JP6046903B2 - Filler-containing liquid composition and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、フィラーを分散した液状組成物及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a liquid composition in which a filler is dispersed and a method for producing the same .
従来、熱硬化性樹脂などの樹脂中にシリカ粒子材料などのフィラーを分散させた樹脂組成物の硬化物が知られている。樹脂中にシリカ粒子材料を含有させることにより耐熱性を向上したり、物理的強度を向上したりできる。樹脂組成物の硬化物を得るためには反応により硬化可能な流動性のあるプレポリマーを必要な形に成型して硬化させることが行われている(特許文献1など参照)。 Conventionally, a cured product of a resin composition in which a filler such as a silica particle material is dispersed in a resin such as a thermosetting resin is known. By including a silica particle material in the resin, heat resistance can be improved, and physical strength can be improved. In order to obtain a cured product of the resin composition, a fluid prepolymer that can be cured by reaction is molded into a necessary shape and cured (see Patent Document 1, etc.).
ところでフィラーとそのフィラーを分散する樹脂材料との間では比重が異なる場合が多く放置することでフィラーの分布が重力の影響により偏ることがあった。そうすると、半導体素子のアンダーフィル材としての利用時などでフィラー入りの液状樹脂組成物を充填した後、樹脂組成物を硬化するまでの間にフィラーが沈降したり、実際に樹脂組成物を使用するまでの保存している間にフィラーが沈降したりして想定したフィラーの含有量が確保されないおそれがあった。そのようなフィラーの沈降を抑制するためには液状樹脂組成物を充填した後、すぐに硬化させたり、保存している液状樹脂組成物を撹拌し続けたりといったことをする必要があった。 By the way, since the specific gravity is often different between the filler and the resin material in which the filler is dispersed, the distribution of the filler may be biased due to the influence of gravity. Then, after filling the liquid resin composition containing the filler when used as an underfill material of a semiconductor element, the filler settles or the resin composition is actually used until the resin composition is cured. There was a possibility that the filler content assumed during the storage until the filler settled could not be ensured. In order to suppress such sedimentation of the filler, it is necessary to immediately cure after filling the liquid resin composition or to keep stirring the stored liquid resin composition.
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、フィラーの沈降速度が遅いフィラー含有液状組成物及びその製造方法を提供することを解決すべき課題とする。
This invention is made | formed in view of the said situation, and makes it the subject which should be solved to provide the filler containing liquid composition with a slow sedimentation rate of a filler, and its manufacturing method .
上記課題を解決するため本発明者らが鋭意検討を行った結果、以下の発明を完成した。
(i)すなわち、上記課題を解決するフィラー含有液状組成物は、体積平均粒子径が1nmから100nmである原料シリカに対して、シラン化合物と、オルガノシラザンとで表面が処理されており、イソプロパノール、PMG、MEK、酢酸エチル、及びトルエンからなる群より選択される1種又は2種以上の分散媒に全体の質量を基準として10質量%分散させた分散液100mLに対して超音波を5分間照射した後、JISP3801規格の5種Cのろ紙で吸引ろ過したときに95%以上が通過するシリカ粒子材料と、
体積平均粒径が0.5μm以上である無機材料から構成されるフィラーと、
前記シリカ粒子材料及び前記フィラーを分散する液状組成物と、
を有することを特徴とする。
前記シラン化合物はシランカップリング剤、及び、3つのアルコキシ基とフェニル基とをもつ化合物から選択される1種以上の化合物で有る。
As a result of intensive studies by the present inventors to solve the above problems, the following invention has been completed.
(I) That is, the filler-containing liquid composition that solves the above problems has a surface treated with a silane compound and an organosilazane with respect to a raw material silica having a volume average particle diameter of 1 nm to 100 nm. Ultrasound is applied for 5 minutes to 100 mL of a dispersion in which 10% by mass is dispersed in one or more dispersion media selected from the group consisting of PMG, MEK, ethyl acetate, and toluene based on the total mass. After that, a silica particle material through which 95% or more passes when suction filtered with 5 types C filter paper of JISP3801 standard,
A filler composed of an inorganic material having a volume average particle size of 0.5 μm or more;
A liquid composition in which the silica particle material and the filler are dispersed;
It is characterized by having.
The silane compound is at least one compound selected from a silane coupling agent and a compound having three alkoxy groups and a phenyl group.
液体中での沈降の終端速度は粒径の2乗に比例するため、フィラーよりも相対的に小さな粒径をもつシリカ粒子材料の沈降速度は小さくなる。また、フィラーはシリカ粒子材料の存在により邪魔されるために、その沈降速度も遅くなる。そのためにフィラーはシリカ粒子材料が存在しない場合と比べて安定的に液状組成物中に存在することになる。 Since the terminal velocity of sedimentation in a liquid is proportional to the square of the particle size, the sedimentation velocity of a silica particle material having a particle size relatively smaller than that of the filler is small. In addition, since the filler is disturbed by the presence of the silica particle material, the sedimentation rate thereof is also slowed. Therefore, the filler is stably present in the liquid composition as compared with the case where no silica particle material is present.
なお、本明細書における「粒径」とは体積球相当径である。また、本明細書での粒径は分離せずに一体的に移動するときの最小単位についての径である。つまり、一次粒子として分散されているときには一次粒子の粒径、二次粒子を形成して二次粒子として分散されているときには二次粒子の粒径である。 The “particle diameter” in this specification is a volume sphere equivalent diameter. Moreover, the particle size in this specification is the diameter of the smallest unit when moving together without separation. That is, it is the particle size of the primary particles when dispersed as primary particles, and the particle size of the secondary particles when formed as secondary particles and dispersed as secondary particles.
更には(iii)の構成として、上記課題を解決するフィラー含有液状組成物は、粒子径が1nmから100nmである原料シリカに対して、シラン化合物と、オルガノシラザンとで表面が処理されており、イソプロパノール、PMG、MEK、酢酸エチル、及びトルエンからなる群より選択される1種又は2種以上の分散媒に全体の質量を基準として10質量%分散させた分散液100mLに対して超音波を5分間照射した後、JISP3801規格の5種Cのろ紙で吸引ろ過したときに95%以上が通過するシリカ粒子材料と、
粒径が0.5μm以上である無機材料から構成されるフィラーと、
前記シリカ粒子材料及び前記フィラーを分散する液状組成物と、
を有し、
前記シリカ粒子材料の混合割合は、前記フィラー及び前記シリカ粒子材料の全体の質量を基準として、15%超50%未満であることを特徴とする。
前記シラン化合物はシランカップリング剤、及び、3つのアルコキシ基とフェニル基とをもつ化合物から選択される1種以上の化合物で有る。
Furthermore, as a configuration of (iii), the filler-containing liquid composition that solves the above-described problems has a surface treated with a silane compound and an organosilazane with respect to raw silica having a particle diameter of 1 nm to 100 nm, 5 ultrasonic waves are applied to 100 mL of a dispersion in which 10 mass% is dispersed in one or more dispersion media selected from the group consisting of isopropanol, PMG, MEK, ethyl acetate and toluene based on the total mass. After irradiating for 5 minutes, a silica particle material through which 95% or more passes when suction filtered with 5 types C filter paper of JISP3801 standard,
A filler composed of an inorganic material having a particle size of 0.5 μm or more;
A liquid composition in which the silica particle material and the filler are dispersed;
Have
The mixing ratio of the silica particle material is more than 15% and less than 50% based on the total mass of the filler and the silica particle material.
The silane compound is at least one compound selected from a silane coupling agent and a compound having three alkoxy groups and a phenyl group.
上記(i)の構成に加えて、以下に記載する(ii)、(iv)、及び(viii)のうちの少なくとも1つの構成を付加することができる。そして(iv)の構成を採用する場合には以下に記載する(v)、(vi)、及び(vii)の構成のうちの少なくとも1つの構成を付加することができる。更に(viii)の構成を採用する場合には以下に記載する(ix)及び(x)の構成のうちの少なくとも1つの構成を付加することができる。 In addition to the configuration (i) above, at least one of the following configurations (ii), (iv), and (viii) can be added. When the configuration (iv) is adopted, at least one of the configurations (v), (vi), and (vii) described below can be added. Furthermore, when the configuration (viii) is adopted, at least one of the configurations (ix) and (x) described below can be added.
(ii)前記シリカ粒子材料の混合割合は、前記フィラー及び前記シリカ粒子材料の全体の質量を基準として、15%超50%未満である。
(iv)前記シリカ粒子材料は、式(1):−OSiX1X2X3で表される官能基及び式(2):−OSiY1Y2Y3で表される官能基と、両官能基が表面に結合するシリカ粒子とからなる。上記式(1)、(2)中;X1はフェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基であり;X2、X3は−OSiR3及び−OSiY4Y5Y6よりそれぞれ独立して選択され;Y1はRであり;Y2、Y3はR及び−OSiY4Y5Y6よりそれぞれ独立して選択される。Y4はRであり;Y5及びY6は、R及び−OSiR3からそれぞれ独立して選択され;Rは炭素数1〜3のアルキル基から独立して選択される。なお、X2、X3、Y2、Y3、Y5、及びY6の何れかは、近接する官能基のX2、X3、Y2、Y3、Y5、及びY6の何れかと−O−にて結合しても良い。
(v)前記式(1)で表される官能基と前記式(2)で表される官能基との存在数比が1:12〜1:60である。
(vi)前記X1は前記シリカ粒子材料の単位表面積(nm2)あたり0.5〜2.5個である。
(vii)前記Rは前記シリカ粒子材料の単位表面積(nm2)あたり1〜10個である。
(viii)前記シリカ材料は、水を含む液状媒体中でシラン化合物及びオルガノシラザンによってシリカ粒子を表面処理する表面処理工程をもつ表面処理方法により処理され、
前記シラン化合物は、3つのアルコキシ基と、フェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基と、を持ち、
前記シラン化合物と前記オルガノシラザンとのモル比は、前記シラン化合物:前記オルガノシラザン=1:2〜1:10である。
(ix)前記表面処理工程は、
前記シリカ粒子を前記シラン化合物で処理する第1の処理工程と、
前記シリカ粒子を前記オルガノシラザンで処理する第2の処理工程と、を持ち、
前記第2の処理工程は、前記第1の処理工程後に行う。
(x)前記第2の処理工程において、3つのアルコキシ基と炭素数1〜3のアルキル基とを持つ第2のシラン化合物で前記オルガノシラザンの一部を置き換え、
前記第2の処理工程後に、さらに前記シリカ粒子を前記オルガノシラザンで処理する第3の処理工程を持つ。
(Ii) The mixing ratio of the silica particle material is more than 15% and less than 50% based on the total mass of the filler and the silica particle material.
(Iv) The silica particle material includes a functional group represented by the formula (1): -OSiX 1 X 2 X 3 and a functional group represented by the formula (2): -OSiY 1 Y 2 Y 3 and both functionalities. It consists of silica particles with groups bonded to the surface. In the above formulas (1) and (2); X 1 is a phenyl group, vinyl group, epoxy group, methacryl group, amino group, ureido group, mercapto group, isocyanate group, or acrylic group; X 2 and X 3 are -OSiR 3 and -OSiY 4 Y 5 Y 6 are each independently selected from; Y 1 is an R; Y 2, Y 3 are each selected from R and -OSiY 4 Y 5 Y 6 independently. Y 4 is R; Y 5 and Y 6 are each independently selected from R and —OSiR 3 ; R is independently selected from an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. X 2 , X 3 , Y 2 , Y 3 , Y 5 , and Y 6 are any of X 2 , X 3 , Y 2 , Y 3 , Y 5 , and Y 6 of the adjacent functional group. You may combine with heel -O-.
