JP5977690B2 - イオン発生装置 - Google Patents
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Description
図1は、実施形態1に係るイオン発生装置1の外観を模式的に示す斜視図である。イオン発生装置1は、誘電体からなる基板10と、正イオンを発生させる正イオン発生部12と、負イオンを発生させる負イオン発生部15と、天板20とから構成されている。
図5は、実施形態2に係るイオン発生装置2の外観を模式的に示す正面図であり、天板20の第1傾斜部21と第2傾斜部22の変形例を説明するものである。天板20を除く他の構成は、実施形態1と同じであるため、同じ参照符号を付記することにより詳細な説明は省略する。
図6は、実施形態3に係るイオン発生装置3であり、天板20の第1傾斜部21と第2傾斜部22に貫通穴24を設けた構成を説明するものである。貫通穴24を除く他の構成は、実施形態1と同じであるため、同じ参照符号を付記することにより詳細な説明は省略する。
2 イオン発生装置
3 イオン発生装置
10 基板
12 正イオン発生部
13 第1放電電極
14 第1誘導電極
15 負イオン発生部
16 第2放電電極
17 第2誘導電極
20 天板
21 第1傾斜部
22 第2傾斜部
24 貫通穴
30 中心位置
200 イオン発生装置
201 正放電針
202 負放電針
203 仕切り板
210 正イオン領域
220 負イオン領域
230 混在領域
Claims (3)
- 正イオンを発生する第1放電電極と、負イオンを発生する第2放電電極とを有するイオン発生装置であって、
前記第1放電電極及び前記第2放電電極の上方を覆う天板を設け、
前記天板は、
前記第1放電電極の近傍に配置され、前記第1放電電極から発生した正イオンを前記第2放電電極から遠ざける方向に移動させる第1傾斜部と、
前記第2放電電極の近傍に配置され、前記第2放電電極から発生した負イオンを前記第1放電電極から遠ざける方向に移動させる第2傾斜部を有することを特徴とするイオン発生装置。 - 前記第1傾斜部は、前記第1放電電極に対して前記第2放電電極から遠ざかる外側方向に天板位置が高くなるように傾斜し、
前記第2傾斜部は、前記第2放電電極に対して前記第1放電電極から遠ざかる外側方向に天板位置が高くなるように傾斜していることを特徴とする請求項1記載のイオン発生装置。 - 前記第1傾斜部は、前記第1放電電極に対して前記第2放電電極に近づく内側方向に天板位置が低くなるように傾斜し、
前記第2傾斜部は、前記第2放電電極に対して前記第1放電電極に近づく内側方向に天板位置が低くなるように傾斜していることを特徴とする請求項1記載のイオン発生装置。
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| JP2013043665A JP5977690B2 (ja) | 2013-03-06 | 2013-03-06 | イオン発生装置 |
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