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JP6007247B2 - Combustion gas processing equipment - Google Patents
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Description

本発明は、燃焼ガス処理装置に関し、詳しくは、焼却炉などから排出される燃焼ガスの無害化処理に有用な燃焼ガス処理装置に関する。   The present invention relates to a combustion gas processing apparatus, and more particularly to a combustion gas processing apparatus useful for detoxifying a combustion gas discharged from an incinerator or the like.

焼却炉などから排出される燃焼ガスには、有害物質や悪臭物質が含まれている。焼却炉などから排出される燃焼ガスに対しては、一般的に、以下の(i)〜(iv)の処理が施される。
(i)焼却炉などから排出される燃焼ガスに、磁気加熱処理(ラジウムおよびネオジムなどの磁気を利用した燃焼釜にて、400℃〜600℃の温度にガスを加熱する処理)を施す。
(ii)磁気加熱処理が施された燃焼ガスに、二次加熱処理(灯油や重油などを用い、800℃〜900℃の温度にガスを加熱し、ダイオキシン類を燃焼させる処理)を施す。
(iii)磁気加熱処理により生じた焼却灰に、灰溶融処理(溶融炉にて、1400〜1600℃の温度に焼却灰を加熱し、灰を溶融させる処理)を施す。そして、生じたスラッジは排出し、生じたガスには、上記(ii)の二次加熱処理を施す。
(iv)二次加熱処理が施された燃焼ガスに、冷却処理(例えば80℃の温度までガスを急速に冷却する処理)を施す。なお、この冷却処理により、水銀などの重金属や、セシウムなどの放射性物質といった有害物質が、ガス状態から固体状態(塵など)に変化する。
従来は、冷却処理後の燃焼ガスから有害物質や悪臭物質を除去するために、バッグフィルターや電気集塵機が用いられていた。しかしながら、バッグフィルターは、所定量の燃焼ガスを処理するごとにフィルターを交換する必要がある点や、燃焼ガスにより発火する恐れがある点で問題がある。また、電気集塵機は、所定量の燃焼ガスを処理するごとに装置の除塵などを行う必要がある点で問題がある。
そこで、上記のような問題を考慮して、フィルターの交換や装置の除塵などの必要がないスクラバー装置を用いることも検討されている(例えば、特許文献1)。このスクラバー装置では、燃焼ガスを処理液と接触させることで、燃焼ガスから有害物質や悪臭物質を除去できる。
The combustion gas discharged from an incinerator or the like contains harmful substances and odorous substances. In general, the following treatments (i) to (iv) are performed on the combustion gas discharged from an incinerator or the like.
(I) The combustion gas discharged from an incinerator or the like is subjected to a magnetic heat treatment (treatment of heating the gas to a temperature of 400 ° C. to 600 ° C. in a combustion tank using magnetism such as radium and neodymium).
(Ii) A secondary heat treatment (treatment using kerosene or heavy oil to heat the gas to a temperature of 800 ° C. to 900 ° C. to burn dioxins) is performed on the combustion gas that has been subjected to the magnetic heat treatment.
(Iii) The incinerated ash generated by the magnetic heat treatment is subjected to an ash melting process (a process in which the incinerated ash is heated to a temperature of 1400 to 1600 ° C. to melt the ash in a melting furnace). Then, the generated sludge is discharged, and the generated gas is subjected to the secondary heat treatment (ii).
(Iv) A cooling process (for example, a process of rapidly cooling the gas to a temperature of 80 ° C.) is performed on the combustion gas that has been subjected to the secondary heat treatment. By this cooling treatment, harmful substances such as heavy metals such as mercury and radioactive substances such as cesium are changed from a gas state to a solid state (such as dust).
Conventionally, bag filters and electrostatic precipitators have been used to remove harmful substances and malodorous substances from the combustion gas after cooling treatment. However, the bag filter has a problem in that it is necessary to replace the filter every time a predetermined amount of combustion gas is processed, and there is a possibility that it may be ignited by the combustion gas. In addition, the electric dust collector has a problem in that it is necessary to remove dust from the apparatus every time a predetermined amount of combustion gas is processed.
In view of the above problems, it has been studied to use a scrubber device that does not require filter replacement or device dust removal (for example, Patent Document 1). In this scrubber device, it is possible to remove harmful substances and malodorous substances from the combustion gas by bringing the combustion gas into contact with the treatment liquid.

特開平8−318125号公報JP-A-8-318125

しかしながら、特許文献1に記載のスクラバー装置によれば、燃焼ガスから有害物質や悪臭物質をある程度は除去できるが、有害物質や悪臭物質の捕集率の点で必ずしも十分なものではなかった。
本発明は、燃焼ガスから有害物質や悪臭物質を十分に除去できる燃焼ガス処理装置を提供することを目的とする。
However, according to the scrubber device described in Patent Document 1, although harmful substances and malodorous substances can be removed from the combustion gas to some extent, it is not always sufficient in terms of the collection rate of harmful substances and malodorous substances.
An object of this invention is to provide the combustion gas processing apparatus which can fully remove a harmful substance and a malodorous substance from combustion gas.

本発明の燃焼ガス処理装置は、有害物質を含有する燃焼ガスに少なくとも脱塩処理を施す第一処理機と、前記第一処理機で処理された一次処理ガスに少なくとも脱臭処理を施す第二処理機と、前記第一処理機内に上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差を設ける第一ブロワーと、前記第二処理機内に上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差を設ける第二ブロワーと、を備え、前記第一処理機は、気液接触室と、第一ガス処理室とを備え、前記気液接触室には、前記燃焼ガスを導入する燃焼ガス導入部と、前記燃焼ガスに第一処理液を霧状または液滴状にして接触させる噴霧ノズルと、前記燃焼ガスおよび前記第一処理液からなる気液混合物を前記第一ガス処理室に案内する案内部とが設けられ、前記第一ガス処理室には、前記第一処理液が収納された第一処理液収納部と、前記気液混合物を前記第一処理液中に導入する気液混合物導入部と、前記第一処理液中を流通した一次処理ガスを排出する一次処理ガス排出部とが設けられ、前記第二処理機は、第二ガス処理室を備え、前記第二ガス処理室には、第二処理液が収納された第二処理液収納部と、前記一次処理ガスを前記第二処理液中に導入する一次処理ガス導入部と、前記第二処理液中を流通した二次処理ガスを排出する二次処理ガス排出部とが設けられていることを特徴とするものである。 The combustion gas processing apparatus of the present invention includes a first processor that performs at least a desalting process on a combustion gas containing a hazardous substance, and a second process that performs at least a deodorizing process on the primary processing gas processed by the first processor. A first blower providing a pressure difference so that the downstream pressure is smaller than the upstream pressure in the first processor, and the downstream pressure is smaller than the upstream pressure in the second processor. A second blower for providing a pressure difference, wherein the first processor includes a gas-liquid contact chamber and a first gas processing chamber, and the combustion gas for introducing the combustion gas into the gas-liquid contact chamber An introduction part, a spray nozzle for bringing the first treatment liquid into contact with the combustion gas in the form of a mist or a droplet, and a gas-liquid mixture comprising the combustion gas and the first treatment liquid are guided to the first gas treatment chamber. And a first gas treatment section. The chamber circulates in the first processing liquid storage section in which the first processing liquid is stored, a gas-liquid mixture introduction section for introducing the gas-liquid mixture into the first processing liquid, and the first processing liquid. A primary processing gas discharge unit for discharging the primary processing gas, wherein the second processing machine includes a second gas processing chamber, and the second gas processing chamber stores a second processing liquid. A secondary processing liquid storage unit, a primary processing gas introduction unit for introducing the primary processing gas into the second processing liquid, and a secondary processing gas discharge unit for discharging the secondary processing gas flowing through the second processing liquid And is provided.

