JP6000682B2 - Chip type multilayer capacitor - Google Patents
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Description
本発明は、小型化及び高容量化を具現すると共に電源の印加時に内部電極間に生じるアコースティックノイズを低減することができるチップ型積層キャパシタに関する。 The present invention relates to a chip-type multilayer capacitor that can be reduced in size and increased in capacity and can reduce acoustic noise generated between internal electrodes when a power supply is applied.
電子製品の小型化及び多機能化に伴い、上記電子製品に内装されるチップ型積層キャパシタの小型化及び高容量化も求められている。 Along with the downsizing and multi-functionalization of electronic products, there is also a demand for downsizing and increasing the capacity of chip type multilayer capacitors built in the electronic products.
チップ型積層キャパシタの小型化及び高容量化のためには、誘電体層を形成するセラミック材料としてチタン酸バリウム等の強誘電率材料を用いる必要がある。しかしながら、強誘電率材料で製造された誘電体層を有するチップ型積層キャパシタに直流及び交流電圧を印加する場合、内部電極間に圧電現象及び振動が生じる。 In order to reduce the size and increase the capacity of the chip type multilayer capacitor, it is necessary to use a ferroelectric material such as barium titanate as a ceramic material for forming the dielectric layer. However, when a DC and AC voltage is applied to a chip-type multilayer capacitor having a dielectric layer made of a ferroelectric material, a piezoelectric phenomenon and vibration occur between the internal electrodes.
上記振動は、誘電体層の誘電率が高いほど、同一の静電容量を基準にチップの形状が相対的に大きい場合に顕著となる傾向がある。上記振動は、上記チップ型積層キャパシタの外部電極から上記チップ型積層キャパシタが実装された回路基板に伝わる。この際、上記回路基板が振動しながら共鳴が生じる。 The vibration tends to become more prominent when the shape of the chip is relatively large based on the same capacitance as the dielectric constant of the dielectric layer is higher. The vibration is transmitted from an external electrode of the chip multilayer capacitor to a circuit board on which the chip multilayer capacitor is mounted. At this time, resonance occurs while the circuit board vibrates.
即ち、上記回路基板の振動による共鳴が可聴周波数(20〜20000Hz)領域に含まれると、その振動音が人間に不快感を与え、このような振動音をアコースティックノイズ(acoustic noise)という。 That is, when resonance due to vibration of the circuit board is included in an audible frequency (20 to 20000 Hz) region, the vibration sound gives an unpleasant feeling to humans, and such vibration sound is referred to as acoustic noise.
このように、強誘電体を材料として用いる積層セラミックキャパシタの圧電現象による振動音(acoustic noise)が一部の電子装置で深刻な問題となっている。 As described above, the acoustic noise caused by the piezoelectric phenomenon of a multilayer ceramic capacitor using a ferroelectric material is a serious problem in some electronic devices.
また、このような振動音は、積層セラミックキャパシタが実装される電子装置における騒音発生の原因となる。 Such vibration noise causes noise generation in an electronic device on which the multilayer ceramic capacitor is mounted.
本発明の目的は、誘電体層の誘電率を低くし厚さが顕著に減少した場合にもアコースティックノイズを低減することができるチップ型積層キャパシタを提供することである。 An object of the present invention is to provide a chip type multilayer capacitor capable of reducing acoustic noise even when the dielectric constant of a dielectric layer is lowered and the thickness is significantly reduced.
本発明の一側面において、本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、グレインの平均粒径の10倍以上で3μm以下の厚さで形成される誘電体層を含むセラミック本体と、上記セラミック本体の長さ方向の両端部面に形成される第1及び第2の外部電極と、上記第1及び第2の外部電極から上記セラミック本体の長さ方向内側のL−W平面上に伸びて形成され相違する長さを有する第1及び第2のバンド部と、上記第1及び第2の外部電極から上記セラミック本体の長さ方向内側のL−T平面上に伸びて形成され相違する長さを有する第3及び第4のバンド部と、を含むことができる。 In one aspect of the present invention, a chip-type multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention includes a ceramic body including a dielectric layer formed with a thickness of not less than 10 times the average grain size and not more than 3 μm, and the ceramic. First and second external electrodes formed on both end faces in the length direction of the main body, and extending from the first and second external electrodes to the LW plane on the inner side in the length direction of the ceramic main body. First and second band portions having different lengths formed, and different lengths formed by extending from the first and second external electrodes on the LT plane on the inner side in the length direction of the ceramic body. And third and fourth band portions having a thickness.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、上記第1及び第2のバンド部が形成される上記セラミック本体の一面と積層方向に対応する他面に第5及び第6のバンド部が形成され、上記第3及び第4のバンド部が形成される上記セラミック本体の一面と幅方向に対応する他面に第7及び第8のバンド部が形成され、以下の条件(1)〜(4)の少なくとも一つを満足することができる。
In a chip type multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention, fifth and sixth band portions are formed on one surface of the ceramic body on which the first and second band portions are formed and on the other surface corresponding to the stacking direction. The seventh and eighth band portions are formed on one surface of the ceramic body on which the third and fourth band portions are formed and on the other surface corresponding to the width direction, and the following conditions (1) to (4) ) Can be satisfied.
ここで、BWave1は、上記第1及び第2のバンド部の長さの平均値でBWave1=(A1+A2)/2であり、BWave2は、上記第3及び第4のバンド部の長さの平均値でBWave2=(B1+B2)/2であり、BWave3は、上記第5及び第6のバンド部の長さの平均値でBWave3=(C1+C2)/2であり、BWave4は、上記第7及び第8のバンド部の長さの平均値でBWave4=(D1+D2)/2であり、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さである。 Here, BWave1 is an average value of the lengths of the first and second band portions, and BWave1 = (A1 + A2) / 2, and BWave2 is an average value of the lengths of the third and fourth band portions. BWave2 = (B1 + B2) / 2, BWave3 is the average value of the lengths of the fifth and sixth band portions, and BWave3 = (C1 + C2) / 2, and BWave4 is the seventh and eighth The average value of the length of the band part is BWave4 = (D1 + D2) / 2, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, and B1 is The length of the third band part, B2 is the length of the fourth band part, C1 is the length of the fifth band part, and C2 is the length of the sixth band part. D1 is the length of the seventh band part, and D2 is the eighth Of the command part is the length.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、上記セラミック本体の一面における上記バンド部の長さの差の絶対値と上記BWave1〜BWave4が、以下の条件(5)〜(8)の少なくとも一つを満足することができる。
In the chip type multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention, an absolute value of a difference in length of the band portion on one surface of the ceramic body and the BWave1 to BWave4 are at least one of the following conditions (5) to (8): Can be satisfied.
