JP5969759B2 - 有機ホウ素化合物及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本実施の形態では、本発明の一態様に係る有機ホウ素化合物について説明する。
本実施の形態では、実施の形態1で示した有機ホウ素化合物の材料として利用可能なベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン化合物の合成方法について説明する。なお、実施の形態1で示した有機ホウ素化合物の材料として用いるベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン化合物の合成方法は、以下の合成方法に限定されるものではない。
合成スキーム(B−1)で示すように、β−ナフトール誘導体(b1)と、アリール誘導体の有機ホウ素化合物(b2)とを、パラジウム触媒を用いた鈴木・宮浦反応によりカップリングすることで、ハロゲン基を有するβ−ナフトール誘導体(b3)を得ることができる。
合成スキーム(C−1)で示すように、アルコキシド基を有するナフタレン誘導体(c1)と、アリール誘導体の有機ホウ素化合物(c2)とを、パラジウム触媒を用いた鈴木・宮浦反応によりカップリングすることで、ナフタレン誘導体のアルコキシド化合物(c3)を得ることができる。
<ステップ1:1−(2−フルオロフェニル)−2−ナフトールの合成>
1.4g(10mmol)の2−フルオロベンゼンボロン酸と、2.2g(10mmol)の1−ブロモ−2−ナフトールと、153mg(0.5mmol)のトリ(o−トリル)ホスフィンと、25mLのトルエンと、25mLのエタノールと、5mLの2M炭酸カリウム水溶液を200mL三ツ口フラスコへ入れた。この混合物を減圧脱気し、系内を窒素置換した。この混合物を80℃で撹拌し、23mg(0.1mmol)の酢酸パラジウム(II)を加え、約100℃で6.5時間還流した。還流後、この混合物を水で洗浄し、水層を酢酸エチルで抽出した。得られた抽出溶液と有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥した。この混合物を自然濾過し、得られた濾液を濃縮したところ、褐色油状物を得た。この油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:トルエン)により精製したところ、目的物の褐色油状物を1.6g、収率69%で得た。ステップ1の反応スキームを下記(E1−1)に示す。
1Lの三口フラスコに15g(63mmol)の1−(2−フルオロフェニル)−2−ナフトールと、300mLのN−メチル−2−ピロリドン(NMP)と、18g(130mmol)の炭酸カリウムを入れた。このフラスコを窒素気流下、150℃で6時間攪拌した。攪拌後、この混合物を室温まで放冷し、約500mLの水に加えた。この混合物の水層を酢酸エチルで抽出し、抽出溶液と有機層を合わせて水と飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥し、乾燥後、この混合物を自然ろ過した。得られたろ液を濃縮したところ、油状物を得た。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン)で精製したところ、油状物を得た。得られた油状物を減圧乾燥して、目的物の無色透明油状物を11.8g、収率86%で得た。ステップ2の反応スキームを下記(E1−2)に示す。
1H NMR(CDCl3,300MHz):δ=7.44−7.57(m,3H),7.68−7.78(m,3H),7.93(d,J=9.3Hz,1H),8.03(d,J=7.8Hz,1H),8.37−8.43(m,1H),8.62(d,J=8.4Hz,1H)
500mL三口フラスコを窒素置換してから、5.8g(50mmol)のテトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)と、180mLのテトラヒドロフラン(THF)を加えて、この溶液を−80℃に冷却した。この溶液に50mL(50mmol)のsec−ブチルリチウム(1.0mol/Lシクロヘキサン、n−ヘキサン溶液)を、シリンジにより滴下して加えた。滴下後、この溶液を同温度で30分間攪拌した。攪拌後、この溶液に70mLのTHFに溶解した10g(45mmol)のベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フランを滴下ロートにより滴下して加えた。滴下後、この溶液を同温度で2時間攪拌した。滴下後、この溶液に11mL(100mmol)のホウ酸トリメチルを加え、室温に戻しながら2日間攪拌した。攪拌後、この混合物の水層を酢酸エチルで抽出し、抽出溶液と有機層を合わせて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥し、乾燥後、この混合物を自然ろ過した。得られたろ液を濃縮したところ、白色固体を得た。得られた固体にトルエンとヘキサンの混合溶媒を加えて超音波を照射し、固体を吸引ろ過により回収した所、目的物の白色粉末を9.2g、収率78%で得た。ステップ3の反応スキームを下記(E1−3)に示す。
本合成例は、上記合成例1とは異なるベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−6−ボロン酸の合成例を示す。
