound that generates a reactive group by light is not particularly limited as long as it is a compound that generates a reactive group in a molecule that can form a bond with a metal (including a metal ion). For example, an onium salt derivative or a sulfonium ester And photosensitive compounds containing at least one derivative selected from derivatives, carboxylic acid derivatives and naphthoquinonediazide derivatives. These photosensitive compounds are versatile and can easily generate a reactive group capable of binding to a metal by light irradiation, so that a conductive portion having a fine pattern can be accurately formed.
光により反応基を消失する化合物としては、例えば、金属(金属イオンを含む)と結合形成可能な反応基を有する化合物であって、光の照射により該反応基が疎水性官能基を生成して、水に溶解あるいは膨潤しにくくなる化合物などが挙げられる。 As a compound that loses a reactive group by light, for example, a compound having a reactive group capable of forming a bond with a metal (including a metal ion), and the reactive group generates a hydrophobic functional group by irradiation with light. And compounds that are difficult to dissolve or swell in water.
上記光により生成又は消失する反応基とは、前記金属(金属イオンを含む)と結合形成可能な反応基であれば特に限定されず、例えば金属イオンとイオン交換可能な官能基などが例示でき、好ましくは陽イオン交換性基が挙げられる。陽イオン交換性基には、例えば−COOX基、−SO3X基あるいは−PO3X2基等の酸性基(ここで、Xは、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又はアンモニウム基)等が含まれる。なかでも、pKa値が7.2以下の陽イオン交換性基によれば、単位面積当たりに十分な金属との結合を形成しうるため、所望の導電性を容易に得ることができ好ましい。このような反応基は、次工程において、金属イオン交換され、金属還元体や金属微粒子による安定した吸着能を発揮することができる。 The reactive group generated or disappeared by the light is not particularly limited as long as it is a reactive group capable of forming a bond with the metal (including a metal ion), and examples thereof include a functional group capable of ion exchange with a metal ion. Preferably, a cation exchange group is used. The cation exchange group includes an acidic group such as a —COOX group, a —SO 3 X group or a —PO 3 X 2 group (where X is a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal, or an ammonium group). ) Etc. are included. Among them, a cation exchange group having a pKa value of 7.2 or less is preferable because it can form a bond with a sufficient metal per unit area, and can easily obtain desired conductivity. Such a reactive group is subjected to metal ion exchange in the next step, and can exhibit a stable adsorption ability by a metal reductant or metal fine particles.
照射光としては、反応基の生成又は消失を促進できれば特に限定されず、例えば280nm以上の波長の光を用いることができるが、多孔質膜の露光による劣化を避けるため、好ましくは波長が300nm以上(300〜600nm程度)、特に350nm以上の光が好ましく用いられる。 The irradiation light is not particularly limited as long as the generation or disappearance of the reactive group can be promoted. For example, light having a wavelength of 280 nm or more can be used. However, in order to avoid deterioration due to exposure of the porous film, the wavelength is preferably 300 nm or more. (About 300 to 600 nm) In particular, light of 350 nm or more is preferably used.
マスクを介して光照射後、必要に応じて洗浄することにより、露光部又は未露光部に反応基で構成されたパターンを形成できる。こうして多孔質膜表面に設けられた反応基を、以下に示す方法により金属と結合させて導体パターンが形成される。 By irradiating with light through a mask and then washing as necessary, a pattern composed of reactive groups can be formed in the exposed or unexposed areas. In this way, the reactive group provided on the surface of the porous membrane is bonded to a metal by the method described below to form a conductor pattern.