ここで、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さであり、C1≠C2、D1≠D2である。 Here, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, B1 is the length of the third band part, and B2 is the fourth band part. C1 is the length of the fifth band portion, C2 is the length of the sixth band portion, and D1 is the length of the seventh band portion. , D2 is the length of the eighth band portion, and C1 ≠ C2 and D1 ≠ D2.
本発明の他の側面において、本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、六面体状のセラミック本体の長さ方向の両端部に形成される第1及び第2の外部電極と、上記第1及び第2の外部電極から上記長さ方向内側に伸びL−W平面上の第1の面と第3の面及びL−T平面上の第2の面と第4の面においてそれぞれ対向して形成される第1から第8のバンド部と、を含み、上記第1から第4の面の少なくとも一面のバンド部の長さは相違し、上記第1から第4の面の少なくとも一面と同一極性で連続する他の一面のバンド部の長さは相違することができる。 In another aspect of the present invention, a chip-type multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention includes first and second external electrodes formed at both ends in the length direction of a hexahedral ceramic body, and the first The first and third surfaces on the LW plane and the second and fourth surfaces on the L-T plane face each other in the longitudinal direction from the second external electrode. First to eighth band portions to be formed, and the length of at least one of the first to fourth surfaces is different and is the same as at least one of the first to fourth surfaces. The lengths of the band portions on the other surface that are continuous in polarity can be different.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、上記第1の面の第1のバンド部の長さと上記第2の面の第3のバンド部の長さとが相違することができる。 In the chip multilayer capacitor according to the embodiment of the present invention, the length of the first band portion of the first surface may be different from the length of the third band portion of the second surface.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、上記第1から第4の面のうち同一極性で対向する面のバンド部の長さが同一であるか又は相違することができる。 In the chip type multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention, the lengths of the band portions of the first to fourth surfaces facing each other with the same polarity may be the same or different.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、上記第1から第4の面の少なくとも一面が、対向するバンド部の高さに差があることができる。 In the chip multilayer capacitor according to the embodiment of the present invention, at least one of the first to fourth surfaces may have a difference in height between the band portions facing each other.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、上記誘電体層が、3μm以下の厚さを有し、上記誘電体層内のグレインの平均粒径の10倍以上であることができる。 In the chip type multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention, the dielectric layer may have a thickness of 3 μm or less, and may be 10 times or more the average grain size of the grains in the dielectric layer.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、上記第1から第8のバンド部が、以下の条件(1)〜(4)の少なくとも一つを満足することができる。
In the chip multilayer capacitor according to the embodiment of the present invention, the first to eighth band portions can satisfy at least one of the following conditions (1) to (4).
ここで、BWave1は、上記第1及び第2のバンド部の長さの平均値でBWave1=(A1+A2)/2であり、BWave2は、上記第3及び第4のバンド部の長さの平均値でBWave2=(B1+B2)/2であり、BWave3は、上記第5及び第6のバンド部の長さの平均値でBWave3=(C1+C2)/2であり、BWave4は、上記第7及び第8のバンド部の長さの平均値でBWave4=(D1+D2)/2であり、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さである。 Here, BWave1 is an average value of the lengths of the first and second band portions, and BWave1 = (A1 + A2) / 2, and BWave2 is an average value of the lengths of the third and fourth band portions. BWave2 = (B1 + B2) / 2, BWave3 is the average value of the lengths of the fifth and sixth band portions, and BWave3 = (C1 + C2) / 2, and BWave4 is the seventh and eighth The average value of the length of the band part is BWave4 = (D1 + D2) / 2, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, and B1 is The length of the third band part, B2 is the length of the fourth band part, C1 is the length of the fifth band part, and C2 is the length of the sixth band part. D1 is the length of the seventh band part, and D2 is the eighth Of the command part is the length.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、上記セラミック本体の一面における上記バンド部の長さの差の絶対値と上記BWave1〜BWave4が、以下の条件(5)〜(8)の少なくとも一つを満足することができる。
In the chip type multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention, an absolute value of a difference in length of the band portion on one surface of the ceramic body and the BWave1 to BWave4 are at least one of the following conditions (5) to (8): Can be satisfied.
ここで、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さであり、C1≠C2、D1≠D2である。 Here, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, B1 is the length of the third band part, and B2 is the fourth band part. C1 is the length of the fifth band portion, C2 is the length of the sixth band portion, and D1 is the length of the seventh band portion. , D2 is the length of the eighth band portion, and C1 ≠ C2 and D1 ≠ D2.
本発明のさらに他の側面において、本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、3μm以下の厚さを有する誘電体層を介して配置される第1及び第2の内部電極を含むセラミック本体と、上記セラミック本体の長さ方向の両端部に形成され上記第1及び第2の内部電極にそれぞれ連結される第1及び第2の外部電極と、を含み、上記第1及び第2の内部電極間に配置されるグレインの数は、誘電体層の厚さ方向に10個以上であり、上記セラミック本体の上記長さ方向の両端部から長さ方向内側に伸びL−W平面上の第1の面と第3の面及びL−T平面上の第2の面と第4の面においてそれぞれ対向して形成される第1から第8のバンド部をさらに含み、上記第1から第4の面の少なくとも一面のバンド部の長さは相違し、以下の条件(1)〜(4)の少なくとも一つを満足することができる。
In still another aspect of the present invention, a chip multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention includes a ceramic body including first and second internal electrodes disposed via a dielectric layer having a thickness of 3 μm or less. And first and second external electrodes formed at both ends in the length direction of the ceramic body and connected to the first and second internal electrodes, respectively, and the first and second internal electrodes The number of grains disposed between the electrodes is 10 or more in the thickness direction of the dielectric layer, and extends inward in the length direction from both ends in the length direction of the ceramic body. 1st to 8th band portions formed opposite to each other on the first surface, the third surface, and the second and fourth surfaces on the LT plane. The length of the band part of at least one surface of the Matter (1) can be satisfied at least one - (4).
