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JP5986583B2 - 圧力逃し弁 - Google Patents
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JP5986583B2 - 圧力逃し弁 - Google Patents

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Description

本開示は、圧力逃し弁に関し、より詳細には、極低温応用での使用に適した圧力逃し弁に関する。
典型的には、圧力逃し弁は、例えば、プロセスの乱れ(process upset)、機器または設備の故障、または出火によって高められ得る系または容器内の圧力を制御または制限するために使用することができる。いくつかの例では、圧力逃し弁は、天然ガスを蒸留して純粋メタンに変える化学処理プラント、例えば、「メタナイザー」で使用することができる。このプロセスは、天然ガスからトルエンやエタンなどの不純物を除いて純粋メタンを提供する。蒸留は、天然ガスの断熱膨張によってなされる。加圧した天然ガスは、圧縮機に作用するようになされる。仕事を行うための圧力の減少は、温度の低下によって反映される。温度低下の種々の段階で、トルエンやエタンなどの種々の化合物が、蒸留を開始し、別個の入れ物に集められる。メタンは、天然ガスを構成するガスの中で最低の原子量を有するので、純粋メタンは、蒸留の最終段階で生じる。
メタナイザー(例えば、メタン)から来るプロセス流体は、液体の形態であり、プラントの他のところで使用することもでき、または液化天然ガス(「LNG」)として販売することもできる。安全逃し弁、すなわち圧力逃し弁は、メタナイザー出力または配管系内の他の任意の位置での過剰圧力から保護するために使用することができる。LNGの設備は、華氏−150度〜華氏−450度の範囲で動作することができる。
いくつかの例では、従来技術の圧力逃し弁からの早すぎる漏洩および/または望ましくない漏洩が、圧力逃し弁の入口へ流れる流体と弁内の環境条件の間の温度差のせいもあって生じ得る。そのような漏洩は、気付かれずにマイクロリークとして始まり得るが、マクロリークへの流れが増加し得ることになり、それによって弁が所望の圧力、そして系の封止を維持するのを妨げる。とても大きい温度差が、極低温稼働状態の弁で生じ得る。いくつかの例では、弁入口へ流れる流体と周囲の弁の状況との間の温度差は、華氏250度の範囲内であり得る。手短に図7Aおよび図7Bを参照すると、高温(例えば、蒸気)の応用に使用される従来技術の圧力逃し弁の通常の従来技術のディスク700の断面図が示されている。そのような従来技術のディスクは、50年以上の間、高温の応用で使用されてきた。ディスク700は、ディスク700の底面から延び、ディスク700の中心線に向かって向けられた唇部705を備える。図6は、非動作状態、すなわち、ディスク700が配置される弁を通じて高温流体が流れていない状態のディスク700を示す。高温流体が弁へ導かれ、弁を開くと、温度勾配(例えば、弁の出口での室温に比べての弁の入口での高温)が唇部705間に生じる。図7Bは、温度勾配、およびディスク700の熱特性による、唇部705の反りを示す。図示の通り、高温流体により、唇部705は、「X」方向に反れる。そのような反りは、マイクロリークおよび/またはマクロリークなどの漏洩に対して弁を封止する(すなわち、ディスクを弁のノズルに着座させる)のを助けることができる。
いくつかの例では、(図1A、図1Bおよび図1Cに示すような)ディスク135などの従来技術の圧力逃し弁のディスクは、そのような弁が極低温稼働状態に置かれるときにマイクロリークまたはマクロリークとなる。そのような従来技術の弁のディスクは、摩損も受け得る。場合によっては、摩損は、摺動する固体間に生じる圧力逃し弁の内面への表面損傷の形態である。典型的には、摩損は、微視的な(通常局所的な)粗化および内面上に隆起(すなわち、こぶ(lump))の形成によって引き起こされる損傷とは異なる。摩損は、極低温稼働状態で受ける温度差に起因して、圧力逃し弁が受ける漏洩を引き起こすまたは悪化させ得る。
したがって、上述の問題を解決する、極低温稼働時に使用される逃し弁用のディスクの特有な設計について長年にわたる切実な、満たされていない必要が存在している。
国際公開第91/14907号
いくつかの実施では、本開示のPRVは、ディスク−ノズルの組合せであって、プロセス流体の温度と環境条件の間の熱勾配によりディスクおよび/またはノズルの一部の反りによって、それを通じたプロセス流体の漏洩を最小化するおよび/または防ぐディスク−ノズルの組合せを含む。例えば、いくつかの実施では、PRVのディスクは、ディスクの外周面に配設した溝を備え、それによって(以下により十分に説明するように)ノズルを封止接触させるために、(半径方向にではなく、または半径方向に加えて)軸方向に反れる突出部(例えば、唇部)を形成することができる。さらに、いくつかの実施では、ノズルは、PRVの出口でのプロセス流体と環境条件の間の熱勾配に応じて、突起部が反ってディスクを封止接触させ、漏洩を最小化するおよび/または防ぐ突出部(例えば、突起部)を形成するために、ノズルの外周表面に配設した切り込みを備えてもよい。