500mL三口フラスコに8.7g(35mmol)の1−ブロモ−2−メトキシナフタレンと、5.0g(35mmol)の2−フルオロフェニルボロン酸を入れ、フラスコ内を窒素置換した。この混合物に、120mLのトルエンと、60mLのエタノールと、40mLの炭酸ナトリウム水溶液(2.0mol/L)を加えた。この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気した。この混合物に2.0g(1.7mmol)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を加え、窒素気流下、80℃で8時間攪拌した。得られた混合物の水層をトルエンで抽出し、抽出溶液と有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥し、この混合物を自然ろ過した。得られたろ液を濃縮して得た油状物を約30mLのトルエンに溶解し、この溶液をセライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)、アルミナ、フロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)を通して吸引ろ過した。得られたろ液を濃縮して得た油状物を減圧乾燥したところ、目的物の淡黄色油状物を5.3g、収率60%で得た。ステップ1の反応スキームを下記(E2−1)に示す。
500mL三口フラスコに5.3g(21mmol)の1−(2−フルオロフェニル)−2−メトキシナフタレンと、150mLのジクロロメタンを入れた。この溶液に窒素気流下、0℃で45mL(45mmol)の三臭化ホウ素(1M ジクロロメタン溶液)を、滴下ロートを用いて滴下した。滴下後、同温度で6時間攪拌した。攪拌後、この溶液を室温で2日間攪拌した。攪拌後、この溶液に約100mLの水を入れて1時間攪拌した。攪拌後、約100mLの飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて1時間攪拌した。攪拌後、この混合物の水層をジクロロメタンで抽出し、抽出溶液と有機層を合わせて、水と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥し、乾燥後この混合物を自然ろ過した。得られたろ液を濃縮したところ、油状物を得た。得られた油状物を減圧乾燥したところ、目的物の褐色固体を4.8g、収率97%で得た。ステップ2の反応スキームを下記(E2−2)に示す。
本参考例では、合成例1及び合成例2で中間物質として合成されたベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フランが、上述の反応スキーム(E1−3)においてボロン酸化された位置を特定した。具体的には、反応スキーム(E1−3)で合成された化合物を用いて6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン(略称:PBnf)を合成し、そのX線結晶構造解析を行った。
200mL三口フラスコに0.90g(5.7mmol)のブロモベンゼンと、1.5g(5.7mol)のベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−6−ボロン酸を入れ、フラスコ内を窒素置換した。この混合物に20mLのトルエンと、10mLのエタノールと、6.0mLの炭酸ナトリウム水溶液(2.0mol/L)を加えた。この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気した。この混合物に0.33g(0.28mmol)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を加え、窒素気流下、80℃で2時間攪拌した。攪拌後、この混合物の水層をトルエンにより抽出し、抽出溶液と有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥し、この混合物を自然ろ過した。得られたろ液を濃縮して得た油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:トルエン=19:1)で精製したところ、白色固体を得た。得られた固体をトルエンとヘキサンの混合溶媒で再結晶したところ、目的物の白色針状結晶を0.95g、収率56%で得た。反応スキームを下記(R−1)に示す。
本参考例では、実施例1で合成したベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−6−ボロン酸を材料として下記構造式(300)で表される6−[3−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−ベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン(略称:2mBnfPPA)を合成する例を示す。
50mL三口フラスコに1.1g(2.4mmol)の2−(3−ブロモフェニル)−9,10−ジフェニルアントラセンと、0.63g(2.4mmol)のベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−6−ボロン酸を入れ、フラスコ内を窒素置換した。この混合物に10mLのトルエンと、4.0mLのエタノールと、3.0mLの炭酸ナトリウム水溶液(2.0mol/L)を加えた。この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気した。この混合物に0.14g(0.12mmol)のテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を加え、窒素気流下、80℃で3時間攪拌した。攪拌後、この混合物の水層をトルエンにより抽出し、抽出溶液と有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥し、この混合物を自然濾過した。得られた濾液を濃縮して得た油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:トルエン=5:1)で精製したところ、油状物を得た。得られた油状物をトルエンとヘキサンの混合溶媒で再結晶したところ、目的物の淡黄色粉末を1.0g、収率66%で得た。
