JP6000892B2 - 封止用樹脂組成物、封止用フィルム、配線基板 - Google Patents
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Description
また、本発明は、上記封止用フィルムを備える配線基板に関する。
これに対して、金属配線上にフッ素系樹脂を含む絶縁材料層を形成し、イオンマイグレーションを抑制する方法が提案されている(特許文献1)。
本発明者らは特許文献1に記載される方法を用いて金属配線間の絶縁信頼性について検討を行ったところ、昨今の要求レベルを満たさず、更なる改良が必要であることが見出された。
また、本発明は、封止用フィルムおよびこの封止用フィルムを含む配線基板を提供することも目的とする。
すなわち、上記課題は下記の手段により解決される。
(2) マイグレーション防止剤(B)が、後述する一般式(1)〜一般式(5)で表される化合物、一般式(22)で表される化合物、一般式(23)で表される化合物、および、一般式(24)で表される基と一般式(25)で表される基とを有する化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、(1)に記載の封止用樹脂組成物。
(3) 後述する一般式(1)で表される化合物が、後述する一般式(6)〜一般式(21)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、(2)に記載の封止用樹脂組成物。
(4) 後述する一般式(5)で表される化合物が、後述する一般式(51)〜一般式(54)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、(2)または(3)に記載の封止用樹脂組成物。
(5) マイグレーション防止剤(B)が、後述する一般式(6)、後述する一般式(7)、後述する一般式(10)、後述する一般式(11)、後述する一般式(21)、後述する一般式(51)、後述する一般式(53)、および後述する一般式(54)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、(4)に記載の封止用樹脂組成物。
(6) フッ素系樹脂(A)が、後述する一般式(P−1)で表される繰り返し単位を少なくとも有する、(1)〜(5)のいずれかに記載の封止用樹脂組成物。
(7) フッ素系樹脂(A)が、ケイ素原子に結合した水酸基または加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋し得るケイ素含有基を有する、(1)〜(6)のいずれかに記載の封止用樹脂組成物。
(9) マイグレーション防止剤(B)が、後述する一般式(1)〜一般式(5)で表される化合物、一般式(22)で表される化合物、一般式(23)で表される化合物、および、一般式(24)で表される基と一般式(25)で表される基とを有する化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、(8)に記載の封止用フィルム。
(10) 後述する一般式(1)で表される化合物が、後述する一般式(6)〜一般式(21)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、(9)に記載の封止用フィルム。
(11) 後述する一般式(5)で表される化合物が、後述する一般式(51)〜一般式(54)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、(9)または(10)に記載の封止用フィルム。
(12) マイグレーション防止剤(B)が、後述する一般式(6)、後述する一般式(7)、後述する一般式(10)、後述する一般式(11)、後述する一般式(21)、後述する一般式(51)、後述する一般式(53)、および後述する一般式(54)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、(11)に記載の封止用フィルム。
(13) フッ素系樹脂(A)が、後述する一般式(P−1)で表される繰り返し単位を少なくとも有する高分子化合物である、(8)〜(12)のいずれかに記載の封止用フィルム。
(14) フッ素系樹脂(A)が、ケイ素原子に結合した水酸基または加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋し得るケイ素含有基を有する、(8)〜(13)のいずれかに記載の封止用フィルム。
(15) 基板と、基板上に配置された銀配線と、銀配線上に配置された(8)〜(14)のいずれかに記載の封止用フィルムとを備える配線基板。
(16) (8)〜(14)のいずれかに記載の封止用フィルムを含むTFT素子。
(17) (8)〜(14)のいずれかに記載の封止用フィルムを含むOLED素子。
(18) (8)〜(14)のいずれかに記載の封止用フィルムを含むLED素子。
また、本発明によれば、封止用フィルムおよびこの封止用フィルムを含む配線基板を提供することもできる。
まず、本発明の従来技術と比較した特徴点について詳述する。
本発明では、フッ素系樹脂と所定のフッ素含有率のマイグレーション防止剤とを所定量使用することにより、所望の効果が得られることを見出している。マイグレーション防止剤中に所定量のフッ素原子が含まれることにより、フッ素系樹脂との相溶性(親和性)が向上し、フッ素系樹脂からのブリードアウトが抑制され、面状特性が向上する。また、フッ素系樹脂中にマイグレーション防止剤が留まりやすくなったことにより、インマイグレーション抑制能もより向上する。
封止用樹脂組成物には、フッ素系樹脂(A)とマイグレーション防止剤(B)とが所定量含有される。
まず、フッ素系樹脂(A)およびマイグレーション防止剤(B)について詳述し、その後、封止用樹脂組成物の態様について詳述する。
フッ素系樹脂とは、フッ素原子が含まれる樹脂である。その種類は特に制限されず、フッ素原子が含まれていればよい。なお、フッ素系樹脂としては、水との接触角が85°以上が好ましく、好ましくは95°以上がより好ましい。
フッ素系樹脂としては、例えば、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体(ETFE)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルコキシエチレン共重合体(PFA)、パーフルオロ(ブテニルビニルエーテル)の環化重合体などが挙げられる。
また、フッ素系樹脂としては、フッ素含有(メタ)アクリル系単量体を重合させて得られる樹脂であってもよい。フッ素含有(メタ)アクリル系単量体としては、例えば、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、パーフロロオクチルエチルメタクリレート、パーフロロオクチルエチルアクリレートなどが挙げられる。
フッ素系樹脂としては、市販品(サイトップ(登録商標)(旭硝子製)、テフロン(登録商標)AF(デュポン製)、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン(旭硝子製)、オプスター(JSR製))を使用することもできる。
フッ素含有率は、フッ素系樹脂の全分子量中におけるフッ素原子の占める質量の割合(含有率)を表したものである。
フッ素系樹脂中における一般式(P−1)で表される繰り返し単位の含有率は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、全繰り返し単位に対して、60モル%以上が好ましく、98モル%以下が好ましい。
なお、ケイ素含有基としては、より具体的には、以下の一般式(P−2)で表される基であることが好ましい。
一般式(P−2) −Si(Ra)x(Rb)y
Raは、水酸基または加水分解性基を表す。Rbは、非加水分解性基を表す。xは1〜3の整数を表し、yは0〜2の整数を表し、x+y=3の関係を満たす。
加水分解性基は、シラノール基を生成することができる基や、シロキサン縮合物を形成することができる基を表し、具体的には、ハロゲン基、アルコキシ基、アシルオキシ基、イソシアネート基などが挙げられる。なかでも、アルコキシ基(炭素数1〜2が好ましい)が好ましく挙げられる。
非加水分解性基としては、例えば、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基などの脂肪族炭化水素基や、アリール基などの芳香族炭化水素基、またはそれらを組み合わせた基などが挙げられる。
マイグレーション防止剤(マイグレーション抑制剤)は、銀イオンなどをトラップして、イオンマイグレーションを抑制する化合物である。
本発明で使用されるマイグレーション防止剤のフッ素含有率は35質量%以上65質量%未満である。なかでも、封止用樹脂組成物より形成される封止層(封止用フィルム)のイオンマグレーション抑制能がより優れると共に、面状特性にもより優れる点で、40〜60質量%が好ましく、42〜55質量%がより好ましい。
フッ素含有率が35質量%未満の場合、上記フッ素系樹脂との相溶性に劣り、封止層のイオンマイグレーション抑制能および面状特性が劣る。フッ素含有率が65質量%以上の場合、分子内のマイグレーション防止する部位の割合が減少し、実質的に多くのマイグレーション防止剤を添加する必要があり、溶解性、相溶性などで問題が生じる。
なお、フッ素含有率とは、マイグレーション防止剤の全分子量中におけるフッ素原子の占める質量の割合(含有率)を表したものである。
なかでも、封止用樹脂組成物より形成される封止層(封止用フィルム)のイオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、後述する一般式(1)〜(5)で表される化合物、一般式(22)で表される化合物、一般式(23)で表される化合物、一般式(24)で表される基と一般式(25)で表される基とを有する化合物が好ましい。
まず、一般式(1)で表される化合物について説明する。
P−(CR1=Y)n−Q 一般式(1)
一般式(1)中、PおよびQは、それぞれ独立に、OH、NR2R3またはCHR4R5を表す。ただし、nが0であるとき、PおよびQの両方がCHR4R5であることはなく、PおよびQの両方がOHであることもない。Yは、CR6または窒素原子を表す。
窒素原子に置換可能な基としては窒素原子に置換できる基であれば特に制限されないが、例えば、アルキル基(シクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、またはこれらの組み合わせなどが挙げられる。
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに置換されていてもよい。
好ましい例としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、sec−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、t−ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロペンチル、オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシル、ドコシル、トリアコンチルなどを挙げることができる。さらに好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルであり、特に好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルである。
なお、アルキル基には、−CO−、−NH−、−O−、−S−、またはこれらを組み合わせた基などの連結基が含まれていてもよい。なお、アルキル基中に上記連結基が含まれる場合、その位置は特に制限されず、末端であってもよい。例えば、−S−Rx(Rx:アルキル基)であってもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよび複素環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、またはこれらの組み合わせが挙げられる。
