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JP5990969B2 - Work stripping apparatus and stripping method - Google Patents
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Description

本発明は、ワーク剥離装置および剥離方法に関し、特に、熱発泡シートによって接着された基板を剥離する装置および剥離方法に関するものである。   The present invention relates to a workpiece peeling apparatus and a peeling method, and more particularly to an apparatus and a peeling method for peeling a substrate bonded by a thermal foam sheet.

電子回路の実装基板として多層基板が広く用いられている(例えば特許文献1参照)。多層基板は、絶縁層と配線層とを交互に積層してなるプリント配線基板であり、基板の表裏面のみならず内層にも配線層を有することにより、配線の高密度化、ひいては電子部品の高密度実装が可能である。   A multilayer substrate is widely used as a mounting substrate for electronic circuits (see, for example, Patent Document 1). A multilayer board is a printed wiring board formed by alternately laminating insulating layers and wiring layers. By having wiring layers not only on the front and back surfaces of the board but also on the inner layer, the wiring density is increased, and as a result High-density mounting is possible.

近年、電子機器の低背化に伴い、多層基板にも薄型化が求められている。しかし、多層基板を薄くしていくとハンドリングが難しくなり、また強度不足によって加工時の応力にも耐えられない。そのため、薄型な多層基板の製造では、十分な強度を持つ支持基板上に基材を貼り付け、強度を確保した上で加工する方法が採用されている。   In recent years, with the reduction in height of electronic devices, multilayer boards are also required to be thin. However, if the multilayer substrate is made thinner, handling becomes difficult, and it is difficult to withstand stress during processing due to insufficient strength. Therefore, in the manufacture of a thin multilayer substrate, a method is employed in which a base material is attached to a support substrate having sufficient strength and processed after ensuring the strength.

所定の加工を終えた多層基板は支持基板から剥離されるが、剥離を容易にするため、支持基板と多層基板との接着には熱発泡シートが好ましく用いられる(特許文献2参照)。従来、支持基板から多層基板を剥離する場合には、支持基板上に形成された多層基板からなるワークを恒温槽内にセットした後、熱発泡シートの発泡温度である200℃以上に加熱することで両者を分離させていた。   The multilayer substrate that has been subjected to the predetermined processing is peeled off from the support substrate. However, in order to facilitate peeling, a thermal foam sheet is preferably used for bonding the support substrate and the multilayer substrate (see Patent Document 2). Conventionally, when a multilayer substrate is peeled off from a support substrate, a work made of the multilayer substrate formed on the support substrate is set in a thermostatic bath, and then heated to 200 ° C. or more, which is the foaming temperature of the thermal foam sheet. The two were separated.

特開2007−188986号公報JP 2007-188986 A 特開2009−40930号公報JP 2009-40930 A

しかしながら、恒温槽内では槽内を均一な温度に制御することが難しく、これにより基板面内の温度ムラが発生し、熱発泡シートが均一に発泡せず、被着体である多層基板を均一に剥離できない場合がある。また、多層基板の表裏面の線膨張係数の違いから、剥離後の多層基板に反りが発生していた。   However, it is difficult to control the inside of the bath to a uniform temperature in the thermostatic bath, which causes temperature unevenness in the substrate surface, and the thermally foamed sheet does not foam uniformly, and the multilayer substrate that is the adherend is uniform. May not be peeled off. Further, warpage occurred in the multilayer substrate after peeling due to the difference in linear expansion coefficient between the front and back surfaces of the multilayer substrate.

本発明はこのような問題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、熱発泡シートを介して貼り付けられた多層基板を支持基板から剥離する際、熱発泡シートを面内で均一に加熱すると共に、剥離後の多層基板の反りを防止することが可能なワーク剥離装置及び剥離方法を提供することにある。   The present invention has been made to solve such problems, and the object of the present invention is to provide an in-plane thermal foam sheet when peeling a multilayer substrate attached via a thermal foam sheet from a support substrate. It is an object of the present invention to provide a workpiece peeling apparatus and a peeling method capable of uniformly heating and preventing warpage of a multilayer substrate after peeling.

上記課題を解決するため、本発明によるワーク剥離装置は、熱発泡シートを介して互いに貼り合わされた第1及び第2の基板を含むワークを熱処理して前記第1の基板から前記第2の基板を剥離するものであって、前記ワークを吸着保持する吸着プレートと、前記ワークを加熱する加熱手段及び前記ワークを吸着する吸着手段を有する加熱テーブルとを備え、前記吸着プレートは、前記ワークの前記第1の基板側の第1の主面を吸着保持して前記加熱テーブル上に搬送し、前記吸着プレートの吸着面を接触させたまま前記ワークを前記加熱テーブル上に載置して、前記ワークの前記第2の基板側の第2の主面を加熱し、前記加熱テーブル上で加熱されることで前記熱発泡シートの粘着力が低下又は消滅し、かつ前記加熱テーブル側からも吸着された前記ワークを吸着保持して持ち上げて、前記ワークから前記第2の基板を剥離することを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, a workpiece peeling apparatus according to the present invention heat-treats a workpiece including a first substrate and a second substrate bonded to each other via a thermally foamed sheet, thereby causing the second substrate to move from the first substrate. A suction plate for sucking and holding the workpiece, a heating table for heating the workpiece, and a heating table having a suction means for sucking the workpiece. The first main surface on the first substrate side is sucked and held and conveyed onto the heating table, and the workpiece is placed on the heating table while the suction surface of the suction plate is in contact with the workpiece. The second main surface of the second substrate side is heated and heated on the heating table, whereby the adhesive force of the thermal foam sheet is reduced or disappears, and is also adsorbed from the heating table side. The workpiece lift adsorbed and held a that characterized by peeling the second substrate from the workpiece.