ここで、BWave1は、上記第1及び第2のバンド部の長さの平均値でBWave1=(A1+A2)/2であり、BWave2は、上記第3及び第4のバンド部の長さの平均値でBWave2=(B1+B2)/2であり、BWave3は、上記第5及び第6のバンド部の長さの平均値でBWave3=(C1+C2)/2であり、BWave4は、上記第7及び第8のバンド部の長さの平均値でBWave4=(D1+D2)/2であり、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さである。 Here, BWave1 is an average value of the lengths of the first and second band portions, and BWave1 = (A1 + A2) / 2, and BWave2 is an average value of the lengths of the third and fourth band portions. BWave2 = (B1 + B2) / 2, BWave3 is the average value of the lengths of the fifth and sixth band portions, and BWave3 = (C1 + C2) / 2, and BWave4 is the seventh and eighth The average value of the length of the band part is BWave4 = (D1 + D2) / 2, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, and B1 is The length of the third band part, B2 is the length of the fourth band part, C1 is the length of the fifth band part, and C2 is the length of the sixth band part. D1 is the length of the seventh band part, and D2 is the eighth Of the command part is the length.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタは、上記セラミック本体の一面における上記バンド部の長さの差の絶対値と上記BWave1〜BWave4が、以下の条件(5)〜(8)の少なくとも一つを満足することができる。
In the chip type multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention, an absolute value of a difference in length of the band portion on one surface of the ceramic body and the BWave1 to BWave4 are at least one of the following conditions (5) to (8): Can be satisfied.
ここで、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さであり、C1≠C2、D1≠D2である。 Here, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, B1 is the length of the third band part, and B2 is the fourth band part. C1 is the length of the fifth band portion, C2 is the length of the sixth band portion, and D1 is the length of the seventh band portion. , D2 is the length of the eighth band portion, and C1 ≠ C2 and D1 ≠ D2.
本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタ及びその実装回路基板によると、誘電体の厚さが3μm以下の小型高容量のチップ型積層キャパシタでもアコースティックノイズが顕著に減少する。 According to the chip type multilayer capacitor and its mounting circuit board according to an embodiment of the present invention, acoustic noise is significantly reduced even in a small and high capacity chip type multilayer capacitor having a dielectric thickness of 3 μm or less.
以下、図面を参照して本発明の具体的な実施形態を詳述する。但し、本発明の思想は、提示される実施形態に制限されず、本発明の思想を理解する当業者は、同一思想の範囲内で他の構成要素の追加、変更、削除などによって、退歩的な他の発明や本発明の思想の範囲内に含まれる他の実施形態を容易に提案することができるが、これもまた本願発明の思想の範囲内に含まれる。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the idea of the present invention is not limited to the presented embodiments, and those skilled in the art who understand the idea of the present invention can step back by adding, changing, or deleting other components within the scope of the same idea. Although other embodiments included in the scope of the idea of the present invention and the present invention can be easily proposed, these are also included in the scope of the concept of the present invention.
なお、図面上における同一機能の構成要素は、同一又は類似の符号を付して示す。 In addition, the component of the same function on drawing is attached | subjected and shown with the same or similar code | symbol.
チップ型積層セラミックキャパシタ
図1は、本発明の一実施形態によるチップ型積層キャパシタの概略部分切開斜視図であり、図2は、図1のII−II’線に沿う断面の概略図であり、図3の(a)〜(d)は、図1のチップ型積層キャパシタの外部面に形成される外部電極のバンド部の長さを示す概略平面図である。
Chip Multilayer Ceramic Capacitor FIG. 1 is a schematic partial cutaway perspective view of a chip multilayer capacitor according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along line II-II ′ of FIG. 3A to 3D are schematic plan views showing the lengths of the band portions of the external electrodes formed on the external surface of the chip multilayer capacitor of FIG.
図1から図3を参照すると、チップ型積層キャパシタ10は、セラミック本体12と、第1及び第2の外部電極14、16と、バンド部142、144、146、148、162、164、166、168と、を含むことができる。
Referring to FIGS. 1 to 3, the chip-
上記セラミック本体12は、セラミックグリーンシート上に内部電極20を形成するように導電性ペーストを塗布し、上記内部電極20が形成された上記セラミックグリーンシートを積層した後、焼成することにより製造されることができる。上記セラミック本体12は、多数の誘電体層40と内部電極20とが繰り返し積層して形成されることができる。
The
上記セラミック本体12は、六面体状であることができる。上記セラミック本体12は、チップの焼成時にセラミック粉末の焼成収縮によって完全な直線からなる六面体状ではないが、実質的にほぼ六面体状であることができる。
The
本発明の実施形態では、六面体の方向を定義する上で、図1のL、W及びTをそれぞれ長さ方向、幅方向及び厚さ方向という。ここで、厚さ方向は、誘電体層が積層される積層方向である。 In the embodiment of the present invention, L, W, and T in FIG. 1 are referred to as a length direction, a width direction, and a thickness direction, respectively, in defining the hexahedral direction. Here, the thickness direction is a stacking direction in which the dielectric layers are stacked.
図1に示されるチップ型積層キャパシタ10は、長さ方向が幅方向又は厚さ方向より大きい直六面体の形状を有する。
The
上記誘電体層40の材料としては、高容量化のために高誘電率を有するセラミック粉末を用いることができる。上記セラミック粉末としては、例えば、チタン酸バリウム(BaTiO3)系粉末又はチタン酸ストロンチウム(SrTiO3)系粉末等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
As the material of the
また、平均粒径が小さい強誘電体セラミック粉末を用いて焼成した後にグレインのサイズを小さくすると、強誘電体の誘電率を低減することができる。本発明は、上記誘電体層40の誘電率によって制限されるものではない。
Further, if the grain size is reduced after firing with a ferroelectric ceramic powder having a small average particle size, the dielectric constant of the ferroelectric can be reduced. The present invention is not limited by the dielectric constant of the