本開示による圧力逃し弁(PRV)の様々な実施は、極低温稼働時の弁について長年にわたる切実な、満たされていなかった必要を満たす。本開示のPRVは、以下の特徴のうちの1つまたは複数を含むことができる。例えば、PRVは、弁の極低温稼働中の漏洩を防ぐまたは最小化するのを助けることができる。いくつかの実施では、PRVは、極低温稼働中の使用時の弁の第1の開口(または「ポップ(pop)」)の後のそのような漏洩を防ぐまたは最小化するのを助けることができる。別の例として、PRVは、多様な極低温稼働および流体温度で使用することができ、一方、弁を通じて循環するプロセス流体と弁における室温条件(例えば、PRVの出口側の温度)との間の温度差によって少なくとも一部引き起こされる弁を通じての漏洩の最小化するおよび/または防ぐ。別の例として、PRVは、弁の極低温稼働中の設定気密度を最大にすることができる。PRVは、弁のディスクおよび/またはノズルに用いられる材料の熱特性を利用して、極低温稼働中の弁の漏洩を最小化するおよび/または防ぐこともできる。例えば、PRVは、ディスクおよび/またはノズル間の熱勾配によって引き起こされる材料の反りを利用して、このディスクとノズルの間の漏洩を最小化するおよび/または防ぐことができる。場合によっては、PRVは、ディスクとノズルの間の漏洩を最小化するおよび/または防ぐために、ディスクおよび/またはノズルの幾何形状に関する熱特性を利用することができる。例えば、PRVを通じたプロセス流体の漏洩を最小化するおよび/または防ぐために、PRVの1つまたは複数の構成要素は、半径方向に反れるのではなく、軸方向に反れて、内部を通じての流体の流れに対してPRVを封止接触させ、閉じることができる。
これらの一般的および特定の態様は、装置、システムまたは方法、あるいは装置、システムまたは方法の任意の組合せを用いて実施することができる。1つまたは複数の実施の詳細は、添付図面および以下の説明に記載されている。他の特徴、目的、および利点は、添付図面および特許請求の範囲から明らかになろう。
従来技術の極低温ディスクを備える従来技術の圧力逃し弁(PRV)の断面図である。 図1AのPRVの斜視断面図である。 PRVのノズルがPRVの基部と一体になっている、図1AのPRVの代替の実施形態である。 図1Cの拡大部分図である。 極低温稼働のために用いられる図1A、図1Bおよび図1Cの従来技術のディスクの拡大断面図である。 本開示によるPRVのある実施に使用されるディスクの断面図である。 本開示によるPRVのある実施に使用されるディスクの断面図である。 本開示によるPRVのある実施に使用される、図3Aおよび図3Bのディスクとノズルの組合せの拡大断面図である。 本開示によるPRVのある実施に使用されるディスクの別の実施形態の断面図である。 本開示によるPRVのある実施に使用されるディスクの別の実施形態の断面図である。 高温流体(例えば、蒸気)稼働用のPRVに使用される従来技術のサーモディスクとノズルの組合せの拡大断面図である。 高温流体(例えば、蒸気)稼働用の図1A、図1Bおよび図1CのPRVに使用される従来技術のサーモディスクの図である。 高温流体(例えば、蒸気)稼働用の図1A、図1Bおよび図1CのPRVに使用される従来技術のサーモディスクの図である。
次に図面を参照する。同じ参照符号は、各図を通じて同じまたは類似の部分を示す。
配管系または圧力容器などの系内の流体(例えば、気体、液体、または多相流体)が、流体の流体圧力が所定の閾値を超えるときにPRVを動作させることによって逃されることを可能にする本開示による圧力逃し弁(PRV)は、ディスクと、ディスクホルダと、ノズルと、おもり−ばね−ダンパ系とを備え得る。いくつかの実施形態では、PRVは、PRVへ循環するプロセス流体がPRVの出口で環境条件より低い温度である極低温稼働のために用いることができる。本開示に用いられるとき「極低温稼働」は、PRVへ循環するプロセス流体の温度が、以下の温度範囲、華氏−21〜−75度(例えば、プロセス流体としてプロパン)、華氏−76〜−150度(例えば、プロセス流体としてエチレン)、および華氏−151〜−450度(例えば、プロセス流体として、液化天然ガス「LNG」、液体窒素、液体水素、または液体ヘリウム)のうちの1つの範囲内である応用例を指す。代替として、用語「極低温稼働」は、前述のプロセス流体と他のプロセス流体の組合せについての他の温度範囲、例えば0〜−50°F、−50〜−150°F、および−150〜−450°Fなどを指し得る。
図1A〜図1Bは、従来技術の圧力逃し弁(PRV)100のある実施の断面図を示す。図1Cは、基部105と一体になっている代替のノズル121を有する圧力逃し弁(PRV)1000の別の実施の断面図を示す。ここで図1A、図1Bおよび図1Cを参照すると、PRV100(および1000:以下、便宜のために、PRV100と呼ばれる)は、系内の圧力を逃すために、入口110でおよび入口110を通じて流体101(例えば、気体もしく液体または多相流体)を受け取り、PRV100の出口115へおよび出口115を通じて流体101を誘導する。例えば、PRV100は、典型的には、配管系内または導管系内の圧力容器、熱交換器、機械設備(例えば、圧縮機、タービン等)などの構成要素と流体連通し、プロセスの乱れ、機器または設備の故障、または出火、あるいは他の出来事によって高められ得るそうした容器、熱交換器、および/または設備を含むそのような系内の圧力を制御または制限するために使用することができる。圧力は、加圧流体が所定の圧力設定点で入口110から出口115を通じて流れることを可能にすることによって、PRV100の動作を通じて逃される。例えば、PRV100は、圧力容器および他の設備がそれらの設計限界を超える圧力を受けることを保護するために、所定の設定圧力で開くように設計または設定することができる。
プロセス流体101は、極低温稼働時に利用されるいくつかの流体のうちの1つとすることができる。例えば、流体101は、メタン、プロパン、エチレン、LNG、液体窒素、またはそれらの任意の組合せ、あるいは他の流体であってもよい。いずれにしても、入口110を通じて流れる流体101の温度は、出口115での室温条件よりかなり低いものであり得る。典型的には、室温は50〜90°Fである。
PRV100は、ノズル120を少なくとも部分的に囲む基部105を備え(または代替として、PRV1000は、一体ノズル121(図1C参照)を備える基部105を備え)、基部105は、ディスク135およびディスクホルダ140、ならびに適宜、調整リング125も囲む。基部105は、PRV100の入口110でノズル120を(例えば、ねじ止め、または溶接、または一体化して)受け入れ、例示の実施形態の図1Aおよび図1Bでは、出口115でのフランジ接続を含む。ノズル120(または121)は、一般に、PRV100の開いたポジションと閉じたポジションの両方において流体101といつも接触している圧力格納構成要素であり得る(ノズル120または121は、当業界ではシートまたはシートブッシングと呼ばれる場合もあり得ることに留意されたい)。