1H NMR(CDCl3,300MHz):δ=7.33(d,J=3.0Hz,1H),7.35(d,J=3.0Hz,1H),7.49−7.75(m,20H),7.83(d,J=9.3z,1H),7.94(d,J=7.5Hz,1H),8.01−8.07(m,3H),8.14(s,1H),8.43−8.47(m,1H),8.66(d,J1=8.4Hz,1H)
本参考例では、実施例1で合成したベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−6−ボロン酸を材料として、下記構造式(301)で示す6−[3−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−ベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン(略称:mBnfPA)を合成する例を示す。
50mL三口フラスコに1.5g(3.8mmol)の9−(3−ブロモフェニル)−10−フェニルアントラセンと、1.0g(3.8mmol)のベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−6−ボロン酸と、0.29g(0.95mmol)のトリ(オルト−トリル)ホスフィンを入れ、フラスコ内を窒素置換した。この混合物に15mLのトルエンと、5.0mLのエタノールと、4.0mLの炭酸カリウム水溶液(2.0mol/L)を加えた。この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気した。この混合物に43mg(0.19mmol)の酢酸パラジウム(II)を加え、窒素気流下、80℃で4時間攪拌した。攪拌後、この混合物の水層をトルエンにより抽出し、抽出溶液と有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥し、この混合物を自然濾過した。得られた濾液を濃縮して得た油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:トルエン=5:1)で精製したところ、油状物を得た。得られた油状物をトルエンとヘキサンの混合溶媒で再結晶したところ、目的物の白色粉末を1.4g、収率67%で得た。
1H NMR(CDCl3,300MHz):δ=7.34−7.44(m,4H),7.48−7.63(m,9H),7.69−7.74(m,4H),7.83(t,J=7.5Hz,1H),7.96(dd,J1=1.8Hz,J2=7.8Hz,2H),8.04(d,J=7.8Hz,1H),8.13(s,1H),8.15(t,J=1.5Hz,1H),8.26(d,J=7.8Hz,1H),8.43−8.46(m,1H),8.66(d,J=7.8Hz,1H)
本参考例では、実施例2で合成したベンゾ[b]ナフト[1,2−d]チオフェン−6−ボロン酸を材料として下記構造式(400)で表される6−[3−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−ベンゾ[b]ナフト[1,2−d]チオフェン(略称:2mBntPPA)を合成する例を示す。
1H NMR(CDCl3,300MHz):δ=7.34(dd,J=7.2,3.0Hz,2H),7.45−8.07(m,26H),8.93(d,J=8.1Hz,1H),9.08(d,J=8.7Hz,1H)
Claims (6)
- 下記一般式(G1)で表される有機ホウ素化合物。
(ただし、一般式(G1)において、R1乃至R9はそれぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基又は炭素数6乃至16のアリール基のいずれかを表す。R10及びR11はそれぞれ独立に、水素又は炭素数1乃至6のアルキル基のいずれかを表し、R10及びR11は互いに結合して環を形成しても良い。また、Xは、酸素原子又は硫黄原子である。) - 下記一般式(a1)で表される化合物を、アルキルリチウム試薬及びホウ素試薬を用いて有機ホウ素化させることにより、下記一般式(G1)で表される有機ホウ素化合物を合成する有機ホウ素化合物の製造方法。
(ただし、一般式(a1)において、R 1 乃至R 9 はそれぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基又は炭素数6乃至16のアリール基のいずれかを表す。Xは、酸素原子又は硫黄原子である。また、一般式(G1)において、R1乃至R9はそれぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基又は炭素数6乃至16のアリール基のいずれかを表す。R10及びR11はそれぞれ独立に、水素又は炭素数1乃至6のアルキル基のいずれかを表し、R10及びR11は互いに結合して環を形成していても良い。また、Xは、酸素原子又は硫黄原子である。) - 下記一般式(G2)で表される有機ホウ素化合物。
(ただし、一般式(G2)において、R1乃至R9はそれぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基又は炭素数6乃至16のアリール基のいずれかを表す。R10及びR11はそれぞれ独立に、水素又は炭素数1乃至6のアルキル基を表し、R10及びR11は互いに結合して環を形成していても良い。) - 下記一般式(G3)で表される有機ホウ素化合物。
(ただし、一般式(G3)において、R1乃至R9はそれぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基又は炭素数6乃至16のアリール基のいずれかを表す。R10及びR11はそれぞれ独立に、水素又は炭素数1乃至6のアルキル基を表し、R10及びR11は互いに結合して環を形成していても良い。) - 下記構造式(100)で表される有機ホウ素化合物。
- 下記構造式(200)で表される有機ホウ素化合物。
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