本実施形態による誘電体層40は、3μm以下の厚さtdを有し、上記誘電体層40をなすセラミックグレイン42の平均粒径は、0.3μm以下であることができる。即ち、上記誘電体層40の厚さは、焼成されたチップ型積層キャパシタ10の一つの誘電体層40に含まれるグレイン42の平均粒径の10倍以上であることができる。
The
ここで、上記誘電体層40の厚さtdは、上記内部電極20間に配置される一つの誘電体層40の平均厚さを意味する。
Here, the thickness td of the
上記誘電体層40の厚さは、図2に示されるように、上記セラミック本体12の長さ方向断面を走査電子顕微鏡(SEM、Scanning Eletron Microscope)でイメージスキャンすることで測定されることができる。例えば、図2に示されるように、上記セラミック本体12の幅方向Wの中心部に沿う長さ方向及び厚さ方向(L−T)断面を走査電子顕微鏡でスキャンしたイメージから取り出された任意の誘電体層40に対し、長さ方向に等間隔の30箇所の厚さを測定することにより、その平均値を求めることができる。上記等間隔の30箇所は、第1及び第2の内部電極22、24が重なる領域を意味する容量形成部で測定されることができる。また、このような平均値の測定を10個以上の誘電体層40に拡張して行うと、誘電体層の厚さをより一般化することができる。
As shown in FIG. 2, the thickness of the
また、上記誘電体層40の厚さは、長さ方向Lの中心部に沿う幅方向及び厚さ方向(W−T)断面を走査電子顕微鏡でスキャンしたイメージから測定されることができる。
The thickness of the
ここで、上記セラミック本体12の幅方向W又は長さ方向Lの中心部は、上記セラミック本体12の幅方向W又は長さ方向Lの中心点から上記セラミック本体12の幅又は長さの30%範囲内である。
Here, the central portion of the
なお、上記誘電体層40のグレイン42の平均サイズは、走査電子顕微鏡でスキャンされたイメージから取り出された誘電体層の断面写真を分析することで測定されることができる。例えば、ASTM(American Society for Testing and Materials)E112で規定する平均グレインサイズ標準測定方法を支援するグレインサイズ測定ソフトウエアを用いて上記誘電体層40のグレイン42の平均サイズを測定することができる。
Note that the average size of the
本発明の一実施形態によると、上記グレイン42の平均サイズを小さくすることで、セラミックの誘電率を低減することができる。また、上記誘電体層40の厚さを3μm以下に設定することにより、同一サイズのチップへの誘電体層40の多積層化が可能となる。したがって、チップの小型高容量化が可能となる。
According to an embodiment of the present invention, the dielectric constant of the ceramic can be reduced by reducing the average size of the
上記内部電極20は、第1の内部電極22と第2の内部電極24とを含み、上記第1及び第2の内部電極22、24は、それぞれ第1及び第2の外部電極14、16に電気的に連結されることができる。
The
アコースティックノイズの減少のために誘電体層40の厚さtdを減少させると共に上記誘電体層40内のグレイン42の平均サイズを減少させることにより低誘電率化が可能となる。
By reducing the thickness td of the
このように、誘電体層40の厚さtdとグレインの平均サイズを小さくして積層セラミックキャパシタ10を低誘電率化する場合、アコースティックノイズが低減する。
Thus, when the thickness td of the
しかしながら、上記セラミック本体12内における第1及び第2の内部電極20、22間の距離、即ち、誘電体層40の厚さが3μm以下であり上記誘電体層40内のグレインの数が10個以上の積層セラミックキャパシタ10では、アコースティックノイズの低減効果が顕著に低くなった。
However, the distance between the first and second
これは、下記表1からより明確に分かる。 This can be seen more clearly from Table 1 below.
ここで、実験対象となった試料は、下記の通りに製作された。 Here, the sample to be tested was manufactured as follows.
まず、チタン酸バリウム(BaTiO3)等の粉末を含んで形成されたスラリーをキャリアフィルム(carrier film)上に塗布及び乾燥して様々な実験条件に必要な厚さで製造された複数のセラミックグリーンシートを用意し、上記セラミックグリーンシートから誘電体層を形成した。 First, a plurality of ceramic greens manufactured to a thickness required for various experimental conditions by applying and drying a slurry containing a powder such as barium titanate (BaTiO 3 ) on a carrier film. A sheet was prepared, and a dielectric layer was formed from the ceramic green sheet.
その後、スクリーンを用いて上記セラミックグリーンシート上にニッケル内部電極用導電性ペーストから内部電極を形成した後、370層に積層し、10μmから100μmまでカバー層の厚さを異ならせながらセラミック積層体を製造した。 Thereafter, an internal electrode is formed from the conductive paste for nickel internal electrode on the ceramic green sheet using a screen, and then laminated to 370 layers, and the ceramic laminate is formed while varying the thickness of the cover layer from 10 μm to 100 μm. Manufactured.
次に、上記セラミック積層体を85℃で1000kgf/cm2の圧力条件で等圧圧縮成形(isostatic pressing)した。 Next, the ceramic laminate was isostatic pressing at 85 ° C. under a pressure condition of 1000 kgf / cm 2 .
次いで、圧着が完了されたセラミック積層体を個別のチップ状に切断し、切断されたチップに対して大気雰囲気下で230℃、60時間維持して脱バインダーを行った。続けて、1200℃で内部電極が酸化されないようにNi/NiOの平衡酸素分圧より低い10−11〜10−10atmの酸素分圧の還元雰囲気下で焼成を行った。焼成後のチップのサイズは、3.2mm×1.6mm×1.6mm(L×W×T)であり、誘電体層の厚さtd及びグレインのサイズDcは、上記表1の通りである。 Next, the ceramic laminate after the press bonding was cut into individual chips, and the binder was removed by maintaining the cut chips at 230 ° C. for 60 hours in an air atmosphere. Subsequently, firing was performed in a reducing atmosphere having an oxygen partial pressure of 10 −11 to 10 −10 atm lower than the equilibrium oxygen partial pressure of Ni / NiO so that the internal electrode was not oxidized at 1200 ° C. The size of the chip after firing is 3.2 mm × 1.6 mm × 1.6 mm (L × W × T), and the thickness td of the dielectric layer and the grain size Dc are as shown in Table 1 above. .
表1を参照すると、試料1〜4に示されるように、誘電体の厚さが4.3μmの条件でグレインのサイズを小さくして低誘電率化する場合、振動音のサイズが顕著に小さくなることが分かる。しかしながら、試料5〜12に示されるように、誘電体の厚さが約3μm以下の条件でグレインのサイズを小さくして低誘電率化する場合、td/Dc、即ち、誘電体の厚さに対するグレインのサイズの比が1/10以下であっても振動音の減少効果が微小することが分かる。 Referring to Table 1, as shown in Samples 1 to 4, when the dielectric thickness is 4.3 μm and the grain size is reduced to reduce the dielectric constant, the size of the vibration sound is significantly reduced. I understand that However, as shown in samples 5 to 12, when the dielectric thickness is about 3 μm or less and the grain size is reduced to reduce the dielectric constant, td / Dc, that is, relative to the thickness of the dielectric It can be seen that even if the grain size ratio is 1/10 or less, the effect of reducing vibration noise is small.
したがって、誘電体の厚さが薄い場合には、グレインのサイズの減少の他にも別途の条件を加えてこそ、振動音の減少効果をより大きくすることができることが分かる。 Therefore, when the dielectric is thin, it can be understood that the effect of reducing the vibration noise can be increased only by adding another condition in addition to the reduction of the grain size.