R2およびR3で表されるアルケニル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、アルケニル基には、上記アルキル基と同様に、−CO−、−NH−、−O−、−S−またはこれらを組み合わせた基などの連結基が含まれていてもよい。
R2およびR3で表されるアルキニル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、アルキニル基には、上記アルキル基と同様に、−CO−、−NH−、−O−、−S−またはこれらを組み合わせた基などの連結基が含まれていてもよい。
さらに好ましくは、フェニル、2−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2−エチルフェニル、4−エチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、2−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2−ベンジルフェニル、4−ベンジルフェニルなどを挙げることができ、特に好ましくは、フェニル、2−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、2−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2−ベンジルフェニル、4−ベンジルフェニルなどを挙げることができる。
R2およびR3で表されるアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
R4およびR5で表される置換基としては、前述のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、これらを組み合わせた基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のR2およびR3の例を挙げることができる。
R4およびR5で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
R1およびR6で表される置換基としては、前述のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、これらを組み合わせた基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のR2およびR3の例を挙げることができる。
R1およびR6で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、二つの基が結合する際には、単結合、二重結合および三重結合のいずれかの結合形式が含まれていてもよい。
なお、R1〜R6の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)は、フッ素原子で置換されていることが好ましい。なかでも、フッ素原子は、フルオロアルキル基(以下、Rf基もいう)またはRf基で置換された基として含まれることが好ましい。つまり、R1〜R6の少なくとも一つの基中には、フルオロアルキル基が含まれることが好ましい。
Rf基は、炭素原子数1ないし14の直鎖もしくは分岐のパーフルオロアルキル基、または、炭素原子数1ないし14の直鎖もしくは分岐のパーフルオロアルキル基で置換された、炭素原子数2ないし20の置換基であることが好ましい。
炭素原子数1ないし14の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基の例としては、CF3−、C2F5−、C3F7−、C4F9−、C5F11−、(CF3)2−CF−(CF2)2−、C6F13−、C7F15−、(CF3)2−CF−(CF2)4−、C8F17−、C9F19−、C10F21−、C12F25−およびC14F29−を挙げることができる。
炭素原子数1ないし14のパーフルオロアルキル基により置換された炭素原子数2ないし20の置換基の例としては、(CF3)2CF(CF2)4(CH2)2−、C9F19CH2−、C8F17CH2CH(OH)CH2−、C8F17CH2CH(OH)CH2OC=OCH2−、(CF3)2CF(CF2)4(CH2)2OC=OCH2−、C8F17CH2CH(OH)CH2OC=O(CH2)2−、(CF3)2CF(CF2)4(CH2)2OC=O(CH2)2−、(CF3)2CFOC2F4−、CF3CF2 CF2O〔CF(CF3)CF2O〕4−CF(CF3)−、などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Rf基は分子中に1ないし4個含まれることが好ましい。
なお、上述した一般式(1)で表される化合物は、2種以上使用してもよい。
なお、一般式(6)〜一般式(21)で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれる。
一般式(6)において、V6は置換基を表す。aは、1〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。なお、V6のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。つまり、V6が1つの場合、その置換基にはフッ素原子が含まれ、V6が2つ以上の場合、少なくとも1つのV6にフッ素原子が含まれていればよい。フッ素原子は、少なくとも1つのV6で表される基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)に置換して導入されることが好ましい。なかでも、V6中に上述したRf基が含まれることが好ましい。
V6で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(6)に複数のV6が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
以下に、一般式(6)で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下、化合物の構造式に併記した百分率表示は、フッ素原子の質量含率(フッ素含有率)を示すものである。
一般式(7)において、V7は置換基を表す。aは、1〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。なお、V7のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。つまり、V7が1つの場合、その置換基にはフッ素原子が含まれ、V7が2つ以上の場合、少なくとも1つのV7にフッ素原子が含まれていればよい。フッ素原子は、少なくとも1つのV7で表される基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)に置換して導入されることが好ましい。なかでも、V7中に上述したRf基が含まれることが好ましい。
V7で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(7)に複数のV7が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
以下に、一般式(7)で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。
一般式(8)において、V8は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V8で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(8)に複数のV8が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
V8、R81およびR82のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、V8、R81およびR82の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、V8、R81およびR82のうち少なくとも1つには、上述したRf基が含まれることがより好ましい。
なお、V8が複数ある場合、複数のV8、R81およびR82のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(9)において、V9は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V9で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(9)に複数のV9が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
V9、R91およびR92のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、V9、R91およびR92の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、V9、R91およびR92のうち少なくとも1つには、上述したRf基が含まれることがより好ましい。
なお、V9が複数ある場合、複数のV9、R91およびR92のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(10)において、V10は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V10で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(10)に複数のV10が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
R101およびR102で表される置換基としては、前述のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または、アリール基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のR2およびR3の例を挙げることができる。
R101およびR102が置換基を表す場合、これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式(1)のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、V10が複数ある場合、複数のV10、R101およびR102のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(11)において、V11は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V11で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(11)に複数のV11が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
R111およびR112で表される置換基としては、前述のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または、アリール基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のR2およびR3の例を挙げることができる。
