JP6048762B2 - 光学活性β−ヒドロキシ−α−アミノカルボン酸エステルの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ルテニウム錯体を触媒として用いることで、β−ケト−α−アミノカルボン酸エステルの不斉還元反応を行い、光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルを製造する新規の方法に関する。

光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルは、角質層保湿作用の鍵分子であるセラミド類の合成中間体として重要であり、医薬品等の中間体としてだけではなく、化学工業等で必要な機能性材料等を作製するための重要な中間体となり得る化合物である。したがってこれまで光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルの製造方法が研究され、報告されている（特開平６−０８０６１７号公報又は国際公開番号２００８／０４１５７１号公報参照）。
特開平６−０８０６１７号公報では、ルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を用いて触媒的不斉水素化反応を行い、選択的にシン体の光学活性β−ヒドロキシ−α−アミノカルボン酸エステルを合成し、さらに、このβ位の水酸基を立体反転させて、アンチ体を得る方法が開示されている。
国際公開番号２００８／０４１５７１号公報では、ルテニウム−光学活性ジアミン錯体を用いて触媒的不斉水素移動反応を行い、アンチ体を選択的に得る方法が開示されている。
また一方で、不斉還元をはじめとする多くの不斉反応が開発され、光学活性なホスフィン配位子をもつ不斉金属錯体を用いる不斉反応が数多く報告されている。一方、例えばルテニウム、ロジウム、イリジウムなどの遷移金属に光学活性な窒素化合物を配位させた錯体が、不斉合成反応の触媒として優れた性能を有するという報告も数多くされている（Chem Rev. (1992) p. 1051、J. Am. Chem. Soc. 117 (1995) p. 7562、J. Am. Chem. Soc. 118 (1996) p. 2521、及びJ. Am. Chem. Soc. 118 (1996) p. 4916参照）。

しかしながら、光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルの製造において、これまで報告された方法では多くのステップを経なければ光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルを得ることができなかった。また、不斉還元反応を利用して、当該エステルをワンステップで製造できたとしても、長い反応時間が必要であったり、低い立体選択性を示したり、反応に必要な触媒量が多くそれを取り除く操作が煩雑であったりといった問題点があった。具体的には、特許文献１に開示された方法では最初にシン体が選択的に得られ、アンチ体を得るために、β位の水酸基を立体反転させなければならず、余分な工程が必要となり、また、特許文献２に開示された方法では、アンチ体が選択的に得られるものの、反応に要する時間が数日と長く、反応時間を短くしようとすれば、触媒量が多くなってしまい、工業的に有利ではなかった。
本発明は、このような課題を解決しようとするものである。

上記課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究を行った結果、芳香族化合物（ａｒｅｎｅ）部位がルテニウム原子に配位し、芳香族化合物（ａｒｅｎｅ）部位とジアミン部分を連結する鎖状部分に酸素原子又は硫黄原子などのヘテロ原子が導入されている、あるいは鎖状炭素で連結されていることを特徴とし、また、ジアミン配位子の２個の窒素原子が共有結合又は配位結合でルテニウム原子に結合し、当該ジアミンと結合した芳香族化合物（ａｒｅｎｅ）部位もルテニウム原子に配位する３座配位子を有し、かつ、芳香族化合物（ａｒｅｎｅ）部位とジアミン部分を連結する鎖状部分に酸素原子又は硫黄原子などのヘテロ原子が導入されている、あるいは鎖状炭素で連結されていることを特徴とする、ルテニウム錯体を触媒として用い、β−ケト−α−アミノカルボン酸エステルを不斉還元し、光学活性β−ヒドロキシ−α−アミノカルボン酸エステルをアンチ体選択的に温和な条件下で効率よく製造できることを見出し、本発明を完成した。

すなわち、本発明は以下の内容を含むものである。
［１］下記一般式（１）もしくは（１）’：

（式中、
Ｒ¹は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１個又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基によって置換されていてもよいアミノ基；又はアリール基（但し、アリール基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ²⁰Ｒ²¹）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁰）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ²⁰）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ²⁰）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ²⁰）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ²⁰）、シリル基（−ＳｉＲ²⁰Ｒ²¹Ｒ²²）、およびニトロ基（−ＮＯ₂）から選択される１以上で置換されていてもよい）を示し、
Ｒ²⁰、Ｒ²¹、及びＲ²²は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数３〜１０のシクロアルキル基を示し、
Ｙは水素原子を示し、
Ｘはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又はハロゲン原子を示し、
Q^-はカウンターアニオンを示し、
ｊ及びｋはそれぞれ０又は１を示すが、ｊ＋ｋが１になることはなく、
Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基（但し、フェニル基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、およびハロゲン原子から選択される１以上で置換されていてもよい）；又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示すか、又はＲ²及びＲ³が一緒になって環を形成してもよく、
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示し、
Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示すか、Ｒ¹⁶とＲ¹⁷とこれらが結合している炭素原子、及び／又はＲ¹⁸とＲ¹⁹とこれらが結合している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、又は、メチレンを示し、
ｎ₁は１又は２を、ｎ₂は１から３のいずれかの整数を示し、
＊は不斉炭素原子を示す（但し、Ｒ²及び／又はＲ³が水素原子である場合にはその水素原子が結合した炭素原子は不斉炭素原子ではない）。）
で表されるルテニウム錯体及び、水素供与体の存在下、下記一般式（２）

（式中、Ｒ²³は１以上の水酸基で置換されてもよい炭素数１１〜２１の炭化水素基を示し、Ｒ²⁴は水素原子、又は、炭素数１〜１０の炭化水素基を示し、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶はそれぞれ同一または異なってもよく、水素原子、又は、ハロゲン原子および水酸基から選択される１以上で置換されてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又は、ハロゲン原子および水酸基から選択される１以上で置換されてもよい炭素数１〜２４のアシル基、又は、アミノ保護基を示すか、Ｒ²⁵とＲ²⁶は隣接する窒素原子と一緒になって複素環を形成してもよい（複素環は１以上の水酸基で置換されてもよい））で表されるβ-ケト-α-アミノカルボン酸エステルの不斉還元反応を行うことを特徴とする、下記一般式（３）または一般式（４）；

（式中、＊は不斉炭素原子であることを示し、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵及びＲ²⁶は前記と同じ。）で表される光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルの製造方法。
好ましい態様において、光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルの主生成物が一般式（４）で表される（２Ｒ，３Ｒ）体であり、（２Ｒ，３Ｒ）体：（２Ｓ，３Ｒ）体の生成比率が８５：１５〜１００：０であり、且つ、反応時間が１０時間以内に完結する。
別の好ましい態様において、光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルの主生成物が一般式（４）で表される（２Ｒ，３Ｒ）体であり、（２Ｒ，３Ｒ）体：（２Ｓ，３Ｒ）体の生成比率が８５：１５〜１００：０であり、且つ、一般式（１）で表されるルテニウム錯体が一般式（２）で表されるβ-ケト-α-アミノカルボン酸エステルに対してモル比で１／５００〜１／１００００であるときに反応時間が２０時間以内に完結する。

本発明では、セラミド類、医薬品、農薬等の合成中間体として重要である、光学活性β−ヒドロキシ−α−アミノカルボン酸エステルを簡単な工程で、しかも低コストで製造する方法を提供することができる。
本発明は、ルテニウムに配位する芳香族化合物（ａｒｅｎｅ）部位とジアミン部分を連結する鎖状部分にヘテロ原子を導入したルテニウム錯体であって、非常に触媒活性が強く、エステル基の還元に使用することができるなど各種の水素化触媒として有用であるだけでなく、配位子が光学活性体である本発明の錯体は立体選択性に優れ高い不斉収率を与えることができるルテニウム錯体を、光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルの製造方法において利用することにより、従来より簡便かつ効率的に高い光学純度で、且つ高収率でアンチ体である光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルを合成することができる。