(V) The abundance ratio between the functional group represented by the formula (1) and the functional group represented by the formula (2) is 1:12 to 1:60.
(Vi) X 1 is 0.5 to 2.5 per unit surface area (nm 2 ) of the silica particle material.
(Vii) R is 1 to 10 per unit surface area (nm 2 ) of the silica particle material.
(Viii) The silica material is treated by a surface treatment method having a surface treatment step of treating the silica particles with a silane compound and organosilazane in a liquid medium containing water,
The silane compound has three alkoxy groups, phenyl group, vinyl group, epoxy group, methacryl group, amino group, ureido group, mercapto group, isocyanate group, or acrylic group,
The molar ratio between the organo silazane and the silane compound, the silane compound: The organosilazane = 1: 2 to 1: 10.
(Ix) The surface treatment step includes
A first treatment step of treating the silica particles with the silane compound ;
A second treatment step of treating the silica particles with the organosilazane,
The second processing step is performed after the first processing step.
(X) In the second treatment step, a part of the organosilazane is replaced with a second silane compound having three alkoxy groups and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms,
After the second treatment step, the method further comprises a third treatment step of treating the silica particles with the organosilazane.
本発明では、上記構成をもつことから、フィラーの沈降速度がフィラーの粒径から考えられる速度よりも小さくなり、液状組成物中におけるフィラーの分散の安定性を向上することができる。 In this invention, since it has the said structure, the sedimentation rate of a filler becomes smaller than the speed considered from the particle size of a filler, and can improve the stability of dispersion | distribution of the filler in a liquid composition.
本発明のフィラー含有液状組成物について実施形態に基づき以下詳細に説明を行う。本実施形態のフィラー含有液状組成物はフィラーを含有するため高い強度をもつなどの高い物理特性を持つことができると共に、含有するフィラーを安定的に分散させることできる。 The filler-containing liquid composition of the present invention will be described in detail below based on the embodiment. Since the filler-containing liquid composition of the present embodiment contains a filler, it can have high physical properties such as high strength, and the contained filler can be stably dispersed.
本実施形態のフィラー含有液状組成物はシリカ粒子材料とフィラーとそれらを分散する液状の組成物(樹脂材料、溶媒など)とを有する。液状組成物としては液状であること以外は特に限定しない。フィラーの含有量や、フィラーとシリカ粒子材料との合計量は必要な量だけ含有している。 シリカ粒子材料の含有量はフィラーとシリカ粒子とを合わせた全体の質量を基準として15%超であることが好ましく、20%以上であることがより好ましい。そして、50%未満であることが好ましく、40%以下であることがより好ましい。フィラーとシリカ粒子材料と液状組成物との混合方法は特に限定されず、公知の撹拌機・混練機などにより混合分散することができる。また、混合の順序も特に限定されない。 The filler-containing liquid composition of this embodiment has a silica particle material, a filler, and a liquid composition (resin material, solvent, etc.) in which they are dispersed. The liquid composition is not particularly limited except that it is liquid. The necessary amount of filler and the total amount of filler and silica particle material are contained. The content of the silica particle material is preferably more than 15%, more preferably 20% or more, based on the total mass of the filler and silica particles combined. And it is preferable that it is less than 50%, and it is more preferable that it is 40% or less. The mixing method of the filler, the silica particle material, and the liquid composition is not particularly limited, and can be mixed and dispersed by a known stirrer / kneader. Further, the order of mixing is not particularly limited.
また、液状組成物として、より小さな分子量の化合物から反応により生成する樹脂を採用する場合にはその反応中にシリカ粒子材料やフィラーを混合した状態で行うこともできる。更にはその反応にて結合可能な官能基を、シリカ粒子材料の表面やフィラーの表面に導入しておき、その反応により液状組成物と化学的に結合させることも可能である。 Moreover, when employ | adopting resin produced | generated by reaction from a smaller molecular weight compound as a liquid composition, it can also carry out in the state which mixed the silica particle material and the filler during the reaction. Furthermore, it is possible to introduce a functional group that can be bonded by the reaction into the surface of the silica particle material or the surface of the filler, and to chemically bond it to the liquid composition by the reaction.
・シリカ粒子材料
シリカ粒子材料としては以下の「第1形態」又は「第2形態」の構成をもつ。なお、第1形態及び第2形態とでは、フィラーよりも小さな粒径をもつシリカ粒子材料を添加しているとの発明の思想自体としては差異が無い。
(第1形態)
シリカ粒子材料は体積平均粒径が1nm〜100nmのシリカからなる粒子である原料シリカに対して、表面処理を行った材料である。原料シリカの粒径としては望ましくは2nm以上であり、特に望ましくは5nm以上であり、10nm以上が更に望ましい。また、80nm以下が望ましく、50nm以下が更に望ましい。
(第2形態)
シリカ粒子材料は粒径が100nm以下である。この場合にシリカ粒子材料の混合割合は、前記フィラー及び前記シリカ粒子材料の全体の質量を基準として、15%超50%未満である。粒径で規定しているのはフィラーとしてシリカからなるものを採用したときに区別ができにくいため、単純に粒径のみで峻別できるようにするためである。
(第1形態及び第2形態2の共通の特徴)
シリカ粒子材料の表面はシラン化合物とオルガノシラザンとで処理されている。シラン化合物はシランカップリング剤、及び、3つのアルコキシ基とフェニル基とをもつ化合物から選択される1種以上の化合物で有る。
Silica particle material The silica particle material has the following “first form” or “second form” configuration. Note that there is no difference between the first embodiment and the second embodiment as the idea of the invention that a silica particle material having a particle size smaller than that of the filler is added.
(First form)
The silica particle material is a material obtained by subjecting raw material silica, which is a particle made of silica having a volume average particle diameter of 1 nm to 100 nm, to surface treatment. The particle diameter of the raw material silica is desirably 2 nm or more, particularly desirably 5 nm or more, and more desirably 10 nm or more. Moreover, 80 nm or less is desirable and 50 nm or less is more desirable.
(Second form)
The silica particle material has a particle size of 100 nm or less. In this case, the mixing ratio of the silica particle material is more than 15% and less than 50% based on the total mass of the filler and the silica particle material. The particle size is specified because it is difficult to distinguish when a filler made of silica is used, so that the particle size can be simply distinguished only by the particle size.
(Common features of the first form and the second form 2)
The surface of the silica particle material is treated with a silane compound and an organosilazane. The silane compound is at least one compound selected from a silane coupling agent and a compound having three alkoxy groups and a phenyl group.
シリカ粒子材料は真球度が高い方が流動性が向上するため望ましい。真球度としては0.8以上にすることが望ましく、0.9以上にすることが更に望ましい。真球度の測定は、SEMで写真を撮り、その観察される粒子の面積と周囲長から、(真球度)={4π×(面積)÷(周囲長)2}で算出される値として算出する。1に近づくほど真球に近い。具体的には画像処理装置(シスメックス株式会社:FPIA−3000)を用い、無作為に抽出した100個の粒子について測定した平均値を採用する。 A silica particle material with higher sphericity is desirable because the fluidity is improved. The sphericity is preferably 0.8 or more, and more preferably 0.9 or more. The sphericity is measured by taking a photograph with an SEM, and calculating from (Sphericality) = {4π × (Area) ÷ (Ambient Length) 2 } from the area and circumference of the observed particle. calculate. The closer to 1, the closer to a true sphere. Specifically, an average value measured for 100 particles randomly extracted using an image processing apparatus (Sysmex Corporation: FPIA-3000) is employed.
シリカ粒子材料はイソプロパノール、PMG、MEK、酢酸エチル、及びトルエンからなる群より選択される1種又は2種以上の分散媒に全体の質量を基準として10質量%分散させた分散液100mLに対して超音波を5分間照射した後、JISP3801規格の5種Cのろ紙で吸引ろ過したときに95%以上が通過するものである。この試験により、分散液中での分散性が評価できる。5種Cのろ紙は微細沈殿用のろ紙であり、高度な分散が為されないと透過しない。 The silica particle material is used for 100 mL of a dispersion in which 10% by mass is dispersed in one or more dispersion media selected from the group consisting of isopropanol, PMG, MEK, ethyl acetate, and toluene based on the total mass. After irradiating with ultrasonic waves for 5 minutes, 95% or more passes when suction filtration is performed with 5 kinds C filter paper of JISP3801 standard. By this test, the dispersibility in the dispersion can be evaluated. Type 5 C filter paper is a filter paper for fine precipitation, and does not pass through unless it is highly dispersed.
シリカ粒子材料に対してこのような分散性をもたせる方法としてはシラン化合物とオルガノシラザンとの併用を行うこと以外は特に限定しないが、例えば、その1、その2に後述する方法(併用しても良い)が挙げられる。 The method for imparting such dispersibility to the silica particle material is not particularly limited except that the silane compound and organosilazane are used in combination. For example, the method described later in Part 1 and Part 2 (even if used together) Good).
(その1)
シリカ粒子材料は、式(1):−OSiX1X2X3で表される官能基と、式(2):−OSiY1Y2Y3で表される官能基とが表面に結合したシリカ粒子材料である。以下、式(1)で表される官能基を第1の官能基と呼び、式(2)で表される官能基を第2の官能基と呼ぶ。
(Part 1)
The silica particle material is a silica in which a functional group represented by the formula (1): -OSiX 1 X 2 X 3 and a functional group represented by the formula (2): -OSiY 1 Y 2 Y 3 are bonded to the surface. It is a particulate material. Hereinafter, it referred to functional group represented by the formula (1) and the first functional group, referred to as functional group represented by the formula (2) and the second functional group.
第1の官能基におけるX1は、フェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基である。X2、X3は、それぞれ、−OSiR3又は−OSiY4Y5Y6である。Y4はRである。Y5、Y6は、それぞれ、R又は−OSiR3である。 X 1 in the first functional group is a phenyl group, vinyl group, epoxy group, methacryl group, amino group, ureido group, mercapto group, isocyanate group, or acrylic group. X 2 and X 3 are —OSiR 3 or —OSiY 4 Y 5 Y 6 , respectively. Y 4 is R. Y 5 and Y 6 are each R or —OSiR 3 .
第2の官能基におけるY1はRである。Y2、Y3は、それぞれ、−OSiR3又は−OSiY4Y5Y6である。 Y 1 in the second functional group is R. Y 2 and Y 3 are each —OSiR 3 or —OSiY 4 Y 5 Y 6 .
第1の官能基及び第2の官能基に含まれる−OSiR3が多い程、シリカ粒子材料の表面にRを多く持つ。第1の官能基及び第2の官能基に含まれるR(炭素数1〜3のアルキル基)が多い程、シリカ粒子材料は凝集し難い。 The more —OSiR 3 contained in the first functional group and the second functional group, the more R on the surface of the silica particle material. The more R (alkyl group having 1 to 3 carbon atoms) contained in the first functional group and the second functional group, the less the silica particle material is aggregated.