本発明では、反応基を金属と結合する方法として無電解メッキによる方法が好ましく用いられる。無電解メッキは、一般的にプラスチック等で形成された樹脂層に金属を積層する方法として有用であることが知られている。多孔質膜の表面は、金属との密着性を向上する目的で、予め脱脂、洗浄、中和、触媒処理等の処理が施されてもよい。前記触媒処理としては、例えば被処理面に金属の析出を促進しうる触媒金属を付着させる触媒金属核形成法等を利用できる。触媒金属核形成法は、触媒金属(塩)を含むコロイド溶液に接触させた後、酸若しくはアルカリ溶液又は還元剤に接触させて化学メッキを促進させる方法(キャタライザー(触媒)−アクセレータ(促進剤)法);触媒金属の微粒子を含むコロイド溶液に接触させた後、加熱等により溶媒や添加剤等を除去して触媒金属核を形成する方法(金属微粒子法);還元剤を含む酸又はアルカリ溶液に接触させた後、触媒金属の酸又はアルカリ溶液に接触させてアクチベーティング(賦活化)液を接触させて触媒金属を析出させる方法(センシタイジング(感作)−アクチベーティング(賦活化)法)等が挙げられる。 In the present invention, an electroless plating method is preferably used as a method for bonding the reactive group to the metal. Electroless plating is known to be useful as a method of laminating a metal on a resin layer generally formed of plastic or the like. The surface of the porous membrane may be subjected to treatments such as degreasing, washing, neutralization, and catalytic treatment in advance for the purpose of improving the adhesion with the metal. As the catalyst treatment, for example, a catalyst metal nucleation method in which a catalyst metal capable of promoting metal deposition is attached to the surface to be treated can be used. The catalytic metal nucleation method is a method of promoting chemical plating by contacting a colloidal solution containing a catalytic metal (salt) and then contacting an acid or alkali solution or a reducing agent (catalyzer (catalyst) -accelerator). Method): A method of forming a catalytic metal nucleus by contacting a colloidal solution containing fine particles of catalytic metal and then removing the solvent and additives by heating or the like (metal fine particle method); An acid or alkali solution containing a reducing agent And then contacting the catalyst metal with an acid or alkali solution and bringing the catalyst into contact with an activating liquid (sensitizing)-activating (activating) ) Method).
キャタライザー−アクセレータ法における触媒金属(塩)含有溶液としては、例えばすず−パラジウム混合溶液、硫酸銅等の金属(塩)含有溶液などを用いることができる。キャタライザー−アクセレータ法は、例えば前記積層体を硫酸銅水溶液中に浸漬した後、必要に応じて過剰な硫酸銅を洗浄除去し、次いで水素化ホウ素ナトリウムの水溶液に浸漬することにより、多孔質膜表面に銅微粒子からなる触媒核を形成できる。金属微粒子法は、例えば、銀のナノ粒子が分散したコロイド溶液を多孔質膜表面に接触させた後、加熱して界面活性剤やバインダー等の添加剤を除去することにより、多孔質膜表面に銀粒子からなる触媒核を析出させることができる。センシタイジング−アクチベーティング法は、例えば、塩化すずの塩酸溶液に接触させた後、塩化パラジウムの塩酸溶液に接触させることによりパラジウムからなる触媒核を析出させることができる。これらの処理液に多孔質膜を接触させる方法としては、金属メッキ層を積層させる多孔質膜表面に塗布する方法、前記積層体を処理液に浸漬する方法等を用いることができる。 As the catalyst metal (salt) -containing solution in the catalyzer-accelerator method, for example, a metal (salt) -containing solution such as a tin-palladium mixed solution or copper sulfate can be used. The catalyzer-accelerator method is, for example, by immersing the laminate in an aqueous copper sulfate solution, washing and removing excess copper sulfate as necessary, and then immersing in an aqueous solution of sodium borohydride. In addition, a catalyst nucleus composed of copper fine particles can be formed. In the metal fine particle method, for example, a colloidal solution in which silver nanoparticles are dispersed is brought into contact with the surface of the porous film, and then heated to remove additives such as a surfactant and a binder, whereby the surface of the porous film is removed. Catalyst nuclei made of silver particles can be deposited. In the sensitizing-activating method, for example, after contacting with a hydrochloric acid solution of tin chloride, a catalyst nucleus made of palladium can be precipitated by contacting with a hydrochloric acid solution of palladium chloride. As a method of bringing the porous film into contact with these treatment liquids, a method of applying a metal plating layer on the porous film surface, a method of immersing the laminate in the treatment liquid, or the like can be used.
無電解メッキに用いられる主な金属としては、例えば、銅、ニッケル、銀、金、ニッケル−りん等を挙げることができる。無電解メッキに用いるメッキ液には、例えば、上記金属又はその塩が含まれている他、ホルムアルデヒド、ヒドラジン、次亜リン酸ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、アスコルビン酸、グリオキシル酸等の還元剤、酢酸ナトリウム、EDTA、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸、グリシン等の錯化剤や析出制御剤等が含まれており、これらの多くは市販されており簡単に入手することができる。無電解メッキは、上記のメッキ液に上記処理を施した前記積層体を浸漬することにより行われる。 Examples of main metals used for electroless plating include copper, nickel, silver, gold, nickel-phosphorus, and the like. The plating solution used for electroless plating contains, for example, the above metals or salts thereof, reducing agents such as formaldehyde, hydrazine, sodium hypophosphite, sodium borohydride, ascorbic acid, glyoxylic acid, acetic acid It contains complexing agents and precipitation control agents such as sodium, EDTA, tartaric acid, malic acid, citric acid and glycine, and many of these are commercially available and can be easily obtained. Electroless plating is performed by immersing the laminate subjected to the above treatment in the above plating solution.