以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
本発明において、下記一般式（１）もしくは（１）’：

（式中、
Ｒ¹は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１個又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基によって置換されていてもよいアミノ基；又はアリール基（但し、アリール基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ²⁰Ｒ²¹）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁰）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ²⁰）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ²⁰）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ²⁰）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ²⁰）、シリル基（−ＳｉＲ²⁰Ｒ²¹Ｒ²²）、およびニトロ基（−ＮＯ₂）から選択される１以上で置換されていてもよい）を示し、
Ｒ²⁰、Ｒ²¹、及びＲ²²は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数３〜１０のシクロアルキル基を示し、
Ｙは水素原子を示し、
Ｘはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又はハロゲン原子を示し、
Q^-はカウンターアニオンを示し、
ｊ及びｋはそれぞれ０又は１を示すが、ｊ＋ｋが１になることはなく、
Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基（但し、フェニル基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、およびハロゲン原子から選択される１以上で置換されていてもよい）；又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示すか、又はＲ²及びＲ³が一緒になって環を形成してもよく、
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示し、
Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示すか、Ｒ¹⁶とＲ¹⁷とこれらが結合している炭素原子、及び／又はＲ¹⁸とＲ¹⁹とこれらが結合している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
Ｚは酸素原子、硫黄原子、又は、メチレンを示し、
ｎ₁は１又は２を、ｎ₂は１から３のいずれかの整数を示し、
＊は不斉炭素原子を示す（但し、Ｒ²及び／又はＲ³が水素原子である場合にはその水素原子が結合した炭素原子は不斉炭素原子ではない）。）
で表されるルテニウム錯体及び、水素供与体の存在下、下記一般式（２）

（式中、Ｒ²³は１以上の水酸基で置換されてもよい炭素数１１〜２１の炭化水素基を示し、Ｒ²⁴は水素原子、又は、炭素数１〜１０の炭化水素基を示し、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶はそれぞれ同一または異なってもよく、水素原子、又は、ハロゲン原子および水酸基から選択される１以上で置換されてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又は、ハロゲン原子および水酸基から選択される１以上で置換されてもよい炭素数１〜２４のアシル基、又は、アミノ保護基を示すか、Ｒ²⁵とＲ²⁶は隣接する窒素原子と一緒になって複素環を形成してもよい（複素環は１以上の水酸基で置換されてもよい））で表されるβ-ケト-α-アミノカルボン酸エステルの不斉還元反応を行うことで、下記一般式（３）または一般式（４）；

（式中、＊は不斉炭素原子であることを示し、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵及びＲ²⁶は前記と同じ。）で表される光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルを製造する。

以下、まず、一般式（１）で表されるルテニウム錯体、及びその合成方法について説明する。その後に、一般式（２）で表されるβ−ケト−α−アミノカルボン酸エステル、及び一般式（３）及び（４）で表されるβ−ヒドロキシ−α−アミノカルボン酸エステルについて説明する。そして、一般式（１）で表されるルテニウム錯体を触媒として使用して、一般式（２）で表されるβ−ケト−α−アミノカルボン酸エステルの不斉還元反応を行い、一般式（３）及び（４）で表されるβ−ヒドロキシ−α−アミノカルボン酸エステルを製造するプロセスを説明する。

＜ルテニウム錯体＞
一般式（１）で表されるルテニウム錯体は、芳香族化合物（ａｒｅｎｅ）部位がルテニウム原子に配位し、芳香族化合物（ａｒｅｎｅ）部位とジアミン部分を連結する鎖状部分に酸素原子又は硫黄原子などのヘテロ原子が導入されている、あるいは鎖状炭素で連結されていることを特徴とするルテニウム錯体である。
また、一般式（１）で表されるルテニウム錯体は、ジアミン配位子の２個の窒素原子が共有結合又は配位結合でルテニウム原子に結合し、当該ジアミンと結合した芳香族化合物（ａｒｅｎｅ）部位もルテニウム原子に配位する３座配位子を有し、かつ、芳香族化合物（ａｒｅｎｅ）部位とジアミン部分を連結する鎖状部分に酸素原子又は硫黄原子などのヘテロ原子が導入されていることを特徴とするものである。
一般式（１）における＊印は、当該＊印が付されている炭素原子が不斉炭素原子となる場合があることを示している。当該炭素原子が不斉炭素原子となる場合には、それらの光学活性体としてもよいし、光学活性体の混合物であってもよいし、ラセミ体（ラセミ化合物を含む）であってもよい。本発明の好ましい態様としては、これらの炭素原子が不斉炭素原子となる場合には、これらの光学活性体が挙げられる。
但し、後述するようにＲ²及び／又はＲ³が水素原子である場合にはその水素原子が結合した炭素原子は不斉炭素原子ではない。

本発明の一般式（１）において、Ｒ¹は、
炭素数１〜１０のアルキル基；
炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；
１０−カンフォリル基；
１個又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基によって置換されていてもよいアミノ基；又は、
アリール基（但し、アリール基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ²⁰Ｒ²¹）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁰）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ²⁰）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ²⁰）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ²⁰）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ²⁰）、シリル基（−ＳｉＲ²⁰Ｒ²¹Ｒ²²）、若しくはニトロ基（−ＮＯ₂）で置換されていてもよい）；
を示す。
本発明の一般式（１）において、Ｒ¹で示される炭素数１〜１０のアルキル基としては、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜５の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
具体的なアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基等が挙げられる。
本発明の一般式（１）において、Ｒ¹で示される炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基等の前記した直鎖又は分岐のアルキル基においてフッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子が１個以上置換した炭素数１〜１０のアルキル基であり、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等のパーフルオロアルキル基が挙げられる。
本発明の本発明の一般式（１）において、Ｒ¹で示されるアミノ基が有してもよい炭素数１〜１０のアルキル基としては、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜５の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。具体的なアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基が挙げられる。

本発明の一般式（１）において、アリール基（但し、アリール基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ²⁰Ｒ²¹）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁰）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ²⁰）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ²⁰）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ²⁰）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ²⁰）、シリル基（−ＳｉＲ²⁰Ｒ²¹Ｒ²²）、およびニトロ基（−ＮＯ₂）から選択される１以上で置換されていてもよい）としては、フェニル基又はナフチル基等の炭素数１〜２０、好ましくは炭素数６〜１２の単環式、多環式、又は縮合環式のアリール基が挙げられる。
このようなアリール基としては、例えば、フェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−トリル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−エチルフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−イソプロピルフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−ｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，５−キシリル基、２，４，６−トリイソプロピルフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−トリフルオロメチルフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−フルオロフェニル基、ｏ−，ｍ−及びｐ−クロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基などが挙げられる。
但し、このＲ²⁰、Ｒ²¹、及びＲ²²は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数３〜１０のシクロアルキル基を示す。Ｒ²⁰、Ｒ²¹、及びＲ²²に関しては後述する。

以下、アリール基における置換基となり得る炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、アルキルアミノ基（−ＮＲ²⁰Ｒ²¹）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁰）、アルコキシ基（−ＯＲ²⁰）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ²⁰）、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ²⁰）、アルキルチオ基（−ＳＲ²⁰）、シリル基（−ＳｉＲ²⁰Ｒ²¹Ｒ²²）について更に説明する。