基部105は、入口110にフランジ接続を含むこともでき、または代替として、入口110および出口115の一方または両方で他の接続機構(例えば、溝付きパイプ接続、突き合わせ溶接、または他のやり方)を含んでもよい。いくつかの実施形態では、例えば、入口110に比べて出口115での流体101の流体圧力が減少するので、出口115に隣接した基部105の一部は、入口110に隣接した基部105の一部より低い圧力定格を有し得る。
PRV100は、止めナット185、調整ねじ175、ばね座金170、ばね165、およびスピンドルヘッド155の1つまたは複数によってねじ係合されるスピンドル160を(少なくとも部分的に)囲むキャップ180およびボンネット145も含む。概して、ボンネット145は、一端で(例えば、1つまたは複数のボルトおよびロックナットによって、またはねじによって)基部105に機械的に連結され、一方、キャップ180は、第2の端部でボンネット145に(例えば、ねじで)機械的に連結される。調整ねじ175は、止めナット185を介してボンネット145に厳密に連結され、スピンドル160が、PRV100の動作中にキャップ180およびボンネット145内で垂直に振動することをガイド式に可能にする。
PRV100は、ディスクホルダ140の少なくとも一部を内部を通じて受け入れるガイド150も備える。典型的には、ディスク135、ディスクホルダ140、ばね座金(または座金)170、スピンドル160、スピンドルヘッド155、およびばね165は、流体101がノズル120を通じてディスク135に接触するときに流体101によって加えられる流体力に応答するように働く「おもり−ばね−ダンパ」系も備える。ディスクホルダ140は、ディスクホルダ140からスピンドルヘッド155へ、したがってばね座金170およびばね165へ力が伝達できるように、スピンドルヘッド155を受け入れて係合するための上端に受容穴を備える。例えば、ばね165のばね力より大きい上向きの流体力が、ディスク135に加えられる(したがって、ディスクホルダ140、スピンドルヘッド155、およびばね座金170を介してばね165へ伝達される)とき、ばね165は、圧縮することができ、それによってスピンドル160を調整ねじ175を介して上方へ促す。同様に、ばね165のばね力が流体力より大きいとき、ばね165は拡大し、それによってスピンドル160(ならびにスピンドルヘッド155、ディスクホルダ140、およびディスク135)を下向きに促す。
図1Aおよび図1Bに示すPRV100の本実施形態では、調整リング125は、ノズル120の上部に(例えば、ねじで)係合される。典型的には、調整リング125は、ノズル120上でリング125をねじ込んだり緩めたりすることによってノズル120上で上方および/または下方に調整することができる。ノズル120の上端に対する調整リング125の位置(すなわち、高さ)を調整することによって、ブローダウン圧力、または再着座圧力(blowdown,or reseating pressure)も、調整することができる。例えば、調整リング125が上方に動くとき、ブローダウンが増大し、それによって再着座圧力を下げる。代替として、調整リング125が下方に動くとき、ブローダウンが減少し、それによって再着座圧力を上昇させる。いくつかの実施形態では、調整リング125、およびしたがってPRV100は、PRV100を稼働状態におく前の所定のポジションに予め設定することができる。そのような実施形態では、必要なリフトおよび解放の能力を達成するために、調整リング125が適切に設定されたことを確かめるように、予めの設定によって、稼働中のPRV100の「ポッピング」の必要性(すなわち、ディスクおよび/またはディスクホルダのリフトがかなり得られるようにPRV100に設定圧力を適用すること)を減少させる。
図1Aおよび図1Bに示す実施形態では、リングピン130は、基部105の外側にある位置から基部105を通じて延び、ノズル120上のある一定の位置(例えば、垂直ポジション)に調整リング125を固定するように働く。リングピン130が、基部105から回転式に取り出されるまたは一部取り出されるとき、調整リング125は、調整(すなわち、上方または下方へ移動)することができる。例えば、調整リング125は、リング125の外面の周りに円周方向に配置される複数の垂直な溝を有してもよい。いくつかの実施形態では、調整リング125は30個の溝を有し、代替として、調整リング125は、いくつかまたはそれ以上の溝(例えば、16、42または他の個数の溝)を有してもよい。リングピン130は、(例えば、2つの溝の間の山と谷の間のおよそ途中まで)溝内に嵌まるように構成された尖った先端を含み、ノズル120周りに調整リング125を回転することによってノズル120に沿って調整リング125が垂直移動することを実質的に防ぐ。例えば、30個の溝を含む調整リング125のある実施では、隣接した溝間のリングピン130の調整によって、調整リング125の約12度の回転を可能にすることができ、それによって調整リング125はノズル120に沿って約2/1000インチの垂直位置に変わる。
図1Aおよび図1Bに示すように、PRV100は、ディスク135がノズル120に「着座」している場合、「閉じた」状態にある。(同じようにして、PRV1000は、図1Cおよび図1D中で閉じた状態で示される)。閉じた状態では、入口110からPRV100の出口115への流体101の流れは、妨げられる、または実質的に妨げられ得る。しかし、いくつかの例では、(例えば、図2に示す)PRV100が開いた状態から閉じた状態へ促されるときなど、PRV100は、少量の流れの流体101が、入口110から出口115へ生じるように漏洩することができる。いくらかの例では、PRV100の極低温稼働中などに、熱勾配が、ディスク135および/またはノズル120間に生じ得る。例えば、熱勾配は、ノズル120、例えば「シート」に接触するディスク135の一部の間に生じ得る。ディスクおよび/またはノズル間のそのような熱勾配は、これらの構成要素の一方または両方の熱による反りを引き起こすことができ、それによって漏洩を悪化させる(またはディスクがノズルに着座するのを妨げる)。この熱による反りは、例えば、(例えば、弁の垂直中心線から半径方向外側への)ディスクの半径方向の反りを引き起こし、それによってディスクとノズルの間の間隙を増大させ得る。間隙は、漏洩中に流体101が出口115へ流れることを可能にし得る。