第1の官能基に関していえば、X2、X3がそれぞれ−OSiR3である場合に、Rの数が最小となる。また、X2及びX3がそれぞれ−OSiY4Y5Y6であり、かつ、Y5、Y6がそれぞれ−OSiR3である場合に、Rの数が最大となる。 Regarding the first functional group, when X 2 and X 3 are each —OSiR 3 , the number of R is minimized. Further, X 2 and X 3 is -OSiY 4 Y 5 Y 6, respectively, and, if Y 5, Y 6 is -OSiR 3 respectively, the number of R is maximized.
第2の官能基に関していえば、Y2、Y3がそれぞれ−OSiR3である場合に、Rの数が最小となる。また、Y2及びY3がそれぞれ−OSiY4Y5Y6であり、かつ、Y5、Y6がそれぞれ−OSiR3である場合に、Rの数が最大となる。 Regarding the second functional group, when Y 2 and Y 3 are each —OSiR 3 , the number of R is minimized. Further, Y 2 and Y 3 are each a -OSiY 4 Y 5 Y 6, and, if Y 5, Y 6 is -OSiR 3 respectively, the number of R is maximized.
第1の官能基に含まれるX1の数、第1の官能基に含まれるRの数、第2の官能基に含まれるRの数は、RとX1との存在数比や、シリカ粒子材料の粒径や用途に応じて適宜設定すれば良い。 The number of X 1 contained in the first functional group, the number of R contained in the first functional group, and the number of R contained in the second functional group are the abundance ratio of R and X 1 , silica What is necessary is just to set suitably according to the particle size and use of a particulate material.
なお、X2、X3、Y2、Y3、Y5、及びY6の何れかは、隣接する官能基のX2、X3、Y2、Y3、Y5、及びY6の何れかと−O−にて結合しても良い。例えば、第1の官能基のX2、X3、Y5、及びY6の何れかが、この第1の官能基に隣接する第1の官能基のX2、X3、Y5、及びY6の何れかと−O−にて結合していても良い。同様に、第2の官能基のY2、Y3、Y5、及びY6の何れかが、この第2の官能基に隣接する第2の官能基のY2、Y3、Y5、及びY6の何れかと−O−にて結合していても良い。さらには、第1の官能基のX2、X3、Y5、及びY6の何れかが、この第1の官能基に隣接する第2の官能基のY2、Y3、Y5、及びY6の何れかと−O−にて結合していても良い。 Incidentally, X 2, X 3, Y 2, Y 3, Y 5, and any of Y 6, X 2 of the adjacent functionality, X 3, Y 2, Y 3, Y 5, and any Y 6 You may combine with heel -O-. For example, any one of the first functional group X 2 , X 3 , Y 5 , and Y 6 is the first functional group adjacent to the first functional group X 2 , X 3 , Y 5 , and It may be bonded to any of Y 6 by —O—. Similarly, any of Y 2 , Y 3 , Y 5 , and Y 6 of the second functional group is replaced with Y 2 , Y 3 , Y 5 , Y 2 of the second functional group adjacent to the second functional group. And Y 6 may be bonded to each other by —O—. Furthermore, any one of the first functional groups X 2 , X 3 , Y 5 , and Y 6 is the second functional group adjacent to the first functional group, Y 2 , Y 3 , Y 5 , And Y 6 may be bonded to each other by —O—.
第1の官能基と第2の官能基との存在数比が1:12〜1:60であれば、シリカ粒子材料の表面にX1とRとがバランス良く存在する。このため、第1の官能基と第2の官能基との存在数比が1:12〜1:60であるシリカ粒子材料は、樹脂に対する親和性及び凝集抑制効果に特に優れる。また、X1がシリカ粒子材料の単位表面積(nm2)あたり0.5〜2.5個であれば、シリカ粒子材料の表面に充分な数の第1の官能基が結合し、第1の官能基及び第2の官能基に由来するRもまた充分な数存在する。従ってこの場合にも、樹脂に対する親和性及びシリカ粒子材料の凝集抑制効果が充分に発揮される。 Presence ratio of the first functional groups and second functional groups is 1: 12-1: if 60, the surface of the silica particulate material with X 1 and R are present good balance. For this reason, the silica particle material whose abundance ratio between the first functional group and the second functional group is 1:12 to 1:60 is particularly excellent in the affinity for the resin and the aggregation suppressing effect. Further, if X 1 is 0.5 to 2.5 per unit surface area (nm 2 ) of the silica particle material, a sufficient number of first functional groups are bonded to the surface of the silica particle material, and the first There are also a sufficient number of R derived from the functional group and the second functional group. Accordingly, also in this case, the affinity for the resin and the aggregation suppressing effect of the silica particle material are sufficiently exhibited.
何れの場合にも、シリカ粒子材料の単位表面積(nm2)あたりのRは、1個〜10個であるのが好ましい。この場合には、シリカ粒子材料の表面に存在するX1の数とRの数とのバランスが良くなり、樹脂に対する親和性及びシリカ粒子材料の凝集抑制効果との両方がバランス良く発揮される。 In any case, R per unit surface area (nm 2 ) of the silica particle material is preferably 1 to 10. In this case, the balance between the number of X 1 present on the surface of the silica particle material and the number of R is improved, and both the affinity for the resin and the aggregation suppressing effect of the silica particle material are exhibited in a well-balanced manner.
シリカ粒子の表面に存在していた水酸基の全部が第1の官能基又は第2の官能基で置換されていることが好ましい。第1の官能基と第2の官能基との和が、シリカ粒子材料の単位表面積(nm2)あたり2.0個以上であれば、シリカ粒子材料において、シリカ粒子の表面に存在していた水酸基のほぼ全部が第1の官能基又は第2の官能基で置換されているといえる。 It is preferable that all of the hydroxyl groups present on the surface of the silica particles are substituted with the first functional group or the second functional group. If the sum of the first functional group and the second functional group is 2.0 or more per unit surface area (nm 2 ) of the silica particle material, the silica particle material is present on the surface of the silica particle. It can be said that almost all of the hydroxyl groups are substituted with the first functional group or the second functional group.
シリカ粒子材料は、表面にRを持つ。これは、赤外線吸収スペクトルによって確認できる。詳しくは、シリカ粒子材料の赤外線吸収スペクトルを固体拡散反射法で測定すると、2962±2cm−1にC−H伸縮振動の極大吸収がある。このため、本実施形態の無機粉体混合物がもつシリカ粒子材料であるか否かは、赤外線吸収スペクトルによって確認できる。 The silica particle material has R on the surface. This can be confirmed by an infrared absorption spectrum. Specifically, when the infrared absorption spectrum of the silica particle material is measured by the solid diffuse reflection method, there is a maximum absorption of C—H stretching vibration at 2962 ± 2 cm −1 . For this reason, whether or not the inorganic powder mixture of the present embodiment is a silica particle material can be confirmed by an infrared absorption spectrum.
また、上述したように本発明の無機粉体混合物がもつシリカ粒子材料は凝集し難い。従って、シリカ粒子材料としては粒径の小さなものに採用できる。例えば、シリカ粒子材料は、平均粒径3nm〜5000nm程度にできる。平均粒径3〜200nmのシリカ粒子材料に適用するのが好ましい。 Further, as described above, the silica particle material of the inorganic powder mixture of the present invention is difficult to agglomerate. Therefore, it can employ | adopt as a silica particle material with a small particle size. For example, the silica particle material can have an average particle size of about 3 nm to 5000 nm. It is preferable to apply to a silica particle material having an average particle diameter of 3 to 200 nm.
なお、シリカ粒子材料は、例え僅かに凝集した場合にも、超音波処理することによって再度分散可能である。詳しくは、シリカ粒子材料をメチルエチルケトンに分散させたものに、発振周波数39kHz、出力500Wの超音波を照射することで、シリカ粒子材料を実質的に一次粒子にまで分散できる。このときの超音波照射時間は10分間以下で良い。シリカ粒子材料が一次粒子にまで分散したか否かは、粒度分布を測定することで確認できる。詳しくは、このシリカ粒子材料のメチルエチルケトン分散材料をマイクロトラック装置等の粒度分布測定装置で測定し、シリカ粒子材料の粒度分布があれば、シリカ粒子材料が一次粒子にまで分散したといえる。 Note that the silica particle material can be dispersed again by ultrasonic treatment even if it is slightly agglomerated. Specifically, the silica particle material can be substantially dispersed into primary particles by irradiating an ultrasonic wave having an oscillation frequency of 39 kHz and an output of 500 W on a silica particle material dispersed in methyl ethyl ketone. The ultrasonic irradiation time at this time may be 10 minutes or less. Whether or not the silica particle material is dispersed into the primary particles can be confirmed by measuring the particle size distribution. Specifically, when the methyl ethyl ketone dispersion material of the silica particle material is measured with a particle size distribution measuring device such as a microtrack device, and the particle size distribution of the silica particle material is present, it can be said that the silica particle material is dispersed into primary particles.
このシリカ粒子材料は、凝集し難いため、水やアルコール等の液状媒体に分散されていないシリカ粒子材料として提供できる。また、シリカ粒子材料は凝集し難いために、水で容易に洗浄できる。 Since this silica particle material hardly aggregates, it can be provided as a silica particle material that is not dispersed in a liquid medium such as water or alcohol. In addition, since the silica particle material hardly aggregates, it can be easily washed with water.
(その2)
その1に示すシリカ粒子材料に代えて、以下に示す表面処理を行ったシリカ粒子材料を採用することもできる。なお、以下の方法によりシリカ粒子材料(その1)を得ることもできるため、その1とその2とは排他的なものではない。
(Part 2)
It can replace with the silica particle material shown in the 1 and can also adopt the silica particle material which performed the surface treatment shown below. In addition, since the silica particle material (the 1) can also be obtained with the following method, the 1 and the 2 are not exclusive.
シリカ粒子材料の表面処理方法は、水を含む液状媒体中で、シラン化合物及びオルガノシラザンによってシリカ粒子を表面処理する工程(表面処理工程)を持つ。シラン化合物は、3つのアルコキシ基と、フェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基(すなわち上記のX1)とを持つ。 The surface treatment method of a silica particle material has a step (surface treatment step) of surface-treating silica particles with a silane compound and organosilazane in a liquid medium containing water. The silane compound has three alkoxy groups and a phenyl group, a vinyl group, an epoxy group, a methacryl group, an amino group, a ureido group, a mercapto group, an isocyanate group, or an acrylic group (that is, X 1 described above).