アリール基における置換基となり得る炭素数１〜１０のアルキル基としては前記したようなアルキル基が挙げられ、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基としては前記したようなハロゲン化アルキル基、例えばパーフルオロアルキル基が挙げられる。
アリール基における置換基となり得るハロゲン原子としてはフッ素原子又は塩素原子等が挙げられる。
アリール基における置換基となり得る−ＮＲ²⁰Ｒ²¹で表されるアルキルアミノ基（ここでＲ²⁰、Ｒ²¹はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数３〜１０のシクロアルキル基を表す。）としては、例えばＮ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基もしくはＮ−シクロヘキシルアミノ基等のモノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基が挙げられる。
アリール基における置換基となり得る５員若しくは６員の環状アミノ基としては、例えばピロリジニル基、ピペリジノ基、モルホリル基等の、５員から６員で１もしくは２個の窒素原子を有する不飽和又は飽和複素環基が挙げられる。

アリール基における置換基となり得る−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁰で表されるアシルアミノ基（ここでＲ²⁰は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数３〜１０のシクロアルキル基を表す。）としては、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基またはヘキサノイルアミノ基等が挙げられる。
アリール基における置換基となり得る−ＯＲ²⁰で表されるアルコキシ基（ここでＲ²⁰は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または３〜１０個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表す。）としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、５−メチルペンチルオキシ基またはシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
アリール基における置換基となり得る−ＣＯ−Ｒ²⁰で表されるアシル基（ここでＲ²⁰は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数３〜１０のシクロアルキル基を表す。）としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基、ペンタノイル基またはヘキサノイル基等が挙げられる。

アリール基における置換基となり得る−ＣＯＯＲ²⁰で表されるアルコキシカルボニル基（ここでＲ²⁰は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または３〜１０個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表す。）としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基または２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
アリール基における置換基となり得る−ＳＲ²⁰で表されるアルキルチオ基（ここでＲ²⁰は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または３〜１０個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表す。）としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基またはシクロヘキシルチオ基等が挙げられる。
アリール基における置換基となり得る−ＳｉＲ²⁰Ｒ²¹Ｒ²²で表されるシリル基（ここでＲ²⁰、Ｒ²¹およびＲ²²はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または３〜１０個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表す。）としては、例えばトリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基またはトリフェニルシリル基等が挙げられる。

ここで、上述したＲ²⁰、Ｒ²¹、及びＲ²²の定義における炭素数１〜１０のアルキル基は、炭素数１〜１０のアルキル基としては前記したようなアルキル基が挙げられる。３〜１０個の炭素原子を有するシクロアルキル基としては単環、多環式または縮合環の３〜１０個の炭素原子を有する飽和又は不飽和の３員〜７員のシクロアルキル基が挙げられる。

本発明の一般式（１）において、Ｙは水素原子を示し、Ｘはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又はハロゲン原子、好ましくはハロゲン原子を示し、具体的には例えば塩素原子が好ましい。
式（１）’におけるＱ^-は、カウンターアニオンを示す。カウンターアニオンの具体例としては、テトラフルオロボラートイオン（ＢＦ₄ ^-）、テトラフェニルボラートイオン（Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-）、およびＢＡｒ_Fイオン（Ｂ（３，５−（ＣＦ₃）₂Ｃ₆Ｆ₃）₄ ^-）などのホウ酸イオン、ならびに、ＳｂＦ₆ ^-、ＣＦ₃ＣＯＯ^-、ＣＨ₃ＣＯＯ^-、ＰＦ₆ ^-、ＮＯ₃ ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＳＣＮ^-、ＯＣＮ^-、ＲｅＯ₄ ^-およびＭｏＯ₄ ^-などのイオンが挙げられる。
一般式（１）のＹ及びＸにおける水素原子としては、通常の水素原子だけでなく水素原子の同位体であってもよい。好ましい同位体としては重水素原子が挙げられる。
一般式（１）においてｋ及びｊは、０又は１の整数であり、ｊ＋ｋが１になることはない。即ち、ｋが１であればｊも１であり、ｋが０であればｊも０である。

また、本発明の一般式（１）において、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立して、
水素原子；
炭素数１〜１０のアルキル基；
フェニル基（但し、フェニル基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、若しくはハロゲン原子で置換されていてもよい）；又は
炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。
又は、Ｒ²及びＲ³が一緒になって環を形成してもよい。

本発明の一般式（１）において、Ｒ²及びＲ³で示される炭素数１〜１０のアルキル基としては、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜５の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。具体的なアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基等が挙げられる。
本発明の一般式（１）において、Ｒ²及びＲ³で示されるフェニル基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、およびハロゲン原子から選択される１以上で置換されていてもよい。この炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば前記したようなアルキル基が挙げられる。この炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜５の直鎖又は分岐のアルコキシ基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基及びｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。

本発明の一般式（１）において、Ｒ²及びＲ³で示される炭素数３〜８のシクロアルキル基としては、炭素数３〜８、好ましくは炭素数５〜８の単環式、多環式、又は架橋式のシクロアルキル基が挙げられ、具体的には例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などが挙げられる。これらのシクロアルキル基は、メチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基などで置換されていてもよい。
また、本発明の一般式（１）において、Ｒ²及びＲ³が一緒になって環を形成する場合、Ｒ²及びＲ³が一緒になって炭素数２から１０、好ましくは３から１０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基となり、隣接する炭素原子と共に４から８員、好ましくは５から８員のシクロアルカン環を形成する。好ましいシクロアルカン環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環及びシクロヘプタン環が挙げられ、これらの環は置換基としてメチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基などを有していてもよい。

本発明において一般式（１）で表されるａｒｅｎｅ部分において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵はそれぞれ独立して、
水素原子；
炭素数１〜１０のアルキル基；又は
炭素数１〜１０のアルコキシ基
を示す。
この炭素数１〜１０のアルキル基としては前記してきたアルキル基が挙げられ、具体的には例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基等が挙げられる。
この炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、前記してきた直鎖又は分岐のアルコキシ基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基及びｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。

一般式（１）で表されるａｒｅｎｅ部位とジアミン部分を連結する鎖状部分の炭素原子に置換する置換基として表される、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹はそれぞれ独立して、
水素原子；
ヒドロキシル基；
炭素数１〜１０のアルキル基；又は
炭素数１〜１０のアルコキシ基；
を示す。
この炭素数１〜１０のアルキル基としては前記してきたアルキル基が挙げられ、具体的には例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基及びｎ−デシル基等が挙げられる。
この炭素数１〜１０のアルコキシ基としては、前記してきた直鎖又は分岐のアルコキシ基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基及びｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。

好ましい−（−Ｃ（Ｒ¹⁶）Ｒ¹⁷−）ｎ₁−基としては、例えば、−ＣＨ₂−基、−ＣＨ（ＣＨ₃）−基、−ＣＯ−基などが挙げられるが、これらの基に限定されるものではない。
好ましい−（−Ｃ（Ｒ¹⁸）Ｒ¹⁹−）ｎ₂−基としては、例えば、−ＣＨ₂−基、−ＣＨ（ＣＨ₃）−基、−ＣＯ−基などが挙げられるが、これらの基に限定されるものではない。
一般式（１）のＺは、酸素原子（−Ｏ−）硫黄原子（−Ｓ−）又はメチレン（−CH₂-）である。
また、ｎ₁は１又は２、好ましくは１であり、ｎ₂は１から３のいずれかの整数であって、好ましくは２を示す。

＜ルテニウム錯体の合成方法＞
上述のルテニウム錯体は、例えば以下のスキーム１の方法で合成できる。

スキーム１中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶〜Ｒ¹⁹は前述した通りの置換基を表し、Ｙは水素原子又は重水素原子、Ｚは酸素原子、硫黄原子、又はメチレンを表す。ルテニウムアレーンダイマー（ａ）におけるＷは、ハロゲン原子又は、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルカンスルホニルオキシ基、アルカンで置換されていてもよいアレーンスルホニルオキシ基を表し、Ｖはハロゲン原子を表す。ｎ₁は１又は２をｎ₂は１から３のいずれかの整数で表される。