従来技術のディスクを使用するPRVにおける漏洩に関する問題を解決するために、出願人は、(すなわち、図4に示すようなPRV100によって定義される中心線10と平行で垂直方向に)互いに向かって軸方向に熱により反らすための従来技術のPRV100に用いるディスク200および/またはノズル300を発明し、本明細書に開示した。例えば、いくつかの実施形態では、以下に説明するように、ディスク200の少なくとも一部が、ノズル300のシート119に向かって軸方向に反れることができ、それによってPRV100を閉じまたは実質的に閉じて、極低温稼働時に流体101が入口110から出口115へ流れるのを妨げるまたは実質的に妨げる。さらに、いくつかの実施形態では、ノズル300の一部は、ディスク300に向かって軸方向に反れて、PRV100を閉じるのを助けることができる。
図3Aおよび図3Bは、本開示のPRV100に使用できるディスク200の断面図を示す。ディスク200は、本体210、唇部215、溝リング220、および溝カット225を有する。特に図3Bに示すように、いくつかの実施形態では、ディスク200の少なくとも一部は、唇部215間の熱勾配に応じて例示の方向「Z」に軸方向に反れることができる。例えば、ディスク200が、極低温稼働中にPRV100に利用されるとき、PRV100の入口110と出口115の間の熱勾配が、ディスク200の唇部215間に生じ得る。いくつかの実施形態では、熱勾配は、PRVの入口110での流体101の温度とPRVの出口115での室温との間の差に応じ得る。図3Bに示すように、ポジションP1は、熱勾配により反れていないときのディスク200の一実施形態の構成を示す。ポジションP2は、ディスク200を横切る勾配による反れたポジションを示す。点線は、近似された反れたポジションP2を示す。反りの量は、熱勾配およびディスク200の構成に応じて変わる。
例示の実施形態では、溝リング220は、ディスク200の半径方向の外面230の周囲の本体210中の円周状の凹所であり得る。さらに、ディスク200の例示の実施形態では、溝カット225が、本体210の底面に形成されてもよい。ディスク200の本体210に溝リング220および溝カット225を形成する際、唇部215は、熱勾配に応じて本体210から離れるように延びるように構成されてもよい。
ディスク200の例示の実施形態では、溝リング220および溝カット225は、ディスク200の本体210のサーマルマスを最小化するおよび/または低減させることができる。例えば、唇部215のあたりのサーマルマスを最小化するために、溝リング220および溝カット225をディスク200の本体210に形成することによって、サーマルマスを取り除くことができる。いくつかの実施形態では、このサーマルマスの最小化は、例えば、本体210の他の部分ではなく唇部215間の熱勾配を誘導および/または制限することができる。溝リング220および/または溝カット225によるサーマルマスの減少によって、本体210の半径方向(例えば、外面230に向かって半径方向)に熱による反りを最小化および/または防止することができる。溝カット225は、軸方向の熱的に引き起こされた反りを増加させる唇部におけるディスクの断面係数も減少させる。したがって、図3Bに示すように、熱による反りは、「Z」方向に制限または誘導され、ノズル(ここでは図示せず)に向かってほぼ軸方向に唇部215を反らすことができる。ほぼ軸方向「Z」に熱勾配によるディスク200の熱による反りを制限および/または誘導することによって、唇部215は、ノズルに接触するように促されて、入口110から出口115への流体101の漏洩に対してPRV100を閉じるまたは実質的閉じることができる。
いくつかの実施形態では、ディスク200の全部または一部は、比較的高い熱膨張係数を有する材料から製造することができる。例えば、いくつかの実施形態では、ディスク200は、316ステンレス鋼から作製することができる。代替として、他の実施形態では、ディスク200は、Inconel(登録商標)X−750、またはIncoloy(登録商標)903、Incoloy(登録商標)907、Incoloy(登録商標)909、Inconel(登録商標)X−783などの別の合金、あるいは比較的高い熱膨張係数を有する極低温応用に適した他の(一種または複数種の)合金から作製することができる。
図4は、PRV100のある実施に使用されるディスクとノズルの組合せの断面図を示す。図示の通り、ディスク200は、入口110からPRV100の出口115への流体101の流れを調節するために、PRV100においてノズル300と組み合わせて使用することができる。例示の実施形態では、ノズル300は、ノズル300の上面(すなわち、シート119)に形成した突起部305を備える。突起部305は、例えば、ノズル300の外面315に凹所を形成して半径方向の切り込み310を形成することによって、PRV100の中心線10に向かって半径方向に突出するようにノズル300に形成することができる。
突起部305を備えるノズル300のいくつかの実施形態では、PRV100の入口110と出口115の間の熱勾配は、突起部305を横切って受け得る。半径方向の切り込み310は、シート119でノズル300のサーマルマスを最小化するおよび/または減少させることができる。例えば、突起部305あたりのサーマルマスを最小化するために、半径方向の切り込み310を形成することによって、サーマルマスを取り除くことができる。いくつかの実施形態では、このサーマルマスの最小化は、例えば、内面315と外面320の間のシート119の全厚さではなく突起部305間の熱勾配を誘導および/または制限することができる。半径方向の切り込み310によるサーマルマスおよび断面係数の減少によって、シート119の半径方向(例えば、内面315に向かって半径方向)に熱による反りを最小化および/または防止することができる。したがって、熱による反りは、軸方向に制限または誘導され、ディスク200に向かって突起部305を反らすことができる。軸方向の熱勾配による突起部305の熱による反りを制限および/または誘導することによって、突起部305は、ディスク200に接触するように促されて、入口110から出口115への流体101の漏洩に対してPRV100を閉じるまたは実質的閉じることができる。