金属メッキ層の厚みは、特に限定されず用途に応じて適宜選択でき、例えば0.01〜20μm程度、好ましくは0.1〜10μm程度である。金属メッキ層の厚みを効率よく厚くするため、例えば無電解メッキと電解メッキとを組み合わせて金属メッキ層を形成する方法が行われる場合がある。すなわち、無電解メッキにより金属被膜が形成された多孔質膜層表面は導電性が付与されるため、次いでより効率のよい電解メッキを施すことによりにより短時間で厚い金属メッキ層を得ることが可能となる。 The thickness of the metal plating layer is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the application, and is, for example, about 0.01 to 20 μm, preferably about 0.1 to 10 μm. In order to efficiently increase the thickness of the metal plating layer, for example, a method of forming a metal plating layer by combining electroless plating and electrolytic plating may be performed. In other words, since the surface of the porous film layer on which the metal film is formed by electroless plating is imparted with conductivity, it is possible to obtain a thick metal plating layer in a short time by applying more efficient electrolytic plating. It becomes.
上記方法は、特に回路基板、放熱材又は電磁波制御材に用いられる複合材料を得る方法として好適である。 The above method is particularly suitable as a method for obtaining a composite material used for a circuit board, a heat dissipation material, or an electromagnetic wave control material.
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
多孔質膜の微小孔の平均孔径、空孔率を以下の方法で算出、測定した。平均孔径及び空孔率は電子顕微鏡写真に見えている微小孔のみを対象として求められている。 The average pore diameter and porosity of the micropores of the porous membrane were calculated and measured by the following methods. The average pore diameter and the porosity are obtained only for the micropores visible in the electron micrograph.
1.平均孔径
電子顕微鏡写真から、多孔質膜の表面又は断面の任意の30点以上の孔についてその面積を測定し、その平均値を平均孔面積Saveとした。孔が真円であると仮定し、下記式を用いて平均孔面積から孔径に換算した値を平均孔径とした。ここで、πは円周率を表す。
表面又は内部の平均孔径[μm]=2×(Save/π)1/2
1. Average pore diameter From the electron micrograph, the area of any 30 or more pores on the surface or cross section of the porous membrane was measured, and the average value was defined as the average pore area Save. Assuming that the hole is a perfect circle, the value converted from the average hole area to the hole diameter using the following formula was defined as the average hole diameter. Here, π represents the circumference ratio.
Surface or internal average pore diameter [μm] = 2 × (Save / π) 1/2
2.空孔率
多孔質膜内部の空孔率は下記式により算出した。Vは多孔質膜の体積[cm3]、Wは多孔質膜の重量[g]、ρは多孔質膜組成物の密度[g/cm3](ここで、多孔質膜組成物の密度は、該組成物を構成している各成分の密度を重量組成比で分配して算出される値である)を示す。
空孔率[%]=100−100×W/(ρ・V)
なお、実施例で用いた多孔質膜組成物における各成分の密度は以下の通りである。
ポリアミドイミド(商品名「バイロマックスHR−11NN」)の密度:1.45[g/cm3]
ポリエーテルイミド(商品名「ウルテム1000」)の密度:1.27[g/cm3]
酸化チタン(商品名「R−45M」)の密度:3.9[g/cm3]
酸化チタン(商品名「CR−50」)の密度:4.1[g/cm3]
2. Porosity The porosity inside the porous membrane was calculated by the following formula. V is the volume of the porous membrane [cm 3 ], W is the weight of the porous membrane [g], ρ is the density of the porous membrane composition [g / cm 3 ] (where the density of the porous membrane composition is And a density calculated by distributing the density of each component constituting the composition by weight composition ratio).
Porosity [%] = 100-100 × W / (ρ · V)
In addition, the density of each component in the porous membrane composition used in the Example is as follows.