スキーム１のように、アレーンの置換基の末端にハロゲン原子などを持つルテニウムアレーンダイマー（ａ）と、スルホニル基が置換している窒素原子ではないほうの窒素原子に置換した鎖状部位の末端にヒドロキシル基又はチオール基を持つジアミン（ｂ）を、適当な塩基存在下にて反応させることにより、錯化と同時にチオエーテル化又はエーテル化反応を行うことで、アミド錯体である（ｃ）を経由し、若しくは直接的に目的錯体であるルテニウム−ジアミン錯体（ｄ）を合成することができる。アミド錯体である（ｃ）を経由する場合は、（ｃ）に対して適当な酸を加えることにより、ジアミン錯体（ｄ）に変換することが可能である。
ルテニウムアレーンダイマー（ａ）においてＷで表されるハロゲン原子、又は、ハロゲン原子で置換されていてもよいアルカンスルホニルオキシ基、又は、アルカンで置換されていてもよいアレーンスルホニルオキシ基としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基などが挙げられる。また、Ｖで示すハロゲン原子は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のいずれかを表し、すべてのＶが同じハロゲン原子であっても、また異なるハロゲン原子の組み合わせでもよい。
ジアミン（ｂ）におけるＺは、酸素原子、硫黄原子又はメチレンである。またＹは水素原子を表す。

アミド錯体である（ｃ）を合成するときに用いる塩基としてはＬｉＯＨ、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｋ₂ＣＯ₃、Ｃｓ₂ＣＯ₃などの無機塩基；又は、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド等の金属アルコキシドが挙げられる。塩基の添加量はルテニウム原子に対して２モル以上である。この場合に用いられる溶媒としては特に限定されないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン含有炭化水素溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等が好ましく、特にジクロロメタンやトルエンが好ましい。またこの反応は水をもう一つの溶媒として用いて有機溶媒との二層系の反応で行うことができ、この場合には、相間移動触媒を用いて反応を行うと良い。このとき用いられる相間移動触媒の例としては、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムヨージド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムブロミド、トリエチルベンジルアンモニウムヨージドなどが挙げられる。
アミド錯体である（ｃ）より、ジアミン錯体（ｄ）へ変換する時に用いられる酸（Ｘ-Ｙ）は、例えば塩化水素酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸などが挙げられる。

この反応を行う溶媒は特に限定されないが、前記のアミド錯体（ｃ）を合成した後単離をせず、そのまま系内で同じ溶媒の存在下で反応を行いジアミン錯体（ｄ）に変換することもできるし、アミド錯体（ｃ）を単離した後、適切な別の溶媒を用いて反応を行いジアミン錯体（ｄ）に変換しても良い。
ジアミン錯体（ｄ）を直接合成するときに用いる塩基としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの第３級有機アミン類が好ましく、特にトリエチルアミンやジイソプロピルエチルアミンが好適である。この場合の塩基の添加量はルテニウム原子に対して等モル以上である。
この場合に用いられる溶媒としては特に限定されないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン性溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等が好ましく、特にジクロロメタンやイソプロパノールが好ましい。

また、本発明の錯体の合成法としては、以下のスキーム２に示すように、アレーンの置換基の末端にヒドロキシル基又はチオール基を持つルテニウムアレーンダイマー（ｅ）と、スルホニル基が置換している窒素原子ではないほうの窒素原子に置換した鎖状部位の末端にハロゲン原子などを持つジアミン（ｆ）を原料として用いることもできる。

（スキーム２中の各記号はスキーム１と同じ意味を表す。）
このスキーム２では、スキーム１におけるヒドロキシル基又はチオール基と、ハロゲン原子などの脱離基の位置が逆の組み合わせであるが、これらに対し適当な塩基存在下にて反応させることにより、錯化と同時にチオエーテル化又はエーテル化反応を行うことで、同様にアミド錯体である（ｃ）を経由し、若しくは直接的に目的錯体であるルテニウム−ジアミン錯体（ｄ）又はカチオン性ジアミン錯体（ｇ）を合成することができる。アミド錯体である（ｃ）を経由する場合は、（ｃ）に対して適当な酸を加えることにより、（ｄ）又は（ｇ）に変換することが可能である。反応において使われる塩基、溶媒などは前述の通りである。
また本発明の錯体は、以下のスキーム３のような方法でも製造することができる。

（Ｉ）Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応を用いて、１，４−シクロヘキサジエン骨格の化合物（ｈ）を合成する。
（II）（Ｉ）で得られた化合物（ｈ）に対してトシル化などを行い末端に脱離基を有する化合物（ｉ）を合成する。
（III）（ｉ）とＴｓＤＰＥＮ（Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン）(N-(p-toluenesulfonyl)-1,2-diphenylethylenediamine)とを反応させることにより、シクロヘキサジエンを有するジアミン（ｊ）を合成する。
（IV）得られたジアミン（ｊ）に三塩化ルテニウムを反応させ、ルテニウムダイマー（ｋ）を経由し、目的であるモノマー錯体が得られる。
この方法により、一般式（１）で表されるルテニウム錯体を製造することができる。

このようなルテニウム錯体を触媒として用いることで、光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルを高収率、高触媒効率、高選択率で製造することが可能となる。
なお、本発明のルテニウム錯体の調製は、通常、１２０℃以下、好ましくは１００℃以下で行われる。
また、下記で説明する不斉還元反応において、アミド錯体（ｃ）、ジアミン錯体（ｄ）を単離したものを触媒として用いて反応を行っても良いし、錯体調製の反応液をそのまま用いることで錯体を単離せずに反応を行っても良い（in situ法）。

＜β−ケト−α−アミノカルボン酸エステル＞
一般式（２）で表されるβ−ケト−α−アミノカルボン酸エステルにおいて、Ｒ²³は水酸基で置換されてもよい炭素数１１〜２１、好ましくは炭素数１１〜１８、さらに好ましくは炭素数１１〜１５の炭化水素基を示す。該炭化水素基（１以上の水酸基で置換されてもよい）は、鎖状であっても環状であってもよい。該炭化水素基が鎖状である場合には、直鎖又は分岐の飽和炭化水素基であっても不飽和炭化水素基であってもよいが、直鎖の飽和炭化水素基であることが好ましい。該炭化水素基が環状である場合も、同様に飽和環式炭化水素基であっても不飽和環式炭化水素基であってもよいが、飽和環式炭化水素基であることが好ましい。Ｒ²³としては、例えば炭素数１１〜１５の直鎖状の飽和脂肪酸基が好ましく、具体的に好ましいＲ²³は、ペンタデシル基、１−ヒドロキシペンタデシル基、ドデシル基であり、化合物（２）の有用性から特に好ましくはペンタデシル基、１−ヒドロキシペンタデシル基である。

一般式（２）で表されるβ−ケト−α−アミノカルボン酸エステルにおいて、Ｒ²⁴は水素原子、又は、炭素数１〜１０の炭化水素基を示し、好ましくは水素原子、又は、炭素数１〜５、さらに好ましくは炭素数１〜４の炭化水素基を示す。該炭化水素基は、鎖状であっても環状であってもよい。該炭化水素基が鎖状である場合には、直鎖又は分岐の飽和炭化水素基であっても不飽和炭化水素基であってもよいが直鎖の飽和炭化水素基であることが好ましい。環状である場合も同様に飽和環式炭化水素基であっても不飽和環式炭化水素基であってもよいが、飽和環式炭化水素基であることが好ましい。Ｒ²⁴としては炭素数１〜４の飽和炭化水素基が好ましく、具体的に好ましいＲ²⁴は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であり、原料合成の容易さからさらに好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基であり、特に好ましくはメチル基である。