シラン化合物で表面処理することで、シリカ粒子の表面に存在する水酸基がシラン化合物に由来する官能基で置換される。表面処理を行うシラン化合物の量は特に限定しないが、処理前のシリカ粒子材料の表面にあるシラノール基について80%以上反応できる量とすることができる。特に反応前のシリカ粒子材料の表面にシラノール基が2.5個/nm2程度存在するときには80%以上反応させることで残存するシラノール基が0.5個/nm2以下にすることができ脱水反応による水分発生量を充分に抑制できる。シラン化合物に由来する官能基は式(3);−OSiX1X4X5で表される。式(3)で表される官能基を第3の官能基と呼ぶ。第3の官能基におけるX1は式(1)で表される官能基におけるX1と同じである。X4、X5は、それぞれ、アルキコキシ基である。オルガノシラザンで表面処理することで、第3の官能基のX4、X5がオルガノシラザンに由来する−OSiY1Y2Y3(式(2)で表される官能基、第2の官能基)で置換される。シリカ粒子の表面に存在する水酸基の全てが第3の官能基で置換されていない場合には、シリカ粒子の表面に残存する水酸基が第2の官能基で置換される。このため、表面処理されたシリカ粒子材料の表面には、式(1):−OSiX1X2X3で表される官能基(すなわち第1の官能基)と、式(2):−OSiY1Y2Y3で表される官能基と(すなわち第2の官能基)が結合する。なお、シラン化合物とオルガノシラザンとのモル比は、シラン化合物:オルガノシラザン=1:2〜1:10であるため、得られたシリカ粒子材料における第1の官能基と第2の官能基との存在数比は理論上1:12〜1:60となる。 By surface treatment with a silane compound, a hydroxyl group present on the surface of the silica particles are substituted with a functional group derived from the silane compound. The amount of the silane compound to be subjected to the surface treatment is not particularly limited, but can be an amount capable of reacting 80% or more with respect to the silanol group on the surface of the silica particle material before the treatment. Especially when about 2.5 silanol groups / nm 2 are present on the surface of the silica particle material before the reaction, the remaining silanol groups can be reduced to 0.5 / nm 2 or less by reacting at least 80%. The amount of water generated by the reaction can be sufficiently suppressed. The functional group derived from the silane compound is represented by the formula (3); —OSiX 1 X 4 X 5 . The functional group represented by the formula (3) is referred to as a third functional group. X 1 in the third functional group is the same as X 1 in the functional group represented by the formula (1). X 4 and X 5 are each an alkoxy group. By surface-treating with organosilazane, the third functional group X 4 and X 5 are derived from organosilazane —OSiY 1 Y 2 Y 3 (the functional group represented by the formula (2), the second functional group ). When all of the hydroxyl groups present on the surface of the silica particles are not substituted with the third functional group, the hydroxyl groups remaining on the surface of the silica particles are substituted with the second functional group. Therefore, the surface of the surface-treated silica particle material has a functional group represented by the formula (1): —OSiX 1 X 2 X 3 (that is, the first functional group) and a formula (2): —OSiY. The functional group represented by 1 Y 2 Y 3 is bonded to the functional group (that is, the second functional group). Incidentally, the silane compound and the molar ratio of organosilazane, silane compound: organosilazane = 1: 2 to 1: for a 10, a first functional group in the obtained silica particles material and the second functional group The abundance ratio is theoretically from 1:12 to 1:60.
表面処理工程においては、シリカ粒子をシラン化合物及びオルガノシラザンで同時に表面処理しても良い。又は、先ずシリカ粒子をシラン化合物で表面処理し、次いでオルガノシラザンで表面処理しても良い。又は、先ずシリカ粒子をオルガノシラザンで表面処理し、次いでシラン化合物で表面処理し、さらにその後にオルガノシラザンで表面処理しても良い。何れの場合にも、シリカ粒子の表面に存在する水酸基全てが第2の官能基で置換されないように、オルガノシラザンの量を調整すれば良い。なお、シリカ粒子の表面に存在する水酸基は、全てが第3の官能基で置換されても良いし、一部のみが第3の官能基で置換され、他の部分が第2の官能基で置換されても良い。第3の官能基に含まれるX4、X5は、全て第2の官能基で置換されるのが良い。 In the surface treatment step, the silica particles may be simultaneously surface treated with a silane compound and an organosilazane. Alternatively, the silica particles may be first surface treated with a silane compound and then surface treated with organosilazane. Alternatively, the silica particles may be first surface treated with organosilazane, then surface treated with a silane compound , and then surface treated with organosilazane. In any case, the amount of organosilazane may be adjusted so that all the hydroxyl groups present on the surface of the silica particles are not substituted with the second functional group. The hydroxyl groups present on the surface of the silica particles may all be substituted with the third functional group, or only a part may be substituted with the third functional group, and the other part may be substituted with the second functional group. It may be replaced. All of X 4 and X 5 contained in the third functional group may be substituted with the second functional group.
なお、オルガノシラザンの一部を、第2のシラン化合物で置き換えても良い。第2のシラン化合物としては、3つのアルコキシ基と、1つのアルキル基とを持つものである。この場合には、第3の官能基に含まれるX4、X5が、第2のシラン化合物に由来する第4の官能基で置換される。第4の官能基は式(4);−OSiY1X6X7で表される。Y1は第2の官能基におけるY1と同じRであり、X6、X7はそれぞれアルコキシ基又は水酸基である。第4の官能基に含まれるX6、X7は、オルガノシラザンに由来する第2の官能基で置換されるか、又は、別の第4の官能基で置換される。この場合には、シリカ粒子材料の表面に存在するRの量をさらに多くする事ができる。なお、オルガノシラザンの一部を、第2のシラン化合物に置き換える場合、第2のシラン化合物で表面処理した後に、再度オルガノシラザンで表面処理する必要がある。第4の官能基に含まれるX6、X7を、最終的にはオルガノシラザンに由来する第2の官能基で置換するためである。 A part of the organosilazane may be replaced with the second silane compound . The second silane compound, and three alkoxy groups, Ru der those with one alkyl group. In this case, X 4 and X 5 contained in the third functional group are substituted with the fourth functional group derived from the second silane compound . The fourth functional group has the formula (4); - represented by OSiY 1 X 6 X 7. Y 1 is the same R as Y 1 in the second functional group, X 6, X 7 is an alkoxy group or a hydroxyl group, respectively. X 6 and X 7 contained in the fourth functional group are substituted with the second functional group derived from organosilazane, or are substituted with another fourth functional group. In this case, the amount of R present on the surface of the silica particle material can be further increased. Incidentally, a part of organosilazane, to replace the second silane compound, after surface-treated with a second silane compound, it is necessary to surface treatment with an organosilazane again. This is because X 6 and X 7 contained in the fourth functional group are finally substituted with the second functional group derived from organosilazane.
オルガノシラザンの一部を第2のシラン化合物で置き換える場合、上述した第1の官能基に含まれるX4、X5は、オルガノシラザンに由来する第2の官能基で置換されるか、第2のシラン化合物に由来する第4の官能基で置換される。X4、X5が第4の官能基で置換された場合、第4の官能基に含まれるX6、X7は、第2の官能基で置換されるか、別の第4の官能基によって置換される。第4の官能基に含まれるX6、X7が別の第4の官能基によって置換された場合、第4の官能基に含まれるX6、X7は、第2の官能基で置換される。このため第2のシラン化合物は、第1のシラン化合物及びオルガノシラザンのみで表面処理する場合(オルガノシラザンを第2のシラン化合物で置き換えなかった場合)に設定されるオルガノシラザンの量(a)molに対して、最大限5a/3mol置き換えることができる。この場合に必要になるオルガノシラザンの量は、8a/3molである。 When a part of the organosilazane is replaced with the second silane compound, X 4 and X 5 contained in the first functional group described above are replaced with the second functional group derived from the organosilazane or the second functional group. The fourth functional group derived from the silane compound is substituted. When X 4 and X 5 are substituted with the fourth functional group, X 6 and X 7 contained in the fourth functional group are substituted with the second functional group or another fourth functional group. Is replaced by If X 6, X 7 contained in the fourth functional group has been replaced by another fourth functional group, X 6, X 7 contained in the fourth functional groups is substituted with the second functional group The Therefore the second silane compound, the amount of organosilazane set when (if the organosilazane was replaced with a second silane compound) to a surface treatment of only the first silane compound and organosilazanes (a) mol In contrast, a maximum of 5a / 3 mol can be replaced. The amount of organosilazane required in this case is 8a / 3 mol.
シラン化合物及び第2のシラン化合物のアルコキシ基は特に限定しないが、比較的炭素数の小さなものが好ましく、炭素数1〜12であることが好ましい。アルコキシ基の加水分解性を考慮すると、アルコキシ基はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基の何れかであることがより好ましい。 Silane compound and the alkoxy group of the second silane compound is not particularly limited, relatively small is preferable number of carbon atoms is preferably 1 to 12 carbon atoms. Considering the hydrolyzability of the alkoxy group, the alkoxy group is more preferably any one of a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group.
シラン化合物として、具体的には、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランが挙げられる。 Specific examples of the silane compound include phenyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3 -Glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-amino trimethoxysilane like et be.
オルガノシラザンとしては、シリカ粒子の表面に存在する水酸基及びシラン化合物及び第2のシラン化合物に由来するアルコキシ基を、上述した第2の官能基で置換できるものであれば良いが、分子量の小さなものを用いるのが好ましい。具体的には、テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、ペンタメチルジシラザン等が挙げられる。 The organosilazane is not particularly limited as long as it can replace the hydroxyl group, the silane compound and the alkoxy group derived from the second silane compound present on the surface of the silica particles with the above-mentioned second functional group. Is preferably used. Specific examples include tetramethyldisilazane, hexamethyldisilazane, pentamethyldisilazane, and the like.
第2のシラン化合物としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the second silane compound include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, and hexyltriethoxysilane.
なお、表面処理工程において、シラン化合物の重合や第2のシラン化合物の重合を抑制するため、重合禁止剤を加えても良い。重合禁止剤としては、3,5−ジブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)、p−メトキシフェノール(メトキノン)等の一般的なものを用いることができる。 Incidentally, in the surface treatment step, for suppressing the polymerization of the polymerization or the second silane compound of the silane compound may be added a polymerization inhibitor. As the polymerization inhibitor, common ones such as 3,5-dibutyl-4-hydroxytoluene (BHT) and p-methoxyphenol (methoquinone) can be used.
シリカ粒子材料を得るための表面処理について説明する。本表面処理方法は、表面処理工程後に固形化工程を備えても良い。固形化工程は、表面処理後のシリカ粒子材料を鉱酸で沈殿させ、沈殿物を水で洗浄・乾燥して、シリカ粒子材料の固形物を得る工程である。上述したように、一般的なシリカ粒子材料は非常に凝集し易いため、一旦固形化したシリカ粒子材料を再度分散するのは非常に困難である。しかし、シリカ粒子材料は凝集し難いため、固形化しても凝集し難く、また、例え凝集しても再分散し易い。なお、上述したように、シリカ粒子材料を水で洗浄することで、電子部品等の用途に用いられるシリカ粒子材料を容易に製造できる。なお、洗浄工程においては、シリカ粒子材料の抽出水(詳しくは、シリカ粒子材料を121℃で24時間浸漬した水)の電気伝導度が50 μS/cm以下となるまで、洗浄を繰り返すのが好ましい。 The surface treatment for obtaining the silica particle material will be described. The surface treatment method may include a solidification step after the surface treatment step. The solidification step is a step of precipitating the surface-treated silica particle material with a mineral acid and washing and drying the precipitate with water to obtain a solid of the silica particle material. As described above, since a general silica particle material is very likely to aggregate, it is very difficult to disperse the once solidified silica particle material. However, since the silica particle material is difficult to aggregate, it is difficult to aggregate even if solidified, and it is easy to redisperse even if aggregated. In addition, as mentioned above, the silica particle material used for uses, such as an electronic component, can be easily manufactured by wash | cleaning a silica particle material with water. In the cleaning step, it is preferable to repeat the cleaning until the electric conductivity of the water extracted from the silica particle material (specifically, the water in which the silica particle material is immersed at 121 ° C. for 24 hours) is 50 μS / cm or less. .