この発明によれば、以下説明するようにして、燃焼ガスから有害物質や悪臭物質を十分に除去できる。すなわち、燃焼ガスは、燃焼ガス処理装置の第一処理機に導入される。この第一処理機の気液接触室においては、燃焼ガスは、気液接触室に設けられた気液接触部材により第一処理液と接触させられ、混合される。そして、燃焼ガスおよび第一処理液からなる気液混合物が案内部を経て、第一処理機の第一ガス処理室に導入される。この第一処理機の第一ガス処理室においては、燃焼ガスおよび第一処理液からなる気液混合物が、第一処理液が収納された第一処理液収納部に導入される。この第一ガス処理室では、第一ブロワーの作用によって、上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差が生じている。そのため、前記第一処理液中に導入された気液混合物のうちの燃焼ガスは、第一処理液中を流通することになる。ここでは、燃焼ガスと第一処理液との接触により、燃焼ガス中の有害物質などを第一処理液中に溶け込ませることで、燃焼ガスから有害物質などを除去できる。この第一処理液収納部の第一処理液中を流通した一次処理ガスは、一次処理ガス排出部を経て、第二処理機に導入される。この第二処理機の第二ガス処理室においては、一次処理ガスが、第二処理液が収納された第二処理液収納部に導入される。この第二ガス処理室では、第二ブロワーの作用によって、上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差が生じている。そのため、前記第二処理液中に導入された一次処理ガスは、第二処理液中を流通することになる。ここでは、一次処理ガスと第二処理液との接触により、一次処理ガス中の悪臭物質などを第二処理液中に溶け込ませることで、一次処理ガスから悪臭物質などを除去できる。この第二処理液収納部の第二処理液中を流通した二次処理ガスは、二次処理ガス排出部から排出される。以上のようにして、燃焼ガスから有害物質や悪臭物質を十分に除去できる。   According to the present invention, harmful substances and malodorous substances can be sufficiently removed from the combustion gas as described below. That is, the combustion gas is introduced into the first processor of the combustion gas processing apparatus. In the gas-liquid contact chamber of the first processor, the combustion gas is brought into contact with and mixed with the first process liquid by a gas-liquid contact member provided in the gas-liquid contact chamber. And the gas-liquid mixture which consists of combustion gas and a 1st process liquid is introduce | transduced into the 1st gas process chamber of a 1st processor through a guide part. In the first gas processing chamber of the first processing machine, a gas-liquid mixture composed of combustion gas and first processing liquid is introduced into a first processing liquid storage section in which the first processing liquid is stored. In the first gas processing chamber, a pressure difference is generated by the action of the first blower so that the downstream pressure becomes smaller than the upstream pressure. For this reason, the combustion gas in the gas-liquid mixture introduced into the first processing liquid flows through the first processing liquid. Here, the harmful substances and the like in the combustion gas can be dissolved in the first treatment liquid by the contact between the combustion gas and the first treatment liquid, thereby removing the harmful substances and the like from the combustion gas. The primary processing gas that has circulated in the first processing liquid in the first processing liquid storage unit is introduced into the second processing machine via the primary processing gas discharge unit. In the second gas processing chamber of the second processing machine, the primary processing gas is introduced into the second processing liquid storage unit in which the second processing liquid is stored. In the second gas processing chamber, a pressure difference is generated by the action of the second blower so that the downstream pressure becomes smaller than the upstream pressure. Therefore, the primary processing gas introduced into the second processing liquid flows through the second processing liquid. Here, the malodorous substance and the like in the primary treatment gas can be removed from the primary treatment gas by dissolving the malodorous substance and the like in the primary treatment gas into the second treatment liquid by contact between the primary treatment gas and the second treatment liquid. The secondary processing gas that has circulated in the second processing liquid in the second processing liquid storage unit is discharged from the secondary processing gas discharge unit. As described above, harmful substances and malodorous substances can be sufficiently removed from the combustion gas.

本発明の燃焼ガス処理装置においては、前記第一処理液収納部には、前記第一処理液中の前記燃焼ガスの移動を邪魔する邪魔板、および、前記第一処理液中の前記燃焼ガスが穴を流通できる多穴板のうちの少なくとも一つが設けられていることが好ましい。   In the combustion gas processing apparatus of the present invention, the first processing liquid storage section includes a baffle plate that obstructs the movement of the combustion gas in the first processing liquid, and the combustion gas in the first processing liquid. It is preferable that at least one of the multi-hole plates that can circulate the holes is provided.

この発明によれば、邪魔板や多穴板の存在により、第一処理液中の燃焼ガスの移動距離が長くなる。そのため、燃焼ガスと第一処理液との接触をより多く図ることができる。そして、燃焼ガス中の有害物質などを第一処理液中により多く溶け込ませることができる。   According to the present invention, the movement distance of the combustion gas in the first processing liquid is increased due to the presence of the baffle plate and the multi-hole plate. Therefore, more contact between the combustion gas and the first treatment liquid can be achieved. And more harmful substances in the combustion gas can be dissolved in the first treatment liquid.

本発明の燃焼ガス処理装置においては、前記第二処理液収納部には、前記第二処理液中の前記一次処理ガスの移動を邪魔する邪魔板、および、前記第二処理液中の前記一次処理ガスが穴を流通できる多穴板のうちの少なくとも一つが設けられていることが好ましい。   In the combustion gas processing apparatus of the present invention, the second processing liquid storage section includes a baffle plate that obstructs the movement of the primary processing gas in the second processing liquid, and the primary in the second processing liquid. It is preferable that at least one of multi-hole plates through which the processing gas can flow through the holes is provided.

この発明によれば、邪魔板や多穴板の存在により、第二処理液中の一次処理ガスの移動距離が長くなる。そのため、一次処理ガスと第二処理液との接触をより多く図ることができる。そして、一次処理ガス中の悪臭物質などを第二処理液中により多く溶け込ませることができる。   According to the present invention, due to the presence of the baffle plate and the multi-hole plate, the moving distance of the primary processing gas in the second processing liquid becomes long. Therefore, more contact between the primary processing gas and the second processing liquid can be achieved. And more malodorous substances in the primary processing gas can be dissolved in the second processing liquid.

本発明の燃焼ガス処理装置においては、前記第二処理液収納部には、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触を促進させるために前記第二処理液を振動させる超音波振動子が設けられていることが好ましい。   In the combustion gas processing apparatus of the present invention, in the second processing liquid storage unit, an ultrasonic vibrator that vibrates the second processing liquid in order to promote contact between the primary processing gas and the second processing liquid. Is preferably provided.

この発明によれば、超音波振動子による振動により、一次処理ガスと第二処理液との接触を促進させることができる。そして、一次処理ガス中の悪臭物質などを第二処理液中により多く溶け込ませることができる。   According to this invention, the contact between the primary processing gas and the second processing liquid can be promoted by the vibration of the ultrasonic vibrator. And more malodorous substances in the primary processing gas can be dissolved in the second processing liquid.

本発明の燃焼ガス処理装置においては、前記第一処理機における前記案内部は、上方から下方に向かって下すぼまりの筒状であることが好ましい。
このように案内部が下すぼまりの筒状となっていることにより、気液混合物の流速をより速くして、第一ガス処理室に導くことができる。そのため、第一ガス処理室における燃焼ガスと第一処理液との接触を促進させることができる。また、第一処理液の流下にかかる時間が長くなる。そして、第一処理液と燃焼ガスとをより長く接触させることができる。
In the combustion gas processing apparatus of the present invention, it is preferable that the guide portion in the first processing machine has a cylindrical shape that is narrowed downward from above.
As described above, since the guide portion has a narrow cylindrical shape, the flow rate of the gas-liquid mixture can be increased and guided to the first gas processing chamber. Therefore, the contact between the combustion gas and the first processing liquid in the first gas processing chamber can be promoted. In addition, the time required for the first processing liquid to flow down becomes longer. And a 1st process liquid and combustion gas can be made to contact longer.

本発明の燃焼ガス処理装置においては、前記第一処理機は、前記第一ガス処理室と連通する第一処理液調整室をさらに備え、前記第一処理液調整室には、前記第一ガス処理室から排出した第一処理液の一部を放出する第一放流部と、前記第一処理液調整室中の第一処理液の成分を検出する第一検出部材と、第一処理液の成分を調整するための第一薬材投入部とが設けられていることが好ましい。   In the combustion gas processing apparatus of the present invention, the first processing machine further includes a first processing liquid adjustment chamber communicating with the first gas processing chamber, and the first processing liquid adjustment chamber includes the first gas. A first discharge part for discharging a part of the first processing liquid discharged from the processing chamber; a first detection member for detecting a component of the first processing liquid in the first processing liquid adjustment chamber; It is preferable that a first chemical material charging unit for adjusting the components is provided.

この発明によれば、第一処理液調整室において、第一処理液の成分を調整することで、使用した第一処理液を再生することができる。そして、再生した第一処理液を気液接触部材に送るようにすることで、第一処理液を上述の流路内で循環させることができる。また、第一検出部材により、第一処理液調整室中の第一処理液の成分を検出し、この第一処理液の成分が所定条件を満たす場合には、この第一処理液の一部を第一放流部から放出することもできる。   According to this invention, the used first treatment liquid can be regenerated by adjusting the components of the first treatment liquid in the first treatment liquid adjustment chamber. And the 1st processing liquid can be circulated in the above-mentioned channel by sending the regenerated 1st processing liquid to a gas-liquid contact member. In addition, when the first detection member detects a component of the first treatment liquid in the first treatment liquid adjustment chamber, and the component of the first treatment liquid satisfies a predetermined condition, a part of the first treatment liquid Can also be discharged from the first outlet.

本発明の燃焼ガス処理装置においては、前記第一処理液収納部には、前記第一処理液の上澄み液を排出する上澄排出部と、前記第一処理液調整室と連通する連通部と、前記第一処理液の沈殿物を排出する沈殿物排出部とが設けられていることが好ましい。   In the combustion gas processing apparatus of the present invention, the first processing liquid storage section includes a supernatant discharge section that discharges the supernatant liquid of the first processing liquid, and a communication section that communicates with the first processing liquid adjustment chamber. It is preferable that a sediment discharge unit for discharging the precipitate of the first treatment liquid is provided.