Density of polyamideimide (trade name “Bilomax HR-11NN”): 1.45 [g / cm 3 ]
Density of polyetherimide (trade name “Ultem 1000”): 1.27 [g / cm 3 ]
Density of titanium oxide (trade name “R-45M”): 3.9 [g / cm 3 ]
Density of titanium oxide (trade name “CR-50”): 4.1 [g / cm 3 ]
実施例1
ポリエーテルイミド系樹脂(SABICイノベーティブプラスチック社製の商品名「ウルテム1000」)、溶剤としてのN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を、ポリエーテルイミド系樹脂/NMPの重量比が18/82となる割合で混合して、ポリエーテルイミド系樹脂溶液を調製した。この液に、水溶性ポリマーとしてのポリビニルピロリドン(分子量5万)20重量部、及び酸化チタン(堺化学工業社製の商品名「R−45M」、ルチル型、平均粒子径0.29μm)9重量部を、ポリエーテルイミド系樹脂/NMP/ポリビニルピロリドン/酸化チタンの重量比が18/82/20/9となる割合で混合して、製膜用の原液(分散液)を得た。
ガラス板上に、ITO透明導電膜付きPETフィルム(株式会社トービ製、商品名「OTEC−130」、厚み125μm)をITO透明導電膜面が外側となるようにテープで固定し、25℃とした前記原液をフィルムアプリケーターを使用して、フィルムアプリケーターとITO透明導電膜付きPETフィルムとのギャップ102μmの条件でキャストした。キャスト後速やかに湿度約100%、温度50℃の容器中に4分間保持した。その後、水中に浸漬して凝固させた後、水中から取り出し、室温下で自然乾燥することにより、ITO透明導電膜付きPETフィルム上に酸化チタン含有多孔質膜が積層された積層体を得た。酸化チタン含有多孔質膜のITO透明導電膜付きPETフィルムに対する密着性は良好であった(後述の評価試験参照)。また、得られた積層体は柔軟性にも優れていた。得られた積層体のうち多孔質層の厚みは37μmであった。
この積層体の多孔質膜を電子顕微鏡で観察したところ、多孔質膜内部はほぼ均質で全域に亘って平均孔径が1μmの連通性を持つ微小孔が存在していた。また、多孔質膜内部の空孔率は70%であった。多孔質膜における無機粒子の含有量は33.3重量%である。
Example 1
Polyetherimide resin (trade name “Ultem 1000” manufactured by SABIC Innovative Plastics), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) as a solvent, and the weight ratio of polyetherimide resin / NMP is 18/82. A polyetherimide resin solution was prepared by mixing at a ratio. In this liquid, 20 parts by weight of polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) as a water-soluble polymer, and titanium oxide (trade name “R-45M” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., rutile type, average particle size 0.29 μm) 9 parts by weight Parts were mixed at a ratio such that the weight ratio of polyetherimide resin / NMP / polyvinylpyrrolidone / titanium oxide was 18/82/20/9 to obtain a stock solution (dispersion) for film formation.
On a glass plate, a PET film with an ITO transparent conductive film (manufactured by Tobi Corporation, trade name “OTEC-130”, thickness 125 μm) was fixed with tape so that the ITO transparent conductive film surface was on the outside, and the temperature was 25 ° C. The stock solution was cast using a film applicator under the condition of a gap of 102 μm between the film applicator and the PET film with an ITO transparent conductive film. Immediately after casting, it was kept in a container having a humidity of about 100% and a temperature of 50 ° C. for 4 minutes. Then, after being immersed in water and solidified, it was taken out from water and naturally dried at room temperature to obtain a laminate in which a titanium oxide-containing porous film was laminated on a PET film with an ITO transparent conductive film. The adhesion of the titanium oxide-containing porous film to the PET film with the ITO transparent conductive film was good (see the evaluation test described later). Moreover, the obtained laminated body was excellent also in the softness | flexibility. Of the obtained laminate, the thickness of the porous layer was 37 μm.
When the porous film of this laminate was observed with an electron microscope, the inside of the porous film was almost homogeneous, and there existed micropores having an average pore diameter of 1 μm over the entire area. The porosity inside the porous membrane was 70%. The content of inorganic particles in the porous membrane is 33.3% by weight.