いくつかの実施形態では、ノズル300は、比較的高い熱膨張係数を有する材料から製造することができる。例えば、いくつかの実施形態では、ノズル300は、316ステンレス鋼から作製することができる。代替として、他の実施形態では、ノズル300は、Inconel(登録商標)X−750、またはIncoloy(登録商標)903、Incoloy(登録商標)907、Incoloy(登録商標)909、Inconel(登録商標)X−783などの別の合金、あるいは比較的高い熱膨張係数を有する極低温応用に適した他の(一種または複数種の)合金から作製することができる。
図5Aおよび図5Bは、本開示のPRV100に使用できるディスク400の断面図を示す。ディスク400は、本体410、唇部415、および溝リング420を有する。特に図5Bに示すように、いくつかの実施形態では、ディスク400の少なくとも一部は、唇部415間の熱勾配に応じて例示の方向「Z」に軸方向に反れる可能性がある。例えば、極低温稼働中にディスク400がPRV100に利用されるとき、PRV100の入口110と出口115の間の熱勾配は、ディスク400の唇部415を横切って受け得る。いくつかの実施形態では、熱勾配は、PRVの入口110での流体101の温度とPRVの出口115での室温との間の差であり得る。図5Bに示すように、ポジションP1は、熱勾配により反れていないときのディスク400の一実施形態の構成を示す。ポジションP2は、ディスク400を横切る熱勾配による反れたポジションを示す。点線は、近似された反れたポジションP2を示す。反りの量は、熱勾配およびディスク400の構成に応じて変わる。
例示の実施形態では、溝リング420は、ディスク400の半径方向の外面430の周囲の本体410中の円周状の凹所であり得る。(図3Aに示される)ディスク200に比べて、ディスク400は、ディスク400の底面に形成される溝カットを有さなくてもよい。ディスク400の本体410に溝リング420を形成する際、唇部415は、熱勾配に応じて本体410から離れるように反れるように形成することができる。
ディスク400の例示の実施形態では、溝リング420は、ディスク400の本体410のサーマルマスを最小化するおよび/または減少させることができる。例えば、唇部415のあたりのサーマルマスを最小化するために、溝リング420をディスク400の本体410に形成することによって、サーマルマスを取り除くことができる。いくつかの実施形態では、このサーマルマスの最小化は、例えば、本体410の他の部分(例えば、本体410の半径方向の全厚さ)ではなく唇部415を横切って熱勾配を誘導および/または制限することができる。溝リング420によるサーマルマスの減少によって、本体415の半径方向(例えば、外面430に向かって半径方向)に熱による反りを最小化および/または防止することができる。したがって、図5Bに示すように、熱による反りは、「Z」方向に制限または誘導され、ノズル(ここでは図示せず)に向かってほぼ軸方向に唇部415を反らすことができる。ほぼ軸方向「Z」に熱勾配によるディスク400の熱による反りを制限および/または誘導することによって、唇部415は、ノズルに接触するように促されて、入口110から出口115への流体101の漏洩に対してPRV100を閉じるまたは実質的閉じることができる。
以下、通常の従来技術のディスクに対する改善(%)として、図3Aおよび図3Bのディスク200に関する出願人のテストのデータを要約する。
改善率は、標準的な状態に対する極低温状態の漏洩圧力/設定圧力の比の改善として計算される。
PRV100の様々な実施形態は、ディスク−ノズルの組合せを変えることを含んでもよい。例えば、ディスク200は、図4に示すように、ノズル300と組み合わされてもよい。さらに、ディスク400は、ノズル300と組み合わされてもよい。別の例として、ディスク200は、ノズル120などの従来のノズルと組み合わされてもよく、これは、いくつかの実施形態では、半径方向の切り込み310および/または突起部305を含まないものであり得る。別の例として、ディスク400は、ノズル120と組み合わされてもよい。さらに別の例として、ノズル300は、溝カット、溝リング、または唇部(これらのディスクの構成要素は、本開示に示されている)を含まないものであり得る従来のディスクと組み合わされてもよい。
異なる組合せによって、PRV100の様々な動作を実現することができる。例えば、唇部215および突起部305を横切った熱勾配による軸方向の熱による反りが、ディスク200およびノズル300を封止接触に促すことができるので、ディスク200とノズル300の組合せは、唇部215と突起部305の間の最高の封止接触を実現することができる。したがって、本開示は、例えば、流体101の温度および/またはPRV100が使用される極低温稼働も応じてPRVのディスク、ノズル、および他の構成要素の様々な構成要素を有する多くの異なる実施形態を意図する。
いくつかの実施を説明してきた。それでも、様々な修正がなされ得ることが理解されよう。例えば、ディスク200および/または400の外面における溝リング220および/または420の凹所は、半球形、正方形、またはV形である断面プロファイルを有してもよい。したがって、他の実施は、添付の特許請求の範囲内にある。
10 中心線
100 圧力逃し弁(PRV)
101 流体、プロセス流体
105 基部
110 入口
115 出口
119 シート
120 ノズル
121 代替のノズル、一体ノズル、ノズル