R111またはR112が置換基を表す場合、これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式(1)のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、V11が複数ある場合、複数のV11、R111およびR112のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(12)において、V12は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V12で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(12)に複数のV12が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
なお、V12が複数ある場合、複数のV12、R121、R122、R123およびR124のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(13)において、V13は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V13で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(13)に複数のV13が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
なお、V13が複数ある場合、複数のV13、R131、R132、R133およびR134のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(14)において、V14は置換基を表す。cは、1〜2の整数(好ましくは11)を表す。なお、V14のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。つまり、V14が1つの場合、その置換基にはフッ素原子が含まれ、V14が2つ以上の場合、少なくとも1つのV14にフッ素原子が含まれていればよい。フッ素原子は、少なくとも1つのV14で表される基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)に置換して導入されることが好ましい。なかでも、V14中に上述したRf基が含まれることがより好ましい。
V14で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(14)に複数のV14が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
一般式(15)において、V15は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V15で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(15)に複数のV15が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
なお、V15が複数ある場合、複数のV15、R151およびR152のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(16)において、V16は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V16で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(16)に複数のV16が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
なお、V16が複数ある場合、複数のV16、R161およびR162のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(17)において、V17は置換基を表す。dは、0または1を表す。V17で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(17)に複数のV17が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
なお、V17が複数ある場合、複数のV17、R171、R172およびR173のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(18)において、V18は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V18で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(18)に複数のV18が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
R181が置換基を表す場合、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式(1)のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、V18が複数ある場合、複数のV18およびR181のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(19)において、V19は置換基を表す。bは、0〜4の整数(好ましくは1〜2の整数を表し、より好ましくは1)を表す。V19で表される置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式(19)に複数のV19が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
R191が置換基を表す場合、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式(1)のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、V19が複数ある場合、複数のV19およびR191のうち少なくとも1つの基に、フッ素原子が含まれる。
一般式(20)において、R201、R202、R203およびR204は、それぞれ独立に、水素原子、または、窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式(1)のR2およびR3に例示した基を好ましく挙げることができる。
R201、R202、R203およびR204のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、R201、R202、R203およびR204の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、R201、R202、R203およびR204のうち少なくとも1つには、上述したRf基が含まれることがより好ましい。
一般式(21)において、R211およびR212は、それぞれ独立に、水素原子、または、窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式(1)のR2およびR3に例示した基を好ましく挙げることができる。
R211およびR212のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、R211およびR212の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、R211およびR212のうち少なくとも1つには、上述したRf基が含まれることがより好ましい。
上記Rx1、Rx2、A、およびX11は、さらに上述した置換基を有していてもよい。
次に、一般式(2)で表される化合物について説明する。
R7−C(=O)−H 一般式(2)
本発明において一般式(2)で表される化合物には、アルデヒド体とヘミアセタール体との間に平衡が存在することにより還元性を示す化合物(アルドースなど)や、ロブリー・ドブリュイン−ファン エッケンシュタイン転位反応によるアルドース−ケトース間の異性化によりアルデヒド体を形成しうる化合物(フルクトースなど)も含有する。
R7がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または、アリール基を表すとき、それぞれの好ましい例としては、前述のR2およびR3の例を挙げることができる。
R7が複素環基を表すとき、好ましくは5または6員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数3から30の5または6員の芳香族または、非芳香族の複素環基である。好ましい例としては、2−フラニル、2−チエニル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリル、2−ベンゾオキサゾリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、トリアゾリル、ベンゾトリアゾリル、チアジアゾリル、ピロリジニル、ピペリジニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、モルホリニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチエニルなどを挙げることができる。
R7としてさらに好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基であり、特に好ましくは、アルキル基、アリール基である。
R7で表されるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、複素環基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
また、R7で表される基中には、ヒドロキシル基、または、−COO−で表される基が含まれていてもよい。
次に、一般式(3)で表される化合物について説明する。
R8、R9およびR10で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式(1)のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
R8〜R10の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)は、フッ素原子で置換されている。なかでも、R8〜R10の少なくとも一つの基中には、上述したRf基が含まれることが好ましい。なお、一般式(3)で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれる。
次に、一般式(4)で表される化合物について説明する。
R11およびR12で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式(1)のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
R11〜R12の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)は、フッ素原子で置換されている。なかでも、R11〜R12の少なくとも一つの基中には、上述したRf基が含まれることが好ましい。なお、一般式(4)で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれる。
次に、一般式(5)で表される化合物について説明する。
Z−SH 一般式(5)
一般式(5)中、Zは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基および複素環基の好ましい例としては、前述の一般式(1)のR2およびR3の例を挙げることができる。
Zで表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式(1)のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