固形化工程で用いる鉱酸としては塩酸、硝酸、硫酸、リン酸などが例示でき、特に塩酸が望ましい。鉱酸はそのまま用いても良いが、鉱酸水溶液として用いるのが好ましい。鉱酸水溶液における鉱酸の濃度は0.1質量%以上が望ましく、0.5質量%以上が更に望ましい。鉱酸水溶液の量は、洗浄対象であるシリカ粒子材料の質量を基準として6〜12倍程度にすることができる。 Examples of the mineral acid used in the solidification step include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, and hydrochloric acid is particularly desirable. The mineral acid may be used as it is, but is preferably used as a mineral acid aqueous solution. The concentration of the mineral acid in the aqueous mineral acid solution is preferably 0.1% by mass or more, and more preferably 0.5% by mass or more. The amount of the mineral acid aqueous solution can be about 6 to 12 times based on the mass of the silica particle material to be cleaned.
鉱酸水溶液による洗浄は複数回数行うことも可能である。鉱酸水溶液による洗浄はシリカ粒子材料を鉱酸水溶液に浸漬後、撹拌することが望ましい。また、浸漬した状態で1時間から24時間、更には72時間程度放置することができる。放置する際には撹拌を継続することもできるし、撹拌しないこともできる。鉱酸含有液中にて洗浄する際には常温以上に加熱することもできる。 The cleaning with the mineral acid aqueous solution can be performed a plurality of times. The washing with the mineral acid aqueous solution is preferably performed after the silica particle material is immersed in the mineral acid aqueous solution. Further, it can be left in the immersed state for 1 to 24 hours, and further for about 72 hours. When it is allowed to stand, stirring can be continued or not stirred. When washing in the mineral acid-containing liquid, it can be heated to room temperature or higher.
その後、洗浄して懸濁させたシリカ粒子材料をろ取した後、水にて洗浄する。使用する水はアルカリ金属などのイオンを含まない(例えば質量基準で1ppm以下)ことが望ましい。例えば、イオン交換水、蒸留水、純水などである。水による洗浄は鉱酸水溶液による洗浄と同じく、シリカ粒子材料を分散、懸濁させた後、ろ過することもできるし、ろ取したシリカ粒子材料に対して水を継続的に通過させることによっても可能である。水による洗浄の終了時期は、上述した抽出水の電気伝導度で判断しても良いし、シリカ粒子材料を洗浄した後の排水中のアルカリ金属濃度が1ppm以下になった時点としても良いし、抽出水のアルカリ金属濃度が5ppm以下になった時点としても良い。なお、水で洗浄する際には常温以上に加熱することもできる。 Thereafter, the washed and suspended silica particle material is collected by filtration and then washed with water. It is desirable that the water used does not contain ions such as alkali metals (for example, 1 ppm or less on a mass basis). For example, ion exchange water, distilled water, pure water and the like. Washing with water is the same as washing with an aqueous mineral acid solution, after the silica particle material is dispersed and suspended, it can be filtered, or by continuously passing water through the filtered silica particle material. Is possible. The end time of washing with water may be determined by the electric conductivity of the extracted water described above, or may be the time when the alkali metal concentration in the waste water after washing the silica particle material becomes 1 ppm or less, It is good also as the time of the alkali metal concentration of extraction water becoming 5 ppm or less. When washing with water, it can be heated to a room temperature or higher.
シリカ粒子材料の乾燥は、常法により行うことができる。例えば、加熱や、減圧(真空)下に放置する等である。
・フィラーとしては体積平均粒径が0.5μm以上であること(第1形態のシリカ粒子材料の場合)、又は、粒径が0.5μm以上であること(第2形態のシリカ粒子材料の場合)である。フィラーを構成する材料としては無機材料からなること以外は限定しない。例えばフィラーとしてはシリカ、アルミナ(Al2O3)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、ゼオライト、酸化チタン(TiO2)、窒化アルミニウム(AlN)、炭化ケイ素(SiC)、窒化ケイ素(Si3N4)、チタン酸バリウム(BaTiO3)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3)、チタン酸カルシウム(CaTiO3)、ほう酸アルミニウム、ボロンナイト、炭酸カルシウム、酸化鉛、酸化すず、酸化セリウム、酸化カルシウム、四酸化三マンガン、酸化マグネシウム、セリウムジルコネイト、カルシウムシリケート、ジルコニウムシリケート、ITO、チタンシリケートを、単独又は組み合わせて使用することができる。
The silica particle material can be dried by a conventional method. For example, heating or leaving under reduced pressure (vacuum).
-The filler has a volume average particle diameter of 0.5 μm or more (in the case of the first form of silica particle material) or a particle diameter of 0.5 μm or more (in the case of the second form of silica particle material) ). The material constituting the filler is not limited except that it is made of an inorganic material. For example, as a filler, silica, alumina (Al 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), zeolite, titanium oxide (TiO 2 ), aluminum nitride (AlN), silicon carbide (SiC), silicon nitride (Si 3 N 4 ) , Barium titanate (BaTiO 3 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), calcium titanate (CaTiO 3 ), aluminum borate, boronite, calcium carbonate, lead oxide, tin oxide, cerium oxide, calcium oxide, trimanganese tetraoxide Magnesium oxide, cerium zirconate, calcium silicate, zirconium silicate, ITO, titanium silicate can be used alone or in combination.
フィラーの形態としても特に限定しないがフィラーについても真球度が0.8以上であることが好ましく、0.9以上であることが更に好ましい。更に、フィラーの表面についても適正に選択される(反応可能なものであったり、付着可能であったりする表面処理剤を選択する。そして、液状組成物との親和性を向上させたりする目的で行われる。)。 The form of the filler is not particularly limited, but the sphericity of the filler is preferably 0.8 or more, and more preferably 0.9 or more. Furthermore, the surface of the filler is also appropriately selected (a surface treatment agent that can be reacted or can be attached is selected. And for the purpose of improving the affinity with the liquid composition) Done.)
・液状樹脂材料
液状樹脂材料としては使用温度において流動性をもつものであればよい。例えば低分子量の物質(溶媒など)や、熱可塑性樹脂を採用しその熱可塑性樹脂の融点以上の温度での使用を考える場合を含む。また、後に行われる硬化反応により硬化する材料であっても良い。
Liquid resin material The liquid resin material may be any material that has fluidity at the operating temperature. For example, a case where a low molecular weight substance (such as a solvent) or a thermoplastic resin is employed and the use at a temperature higher than the melting point of the thermoplastic resin is considered. Moreover, the material which hardens | cures by the hardening reaction performed later may be used.
具体的には高分子材料及び/又は高分子材料の前駆体とを有することができる。高分子材料前駆体は高分子又は低分子の材料であり、更に反応が進行することにより分子量が増大したり、架橋が進行したりして硬化物を形成できる材料である。高分子材料、並びに、高分子材料前駆体により形成される硬化物は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などの一般的な樹脂材料が例示できる。高分子材料前駆体は、エポキシ基、オキセタン基、水酸基、ブロックされたイソシアネート基、アミノ基、ハーフエステル基、アミック基、カルボキシ基、及び炭素-炭素二重結合基を化学構造中に有することが望ましい。これらの官能基は好適な反応条件を設定することで互いに結合可能な官能基(重合性官能基)であり、混合材料の分子量を向上できる。好適な反応条件としては単純に加熱や光照射を行ったり、熱や光照射によりラジカルやイオン(アニオン、カチオン)などの反応性種を生成したり、それらの官能基間を結合する反応開始剤(重合開始剤)を添加して加熱や光照射を行うことなどである。重合反応に際して必要な化合物を硬化剤として添加したり、その反応に対する触媒を添加することもできる。 Specifically, it can have a polymer material and / or a precursor of the polymer material. The polymer material precursor is a polymer or a low-molecular material, and is a material that can form a cured product by further increasing the molecular weight or proceeding cross-linking as the reaction proceeds. Examples of the cured material formed from the polymer material and the polymer material precursor may include general resin materials such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photocurable resin. The polymer material precursor may have an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, a blocked isocyanate group, an amino group, a half ester group, an amic group, a carboxy group, and a carbon-carbon double bond group in the chemical structure. desirable. These functional groups are functional groups (polymerizable functional groups) that can be bonded to each other by setting suitable reaction conditions, and the molecular weight of the mixed material can be improved. Suitable reaction conditions include simple heating and light irradiation, generation of reactive species such as radicals and ions (anions and cations) by heat and light irradiation, and a reaction initiator that binds between these functional groups. (Polymerization initiator) is added and heating or light irradiation is performed. A compound necessary for the polymerization reaction can be added as a curing agent, or a catalyst for the reaction can be added.
高分子材料前駆体としては重合により高分子材料を形成する単量体や、上述したような重合性官能基により修飾した高分子材料が好ましいものとして挙げられる。例えば、硬化前の、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂などのプレポリマーが好適である。 Preferred examples of the polymer material precursor include a monomer that forms a polymer material by polymerization and a polymer material modified with a polymerizable functional group as described above. For example, a prepolymer such as an epoxy resin, an acrylic resin, or a urethane resin before curing is suitable.
シリカ粒子材料やフィラーの表面処理を行うシラン化合物やオルガノシラザンとしては樹脂材料として選択した材料に応じて選択されることが望ましい。例えば、その樹脂材料に親和性をもつ官能基をシリカ粒子材料の表面に付与することができる。 The silane compound or organosilazane for surface treatment of the silica particle material or filler is preferably selected according to the material selected as the resin material. For example, a functional group having affinity for the resin material can be imparted to the surface of the silica particle material.
以下、本発明のフィラー含有液状組成物について実施例に基づき詳細に説明する。 Hereinafter, the filler-containing liquid composition of the present invention will be described in detail based on examples.
(フィラー含有液状組成物の調製)
・シリカ粒子材料の調製
原料シリカとして、水ガラスから合成したナノサイズのコロイダルシリカ(体積平均粒径10nm、 水中に分散されており固形分濃度20%)を準備した。
アルコールとして、イソプロパノールを準備した。
シラン化合物として、メタクリルシランを準備した。
オルガノシラザンとして、ヘキサメチルジシラザン(HMDS、信越化学工業株式会社製、HDMS−1)を準備した。
(Preparation of filler-containing liquid composition)
-Preparation of silica particle material Nano-sized colloidal silica (volume average particle diameter 10 nm, dispersed in water and having a solid content concentration of 20%) synthesized from water glass was prepared as a raw material silica.
Isopropanol was prepared as the alcohol.
Methacrylic silane was prepared as a silane compound .
Hexamethyldisilazane (HMDS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., HDMS-1) was prepared as organosilazane.
(表面処理工程)
(1)準備工程
シリカ粒子が20質量%の濃度で水に分散したスラリー100質量部にイソプロパノール60質量部を加え、室温(約25℃)で混合することで、原料シリカが液状媒体に分散されてなる分散液を得た。
(Surface treatment process)
(1) Preparatory process By adding 60 parts by mass of isopropanol to 100 parts by mass of slurry in which silica particles are dispersed in water at a concentration of 20% by mass, and mixing at room temperature (about 25 ° C.), the raw material silica is dispersed in the liquid medium. A dispersion was obtained.