また、本発明によるワーク剥離方法は、熱発泡シートを介して互いに貼り合わされた第1及び第2の基板を含むワークを熱処理して前記第1の基板から前記第2の基板を剥離する方法であって、前記ワークの前記第1の基板側の主面を吸着プレートによって吸着保持する工程と、前記ワークを前記加熱テーブル上に搬送し、前記吸着プレートによる吸着面を前記ワークの前記主面に接触させた状態のまま前記ワークを前記加熱テーブル上で加熱して、前記熱発泡シートの粘着力を低下又は消滅させる工程と、前記加熱テーブル上で加熱された前記ワークの両面を吸着保持しながら前記吸着プレートを持ち上げて、前記ワークから前記第2の基板を剥離する工程とを備えることを特徴とする。   The workpiece peeling method according to the present invention is a method of peeling the second substrate from the first substrate by heat-treating a workpiece including the first and second substrates bonded to each other via a thermal foam sheet. A step of sucking and holding the main surface of the work on the first substrate side by a suction plate, transporting the work onto the heating table, and bringing the suction surface by the suction plate to the main surface of the work While heating the work on the heating table in a contacted state, reducing or extinguishing the adhesive force of the thermal foam sheet, while adsorbing and holding both surfaces of the work heated on the heating table And a step of lifting the suction plate and peeling the second substrate from the workpiece.

熱発泡シートを介して貼り付けられた第1の基板を第2の基板から剥離する際、熱発泡シートを第2の基板側から面内で均一に加熱して発泡分離させることができる。また、加熱時及び冷却直後には吸着プレートによって平面が規制されるので、冷却による反りの発生を抑制することができる。   When the first substrate attached via the thermal foam sheet is peeled from the second substrate, the thermal foam sheet can be uniformly foamed and separated from the second substrate side in the plane. In addition, since the plane is regulated by the suction plate at the time of heating and immediately after cooling, the occurrence of warpage due to cooling can be suppressed.

前記ワークを冷却する冷却テーブルをさらに備え、前記吸着プレートは、前記加熱テーブル上で加熱されて前記第2の基板が剥離された前記ワークを前記冷却テーブルに搬送して載置することが好ましい。第2の基板が剥離されたワークを冷却テーブル上に搬送して載置し、冷却テーブル上で冷却することにより、吸着プレートから切り離された後も冷却テーブル上で冷却することができる。したがって、剥離後の第1の基板の反りを防止することができる。   It is preferable that the apparatus further includes a cooling table for cooling the work, and the suction plate transports and places the work, which is heated on the heating table and the second substrate is peeled, to the cooling table. The work from which the second substrate has been peeled is transported and placed on a cooling table and cooled on the cooling table, so that it can be cooled on the cooling table even after being separated from the suction plate. Accordingly, warpage of the first substrate after peeling can be prevented.

前記冷却テーブルは水冷構造を有することが好ましい。この構成によれば、剥離後の第1の基板を効率良く冷却し、これにより剥離後の反りを確実に防止することができる。   The cooling table preferably has a water cooling structure. According to this structure, the 1st board | substrate after peeling can be cooled efficiently, and, thereby, the curvature after peeling can be prevented reliably.

前記吸着プレートは、前記ワークを前記冷却テーブル上で吸着保持して前記加熱テーブル上に搬送することが好ましい。この構成によれば、分離後の冷却に用いる冷却テーブルを準備テーブルとして用いることができる。また、冷却テーブルの温度は水冷されることで比較的安定しているため、ワークを最初に冷却テーブル上に置くことで、工程開始時のワークの温度を一定にすることができ、加熱温度や加熱時間を一定にすることができる。   The suction plate preferably transports the workpiece onto the heating table while holding the workpiece on the cooling table. According to this configuration, a cooling table used for cooling after separation can be used as a preparation table. Also, since the temperature of the cooling table is relatively stable due to water cooling, by placing the work on the cooling table first, the temperature of the work at the start of the process can be made constant, the heating temperature and The heating time can be made constant.

前記加熱テーブルは、前記吸着プレートよりも弱い吸引力で前記ワークを吸着することが好ましい。この構成によれば、吸着プレートによる吸着がはずれることを防止しつつ、上下両方からの吸引力によって第1の基板と第2の基板とを確実に分離させることができる。   The heating table preferably sucks the workpiece with a suction force weaker than that of the suction plate. According to this configuration, the first substrate and the second substrate can be reliably separated by the suction force from both the upper and lower sides while preventing the suction by the suction plate from deviating.