Zで表される基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)は、フッ素原子で置換されている。なかでも、Z中には、上述したRf基が含まれることが好ましい。なお、一般式(5)で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれる。
置換基としては、前述の一般式(1)においてR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。R511で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式(1)のR2およびR3で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、R511には、フッ素原子が含まれる。なかでも、R511中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、R511には、上述したRf基が含まれることがより好ましい。
R521、R522、およびR523のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。なかでも、R521、R522、およびR523のうち少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、R521、R522、およびR523のうち少なくとも一つの基中には、上述したRf基が含まれることがより好ましい。
R531およびR532のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。なかでも、R531およびR532のうち少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、R531およびR532のうち少なくとも一つの基中には、上述したRf基が含まれることがより好ましい。
R541には、フッ素原子が含まれる。なかでも、R541中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、R541には、上述したRf基が含まれることがより好ましい。
Ry1およびRy2がアルキル基を表すとき、好ましくは炭素数1〜30、さらに好ましくは炭素数1〜15、特に好ましくは1〜6であり、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−オクチル、エイコシル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、アミノエチル、N,N−ジメチルアミノメチル、2−クロロエチル、2−シアノエチル、2−ヒドロキシエチル、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、2−エチルヘキシルなどが好ましく挙げられる。
(CRy1Ry2)n1で表される構造として、好ましくは−CH2−、−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、であり、さらに好ましくは−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、であり、特に好ましくは−CH2CH2−である。
炭素原子数1〜14の直鎖状または分岐鎖状のパーフルオロアルキル基の例としては、CF3−、C2F5−、C3F7−、C4F9−、C5F11−、C6F13−、C7F15−、C8F17−、C9F19−、C10F21−、C12F25−、C14F29−などが挙げられる。
次に、一般式(22)で表される化合物について説明する。なお、一般式(22)で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれる。
上記フルオロアルキル基中の水素原子はフッ素原子以外の他のハロゲン原子に置換されていてもよい。他のハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。また、エーテル性酸素原子(−O−)は、フルオロアルキル基の炭素−炭素結合環に存在してもよく、フルオロアルキル基の末端に存在してもよい。また、フルオロアルキル基の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環を有する構造が挙げられ、直鎖構造が好ましい。
Rf1としては、ペルフルオロアルキル基または水素原子1個を含むポリフルオロアルキル基であることが好ましく、ペルフルオロアルキル基が特に好ましい(ただし、エーテル性酸素原子を有するものを含む。)。
Rf1としては、炭素原子数が4〜6のペルフルオロアルキル基、または、エーテル性酸素原子を有する炭素原子数が4〜9のペルフルオロアルキル基が好ましい。
Rf1の具体例としては、以下が挙げられる。
−CF3、−CF2CF3、−CF2CHF2、−(CF2)2CF3、−(CF2)3CF3、−(CF2)4CF3、−(CF2)5CF3、−(CF2)6CF3、−(CF2)7CF3、−(CF2)8CF3、−(CF2)9CF3、−(CF2)11CF3、−(CF2)15CF3、−CF(CF3)O(CF2)5CF3、−CF2O(CF2CF2O)pCF3(pは1〜8の整数)、−CF(CF3)O(CF2CF(CF3)O)qC6F13(qは1〜4の整数)、−CF(CF3)O(CF2CF(CF3)O)rC3F7(rは1〜5の整数)。
Rf1としては、特に−(CF2)CF3または−(CF2)5CF3が好ましい。
なかでも、フッ素原子、トリフルオロメチル基が好ましい。
L2は、単結合、または、水酸基若しくはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキレン基を表す。なかでも、炭素数1〜2のアルキレン基が好ましい。
L3は、単結合または炭素数1〜6のアルキレン基を表すなかでも、単結合または炭素数1〜2のアルキレン基が好ましい。
なかでも、−CO2−、−O−、−S−、−SO2NR222−、または、−CONR222−が好ましい。
ただし、Y1およびZ1がいずれも単結合以外の場合、L2はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキレン基を表す。
次に、一般式(23)で表される化合物について説明する。なお、一般式(23)で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれる。
(CR231R232)nで表される構造として、好ましくは−CH2−、−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、であり、さらに好ましくは−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、であり、特に好ましくは−CH2CH2−である。
(CR233R234)mで表される構造として、好ましくは、−CH2−、−CH2CH2−、−CH2CH(CH3)−、−CH2CH2CH2−、−CH2CH(OH)CH2−、−CH2CH(CH2OH)−であり、さらに好ましくは、−CH2−、−CH2CH2−、−CH2CH(OH)CH2−、−CH2CH2CH2−、であり、特に好ましくは、−CH2−、−CH2CH2−、である。
Y2が単結合または−CO−のとき、nは0を表し、mは0〜6の整数を表す。なかでも、mは0〜4が好ましく、1〜2がより好ましい。
Y2が−COO−のとき、nは1または2を表し、好ましくは2を表す。mは1〜6の整数を表し、1〜4が好ましく、1〜2がより好ましい。
パーフルオロアルキレン基の炭素数は1〜20であるが、2〜15が好ましく、3〜12がより好ましい。パーフルオロアルキレン基の具体例としては、例えば、−C4F8−、−C5F10−、−C6F12−、−C7F14−、−C8F16−、−C9F18−、−C10F20−、−C12F24−などが挙げられる。
パーフルオロエーテル基とは、上記パーフルオロアルキレン基中の1箇所以上の炭素−炭素原子間、またはパーフルオロアルキレン基の結合末端にエーテル性酸素原子(−O−)が挿入された基を意味する。パーフルオロアルキレン基の炭素数は1〜20であるが、2〜15が好ましく、3〜12がより好ましい。パーフルオロエーテル基の具体例としては、−(CgF2gO)h−(式中、gはそれぞれ独立に1〜20の整数であり、hは1以上の整数であり、g×h≦20以下の関係を満たす。)で表されるパーフルオロエーテル基が挙げられる。
次に、一般式(24)で表される基と一般式(25)で表される基とを有する化合物(以後、化合物Xとも称する)について説明する。なお、化合物Xには、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれる。
*は、結合位置を示す。
Rfは、エーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素原子数20以下のフルオロアルキル基、またはフッ素原子を表す。Rfの定義は、炭素原子数が異なる点を除いて上記Rf1と同義であり、好適態様も同義である。
*は、結合位置を示す。
Z2は、単結合、エステル基、アミド基、またはエーテル基を表す。
L4は、単結合または2価の有機基を表す。L4で表される有機基としては、直鎖、分岐、若しくは環状のアルキレン基、芳香族基、またはこれらを組み合わせた基であることが好ましい態様の1つである。該アルキレン基と芳香族基とを組み合わせた基は、さらに、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基を介していてもよい。なかでも、L4中の総炭素数が1〜15であることが好ましい。なお、ここで、総炭素数とは、例えば、L4で表される置換若しくは無置換の2価の有機基に含まれる総炭素原子数を意味する。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、フェニレン基、及びこれらの基が、メトキシ基、ヒドロキシル基、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等で置換されたもの、更には、これらを組み合わせた基が挙げられる。
L5は、単結合、または、炭素数1〜6のフッ素を有さない2価の有機基を表す。なかでも、炭素数2〜4のアルキレン基であることが好ましい。
なお、一般式(26)および一般式(27)中のR241〜R244、XおよびRfの定義は、上述の通りである。
ポリマー中における一般式(27)で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、10〜95モル%が好ましく、30〜90モル%がより好ましい。
ポリマーの重量平均分子量は特に制限されないが、イオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、3,000〜500,000が好ましく、5,000〜100,000がより好ましい。
また、一般式(5)、一般式(22)および一般式(23)で表される化合物は、金属に吸着可能な化合物、または金属イオンに配位可能な化合物として知られており、該化合物が、金属表面に吸着または、錯体形成して被膜を形成することにより、腐食防止、あるいは、防錆の効果を発揮しているか、発生した金属イオンと錯体を形成して、その拡散を抑制することにより、金属配線のマイグレーションを抑制しているものと推定される。
WaおよびWbのうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。なかでも、WaおよびWbのうち少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子(好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子)が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、WaおよびWbのうち少なくとも一つの基中には、上述したRf基として含まれることがより好ましい。