一般式（２）で表されるβ−ケト−α−アミノカルボン酸エステルにおいて、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶はそれぞれ同一または異なってもよいが、異なっているほうが好ましい。Ｒ²⁵、Ｒ²⁶は水素原子、又は、ハロゲン原子若しくは水酸基で置換されてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又は、ハロゲン原子若しくは水酸基で置換されてもよい炭素数１〜２４のアシル基、又は、アミノ保護基を示す。
Ｒ²⁵、Ｒ²⁶が炭素数１〜１０のアルキル基（ハロゲン原子および水酸基から選択される１以上で置換されてもよい）である場合には、好ましくは炭素数１〜５、特に好ましくは炭素数１〜３のアルキル基を選択する。また、アルキル基は直鎖でも分岐でもよいが、直鎖であることが好ましい。具体的には、上述した炭素数１〜１０のアルキル基としての具体例が挙げられる。
Ｒ²⁵、Ｒ²⁶が炭素数１〜２４のアシル基（ハロゲン原子および水酸基から選択される１以上で置換されてもよい）である場合には、好ましくは炭素数１〜２１、特に好ましくは炭素数１〜１８のアシル基を選択する。また、飽和アシル基であっても不飽和アシル基であってもよいが、飽和アシル基であることが好ましく、具体的にはホルミル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、モノクロロアセチル基、ベンゾイル基、オクタデカノイル基、２−ヒドロキシオクタデカノイル基、２−オキソオクタデカノイル基であることが好ましい。
Ｒ²⁵、Ｒ²⁶がアミノ保護基である場合には、例えば、Protective Groups in Organic Synthesis 3rd ed.（Theodora W. Greene and Peter G. M. Wuts Ed., Wiley-Interscience: New York,1999）に記述されている基を選択でき、具体的にはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンゼンスルホニル基等のスルホニル基であることが好ましい。
一般式（２）で表されるβ−ケト−α−アミノカルボン酸エステルにおいて、Ｒ²⁵とＲ²⁶は隣接する窒素原子と一緒になって複素環を形成してもよい（複素環は１以上の水酸基で置換されてもよい）。複素環を形成する場合には、例えば、Ｒ²⁵とＲ²⁶としてフタロイル基を選択し、隣接する窒素原子と一緒にフタルイミド基を形成する。

Ｒ²⁵及びＲ²⁶としては、Ｒ²⁵及びＲ²⁶のうち一方が置換基を有してもよい炭素数１〜２４のアシル基であり、且つ、他方が水素であるか、又は、Ｒ²⁵とＲ²⁶は隣接する窒素原子と一緒になって複素環を形成しているのが好ましい。
より好ましくは、Ｒ²⁵及びＲ²⁶のうち一方がハロゲン原子若しくは水酸基で置換されてもよい炭素数１〜２４のアシル基であり、且つ、他方が水素であり、この場合、ハロゲン原子若しくは水酸基で置換されてもよい炭素数１〜２４のアシル基としては脱保護の容易性からホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、オクタデカノイル基が好ましい。

化合物（２）の製造法としては、例えばβ―ケトエステルを亜硝酸ナトリウムで処理し、α位をオキシム化し、オキシムのみを還元してアミノ基とするなど既知の方法で製造することが可能である。

＜光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステル＞
一般式（３）又は（４）で表される光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルにおいて、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵及びＲ²⁶の定義は上述の定義と同じである。
一般式（３）、（４）において＊は不斉炭素原子を表す。化合物（３）または（４）は２つの不斉炭素原子を有するので、２種類のジアステレオマーが存在する。化合物（３）または（４）のような相対立体配置を有する化合物をアンチ体といい、もう一方のジアステレオマーをシン体といい、下記一般式（５）または（６）；

（式中、＊は不斉炭素原子を示し、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶は前記と同じ。）で表すことができる。
本発明は、光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステル、特に一般式（３）又は（４）で表されるアンチ体の光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルを得る方法であるが、さらに特別には、化粧品成分として有用である光学活性セラミドの重要中間体であることの理由からアンチ体でも、一般式（４）を選択的に得ることが望ましい。

＜β−ヒドロキシ−α−アミノカルボン酸エステルを製造する方法＞
本発明は、一般式（１）で表されるルテニウム錯体（以下単にルテニウム錯体ともいう）を触媒として用いて、一般式（２）で表される化合物の不斉還元反応を行い、一般式（３）または一般式（４）で表される化合物を製造する方法に関する。但し、本発明においては化粧品成分として有用である天然型立体配置を有する光学活性セラミドの重要中間体であるとの理由からアンチ体のうち一般式（４）であらわされる化合物をより選択的に製造することができる。本発明の製造方法においては、一般式（１）で表されるルテニウム錯体と、一般式（２）で表される化合物と、水素供与体とを含む反応溶液を作製し、これを例えば加熱等して反応させることによって生じる不斉還元反応により、一般式（３）または一般式（４）で表される化合物を得ることができる。なお、反応溶液を作製する際にこれらの材料を添加する順序は任意である。また、当該製造方法において、水素供与体を一括添加して反応させてもよいし、連続的、または断続的に添加しながら反応させてもよい。また適宜、一般式（１）で表されるルテニウム錯体以外の一般的な触媒を別途含んでいてもよい。

また、本発明の製造方法においては、一般式（３）又は（４）で表される光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルのうち一般式（４）で表される（２Ｒ，３Ｒ）体を主生成物として得やすく、さらに、（２Ｒ，３Ｒ）体：（２Ｓ，３Ｒ）体の生成比率が８５：１５〜１００：０、より好ましくは９５：５〜１００：０とすることができる。
つまり、この製造方法においては、高い立体選択性のもと、アンチ体の光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルを得ることができる。
以下に、詳細な条件について説明する。

本発明の製造方法で用いるルテニウム錯体の量は、一般式（２）で示されるβ-ケト-α-アミノカルボン酸エステルに対してモル比で１〜１／１０００００であることが一般的であるが、本発明においては、１／２５０〜１／１００００、さらに１／５００〜１／１００００であっても、十分に上記反応を簡単に完了することができる。

本発明の製造方法で用いる水素供与体は、反応中に一般式（２）で示されるβ-ケト-α-アミノカルボン酸エステルに水素を供与できるものであれば制限されない。ここで、水素供与体としては、水素化ホウ素化合物等の金属水素化物やギ酸又はその塩、イソプロパノール等の水素移動型還元反応において、水素供与体として一般的に用いられるようなものを用いることができ、具体的にはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等のアルコール、ギ酸、ギ酸ナトリウム、ギ酸アンモニウム、水素等を用いることができる。その使用量としては、ヒドリド換算で触媒に対して等モル量以上であればよい。また水素ガスも水素供与体として用いることができるが、反応活性を鑑みてβ−ケト−α−アミノカルボン酸エステルに対して１〜１００当量、特に１〜１０当量であることが好ましい。また、取り扱いの容易さからギ酸又は水素を用いることが好ましく、ギ酸を用いることが最も好ましい。
反応圧力は特に限定されず、通常０．０５〜０．２ＭＰａ、好ましくは常圧のもとで行われる。
また、水素供与体として水素ガスを用いる場合は通常５ＭＰａ以下であることが好ましい。