前記第1の基板は多層基板であり、前記第2の基板は金属製の支持基板であることが好ましい。薄型な多層基板は金属製の支持基板上に搭載された状態で加工され、加工後には支持基板から剥離されることから、本発明によるワーク剥離装置を用いることにより、多層基板の反りを防止しつつ、熱発泡シートを面内で均一に加熱して発泡分離させることができる。   Preferably, the first substrate is a multilayer substrate, and the second substrate is a metal support substrate. The thin multilayer substrate is processed while mounted on a metal support substrate, and after the processing is peeled off from the support substrate, the workpiece peeling device according to the present invention is used to prevent the multilayer substrate from warping. On the other hand, the thermally foamed sheet can be uniformly heated in the plane to be separated by foaming.

前記多層基板は、絶縁層と配線層とを交互に積層してなり、前記絶縁層は、芯材に樹脂を含浸させてなるコア基板と、前記コア基板上に積層された樹脂層からなる少なくとも一層のビルドアップ層とを含むことが好ましい。このような多層基板は、表裏面の線膨張係数が異なることから、加熱時の基板の反りが大きい。しかし、本発明によるワーク剥離装置を用いることにより、多層基板の反りを防止しつつ、熱発泡シートを面内で均一に加熱して発泡分離させることができる。   The multilayer substrate is formed by alternately laminating insulating layers and wiring layers, and the insulating layer comprises at least a core substrate in which a core material is impregnated with a resin and a resin layer laminated on the core substrate. It is preferable to include one build-up layer. Since such a multilayer substrate has different linear expansion coefficients on the front and back surfaces, the substrate warps during heating. However, by using the workpiece peeling apparatus according to the present invention, it is possible to uniformly heat and thermally foam the thermally foamed sheet in the plane while preventing warping of the multilayer substrate.

本発明によれば、熱発泡シートを介して互いに貼り合わされた第1及び第2の基板を含むワークを熱処理して第1の基板から第2の基板を剥離する際、熱発泡シートを面内で均一に加熱すると共に、剥離後の基板の反りを防止することが可能なワーク剥離装置及び剥離方法を提供することができる。   According to the present invention, when the work including the first and second substrates bonded to each other via the thermal foam sheet is heat-treated to peel the second substrate from the first substrate, the thermal foam sheet is in-plane. It is possible to provide a workpiece peeling apparatus and a peeling method capable of uniformly heating and preventing warping of the substrate after peeling.

図1は、本発明の好ましい実施形態によるワーク剥離装置の処理対象であるワークの構造を示す略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a workpiece that is a processing target of a workpiece peeling apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. 図2は、本発明の好ましい実施形態によるワーク剥離装置の構成を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a workpiece peeling apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. 図3は、ワーク1の剥離工程を説明するための模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a peeling process of the workpiece 1. 図4は、ワーク1の剥離工程を説明するための模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the peeling process of the workpiece 1. 図5は、ワーク1の剥離工程を示すフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart showing a peeling process of the workpiece 1.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本実施形態によるワーク剥離装置の処理対象であるワークの構造を示す略断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a workpiece that is a processing target of the workpiece peeling apparatus according to the present embodiment.

図1に示すように、ワーク1は、支持基板2上に多層基板3が貼り付けられたものである。支持基板2と多層基板3との接着には熱発泡シート7が用いられている。支持基板2の材料は、特に限定されるものではないが、ニッケルやステンレスなどの金属板を用いることができる。支持基板2の厚さは、必要な機械的強度が確保される限り特に限定されないが、例えば50〜2000μm程度に設定すればよい。   As shown in FIG. 1, the workpiece 1 is obtained by attaching a multilayer substrate 3 on a support substrate 2. A thermal foam sheet 7 is used for bonding the support substrate 2 and the multilayer substrate 3. The material of the support substrate 2 is not particularly limited, but a metal plate such as nickel or stainless steel can be used. The thickness of the support substrate 2 is not particularly limited as long as necessary mechanical strength is ensured, but may be set to about 50 to 2000 μm, for example.

多層基板3は、絶縁層4と配線層5とを交互に積層してなるプリント配線基板である。多層基板3には、絶縁層4を貫通して上下の配線層どうしを電気的に接続するスルーホール電極6が設けられている。多層基板3にはチップキャパシタや半導体ICチップなどのチップ部品が表面実装されていてもよい。また、多層基板3の内部には半導体ICチップが埋め込まれていてもよい。   The multilayer board 3 is a printed wiring board formed by alternately laminating insulating layers 4 and wiring layers 5. The multilayer substrate 3 is provided with through-hole electrodes 6 that penetrate the insulating layer 4 and electrically connect the upper and lower wiring layers. Chip components such as chip capacitors and semiconductor IC chips may be surface-mounted on the multilayer substrate 3. A semiconductor IC chip may be embedded in the multilayer substrate 3.