125 調整リング、リング
130 リングピン
135 ディスク
140 ディスクホルダ
145 ボンネット
150 ガイド
155 スピンドルヘッド
160 スピンドル
165 ばね
170 ばね座金(または座金)
175 調整ねじ
180 キャップ
185 止めナット
200 ディスク
210 本体
215 唇部
220 溝リング
225 溝カット
230 半径方向の外面、外面
300 ノズル
305 突起部
310 半径方向の 切り込み
315 外面、内面
320 外面
400 ディスク
410 本体
415 唇部
420 溝リング
430 半径方向の外面、外面
700 ディスク
705 唇部
1000 圧力逃し弁(PRV)

Claims (35)

  1. 極低温稼働用の圧力逃し弁であって、
    流体入口および流体出口を有する基部と、
    前記基部に取り付けられるボンネットであって、前記基部および前記ボンネットが、前記流体入口および前記流体出口と流体連通する内部空洞を画定する、ボンネットと、
    前記流体入口内に配置されると共に前記基部に取り付けられ、ほぼ環状のシートを有するノズルと、
    前記内部空洞に配置されるディスクホルダと、
    前記ディスクホルダの近位端内に配置され、ほぼ円筒形の本体および外側に配置した唇部を備える閉鎖ディスクであって、
    前記ほぼ円筒形の本体が、前記ディスクホルダの遠位端および下部に受け入れられるようになされる上部と、
    前記円筒形の本体の半径方向の外面に形成した溝を備える前記下部と、
    前記溝の内面の一部を構成する上面、および前記ノズルの前記環状のシートに近接して配置された下側閉鎖面を有する、外側に配置した唇部と、
    を備え、
    前記閉鎖ディスクの前記唇部が、前記下側閉鎖面を、前記唇部を横切って加えられる極低温の熱勾配に応じて、前記環状のシートに対して下方かつ径方向内側に反らし、
    前記極低温の熱勾配は、前記唇部の前記下側閉鎖面と前記ノズルの前記環状のシートとの間を流れる極低温流体流によって生成され、
    前記極低温の熱勾配を受けるとき、前記下側閉鎖面の前記下方かつ径方向内側の反りによって、前記下側閉鎖面が、前記ノズルの前記環状のシートと接触し、かつ前記弁を実質的に閉じる、
    弁。
  2. 前記ディスクが、前記本体の前記外面と同心の前記円筒形の本体の下面に形成される凹所をさらに含む、請求項1に記載の弁。
  3. 前記ノズルが、
    前記ノズルの外側円筒面に半径方向に形成されるノズルの溝と、
    前記ノズルの溝の外面の一部を含む下側突起面、および前記ノズルの前記シートを含む上側突起面を有する外側に配置した突起部と、
    をさらに備え、
    前記極低温の熱勾配を受けるとき、前記下方内側に反れる唇部の前記下側閉鎖面が、ノズルの前記上側突起面に接触し、前記弁を実質的に閉じる、
    請求項1に記載の弁。
  4. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−21°Fから約−75°Fの間である、請求項1に記載の弁。
  5. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−76°Fから約−150°Fの間である、請求項1に記載の弁。
  6. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−151°Fから約−450°Fである、請求項1に記載の弁。
  7. 前記流体入口での前記流体の温度が、約0°Fから約−50°Fの間である、請求項1に記載の弁。
  8. 前記ディスクは、316ステンレス鋼、Inconel(登録商標)X−750、Incoloy(登録商標)903、Incoloy(登録商標)907、Incoloy(登録商標)909、およびInconel(登録商標)X−783からなる群から選択される材料を含む、請求項1に記載の弁。
  9. 前記閉鎖ディスクが、前記ディスクホルダに脱着可能に接続される、請求項1に記載の弁。
  10. 極低温稼働用の圧力逃し弁であって、
    流体入口および流体出口を有する基部と、
    前記基部に取り付けられるボンネットであって、前記基部および前記ボンネットが、前記流体入口および前記流体出口と流体連通する内部空洞を画定する、ボンネットと、
    前記流体入口内に配置されると共に前記基部に取り付けられるノズルであって、ノズルの溝が前記ノズルの外側円筒面に半径方向に形成され、外側に配置した突起部が前記ノズルの溝の内面の一部を含む下側突起面を有し、上側突起面が前記ノズルの環状のシートを形成する、ノズルと、
    前記内部空洞に配置されるディスクホルダと、
    前記ディスクホルダの近位端内に配置される閉鎖ディスクであって、前記ディスクホルダの遠位端に受け入れられるようになされる上部、および下側閉鎖面を有する下部を有するほぼ円筒形の本体を備える閉鎖ディスクと、
    を備え、
    前記ノズルの前記突起部が、前記環状のシートを、前記突起部を横切って加えられる極低温の熱勾配に応じて、上方かつ径方向内側に反らし、
    前記極低温の熱勾配は、前記ディスクの前記下側閉鎖面と前記ノズルの前記環状のシートの間を流れる極低温流体流によって生成され、
    前記極低温の熱勾配を受けるとき、前記環状のシートの前記上方かつ径方向内側の反りによって、前記環状のシートが、前記ノズルの前記下側閉鎖面と接触し、かつ前記弁を実質的に閉じる、
    弁。
  11. 前記ディスクが、本体の外面と同心の前記円筒形の本体の下面に形成される凹所をさらに含む、請求項10に記載の弁。
  12. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−21°Fから約−75°Fの間である、請求項10に記載の弁。
  13. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−76°Fから約−150°Fの間である、請求項10に記載の弁。