本発明の製造方法では、反応の際、塩基を共存させることが好ましい。本反応に用いる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、tert−ブトキシナトリウム等のアルコキシド、アンモニア、炭素数３〜３０の有機アミン類などの塩基を加えることができるが、取り扱いの容易さから炭素数３〜３０、好ましくは炭素数６〜２４の有機アミン類を加えることが好ましい。有機アミン類としては具体的にはトリエチルアミン、トリブチルアミン（例えばｎ−トリブチルアミン）、ジイソプロピルエチルアミン、イソプロピルジメチルアミン、トリメチルアミン、ｎ−トリオクチルアミン、ｉｓｏ−トリオクチルアミン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ-5-エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等があげられ、好ましくはトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ｎ−トリオクチルアミン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ-5-エン、2,6-ルチジン、モルホリン、１−エチルピペリジン、１−メチルピペリジン、ジシクロへキシルメチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリンなどが挙げられ、より好ましくはトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロへキシルメチルアミンが挙げられる。共存させる塩基の量は特に限定されないが、式（２）で表されるβ−ケト−α−アミノカルボン酸エステルに対して１〜１００当量、好ましくは１〜１０当量である。また、複数の塩基を混合して使用することもでき、この場合混合比は特に限定されない。

上記水素供与体と塩基との組み合わせの中で、水素供与体がギ酸の場合には有機アミンを塩基として用いるのが特に好ましく、この場合、ギ酸とアミンは別々に反応系に添加しても良いが、あらかじめギ酸と有機アミンの共沸混合物を調製して用いてもよい。好ましいギ酸と有機アミンの共沸混合物としては、例えば、ギ酸トリエチルアミン（５：２）共沸混合物などが挙げられる。

本製造方法における反応温度は、−２０℃〜１８０℃、好ましくは０℃〜１２０℃であり、更に好ましくは３０℃〜１００℃である。反応温度が低すぎると反応完結までの時間がかかったり未反応の原料が多く残存する場合があり経済的ではなく、また高すぎると、原料、触媒等の分解が起こる場合があり、好ましくない。従って、本発明の製造方法では反応溶液を適宜加熱することができる。反応溶液を０℃〜１２０℃に設定することによって上記不斉還元反応を３０分〜７２時間で完了させることができ、特に３０〜１００℃に設定することによって上記不斉還元反応を２時間から４８時間で完了させることができる。加熱温度と反応時間との調整は、得られる光学活性体に応じてなされうる。さらに特別には反応条件を適切に設定することで、反応時間を２０時間以内、特に１０時間以内とすることが可能である。

反応では通常、水素供与体が液体であればそれを反応溶媒として利用できるが、原料を溶解させるために、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、塩化メチレン等の非水素供与性溶媒を単独又は混合して助溶媒として使用することも可能である。ギ酸塩を用いる時などは、ギ酸塩を溶解させるため水を助溶媒として有機溶媒と併せて用い二層系で反応を行うこともできる。
この場合、反応を加速させるため相間移動触媒を併せて用いても良い。また、水素ガスを用いる場合はメタノール、エタノール、イソプロパノール、トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロ−２−プロパノール等のアルコール溶媒が好ましい。
具体的には反応溶媒は、反応を阻害しない溶媒であれば特に制限はないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトニトリル等のニトリル、ジエチルエーテル、ジイソプルピルエーテル、メチルシクロペンチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素が上げられる。好ましくは、ヘプタン、シクロヘキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、クロロベンゼンが好ましい。より好ましくはテトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルでありうる。
これら溶媒の２種類以上の混合溶媒を用いる場合、混合割合に特に制限はない。溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができる。反応は必要に応じ撹拌下に行われる。

また、本反応においてアンチ：シン比を向上させるために、基質の溶液を、触媒を溶解させた溶液に長時間かけて滴下して反応させることが有効である。このとき基質を溶解させる溶媒は前述したものと同じであり、また反応に用いるギ酸やアミン類は初めから触媒の溶液に加えておいても良いし、基質の溶液に混合し同時に滴下しても良い。基質を滴下するのに要する時間は反応の終了までに要する時間のうちであり特に制限は無いが、１時間から６０時間、好ましくは５時間から１５時間である。

反応溶液中の一般式（２）で表されるβ−ケト−α−アミノカルボン酸エステルの濃度は、例えば、１００〜０．１％（ｗ／ｖ）、好ましくは１００〜１０％（ｗ／ｖ）であるが、特に限定されない。また、用いる反応溶媒によって濃度を適宜変更することができる。
反応終了後は、抽出、濾過、結晶化、蒸留、各種クロマトグラフィー等、通常用いられる精製法を単独又は適宜組み合わせることにより目的のβ−ヒドロキシ−α−アミノカルボン酸エステルを得ることができる。
なお、当該反応不斉還元反応終了後は反応液の濃縮又は貧溶媒の添加等の一般的な晶析手法により、目的とするルテニウム錯体を分離することができる。また、上記の調製において、ハロゲン化水素塩が副生する場合には、必要に応じて水洗の操作を行っても良い。
この際、本発明においては使用する一般式（１）で表されるルテニウム錯体の量が非常に低量であるため、当該操作は容易である。

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下の実施例等における錯体の同定及び純度決定に用いたＮＭＲスペクトルは、バリアンテクノロジージャパンリミテッド製Mercury Plus 300 4N型装置、又はBruker BioSpin Avance III 500 Systemで測定した。また、ＧＣ分析は、Chirasil-DEX CB(0.25mm×25m, 0.25μｍ)（バリアン社製）、InertCapPure-WAX(0.25mm×30m, 0.25μm)（ジーエルサイエンス社製）を、ＨＰＬＣ分析はCHIRALCEL OJ-H(0.46mm×25cm)（ダイセル社製）、ODS-3V(４．６ｍｍ×２５ｃｍ, ５μｍ)（ジーエルサイエンス社）CHIRALPAK AD(4.6mm×25cm)を用いて測定した。

なお、実施例中の記号は以下の意味を表す。
ＴｓＤＰＥＮ：Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン；
ＴＩＰＰｓＤＰＥＮ：Ｎ−（２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン
ｏ−ＴＦＴｓＤＰＥＮ：Ｎ−（２―トリフルオロメチルベンゼンスルホニル）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン
ＭＥＳｓＤＰＥＮ：Ｎ−（２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニル）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン
ＴｓＣＹＤＮ：Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）−１，２−シクロヘキサンジアミン
ＤＩＰＥＡ：ジイソプロピルエチルアミン
ＤＰＰＥ：ジフェニルホスフィノエタン
ただし、錯体中でのジアミンは、ジアミンの１個又は２個の水素原子が脱離したものを表す。
Ｓ/Ｃは、基質モル数／触媒モル数の値を表す。
以下の合成１〜合成９は、一般式（１）で表されるルテニウム錯体を得るための合成方法を示す。

[合成１]
Ｎ−［（１Ｒ，２Ｒ）−１，２−ジフェニル−２−（２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）エチルアミノ）エチル］−４−メチルベンゼンスルホンアミド（N-((1R,2R)-1,2-diphenyl-2-(2-(tetrahydro-2H-pyran-2-yloxy)ethylamino)ethyl)-4-methylbenzenesulfonamide）の製造
次に示す反応により目的の化合物（Ｂ）を製造した。