この発明によれば、上澄排出部から第一処理液の上澄み液を排出することができる。そのため、上澄み液に含まれる塵を、第一処理液から除去できる。また、沈殿物排出部から第一処理液の沈殿物を排出することができる。そのため、沈殿物を、第一処理液から除去できる。上澄み液および沈殿物は、必要に応じて、別に設けられる既存の重金属分離固化装置、放射性物質固化装置などに送られるようになっている。   According to this invention, the supernatant liquid of the first processing liquid can be discharged from the supernatant discharge part. Therefore, dust contained in the supernatant liquid can be removed from the first processing liquid. Moreover, the deposit of a 1st process liquid can be discharged | emitted from a deposit discharge part. Therefore, the precipitate can be removed from the first treatment liquid. The supernatant and the precipitate are sent to an existing heavy metal separation and solidification device, radioactive material solidification device and the like which are provided separately as necessary.

本発明の一実施形態にかかる燃焼ガス処理装置を示す模式図である。It is a mimetic diagram showing a combustion gas processing device concerning one embodiment of the present invention. 前記実施形態における第一処理機を示す正面からみた断面図である。It is sectional drawing seen from the front which shows the 1st processor in the said embodiment. 前記実施形態における第一処理機を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st processing machine in the said embodiment. 前記実施形態における第一処理機の気液混合物導入部の近傍を示す拡大斜視図である。It is an expansion perspective view which shows the vicinity of the gas-liquid mixture introduction part of the 1st processing machine in the said embodiment. 前記実施形態における第二処理機を示す正面からみた断面図である。It is sectional drawing seen from the front which shows the 2nd processing machine in the said embodiment. 前記実施形態における第二処理機を示す平面図である。It is a top view which shows the 2nd processing machine in the said embodiment.

以下に、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
(1)燃焼ガス処理装置1の全体構成
まず、燃焼ガス処理装置1の全体構成について図1に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態にかかる燃焼ガス処理装置を示す模式図である。
燃焼ガス処理装置1は、図1に示すように、有害物質を含有する燃焼ガスに少なくとも脱塩処理を施す第一処理機2と、第一処理機2で処理された一次処理ガスに少なくとも脱臭処理を施す第二処理機3と、第一処理機2内に上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差を設ける第一ブロワー41と、第二処理機3内に上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差を設ける第二ブロワー42と、第二処理機3で処理された二次処理ガスを流通させるフィルター装置5と、フィルター装置5を流通させた二次処理ガスを外部に排出する煙突6と、を備えている。
また、燃焼ガス処理装置1には、ガスを流通させるためのガス配管71,72,73,74,75,76が設けられている。そして、ガス配管71,72,73,74,75,76は、図1に示すように、焼却炉など(図示しない)と、第一ブロワー41と、第一処理機2と、第二処理機3と、第二ブロワー42と、フィルター装置5と、煙突6と、を接続している。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
(1) Whole structure of combustion gas processing apparatus 1 First, the whole structure of the combustion gas processing apparatus 1 is demonstrated based on FIG. FIG. 1 is a schematic view showing a combustion gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the combustion gas processing apparatus 1 includes at least a deodorizing treatment for the first treatment machine 2 that performs at least a desalination treatment on a combustion gas containing a harmful substance, and a primary treatment gas that is treated by the first treatment machine 2. A second processor 3 that performs processing, a first blower 41 that provides a pressure difference in the first processor 2 so that the downstream pressure is smaller than the upstream pressure, and an upstream pressure in the second processor 3. The second blower 42 is provided with a pressure difference so as to reduce the downstream pressure, the filter device 5 that distributes the secondary processing gas processed by the second processor 3, and the secondary that distributes the filter device 5. A chimney 6 for discharging the processing gas to the outside.
Further, the combustion gas processing apparatus 1 is provided with gas pipes 71, 72, 73, 74, 75, 76 for circulating gas. And gas piping 71,72,73,74,75,76 is an incinerator etc. (not shown), the 1st blower 41, the 1st processor 2, and the 2nd processor as shown in FIG. 3, the second blower 42, the filter device 5, and the chimney 6 are connected.

(2)第一処理機2
第一処理機2は、図2および図3に示すように、気液接触室21と、第一ガス処理室22と、第一処理液調整室23と、を備えている。
また、第一処理機2には、液体を流通させるための液配管24A,24B,25が設けられている。そして、液配管24A,24Bは、図1に示すように、第一ガス処理室22と、外部設備(図示しない)とを接続している。また、液配管25は、図1に示すように、気液接触室21と、第一処理液調整室23とを接続している。
(2) First processor 2
As shown in FIGS. 2 and 3, the first processing machine 2 includes a gas-liquid contact chamber 21, a first gas processing chamber 22, and a first processing liquid adjustment chamber 23.
Further, the first processing machine 2 is provided with liquid pipes 24A, 24B, and 25 for circulating the liquid. And as shown in FIG. 1, liquid piping 24A, 24B has connected the 1st gas processing chamber 22 and external equipment (not shown). Further, as shown in FIG. 1, the liquid pipe 25 connects the gas-liquid contact chamber 21 and the first processing liquid adjustment chamber 23.

気液接触室21には、図2および図3に示すように、燃焼ガスを導入する燃焼ガス導入部211と、燃焼ガスに第一処理液を接触させる気液接触部材212と、燃焼ガスおよび第一処理液からなる気液混合物を第一ガス処理室22に案内する案内部213とが設けられている。
気液接触部材212としては、噴霧ノズルなどが挙げられる。気液接触部材212は、複数の噴霧ノズルからなる。また、気液接触部材212は、図1〜図3に示すように、液配管25を介して、第一処理液調整室23の調整液送出部234と接続している。
案内部213は、上方から下方に向かって下すぼまりの筒状のものである。これにより、また、案内部213は、図2に示すように、二重構造のウォータージャケット状となっており、この案内部213にて燃焼ガスの冷却を図ることができる。そして、燃焼ガスの冷却を図ることで、燃焼ガス中の有害物質を析出させ、除去しやすくすることができる。
燃焼ガスとしては、特に限定されないが、炭素(C)、水素(H)、硫黄(S)、塩素(Cl)などを含有する酸性ガスが挙げられる。また、この燃焼ガスは、例えば、冷却装置(図示しない)などを用いて、第一処理機2に導入される前に低温(80℃)に冷却されていることが好ましい。
第一処理液は、特に限定されないが、燃焼ガスが酸性である場合には、アルカリ性の液体を用いることができる。この第一処理液としては、水酸化ナトリウム(NaOH)などのアルカリ性物質を含有する水が挙げられる。また、この第一処理液には、必要に応じて、ゼオライト、オゾン(O)などを添加してもよい。
As shown in FIGS. 2 and 3, the gas-liquid contact chamber 21 includes a combustion gas introduction part 211 for introducing combustion gas, a gas-liquid contact member 212 for bringing the first processing liquid into contact with the combustion gas, combustion gas and A guide portion 213 for guiding the gas-liquid mixture made of the first processing liquid to the first gas processing chamber 22 is provided.
Examples of the gas-liquid contact member 212 include a spray nozzle. The gas-liquid contact member 212 includes a plurality of spray nozzles. Moreover, the gas-liquid contact member 212 is connected to the adjustment liquid delivery part 234 of the 1st process liquid adjustment chamber 23 via the liquid piping 25, as shown in FIGS.
The guide portion 213 has a cylindrical shape that is narrowed downward from above. Thereby, as shown in FIG. 2, the guide portion 213 has a double-structured water jacket shape, and the guide portion 213 can cool the combustion gas. Then, by cooling the combustion gas, harmful substances in the combustion gas can be deposited and removed easily.
Although it does not specifically limit as combustion gas, Acid gas containing carbon (C), hydrogen (H), sulfur (S), chlorine (Cl), etc. is mentioned. The combustion gas is preferably cooled to a low temperature (80 ° C.) before being introduced into the first processor 2 using, for example, a cooling device (not shown).
The first treatment liquid is not particularly limited, but an alkaline liquid can be used when the combustion gas is acidic. As this 1st process liquid, the water containing alkaline substances, such as sodium hydroxide (NaOH), is mentioned. Further, this first treatment liquid, if necessary, zeolite, ozone (O 3) or the like may be added.