本実施形態による多層基板3は、いわゆるビルドアップ工法により製造された基板であり、コア基板4aとビルドアップ層4bとを有している。コア基板4aは、例えばガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させてなる芯材(ガラスエポキシ基板)の表裏面に導体層が形成されたものである。ビルドアップ層4bは、未硬化又は半硬化状態の熱硬化性樹脂層と導体層との積層シートをコア基板4a上に重ねて熱圧着した後、導体層をパターニングすることにより形成することができる。   The multilayer substrate 3 according to the present embodiment is a substrate manufactured by a so-called buildup method, and includes a core substrate 4a and a buildup layer 4b. The core substrate 4a is obtained by forming a conductor layer on the front and back surfaces of a core material (glass epoxy substrate) formed by, for example, impregnating a glass cloth with an epoxy resin. The build-up layer 4b can be formed by patterning the conductive layer after laminating a laminated sheet of an uncured or semi-cured thermosetting resin layer and the conductive layer on the core substrate 4a. .

電子機器の低背化に対応するため、本実施形態による多層基板3は非常に薄く、例えば1mm以下の厚さを有している。多層基板3を薄くするためには、コア基板4aを薄くする必要がある。しかし、コア基板4aを薄くすると、実用に供する基板強度を確保することができず、スルーホール電極6やビルドアップ層4bの形成が困難となる。また、一枚の大きな基板から多数の基板を取得する集合基板では、集合基板の厚みに比べて平面方向の面積が大きく、基板強度が大幅に不足し、製造上の取り扱いが非常に難しくなる。そのため、薄型な多層基板3の製造では、コア基板4aを支持基板2に貼り付けて補強した上で加工を進め、多層基板3が完成した後に支持基板2を除去する方法が採用されている。   In order to cope with a reduction in the height of the electronic device, the multilayer substrate 3 according to the present embodiment is very thin, for example, has a thickness of 1 mm or less. In order to make the multilayer substrate 3 thinner, it is necessary to make the core substrate 4a thinner. However, if the core substrate 4a is thinned, the substrate strength for practical use cannot be ensured, and it becomes difficult to form the through-hole electrode 6 and the buildup layer 4b. Further, in an aggregate substrate that acquires a large number of substrates from one large substrate, the area in the plane direction is larger than the thickness of the aggregate substrate, the substrate strength is greatly insufficient, and handling in manufacturing becomes very difficult. Therefore, in manufacturing the thin multilayer substrate 3, a method is adopted in which the core substrate 4 a is attached to the support substrate 2 to be reinforced and processing is performed, and the support substrate 2 is removed after the multilayer substrate 3 is completed.

上記のように、多層基板3と支持基板2とは熱発泡シート7を介して互いに貼り合わされている。特に限定されるものではないが、熱発泡シート7は、熱膨張型微小球を有する熱膨張性粘着剤層を備えた加熱剥離型粘着シートである。具体的には、日東電工株式会社製の商品名「リバアルファ」や「リバクリーン」を挙げることができる。熱発泡シートは、加熱することにより粘着力が低下又は消滅するので、被着体を容易に剥離させることができる。以下、ワーク1の多層基板から支持基板を剥離する方法について詳細に説明する。   As described above, the multilayer substrate 3 and the support substrate 2 are bonded to each other via the thermal foam sheet 7. Although not particularly limited, the thermal foam sheet 7 is a heat-peelable pressure-sensitive adhesive sheet including a heat-expandable pressure-sensitive adhesive layer having heat-expandable microspheres. Specific examples include trade names “Riva Alpha” and “River Clean” manufactured by Nitto Denko Corporation. Since the adhesive strength of the thermally foamed sheet decreases or disappears by heating, the adherend can be easily peeled off. Hereinafter, a method for peeling the support substrate from the multilayer substrate of the workpiece 1 will be described in detail.

図2は、本発明の好ましい実施形態によるワーク剥離装置の構成を示す模式図である。   FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a workpiece peeling apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

図2に示すように、このワーク剥離装置10は、ワーク1を吸着保持する吸着プレート11と、ワーク1を加熱する加熱テーブル12と、ワーク1を冷却する冷却テーブル13とを備えている。   As shown in FIG. 2, the workpiece peeling apparatus 10 includes a suction plate 11 that sucks and holds the workpiece 1, a heating table 12 that heats the workpiece 1, and a cooling table 13 that cools the workpiece 1.

吸着プレート11はワーク1の主面に接触する吸着面11aを有し、吸着面11aには多数の小さな通気孔11bが設けられている。通気孔11bはバキューム装置11cに接続されている。ワーク1を吸着面11aに接触させて通気孔11bから吸引することにより、ワーク1の全面が吸着プレート11に吸着保持される。特に限定されないが、通気孔11bの直径は0.8〜1.0mmであることが好ましい。   The suction plate 11 has a suction surface 11a that comes into contact with the main surface of the work 1, and the suction surface 11a is provided with a large number of small air holes 11b. The vent hole 11b is connected to the vacuum device 11c. By bringing the work 1 into contact with the suction surface 11 a and sucking it from the vent hole 11 b, the entire surface of the work 1 is sucked and held by the suction plate 11. Although not particularly limited, the diameter of the vent hole 11b is preferably 0.8 to 1.0 mm.