本発明の一実施形態によると、図3に示されるように、上記セラミック本体12の長さ方向の両端部に形成される第1及び第2の外部電極14、16は、第1から第8のバンド部を含むことができる。
According to an embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, the first and second
上記第1及び第2の外部電極14、16は、直六面体状の上記セラミック本体12の長さ方向の両端部に形成されることができる。上記第1及び第2の外部電極14、16は、相違する極性を有し、上記誘電体層42を介して対向する第1の内部電極22と第2の内部電極24に電気的に連結されることができる。
The first and second
図3には、上記第1の面126に形成される第1のバンド部142と第2のバンド部162、上記第2の面125に形成される第3のバンド部144と第4のバンド部164、上記第3の面128に形成される第5のバンド部146と第6のバンド部166、上記第4の面127に形成される第7のバンド部148と第8のバンド部168が示されている。
In FIG. 3, the
上記第1から第8のバンド部142、144、146、148、162、164、166、168は、上記第1及び第2の外部電極14、16から上記長さ方向L内側に伸び、L−W平面上の第1の面126と第3の面128及びL−T平面上の第2の面125と第4の面127においてそれぞれ対向して形成されることができる。ここで、上記第1の面126と第3の面128は、互いに積層方向に対応し、上記第2の面125と第4の面127は、互いに幅方向に対応する。
The first to
上記第1から第4の面126、125、127、128の少なくとも一面126のバンド部142、162の長さは相違することができる。
The lengths of the
また、上記第1から第4の面126、125、127、128の少なくとも一面126と同一極性で連続する他の一面125のバンド部142、144の長さは相違することができる。
Further, the lengths of the
以下、図6を参照して、上記バンド部142、162の長さA1、A2の測定方法を説明する。
Hereinafter, a method for measuring the lengths A1 and A2 of the
図6は、図2に示されるように、上記セラミック本体12の幅方向Wの中心部に沿う長さ方向及び厚さ方向(L−T)断面を概略的に示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a cross section in the length direction and the thickness direction (LT) along the center portion in the width direction W of the
上記セラミック本体12のL−T方向断面を参照すると、上記第1の外部電極14の第1のバンド部142の長さA1は、上記セラミック本体12の厚さ方向の上下端部面126、128間の中心点Cp1とCp2とを連結する中心線Cを基準として厚さ方向に垂直に伸びる仮想線X−X’から上記第1のバンド部142のL方向最内側までの距離であることができる。
Referring to a cross section in the LT direction of the
また、上記第2のバンド部162の長さA2は、上記中心線Cを基準として厚さ方向に垂直に伸びる仮想線Y−Y’から上記第2のバンド部162のL方向最内側までの距離であることができる。
The length A2 of the
また、上記第1のバンド部142及び上記第2のバンド部162以外の他のバンド部144、146、148、164、166の長さも、上述したと同様に測定されることができる。
Further, the lengths of the
このような測定法を用いる理由は、焼成によって上記セラミック本体12の六面体の各辺が正確な直線状を有することが困難なためである。
The reason for using such a measurement method is that it is difficult for each side of the hexahedron of the
本発明の実施形態によると、小型化及び高容量化を具現すると共にアコースティックノイズを減少させるために、上記チップ型積層セラミックキャパシタ10の上記第1から第8のバンド部は、以下の条件(1)〜(4)の少なくとも一つを満足することができる。
According to the embodiment of the present invention, the first to eighth band portions of the chip-type
ここで、BWave1は、上記第1及び第2のバンド部の長さの平均値でBWave1=(A1+A2)/2であり、BWave2は、上記第3及び第4のバンド部の長さの平均値でBWave2=(B1+B2)/2であり、BWave3は、上記第5及び第6のバンド部の長さの平均値でBWave3=(C1+C2)/2であり、BWave4は、上記第7及び第8のバンド部の長さの平均値でBWave4=(D1+D2)/2であり、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さである。 Here, BWave1 is an average value of the lengths of the first and second band portions, and BWave1 = (A1 + A2) / 2, and BWave2 is an average value of the lengths of the third and fourth band portions. BWave2 = (B1 + B2) / 2, BWave3 is the average value of the lengths of the fifth and sixth band portions, and BWave3 = (C1 + C2) / 2, and BWave4 is the seventh and eighth The average value of the length of the band part is BWave4 = (D1 + D2) / 2, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, and B1 is The length of the third band part, B2 is the length of the fourth band part, C1 is the length of the fifth band part, and C2 is the length of the sixth band part. D1 is the length of the seventh band part, and D2 is the eighth Of the command part is the length.
上記BWave1/L、BWave2/L、BWave3/L及びBWave4/Lのそれぞれが3%未満の場合は、回路基板へのチップ型積層セラミックキャパシタ10の固着の強度が低下して実装不良が生じることがあり、40%を超える場合は、実装時に両端子の短絡によって実装不良が生じることがある。
If each of the BWave1 / L, BWave2 / L, BWave3 / L, and BWave4 / L is less than 3%, the strength of fixing the chip-type
また、本発明の一実施形態において、上記セラミック本体12の一面における上記バンド部の長さの差の絶対値と上記BWave1〜BWave4は、以下の条件(5)〜(8)の少なくとも一つを満足することができる。
In one embodiment of the present invention, the absolute value of the difference in length of the band portion on one surface of the
ここで、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さであり、C1≠C2、D1≠D2である。 Here, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, B1 is the length of the third band part, and B2 is the fourth band part. C1 is the length of the fifth band portion, C2 is the length of the sixth band portion, and D1 is the length of the seventh band portion. , D2 is the length of the eighth band portion, and C1 ≠ C2 and D1 ≠ D2.
上記セラミック本体12の一面における上記バンド部の長さの差の絶対値と上記BWave1〜BWave4との関係を示す上記式(5)〜(8)によると、バンド幅部の非対称率を規定することができる。
According to the above formulas (5) to (8) showing the relationship between the absolute value of the difference in length of the band part on one surface of the
それぞれのバンド幅部の非対称率が増加すればするほど、力のバラツキによって基板への振動伝達が減少するため、振動音が顕著に減少する。 As the asymmetry ratio of the respective bandwidth portions increases, vibration transmission to the substrate decreases due to force variation, so that vibration noise is significantly reduced.
上記それぞれのバンド幅部の非対称率の少なくとも一つが5%未満の場合は、振動音が高すぎ、20%を超える場合は、回路基板でチップが立ち上がるツームストーン(Tombstone)実装不良が生じる。 When at least one of the asymmetry ratios of the respective bandwidth portions is less than 5%, the vibration noise is too high, and when it exceeds 20%, a tombstone mounting defect in which the chip rises on the circuit board occurs.
以下、本発明の実施例と比較例の実験データを参照して本発明の実施形態をより具体的に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to experimental data of examples and comparative examples of the present invention.
実験例
本発明の実施例と比較例による積層セラミックキャパシタは、下記の通りに製作された。
Experimental Example Multilayer ceramic capacitors according to examples and comparative examples of the present invention were manufactured as follows.
まず、チタン酸バリウム(BaTiO3)等の粉末を含んで形成されたスラリーをキャリアフィルム(carrier film)上に塗布及び乾燥して3.9μmの厚さで製造された複数のセラミックグリーンシートを用意した。 First, a plurality of ceramic green sheets manufactured to a thickness of 3.9 μm are prepared by applying and drying a slurry formed containing a powder such as barium titanate (BaTiO 3 ) on a carrier film. did.