(2)第1工程
この分散液にビニルシラン2.0 質量部を加え、40℃で72時間混合した。この工程により、原料シリカの表面に存在する水酸基をシラン化合物で表面処理した。なお、このときビニルシランは、必要な量の水酸基(一部)が表面処理されず残存するように計算して加えた。
(2) First Step 2.0 parts by mass of vinylsilane was added to this dispersion and mixed at 40 ° C. for 72 hours. By this step, the hydroxyl group present on the surface of the raw material silica was surface-treated with the silane compound . At this time, vinylsilane was calculated and added so that a necessary amount of hydroxyl groups (partially) remained without being surface-treated.
(3)第2工程
次いで、この混合物に、ヘキサメチルジシラザン4.3質量部を加え、40℃で72時間放置した。この工程によって、シリカ粒子が表面処理され、シリカ粒子材料が得られた。表面処理の進行に伴い、疎水性になったシリカ粒子が水及びイソプロパノールの中で安定に存在できなくなり、凝集・沈殿した。なお、ビニルシランとヘキサメチルジシラザンとのモル比は1:2であった。
(3) Second Step Next, 4.3 parts by mass of hexamethyldisilazane was added to this mixture and left at 40 ° C. for 72 hours. Through this step, the silica particles were surface-treated to obtain a silica particle material. As the surface treatment progressed, the silica particles that became hydrophobic could no longer exist stably in water and isopropanol, and agglomerated and precipitated. The molar ratio of vinylsilane to hexamethyldisilazane was 1: 2.
(固形化工程)
表面処理工程で得られた混合物全量に35%塩酸水溶液を5質量部を加え、シリカ粒子材料を沈殿させた。沈殿物をろ紙(アドバンテック社製 5A)で濾過した。濾過残渣(固形分)を純水で洗浄した後に200℃で2時間真空乾燥して、シリカ粒子材料の固形物(シリカ粒子材料)を得た。シリカ粒子材料の表面には処理前には2.5個/nm2のシラノール基が存在し、そのシラノール基の約70%がこれらの処理によって消費された。
(Solidification process)
5 parts by mass of 35% aqueous hydrochloric acid solution was added to the total amount of the mixture obtained in the surface treatment step to precipitate the silica particle material. The precipitate was filtered with a filter paper (5A manufactured by Advantech). The filtration residue (solid content) was washed with pure water and then vacuum-dried at 200 ° C. for 2 hours to obtain a silica particle material solid (silica particle material). The surface of the silica particle material had 2.5 / nm 2 of silanol groups before treatment, and about 70% of the silanol groups were consumed by these treatments.
・フィラー
一次粒子の体積平均粒径0.25μm、二次粒子の体積平均粒径1μmの酸化チタンをフィラーとして用いた。
Filler Titanium oxide having a volume average particle diameter of primary particles of 0.25 μm and a volume average particle diameter of secondary particles of 1 μm was used as a filler.
・沈降試験用試料の調製
液状組成物としてメチルエチルケトン(MEK)を用いた。全体の質量に対して酸化チタンを5%になるように分散させ、更に前述のシリカ粒子材料をフィラー(酸化チタン)の質量を基準として、0%(試験例1:フィラーとシリカ粒子材料とを合わせた全体の質量を基準として0%)、15%(試験例2:フィラーとシリカ粒子材料とを合わせた全体の質量を基準として約13%)、30%(試験例3:フィラーとシリカ粒子材料とを合わせた全体の質量を基準として約23.1%)、50%(試験例4:フィラーとシリカ粒子材料とを合わせた全体の質量を基準として約33.3%)とし、均一に撹拌した。これらの試験試料を4日間放置した結果、試験試料1及び2については二層に分離しており、フィラーの沈殿が認められたのに対して試験試料3及び4では均一な状態の1層のままであり沈殿防止効果が認められた。
-Preparation of sample for sedimentation test Methyl ethyl ketone (MEK) was used as a liquid composition. Titanium oxide is dispersed so as to be 5% with respect to the total mass, and the silica particle material described above is further added to 0% (Test Example 1: filler and silica particle material based on the mass of the filler (titanium oxide)). 0%), 15% (Test Example 2: about 13% based on the total mass of filler and silica particle material), 30% (Test Example 3: filler and silica particles) About 23.1% based on the total mass of the material and 50% (Test Example 4: about 33.3% based on the total mass of the filler and the silica particle material), and uniformly Stir. As a result of leaving these test samples for 4 days, test samples 1 and 2 were separated into two layers, and precipitation of filler was observed, whereas in test samples 3 and 4, a single layer in a uniform state was observed. The precipitation prevention effect was recognized.
試験試料1〜4についてそれぞれ粘度を測定した(回転式粘度計)。結果を試験試料1(濃度0%)を1としたときの相対値で示す。試験試料2は1.1、試験試料3は1.1、試験試料4は1.7であった。 Viscosity was measured for each of test samples 1 to 4 (rotary viscometer). The results are shown as relative values when the test sample 1 (concentration 0%) is 1. Test sample 2 was 1.1, test sample 3 was 1.1, and test sample 4 was 1.7.
・参考試験
(参考試験例1)
(材料)
シリカ粒子として、コロイダルシリカの一種であるスノーテックスOS(日産化学工業株式会社製、平均粒径10nm、水中に分散されており固形分濃度20%)を準備した。
アルコールとして、イソプロパノールを準備した。
シラン化合物として、フェニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、KBM−103)を準備した。
オルガノシラザンとして、ヘキサメチルジシラザン(HMDS、信越化学工業株式会社製、HDMS−1)を準備した。
・ Reference test (Reference Test Example 1)
(material)
As a silica particle, Snowtex OS (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle size of 10 nm, solid concentration 20% dispersed in water) was prepared as a kind of colloidal silica.
Isopropanol was prepared as the alcohol.
As the silane compound , phenyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-103) was prepared.
Hexamethyldisilazane (HMDS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., HDMS-1) was prepared as organosilazane.
(表面処理工程)
(1)準備工程
シリカ粒子が20質量%の濃度で水に分散したスラリー100質量部にイソプロパノール60質量部を加え、室温(約25℃)で混合することで、シリカ粒子が液状媒体に分散されてなる分散液を得た。
(Surface treatment process)
(1) Preparation Step Silica particles are dispersed in a liquid medium by adding 60 parts by mass of isopropanol to 100 parts by mass of slurry in which silica particles are dispersed in water at a concentration of 20% by mass, and mixing at room temperature (about 25 ° C.). A dispersion was obtained.
(2)第1工程
この分散液にフェニルトリメトキシシラン1.8質量部を加え、40℃で72時間混合した。この工程により、シリカ粒子の表面に存在する水酸基をシラン化合物で表面処理した。なお、このときフェニルトリメトキシシランは、必要な量の水酸基(一部)が表面処理されず残存するように計算して加えた。
(2) First Step 1.8 parts by mass of phenyltrimethoxysilane was added to this dispersion and mixed at 40 ° C. for 72 hours. By this step, the hydroxyl group present on the surface of the silica particles was surface-treated with the silane compound . At this time, phenyltrimethoxysilane was calculated and added so that a necessary amount of hydroxyl groups (partially) remained without being surface-treated.
(3)第2工程
次いで、この混合物に、ヘキサメチルジシラザン3.7質量部を加え、40℃で72時間放置した。この工程によって、シリカ粒子が表面処理され、シリカ粒子材料が得られた。表面処理の進行に伴い、疎水性になったシリカ粒子が水及びイソプロパノールの中で安定に存在できなくなり、凝集・沈殿した。なお、フェニルトリメトキシシランとヘキサメチルジシラザンとのモル比は2:5であった。
(3) Second Step Next, 3.7 parts by mass of hexamethyldisilazane was added to this mixture and left at 40 ° C. for 72 hours. Through this step, the silica particles were surface-treated to obtain a silica particle material. As the surface treatment progressed, the silica particles that became hydrophobic could no longer exist stably in water and isopropanol, and agglomerated and precipitated. The molar ratio of phenyltrimethoxysilane to hexamethyldisilazane was 2: 5.
(固形化工程)
表面処理工程で得られた混合物全量に35%塩酸水溶液を5質量部を加え、シリカ粒子材料を沈殿させた。沈殿物をろ紙(アドバンテック社製 5A)で濾過した。濾過残渣(固形分)を純水で洗浄した後に100℃で真空乾燥して、シリカ粒子材料の固形物を得た。
(Solidification process)
5 parts by mass of 35% aqueous hydrochloric acid solution was added to the total amount of the mixture obtained in the surface treatment step to precipitate the silica particle material. The precipitate was filtered with a filter paper (5A manufactured by Advantech). The filtration residue (solid content) was washed with pure water and then vacuum dried at 100 ° C. to obtain a solid of silica particle material.
(参考試験例2)
参考試験例2のシリカ粒子の表面処理方法は、フェニルトリメトキシシランにかえてビニルトリメトキシシランを用い、ビニルトリメトキシシランとヘキサメチルジシラザンとのモル比が2:5であったこと以外は、試験例5のシリカ粒子の表面処理方法と同じである。第1工程においては、ビニルトリメトキシシラン1.36質量部を加え、第2工程においてはヘキサメチルジシラザン3.7質量部を加えた。
(Reference Test Example 2)
The silica particle surface treatment method of Reference Test Example 2 uses vinyltrimethoxysilane instead of phenyltrimethoxysilane, except that the molar ratio of vinyltrimethoxysilane to hexamethyldisilazane was 2: 5. This is the same as the silica particle surface treatment method of Test Example 5. In the first step, 1.36 parts by mass of vinyltrimethoxysilane was added, and in the second step, 3.7 parts by mass of hexamethyldisilazane was added.
なおビニルトリメトキシシランとしては、信越化学工業株式会社製 KBM−1003を用いた。 As vinyltrimethoxysilane, KBE-1003 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.
(参考試験例3)
参考試験例3のシリカ粒子の表面処理方法は、フェニルトリメトキシシランにかえてビニルトリメトキシシランを用い、ビニルトリメトキシシランとヘキサメチルジシラザンとのモル比が1:5であったこと以外は、参考試験例1のシリカ粒子の表面処理方法と同じである。第1工程においては、ビニルトリメトキシシラン1.36質量部を加え、第2工程においてはヘキサメチルジシラザン7.41質量部を加えた。
(Reference Test Example 3)
The surface treatment method of the silica particles of Reference Test Example 3 uses vinyltrimethoxysilane instead of phenyltrimethoxysilane, except that the molar ratio of vinyltrimethoxysilane to hexamethyldisilazane was 1: 5. This is the same as the surface treatment method for silica particles of Reference Test Example 1. In the first step, 1.36 parts by mass of vinyltrimethoxysilane was added, and in the second step, 7.41 parts by mass of hexamethyldisilazane was added.