吸着プレート11の吸着面11aはワーク1の主面よりも広いことが好ましい。この構成によれば、ワーク1の全面を吸着面11aに接触させることができる。したがって、後述する熱剥離工程においてワーク1の面内を均一に矯正することができ、これによりワーク1の反りを確実に抑制することができる。   The suction surface 11 a of the suction plate 11 is preferably wider than the main surface of the workpiece 1. According to this configuration, the entire surface of the work 1 can be brought into contact with the suction surface 11a. Therefore, the in-plane surface of the workpiece 1 can be uniformly corrected in a thermal peeling process described later, and thus the warpage of the workpiece 1 can be reliably suppressed.

吸着プレート11は搬送機構14によって駆動されて冷却テーブル13と加熱テーブル12との間を移動する。特に限定されないが、搬送機構14は、垂直方向及び水平方向に駆動するシリンダ機構からなる。シリンダの出力調整はレギュレータにて行われ、速度調整はスピードコントローラにて行われる。   The suction plate 11 is driven by the transport mechanism 14 and moves between the cooling table 13 and the heating table 12. Although not particularly limited, the transport mechanism 14 includes a cylinder mechanism that drives in the vertical direction and the horizontal direction. The cylinder output is adjusted by a regulator, and the speed is adjusted by a speed controller.

加熱テーブル12は加熱手段を有している。加熱テーブル12の温度は、ワーク1の熱発泡シートを剥離状態にすることができる温度に加熱できればよく、通常は300℃以下である。特に限定されないが、熱源にはカートリッジヒーターを用いることが好ましい。加熱テーブル12の温度は温度調整機能によって制御される。   The heating table 12 has a heating means. The temperature of the heating table 12 should just be heated to the temperature which can make the thermal foam sheet of the workpiece | work 1 into a peeling state, and is 300 degrees C or less normally. Although not particularly limited, it is preferable to use a cartridge heater as the heat source. The temperature of the heating table 12 is controlled by a temperature adjustment function.

また、加熱テーブル12はワーク1の吸着手段を有している。加熱テーブル12はワーク1の主面に接触する吸着面12aを有し、吸着面12aには多数の小さな通気孔12bが設けられている。通気孔12bはバキューム装置12cに接続されている。   Further, the heating table 12 has a suction means for the workpiece 1. The heating table 12 has a suction surface 12a that comes into contact with the main surface of the work 1, and the suction surface 12a is provided with a large number of small air holes 12b. The vent hole 12b is connected to the vacuum device 12c.

ワーク1が載置されたとき、ワーク1は加熱テーブル12からの熱によって加熱される。さらにワーク1の支持基板2側の主面(第2の主面)は、加熱テーブル12からの吸引力によって吸着される。このとき、加熱テーブル12は吸着プレート11よりも少し弱い吸引力で吸引することが好ましい。ワーク1の両面を吸着保持した状態で吸着プレート11を上昇させて、ワーク1を上下方向に引っ張ることにより、ワーク1から支持基板2を剥離させる。熱発泡シート7が所定の剥離温度に達した時点でワーク1の多層基板3が熱発泡シート7との界面から剥離するので、支持基板2と多層基板3とを容易に分離することができる。   When the workpiece 1 is placed, the workpiece 1 is heated by the heat from the heating table 12. Furthermore, the main surface (second main surface) of the work 1 on the support substrate 2 side is adsorbed by the suction force from the heating table 12. At this time, the heating table 12 is preferably sucked with a suction force slightly weaker than that of the suction plate 11. The support plate 2 is peeled from the work 1 by raising the suction plate 11 while holding both surfaces of the work 1 by suction and pulling the work 1 up and down. Since the multilayer substrate 3 of the workpiece 1 is separated from the interface with the thermal foam sheet 7 when the thermal foam sheet 7 reaches a predetermined separation temperature, the support substrate 2 and the multilayer substrate 3 can be easily separated.

冷却テーブル13は水冷機構13aを有しており、外部から供給される冷却水によって強制的に冷却される。冷却水には常温水を用いればよい。冷却テーブル13は主に剥離処理後のワーク1の冷却に用いられるが、本実施形態においては、吸着プレート11が剥離処理前のワーク1をハンドリングする際の作業テーブルとしても用いられる。冷却されたワーク1の取り出しや冷却テーブル13上へのワーク1のセットは、手作業で行ってもよく、機械作業で自動的に行ってもよい。冷却テーブル13の温度は温度調整機能によって制御されてもよいが、制御されなくてもかまわない。また、本実施形態による冷却テーブル13は、吸着機能を有しないが、加熱テーブル12と同様の吸着機能を設けてもかまわない。   The cooling table 13 has a water cooling mechanism 13a and is forcibly cooled by cooling water supplied from the outside. Room temperature water may be used as the cooling water. Although the cooling table 13 is mainly used for cooling the workpiece 1 after the peeling process, in the present embodiment, the suction plate 11 is also used as a work table when the workpiece 1 before the peeling process is handled. Taking out the cooled workpiece 1 and setting the workpiece 1 on the cooling table 13 may be performed manually or automatically by a mechanical operation. The temperature of the cooling table 13 may be controlled by the temperature adjustment function, but may not be controlled. In addition, the cooling table 13 according to the present embodiment does not have a suction function, but a suction function similar to that of the heating table 12 may be provided.