封止用樹脂組成物には、上述したフッ素系樹脂(A)とマイグレーション防止剤(B)とが含まれる。
フッ素系樹脂(A)とマイグレーション防止剤(B)との質量比((B)/(A))は、0.0010以上0.10未満である。なかでも、封止用樹脂組成物より形成される封止層(封止用フィルム)のイオンマイグレーション抑制能がより優れると共に、面状特性もより優れる点より、0.0025〜0.06が好ましく、0.010〜0.05がより好ましい。
質量比((B)/(A))が0.0010未満の場合、イオンマイグレーション抑制能に劣る。質量比((B)/(A))が0.10以上の場合、面状特性または絶縁性能が低下する。
例えば、封止用樹脂組成物には、溶媒が含まれていてもよい。溶媒が含まれることにより、封止用樹脂組成物の取扱い性が向上し、所望の膜厚の封止層を形成しやすくなる。
使用される溶媒の種類は特に制限されず、水または有機溶媒が挙げられる。
なお、使用される有機溶媒としては、例えば、アルコール系溶媒(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、sec-ブタノール、カルビトール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル)、ケトン系溶媒(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン)、芳香族炭化水素溶媒(例えば、トルエン、キシレン)、アミド系溶媒(例えば、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルプロピレンウレア)、ニトリル系溶媒(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル)、エステル系溶媒(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル)、カーボネート系溶媒(例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート)、エーテル系溶媒、ハロゲン系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒を、2種以上混合して使用してもよい。
塗布の方法は特に制限されず、公知の方法(バーコート法、スピンコート法、ナイフコート法、ドクターブレード法)が適用される。
また、必要に応じて、溶媒を除去するために、塗布後に乾燥処理を実施してもよい。乾燥処理の際の加熱条件は特に制限されないが、生産性の点から、50〜250℃(好ましくは80〜180℃)で5分〜2時間(好ましくは、10分〜1時間)程度加熱することが好ましい。
次に、本発明の封止用フィルムについて詳述する。
封止用フィルムには、上述したフッ素系樹脂(A)と、上述したマイグレーション防止剤(B)とが含まれる。フッ素系樹脂(A)とマイグレーション防止剤(B)との質量比も上述の封止用樹脂組成物中での質量比と同じであり、好適態様も同じである。封止用フィルムは、銀配線、または、銀配線を含む積層体を被覆するために使用される。
なお、封止用フィルムは、基材を有しないタイプ(基材レス封止用フィルム)であっても、基材の少なくとも一方の主面に封止用フィルムが配置された基材を有するタイプ(基材付き封止用フィルム。例えば、基材の両面に封止用フィルムを有する基材付き両面粘封止用フィルム、基材の片面にのみ封止用フィルムを有する基材付き片面封止用フィルム)であってもよい。
また、基材付き封止用フィルムの場合には、封止用樹脂組成物を基材表面に直接塗布、乾燥することにより作製してもよいし(直写法)、上記と同様にセパレータ上に封止用樹脂組成物の塗布膜を形成した後、基材と転写する(貼り合わせる)ことにより作製してもよい(転写法)。
次に、本発明の配線基板の好適態様について、図面を参照して詳述する。
図1は、配線基板の一実施態様の模式的断面図を示し、配線基板10は、基板12と、基板12上に配置された銀配線14と、銀配線14を覆う封止用フィルム18とを備える。なお、基板12と銀配線14とは、銀配線付き基板16を構成する。
以下に、各部材(基板12、銀配線14、封止用フィルム18)について詳述する。
基板は、銀配線を支持できるものであれば、その種類は特に制限されないが、絶縁性である絶縁基板が好ましい。例えば、有機基板、セラミック基板、ガラス基板などを使用することができる。
また、基板は、有機基板、セラミック基板、およびガラス基板からなる群から選ばれる少なくとも2つの基板が積層した構造であってもよい。
なお、有機基板の材料としては、ガラス織布、ガラス不織布、アラミド織布、アラミド不織布、芳香族ポリアミド織布や、これらに上記樹脂を含浸させた材料なども使用できる。
銀配線は、主に銀を含む。銀は銀合金の形態で含まれていてもよく、銀配線が銀合金を含む場合、銀以外の含有される金属としては、例えば、錫、パラジウム、金、ニッケル、クロムなどが挙げられる。なお、銀配線中に、本発明の効果を損なわない範囲で、バインダーなどの樹脂成分や感光性化合物などが含まれていてもよく、さらに必要に応じてその他の成分が含まれていてもよい。
銀配線間の間隔は特に制限されないが、配線基板の高集積化の点から、0.1〜1000μmが好ましく、0.1〜300μmがより好ましく、0.1〜100μmがさらに好ましく、0.2〜50μmが特に好ましい。
また、銀配線の形状は特に制限されず、任意の形状であってもよい。例えば、直線状、曲線状、矩形状、円状などが挙げられる。また、銀配線の配置(パターン)は特に制限あれず、例えば、ストライプ状が挙げられる。
さらに、図1において銀配線14は2つ設けられているが、その数は特に制限されない。通常、銀配線は複数設けられる。
また、図1では、銀配線14が一層の配線構造を例にあげたが、もちろんこれに限定されない。例えば、複数の銀配線と基板とを交互に積層した銀配線付き基板(多層配線基板)を使用することにより、多層配線構造の配線基板としてもよい。
封止用フィルムは、銀配線付き基板の銀配線側の表面に配置され、銀配線表面を覆い、銀配線間の銀のイオンマイグレーションを抑制するための層である。言い換えれば、封止用フィルムは銀イオン拡散抑制層に該当する。
封止用フィルムの定義は、上述の通りである。
反応容器に、3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸(3.5g,12.6mmol)、ジクロロメタン(20ml)、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ノナデカフルオロデカン−1−オール(6.3g,12.6mmol)、テトラヒドロフラン(10ml)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(2.4g,12.6mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(0.05g,0.4mmol)をこの順に加えた。
反応溶液を室温で3時間攪拌した後、反応溶液に1N塩酸(50ml)を加え、酢酸エチル100mlで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。固形分をろ別した後、減圧濃縮し、白色の粗結晶を得た。メタノールで再結晶を行い、化合物A−1を6.0g得た(収率63%)。
得られた化合物A−1の1H−NMRスペクトルは以下の通りである。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム、基準:テトラメチルシラン)
6.98(2H,s)、5.09(1H,s)、4.59(2H,t)、2.90(2H,t)、2.71(2H,t)、1.43(9H,s)
1H−NMRのデータにおいて、各プロトンのピークが特徴的な位置に観察されることから、化合物A−1であると同定した。
なお、化合物A−1のフッ素含有率は、47.5質量%であった。
反応容器に、1,3,4−チアジアゾール−2,5−ジチオール(和光純薬製)(4.0g,26.6mmol)、テトラヒドロフラン(80ml)を加えて完溶させた。その後、アクリル酸3,3,4,4,5,5,6,6,7,8,8,8−ドデカフルオロ−7−(トリフルオロメチル)オクチル(12.5g,26.6mmol)を、滴下漏斗から0.5時間かけて反応溶液に滴下した。反応溶液を65℃で6時間攪拌後、室温まで冷却し、反応溶液を減圧濃縮した。反応溶液にヘキサン200mLを添加し、氷浴にて冷却して、粗結晶16gを得た。粗結晶のうち8gをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(移動相:ヘキサン/酢酸エチル=2/1〜1/1)にて精製し、本発明の化合物A−2を6g得た(収率72%)。
得られた化合物A−2の1H−NMRスペクトルは以下の通りである。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム、基準:テトラメチルシラン)
11.1(1H,br)、4.44(2H,t)、3.40(2H,t)、2.85(2H,t)、2.49(2H,t)、2.49(2H,m)
1H−NMRのデータにおいて、各プロトンのピークが特徴的な位置に観察されることから、化合物A−2であると同定した。
なお、化合物A−2のフッ素含有率は、47.2質量%であった。
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ノナデカフルオロデカン−1−オールの代わりに2,2,2−トリフルオロエタノールを使用した以外は、合成例1と同様の手順に従い、化合物A−3を合成した。
なお、化合物A−3のフッ素含有率は15.8質量%であった。
Journal of Organic Chemistry、2005、vol.70、1328-1339の化合物3cの合成例に従い、化合物A−4を合成した。
なお、化合物A−4のフッ素含有率は、0質量%である。
反応容器に、1H−ベンゾトリアゾール−5−カルボン酸(1.5g,9.19mmol)、テトラヒドロフラン(27ml)、ジメチルホルムアミド(3ml)、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロ−1−オクタノール(3.35g,9.19mmol)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(1.76g,9.19mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(0.11g,0.91mmol)をこの順に加えた。70℃で24時間攪拌した後、水50mlを加え、酢酸エチル100mlで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。固形分をろ別した後、溶液を減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(移動相:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)にて精製し、化合物A−5を3.1g得た(収率66%)。
なお、化合物A−5のフッ素含有率は、48.5質量%であった。
下記スキームに従って、化合物A−6Aを合成した。
得られた本発明の化合物A−6のNMRスペクトルは以下の通りであった。
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム、基準:テトラメチルシラン):4.43(2H,t)、3.60(2H,t)、2.95(2H,t)、2.49(2H,m)
1H−NMRのデータにおいて、各プロトンのピークが特徴的な位置に観察されることから、化合物A−6であると同定した。
なお、化合物A−6のフッ素含有率は、43.5質量%であった。