実施例2
酸化チタン(堺化学工業社製の商品名「R−45M」、ルチル型、平均粒子径0.29μm)の代わりに、酸化チタン(石原産業社製の商品名「CR−50」、ルチル型、平均粒子径0.25μm)を用い、原液におけるポリエーテルイミド系樹脂/NMP/ポリビニルピロリドン/酸化チタンの重量比を18/82/20/27としたこと以外は実施例1と同様の操作を行い、ITO透明導電膜付きPETフィルム上に酸化チタン含有多孔質膜が積層された積層体を得た。酸化チタン含有多孔質膜のITO透明導電膜付きPETフィルムに対する密着性は良好であった(後述の評価試験参照)。また、得られた積層体は柔軟性にも優れていた。得られた積層体のうち多孔質層の厚みは56μmであった。
この積層体の多孔質膜を電子顕微鏡で観察したところ、多孔質膜内部はほぼ均質で全域に亘って平均孔径が1μmの連通性を持つ微小孔が存在していた。また、多孔質膜内部の空孔率は66%であった。多孔質膜における無機粒子の含有量は60重量%である。
Example 2
Instead of titanium oxide (trade name “R-45M” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., rutile type, average particle size 0.29 μm), titanium oxide (trade name “CR-50” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., rutile type, The same operation as in Example 1 was performed except that the weight ratio of polyetherimide resin / NMP / polyvinylpyrrolidone / titanium oxide in the stock solution was 18/82/20/27. The laminated body by which the titanium oxide containing porous film was laminated | stacked on PET film with an ITO transparent conductive film was obtained. The adhesion of the titanium oxide-containing porous film to the PET film with the ITO transparent conductive film was good (see the evaluation test described later). Moreover, the obtained laminated body was excellent also in the softness | flexibility. Of the obtained laminate, the thickness of the porous layer was 56 μm.
When the porous film of this laminate was observed with an electron microscope, the inside of the porous film was almost homogeneous, and there existed micropores having an average pore diameter of 1 μm over the entire area. The porosity inside the porous membrane was 66%. The content of inorganic particles in the porous membrane is 60% by weight.
実施例3
酸化チタン(堺化学工業社製の商品名「R−45M」、ルチル型、平均粒子径0.29μm)の代わりに、酸化チタン(石原産業社製の商品名「CR−50」、ルチル型、平均粒子径0.25μm)を用い、原液におけるポリエーテルイミド系樹脂/NMP/ポリビニルピロリドン/酸化チタンの重量比を18/82/20/42としたこと以外は実施例1と同様の操作を行い、ITO透明導電膜付きPETフィルム上に酸化チタン含有多孔質膜が積層された積層体を得た。酸化チタン含有多孔質膜のITO透明導電膜付きPETフィルムに対する密着性は良好であった(後述の評価試験参照)。また、得られた積層体は柔軟性にも優れていた。得られた積層体のうち多孔質層の厚みは52μmであった。
この積層体の多孔質膜を電子顕微鏡で観察したところ、多孔質膜内部はほぼ均質で全域に亘って平均孔径が2μmの連通性を持つ微小孔が存在していた。また、多孔質膜内部の空孔率は64%であった。多孔質膜における無機粒子の含有量は70重量%である。
得られた積層体における多孔質膜表面の電子顕微鏡写真(SEM写真)を図1に示す。図1において、黒い部分が孔、灰色の部分が樹脂、白い部分が酸化チタン粒子である。
Example 3
Instead of titanium oxide (trade name “R-45M” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., rutile type, average particle size 0.29 μm), titanium oxide (trade name “CR-50” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., rutile type, The average particle diameter was 0.25 μm), and the same operation as in Example 1 was performed except that the weight ratio of polyetherimide resin / NMP / polyvinylpyrrolidone / titanium oxide in the stock solution was 18/82/20/42. The laminated body by which the titanium oxide containing porous film was laminated | stacked on PET film with an ITO transparent conductive film was obtained. The adhesion of the titanium oxide-containing porous film to the PET film with the ITO transparent conductive film was good (see the evaluation test described later). Moreover, the obtained laminated body was excellent also in the softness | flexibility. Of the obtained laminate, the thickness of the porous layer was 52 μm.
When the porous film of this laminate was observed with an electron microscope, the inside of the porous film was almost homogeneous, and there existed micropores having a communication with an average pore diameter of 2 μm over the entire area. The porosity inside the porous membrane was 64%. The content of inorganic particles in the porous membrane is 70% by weight.
The electron micrograph (SEM photograph) of the porous membrane surface in the obtained laminated body is shown in FIG. In FIG. 1, black portions are holes, gray portions are resins, and white portions are titanium oxide particles.