図3及び図4は、ワーク1の剥離工程を説明するための模式図である。また、図5は、ワーク1の剥離工程を示すフローチャートである。   3 and 4 are schematic diagrams for explaining the peeling process of the workpiece 1. FIG. 5 is a flowchart showing the peeling process of the workpiece 1.

図3〜図5に示すように、ワーク1の剥離工程では、まず冷却テーブル13上にワーク1をセットする(図3(a)、ステップS11)。このとき、ワーク1は多層基板3側の主面(第1の主面)が上向きの状態でセットされる。また、吸着プレート11は冷却テーブル13の上方の退避位置にある。加熱テーブル12は熱発泡シートを剥離状態にできる所定の温度に維持されているが、吸引動作は停止している。   As shown in FIGS. 3-5, in the peeling process of the workpiece | work 1, the workpiece | work 1 is first set on the cooling table 13 (FIG. 3 (a), step S11). At this time, the workpiece 1 is set with the main surface (first main surface) on the multilayer substrate 3 side facing upward. Further, the suction plate 11 is in a retracted position above the cooling table 13. The heating table 12 is maintained at a predetermined temperature at which the thermally foamed sheet can be peeled, but the suction operation is stopped.

次に、吸着プレート11を降下させてワーク1を吸着保持する(図3(b)、ステップS12)。そして、吸着プレート11を上昇させてワーク1を持ち上げ、そのまま加熱テーブル12の上方に移動する(図3(c)、ステップS13)。   Next, the suction plate 11 is lowered to hold the work 1 by suction (FIG. 3B, step S12). And the adsorption | suction plate 11 is raised, the workpiece | work 1 is lifted and it moves to the upper direction of the heating table 12 as it is (FIG.3 (c), step S13).

次に、吸着プレート11を降下させてワーク1を加熱テーブル12に接触させる(図3(d)、ステップS14)。このとき吸着プレート11はワーク1の吸着保持状態を維持してもよく、一時的に解除してもよいが、ワーク1と吸着プレート11との接触状態は維持される。ワーク1が加熱テーブル12と接触することによりワーク1は加熱され、熱発泡シートの粘着性は低下又は消滅する。   Next, the suction plate 11 is lowered to bring the workpiece 1 into contact with the heating table 12 (FIG. 3 (d), step S14). At this time, the suction plate 11 may maintain the suction holding state of the workpiece 1 or may be temporarily released, but the contact state between the workpiece 1 and the suction plate 11 is maintained. When the workpiece 1 comes into contact with the heating table 12, the workpiece 1 is heated, and the adhesiveness of the thermally foamed sheet is reduced or disappears.

次に、吸着プレート11と加熱テーブル12の両側からワーク1を吸着保持した状態で吸着プレート11を上昇させてワーク1を持ち上げることにより、ワーク1から支持基板2を剥離する(図4(a)、ステップS15)。このとき、加熱テーブル12側の吸引力を吸着プレート11側よりも強くすることが好ましい。この吸着プレート11の上昇動作により、ワーク1を熱発泡シートとの界面から分離することができる。   Next, the support substrate 2 is peeled from the work 1 by lifting the work plate 1 by lifting the work plate 1 while holding the work 1 from both sides of the suction plate 11 and the heating table 12 (FIG. 4A). Step S15). At this time, it is preferable to make the suction force on the heating table 12 side stronger than the suction plate 11 side. The workpiece 1 can be separated from the interface with the thermal foam sheet by the raising operation of the suction plate 11.

次に、ワーク1を吸着プレート11で吸着保持したまま冷却テーブル13側に移動し(図4(b)、ステップS16)、吸着プレート11を降下させてワーク1を冷却テーブル13上に載置する(図4(c)、ステップS17)。さらに、吸着プレート11の吸着状態を解除し、吸着プレート11を上昇させてワーク1から切り離す(図4(d)、ステップS18)。ワーク1は冷却テーブル13上で一定時間冷却された後に取り出され、一連の剥離工程が終了する。   Next, the work 1 is moved to the cooling table 13 side while being sucked and held by the suction plate 11 (FIG. 4B, step S16), the suction plate 11 is lowered and the work 1 is placed on the cooling table 13. (FIG. 4C, step S17). Further, the suction state of the suction plate 11 is released, and the suction plate 11 is raised and separated from the work 1 (FIG. 4 (d), step S18). The workpiece 1 is taken out after being cooled on the cooling table 13 for a certain time, and a series of peeling steps is completed.