300mLの三口フラスコに、4−メチル−2−ペンタノン(和光純薬工業(株)製)27.3gを入れ、窒素気流下、80℃まで加熱した。そこへ、アクリル酸3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロ−オクチル37.6g、グリシジルメタクリレート(東京化成工業(株)製)1.42g、V−601(和光純薬工業(株)製)0.92g、4−メチル−2−ペンタノン(和光純薬工業(株)製)63.8g溶液を、4時間かけて滴下した。滴下終了後、2時間撹拌後、90℃に昇温し、さらに2時間攪拌した。上記の反応溶液に、3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸3.34g、ジメチルドデシルアミン(和光純薬工業(株)製)0.21gを加え、120℃に加熱し24時間反応させた。反応終了後、ヘキサン500ml、酢酸エチル500mlを加え、有機層を5%クエン酸水溶液300mlで洗浄後、5%アンモニア水溶液300mlで洗浄した。さらに5%クエン酸水溶液300mlで洗浄後、水300mlで洗浄した。有機層を減圧濃縮後、ヘキサンで再沈を行い、減圧化で乾燥し、化合物A−7(Mw=7,000)を30g得た。なお、重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)法で測定されたポリスチレン換算値である。重量平均分子量のGPC法による測定は、ポリマーをテトラヒドロフランに溶解させ、東ソー(株)製高速GPC(HLC−8220GPC)を用い、カラムとして、TSKgel SuperHZ4000(TOSOH製、4.6mmI.D.×15cm)を用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いて行った。
なお、化合物A−7のフッ素含有率は、53.1質量%であった。
化合物A−7は、一般式(24)で表される基と一般式(25)で表される基とを有する化合物に該当する。
(封止用樹脂組成物の製造)
後述するフッ素系樹脂(B−1またはB−2)に対して、上述した化合物A−1〜A−7の各マイグレーション防止剤を下表1の質量比に従って添加し、封止用樹脂組成物を製造した。なお、マイグレーション防止剤を添加する際、マイグレーション防止剤をヘキサフルオロイソプロパノールに溶解させて添加した。
(フッ素系樹脂)
B−1:サイトップCTL−809M(旭硝子株式会社製)
B−2:サイトップCTX−809AP2(旭硝子株式会社製)
ガラスポキシ多層材料MCL−E−67(日立化成社製)の銅部分をエッチングして得られたガラスエポキシ基板上に、ナノペーストNPS−JL(ハリマ化成社製)を硬化後の膜厚が0.2μmになる様にスピンコートし、180℃で1時間硬化処理を行った。次にこの銀膜上にフォテックRY−3310(日立化成社製)を真空ラミネートし、L/S=30μm/30μm櫛形配線形状のフォトマスクを介して露光、現像を行ったのち、アグリップ940(メルテックス社製)を用いRY−3310非被覆部の銀を除き、その後RY−3310を剥離して試験用銀配線付き基板を作製した。
(面状評価方法)
評価方法としては、まず、作製した試験用銀配線付き基板上に、封止層(封止用フィルム)の膜厚が1.5μmになる様に上記封止用樹脂組成物のスピンコートを行い、200℃、1時間の条件で硬化処理を施し、試験用配線基板を作製した。作製された試験用配線基板の封止層部分に対して光学顕微鏡観察を行い、以下の基準に従って、評価した。結果を表1にまとめて示す。なお、実用上はB以上が使用可能であり、Aが好ましい。結果を表2にまとめて示す。
「A」:封止層は透明であり、ヘイズや表面凹凸が確認されない場合
「B」:封止層に僅かながらヘイズが観測されるが、可視光透過率70%以上を確保している場合
「C」:封止層にヘイズや凹凸が大きく発生し、可視光透過率が70%未満である場合
面状評価方法で作製した試験用配線基板を用いて、JIS K5600―5―6((ISO 2409)クロスカット法、Elcometer社ISO付着テープ/STANDARD使用)に従って封止層の密着性を測定し、以下の基準に従って評価した。なお、実用上、B以上であることが必要である。結果を表2にまとめて示す。
「A」:JIS K5600―5―6において分類0
「B」:分類1〜2
「C」:分類3〜5
面状評価方法で作製した試験用配線基板を用いて、湿度85%、温度85℃、圧力1.0atm、電圧30Vの条件で寿命測定(使用装置:エスペック(株)社製、EHS−221MD)を行った。
評価方法としては、試験用配線基板を用いて上記条件で寿命測定を行い、銀配線間の抵抗値が1×105Ωになるまでの時間T1を測定した。
次に、マイグレーション抑制剤を含まない封止用樹脂組成物を用いて作製した比較用配線基板を使用し同様の方法で寿命測定を行い、銀配線間の抵抗値が1×105Ωになるまでの時間T2を測定した。
得られた時間T1および時間T2を用いて寿命の改善効果(T1/T2)を計算した。以下の基準に従って、評価した。結果を表1にまとめて示す。なお、実用上はC以上が使用可能であり、B以上が好ましい。結果を表2にまとめて示す。
「A」:T1/T2≧5の場合
「B」:5>T1/T2≧2の場合
「C」:2>T1/T2>1の場合
「D」:1≧T1/T2の場合
なお、フッ素系樹脂としてB−1を使用した実施例1〜6、9〜11および比較例1〜3では、B−1のみで封止層を作製した比較用配線基板を用いて、上記評価を行う。
また、フッ素系樹脂としてB−2を使用した実施例7〜8では、B−2のみで封止層を作製した比較用配線基板を用いて、上記評価を行う。
また、実施例1〜6と実施例7〜8との比較から分かるように、フッ素系樹脂として上述したケイ素含有基を含む場合、密着性がより優れることが確認された。
実施例2、9、10の比較から分かるように、化合物A−5(一般式(22)で表される化合物)、化合物A−6(一般式(23)で表される化合物)を使用した場合、絶縁特性がより優れることが確認された。
12 基板
14 銀配線
16 銀配線付き基板
18 封止用フィルム
Claims (16)
- 銀配線、または、銀配線を含む積層体を被覆する封止用樹脂組成物であって、
フッ素系樹脂(A)と、フッ素含有率が35質量%以上65質量%未満であるマイグレーション防止剤(B)とを含み、
前記フッ素系樹脂(A)と前記マイグレーション防止剤(B)との質量比((B)/(A))が0.0010以上0.10未満であり、
前記マイグレーション防止剤(B)が、下記一般式(1)で表される化合物、一般式(5)で表される化合物、一般式(22)で表される化合物、一般式(23)で表される化合物、および、一般式(24)で表される基と一般式(25)で表される基とを有する化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、封止用樹脂組成物。
P−(CR 1 =Y) n −Q 一般式(1)
(一般式(1)中、PおよびQは、それぞれ独立に、OH、NR 2 R 3 またはCHR 4 R 5 を表す。R 2 およびR 3 は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。R 4 およびR 5 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Yは、CR 6 または窒素原子を表す。R 1 およびR 6 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 、またはR 6 で表される基は、そのうちの少なくとも二つの基が互いに結合して環を形成していてもよい。nは0〜5の整数を表す。ただし、nが0であるとき、PおよびQの両方がCHR 4 R 5 であることはなく、PおよびQの両方がOHであることもない。nが2以上の数を表すとき、(CR 1 =Y)で表される複数の原子群は、同一であっても異なっていてもよい。
なお、R 1 〜R 6 の少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。)
Z−SH 一般式(5)
(一般式(5)中、Zは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。なお、Zで表される基中の一部または全部の水素原子は、フッ素原子で置換されている。また、Zで表される基には、置換基が含まれていてもよい。)
(一般式(22)中、Rf 1 は、エーテル性酸素原子を有してもよい水素原子の少なくとも一つがフッ素原子に置換された炭素数22以下のフルオロアルキル基、またはフッ素原子を表す。X 1 は、水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。L 1 は、単結合または炭素数1〜6のアルキレン基を表す。L 2 は、単結合、または、水酸基若しくはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキレン基を表す。L 3 は、単結合または炭素数1〜6のアルキレン基を表す。Y 1 およびZ 1 は、単結合、−CO 2 −、−CO−、−OC(=O)O−、−SO 3 −、−CONR 222 −、−NHCOO−、−O−、−S−、−SO 2 NR 222 −、または、−NR 222 −を表す。R 222 は、水素原子または炭素数1〜5のアルキレン基を表す。R 221 は、水素原子、炭素数1〜8に直鎖若しくは分岐のアルキル基、またはRf 1 −CFX 1 −L 1 −Y 1 ―L 2 −Z 1 −L 3 −を表す。
ただし、Y 1 およびZ 1 がいずれも単結合以外の場合、L 2 はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキレン基を表す。)
(一般式(23)中、R 231 およびR 232 は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。R 233 およびR 234 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Y 2 は、単結合、−CO−、または−COO−を表す。Rf 2 は、炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐のパーフルオロアルキレン基、または、炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐のパーフルオロエーテル基を表す。Y 2 が単結合または−CO−のとき、nは0表し、mは0〜6の整数を表す。Y 2 が−COO−のとき、nは1または2を表し、mは1から6の整数を表す。pは2〜3の整数を表し、lは0〜1の整数を表し、p+l=3の関係を満たす。)
(一般式(24)中、R 241 、R 242 、R 243 、およびR 244 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。*は、結合位置を示す。
一般式(25)中、Xは、水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。Rfは、エーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素原子数20以下のフルオロアルキル基、またはフッ素原子を表す。*は、結合位置を示す。) - 前記一般式(1)で表される化合物が、一般式(6)〜一般式(21)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の封止用樹脂組成物。