実施例4
酸化チタン(堺化学工業社製の商品名「R−45M」、ルチル型、平均粒子径0.29μm)の代わりに、酸化チタン(石原産業社製の商品名「CR−50」、ルチル型、平均粒子径0.25μm)を用い、原液におけるポリエーテルイミド系樹脂/NMP/ポリビニルピロリドン/酸化チタンの重量比を18/82/20/72としたこと以外は実施例1と同様の操作を行い、ITO透明導電膜付きPETフィルム上に酸化チタン含有多孔質膜が積層された積層体を得た。酸化チタン含有多孔質膜のITO透明導電膜付きPETフィルムに対する密着性は良好であった(後述の評価試験参照)。また、得られた積層体は柔軟性にも優れていた。得られた積層体のうち多孔質層の厚みは57μmであった。
この積層体の多孔質膜を電子顕微鏡で観察したところ、多孔質膜内部はほぼ均質で全域に亘って平均孔径が1μmの連通性を持つ微小孔が存在していた。また、多孔質膜内部の空孔率は63%であった。多孔質膜における無機粒子の含有量は80重量%である。
Example 4
Instead of titanium oxide (trade name “R-45M” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., rutile type, average particle size 0.29 μm), titanium oxide (trade name “CR-50” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., rutile type, The same operation as in Example 1 was performed except that the weight ratio of polyetherimide resin / NMP / polyvinylpyrrolidone / titanium oxide in the stock solution was 18/82/20/72. The laminated body by which the titanium oxide containing porous film was laminated | stacked on PET film with an ITO transparent conductive film was obtained. The adhesion of the titanium oxide-containing porous film to the PET film with the ITO transparent conductive film was good (see the evaluation test described later). Moreover, the obtained laminated body was excellent also in the softness | flexibility. Of the obtained laminate, the thickness of the porous layer was 57 μm.
When the porous film of this laminate was observed with an electron microscope, the inside of the porous film was almost homogeneous, and there existed micropores having an average pore diameter of 1 μm over the entire area. The porosity inside the porous membrane was 63%. The content of inorganic particles in the porous membrane is 80% by weight.
実施例5
酸化チタン(堺化学工業社製の商品名「R−45M」、ルチル型、平均粒子径0.29μm)の代わりに、酸化チタン(石原産業社製の商品名「CR−50」、ルチル型、平均粒子径0.25μm)を用い、原液におけるポリエーテルイミド系樹脂/NMP/ポリビニルピロリドン/酸化チタンの重量比を18/82/20/102としたこと以外は実施例1と同様の操作を行い、ITO透明導電膜付きPETフィルム上に酸化チタン含有多孔質膜が積層された積層体を得た。酸化チタン含有多孔質膜のITO透明導電膜付きPETフィルムに対する密着性は良好であった(後述の評価試験参照)。また、得られた積層体は柔軟性にも優れていた。得られた積層体のうち多孔質層の厚みは46μmであった。
この積層体の多孔質膜を電子顕微鏡で観察したところ、多孔質膜内部はほぼ均質で全域に亘って平均孔径が1μmの連通性を持つ微小孔が存在していた。また、多孔質膜内部の空孔率は64%であった。多孔質膜における無機粒子の含有量は85重量%である。
Example 5
Instead of titanium oxide (trade name “R-45M” manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., rutile type, average particle size 0.29 μm), titanium oxide (trade name “CR-50” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., rutile type, The same operation as in Example 1 was performed except that the weight ratio of polyetherimide resin / NMP / polyvinylpyrrolidone / titanium oxide in the stock solution was 18/82/20/102. The laminated body by which the titanium oxide containing porous film was laminated | stacked on PET film with an ITO transparent conductive film was obtained. The adhesion of the titanium oxide-containing porous film to the PET film with the ITO transparent conductive film was good (see the evaluation test described later). Moreover, the obtained laminated body was excellent also in the softness | flexibility. Of the obtained laminate, the thickness of the porous layer was 46 μm.
When the porous film of this laminate was observed with an electron microscope, the inside of the porous film was almost homogeneous, and there existed micropores having an average pore diameter of 1 μm over the entire area. The porosity inside the porous membrane was 64%. The content of inorganic particles in the porous membrane is 85% by weight.