以上説明したように、本実施形態によるワーク剥離装置10は、吸着プレート11と加熱テーブル12とでワーク1を挟み込んだ状態でワーク1を加熱して剥離可能状態にし、ワーク1の両面をハンドリングしながら吸着プレート11を上昇させてワーク1から支持基板を剥離するので、剥離後のワーク1の反りを吸着プレート11によって規制することができる。また、剥離後のワーク1を水冷式の冷却テーブル13上に載置することでワーク1を効率よく冷却することができ、ワーク1の反りを抑制することができる。   As described above, the workpiece peeling apparatus 10 according to the present embodiment heats the workpiece 1 in a state where the workpiece 1 is sandwiched between the suction plate 11 and the heating table 12 to make the workpiece 1 peelable, and handles both sides of the workpiece 1. Since the suction plate 11 is raised while the support substrate is peeled from the work 1, the warping of the work 1 after peeling can be regulated by the suction plate 11. Moreover, the workpiece | work 1 can be efficiently cooled by mounting the workpiece | work 1 after peeling on the water-cooling type cooling table 13, and the curvature of the workpiece | work 1 can be suppressed.

また本実施形態においては、ワーク1をハンドリングする際の作業テーブルとして冷却テーブル13を使用するので、専用の作業テーブルを省略することができ、設備の効率化を図ることができる。また、冷却テーブルの温度は水冷されることで比較的安定しているため、ワークを最初に冷却テーブル上に置くことで、工程開始時のワーク1の温度を一定にすることができ、加熱テーブルによる加熱温度や加熱時間のばらつきを抑えることができる。   In this embodiment, since the cooling table 13 is used as a work table when handling the workpiece 1, a dedicated work table can be omitted, and the efficiency of the equipment can be improved. Moreover, since the temperature of the cooling table is relatively stable by being cooled with water, the temperature of the work 1 at the start of the process can be made constant by placing the work on the cooling table first, and the heating table Variations in heating temperature and heating time due to can be suppressed.

本発明は、以上の実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることが可能であり、それらも本発明の範囲に包含されるものであることはいうまでもない。   The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention, and these are also included in the scope of the present invention. Needless to say.

例えば、上記実施形態においては、熱発泡シートによって多層基板が支持基板上に貼り付けられたワークを例に挙げたが、本発明はそのようなワークに限定されるものではなく、熱発泡シートによって貼り付けられた2枚の基板を分離する種々の場合に用いることができる。   For example, in the above-described embodiment, the work in which the multilayer substrate is bonded onto the support substrate by the thermal foam sheet is given as an example. However, the present invention is not limited to such a work, and the thermal foam sheet is used. The present invention can be used in various cases for separating two bonded substrates.

また、上記実施形態においては、水冷構造の冷却テーブル13を用いているが、水冷構造のない冷却テーブル13を用いることも可能である。例えば、ファンなどによって空冷する方式も可能である。冷却テーブル13上でワークを吸着保持した後、熱剥離を行っているが、冷却テーブル13以外の場所でワークの吸着保持を行っても構わない。   Moreover, in the said embodiment, although the cooling table 13 of a water cooling structure is used, it is also possible to use the cooling table 13 without a water cooling structure. For example, a method of air cooling with a fan or the like is also possible. Although the thermal separation is performed after the work is sucked and held on the cooling table 13, the work may be sucked and held at a place other than the cooling table 13.

1 ワーク
2 支持基板
3 多層基板
4 絶縁層
4a コア基板
4b ビルドアップ層
5 配線層
6 スルーホール電極
7 熱発泡シート
10 ワーク剥離装置
11 吸着プレート
11a 吸着面
11b 通気孔
11c バキューム装置
12 加熱テーブル
12a 吸着面
12b 通気孔
12c バキューム装置
13 冷却テーブル
13a 水冷機構
14 搬送機構
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Work 2 Support substrate 3 Multilayer substrate 4 Insulating layer 4a Core substrate 4b Build-up layer 5 Wiring layer 6 Through-hole electrode 7 Thermal foam sheet 10 Work stripping device 11 Suction plate 11a Suction surface 11b Vent hole 11c Vacuum device 12 Heating table 12a Suction Surface 12b Ventilation hole 12c Vacuum device 13 Cooling table 13a Water cooling mechanism 14 Transport mechanism

Claims (10)