  14. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−151°Fから約−450°Fである、請求項10に記載の弁。
  15. 前記流体入口での前記流体の温度が、約0°Fから約−50°Fの間である、請求項10に記載の弁。
  16. 前記ノズルは、316ステンレス鋼、Inconel(登録商標)X−750、Incoloy(登録商標)903、Incoloy(登録商標)907、Incoloy(登録商標)909、およびInconel(登録商標)X−783からなる群から選択される材料を含む、請求項10に記載の弁。
  17. 前記ノズルが、前記基部に脱着可能に接続される、請求項10に記載の弁。
  18. 前記ノズルが、前記基部と一体になっている、請求項10に記載の弁。
  19. 極低温稼働用の圧力逃し弁であって、
    流体入口および流体出口を有する基部と、
    前記基部に取り付けられるボンネットであって、前記基部および前記ボンネットが、前記流体入口および前記流体出口と流体連通する内部空洞を画定する、ボンネットと、
    前記流体入口内に配置されると共に前記基部に取り付けられるノズルであって、ノズルの溝が前記ノズルの外側円筒面に半径方向に形成され、外側に配置した突起部が、前記ノズルの溝の外面の一部を含む下側突起面、および前記ノズルの環状シートを形成する上側突起面を有しており、前記ノズルの前記突起部が、前記環状のシートを、前記突起部を横切って加えられる極低温の熱勾配に応じて、上方かつ径方向内側に反らせ、前記極低温の熱勾配は、閉鎖ディスクの下側閉鎖面と前記ノズルの前記環状のシートとの間を流れる極低温流体流によって生成される、ノズルと、
    前記内部空洞に配置されるディスクホルダと、
    前記ディスクホルダの近位端内に配置され、ほぼ円筒形の本体および外側に配置した唇部を備える前記閉鎖ディスクであって、前記ほぼ円筒形の本体が、
    前記ディスクホルダの遠位端および下部に受け入れられるようになされる上部と、
    前記円筒形の本体の半径方向の外面に形成した溝を備える前記下部と、
    前記溝の内面の一部を構成する上面、および前記ノズルの前記環状のシートに近接して配置された前記下側閉鎖面を有する、外側に配置した唇部と、
    を備え、
    前記閉鎖ディスクの前記唇部が、前記下側閉鎖面を、前記唇部を横切って加えられる極低温の熱勾配に応じて、前記環状のシートに対して下方かつ径方向内側に反らし、
    前記極低温の熱勾配は、前記唇部の前記下側閉鎖面と前記ノズルの前記環状のシートとを横切って流れる極低温流体流によって生成され、
    前記唇部および突起部が前記極低温の熱勾配を受けるとき、前記下側閉鎖面の前記下方かつ径方向内側の反り、および前記環状のシートの前記上方かつ径方向内側の反りによって、前記下側閉鎖面が前記環状のシートと接触し、かつ前記弁を実質的に閉じる、
    弁。
  20. 前記閉鎖ディスクが、前記本体の前記外面と同心の前記円筒形の本体の下面に形成される凹所をさらに含む、請求項19に記載の弁。
  21. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−21°Fから約−75°Fの間である、請求項19に記載の弁。
  22. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−76°Fから約−150°Fの間である、請求項19に記載の弁。
  23. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−151°Fから約−450°Fである、請求項19に記載の弁。
  24. 前記流体入口での前記流体の温度が、約0°Fから約−50°Fの間である、請求項19に記載の弁。
  25. 極低温プロセス流体を調節する方法であって、
    流体入口および流体出口を有する基部、
    前記基部に取り付けられるボンネットであって、前記基部および前記ボンネットが、前記流体入口および前記流体出口と流体連通する内部空洞を画定する、ボンネット、
    記流体入口内に配置されると共に前記基部に取り付けられ、ほぼ環状のシートを有するノズル、
    前記内部空洞に配置されるディスクホルダ、ならびに
    前記ディスクホルダの近位端内に配置され、ほぼ円筒形の本体および外側に配置した唇部を備える閉鎖ディスクであって、前記ほぼ円筒形の本体が、
    前記ディスクホルダの遠位端および下部に受け入れられるようになされる上部と、
    前記円筒形の本体の半径方向の外面に形成した溝を備える前記下部と、
    前記溝の内面の一部を構成する上面、および前記ノズルの前記環状のシートに近接して配置された下側閉鎖面を有する、外側に配置した唇部と、
    を有し、
    前記外側に配置した唇部が前記溝の内面の一部を構成する上面を有し、前記閉鎖ディスクの前記唇部が下側閉鎖面を有する、閉鎖ディスク
    を有する圧力逃し弁を用意するステップと、
    前記流体出口を室温に曝すステップと、
    前記室温よりかなり低いバルク温度を有する極低温プロセス流体を前記流体入口へ、そして前記ノズルを通じて供給するステップと、
    前記流体入口から前記流体出口へ前記極低温プロセス流体の流体連通を可能にするように前記弁を開くステップと、
    前記流体入口から前記流体出口への前記極低温プロセス流体の流体連通を妨げるまたは実質的に妨げるように前記弁を閉じるステップと、
    を含み、
    前記閉鎖ディスクの前記唇部が、前記下側閉鎖面を、前記唇部を横切って加えられる極低温の熱勾配に応じて、前記環状のシートに対して下方かつ径方向内側に反らし、
    前記極低温の熱勾配は、前記唇部の前記下側閉鎖面と前記ノズルの前記環状のシートとの間を流れる極低温流体流によって生成され、
    前記極低温の熱勾配を受けるとき、前記下側閉鎖面の前記下方かつ径方向内側の反りによって、前記下側閉鎖面が、前記環状のシートと接触し、かつ前記弁を実質的に閉じる、
    方法。