実施例6
ポリアミドイミド系樹脂溶液(東洋紡績社製の商品名「バイロマックスHR−11NN」;固形分濃度15重量%、溶剤NMP、溶液粘度20dPa・s/25℃)100重量部に、水溶性ポリマーとしてのポリビニルピロリドン(分子量5万)30重量部、及び酸化チタン(石原産業社製の商品名「CR−50」、ルチル型、平均粒子径0.25μm)22.5重量部を、ポリアミドイミド系樹脂/NMP/ポリビニルピロリドン/酸化チタンの重量比が15/85/30/22.5となる割合で混合して、製膜用の原液(分散液)を得た。
ガラス板上に、ITO透明導電膜付きPETフィルム(株式会社トービ製、商品名「OTEC−130」、厚み125μm)をITO透明導電膜面が外側となるようにテープで固定し、25℃とした前記原液をフィルムアプリケーターを使用して、フィルムアプリケーターとITO透明導電膜付きPETフィルムとのギャップ102μmの条件でキャストした。キャスト後速やかに湿度約100%、温度50℃の容器中に4分間保持した。その後、水中に浸漬して凝固させた後、水中から取り出し、室温下で自然乾燥することにより、ITO透明導電膜付きPETフィルム上に酸化チタン含有多孔質膜が積層された積層体を得た。酸化チタン含有多孔質膜のITO透明導電膜付きPETフィルムに対する密着性は良好であった(後述の評価試験参照)。また、得られた積層体は柔軟性にも優れていた。得られた積層体のうち多孔質層の厚みは40μmであった。
この積層体の多孔質膜を電子顕微鏡で観察したところ、多孔質膜内部はほぼ均質で全域に亘って平均孔径が0.5μmの連通性を持つ微小孔が存在していた。また、多孔質膜内部の空孔率は75%であった。多孔質膜における無機粒子の含有量は60重量%である。
得られた積層体の多孔質膜の表面の電子顕微鏡写真(SEM写真)を図2に示す。図2において、黒い部分が孔、灰色の部分が樹脂、白い部分が酸化チタン粒子である。
Example 6
Polyamideimide resin solution (trade name “Vilomax HR-11NN” manufactured by Toyobo Co., Ltd .; solid content concentration 15% by weight, solvent NMP, solution viscosity 20 dPa · s / 25 ° C.) as a water-soluble polymer 30 parts by weight of polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) and 22.5 parts by weight of titanium oxide (trade name “CR-50” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., rutile type, average particle diameter of 0.25 μm) NMP / polyvinylpyrrolidone / titanium oxide was mixed at a weight ratio of 15/85/30 / 22.5 to obtain a stock solution (dispersion) for film formation.
On a glass plate, a PET film with an ITO transparent conductive film (manufactured by Tobi Corporation, trade name “OTEC-130”, thickness 125 μm) was fixed with tape so that the ITO transparent conductive film surface was on the outside, and the temperature was 25 ° C. The stock solution was cast using a film applicator under the condition of a gap of 102 μm between the film applicator and the PET film with an ITO transparent conductive film. Immediately after casting, it was kept in a container having a humidity of about 100% and a temperature of 50 ° C. for 4 minutes. Then, after being immersed in water and solidified, it was taken out from water and naturally dried at room temperature to obtain a laminate in which a titanium oxide-containing porous film was laminated on a PET film with an ITO transparent conductive film. The adhesion of the titanium oxide-containing porous film to the PET film with the ITO transparent conductive film was good (see the evaluation test described later). Moreover, the obtained laminated body was excellent also in the softness | flexibility. Of the obtained laminate, the thickness of the porous layer was 40 μm.
When the porous film of this laminated body was observed with an electron microscope, the inside of the porous film was almost homogeneous, and there existed micropores having connectivity with an average pore diameter of 0.5 μm over the entire area. The porosity inside the porous membrane was 75%. The content of inorganic particles in the porous membrane is 60% by weight.
The electron micrograph (SEM photograph) of the surface of the porous film of the obtained laminated body is shown in FIG. In FIG. 2, black portions are holes, gray portions are resins, and white portions are titanium oxide particles.
比較例1
ガラス板上に、ITO透明導電膜付きPETフィルムの代わりに、PETフィルム基材(帝人デュポン社製、HS74ASタイプ、厚み100μm)をPETフィルムの易接着面が外側となるようにテープで固定したこと以外は実施例3と同様の操作を行った。キャスト後速やかに湿度約100%、温度50℃の容器中に4分間保持した後、水中に浸漬して凝固させていると、自然とPETフィルム基材から多孔質層が剥離した。そのため、PETフィルム基材上に酸化チタン含有多孔質膜が積層された積層体は得られなかった。
得られた多孔質層を室温下で自然乾燥することにより、多孔質層のみからなる膜を得た。得られた多孔質層のみからなる膜の厚みは36μmであった。
この多孔質膜を電子顕微鏡で観察したところ、多孔質膜内部はほぼ均質で全域に亘って平均孔径が2μmの連通性を持つ微小孔が存在していた。また、多孔質膜内部の空孔率は66%であった。多孔質膜における無機粒子の含有量は70重量%である。
Comparative Example 1
A PET film substrate (manufactured by Teijin DuPont, HS74AS type, thickness 100 μm) was fixed on a glass plate with a tape so that the easy-adhesion surface of the PET film was on the outside instead of the PET film with an ITO transparent conductive film. Except that, the same operation as in Example 3 was performed. Immediately after casting, the porous layer was naturally peeled off from the PET film substrate when it was kept in a container having a humidity of about 100% and a temperature of 50 ° C. for 4 minutes and then immersed in water to solidify. Therefore, the laminated body by which the titanium oxide containing porous membrane was laminated | stacked on the PET film base material was not obtained.
The obtained porous layer was naturally dried at room temperature to obtain a film consisting only of the porous layer. The thickness of the film made of only the obtained porous layer was 36 μm.
When this porous film was observed with an electron microscope, the inside of the porous film was almost homogeneous, and there existed micropores having an average pore diameter of 2 μm over the entire area. The porosity inside the porous membrane was 66%. The content of inorganic particles in the porous membrane is 70% by weight.
比較例2
ガラス板上に、ITO透明導電膜付きPETフィルムの代わりに、PETフィルム基材(帝人デュポン社製、HS74ASタイプ、厚み100μm)をPETフィルムの易接着面が外側となるようにテープで固定したこと以外は実施例6と同様の操作を行った。キャスト後速やかに湿度約100%、温度50℃の容器中に4分間保持した後、水中に浸漬して凝固させていると、自然とPETフィルム基材から多孔質層が剥離した。そのため、PETフィルム基材上に酸化チタン含有多孔質膜が積層された積層体は得られなかった。
得られた多孔質層を室温下で自然乾燥することにより、多孔質層のみからなる膜を得た。得られた多孔質層のみからなる膜の厚みは50μmであった。
この多孔質膜を電子顕微鏡で観察したところ、多孔質膜内部はほぼ均質で全域に亘って平均孔径が0.5μmの連通性を持つ微小孔が存在していた。また、多孔質膜内部の空孔率は76%であった。多孔質膜における無機粒子の含有量は60重量%である。
Comparative Example 2
A PET film substrate (manufactured by Teijin DuPont, HS74AS type, thickness 100 μm) was fixed on a glass plate with a tape so that the easy-adhesion surface of the PET film was on the outside instead of the PET film with an ITO transparent conductive film. Except that, the same operation as in Example 6 was performed. Immediately after casting, the porous layer was naturally peeled off from the PET film substrate when it was kept in a container having a humidity of about 100% and a temperature of 50 ° C. for 4 minutes and then immersed in water to solidify. Therefore, the laminated body by which the titanium oxide containing porous membrane was laminated | stacked on the PET film base material was not obtained.
The obtained porous layer was naturally dried at room temperature to obtain a film consisting only of the porous layer. The thickness of the film consisting only of the obtained porous layer was 50 μm.
When this porous membrane was observed with an electron microscope, the inside of the porous membrane was almost homogeneous, and there existed micropores having a communication property with an average pore diameter of 0.5 μm over the entire area. The porosity inside the porous membrane was 76%. The content of inorganic particles in the porous membrane is 60% by weight.
評価試験(テープ剥離試験)
実施例1〜6で得られた各積層体について、テープ剥離試験を以下の通りに行った。
(i)酸化チタン含有多孔質膜上に下記のテープを貼り、ローラーで接着部分をなぞる。
(ii)万能引張試験機[(株)オリエンテック社製、商品名「TENSILON RTA−500」]を用いて50mm/分の条件でT型剥離を行う。
(iii)酸化チタン含有多孔質膜とITO透明導電膜付きPETフィルムの界面剥離の有無を観察する。
・テープ:寺岡製作所製フィルムマスキングテープNo.603(#25)、24mm幅
・ローラー:φ30mm、200gf荷重
その結果、実施例1〜6で得られたどの積層体においても、酸化チタン含有多孔質膜とITO透明導電膜付きPETフィルムとが界面剥離を起こさなかった。
Evaluation test (tape peeling test)
About each laminated body obtained in Examples 1-6, the tape peeling test was done as follows.
(i) The following tape is applied on the titanium oxide-containing porous membrane, and the adhesive part is traced with a roller.
(ii) T-type peeling is performed under conditions of 50 mm / min using a universal tensile tester [trade name “TENSILON RTA-500” manufactured by Orientec Co., Ltd.].
(iii) The presence or absence of interfacial peeling between the titanium oxide-containing porous film and the PET film with an ITO transparent conductive film is observed.
・ Tape: Film masking tape No. 603 (# 25), 24 mm width ・ Roller: φ30 mm, 200 gf load As a result, in any of the laminates obtained in Examples 1 to 6, the titanium oxide-containing porous film and the PET film with an ITO transparent conductive film were interfaced. No peeling occurred.
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