第一ガス処理室22には、図2および図3に示すように、前記第一処理液が収納された第一処理液収納部221と、前記気液混合物を前記第一処理液中に導入する気液混合物導入部222と、前記第一処理液中を流通した一次処理ガスを排出する一次処理ガス排出部223とが設けられている。
第一処理液収納部221には、図2〜図4に示すように、邪魔板224と、多穴板225とが設けられている。
邪魔板224は、第一処理液収納部221に収納された前記第一処理液中に配置されており、前記第一処理液中の前記燃焼ガスの移動を邪魔することができる。これにより、前記燃焼ガスと前記第一処理液との接触を促進できる。また、邪魔板224は、図4に示すように、その外縁部が三角波形状となっている。これにより、前記燃焼ガスと前記第一処理液との接触をさらに促進できる。
多穴板225は、第一処理液収納部221に収納された前記第一処理液中に配置されており、前記第一処理液中の前記燃焼ガスが穴225Aを流通できるようになっている。これにより、前記燃焼ガスがより微細な泡になり、前記燃焼ガスと前記第一処理液との接触を促進できる。なお、この穴225Aの形状は、図4に示すように、例えば、円形状となっている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the first gas processing chamber 22 introduces the first processing liquid storage unit 221 storing the first processing liquid and the gas-liquid mixture into the first processing liquid. A gas-liquid mixture introduction unit 222 that performs the above-described process and a primary processing gas discharge unit 223 that discharges the primary processing gas that has circulated through the first processing liquid are provided.
As shown in FIGS. 2 to 4, the first processing liquid storage unit 221 is provided with a baffle plate 224 and a multi-hole plate 225.
The baffle plate 224 is disposed in the first processing liquid stored in the first processing liquid storage unit 221 and can obstruct the movement of the combustion gas in the first processing liquid. Thereby, contact with the combustion gas and the first treatment liquid can be promoted. Further, as shown in FIG. 4, the baffle plate 224 has a triangular wave shape at the outer edge. Thereby, contact with the combustion gas and the first treatment liquid can be further promoted.
The multi-hole plate 225 is disposed in the first processing liquid stored in the first processing liquid storage unit 221 so that the combustion gas in the first processing liquid can flow through the hole 225A. . Thereby, the combustion gas becomes finer bubbles, and the contact between the combustion gas and the first treatment liquid can be promoted. The hole 225A has a circular shape, for example, as shown in FIG.

また、第一処理液収納部には、図2に示すように、上澄排出部226と、連通部227と、前記第一処理液の沈殿物を排出する沈殿物排出部228とが設けられている。
上澄排出部226は、前記第一処理液の液面近傍に配置されており、第一処理液収納部から溢れ出すことで、第一処理液の上澄み液を、液配管24Aを介して排出できる。前記第一処理液の上澄み液に含まれる塵は、比重1g/cm未満の塵であり、具体的には、水酸化セシウムなどが挙げられる。
連通部227は、前記第一処理液の液面より下に配置されており、第一処理液調整室23と連通している。そして、連通部227を介して、前記第一処理液を第一処理液調整室23に導入できる。また、連通部227の上側には、パイロット板227Aが設けられている。
沈殿物排出部228は、第一処理液収納部221の下方に配置されている。また、沈殿物排出部228の上側には、前記第一処理液の沈殿物を沈殿物排出部228に案内するための沈殿物案内部材229が設けられている。また、沈殿物案内部材229は、所定間隔をおいて交互に配置された複数の傾斜板から構成され、これらの傾斜板により、一度落下した沈殿物が浮き上がるのを防止できるため、液体から沈殿物をより良く分離できる。そして、前記第一処理液の沈殿物は、第一処理液収納部221の下方に沈殿し、沈殿物案内部材229により案内されて、沈殿物排出部228に集められる。そして、前記第一処理液の沈殿物を、液配管24Bを介して排出できる。
前記第一処理液の沈殿物は、比重1g/cm超の塵であり、具体的には、重金属塩などが挙げられる。
前記第一処理液の上澄み液および沈殿物は、図1および図2に示すように、液配管24A,24Bを介して、外部設備(図示しない)に送られる。液配管24A,24Bには、制御弁241A,241Bが設けられている。ここで、外部設備としては、重金属分離固化装置、放射性物質固化装置などが挙げられる。
Further, as shown in FIG. 2, the first treatment liquid storage part is provided with a supernatant discharge part 226, a communication part 227, and a precipitate discharge part 228 for discharging the precipitate of the first process liquid. ing.
The supernatant discharge part 226 is disposed in the vicinity of the liquid surface of the first processing liquid, and discharges the supernatant liquid of the first processing liquid through the liquid pipe 24A by overflowing from the first processing liquid storage part. it can. The dust contained in the supernatant of the first treatment liquid is dust having a specific gravity of less than 1 g / cm 3 , and specifically includes cesium hydroxide.
The communication part 227 is disposed below the liquid level of the first processing liquid and communicates with the first processing liquid adjustment chamber 23. Then, the first processing liquid can be introduced into the first processing liquid adjustment chamber 23 via the communication portion 227. A pilot plate 227A is provided on the upper side of the communication portion 227.
The sediment discharge unit 228 is disposed below the first treatment liquid storage unit 221. In addition, a precipitate guide member 229 for guiding the precipitate of the first processing liquid to the precipitate discharger 228 is provided above the precipitate discharger 228. In addition, the sediment guide member 229 is composed of a plurality of inclined plates arranged alternately at a predetermined interval, and these inclined plates can prevent the sediment that has fallen once from rising, so that the precipitate from the liquid can be prevented. Can be separated better. Then, the precipitate of the first treatment liquid is deposited below the first treatment liquid storage unit 221, guided by the precipitate guide member 229, and collected in the precipitate discharge unit 228. And the deposit of said 1st process liquid can be discharged | emitted via liquid piping 24B.
The precipitate of the first treatment liquid is dust having a specific gravity of more than 1 g / cm 3 , and specific examples thereof include heavy metal salts.
As shown in FIGS. 1 and 2, the supernatant and precipitate of the first treatment liquid are sent to external equipment (not shown) via the liquid pipes 24A and 24B. Control valves 241A and 241B are provided in the liquid pipes 24A and 24B. Here, examples of the external equipment include a heavy metal separation and solidification device and a radioactive substance solidification device.

第一処理液調整室23には、図2および図3に示すように、第一ガス処理室22から排出した第一処理液の一部を放出する第一放流部231と、第一処理液調整室23中の第一処理液の成分を検出する第一検出部材232A,232Bと、第一処理液の成分を調整するための第一薬材投入部233A,233Bと、調整後の第一処理液を送り出す調整液送出部234が設けられている。
第一検出部材232A,232Bは、二箇所(それぞれ第一放流部231および調整液送出部234の近傍)に配置されており、それぞれ第一放流部231および調整液送出部234の近傍のパラメータを測定できる。第一検出部材232A,232Bとしては、pH計、温度計などが挙げられる。なお、本実施形態では、第一検出部材232AはpH計であり、第一検出部材232BもpH計である。
第一薬材投入部233A,233Bにて投入する第一薬材としては、例えば、水酸化ナトリウム(NaOH)、冷却水、ゼオライト、オゾン(O)が挙げられる。なお、前記第一薬材の種類(比重)に応じて、第一薬材投入部233A,233Bの位置を決定することが好ましい。例えば、第一処理液の液面よりも上方に位置する第一薬材投入部233Aでは、水酸化ナトリウム(NaOH)、冷却水、ゼオライトなどの液体や固体を投入することが好ましい。また、第一処理液の液面よりも下方に位置する第一薬材投入部233Bでは、オゾン(O)などの気体を投入することが好ましい。
調整液送出部234は、液配管25を介して、気液接触部材212と接続している。液配管25には、制御弁251が設けられている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the first treatment liquid adjustment chamber 23 includes a first discharge portion 231 that discharges a part of the first treatment liquid discharged from the first gas treatment chamber 22, and a first treatment liquid. First detection members 232A and 232B for detecting the components of the first processing liquid in the adjustment chamber 23, first chemical material input portions 233A and 233B for adjusting the components of the first processing liquid, and the adjusted first An adjustment liquid delivery unit 234 for delivering the treatment liquid is provided.
The first detection members 232A and 232B are arranged in two places (in the vicinity of the first discharge part 231 and the adjustment liquid delivery part 234, respectively), and parameters in the vicinity of the first discharge part 231 and the adjustment liquid delivery part 234, respectively. It can be measured. Examples of the first detection members 232A and 232B include a pH meter and a thermometer. In the present embodiment, the first detection member 232A is a pH meter, and the first detection member 232B is also a pH meter.
The first drug material feeding section 233A, a first drug material to be introduced at 233B, for example, sodium hydroxide (NaOH), cooling water, zeolite, and an ozone (O 3). In addition, it is preferable to determine the position of 1st chemical | medical material injection | throwing-in part 233A, 233B according to the kind (specific gravity) of said 1st chemical | medical material. For example, in the first chemical material charging unit 233A located above the liquid level of the first processing liquid, it is preferable to input a liquid or solid such as sodium hydroxide (NaOH), cooling water, or zeolite. Further, the first drug material feeding section 233B located below the liquid level of the first processing solution, it is preferable to introduce the gas such as ozone (O 3).
The adjustment liquid delivery unit 234 is connected to the gas-liquid contact member 212 via the liquid pipe 25. A control valve 251 is provided in the liquid pipe 25.

(3)第二処理機3
第二処理機3は、図5および図6に示すように、第二ガス処理室31を備えている。第二処理機3は、図1に示すように、第一処理機2よりも下流に配置されている。
また、第二処理機3には、液体を流通させるための液配管32が設けられている。そして、液配管32は、第二ガス処理室31の前段部と、後段部とを接続している。
(3) Second processor 3
As shown in FIGS. 5 and 6, the second processing machine 3 includes a second gas processing chamber 31. The 2nd processor 3 is arrange | positioned downstream from the 1st processor 2, as shown in FIG.
Further, the second processing machine 3 is provided with a liquid pipe 32 for circulating a liquid. The liquid pipe 32 connects the front part and the rear part of the second gas processing chamber 31.

