JP5987751B2 - 基板搬送機構の調整具及び当該調整具を用いた調整方法 - Google Patents
基板搬送機構の調整具及び当該調整具を用いた調整方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5987751B2 JP5987751B2 JP2013072884A JP2013072884A JP5987751B2 JP 5987751 B2 JP5987751 B2 JP 5987751B2 JP 2013072884 A JP2013072884 A JP 2013072884A JP 2013072884 A JP2013072884 A JP 2013072884A JP 5987751 B2 JP5987751 B2 JP 5987751B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- guide member
- arm
- holding
- positioning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
治具本体と、
前記治具本体を前記保持部材に固定するための固定部と、
前記治具本体に設けられ、前記ガイド部材に対して基板の径方向に相対的に押し当てることにより当該ガイド部材の位置決めを行う位置決め機構と、を備え、
前記位置決め機構は、
前記基板の径方向に伸縮自在に構成され、その先端側が前記ガイド部材に接触して当該ガイド部材を相対的に押圧することにより当該ガイド部材の位置決めを行うための腕部を備えていることを特徴とする。
また、本発明の他の基板搬送機構の調整具は、基板を保持するときに基板の周端を規制するガイド部材が基板の保持部材に設けられた基板搬送機構に対して、前記ガイド部材における基板の径方向の位置を調整する基板搬送機構の調整具であって、
治具本体と、
前記治具本体を前記保持部材に固定するための固定部と、
前記治具本体に設けられ、前記ガイド部材に対して基板の径方向に相対的に押し当てることにより当該ガイド部材の位置決めを行う位置決め機構と、を備え、
前記位置決め機構は、
前記基板の径方向に伸縮自在に構成され、その先端側が前記ガイド部材に接触して当該ガイド部材を相対的に押圧することにより当該ガイド部材の位置決めを行うための腕部を備え、
前記治具本体には、前記腕部の先端側が接触して当該腕部の長さを基準長さに設定するための基準長さ設定部が設けられ、
前記腕部を基準長さ設定部に接触させる移動機構を備えていることを特徴とする。
本発明の冶具は、このような塗布、現像装置の他にウエハWの洗浄装置など、各種の装置に設けられる基板搬送機構に用いることができる。
1 搬送機構
4 冶具
21 フォーク
24 保持領域
31 保持用ブロック
34 側方規制部
41 冶具本体
55 基準面
61 アーム部
66 マイクロメータ
78 牽引爪
81 位置決め用ブロック
Claims (11)
- 基板を保持するときに基板の周端を規制するガイド部材が基板の保持部材に設けられた基板搬送機構に対して、前記ガイド部材における基板の径方向の位置を調整する基板搬送機構の調整具であって、
治具本体と、
前記治具本体を前記保持部材に固定するための固定部と、
前記治具本体に設けられ、前記ガイド部材に対して基板の径方向に相対的に押し当てることにより当該ガイド部材の位置決めを行う位置決め機構と、を備え、
前記位置決め機構は、
前記基板の径方向に伸縮自在に構成され、その先端側が前記ガイド部材に接触して当該ガイド部材を相対的に押圧することにより当該ガイド部材の位置決めを行うための腕部を備えていることを特徴とする基板搬送機構の調整具。 - 前記位置決め機構は、弾性部材により前記基板の径方向に前記ガイド部材を付勢することを特徴とする請求項1記載の基板搬送機構の調整具。
- 前記位置決め機構は、前記腕部の先端側に設けられる引きつけ部と、当該引きつけ部に対して前記保持部材における基板の保持領域の中心部側に設けられる腕部本体と、を備え、
前記弾性部材は、前記引きつけ部を前記腕部本体に向けて付勢するように設けられることを特徴とする請求項2記載の基板搬送機構の調整具。 - 前記腕部は、基板保持領域の中心部を回転中心として回転自在に構成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板搬送機構の調整具。
- 前記治具本体には、前記腕部の先端側が接触して当該腕部の長さを基準長さに設定するための基準長さ設定部が設けられていることを特徴とする請求項4記載の基板搬送機構の調整具。
- 基板を保持するときに基板の周端を規制するガイド部材が基板の保持部材に設けられた基板搬送機構に対して、前記ガイド部材における基板の径方向の位置を調整する基板搬送機構の調整具であって、
治具本体と、
前記治具本体を前記保持部材に固定するための固定部と、
前記治具本体に設けられ、前記ガイド部材に対して基板の径方向に相対的に押し当てることにより当該ガイド部材の位置決めを行う位置決め機構と、を備え、
前記位置決め機構は、
前記基板の径方向に伸縮自在に構成され、その先端側が前記ガイド部材に接触して当該ガイド部材を相対的に押圧することにより当該ガイド部材の位置決めを行うための腕部を備え、
前記治具本体には、前記腕部の先端側が接触して当該腕部の長さを基準長さに設定するための基準長さ設定部が設けられ、
前記腕部を基準長さ設定部に接触させる移動機構を備えていることを特徴とする基板搬送機構の調整具。 - 前記腕部には、当該腕部の長さに対応した長さ寸法値が表示される長さ計測機構が設けられていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の基板搬送機構の調整具。
- 基板を保持するときに基板の周端を規制するガイド部材が基板の保持部材に設けられた基板搬送機構に対して、前記ガイド部材における基板の径方向の位置を調整する基板搬送機構の調整具を用いた調整方法であって、
固定部により治具本体を前記保持部材に固定する工程と、
前記治具本体に設けられる位置決め機構を、前記ガイド部材に対して基板の径方向に相対的に押し当て、当該ガイド部材の位置決めを行う工程と、
前記位置決め機構を構成する腕部を、前記基板の径方向に伸縮させる工程と、
を備え、
前記ガイド部材の位置決めを行う工程は、前記腕部の先端側を前記ガイド部材に接触させ、当該ガイド部材を相対的に押圧する工程を備えることを特徴とする調整方法。 - 前記ガイド部材の位置決めを行う工程は、弾性部材により前記基板の径方向に前記位置決め機構を付勢する工程を含むことを特徴とする請求項8記載の調整方法。
- 前記腕部を、基板保持領域の中心部を回転中心として回転させる工程を備えることを特徴とする請求項9記載の調整方法。
- 前記治具本体に設けられる基準長さ設定部に、前記腕部の長さを基準長さに設定するために、当該腕部の先端側を接触させる工程を備えることを特徴とする請求項10記載の調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013072884A JP5987751B2 (ja) | 2013-03-29 | 2013-03-29 | 基板搬送機構の調整具及び当該調整具を用いた調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013072884A JP5987751B2 (ja) | 2013-03-29 | 2013-03-29 | 基板搬送機構の調整具及び当該調整具を用いた調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014197625A JP2014197625A (ja) | 2014-10-16 |
| JP5987751B2 true JP5987751B2 (ja) | 2016-09-07 |
Family