(一般式(6)中、V6は置換基を表す。aは、1〜4の整数を表す。なお、V6のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(7)中、V7は置換基を表す。aは、1〜4の整数を表す。なお、V7のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(8)中、V8は置換基を表す。R81およびR82は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V8、R81およびR82のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(9)中、V9は置換基を表す。R91およびR92は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V9、R91およびR92のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(10)中、V10は置換基を表す。R101およびR102は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V10、R101およびR102のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(11)中、V11は置換基を表す。R111およびR112は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V11、R111およびR112のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(12)中、V12は置換基を表す。R121、R122、R123およびR124は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V12、R121、R122、R123およびR124のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(13)中、V13は置換基を表す。R131、R132、R133およびR134は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V13、R131、R132、R133およびR134のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(14)中、V14は置換基を表す。cは、1〜2の整数を表す。なお、V14のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(15)中、V15は置換基を表す。R151およびR152は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V15、R151およびR152のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(16)中、V16は置換基を表す。R161およびR162は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V16、R161およびR162のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(17)中、V17は置換基を表す。R171、R172およびR173は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。dは、0または1を表す。なお、V17、R171、R172およびR173のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(18)中、V18は置換基を表す。R181は、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V18およびR181のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(19)中、V19は置換基を表す。R191は、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V19およびR191のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(20)中、R201、R202、R203およびR204は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R201、R202、R203およびR204のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(21)中、R211およびR212は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R211およびR212のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。) - 前記一般式(5)で表される化合物が、一般式(51)〜一般式(54)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の封止用樹脂組成物。
(一般式(51)中、R511は、フッ素原子が含まれる置換基を表す。
一般式(52)中、R521およびR522は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。R521およびR522は、互いに結合して環を形成していてもよい。R523は、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R521、R522、およびR523のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。
一般式(53)中、R531は水素原子または置換基を表す。R532は、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R531およびR532のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。
一般式(54)中、R541は、フッ素原子が含まれる窒素原子に置換可能な基を表す。
) - 前記マイグレーション防止剤(B)が、一般式(6)、一般式(7)、一般式(10)、一般式(11)、一般式(21)、一般式(51)、一般式(53)、および一般式(54)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の封止用樹脂組成物。
(一般式(6)中、V 6 は置換基を表す。aは、1〜4の整数を表す。なお、V 6 のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(7)中、V 7 は置換基を表す。aは、1〜4の整数を表す。なお、V 7 のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(10)中、V 10 は置換基を表す。R 101 およびR 102 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V 10 、R 101 およびR 102 のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(11)中、V 11 は置換基を表す。R 111 およびR 112 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V 11 、R 111 およびR 112 のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(21)中、R 211 およびR 212 は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R 211 およびR 212 のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(51)中、R 511 は、フッ素原子が含まれる置換基を表す。
一般式(53)中、R 531 は水素原子または置換基を表す。R 532 は、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R 531 およびR 532 のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。
一般式(54)中、R 541 は、フッ素原子が含まれる窒素原子に置換可能な基を表す。) - 前記フッ素系樹脂(A)が、一般式(P−1)で表される繰り返し単位を少なくとも有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の封止用樹脂組成物。
- 前記フッ素系樹脂(A)が、ケイ素原子に結合した水酸基または加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋し得るケイ素含有基を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の封止用樹脂組成物。
- 銀配線、または、銀配線を含む積層体を被覆する封止用フィルムであって、
フッ素系樹脂(A)と、フッ素含有率が35質量%以上65質量%未満であるマイグレーション防止剤(B)とを含み、
前記フッ素系樹脂(A)と前記マイグレーション防止剤(B)との質量比(B)/(A)が0.0010以上0.10未満であり、
前記マイグレーション防止剤(B)が、下記一般式(1)で表される化合物、一般式(5)で表される化合物、一般式(22)で表される化合物、一般式(23)で表される化合物、および、一般式(24)で表される基と一般式(25)で表される基とを有する化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、封止用フィルム。
P−(CR 1 =Y) n −Q 一般式(1)
(一般式(1)中、PおよびQは、それぞれ独立に、OH、NR 2 R 3 またはCHR 4 R 5 を表す。R 2 およびR 3 は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。R 4 およびR 5 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Yは、CR 6 または窒素原子を表す。R 1 およびR 6 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 、またはR 6 で表される基は、そのうちの少なくとも二つの基が互いに結合して環を形成していてもよい。nは0〜5の整数を表す。ただし、nが0であるとき、PおよびQの両方がCHR 4 R 5 であることはなく、PおよびQの両方がOHであることもない。nが2以上の数を表すとき、(CR 1 =Y)で表される複数の原子群は、同一であっても異なっていてもよい。
なお、R 1 〜R 6 の少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。)
Z−SH 一般式(5)
(一般式(5)中、Zは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。なお、Zで表される基中の一部または全部の水素原子は、フッ素原子で置換されている。また、Zで表される基には、置換基が含まれていてもよい。)
(一般式(22)中、Rf 1 は、エーテル性酸素原子を有してもよい水素原子の少なくとも一つがフッ素原子に置換された炭素数22以下のフルオロアルキル基、またはフッ素原子を表す。X 1 は、水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。L 1 は、単結合または炭素数1〜6のアルキレン基を表す。L 2 は、単結合、または、水酸基若しくはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキレン基を表す。L 3 は、単結合または炭素数1〜6のアルキレン基を表す。Y 1 およびZ 1 は、単結合、−CO 2 −、−CO−、−OC(=O)O−、−SO 3 −、−CONR 222 −、−NHCOO−、−O−、−S−、−SO 2 NR 222 −、または、−NR 222 −を表す。R 222 は、水素原子または炭素数1〜5のアルキレン基を表す。R 221 は、水素原子、炭素数1〜8に直鎖若しくは分岐のアルキル基、またはRf 1 −CFX 1 −L 1 −Y 1 ―L 2 −Z 1 −L 3 −を表す。