第二ガス処理室31には、図5および図6に示すように、第二処理液が収納された第二処理液収納部311と、前記一次処理ガスを前記第二処理液中に導入する一次処理ガス導入部312と、前記第二処理液中を流通した二次処理ガスを排出する二次処理ガス排出部313とが設けられている。
第二処理液は、特に限定されないが、水などを用いることができる。なお、燃焼ガスが酸性である場合には、アルカリ性の液体を用いることができる。この第二処理液としては、水酸化ナトリウム(NaOH)などのアルカリ性物質を含有する水を用いてもよい。また、この第二処理液には、必要に応じて、オゾン(O)などを添加してもよい。
As shown in FIGS. 5 and 6, the second gas processing chamber 31 introduces the second processing liquid storage unit 311 storing the second processing liquid and the primary processing gas into the second processing liquid. A primary processing gas introduction unit 312 and a secondary processing gas discharge unit 313 that discharges the secondary processing gas that has circulated through the second processing liquid are provided.
The second treatment liquid is not particularly limited, but water or the like can be used. When the combustion gas is acidic, an alkaline liquid can be used. As the second treatment liquid, water containing an alkaline substance such as sodium hydroxide (NaOH) may be used. Further, this second treatment liquid, if necessary, ozone (O 3) or the like may be added.

第二処理液収納部311には、邪魔板314と、多穴板315と、超音波振動子316とが設けられている。
邪魔板314は、第二ガス処理室31の側壁との間隔が下方に向かうに従って狭くなり(邪魔板314の傾斜角度は、垂直面に対して5〜10°とすることが好ましい)、かつ、第二処理液収納部311に収納された前記第二処理液中に浸漬するように、配置されている。これにより、前記第二処理液中の泡状に引き込まれる前記一次処理ガスの流速を速くすることができ、また、前記第二処理液中の前記一次処理ガスの移動を邪魔することができる。そのため、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触を促進できる。また、邪魔板314の先端折返部314Aは、三角波形状となっている。これにより、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触をさらに促進できる。
多穴板315は、第二処理液収納部311に収納された前記第二処理液中に配置されており、前記第二処理液中の前記一次処理ガスが穴を流通できるようになっている。これにより、前記一次処理ガスがより微細な泡になり、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触を促進できる。また、この穴(図示しない)の形状は、例えば、クローバー葉形状などの異形状、または円形状となっている。この穴の形状をクローバー葉形状とすれば、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触をさらに促進できる。
超音波振動子316は、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触を促進させるために前記第二処理液を振動させるものである。これにより、前記一次処理ガスが振動されながら多穴板315の穴を流通することになるため、前記一次処理ガスがより微細な泡になり、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触を促進できる。
The second processing liquid storage unit 311 is provided with a baffle plate 314, a multi-hole plate 315, and an ultrasonic transducer 316.
The baffle plate 314 becomes narrower as the distance from the side wall of the second gas processing chamber 31 goes downward (the inclination angle of the baffle plate 314 is preferably 5 to 10 ° with respect to the vertical plane), and It arrange | positions so that it may be immersed in said 2nd process liquid accommodated in the 2nd process liquid storage part 311. FIG. Thereby, the flow velocity of the primary processing gas drawn into the foam in the second processing liquid can be increased, and the movement of the primary processing gas in the second processing liquid can be obstructed. Therefore, the contact between the primary processing gas and the second processing liquid can be promoted. Further, the tip folding portion 314A of the baffle plate 314 has a triangular wave shape. Thereby, contact with the primary processing gas and the second processing liquid can be further promoted.
The multi-hole plate 315 is disposed in the second processing liquid stored in the second processing liquid storage unit 311 so that the primary processing gas in the second processing liquid can flow through the holes. . Thereby, the primary processing gas becomes finer bubbles, and the contact between the primary processing gas and the second processing liquid can be promoted. Moreover, the shape of this hole (not shown) is, for example, an irregular shape such as a clover leaf shape or a circular shape. If the shape of the hole is a cloverleaf shape, the contact between the primary processing gas and the second processing liquid can be further promoted.
The ultrasonic vibrator 316 vibrates the second processing liquid in order to promote contact between the primary processing gas and the second processing liquid. Thereby, since the primary processing gas is circulated through the holes of the multi-hole plate 315, the primary processing gas becomes finer bubbles, and the contact between the primary processing gas and the second processing liquid is performed. Can be promoted.

液配管32には、図1および図5に示すように、制御弁321が設けられている。第二ガス処理室31の後段部に流出した第二処理液を、液配管32を介して、第二ガス処理室31の前段部に戻すことで、第二ガス処理室31内で第二処理液を循環させることができる。   As shown in FIGS. 1 and 5, the liquid pipe 32 is provided with a control valve 321. The second processing liquid that has flowed out to the rear stage of the second gas processing chamber 31 is returned to the front stage of the second gas processing chamber 31 via the liquid pipe 32, so that the second processing liquid is processed in the second gas processing chamber 31. The liquid can be circulated.

(4)第一ブロワー41および第二ブロワー42
第一ブロワー41は、図1に示すように、第一処理機2の上流の近傍に配置されている。第一ブロワー41により、第一処理機2内に上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差を設けることができる。この圧力差を利用すれば、燃焼ガスは前記第一処理液中を流通できる。
第二ブロワー42は、図1に示すように、第二処理機3の下流の近傍に配置されている。第二ブロワー42により、第二処理機3内に上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差を設けることができる。この圧力差を利用すれば、一次処理ガスは前記第二処理液中を流通できる。
(4) First blower 41 and second blower 42
As shown in FIG. 1, the first blower 41 is disposed in the vicinity of the upstream side of the first processor 2. The first blower 41 can provide a pressure difference in the first processor 2 so that the downstream pressure becomes smaller than the upstream pressure. If this pressure difference is utilized, combustion gas can distribute | circulate in said 1st process liquid.
As shown in FIG. 1, the second blower 42 is disposed in the vicinity of the downstream side of the second processor 3. The second blower 42 can provide a pressure difference in the second processing machine 3 so that the downstream pressure becomes smaller than the upstream pressure. By utilizing this pressure difference, the primary processing gas can flow through the second processing liquid.

(5)フィルター装置5および煙突6
フィルター装置5は、図1に示すように、第一フィルター51と、第二フィルター52と、第一フィルター51および第二フィルター52の上流および下流にそれぞれ配置された手動弁53と、を備えている。フィルター装置5は、図1に示すように、第二ブロワー42よりも下流に配置され、二系統が並列となるよう第一フィルター51および第二フィルター52が配置されている。このフィルター装置5により、前記二次処理ガス中の塵をより確実に除去できる。
フィルター装置5においては、一方(第一フィルター51)を使用する際には、他方(第二フィルター52)の上流および下流の手動弁53を閉じておく。そして、使用した一方(第一フィルター51)を交換する際には、他方(第二フィルター52)の上流および下流の手動弁53を開け、一方(第一フィルター51)の上流および下流の手動弁53を閉じれば、他方(第二フィルター52)を使用することができる。
煙突6は、図1に示すように、フィルター装置5よりも下流に配置されている。この煙突6から、フィルター装置5を流通した二次処理ガスが外部に放出される。
(5) Filter device 5 and chimney 6
As shown in FIG. 1, the filter device 5 includes a first filter 51, a second filter 52, and manual valves 53 arranged upstream and downstream of the first filter 51 and the second filter 52, respectively. Yes. As shown in FIG. 1, the filter device 5 is arranged downstream of the second blower 42, and the first filter 51 and the second filter 52 are arranged so that the two systems are in parallel. The filter device 5 can more reliably remove dust in the secondary processing gas.
In the filter device 5, when one (first filter 51) is used, the upstream and downstream manual valves 53 of the other (second filter 52) are closed. And when exchanging one (first filter 51) used, the manual valve 53 upstream and downstream of the other (second filter 52) is opened, and the manual valve upstream and downstream of one (first filter 51) is opened. If 53 is closed, the other (second filter 52) can be used.
As shown in FIG. 1, the chimney 6 is disposed downstream of the filter device 5. From this chimney 6, the secondary processing gas which has circulated through the filter device 5 is released to the outside.