その後、上記セラミックグリーンシート上にマージンの非対称パターンを形成させるスクリーンを用いてニッケル内部電極用導電性ペーストを塗布して内部電極を形成した。 Thereafter, an internal electrode was formed by applying a conductive paste for nickel internal electrode using a screen for forming a marginal asymmetric pattern on the ceramic green sheet.
次に、上記セラミックグリーンシートを370層に積層し、この積層体を85℃で1000kgf/cm2の圧力条件で等圧圧縮成形(isostatic pressing)した。 Next, the ceramic green sheets were laminated in 370 layers, and the laminated body was subjected to isostatic pressing at 85 ° C. under a pressure condition of 1000 kgf / cm 2 .
次いで、圧着が完了されたセラミック積層体を個別のチップ状に切断し、切断されたチップに対して大気雰囲気下で230℃、60時間維持して脱バインダーを行った。 Next, the ceramic laminate after the press bonding was cut into individual chips, and the binder was removed by maintaining the cut chips at 230 ° C. for 60 hours in an air atmosphere.
続けて、1200℃で内部電極が酸化されないようにNi/NiOの平衡酸素分圧より低い10−11〜10−10atmの酸素分圧の還元雰囲気下で焼成を行った。焼成後の誘電体層の厚さは、2.7μmであり、焼成後の誘電体層のグレインの平均サイズは、0.27μmであり、焼成後のチップのサイズは、3.2mm×1.6mm×1.6mm(L×W×T)であった。 Subsequently, firing was performed in a reducing atmosphere having an oxygen partial pressure of 10 −11 to 10 −10 atm lower than the equilibrium oxygen partial pressure of Ni / NiO so that the internal electrode was not oxidized at 1200 ° C. The thickness of the dielectric layer after firing is 2.7 μm, the average grain size of the dielectric layer after firing is 0.27 μm, and the size of the chip after firing is 3.2 mm × 1. It was 6 mm × 1.6 mm (L × W × T).
以後、外部電極形成工程、メッキ工程等を経て積層セラミックキャパシタを製作した。 Thereafter, a multilayer ceramic capacitor was manufactured through an external electrode forming process, a plating process, and the like.
ここで、上記積層セラミックキャパシタの試料は、外部電極のバンド部の非対称率に応じて多様に製作された。 Here, various samples of the multilayer ceramic capacitor were manufactured according to the asymmetry rate of the band portion of the external electrode.
下記表2及び3は、外部電極のバンド部の非対称率による振動音、実装不良率を比較したものである。振動音は、定格電圧の1/2に該当するDC電圧に3Vppのパルス波を印加して無響室で直接測定したものであり、実装不良率は、100個のサンプルに対して実装テストを行って外観不良の有無、固着強度、電気的特性等に基づく不良の有無を判断して示したものである。 Tables 2 and 3 below compare the vibration noise due to the asymmetry rate of the band portion of the external electrode and the mounting defect rate. The vibration sound was measured directly in an anechoic chamber by applying a 3Vpp pulse wave to a DC voltage corresponding to 1/2 of the rated voltage, and the mounting failure rate was tested for 100 samples. This is done by judging the presence / absence of a defect based on the presence / absence of appearance defects, fixing strength, electrical characteristics, and the like.
試料1及び6は、比較例であり、試料2〜5は、実施例である。 Samples 1 and 6 are comparative examples, and samples 2 to 5 are examples.
本発明の実施例の試料2〜5では、前述したX1〜X4の少なくとも一つが3〜40%の範囲を満足すると、36dB以下の低い振動音が生じ、回路基板上への実装不良が完全になくなる。 In the samples 2 to 5 of the embodiment of the present invention, when at least one of the above-described X1 to X4 satisfies the range of 3 to 40%, a low vibration sound of 36 dB or less is generated, and the mounting failure on the circuit board is completely eliminated. Disappear.
これに対し、上記バンド部の非対称率X1〜X4が3%未満の試料1の場合は、振動音が40dB以上に大きくなる問題があり、40%を超える試料6の場合は、振動音の減少には効果的であるが、実装不良が顕著に生じる。 On the other hand, in the case of the sample 1 in which the asymmetry ratios X1 to X4 of the band part are less than 3%, there is a problem that the vibration sound becomes larger than 40 dB, and in the case of the sample 6 exceeding 40%, the vibration sound is reduced. Is effective, but a mounting defect is remarkably generated.
以上のことから、本発明の実施例は、比較例に比べ、振動音を顕著に減少させると共に実装不良率を減らすことができることが分かる。 From the above, it can be seen that the embodiment of the present invention can significantly reduce the vibration noise and reduce the mounting defect rate as compared with the comparative example.
試料1、2、7及び8は、比較例であり、試料3〜6は、実施例である。 Samples 1, 2, 7 and 8 are comparative examples, and samples 3 to 6 are examples.
本発明の実施例の試料3〜6では、バンド部の非対称率をバンド部の長さの差の絶対値とバンド幅部の平均との関係で示したY1〜Y4の少なくとも一つが5〜20%の範囲を満足すると、35dB以下の低い振動音が生じ、回路基板上への実装不良が完全になくなる。 In Samples 3 to 6 of the examples of the present invention, at least one of Y1 to Y4 indicating the asymmetry rate of the band portion in terms of the absolute value of the difference in length of the band portion and the average of the band width portion is 5 to 20 When the range of% is satisfied, a low vibration noise of 35 dB or less is generated, and mounting defects on the circuit board are completely eliminated.
これに対し、上記バンド部の非対称率Y1〜Y4が5%未満の試料1及び2の場合は、振動音が40dB以上に大きくなる問題があり、20%を超える試料7及び8の場合は、振動音の減少には効果的であるが、ツームストーン実装不良が顕著に生じる。 On the other hand, in the case of samples 1 and 2 in which the asymmetry ratios Y1 to Y4 of the band part are less than 5%, there is a problem that the vibration noise is increased to 40 dB or more, and in the case of samples 7 and 8 exceeding 20%, Although effective in reducing vibration noise, poor tombstone mounting occurs significantly.
以上のことから、本発明の実施例は、比較例に比べ、振動音を顕著に減少させると共に実装不良率を減らすことができることが分かる。 From the above, it can be seen that the embodiment of the present invention can significantly reduce the vibration noise and reduce the mounting defect rate as compared with the comparative example.
変形例
図4の(a)及び(b)は、図1のA及びBを拡大して示す概略斜視図であり、図5は、外部電極のバンド部の態様を拡大して示す概略断面図である。
Modified Example FIG. 4 (a) and (b) is a schematic perspective view showing an enlarged A and B in FIG. 1, FIG. 5 is a schematic sectional view showing an enlarged manner of the band portion of the external electrode It is.