熱発泡シートを介して互いに貼り合わされた第1及び第2の基板を含むワークを熱処理して前記第1の基板から前記第2の基板を剥離するワーク剥離装置であって、
前記ワークを吸着保持する吸着プレートと、
前記ワークを加熱する加熱手段及び前記ワークを吸着する吸着手段を有する加熱テーブルとを備え、
前記吸着プレートは、
前記ワークの前記第1の基板側の第1の主面を吸着保持して前記加熱テーブル上に搬送し、前記吸着プレートの吸着面を接触させたまま前記ワークを前記加熱テーブル上に載置して、前記ワークの前記第2の基板側の第2の主面を加熱し、
前記加熱テーブル上で加熱されることで前記熱発泡シートの粘着力が低下又は消滅し、かつ前記加熱テーブル側からも吸着された前記ワークを吸着保持して持ち上げて、前記ワークから前記第2の基板を剥離することを特徴とするワーク剥離装置。
A workpiece peeling device for heat-treating a workpiece including a first substrate and a second substrate bonded to each other via a thermal foam sheet and peeling the second substrate from the first substrate,
A suction plate for sucking and holding the workpiece;
A heating table having a heating means for heating the work and a suction means for sucking the work;
The suction plate is
The first main surface of the workpiece on the first substrate side is sucked and held and conveyed onto the heating table, and the workpiece is placed on the heating table while the suction surface of the suction plate is in contact. Heating the second main surface of the workpiece on the second substrate side,
The adhesive force of the thermal foam sheet decreases or disappears by being heated on the heating table, and the workpiece that is also adsorbed from the heating table side is suction-held and lifted to lift the second from the workpiece. A workpiece peeling apparatus characterized by peeling a substrate.
前記ワークを冷却する冷却テーブルをさらに備え、
前記吸着プレートは、前記加熱テーブル上で加熱されて前記第2の基板が剥離された前記ワークを前記冷却テーブルに搬送して載置する、請求項1に記載のワーク剥離装置。
A cooling table for cooling the workpiece;
2. The workpiece peeling apparatus according to claim 1, wherein the suction plate conveys and places the workpiece, which is heated on the heating table and peeled off the second substrate, to the cooling table.
前記冷却テーブルは水冷構造を有する、請求項2に記載のワーク剥離装置。   The workpiece peeling apparatus according to claim 2, wherein the cooling table has a water cooling structure. 前記吸着プレートは、前記ワークを前記冷却テーブル上で吸着保持して前記加熱テーブル上に搬送する、請求項2又は3に記載のワーク剥離装置。   4. The workpiece peeling apparatus according to claim 2, wherein the suction plate sucks and holds the workpiece on the cooling table and conveys the workpiece onto the heating table. 前記加熱テーブルは、前記吸着プレートよりも弱い吸引力で前記ワークを吸着する、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のワーク剥離装置。   5. The workpiece peeling device according to claim 1, wherein the heating table sucks the workpiece with a suction force weaker than that of the suction plate. 前記第1の基板は多層基板であり、前記第2の基板は金属製の支持基板である、請求項1乃至5のいずれか一項に記載のワーク剥離装置。   The workpiece peeling apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the first substrate is a multilayer substrate, and the second substrate is a metal support substrate. 前記多層基板は、絶縁層と配線層とを交互に積層してなり、
前記絶縁層は、芯材に樹脂を含浸させてなるコア基板と、前記コア基板上に積層された樹脂層からなる少なくとも一層のビルドアップ層とを含む、請求項に記載のワーク剥離装置。
The multilayer substrate is formed by alternately laminating insulating layers and wiring layers,
The workpiece peeling apparatus according to claim 6 , wherein the insulating layer includes a core substrate in which a core material is impregnated with a resin and at least one buildup layer formed of a resin layer laminated on the core substrate.
熱発泡シートを介して互いに貼り合わされた第1及び第2の基板を含むワークを熱処理して前記第1の基板から前記第2の基板を剥離するワーク剥離方法であって、
前記ワークの前記第1の基板側の主面を吸着プレートによって吸着保持する工程と、
前記ワークを加熱テーブル上に搬送し、前記吸着プレートによる吸着面を前記ワークの前記主面に接触させた状態のまま前記ワークを前記加熱テーブル上で加熱して、前記熱発泡シートの粘着力を低下又は消滅させる工程と、
前記加熱テーブル上で加熱された前記ワークの両面を吸着保持しながら前記吸着プレートを持ち上げて、前記ワークから前記第2の基板を剥離する工程とを備えることを特徴とするワーク剥離方法。
A workpiece peeling method for peeling the second substrate from the first substrate by heat-treating a workpiece including the first and second substrates bonded to each other via a thermal foam sheet,
A step of sucking and holding the main surface of the workpiece on the first substrate side by a suction plate;
Wherein transporting the workpieces on a pressurized heat table, said heated while said workpiece in a state where the suction surface by the suction plate is brought into contact with the main surface of the workpiece on the heating table, the adhesive strength of the heat-foamable sheet Reducing or extinguishing,
And a step of lifting the suction plate while sucking and holding both surfaces of the workpiece heated on the heating table and peeling the second substrate from the workpiece.
前記第2の基板が剥離された前記ワークを冷却テーブル上に搬送して載置し、前記冷却テーブル上で冷却する工程をさらに含む、請求項8に記載のワーク剥離方法。   The work peeling method according to claim 8, further comprising a step of transporting and placing the work on which the second substrate has been peeled off on a cooling table and cooling the work on the cooling table. 前記ワークを吸着プレートによって吸着保持する工程において、前記ワークを前記冷却テーブル上で吸着保持して前記加熱テーブル上に搬送する、請求項9に記載のワーク剥離方法。   The workpiece peeling method according to claim 9, wherein in the step of sucking and holding the workpiece by a suction plate, the workpiece is sucked and held on the cooling table and conveyed onto the heating table.
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