(6)燃焼ガス処理装置1による燃焼ガスの無害化処理
次に、上記のような構成の燃焼ガス処理装置1による燃焼ガスの無害化処理について説明する。
まず、前処理工程として、焼却炉からの燃焼ガスは、冷却装置などにより予め低温(80℃)に冷却された後に、燃焼ガス処理装置1に導入される。燃焼ガスは、燃焼ガス処理装置1の第一処理機2に導入される。この第一処理機2の気液接触室21においては、燃焼ガスは、気液接触室21に設けられた噴霧ノズルなどからなる気液接触部材212により噴霧される霧状または液滴状の第一処理液と接触させられ、混合されて気液混合物となる。この気液混合物は、案内部213により流速を速めながら、第一ガス処理室22に案内される。
(6) Detoxification process of combustion gas by the combustion gas processing apparatus 1 Next, the detoxification process of the combustion gas by the combustion gas processing apparatus 1 having the above configuration will be described.
First, as a pretreatment step, the combustion gas from the incinerator is introduced into the combustion gas treatment device 1 after being cooled to a low temperature (80 ° C.) in advance by a cooling device or the like. The combustion gas is introduced into the first processor 2 of the combustion gas processing apparatus 1. In the gas-liquid contact chamber 21 of the first processor 2, the combustion gas is sprayed by a gas-liquid contact member 212 including a spray nozzle provided in the gas-liquid contact chamber 21. It is brought into contact with one processing liquid and mixed to form a gas-liquid mixture. The gas-liquid mixture is guided to the first gas processing chamber 22 by the guide unit 213 while increasing the flow velocity.

前記気液混合物は、気液混合物導入部222を介して、第一処理液収納部221に収納された前記第一処理液中に導入される。この第一ガス処理室22では、第一ブロワー41の作用によって、上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差が生じている。そのため、前記第一処理液中に導入された気液混合物のうちの燃焼ガスは、第一処理液中を流通することになる。ここで、燃焼ガスと第一処理液との接触により、燃焼ガス中の有害物質などを第一処理液中に溶け込ませることで、燃焼ガスから有害物質などを除去できる。なお、邪魔板224および多穴板225の存在により、前記第一処理液中の前記燃焼ガスの移動距離が長くなり、また、前記第一処理液中の前記燃焼ガスの泡がより微細になることで、有害物質の除去がより十分になされる。このようにして、第一処理液中を流通した一次処理ガスは、一次処理ガス排出部223から排出される。   The gas-liquid mixture is introduced into the first processing liquid stored in the first processing liquid storage unit 221 via the gas-liquid mixture introduction unit 222. In the first gas processing chamber 22, a pressure difference is generated by the action of the first blower 41 so that the downstream pressure becomes smaller than the upstream pressure. For this reason, the combustion gas in the gas-liquid mixture introduced into the first processing liquid flows through the first processing liquid. Here, toxic substances and the like in the combustion gas can be removed from the combustion gas by dissolving the toxic substances and the like in the combustion gas into the first treatment liquid by contact between the combustion gas and the first treatment liquid. The presence of the baffle plate 224 and the multi-hole plate 225 increases the moving distance of the combustion gas in the first processing liquid, and makes the combustion gas bubbles in the first processing liquid finer. In this way, harmful substances can be removed more sufficiently. In this manner, the primary processing gas that has circulated in the first processing liquid is discharged from the primary processing gas discharge unit 223.

第一処理液収納部221においては、上澄排出部226から第一処理液の上澄み液を排出することができる。そのため、上澄み液に含まれる塵を、第一処理液から除去できる。また、沈殿物排出部228から第一処理液の沈殿物を排出することができる。そのため、沈殿物を、第一処理液から除去できる。さらに、塵や沈殿物が除去された第一処理液は、連通部227を介して、前記第一処理液を第一処理液調整室23に導入される。
なお、焼却炉において、放射性物質を含むような瓦礫を燃焼させた場合には、上澄み液に含まれる塵の中に、放射性物質の一つであるセシウムが含まれることになる。そこで、このような場合、この塵を放射性物質固化装置などに送り出すようにしてもよい。
第一処理液調整室23においては、第一処理液の成分を調整することで、使用した第一処理液を再生することができる。そして、再生した第一処理液を調整液送出部234から送り出し、図1および図2に示すように、液配管25を介して気液接触部材212に送るようにすることで、第一処理液を上述の流路内で循環させることができる。また、第一検出部材232A(pH計)により、第一放流部231の近傍における第一処理液のpHを検出し、この第一処理液のpHが例えば6.5〜7.5の場合には、この第一処理液の一部を第一放流部231から放出することもできる。
In the first processing liquid storage part 221, the supernatant liquid of the first processing liquid can be discharged from the supernatant discharging part 226. Therefore, dust contained in the supernatant liquid can be removed from the first processing liquid. Moreover, the deposit of the 1st process liquid can be discharged | emitted from the deposit discharge part 228. FIG. Therefore, the precipitate can be removed from the first treatment liquid. Further, the first processing liquid from which the dust and sediment have been removed is introduced into the first processing liquid adjustment chamber 23 via the communication portion 227.
In addition, when debris containing a radioactive substance is burned in an incinerator, cesium which is one of the radioactive substances is contained in the dust contained in the supernatant liquid. Therefore, in such a case, this dust may be sent out to a radioactive substance solidifying device or the like.
In the first treatment liquid adjustment chamber 23, the used first treatment liquid can be regenerated by adjusting the components of the first treatment liquid. Then, the regenerated first processing liquid is sent out from the adjustment liquid sending unit 234 and is sent to the gas-liquid contact member 212 via the liquid pipe 25 as shown in FIGS. Can be circulated in the flow path described above. Moreover, when the pH of the 1st process liquid in the vicinity of the 1st discharge part 231 is detected with the 1st detection member 232A (pH meter), and the pH of this 1st process liquid is 6.5-7.5, for example. Can also discharge a part of the first treatment liquid from the first discharge part 231.

一方で、第一処理液収納部221の第一処理液中を流通した一次処理ガスは、一次処理ガス排出部223を経て、第二処理機3に導入される。この第二処理機3の第二ガス処理室31においては、一次処理ガスが、第二処理液が収納された第二処理液収納部311に導入される。この第二ガス処理室31では、第二ブロワー42の作用によって、上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差が生じている。そのため、前記第二処理液中に導入された一次処理ガスは、第二処理液中を流通することになる。ここでは、一次処理ガスと第二処理液との接触により、一次処理ガス中の悪臭物質などを第二処理液中に溶け込ませることで、一次処理ガスから悪臭物質などを除去できる。なお、邪魔板314は、第二ガス処理室31の側壁との間隔が下方に向かうに従って狭くなるように、配置されているため、前記第二処理液中の泡状に引き込まれる前記一次処理ガスの流速を速くすることができ。そのため、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触を促進できる。また、邪魔板314の先端折返部314Aおよび多穴板315の存在により、前記第二処理液中の前記一次処理ガスの移動距離が長くなり、また、前記第二処理液中の前記一次処理ガスの泡がより微細になることで、悪臭物質の除去がより十分になされる。また、超音波振動子316による振動により、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触が促進される。この第二処理液収納部311の第二処理液中を流通した二次処理ガスは、二次処理ガス排出部から排出される。以上のようにして、燃焼ガスから有害物質や悪臭物質を十分に除去できる。   On the other hand, the primary processing gas that has circulated through the first processing liquid in the first processing liquid storage unit 221 is introduced into the second processing machine 3 through the primary processing gas discharge unit 223. In the second gas processing chamber 31 of the second processing machine 3, the primary processing gas is introduced into the second processing liquid storage unit 311 in which the second processing liquid is stored. In the second gas processing chamber 31, a pressure difference is generated by the action of the second blower 42 so that the downstream pressure becomes smaller than the upstream pressure. Therefore, the primary processing gas introduced into the second processing liquid flows through the second processing liquid. Here, the malodorous substance and the like in the primary treatment gas can be removed from the primary treatment gas by dissolving the malodorous substance and the like in the primary treatment gas into the second treatment liquid by contact between the primary treatment gas and the second treatment liquid. In addition, since the baffle plate 314 is disposed so that the distance from the side wall of the second gas processing chamber 31 becomes narrower downward, the primary processing gas drawn into a bubble in the second processing liquid. The flow rate of can be increased. Therefore, the contact between the primary processing gas and the second processing liquid can be promoted. Further, due to the presence of the tip folding portion 314A and the multi-hole plate 315 of the baffle plate 314, the movement distance of the primary processing gas in the second processing liquid is increased, and the primary processing gas in the second processing liquid is increased. By making the foam of the finer, the odorous substance is more sufficiently removed. Further, the contact between the primary processing gas and the second processing liquid is promoted by the vibration of the ultrasonic vibrator 316. The secondary processing gas that has circulated through the second processing liquid in the second processing liquid storage unit 311 is discharged from the secondary processing gas discharge unit. As described above, harmful substances and malodorous substances can be sufficiently removed from the combustion gas.

以上のようにして、燃焼ガス処理装置1による燃焼ガスの無害化処理が終了する。なお、上記の構成の燃焼ガス処理装置1は、装置のスケールを変えれば、焼却炉の大きさを問わずに適用できる。例えば、装置のスケールを変えれることで、焼却炉のゴミ処理量が例えば12トンという小規模の焼却炉から、焼却炉のゴミ処理量が例えば200トンという大規模の焼却炉にまでも適用できる。   As described above, the detoxification process of the combustion gas by the combustion gas processing apparatus 1 is completed. In addition, the combustion gas processing apparatus 1 of said structure is applicable regardless of the magnitude | size of an incinerator, if the scale of an apparatus is changed. For example, by changing the scale of the apparatus, the present invention can be applied from a small incinerator having a waste disposal amount of, for example, 12 tons to a large incinerator having a waste treatment amount of, for example, 200 tons. .