図4及び図5に示される実施形態では、外部電極のバンド部142、162の長さの差の他に高さの差が設定されている。
In the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, a difference in height is set in addition to the difference in length between the
外部電極のバンド部142、162の高さは、上記外部電極のバンド部142、162の最高点hmax1、hmax2の水平仮想線とセラミック本体12の一面126の水平仮想線との間の距離を測定することにより決められる。
The heights of the
以上のことから、上記バンド部142、162の高さのバラツキによる振動音の減少及び上記バンド部142、162の長さのバラツキによる振動音の減少が可能となる。
From the above, it is possible to reduce vibration noise due to variations in the height of the
10 チップ型積層キャパシタ
14、16 第1及び第2の外部電極
20 内部電極
40 誘電体層
42 グレイン
10
Claims (9)
前記セラミック本体の長さ方向の両端部面に形成される第1及び第2の外部電極と、
前記第1及び第2の外部電極から前記セラミック本体の長さ方向内側の長さ×幅平面上に伸びて形成され、相違する長さを有する第1及び第2のバンド部と、
前記第1及び第2の外部電極から前記セラミック本体の長さ方向内側の長さ×厚さ平面上に伸びて形成され、相違する長さを有する第3及び第4のバンド部と、
を含み、
同一極性で連続する前記第1のバンド部と前記第3のバンド部の長さが相違するか、又は同一極性で連続する前記第2のバンド部と前記第4のバンド部の長さが相違し、
前記第1及び第2のバンド部が形成される前記セラミック本体の一面と積層方向に対応する他面には第5及び第6のバンド部が形成され、
前記第3及び第4のバンド部が形成される前記セラミック本体の一面と幅方向に対応する他面には第7及び第8のバンド部が形成され、
以下の条件(1)〜(4)の少なくとも一つを満足する、チップ型積層キャパシタ。
ここで、BWave1は、前記第1及び第2のバンド部の長さA1、A2の平均値でBWave1=(A1+A2)/2であり、BWave2は、前記第3及び第4のバンド部の長さB1、B2の平均値でBWave2=(B1+B2)/2であり、BWave3は、前記第5及び第6のバンド部の長さC1、C2の平均値でBWave3=(C1+C2)/2であり、BWave4は、前記第7及び第8のバンド部の長さD1、D2の平均値でBWave4=(D1+D2)/2であり、Lは、外部電極を除いたセラミック本体の長さ方向の両端部間の距離、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さである。 A ceramic body including a dielectric layer formed with a thickness of not less than 10 times the average grain size and not more than 3 μm;
First and second external electrodes formed on both end faces of the ceramic body in the length direction;
First and second band portions extending from the first and second external electrodes on the lengthwise inner side in the longitudinal direction of the ceramic body × width plane, and having different lengths,
Third and fourth band portions extending from the first and second external electrodes on the lengthwise inner side of the ceramic body × thickness plane and having different lengths,
Including
The lengths of the first band part and the third band part that are continuous with the same polarity are different, or the lengths of the second band part and the fourth band part that are continuous with the same polarity are different. And
Fifth and sixth band portions are formed on one surface of the ceramic body on which the first and second band portions are formed and on the other surface corresponding to the stacking direction,
Seventh and eighth band portions are formed on one surface of the ceramic body on which the third and fourth band portions are formed and on the other surface corresponding to the width direction,
A chip-type multilayer capacitor that satisfies at least one of the following conditions (1) to (4) .
Here, BWave1 is an average value of the lengths A1 and A2 of the first and second band portions, and BWave1 = (A1 + A2) / 2, and BWave2 is the length of the third and fourth band portions. The average value of B1 and B2 is BWave2 = (B1 + B2) / 2, and BWave3 is the average value of the lengths C1 and C2 of the fifth and sixth band portions, and BWave3 = (C1 + C2) / 2, and BWave4 Is the average value of the lengths D1 and D2 of the seventh and eighth band portions, and BWave4 = (D1 + D2) / 2, and L is between the lengthwise ends of the ceramic body excluding the external electrodes The distance, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, B1 is the length of the third band part, and B2 is the fourth band part. The length of the band part, C1 is the fifth band The length of the section, C2 is the length of the band portion of the 6, D1 is the length of the band portion of the 7, D2 is the length of the band portion of the eighth.
ここで、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さであり、C1≠C2、D1≠D2である。 2. The chip type according to claim 1 , wherein an absolute value of a difference in length of the band portion on one surface of the ceramic body and the BWave1 to BWave4 satisfy at least one of the following conditions (5) to (8). Multilayer capacitor.
Here, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, B1 is the length of the third band part, and B2 is the fourth band part. C1 is the length of the fifth band portion, C2 is the length of the sixth band portion, and D1 is the length of the seventh band portion. , D2 is the length of the eighth band portion, and C1 ≠ C2 and D1 ≠ D2.
前記セラミック本体の長さ方向の両端部に形成される第1及び第2の外部電極と、
前記第1及び第2の外部電極から前記セラミック本体の長さ方向内側の長さ×幅平面上に伸びて形成される第1及び第2のバンド部と、
前記第1及び第2の外部電極から前記セラミック本体の長さ方向内側の長さ×厚さ平面上に伸びて形成される第3及び第4のバンド部と、
を含み、
前記第1及び第2のバンド部が形成される前記セラミック本体の一面と積層方向に対応する他面には第5及び第6のバンド部が形成され、
前記第3及び第4のバンド部が形成される前記セラミック本体の一面と幅方向に対応する他面には第7及び第8のバンド部が形成され、
前記第1から第4の面の少なくとも一面は、同一面における対向するバンド部の長さが相違し、前記第1から第4の面の少なくとも一面のバンド部と同一極性で連続する他の一面のバンド部の長さは相違し、
以下の条件(1)〜(4)の少なくとも一つを満足する、チップ型積層キャパシタ。
ここで、BWave1は、前記第1及び第2のバンド部の長さA1、A2の平均値でBWave1=(A1+A2)/2であり、BWave2は、前記第3及び第4のバンド部の長さB1、B2の平均値でBWave2=(B1+B2)/2であり、BWave3は、前記第5及び第6のバンド部の長さC1、C2の平均値でBWave3=(C1+C2)/2であり、BWave4は、前記第7及び第8のバンド部の長さD1、D2の平均値でBWave4=(D1+D2)/2であり、Lは、外部電極を除いたセラミック本体の長さ方向の両端部間の距離、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さである。 Including a dielectric layer formed with a thickness of 10 μm or more and 3 μm or less of the average grain size of grains, and a hexahedral ceramic body ;
First and second external electrodes formed at both ends in the length direction of the ceramic body ;
First and second band portions formed to extend from the first and second external electrodes on the length × width plane of the ceramic body in the longitudinal direction;
Third and fourth band portions formed to extend from the first and second external electrodes on a length × thickness plane inside the length direction of the ceramic body,
Including
Fifth and sixth band portions are formed on one surface of the ceramic body on which the first and second band portions are formed and on the other surface corresponding to the stacking direction,
Seventh and eighth band portions are formed on one surface of the ceramic body on which the third and fourth band portions are formed and on the other surface corresponding to the width direction,
At least one of the first to fourth surfaces is different in the length of opposing band portions on the same surface and is continuous with the same polarity as the band portion of at least one surface of the first to fourth surfaces. The length of the band part of the
A chip-type multilayer capacitor that satisfies at least one of the following conditions (1) to (4) .