ただし、Y 1 およびZ 1 がいずれも単結合以外の場合、L 2 はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜6のアルキレン基を表す。)
(一般式(23)中、R 231 およびR 232 は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。R 233 およびR 234 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Y 2 は、単結合、−CO−、または−COO−を表す。Rf 2 は、炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐のパーフルオロアルキレン基、または、炭素数1〜20の直鎖若しくは分岐のパーフルオロエーテル基を表す。Y 2 が単結合または−CO−のとき、nは0表し、mは0〜6の整数を表す。Y 2 が−COO−のとき、nは1または2を表し、mは1から6の整数を表す。pは2〜3の整数を表し、lは0〜1の整数を表し、p+l=3の関係を満たす。)
(一般式(24)中、R 241 、R 242 、R 243 、およびR 244 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。*は、結合位置を示す。
一般式(25)中、Xは、水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。Rfは、エーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素原子数20以下のフルオロアルキル基、またはフッ素原子を表す。) - 前記一般式(1)で表される化合物が、一般式(6)〜一般式(21)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項7に記載の封止用フィルム。
(一般式(6)中、V6は置換基を表す。aは、1〜4の整数を表す。なお、V6のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(7)中、V7は置換基を表す。aは、1〜4の整数を表す。なお、V7のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(8)中、V8は置換基を表す。R81およびR82は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V8、R81およびR82のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(9)中、V9は置換基を表す。R91およびR92は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V9、R91およびR92のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(10)中、V10は置換基を表す。R101およびR102は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V10、R101およびR102のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(11)中、V11は置換基を表す。R111およびR112は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V11、R111およびR112のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(12)中、V12は置換基を表す。R121、R122、R123およびR124は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V12、R121、R122、R123およびR124のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(13)中、V13は置換基を表す。R131、R132、R133およびR134は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V13、R131、R132、R133およびR134のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(14)中、V14は置換基を表す。cは、1〜2の整数を表す。なお、V14のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(15)中、V15は置換基を表す。R151およびR152は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V15、R151およびR152のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(16)中、V16は置換基を表す。R161およびR162は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V16、R161およびR162のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(17)中、V17は置換基を表す。R171、R172およびR173は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。dは、0または1を表す。なお、V17、R171、R172およびR173のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(18)中、V18は置換基を表す。R181は、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V18およびR181のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(19)中、V19は置換基を表す。R191は、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V19およびR191のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(20)中、R201、R202、R203およびR204は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R201、R202、R203およびR204のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(21)中、R211およびR212は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R211およびR212のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。) - 前記一般式(5)で表される化合物が、一般式(51)〜一般式(54)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項7に記載の封止用フィルム。
(一般式(51)中、R511は、フッ素原子が含まれる置換基を表す。
一般式(52)中、R521およびR522は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。R521およびR522は、互いに結合して環を形成していてもよい。R523は、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R521、R522、およびR523のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。
一般式(53)中、R531は水素原子または置換基を表す。R532は、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R531およびR532のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。
一般式(54)中、R541は、フッ素原子が含まれる窒素原子に置換可能な基を表す。
) - 前記マイグレーション防止剤(B)が、一般式(6)、一般式(7)、一般式(10)、一般式(11)、一般式(21)、一般式(51)、一般式(53)、および一般式(54)で表される化合物からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項7に記載の封止用フィルム。
(一般式(6)中、V 6 は置換基を表す。aは、1〜4の整数を表す。なお、V 6 のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(7)中、V 7 は置換基を表す。aは、1〜4の整数を表す。なお、V 7 のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。
一般式(10)中、V 10 は置換基を表す。R 101 およびR 102 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V 10 、R 101 およびR 102 のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(11)中、V 11 は置換基を表す。R 111 およびR 112 は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。bは、0〜4の整数を表す。なお、V 11 、R 111 およびR 112 のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(21)中、R 211 およびR 212 は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R 211 およびR 212 のうち少なくとも1つには、フッ素原子が含まれる。
一般式(51)中、R 511 は、フッ素原子が含まれる置換基を表す。
一般式(53)中、R 531 は水素原子または置換基を表す。R 532 は、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。なお、R 531 およびR 532 のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。
一般式(54)中、R 541 は、フッ素原子が含まれる窒素原子に置換可能な基を表す。) - 前記フッ素系樹脂(A)が、一般式(P−1)で表される繰り返し単位を少なくとも有する高分子化合物である、請求項7〜10のいずれか一項に記載の封止用フィルム。
- 前記フッ素系樹脂(A)が、ケイ素原子に結合した水酸基または加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋し得るケイ素含有基を有する、請求項7〜11のいずれか一項に記載の封止用フィルム。
- 基板と、前記基板上に配置された銀配線と、前記銀配線上に配置された請求項7〜12のいずれか一項に記載の封止用フィルムとを備える配線基板。
- 請求項7〜12のいずれか一項に記載の封止用フィルムを含むTFT素子。
- 請求項7〜12のいずれか一項に記載の封止用フィルムを含むOLED素子。
- 請求項7〜12のいずれか一項に記載の封止用フィルムを含むLED素子。
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