５０ｍｌシュレンク管に、（Ｒ，Ｒ）−ＴｓＤＰＥＮ ５．０ｇ（１３．６５ｍｍｏｌ）と、アルキルブロマイド（Ａ）２．８５ｇ（２．０７ｍｌ）（１３．６５ｍｍｏｌ）とをＤＭＳＯ １０ｍｌに混合し、６０℃で２９時間反応させた。その後、反応混合物にジクロロメタン５０ｍｌと飽和ＮａＨＣＯ₃水溶液５０ｍｌを入れ攪拌した後、有機層を分液し５０ｍｌの飽和ＮａＨＣＯ₃水溶液でさらに２回洗浄した。ジクロロメタンを回収し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して目的である化合物（Ｂ）を４．９４ｇ（７２％収率）得た。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ：
1.43-1.80(m, 6H), 2.32(s, 3H), 2.42-2.70(m, 2H), 3.40-3.55(m, 2H), 3.70-3.85(m, 2H) ,3.77(d, 1H), 4.30(m, 1H), 4.45 (d, 1H), 6.93-7.38(m, 14H)

［合成２］
Ｎ−［（１Ｒ，２Ｒ）−２−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−１，２−ジフェニルエチル］−４−メチルベンゼンスルホンアミド（N-((1R,2R)-2-(2-hydroxyethylamino)-1,2-diphenylethyl)-4-methylbenzenesulfonamide）の製造
次に示す反応により目的のジアミン（Ｃ）を製造した。

前記合成１で得られた化合物（Ｂ）５．６９ｇにエタノール１３５ｍｌ、及び１Ｍ ＨＣｌ水溶液３４．５ｍｌを加え４０℃で２時間反応させた。その後、反応混合物にＮａＨＣＯ₃を３．４５ｇ加え、溶液を中和した後、水７５ｍｌとジエチルエーテル１５０ｍｌを加え分液した。その後水５０ｍｌを加えエバポレーターでエーテルを除去することで、白色の結晶が析出した。氷冷した後、ろ過し、ろ物を水で洗浄後、減圧下、７０℃にて乾燥することにより目的のジアミン（Ｃ）を４．３３ｇ（９２％収率）得た。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ：
2.31(s, 3H), 2.50-2.62(m, 2H), 3.58-3.75(m, 2H), 3.79(d, 1H), 4.40(d, 1H), 6.82-7.41(m, 14H)

［合成３］
（４−メチルシクロヘキサ−１，４−ジエニル）メタノール（(4-methylcyclohexa-1,4-dienyl)methanol）の製造
次に示す反応により目的の化合物（Ｆ）を製造した。

５００ｍＬ四つ口フラスコ内に、ＣｏＢｒ₂ １．７３ｇ（７．９３ｍｍｏｌ）、ＺｎＩ₂ ８．４ｇ（２６．３ｍｍｏｌ）、ＤＰＰＥ ３．４７ｇ（８．８ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン３７０ｍｌを仕込んだ後、窒素置換を行い、３０℃で３０分攪拌した。その後、イソプレン７８ｍｌ（５３．１ｇ，７８０ｍｍｏｌ）、プロパルギルアルコール４１ｍｌ（３９．３ｇ，７０１ｍｍｏｌ）、及びＢｕ₄ＮＢＨ₄ ２．２ｇ（８．５３ｍｍｏｌ）を投入し、３０℃で７時間反応させ、その後ジクロロメタン溶液を回収し、１６０℃にて減圧蒸留し、目的のジエン混合物（Ｆ）を２７．７ｇ（３２％収率）得た。この混合物中の目的のジエンのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）による純度は約９８％であった。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ：
1.67(s, 3H), 2.55-2.70(m, 4H), 4.02 (s, 2H), 5.44(m, 1H), 5.68(m, 1H)

［合成４］
［ＲｕＣｌ₂（１−（ブロモメチル）−４−メチルベンゼン）］₂（［ＲｕＣｌ₂(1-(bromomethyl)-4-methylbenzene)］₂）の製造
次に示す反応により目的の錯体化合物（Ｇ）を製造した。

前記合成３で得られたジエン（Ｆ）４．７５ｇ（３８．２ｍｍｏｌ）と三塩化ルテニウム・三水和物２．０ｇ（７．６５ｍｍｏｌ）、及びＮａＨＣＯ₃ ０．６４３ｇ（７．６５ｍｍｏｌ）を２−メトキシエタノール４０ｍｌと水４ｍｌに溶解させ、１３０℃にて１．５時間反応させた。その後エバポレーターで溶媒を留去した残渣に、濃臭化水素酸水溶液５２ｍｌと濃硫酸４ｍｌを加え１００℃で４時間撹拌した。反応後の溶液にジクロロメタンと水、２−メトキシエタノールを加えて攪拌、静置した後に析出した結晶をろ過することにより目的錯体（Ｇ）を１．９ｇ（７９％収率）得た。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆，３００ＭＨｚ）δ：
2.23(s, 3H), 4.40(s, 2H), 5.84(d, 2H), 6.15(d, 2H)

［合成５］
ＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）の製造
次に示す反応により目的の錯体ＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）を製造した。

前記合成４で得られたアレーンダイマー（Ｇ）１．６ｇ（２．２４ｍｍｏｌ）と、合成２で製造したジアミン（Ｃ）１．５３ｇ（３．７３ｍｍｏｌ）、トリエチルベンジルアンモニウムヨージド（Ｅｔ₃ＢｎＮＩ）１．１９ｇ（３．７３ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン５２．８ｍｌ、及び水５２．８ｍｌを混合し、３５℃で攪拌したところにＫＯＨ１．７８ｇ（２６．９ｍｍｏｌ）を加えて３時間反応させた。有機層が紫色の溶液になった。静置後、水層を除去し、水５０ｍｌを加えて攪拌した後、静置して分液を行った。この分液操作を３回行ったのち、０．１Ｍ ＨＣｌ水溶液を６５ｍｌ加え３０分攪拌した。その後、ＮａＨＣＯ₃を０．０３４ｇ加え溶液を中和した後、静置し、ジクロロメタン層のみを取り出し乾固させた。これをシリカゲルカラム（溶離液：ＣＨＣｌ₃／ＭｅＯＨ＝２０／１）にて精製することにより、目的錯体であるＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）を１．１ｇ（４５％収率）得た（液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）による純度は約９５％であった）。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₂Ｃｌ₂，３００ＭＨｚ）δ：
2.25(s,3H), 2.52(s,3H), 3.13(m,1H), 3.60(m,1H), 3.80-4.00(m,4H), 4.48(d,J=15.0Hz,1H), 4.52(brs,1H), 4.95(d,J=15.0 Hz, 1H), 5.45(d,J=5.2Hz,1H), 5.75(d,J = 6.2 Hz,1H), 6.05(d,J=5.2 Hz,1H), 6.60 (d,J=6.9 Hz,2H), 6.65-6.70(m,4H) , 6.88(d,J = 8.0 Hz,2H), 7.08-7.18(m,4H), 7.23(d,J=8.0 Hz,2H)
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₃₁Ｈ₃₃Ｎ₂Ｏ₃ＲｕＳとして、
計算値：［Ｍ−Ｃｌ］⁺ ６１５．１２５８
実測値： ６１５．１２５８

［合成６］
２−（（４−メチルシクロヘキサ−１，４−ジエニル）メトキシ）エタノール及び２−（（５−メチルシクロヘキサ−１，４−ジエニル）メトキシ）エタノール(2-((4-methylcyclohexa-1,4-dienyl)methoxy)ethanol及び2-((5-methylcyclohexa-1,4-dienyl)methoxy)ethanol)の製造