(7)実施形態の効果
上記のような構成の燃焼ガス処理装置1によれば、以下の効果を奏することができる。
(7) Effect of Embodiment According to the combustion gas processing apparatus 1 having the above-described configuration, the following effects can be achieved.

本実施形態によれば、第一処理機2において、燃焼ガスと第一処理液との接触により、燃焼ガス中の有害物質などを第一処理液中に溶け込ませることで、燃焼ガスから有害物質などを除去できる。また、第二処理機3において、第一処理液を流通した一次処理ガスと第二処理液との接触により、一次処理ガス中の悪臭物質などを第二処理液中に溶け込ませることで、一次処理ガスから悪臭物質などを除去できる。このようにして、燃焼ガスから有害物質や悪臭物質を十分に除去できる。   According to the present embodiment, in the first processor 2, harmful substances in the combustion gas are dissolved in the first treatment liquid by contact between the combustion gas and the first treatment liquid, so that the harmful substances are removed from the combustion gas. Etc. can be removed. Further, in the second processing machine 3, by causing the primary processing gas that has circulated through the first processing liquid and the second processing liquid to come into contact with the second processing liquid, malodorous substances in the primary processing gas are dissolved in the second processing liquid. Malodorous substances and the like can be removed from the processing gas. In this way, harmful substances and malodorous substances can be sufficiently removed from the combustion gas.

本実施形態においては、案内部213が下すぼまりの筒状となっていることにより、気液混合物の流速をより速くして、第一ガス処理室に導くことができる。そのため、第一ガス処理室22における燃焼ガスと第一処理液との接触を促進させることができる。また、第一処理液の流下にかかる時間が長くなる。そして、第一処理液と燃焼ガスとをより長く接触させることができる。   In the present embodiment, since the guide portion 213 has a cylindrical shape with a narrowed bottom, the flow rate of the gas-liquid mixture can be increased and guided to the first gas processing chamber. Therefore, the contact between the combustion gas and the first processing liquid in the first gas processing chamber 22 can be promoted. In addition, the time required for the first processing liquid to flow down becomes longer. And a 1st process liquid and combustion gas can be made to contact longer.

本実施形態によれば、邪魔板224や多穴板225の存在により、第一処理液中の燃焼ガスの移動距離が長くなる。そのため、燃焼ガスと第一処理液との接触をより多く図ることができる。そして、燃焼ガス中の有害物質などを第一処理液中により多く溶け込ませることができる。   According to the present embodiment, due to the presence of the baffle plate 224 and the multi-hole plate 225, the moving distance of the combustion gas in the first processing liquid becomes long. Therefore, more contact between the combustion gas and the first treatment liquid can be achieved. And more harmful substances in the combustion gas can be dissolved in the first treatment liquid.

本実施形態によれば、上澄排出部226から第一処理液の上澄み液を排出することができる。そのため、上澄み液に含まれる塵を、第一処理液から除去できる。また、沈殿物排出部228から第一処理液の沈殿物を排出することができる。そのため、沈殿物を、第一処理液から除去できる。   According to this embodiment, the supernatant liquid of the first processing liquid can be discharged from the supernatant discharge part 226. Therefore, dust contained in the supernatant liquid can be removed from the first processing liquid. Moreover, the deposit of the 1st process liquid can be discharged | emitted from the deposit discharge part 228. FIG. Therefore, the precipitate can be removed from the first treatment liquid.

本実施形態によれば、第一処理液調整室23において、第一処理液の成分を調整することで、使用した第一処理液を再生することができる。そして、再生した第一処理液を気液接触部材212に送るようにすることで、第一処理液を上述の流路内で循環させることができる。また、第一検出部材232Aにより、第一処理液調整室23中の第一処理液のpHを検出し、この第一処理液のpHが例えば6.5〜7.5の場合には、この第一処理液の一部を第一放流部から放出することもできる。   According to the present embodiment, the first processing liquid used can be regenerated by adjusting the components of the first processing liquid in the first processing liquid adjustment chamber 23. Then, by sending the regenerated first processing liquid to the gas-liquid contact member 212, the first processing liquid can be circulated in the above-described flow path. Further, the first detection member 232A detects the pH of the first treatment liquid in the first treatment liquid adjustment chamber 23. When the pH of the first treatment liquid is 6.5 to 7.5, for example, A part of the first treatment liquid can be discharged from the first discharge part.

本実施形態によれば、邪魔板314や多穴板315の存在により、第二処理液中の一次処理ガスの移動距離が長くなる。そのため、一次処理ガスと第二処理液との接触をより多く図ることができる。そして、一次処理ガス中の悪臭物質などを第二処理液中により多く溶け込ませることができる。   According to the present embodiment, due to the presence of the baffle plate 314 and the multi-hole plate 315, the moving distance of the primary processing gas in the second processing liquid becomes long. Therefore, more contact between the primary processing gas and the second processing liquid can be achieved. And more malodorous substances in the primary processing gas can be dissolved in the second processing liquid.

本実施形態によれば、超音波振動子316による振動により、一次処理ガスと第二処理液との接触を促進させることができる。そして、一次処理ガス中の悪臭物質などを第二処理液中により多く溶け込ませることができる。
また、第二処理液中にオゾン(O)を投入しているため、一次処理ガス中の悪臭物質をより十分に除去できる。
According to this embodiment, the contact between the primary processing gas and the second processing liquid can be promoted by the vibration of the ultrasonic vibrator 316. And more malodorous substances in the primary processing gas can be dissolved in the second processing liquid.
In addition, since ozone (O 3 ) is introduced into the second treatment liquid, malodorous substances in the primary treatment gas can be more sufficiently removed.

(8)実施形態の変形
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
(8) Modifications of Embodiments The present invention is not limited to the above-described embodiments, but includes modifications and improvements as long as the object of the present invention can be achieved.

前記実施形態では、多穴板225,315の穴の形状をそれぞれ円形状およびクローバー葉形状にしたが、これに限定されない。多穴板225,315の穴の形状は、円形状およびクローバー葉形状の他に、例えば、多角形状、星形状、十字形状などの異形状としてもよい。これらの中でも、ガスと処理液との接触の促進の観点から、クローバー葉形状、星形状、十字形状などが好ましい。
前記実施形態では、第一ブロワー41を第一処理機2の上流の近傍に配置したが、これに限定されない。例えば、第一ブロワー41を第一処理機2の下流の近傍に配置してもよい。また、第二ブロワー42を第二処理機3の下流の近傍に配置したが、これに限定されない。例えば、第二ブロワー42を第二処理機3の上流の近傍に配置してもよい。
前記実施形態では、焼却炉からの燃焼ガスを冷却装置により予め低温(80℃)に冷却しておいたが、これに限定されない。そして、燃焼ガス処理装置1に導入される燃焼ガスの温度は、特に制限されない。また、燃焼ガス処理装置1に、冷却装置の機能を追加してもよい。
前記実施形態では、第二処理機3の数は1機であるが、これに限定されない。例えば、第二処理機3の数が2機以上とすることで、ガスの処理量を多くすることができる。また、第二処理機3の数が2機以上である場合には、1機当たりのガスの処理量を少なくすることで、第二ブロワー42としてより吸引圧力が低いものを用いることができる。吸引圧力が低くなると第二ブロワー42のコストが格段に下がるため、処理装置全体のコストを下げることができる。
前記実施形態では、第二処理機3は処理液調整室を有していないが、これに限定されない。必要に応じて、第二処理機3にも、処理液調整室を設けてもよい、
In the said embodiment, although the shape of the hole of the multi-hole board 225,315 was made into circular shape and clover leaf shape, respectively, it is not limited to this. The shape of the holes of the multi-hole plates 225 and 315 may be an irregular shape such as a polygonal shape, a star shape, or a cross shape in addition to the circular shape and the clover leaf shape. Among these, a clover leaf shape, a star shape, a cross shape, and the like are preferable from the viewpoint of promoting contact between the gas and the treatment liquid.
In the said embodiment, although the 1st blower 41 was arrange | positioned in the vicinity of the upstream of the 1st processor 2, it is not limited to this. For example, the first blower 41 may be arranged in the vicinity of the downstream side of the first processor 2. Moreover, although the 2nd blower 42 has been arrange | positioned in the downstream vicinity of the 2nd processor 3, it is not limited to this. For example, the second blower 42 may be disposed in the vicinity of the second processor 3 upstream.
In the above embodiment, the combustion gas from the incinerator has been cooled to a low temperature (80 ° C.) in advance by the cooling device, but is not limited to this. And the temperature of the combustion gas introduced into the combustion gas processing apparatus 1 is not particularly limited. Further, the function of a cooling device may be added to the combustion gas processing device 1.
In the said embodiment, although the number of the 2nd processing machines 3 is one, it is not limited to this. For example, when the number of the second processing machines 3 is two or more, the gas processing amount can be increased. Further, when the number of the second processing machines 3 is two or more, the second blower 42 having a lower suction pressure can be used by reducing the gas processing amount per machine. When the suction pressure is lowered, the cost of the second blower 42 is remarkably lowered, so that the cost of the entire processing apparatus can be reduced.
In the said embodiment, although the 2nd processor 3 does not have a process liquid adjustment chamber, it is not limited to this. If necessary, the second processing unit 3 may also be provided with a processing liquid adjustment chamber.