  26. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−21°Fから約−75°Fの間である、請求項25に記載の方法。
  27. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−76°Fから約−150°Fの間である、請求項25に記載の方法。
  28. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−151°Fから約−450°Fである、請求項25に記載の方法。
  29. 前記流体入口での前記流体の温度が、約0°Fから約−50°Fの間である、請求項25に記載の方法。
  30. 極低温プロセス流体を調節する方法であって、
    流体入口および流体出口を有する基部、
    前記基部に取り付けられるボンネットであって、前記基部および前記ボンネットが、前記流体入口および前記流体出口と流体連通する内部空洞を画定する、ボンネット、
    前記流体入口内に配置されると共に前記基部に取り付けられるノズルであって、ノズルの溝が前記ノズルの外側円筒面に半径方向に形成され、外側に配置した突起部が前記ノズルの溝の内面の一部を含む下側突起面を有し、上側突起面が前記ノズルの環状のシートを形成する、ノズル、
    前記内部空洞に配置されるディスクホルダ、ならびに
    前記ディスクホルダの近位端内に配置される閉鎖ディスクであって、前記ディスクホルダの遠位端に受け入れられるようになされる上部、および下側閉鎖面を有する下部を有するほぼ円筒形の本体を備える閉鎖ディスク
    を有する圧力逃し弁を用意するステップと、
    前記流体出口を室温に曝すステップと、
    前記室温よりかなり低いバルク温度を有する極低温プロセス流体を前記流体入口へ、そして前記ノズルを通じて供給するステップと、
    前記流体入口から前記流体出口へ前記極低温プロセス流体の流体連通を可能にするように前記弁を開くステップと、
    前記流体入口から前記流体出口への前記極低温プロセス流体の流体連通を妨げるまたは実質的に妨げるように前記弁を閉じるステップと、
    を含み、
    前記ノズルの前記突起部が、前記環状のシートを、前記突起部を横切って加えられる極低温の熱勾配に応じて、上方かつ径方向内側に反らし、
    前記極低温の熱勾配は、前記ディスクの前記下側閉鎖面と前記ノズルの前記環状のシートの間を流れる極低温流体流によって生成され、
    前記極低温の熱勾配を受けるとき、前記環状のシートの前記上方かつ径方向内側の反りによって、前記環状のシートが、前記ノズルの前記下側閉鎖面と接触し、かつ前記弁を実質的に閉じる、
    方法。
  31. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−21°Fから約−75°Fの間である、請求項30に記載の方法。
  32. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−76°Fから約−150°Fの間である、請求項30に記載の方法。
  33. 前記流体入口での前記流体の温度が、約−151°Fから約−450°Fである、請求項30に記載の方法。
  34. 前記流体入口での前記流体の温度が、約0°Fから約−50°Fの間である、請求項30に記載の方法。
  35. 極低温プロセス流体を調節する方法であって、
    流体入口および流体出口を有する基部、
    前記基部に取り付けられるボンネットであって、前記基部および前記ボンネットが、前記流体入口および前記流体出口と流体連通する内部空洞を画定する、ボンネット、
    前記流体入口内に配置されると共に前記基部に取り付けられるノズルであって、
    ほぼ環状のシートと、
    前記ノズルの外側円筒面に半径方向に形成されたノズルの溝と、
    前記ノズルの溝の外面の一部を含む下側突起面、および前記ノズルの前記シートを含む上側突起面を有する外側に配置した突起部と、
    を備え、
    前記ノズルの突起部が、前記突起部を横切って加えられる極低温の熱勾配に応じて、前記環状のシートを上方かつ径方向内側に反らせる、ノズル、
    前記内部空洞に配置されるディスクホルダ、ならびに
    前記ディスクホルダの近位端内に配置され、ほぼ円筒形の本体および外側に配置した唇部を備える閉鎖ディスクであって、前記ほぼ円筒形の本体が、
    前記ディスクホルダの遠位端および下部に受け入れられるようになされる上部と、
    前記円筒形の本体の半径方向の外面に形成した溝を備える前記下部と、
    前記溝の内面の一部を構成する上面、および前記ノズルの前記環状のシートに近接して配置された下側閉鎖面を有する、外側に配置した唇部と、
    を備え、
    前記閉鎖ディスクの前記唇部が、前記下側閉鎖面を、前記唇部を横切って加えられる極低温の熱勾配に応じて、前記環状のシートに対して下方かつ径方向内側に反らす、
    閉鎖ディスク
    を有する圧力逃し弁を用意するステップと、
    前記流体出口を室温に曝すステップと、
    前記室温よりかなり低いバルク温度を有する極低温プロセス流体を前記流体入口へ、そして前記ノズルを通じて供給するステップと、
    前記流体入口から前記流体出口へ前記極低温プロセス流体の流体連通を可能にするように前記弁を開くステップと、
    前記唇部の前記下側閉鎖面と前記ノズルの前記上側突起面の間に極低温プロセス流体を流すことによって前記唇部および突起部に極低温の熱勾配を生成するステップと、
    前記流体入口から前記流体出口への前記極低温プロセス流体の流体連通を妨げるまたは実質的に妨げるように前記弁を閉じるステップと、
    を含み、
    記唇部および突起部が前記極低温の熱勾配を受けるとき、前記下側閉鎖面の前記下方かつ径方向内側の反り、および前記環状のシートの前記上方かつ径方向内側の反りによって、前記下側閉鎖面が前記環状のシートと接触し、かつ前記弁を実質的に閉じる、
    方法。
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