ID=52358223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013072884A Active JP5987751B2 (ja) | 2013-03-29 | 2013-03-29 | 基板搬送機構の調整具及び当該調整具を用いた調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5987751B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12337467B2 (en) * | 2022-12-09 | 2025-06-24 | Formfactor, Inc. | Wafer-handling end effectors configured to selectively lift a wafer from an upper surface of the wafer, probe systems that include the wafer-handling end effectors, and methods of utilizing the wafer-handling end effectors |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58100440A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-15 | Hitachi Ltd | ペレツト位置決め治具 |
| JPH0637170A (ja) * | 1992-07-15 | 1994-02-10 | Fujitsu Ltd | ウェーハアライメント方法及び装置 |
| JPH06181250A (ja) * | 1992-12-11 | 1994-06-28 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体保持具の位置合わせ用治具及び被処理体保持具の位置合わせ方法 |
| JPH07211766A (ja) * | 1994-01-14 | 1995-08-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | 中心合わせ装置 |
| JP2003297894A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-10-17 | Nissin Electric Co Ltd | 基板保持機構の製造方法 |
| JP2004071729A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-03-04 | Sendai Nikon:Kk | レチクル保持方法、レチクル保持装置及び露光装置 |
| WO2005055312A1 (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-16 | Hirata Corporation | 基板位置決めシステム |
| JP4885755B2 (ja) * | 2007-02-07 | 2012-02-29 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | ガイド部材の位置決め方法、及び基板の位置決め方法 |
| JP3182013U (ja) * | 2012-12-20 | 2013-02-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板保持部材 |
-
2013
- 2013-03-29 JP JP2013072884A patent/JP5987751B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014197625A (ja) | 2014-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2012103269A5 (ja) | ロード方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
| KR101790447B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
| US9299599B2 (en) | Thermal processing apparatus for thermal processing substrate and positioning method of positioning substrate transfer position | |
| US8801891B2 (en) | Substrate warpage removal apparatus and substrate processing apparatus | |
| US9268327B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| US9423700B2 (en) | Lithography apparatus, lithography method, lithography system, storage medium, and article manufacturing method | |
| JP2012084927A5 (ja) | ロード方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
| US20150336275A1 (en) | Presence sensing and position correction for wafer on a carrier ring | |
| JP2011155285A5 (ja) | 交換方法、露光方法及びデバイス製造方法 | |
| TWI604506B (zh) | 特別是使用在遮罩對準器的夾頭 | |
| TW200523192A (en) | Calibration of high speed loader to substrate transport system | |
| US20180350652A1 (en) | Conveyance hand, conveyance apparatus, lithography apparatus, manufacturing method of article, and holding mechanism | |
| US20210050244A1 (en) | Wafer transfer apparatus | |
| TWI780106B (zh) | 用於監測微影製造程序的方法及設備 | |
| JP5987751B2 (ja) | 基板搬送機構の調整具及び当該調整具を用いた調整方法 | |
| JP2011018860A (ja) | 基板搬送方法及び基板搬送装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法 | |
| KR20180006710A (ko) | 기판 처리 장치 | |
| KR20120007980U (ko) | 기판 반송 암 | |
| JP7071089B2 (ja) | 保持装置、保持方法、リソグラフィ装置および、物品の製造方法 | |
| CN108466194B (zh) | 工具支撑件和工件支撑组件 | |
| KR19990086237A (ko) | 반도체 웨이퍼 이송장치의 이송아암 및 이를 구비하는 이송장치 | |
| KR102807342B1 (ko) | 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품의 제조 방법 | |
| US20190057910A1 (en) | Metrology systems for substrate stress and deformation measurement | |
| KR20030028985A (ko) | 반도체 소자 제조용 장비에서의 웨이퍼 척 | |
| WO2014110944A1 (zh) | 机械手和半导体设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150121 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151209 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151215 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160204 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160712 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160725 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5987751 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |