JP6031125B2 - 無機粒子用分散剤、該分散剤を含有する組成物、硬化性組成物、硬化物および薄膜 - Google Patents
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Description
本願は、2013年1月11日に、日本に出願された特願2013−004098号、及び2013年1月18日に、日本に出願された特願2013−006985号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
また、樹脂に分散された無機粒子を含有して成る樹脂材料は、耐候性、特にUVなどの光によって黄変し難いなどの特性が求められる。無機粒子を分散させるための分散剤に加えてヒンダードアミン系光安定化剤などを添加することによって、無機粒子の均一分散と耐光性の向上とを実現することができる。しかしながら、分散剤および光安定化剤を多量に添加すると樹脂材料の機械的強度が低下するなどの弊害が生じる傾向があるので、より高い耐光性を求められても、それらを樹脂に多量に添加することができない。
〔1〕3級アミノ基を有する繰り返し単位及び4級アンモニウム塩構造を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含む重合体ブロック(a)と、架橋性官能基を有する繰り返し単位及び光による酸化で生成するラジカルを捕捉する機能を有する構造を有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含む重合体ブロック(b)とを含有するブロック共重合体からなる無機粒子用分散剤。
〔2〕架橋性官能基を有する繰り返し単位が、式(I)で表される繰り返し単位である〔1〕に記載の無機粒子用分散剤。
〔5〕4級アンモニウム塩構造を有する繰り返し単位が、式(II)で表される繰り返し単位である〔1〕〜〔4〕のいずれかひとつに記載の無機粒子用分散剤。
〔8〕無機粒子と、〔1〕〜〔6〕のいずれかひとつに記載の無機粒子用分散剤と、硬化性成分とを含む硬化性組成物。
〔9〕〔8〕に記載の硬化性組成物を硬化させて成る硬化物。
〔10〕〔8〕に記載の硬化性組成物を硬化させて成る薄膜。
4級アンモニウム塩構造を有する繰り返し単位は、繰り返し単位に4級アンモニウム塩構造を有するものであれば、特に制限されない。好ましい4級アンモニウム塩構造を有する繰り返し単位としては、式(II)で表される繰り返し単位が挙げられる。
C1〜C10アルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロパン−1,3−ジイル、プロパン−1,2−ジイル、ブタン−1,4−ジイル、ブタン−2,3−ジイル、ペンタン−1,5−ジイル、ペンタン−1,4−ジイル、2−メチルブタン−1,4−ジイル、ヘキサン−1,6−ジイル、オクタン−1,8−ジイル、デカン−1,10−ジイルなどが挙げられる。
C6〜C10アリールC1〜C6アルキル基としては、ベンジル、フェネチル、3−フェニル−n−プロピル、1−フェニル−n−へキシル、ナフタレン−1−イルメチル、2−ナフタレン−2−イルエチル、1−ナフタレン−2−イル−n−プロピル、インデン−1−イルメチルなどが挙げられる。
Z−としては、Cl−、Br−、I−、ClO4 −、BF4 −、CH3COO−、PF6 −などが挙げられる。
重合体ブロック(b)が架橋性官能基を有する繰り返し単位を含む場合を第一の態様、重合体ブロック(b)が光による酸化で生成するラジカルを捕捉する機能を有する構造を有する繰り返し単位を含む場合を第二の態様として、以下に説明する。
本発明の第一の態様において、重合体ブロック(b)は、架橋性官能基を有する繰り返し単位を含むものである。架橋性官能基は非極性若しくは低極性であることが好ましい。非極性若しくは低極性の架橋性官能基としては、エテニルや2−プロペン−2−イルなどの炭素−炭素二重結合を含む基、オキシラニルやオキセタニルなどの含酸素飽和ヘテロ環基などが挙げられる。非極性若しくは低極性の架橋性官能基は、本発明の硬化性組成物に含有させられる硬化性成分に含まれる官能基に応じて適宜設定することができる。本発明の無機粒子用分散剤における好ましい非極性若しくは低極性の架橋性官能基を有する繰り返し単位としては、式(I)で表される繰り返し単位が挙げられる。
Qにおける、含酸素飽和ヘテロ環基は、少なくとも1つの酸素原子が環を構成する原子として含まれる飽和ヘテロ環基である。また、酸素原子以外に、窒素原子、硫黄原子などの他のヘテロ原子が環を構成する原子として含まれていてもよい。含酸素飽和ヘテロ環基は、環を構成する原子の数が、好ましくは3〜8、より好ましくは3〜6である。
含酸素飽和へテロ環基の具体例としては、オキシラニル、オキセタニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、モルホルニル、チオモルホルニルなどが挙げられる。これらのうち、オキシラニル、オキセタニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルが好ましい。
Qにおける、含酸素飽和ヘテロ環基は、環を構成する原子に好ましくはC1〜C6アルキル基が置換されていてもよい。C1〜C6アルキル基は、式(II)の説明において既に述べたとおりのものである。
C1〜C3アルキル基およびC6〜C10アリールC1〜C6アルキル基は、式(II)の説明において既に述べたとおりのものである。
C1〜C20アルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、t−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、エイコシルなどが挙げられる。これらのうち、C1〜C6アルキル基が好ましい。
本発明の第二の態様において、重合体ブロック(b)は光による酸化で生成するラジカルを捕捉する機能を有する構造を有する繰り返し単位を含むものである。光による酸化で生成するラジカルを捕捉する機能を有する構造としては、ヒンダードアミン系光安定化剤中にみられる構造、例えば、窒素原子に嵩高いアルキル基が結合した構造が挙げられる。具体的には、2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン構造、2,2,5,5−テトラアルキルピロリジン構造、1,2,2,6,6−ペンタアルキルピペリジン構造、1,2,2,5,5−ペンタアルキルピロリジン構造などが挙げられる。
C1〜C3アルキル基およびC6〜C10アリールC1〜C6アルキル基は、式(II)の説明において既に述べたとおりのものである。
C1〜C20アルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、i−ペンチル、ネオペンチル、t−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、エイコシルなどが挙げられる。これらのうち、C1〜C6アルキル基が好ましい。
Qにおける、含酸素飽和ヘテロ環基は、少なくとも1つの酸素原子が環を構成する原子として含まれる飽和ヘテロ環基である。また、酸素原子以外に、窒素原子、硫黄原子などの他のヘテロ原子が環を構成する原子として含まれていてもよい。含酸素飽和ヘテロ環基は、環を構成する原子の数が、好ましくは3〜8、より好ましくは3〜6である。
含酸素飽和へテロ環基の具体例としては、オキシラニル、オキセタニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、モルホルニル、チオモルホルニルなどが挙げられる。これらのうち、オキシラニル、オキセタニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルが好ましい。
Qにおける、含酸素飽和ヘテロ環基は、環を構成する原子に好ましくはC1〜C6アルキル基が置換されていてもよい。C1〜C6アルキル基は、式(II)の説明において既に述べたとおりのものである。
重合体ブロック(c)は、架橋性官能基および4級アンモニウム塩構造を有しない繰り返し単位を含有する重合体ブロックである。具体的には(メタ)アクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマーなどに由来する繰り返し単位を含有する重合体ブロックが挙げられる。(メタ)アクリル酸系モノマー、芳香族ビニル系モノマー、共役ジエン系モノマーなどについては、既に説明したものと同様のものが例示される。
なお、重量平均分子量および数平均分子量はN,N−ジメチルホルムアミドを溶媒とするゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)にて測定したデータを標準ポリメタクリル酸メチルの分子量にて換算した値である。
本発明においては、必要に応じて、ジエチル亜鉛などのジアルキル亜鉛、ジブチルマグネシウムなどのジアルキルマグネシウム、トリエチルアルミニウムなどの有機金属を、重合安定化剤としてまたはモノマーや溶媒の精製剤として使用することもできる。
本発明の組成物に用いられる無機粒子は特に限定されない。該無機粒子の一次粒子径は、特に限定されないが、好ましくは1000nm以下、より好ましくは500nm以下、さらに好ましくは200nm以下、最も好ましくは100nm以下である。
本発明の組成物に含まれる無機粒子の量は、好ましくは1〜80質量%、より好ましくは5〜50質量%である。また、本発明の組成物に使用される本発明に係る無機粒子用分散剤の量は、無機粒子100質量部に対して、好ましくは1〜200質量部、より好ましくは5〜100質量部、さらに好ましくは10〜50質量部である。
液体分散媒としては、水;ヘキサン、デカン、ドデカン、テトラデカンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類;メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどのアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)などのエーテル類などを挙げることができる。 これらのうち、無機粒子の分散性の高さの観点から、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ケトン類、エステル類、アルコール類が好ましく、ケトン類がより好ましい。これら液体分散媒は、1種単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の組成物に用いられる液体分散媒の量は、適正な組成物粘度などの観点から適宜設定することができる。本発明の組成物に含まれ得る液体分散媒の量は、好ましくは10〜50質量%である。
これらのうち、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンテトラアクリレートなどの多官能(メタ)アクリレート系モノマーが好ましい。また、これらは1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
有機過酸化物としては、t−ブチルハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドなどのハイドロパーオキサイド類;t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシデカノエートなどのパーオキシエステル類;1,5−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンなどのパーオキシケタール類;アセト酢酸エチルパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類;過酸化ベンゾイルなどのジアシルパーオキサイド類が挙げられる。
その他、ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシフェニルアセトフェノン、2−エチルアントラキノン、1,3−ジ(tert−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4,4’−テトラキス(tert−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3−フェニル−5−イソオキサゾロン、2−メルカプトベンズイミダゾール、ビス(2,4,5−トリフェニル)イミダゾール、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名イルガキュア651、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン(商品名イルガキュア369、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム)(商品名イルガキュア784、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、ジクミル ペルオキシド、t−ブチルペルベンゾアート、t−ブチルペロキシヘキシン−3などが挙げられる。これら重合開始剤は、1種単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の第二の態様の硬化性組成物は、無機粒子の含有量が、多官能性モノマー100質量部に対して、好ましくは1〜100質量部であり、重合開始剤の含有量が、多官能性モノマー100質量部に対して、好ましくは0.5〜10質量部であり、本発明の第二の態様の無機粒子用分散剤の含有量が、無機粒子100質量部に対して、好ましくは1〜200質量部である。このような割合で各成分を含有する硬化性組成物を硬化させると、耐光性に優れる硬化物を得ることができる。
加熱は、その方法によって特に限定されず、ヒーターなどの公知手段を用いて行うことができる。
光照射においては、例えば、紫外線、可視光線、X線、電子線などのエネルギー線を用いることができる。これらのうち、紫外線が好ましく用いられる。
可視光線の照射は、例えば、白熱球、蛍光灯などを用いて行うことができる。紫外線の照射は、例えば、メタルハライドランプ、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、エキシマランプ、メタルハライドランプなどを用いて行うことができる。照射する紫外線の波長範囲は、特に制限されないが、好ましくは150nm〜400nm、より好ましくは200nm〜380nmである。光照射時の雰囲気は、大気雰囲気でもよいが、窒素ガスや炭酸ガスなどの不活性ガス雰囲気あるいは低酸素濃度雰囲気が好ましい。光照射時の温度は、特に限定されないが、好ましくは10〜200℃である。
また、本発明の第二の態様の無機粒子用分散剤を用いた場合、本発明に係る硬化性組成物は、耐光性に優れる硬化物を得ることができる。特に硬化性組成物を膜に成形して硬化させると、耐光性に優れる膜を得ることができる。
500mLフラスコにテトラヒドロフラン239.6gおよび塩化リチウム0.3gを入れ、−60℃まで冷却した。これにn−ブチルリチウム5.3gを含むヘキサン溶液(濃度15.4質量%)を添加し、次いでジイソプロピルアミン1.4gを添加し、10分間撹拌した。これにメタクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル(以下、DMAEMAと略す。)18.1gを5分間かけて滴加した。滴加終了後、ガスクロマトグラフィでDMAEMAが検出されなくなるまで撹拌した。次いで、メタクリル酸メチル(以下、MMAと略す。)42.2gを30分間かけて滴加した。滴加終了後、ガスクロマトグラフィでMMAが検出されなくなるまで撹拌した。その後、メタノール2.0gを加えてリビング活性を消失させた。DMAEMAの重合体ブロックとMMAの重合体ブロックとを有し、数平均分子量(Mn)が5480で且つ分子量分布(Mw/Mn)が1.15のブロック共重合体が得られた。なお、数平均分子量および重量平均分子量は、N,N−ジメチルホルムアミドを溶媒とするゲルパーミエーションクロマトグラフィを用いて測定したデータを標準ポリメタクリル酸メチルの分子量にて換算した値である。
200mLフラスコにテトラヒドロフラン114.4gおよび塩化リチウム0.1gを入れ、−60℃まで冷却した。これにn−ブチルリチウム2.1gを含むヘキサン溶液(濃度15.4質量%)を添加し、次いでジイソプロピルアミン0.5gを添加し、10分間撹拌した。これにDMAEMA7.4gを5分間かけて滴加した。滴加終了後、ガスクロマトグラフィでDMAEMAが検出されなくなるまで撹拌した。次いで、MMA7.2gとメタクリル酸アリル(以下、AMAと略す。)9.6gの混合液を15分間かけて滴加した。滴加終了後、ガスクロマトグラフィでMMAおよびAMAが検出されなくなるまで撹拌した。その後、メタノール0.8gを加えてリビング活性を消失させた。DMAEMAの重合体ブロックとMMA/AMAの共重合体ブロックとを有し、数平均分子量(Mn)が6000で且つ分子量分布(Mw/Mn)が1.14のブロック共重合体が得られた。
200mLフラスコにテトラヒドロフラン101.6gおよび塩化リチウム0.1gを入れ、−60℃まで冷却した。これにn−ブチルリチウム2.1gを含むヘキサン溶液(濃度15.4重量%)を添加し、次いでジイソプロピルアミン0.6gを添加し、10分間撹拌した。これにDMAEMA7.3gを5分間かけて滴加した。滴加終了後、ガスクロマトグラフィでDMAEMAが検出されなくなるまで撹拌した。次いで、メタクリル酸アリル(以下、AMAと略す。)9.6gとメタクリル酸2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル(以下、TMPMAと略す。)7.2gとの混合液を15分間かけて滴加した。滴加終了後、ガスクロマトグラフィでAMAおよびTMPMAが検出されなくなるまで撹拌した。その後、メタノール0.8gを加えてリビング活性を消失させた。DMAEMAの重合体ブロックとAMA/TMPMAの共重合体ブロックとを有し、数平均分子量(Mn)が5780、分子量分布(Mw/Mn)が1.16のブロック共重合体が得られた。
ジルコニア粒子(日本電工社製、PCS60;一次粒子径15nm、比表面積65m2/g)45.0質量部、無機粒子用分散剤A 14.3質量部、およびメチルエチルケトン65.7質量部を混合した。該混合物50gを分散機(アイメックス社製、1500rpm、ビーズ径0.1mmのジルコニアビーズ150g)に入れ3時間分散させて分散液Aを得た。分散液A中の無機粒子のメディアン径は67nmであった。
無機粒子用分散剤Aを無機粒子用分散剤Bに変えた以外は比較例2と同じ方法で分散液Bを調製した。分散液B中の無機粒子のメディアン径は45nmであった。
無機粒子用分散剤Aを無機粒子用分散剤Cに変えた以外は比較例2と同じ方法で分散液Cを調製した。分散液C中の無機粒子のメディアン径は44nmであった。
分散液A 125質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート50質量部、光重合開始剤(2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、Irgacure907)2質量部、およびメチルエチルケトン325質量部を混合して、硬化性組成物を得た。
得られた硬化性組成物をポリエチレンテレフタレートフィルム上に#12バーコーターを用いて厚さ2μmとなるように塗布し、80℃で3分間乾燥させ、高圧水銀灯を用いて400mJ/cm2の光を照射して、硬化膜Aを得た。硬化膜Aのマルテンス硬度は251.2N/mmであった。なお、マルテンス硬度はピコデンターを用いて測定した。
分散液Aを分散液Bに変えた以外は比較例3と同じ方法で硬化膜を得た。硬化膜Bのマルテンス硬度は290.4N/mmであった。
分散液A 125質量部、多官能ウレタンアクリレート(GX−8781K;第一工業製薬社製)50質量部、光重合開始剤(2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、Irgacure907)2質量部、およびメチルエチルケトン325質量部を混合して、硬化性組成物を得た。
得られた硬化性組成物を厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績社製コスモシャインA4300)上に#12バーコーターを用いて塗布し、温風循環型乾燥機にて80℃、3分間乾燥させた。次いで、集光型高圧水銀灯(365nm、313nm、254nmの波長の光を主成分とするUV光、アイグラフィックス社製、1灯型、120W/cm、ランプ高9.8cm、コンベア速度5.7m/分)により積算照射量400mJ/cm2(254nm)のUV光を照射し、厚さ2μmの硬化膜を形成して、積層フィルムAを得た。積層フィルムAのヘイズ、全光線透過率、屈折率、およびイエロインデックスを測定した。その結果を表1に示す。
分散液Aを分散液Cに変えた以外は比較例4と同じ方法で硬化膜を形成して積層フィルムCを得た。積層フィルムCのヘイズ、全光線透過率、屈折率、およびイエロインデックスを測定した。その結果を表1に示す。
JIS K 7105に従って測定した。測定装置として日本電色工業株式会社製ヘーズメーターNDH−300Aを使用した。なお、全光線透過率(TT)は、入射させた光のうち試料を透過して出てきた光の割合(%)である。透過光線としては拡散光線と平行光線とがある。全光線透過率は拡散光線透過率(DF)と平行光線透過率の和である。
(TT)=(DF)+(平行光線透過率)
また、ヘイズ率(Hz)(%)は、全光線透過率に対する拡散光線透過率の割合(%)である。
(Hz)=(DF)/(TT)×100
J.A.Woollam社製 高速分光エリプソメーターM−2000Dを使用して589nmの光に対する屈折率を測定した。
フィッシャー・インストルメンツ社製 表面被膜物性試験機ピコデンターHM500を用いてマルテンス硬度を測定した。
製造直後の積層フィルムのYIを測定した。この値を「YI 0時間」と定義した。次に、製造した積層フィルムの上方から、波長範囲300−700nm、照射強度500w/cm2の光を180時間照射した。その後、積層フィルムのYIを測定した。この値を「YI 180時間」と定義した。なお、YIは、無色または白色から色相が黄色方向に離れる度合いを示したものである。JIS K7373:2006に準拠し、分光色彩計(NIPPON DENSHOKU SD5000)を使用して測定した。
200mLフラスコにテトラヒドロフラン50.8gおよび塩化リチウム0.05gを入れ、−60℃まで冷却した。これにn−ブチルリチウム1.05gを含むヘキサン溶液(濃度15.4重量%)を添加し、次いでジイソプロピルアミン0.3gを添加し、10分間撹拌した。これにDMAEMA3.65gを5分間かけて滴加した。滴加終了後、ガスクロマトグラフィでDMAEMAが検出されなくなるまで撹拌した。次いで、メタクリル酸メチル(以下、MMAと略す。)4.8gとTMPMA7.2gとの混合液を10分間かけて滴加した。滴加終了後、ガスクロマトグラフィでMMAおよびTMPMAが検出されなくなるまで撹拌した。その後、メタノール0.4gを加えてリビング活性を消失させた。DMAEMAの重合体ブロックとMMA/TMPMAの共重合体ブロックとを有し、数平均分子量(Mn)が5600、分子量分布(Mw/Mn)が1.18のブロック共重合体が得られた。
Claims (3)
- 無機粒子と、無機粒子用分散剤と、分散媒とを含む組成物であって、
前記無機粒子用分散剤が、3級アミノ基を有する繰り返し単位及び式(II):
(式(II)中、R 4 は、水素原子またはC1〜C3アルキル基を表し、R 5 、R 6 およびR 7 は、それぞれ独立に、C1〜C6アルキル基を表し、Xは、C1〜C10アルキレン基を表し、Z − は、カウンターアニオンを表す。)で表される繰り返し単位を含む重合体ブロック(a)と、2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン構造を有する繰り返し単位を含む重合体ブロック(b)とを含有し、重量平均分子量/数平均分子量の比が1.0〜2.0である、ブロック共重合体からなり、
前記分散媒がケトン類である、組成物。 - 前記無機粒子が酸化ジルコニウムである、請求項1または2に記載の組成物。
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