(参考試験例4)
参考試験例4のシリカ粒子の表面処理方法においては、シリカ粒子として、コロイダルシリカの一種であるスノーテックスOL(日産化学工業株式会社製、平均粒径50nm、水中に分散されており固形分濃度20%)を用いた。また、第1工程においてシラン化合物として3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、KBM−503)0.48質量部を加えた。さらに、このシラン化合物に加えて重合禁止剤(3,5−ジブチル−4−ヒドロキシトルエン(BHT)、関東化学株式会社製)を0.01質量部加えた。また、第2工程において、ヘキサメチルジシラザン0.78質量部を加えた。さらに、固形化工程においては、表面処理工程で得られた混合物全量に35%塩酸水溶液2.6質量部を加えてシリカ粒子材料を沈殿させた。これ以外は、試験例8のシリカ粒子の表面処理方法は、参考試験例1のシリカ粒子の表面処理方法と同じであった。なお、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとヘキサメチルジシラザンとのモル比は2:5であった。
(Reference Test Example 4)
In the surface treatment method of silica particles of Reference Test Example 4, as a silica particle, Snowtex OL (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., average particle size 50 nm, dispersed in water and having a solid content concentration of 20) is used as a silica particle. %) Was used. In the first step, 0.48 parts by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-503) was added as a silane compound . Furthermore, in addition to this silane compound , 0.01 mass parts of polymerization inhibitors (3,5-dibutyl-4-hydroxytoluene (BHT), manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) were added. In the second step, 0.78 parts by mass of hexamethyldisilazane was added. Furthermore, in the solidification step, 2.6 parts by mass of a 35% aqueous hydrochloric acid solution was added to the total amount of the mixture obtained in the surface treatment step to precipitate the silica particle material. Except this, the silica particle surface treatment method of Test Example 8 was the same as the silica particle surface treatment method of Reference Test Example 1. The molar ratio of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane to hexamethyldisilazane was 2: 5.
(参考試験例5)
参考試験例5のシリカ粒子の表面処理方法は、フェニルトリメトキシシランとヘキサメチルジシラザンとのモル比が1:1であったこと以外は、参考試験例1のシリカ粒子の表面処理方法と同じである。第1工程においては、フェニルトリメトキシシラン4.5質量部を加え、第2工程においてはヘキサメチルジシラザン3.7質量部を加えた。
(Reference Test Example 5)
The silica particle surface treatment method of Reference Test Example 5 is the same as the silica particle surface treatment method of Reference Test Example 1 except that the molar ratio of phenyltrimethoxysilane and hexamethyldisilazane was 1: 1. It is. In the first step, 4.5 parts by mass of phenyltrimethoxysilane was added, and in the second step, 3.7 parts by mass of hexamethyldisilazane was added.
(参考試験例6)
参考試験例6のシリカ粒子の表面処理方法は、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとヘキサメチルジシラザンとのモル比が2:1であったこと以外は、参考試験例4のシリカ粒子の表面処理方法と同じである。第1工程においては、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン0.48質量部を加え、第2工程においてはヘキサメチルジシラザン0.16質量部を加えた。
(Reference Test Example 6)
The surface treatment method of the silica particles of Reference Test Example 6 is the surface of the silica particles of Reference Test Example 4 except that the molar ratio of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane to hexamethyldisilazane was 2: 1. It is the same as the processing method. In the first step, 0.48 parts by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was added, and in the second step, 0.16 parts by mass of hexamethyldisilazane was added.
(参考試験例7)
参考試験例7のシリカ粒子の表面処理方法は、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとヘキサメチルジシラザンとのモル比が1:1であったこと以外は、参考試験例4のシリカ粒子の表面処理方法と同じである。第1工程においては、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン0.48質量部を加え、第2工程においてはヘキサメチルジシラザン0.31質量部を加えた。
(Reference Test Example 7)
The surface treatment method of the silica particles of Reference Test Example 7 is the surface of the silica particles of Reference Test Example 4 except that the molar ratio of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane to hexamethyldisilazane was 1: 1. It is the same as the processing method. In the first step, 0.48 parts by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was added, and in the second step, 0.31 parts by mass of hexamethyldisilazane was added.
(凝集性評価試験)
参考試験例1〜7のシリカ粒子材料について、液状媒体中における凝集性を測定した。
(Cohesiveness evaluation test)
About the silica particle material of the reference test examples 1-7, the cohesiveness in a liquid medium was measured.
詳しくは、参考試験例1〜3及び参考試験例5については、シリカ粒子材料10gとメチルエチルケトン40gとの混合物を攪拌し、シリカ粒子材料の分散試料を得た。 Specifically, for Reference Test Examples 1 to 3 and Reference Test Example 5, a mixture of 10 g of silica particle material and 40 g of methyl ethyl ketone was stirred to obtain a dispersion sample of silica particle material.
参考試験例4、6、7については、シリカ粒子材料10gとメチルエチルケトン10gとの混合物を攪拌し、シリカ粒子材料の分散試料を得た。得られた各分散試料に含まれるシリカ粒子材料の粒度分布を、粒祖分布測定装置(日機装株式会社製、マイクロトラック)により測定した。 In Reference Test Examples 4, 6, and 7, a mixture of 10 g of silica particle material and 10 g of methyl ethyl ketone was stirred to obtain a dispersion sample of silica particle material. The particle size distribution of the silica particle material contained in each of the obtained dispersion samples was measured by a particle size distribution measuring device (manufactured by Nikkiso Co., Ltd., Microtrack).
その結果、参考試験例1〜4のシリカ粒子材料は、凝集のない一次粒子の状態で分散していることが分かった。これは、参考試験例1〜4のそれぞれのシリカ粒子材料の粒度分布(ピーク)が、粒子径10nm〜50nm程度の位置に一つのみ現れていることから裏付けられる。シリカ粒子材料が二次粒子であれば(すなわち、少しでも凝集があれば)、粒子径100nm以上の位置に少なくとも一つのピークが現れる。このため、試験例5〜8のシリカ粒子材料は、一旦固形化したにもかかわらず、その殆どが一次粒子であり、殆ど凝集していないことがわかる。これに対して、試験例9〜11のシリカ粒子材料は、攪拌するだけでは分散せず、攪拌後に発振周波数39kHz、出力500Wで1時間以上超音波照射しても、肉眼で凝集が確認でき、一次粒子にまで分散しなかった。この結果から、シラン化合物とオルガノシラザンとのモル比を1:2〜1:10の範囲にすることで、固形化しても凝集し難いシリカ粒子材料を製造できることがわかる。なお、試験例5のシリカ粒子材料の平均粒径は10nm、試験例6のシリカ粒子材料の平均粒径は10nm、試験例7のシリカ粒子材料の平均粒径は10nm、試験例8のシリカ粒子材料の平均粒径は50nmであった。この結果から、凝集抑制のためには、シラン化合物とオルガノシラザンとのモル比を1:5〜2:5の範囲にするのが好ましいことがわかる。 As a result, it was found that the silica particle materials of Reference Test Examples 1 to 4 were dispersed in a primary particle state without aggregation. This is supported by the fact that only one particle size distribution (peak) of each silica particle material of Reference Test Examples 1 to 4 appears at a position having a particle diameter of about 10 nm to 50 nm. If the silica particle material is a secondary particle (that is, if there is even agglomeration), at least one peak appears at a position having a particle diameter of 100 nm or more. For this reason, although the silica particle material of Test Examples 5-8 was once solidified, it turns out that most are primary particles and hardly aggregated. On the other hand, the silica particle materials of Test Examples 9 to 11 are not dispersed only by stirring, and even after ultrasonic stirring at an oscillation frequency of 39 kHz and an output of 500 W for 1 hour or more, aggregation can be confirmed with the naked eye. It did not disperse to primary particles. From this result, it can be seen that by making the molar ratio of the silane compound and the organosilazane within the range of 1: 2 to 1:10, it is possible to produce a silica particle material that hardly aggregates even when solidified. The average particle size of the silica particle material of Test Example 5 is 10 nm, the average particle size of the silica particle material of Test Example 6 is 10 nm, the average particle size of the silica particle material of Test Example 7 is 10 nm, and the silica particles of Test Example 8 The average particle size of the material was 50 nm. From this result, it can be seen that the molar ratio of the silane compound to the organosilazane is preferably in the range of 1: 5 to 2: 5 in order to suppress aggregation.
(極大吸収測定試験)
参考試験例1〜7のシリカ粒子材料を準備し、この試料の赤外線吸収スペクトルを、サーモニコレット社製 FT−IR Avatorを用いた粉体拡散反射法で測定した。このときの測定条件は、分解能4、スキャン回数64であった。結果、試験例5〜11のシリカ粒子材料の赤外吸収スペクトルは、何れも、2962cm−1にC-H伸縮振動の極大吸収(ピーク)を持つ。このため、これらのシリカ粒子材料は、アルキル基を持つこと(すなわち、アルキル基を持つオルガノシラザンで表面処理されていること)がわかる。なお、参考試験例5〜7のシリカ粒子材料のピーク高さは、参考試験例1〜4のシリカ粒子材料のピーク高さに比べて低かった。この結果は、参考試験例5〜7のシリカ粒子材料においては、充分な量のアルキル基を持たないことを示唆している。詳しくは、試験例5〜8のシリカ粒子材料の赤外線吸収スペクトルにおいては、シラン化合物に由来する各官能基固有のC−Hのピーク高さに対してオルガノシラザンに由来するメチル基(2962cm−1)のピーク高さが3倍以上であった。参考試験例5〜7のシリカ粒子材料の赤外線吸収スペクトルにおいては、シラン化合物に由来する各官能基固有のC−Hのピーク高さに対してオルガノシラザンに由来するメチル基(2962cm−1)のピーク高さが2倍以下であった。上述したように、参考試験例1〜4のシリカ粒子材料は凝集し難く、参考試験例5〜7のシリカ粒子材料は凝集し易かった。これらの結果から、シラン化合物に由来する各官能基固有のC−Hのピーク高さに対してオルガノシラザンに由来するメチル基(2962cm−1)のピーク高さが3倍以上であるシリカ粒子材料は凝集し難いといえる。
(Maximum absorption measurement test)
The silica particle material of Reference Test Examples 1 to 7 was prepared, and the infrared absorption spectrum of this sample was measured by a powder diffusion reflection method using FT-IR Avatar manufactured by Thermo Nicolet. The measurement conditions at this time were a resolution of 4 and a scan count of 64. As a result, the infrared absorption spectra of the silica particle materials of Test Examples 5 to 11 all have a maximum absorption (peak) of C—H stretching vibration at 2962 cm −1 . For this reason, it can be seen that these silica particle materials have an alkyl group (that is, are surface-treated with an organosilazane having an alkyl group). In addition, the peak height of the silica particle material of Reference Test Examples 5 to 7 was lower than the peak height of the silica particle material of Reference Test Examples 1 to 4. This result suggests that the silica particle materials of Reference Test Examples 5 to 7 do not have a sufficient amount of alkyl groups. Specifically, in the infrared absorption spectra of the silica particle materials of Test Examples 5 to 8, the methyl group (2962 cm −1) derived from organosilazane with respect to the peak height of C—H specific to each functional group derived from the silane compound. ) Was 3 times or more. In the infrared absorption spectra of the silica particle materials of Reference Test Examples 5 to 7, the methyl group (2962 cm −1 ) derived from organosilazane with respect to the peak height of C—H specific to each functional group derived from the silane compound. The peak height was 2 times or less. As described above, the silica particle materials of Reference Test Examples 1 to 4 were hardly aggregated, and the silica particle materials of Reference Test Examples 5 to 7 were easily aggregated. From these results, the silica particle material in which the peak height of the methyl group (2962 cm −1 ) derived from the organosilazane is three times or more the C—H peak height specific to each functional group derived from the silane compound. Can hardly be agglomerated.