本発明の燃焼ガス処理装置は、焼却炉などから排出される燃焼ガスの無害化処理に利用できる。   The combustion gas processing apparatus of the present invention can be used for detoxification processing of combustion gas discharged from an incinerator or the like.

1…燃焼ガス処理装置、2…第一処理機、3…第二処理機、21…気液接触室、22…第一ガス処理室、23…第一処理液調整室、31…第二ガス処理室、32…第二処理液調整室、41…第一ブロワー、42…第二ブロワー、211…燃焼ガス導入部、212…気液接触部材、213…案内部、221…第一処理液収納部、222…気液混合物導入部、223…一次処理ガス排出部、224…邪魔板、225…多穴板、226…上澄排出部、227…連通部、228…沈殿物排出部、231…第一放流部、232A,232B…第一検出部材、233A,233B…第一薬材投入部、311…第二処理液収納部、312…一次処理ガス導入部、313…二次処理ガス排出部、314…邪魔板、315…多穴板、316…超音波振動子。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Combustion gas processing apparatus, 2 ... 1st processing machine, 3 ... 2nd processing machine, 21 ... Gas-liquid contact chamber, 22 ... 1st gas processing chamber, 23 ... 1st processing liquid adjustment chamber, 31 ... 2nd gas Processing chamber 32 ... Second processing liquid adjustment chamber 41 ... First blower 42 ... Second blower 211 ... Combustion gas introduction part 212 ... Gas-liquid contact member 213 ... Guide part 221 ... First processing liquid storage 222, gas-liquid mixture introduction part, 223 ... primary processing gas discharge part, 224 ... baffle plate, 225 ... multi-hole plate, 226 ... supernatant discharge part, 227 ... communication part, 228 ... sediment discharge part, 231 ... 1st discharge part, 232A, 232B ... 1st detection member, 233A, 233B ... 1st chemical | medical material input part, 311 ... 2nd process liquid storage part, 312 ... Primary process gas introduction part, 313 ... Secondary process gas discharge part 314 ... baffle plate, 315 ... multi-hole plate, 316 ... ultrasonic transducer.

Claims (7)

有害物質を含有する燃焼ガスに少なくとも脱塩処理を施す第一処理機と、前記第一処理機で処理された一次処理ガスに少なくとも脱臭処理を施す第二処理機と、前記第一処理機内に上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差を設ける第一ブロワーと、前記第二処理機内に上流の圧力に比べて下流の圧力が小さくなるよう圧力差を設ける第二ブロワーと、を備え、
前記第一処理機は、気液接触室と、第一ガス処理室とを備え、
前記気液接触室には、前記燃焼ガスを導入する燃焼ガス導入部と、前記燃焼ガスに第一処理液を霧状または液滴状にして接触させる噴霧ノズルと、前記燃焼ガスおよび前記第一処理液からなる気液混合物を前記第一ガス処理室に案内する案内部とが設けられ、
前記第一ガス処理室には、前記第一処理液が収納された第一処理液収納部と、前記気液混合物を前記第一処理液中に導入する気液混合物導入部と、前記第一処理液中を流通した一次処理ガスを排出する一次処理ガス排出部とが設けられ、
前記第二処理機は、第二ガス処理室を備え、
前記第二ガス処理室には、第二処理液が収納された第二処理液収納部と、前記一次処理ガスを前記第二処理液中に導入する一次処理ガス導入部と、前記第二処理液中を流通した二次処理ガスを排出する二次処理ガス排出部とが設けられている
ことを特徴とする燃焼ガス処理装置。
A first processor that performs at least a desalting treatment on a combustion gas containing a harmful substance, a second processor that performs at least a deodorizing treatment on a primary processing gas that has been processed by the first processor, and the first processor. A first blower that provides a pressure difference so that the downstream pressure is smaller than the upstream pressure, and a second blower that provides a pressure difference so that the downstream pressure is smaller than the upstream pressure in the second processor, With
The first processing machine includes a gas-liquid contact chamber and a first gas processing chamber,
In the gas-liquid contact chamber, a combustion gas introduction part for introducing the combustion gas, a spray nozzle for bringing the first treatment liquid into contact with the combustion gas in the form of mist or droplets , the combustion gas and the first And a guide unit for guiding a gas-liquid mixture made of a processing liquid to the first gas processing chamber,
In the first gas processing chamber, a first processing liquid storage section storing the first processing liquid, a gas-liquid mixture introduction section for introducing the gas-liquid mixture into the first processing liquid, and the first A primary processing gas discharge unit for discharging the primary processing gas that has circulated in the processing liquid,
The second processing machine includes a second gas processing chamber,
In the second gas processing chamber, a second processing liquid storage section storing a second processing liquid, a primary processing gas introduction section for introducing the primary processing gas into the second processing liquid, and the second processing A combustion gas processing apparatus, comprising: a secondary processing gas discharge unit that discharges the secondary processing gas that has circulated in the liquid.
請求項1に記載の燃焼ガス処理装置において、
前記第一処理液収納部には、前記第一処理液中の前記燃焼ガスの移動を邪魔する邪魔板、および、前記第一処理液中の前記燃焼ガスが穴を流通できる多穴板のうちの少なくとも一つが設けられている
ことを特徴とする燃焼ガス処理装置。
The combustion gas processing apparatus according to claim 1,
The first treatment liquid storage unit includes a baffle plate that obstructs the movement of the combustion gas in the first treatment liquid, and a multi-hole plate that allows the combustion gas in the first treatment liquid to flow through holes. At least one of these is provided. The combustion gas processing apparatus characterized by the above-mentioned.
請求項1または請求項2に記載の燃焼ガス処理装置において、
前記第二処理液収納部には、前記第二処理液中の前記一次処理ガスの移動を邪魔する邪魔板、および、前記第二処理液中の前記一次処理ガスが穴を流通できる多穴板のうちの少なくとも一つが設けられている
ことを特徴とする燃焼ガス処理装置。
The combustion gas processing apparatus according to claim 1 or 2,
The second processing liquid storage section includes a baffle plate that obstructs the movement of the primary processing gas in the second processing liquid, and a multi-hole plate through which the primary processing gas in the second processing liquid can circulate. At least one of them is provided. The combustion gas processing apparatus characterized by the above-mentioned.
請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の燃焼ガス処理装置において、
前記第二処理液収納部には、前記一次処理ガスと前記第二処理液との接触を促進させるために前記第二処理液を振動させる超音波振動子が設けられている
ことを特徴とする燃焼ガス処理装置。
In the combustion gas processing apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The second treatment liquid storage unit is provided with an ultrasonic transducer that vibrates the second treatment liquid in order to promote contact between the primary treatment gas and the second treatment liquid. Combustion gas processing device.
請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の燃焼ガス処理装置において、
前記第一処理機における前記案内部は、上方から下方に向かって下すぼまりの筒状である
ことを特徴とする燃焼ガス処理装置。
In the combustion gas processing apparatus according to any one of claims 1 to 4,
The combustion gas processing apparatus according to claim 1, wherein the guide portion in the first processing machine has a cylindrical shape with a concavity downward from above.
請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の燃焼ガス処理装置において、
前記第一処理機は、前記第一ガス処理室と連通する第一処理液調整室をさらに備え、
前記第一処理液調整室には、前記第一ガス処理室から排出した第一処理液の一部を放出する第一放流部と、前記第一処理液調整室中の第一処理液の成分を検出する第一検出部材と、第一処理液の成分を調整するための第一薬材投入部とが設けられている
ことを特徴とする燃焼ガス処理装置。
In the combustion gas processing apparatus according to any one of claims 1 to 5,
The first processing machine further includes a first processing liquid adjustment chamber communicating with the first gas processing chamber,
The first treatment liquid adjustment chamber includes a first discharge portion for discharging a part of the first treatment liquid discharged from the first gas treatment chamber, and a component of the first treatment liquid in the first treatment liquid adjustment chamber. The combustion gas processing apparatus characterized by the above-mentioned. The 1st detection member which detects this, and the 1st chemical | medical material injection | throwing-in part for adjusting the component of a 1st process liquid are provided.
請求項6に記載の燃焼ガス処理装置において、
前記第一処理液収納部には、前記第一処理液の上澄み液を排出する上澄排出部と、前記第一処理液調整室と連通する連通部と、前記第一処理液の沈殿物を排出する沈殿物排出部とが設けられている
ことを特徴とする燃焼ガス処理装置。
The combustion gas processing apparatus according to claim 6, wherein
The first treatment liquid storage part includes a supernatant discharge part for discharging the supernatant liquid of the first treatment liquid, a communication part communicating with the first treatment liquid adjustment chamber, and a precipitate of the first treatment liquid. A combustion gas processing apparatus, comprising: a sediment discharge section for discharging.
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