Here, BWave1 is an average value of the lengths A1 and A2 of the first and second band portions, and BWave1 = (A1 + A2) / 2, and BWave2 is the length of the third and fourth band portions. The average value of B1 and B2 is BWave2 = (B1 + B2) / 2, and BWave3 is the average value of the lengths C1 and C2 of the fifth and sixth band portions, and BWave3 = (C1 + C2) / 2, and BWave4 Is the average value of the lengths D1 and D2 of the seventh and eighth band portions, and BWave4 = (D1 + D2) / 2, and L is between the lengthwise ends of the ceramic body excluding the external electrodes The distance, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, B1 is the length of the third band part, and B2 is the fourth band part. The length of the band part, C1 is the fifth band The length of the section, C2 is the length of the band portion of the 6, D1 is the length of the band portion of the 7, D2 is the length of the band portion of the eighth.
ここで、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さであり、C1≠C2、D1≠D2である。 4. The chip type according to claim 3 , wherein an absolute value of a difference in length of the band portion on one surface of the ceramic body and the BWave1 to BWave4 satisfy at least one of the following conditions (5) to (8). Multilayer capacitor.
Here, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, B1 is the length of the third band part, and B2 is the fourth band part. C1 is the length of the fifth band portion, C2 is the length of the sixth band portion, and D1 is the length of the seventh band portion. , D2 is the length of the eighth band portion, and C1 ≠ C2 and D1 ≠ D2.
前記セラミック本体の長さ方向の両端部に形成され、前記第1及び第2の内部電極にそれぞれ連結される第1及び第2の外部電極と、
を含み、
前記第1及び第2の内部電極間に配置されるグレインの数は、誘電体層の厚さ方向に10個以上であり、
前記第1及び第2の外部電極から前記セラミック本体の長さ方向内側の長さ×幅平面上に伸びて形成される第1及び第2のバンド部と、
前記第1及び第2の外部電極から前記セラミック本体の長さ方向内側の長さ×厚さ平面上に伸びて形成される第3及び第4のバンド部と、
を含み、
前記第1及び第2のバンド部が形成される前記セラミック本体の一面と積層方向に対応する他面には第5及び第6のバンド部が形成され、
前記第3及び第4のバンド部が形成される前記セラミック本体の一面と幅方向に対応する他面には第7及び第8のバンド部が形成され、
前記第1から第4の面の少なくとも一面は、同一面における対向するバンド部の長さが相違し、前記第1から第4の面の少なくとも一面のバンド部と同一極性で連続する他の一面のバンド部の長さは相違し、以下の条件(1)〜(4)の少なくとも一つを満足する、チップ型積層キャパシタ。
ここで、Lは、外部電極を除いたセラミック本体の長さ方向の両端部間の距離、BWave1は、前記第1及び第2のバンド部の長さの平均値でBWave1=(A1+A2)/2であり、BWave2は、前記第3及び第4のバンド部の長さの平均値でBWave2=(B1+B2)/2であり、BWave3は、前記第5及び第6のバンド部の長さの平均値でBWave3=(C1+C2)/2であり、BWave4は、前記第7及び第8のバンド部の長さの平均値でBWave4=(D1+D2)/2である。 A ceramic body including first and second internal electrodes disposed via a dielectric layer having a thickness of 3 μm or less;
First and second external electrodes formed at both ends in the length direction of the ceramic body and connected to the first and second internal electrodes, respectively;
Including
The number of grains disposed between the first and second internal electrodes is 10 or more in the thickness direction of the dielectric layer,
First and second band portions formed to extend from the first and second external electrodes on the length × width plane of the ceramic body in the longitudinal direction;
Third and fourth band portions formed to extend from the first and second external electrodes on a length × thickness plane inside the length direction of the ceramic body,
Including
Fifth and sixth band portions are formed on one surface of the ceramic body on which the first and second band portions are formed and on the other surface corresponding to the stacking direction,
Seventh and eighth band portions are formed on one surface of the ceramic body on which the third and fourth band portions are formed and on the other surface corresponding to the width direction,
At least one of the first to fourth surfaces is different in the length of opposing band portions on the same surface and is continuous with the same polarity as the band portion of at least one surface of the first to fourth surfaces. The chip-type multilayer capacitor has different band lengths and satisfies at least one of the following conditions (1) to (4).
Here, L is the distance between both ends in the length direction of the ceramic body excluding the external electrode, BWave1 is the average value of the lengths of the first and second band portions, and BWave1 = (A1 + A2) / 2 BWave2 is an average value of the lengths of the third and fourth band portions, and BWave2 = (B1 + B2) / 2, and BWave3 is an average value of the lengths of the fifth and sixth band portions. BWave3 = (C1 + C2) / 2, and BWave4 is an average value of the lengths of the seventh and eighth band portions, and BWave4 = (D1 + D2) / 2.
ここで、A1は、第1のバンド部の長さであり、A2は、第2のバンド部の長さであり、B1は、第3のバンド部の長さであり、B2は、第4のバンド部の長さであり、C1は、第5のバンド部の長さであり、C2は、第6のバンド部の長さであり、D1は、第7のバンド部の長さであり、D2は、第8のバンド部の長さであり、C1≠C2、D1≠D2である。 9. The chip type according to claim 8 , wherein an absolute value of a difference in length of the band portion on one surface of the ceramic body and the BWave1 to BWave4 satisfy at least one of the following conditions (5) to (8). Multilayer capacitor.
Here, A1 is the length of the first band part, A2 is the length of the second band part, B1 is the length of the third band part, and B2 is the fourth band part. C1 is the length of the fifth band portion, C2 is the length of the sixth band portion, and D1 is the length of the seventh band portion. , D2 is the length of the eighth band portion, and C1 ≠ C2 and D1 ≠ D2.
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