(炭素量測定試験)
参考試験例1〜7のシリカ粒子材料について、シリカ粒子材料の質量あたりに存在する炭素の量(質量%)を測定した。測定には、有機炭素測定装置(HORIBA社製、EMIA−320V)を用いた。
(Carbon content measurement test)
About the silica particle material of the reference test examples 1-7, the quantity (mass%) of the carbon which exists per mass of a silica particle material was measured. For the measurement, an organic carbon measuring device (HORIBA, EMIA-320V) was used.
その結果、参考試験例1のシリカ粒子材料の炭素量は3.5質量%であり、参考試験例2のシリカ粒子材料の炭素量は2.6質量%であり、参考試験例3のシリカ粒子材料の炭素量は2.8質量%であり、参考試験例4のシリカ粒子材料の炭素量は0.96質量%であった。参考試験例5のシリカ粒子材料の炭素量は4.0質量%であり、参考試験例6のシリカ粒子材料の炭素量は1.8質量%であり、参考試験例7のシリカ粒子材料の炭素量は1.0質量%であった。 As a result, the carbon amount of the silica particle material of Reference Test Example 1 was 3.5% by mass, the carbon amount of the silica particle material of Reference Test Example 2 was 2.6% by mass, and the silica particles of Reference Test Example 3 The carbon content of the material was 2.8% by mass, and the carbon content of the silica particle material of Reference Test Example 4 was 0.96% by mass. The carbon content of the silica particle material of Reference Test Example 5 is 4.0% by mass, the carbon content of the silica particle material of Reference Test Example 6 is 1.8% by mass, and the carbon of the silica particle material of Reference Test Example 7 The amount was 1.0% by mass.
(X1数測定試験)
参考試験例1〜7のシリカ粒子材料について、シリカ粒子材料の単位表面積(nm2)あたりのX1の存在数を測定した。参考試験例1及び参考試験例5のシリカ粒子材料におけるX1はフェニル基であり、参考試験例2、3のシリカ粒子材料におけるX1はビニル基であり、参考試験例4、6、7のシリカ粒子材料におけるX1はメタクリロキシ基であった。シリカ粒子材料の表面積(比表面積)は窒素を用いたBET法で測定した。X1の存在数はシリカ粒子材料の炭素量を基に算出した。詳しくは、第1工程後のシリカ粒子を、水で洗浄し遠心分離した後に乾燥して、シラン化合物処理後のシリカ粒子試料を得た。この試料の炭素量を、有機炭素測定装置を用いて測定し、測定値を基にX1数を算出した。
(X 1 number measurement test)
For the silica particle materials of Reference Test Examples 1 to 7, the number of X 1 present per unit surface area (nm 2 ) of the silica particle material was measured. X 1 in the silica particle material of Reference Test Example 1 and Reference Test Example 5 is a phenyl group, X 1 in the silica particle material of Reference Test Examples 2 and 3 is a vinyl radical, the Reference Test Examples 4, 6 and 7 X 1 in the silica particle material was a methacryloxy group. The surface area (specific surface area) of the silica particle material was measured by the BET method using nitrogen. The number of X 1 was calculated based on the carbon content of the silica particle material. Specifically, the silica particles after the first step were washed with water, centrifuged and then dried to obtain a silica particle sample after the silane compound treatment. The carbon content of this sample was measured using an organic carbon measuring device, and the number of X 1 was calculated based on the measured value.
その結果、参考試験例1のシリカ粒子材料におけるX1数は、約1.2個/nm2であった。参考試験例2のシリカ粒子材料におけるX1数は、約1.1個/nm2であった。参考試験例3のシリカ粒子材料におけるX1数は、約1.1個/nm2であった。参考試験例4のシリカ粒子材料におけるX1数は、約2.0個/nm2であった。参考試験例5のシリカ粒子材料におけるX1数は、約1.7個/nm2であった。参考試験例6のシリカ粒子材料におけるX1数は、約2.0個/nm2であった。参考試験例7のシリカ粒子材料におけるX1数は、約2.0個/nm2であった。参考までに、シラン化合物処理後のシリカ粒子試料の炭素量は、参考試験例1のシリカ粒子材料では3.6質量%、参考試験例2のシリカ粒子材料では1.1質量%、参考試験例3のシリカ粒子材料では1.1質量%、参考試験例4のシリカ粒子材料では1.5質量%であった。また、参考試験例5のシリカ粒子材料では5.0質量%、参考試験例6のシリカ粒子材料では1.5質量%、参考試験例7のシリカ粒子材料では1.5質量%であった。 As a result, the number of X 1 in the silica particle material of Reference Test Example 1 was about 1.2 / nm 2 . The number of X 1 in the silica particle material of Reference Test Example 2 was about 1.1 pieces / nm 2 . The number of X 1 in the silica particle material of Reference Test Example 3 was about 1.1 pieces / nm 2 . The number of X 1 in the silica particle material of Reference Test Example 4 was about 2.0 / nm 2 . The number of X 1 in the silica particle material of Reference Test Example 5 was about 1.7 pieces / nm 2 . The number of X 1 in the silica particle material of Reference Test Example 6 was about 2.0 / nm 2 . The number of X 1 in the silica particle material of Reference Test Example 7 was about 2.0 / nm 2 . For reference, the carbon content of the silica particle sample after the silane compound treatment was 3.6% by mass for the silica particle material of Reference Test Example 1, 1.1% by mass for the silica particle material of Reference Test Example 2, and Reference Test Example The silica particle material of No. 3 was 1.1 mass%, and the silica particle material of Reference Test Example 4 was 1.5 mass%. Further, the silica particle material of Reference Test Example 5 was 5.0% by mass, the silica particle material of Reference Test Example 6 was 1.5% by mass, and the silica particle material of Reference Test Example 7 was 1.5% by mass.
上述したように、シリカ粒子材料の樹脂材料に対する親和性はX1の数及び種類によって異なり、参考試験例1のシリカ粒子材料及び参考試験例4のシリカ粒子材料は、樹脂材料に対する親和性に優れていた。この結果から、樹脂材料に対して優れた親和性を発揮するためには、シリカ粒子材料の単位表面積(nm2)あたりのX1は0.5個〜2.5個であるのが好ましく、1.0個〜2.0個であるのがより好ましいといえる。 As mentioned above, the affinity to the resin material of the silica particulate material depends on the number and type of X 1, silica particulate material of the silica particulate material and Reference Test Example 4 of Reference Test Example 1 is excellent in affinity to a resin material It was. From this result, in order to exhibit excellent affinity for the resin material, X 1 per unit surface area (nm 2 ) of the silica particle material is preferably 0.5 to 2.5, It can be said that 1.0 to 2.0 is more preferable.
Claims (9)
体積平均粒径が0.5μm以上である無機材料から構成されるフィラーと、
前記シリカ粒子材料及び前記フィラーを分散する液状組成物と、
を有し、
前記シラン化合物はシランカップリング剤、及び、3つのアルコキシ基とフェニル基とをもつ化合物から選択される1種以上の化合物で有り、
前記シリカ粒子材料の混合割合は、前記フィラー及び前記シリカ粒子材料の全体の質量を基準として、15%超50%未満であるフィラー含有液状組成物。 A raw material silica having a volume average particle diameter of 1 nm to 100 nm has a surface treated with a silane compound and an organosilazane, and is selected from the group consisting of isopropanol, PMG, MEK, ethyl acetate, and toluene. When 100 mL of a dispersion liquid of 10% by mass based on the total mass of a seed or two or more kinds of dispersion media is irradiated with ultrasonic waves for 5 minutes, and then suction filtered with 5 kinds C filter paper of JISP3801 standard. Silica particle material through which 95% or more passes;
A filler composed of an inorganic material having a volume average particle size of 0.5 μm or more;
A liquid composition in which the silica particle material and the filler are dispersed;
I have a,
The silane compound is a silane coupling agent and one or more compounds selected from compounds having three alkoxy groups and a phenyl group,
The filler-containing liquid composition in which the mixing ratio of the silica particle material is more than 15% and less than 50% based on the total mass of the filler and the silica particle material .
粒径が0.5μm以上である無機材料から構成されるフィラーと、
前記シリカ粒子材料及び前記フィラーを分散する液状組成物と、
を有し、
前記シラン化合物はシランカップリング剤、及び、3つのアルコキシ基とフェニル基とをもつ化合物から選択される1種以上の化合物で有り、
前記シリカ粒子材料の混合割合は、前記フィラー及び前記シリカ粒子材料の全体の質量を基準として、15%超50%未満であることを特徴とするフィラー含有液状組成物。 One type selected from the group consisting of isopropanol, PMG, MEK, ethyl acetate, and toluene, the surface of which is treated with a silane compound and an organosilazane with respect to a raw material silica having a particle size of 1 nm to 100 nm After irradiating ultrasonic waves for 5 minutes to 100 mL of a dispersion in which 10% by mass of the total mass is dispersed in two or more types of dispersion media as a reference, it is 95% when suction filtered with 5C filter paper of JISP3801 standard. Silica particle material through which the above passes,
A filler composed of an inorganic material having a particle size of 0.5 μm or more;
A liquid composition in which the silica particle material and the filler are dispersed;
Have
The silane compound is a silane coupling agent and one or more compounds selected from compounds having three alkoxy groups and a phenyl group,
The filler-containing liquid composition, wherein the mixing ratio of the silica particle material is more than 15% and less than 50% based on the total mass of the filler and the silica particle material.
前記シリカ材料は、水を含む液状媒体中で前記シラン化合物及びオルガノシラザンによって前記原料シリカ粒子を表面処理する表面処理工程をもつ表面処理方法により処理され、
前記シラン化合物は、3つのアルコキシ基と、フェニル基、ビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、イソシアネート基、又はアクリル基と、を持ち、
前記シラン化合物と前記オルガノシラザンとのモル比は、前記シラン化合物:前記オルガノシラザン=1:2〜1:10である、
フィラー含有液状組成物の製造方法。 A method for producing a filler-containing liquid composition for producing the filler-containing liquid composition according to any one of claims 1 to 6,
The silica material is treated by a surface treatment method having a surface treatment step of surface-treating the raw silica particles with the silane compound and organosilazane in a liquid medium containing water,
The silane compound has three alkoxy groups, phenyl group, vinyl group, epoxy group, methacryl group, amino group, ureido group, mercapto group, isocyanate group, or acrylic group,
The molar ratio between the organo silazane and the silane compound, the silane compound: The organosilazane = 1: 2 to 1: Ru 10 der,
A method for producing a filler-containing liquid composition .
前記原料シリカ粒子の表面に存在したシラノール基の残部及び前記シラン化合物には前記オルガノシラザンが結合している請求項7に記載のフィラー含有液状組成物の製造方法。 80% or more of the silanol groups present on the surface of the raw silica particles are bonded to the silane compound, and
The method for producing a filler-containing liquid composition according to claim 7, wherein the organosilazane is bonded to the remainder of the silanol groups present on the surface of the raw silica particles and the silane compound.
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