１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン７．７４ｇ（０．０１９ｍｏｌ）、臭化コバルト４．０５ｇ（０．０１９ｍｏｌ）、ヨウ化亜鉛１１．８２ｇ（０．０３７ｍｏｌ）、亜鉛２．４２ｇ（０．０３７ｍｏｌ）をＴＨＦ４６０ｍｌに溶解し、７０℃で１５分攪拌した。室温まで冷却し、イソプレン７４．８９ｇ（１．１０ｍｏｌ）を加えた後、水浴下、アルキンアルコール９２．７０ｇ（０．９３ｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。３５℃で１時間攪拌した後、溶媒を減圧留去し得られた残渣にトルエン４６０ｍｌ、水４６０ｍｌを加えた（攪拌１０分、静置１０分）。窒素雰囲気下、セライトろ過後、得られた溶液を分液した。溶媒を減圧留去し得られた粗生成物をクライゼン蒸留（１０１〜１１３℃／３ｔｏｒｒ）で精製することにより１０６．６ｇのジエンアルコールを無色油状物質として得た。収率６８．５％（１，４ｔｙｐｅ／１，５ｔｙｐｅ＝９１／９）。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ：
1.68 (s, 3H) , 2.31 (brs, 1H), 2.64 (brs, 4H), 3.48 - 3.52 (m, 2H), 3.70 - 3.75 (m, 2H), 3.93 (s, 2H), 5.43 - 5.45 (m, 1H), 5.70 - 5.71 (m, 1H);
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₁₀Ｈ₁₆Ｏ₂として、
計算値：［Ｍ＋Ｈ］⁺ １６７．１４３０
実測値： １６７．１４３２

［合成７］
２−（（４−メチルシクロヘキサ−１，４−ジエニル）メトキシ）エチル ４−メチルベンゼンスルホナート及び２−（（５−メチルシクロヘキサ−１，４−ジエニル）メトキシ）エチル ４−メチルベンゼンスルホナート(2-((4-methylcyclohexa-1,4-dienyl)methoxy)ethyl 4-methylbenzenesulfonate及び2-((5-methylcyclohexa-1,4-dienyl)methoxy)ethyl 4-methylbenzenesulfonate)の製造

合成６で得られたジエンアルコール１００．００ｇ（０．５９ｍｏｌ）、トリエチルアミン９０．２９ｇ（０．８９ｍｏｌ）、１−メチルイミダゾール７３．２０ｇ（０．８９ｍｏｌ）、をトルエン４００ｍｌに溶解した。氷浴下、ｐ−トルエンスルホニルクロリド１３０．３３ｇ（０．６８ｍｏｌ）のトルエン溶液（４００ｍｌ）をゆっくりと滴下した後、室温で１時間攪拌した。水を加え分液し、得られた有機層を１５％硫酸、水、飽和重曹水の順に洗浄した。溶媒を減圧留去し、目的とするトシレート１８８．０１ｇを無色油状物質として得た。収率９８．１％（１，４ｔｙｐｅ／１，５ｔｙｐｅ＝９１／９）。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ ＭＨｚ）δ：
1.67 (s, 3H), 2.44 (s, 3H), 2.58 (brs, 4H), 3.58 - 3.55 (m, 2H), 3.84 (s, 2H), 4.18 - 4.14 (m, 2H), 5.41 - 5.40 (m, 1H), 5.64 - 5.63 (m, 1H), 7.33 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.80 (d, J = 8.3 Hz, 1H);
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₁₇Ｈ₂₂Ｏ₄Ｓとして、
計算値：［Ｍ＋Ｈ］⁺ ３２３．１３１２
実測値： ３２３．１３２５

［合成８］
２，４，６−トリイソプロピル−Ｎ−（（１Ｒ，２Ｒ）−２−（２−（（４−メチルシクロヘキサ−１，４−ジエニル）メトキシ）エチルアミノ）−１，２−ジフェニルエチル）ベンゼンスルホンアミド(2,4,6-triisopropyl-N-((1R,2R)-2-(2-((4-methylcyclohexa-1,4-dienyl)methoxy)etheylamino)-1,2-diphenylethy)benzenesulfonamide)の製造

前記合成７で得られたトシレート６．０３ｇ（１８．８２ｍｍｏｌ）をトルエン２５ｍｌに溶解し、ＤＩＰＥＡ２．４３ｇ（１８．８２ｍｍｏｌ）、（Ｒ，Ｒ）−ＴＩＰＰｓＤＰＥＮ９．００ｇ（１８．８０ｍｍｏｌ）を加え、１３５℃で１３時間攪拌した。その後溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝２０／１→１５/ｌ）で精製することにより表題化合物１０．５３ｇを無色油状物質として得た。収率８９．０％。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，３００ＭＨｚ）δ：
1.06(d, J = 6.9Hz, 3H), 1.21(d, J = 6.9Hz, 3H), 1.87（brs, 1H), 1.68(s, 3H), 2.60(brs, 4H), 2.71-2.48(m, 2H), 3.52-3.34(m, 2H), 3.55(d, J = 8.9Hz, 1H), 3.77(s, 2H), 3.95(septet, J = 6.7Hz, 3H), 4.40(d, J = 8.9Hz,1H), 5.44(m, 1H), 5.64(m, 1H),6.52(brs, 1H), 6.74-7.28(m, 12H);
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₃₉Ｈ₅₃Ｎ₂Ｏ₃Ｓとして、
計算値：［Ｍ＋Ｈ］⁺ ６２９．３７７１
実測値： ６２９．３７７１

［合成９］
ＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴＩＰＰｓＤＰＥＮ）の製造

前記合成８で得られたスルホンアミド２．０２ｇ（３．２１ｍｍｏｌ）をメタノール８ｍｌに溶解した。氷冷下で１Ｍ塩酸のメタノール溶液０．６７ｇ（６．４２ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２０分間攪拌した。その後、溶媒を減圧留去し得られた残渣を３−メトキシプロパノール３０ｍｌ、水１８ｍｌに溶解した。三塩化ルテニウム・三水和物０．７２ｇ（２．７５ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で１時間攪拌した。溶媒を減圧留去し得られた残渣にＩＰＡ３５ｍｌ、トリエチルアミン０．７２ｇ（７．１５ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。溶媒を減圧留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９７／３→２０／１）で精製することにより目的とするＲｕ錯体１．２８ｇを得た。収率５２．３％。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₂Ｃｌ₂，５００ＭＨｚ）δ：
1.0-1.2 (m, 18H), 1.70(m, 1H), 2.41(s, 3H), 2.60(m, 1H), 3.05(m, 1H), 3.35(m, 1H),3.68(m, 1H), 3.75(t, 1H), 3.85(m, 2H), 4.18(d, 1H), 4.25(d, 1H), 4.85(brs, 1H), 5.02(d, 1H), 5.30(d, 1H), 5.48(d, 1H), 5.63(d, 1H), 6.35(d, 1H), 6.40-6.70(m, 10H), 6.90-7.05(m, 3H);
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₃₉Ｈ₅₀Ｎ₂Ｏ₃ＳＣｌＲｕとして、
計算値：［Ｍ＋Ｈ］⁺ ７６３．２２６９
実測値： ７６３．２２５７

［合成１０］
Ｎ−（（１Ｒ，２Ｒ）−２−（２−（（４−メチルシクロヘキサ−１，４−ジエニル）メトキシ）エチルアミノ）−１，２−ジフェニルエチル）−２−（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホンアミド塩酸塩の製造

前記合成７で得られたトシレート８．０７ｇ（２６．１ｍｍｏｌ）をトルエン３１．６ｍｌに溶解し、ＤＩＰＥＡ３．３８ｇ（２６．２ｍｍｏｌ）、（Ｒ，Ｒ）−ｏ−ＴＦＴｓＤＰＥＮ１０．００ｇ（２３．８ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム４．３４ｇ（２６．２ｍｍｏｌ）を加え、１３５℃で６時間攪拌した。反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事により、ジアミンを１０．１ｇ得た（収率７４．５％）。その後、ジアミン１０．１ｇ（１７．７ｍｍｏｌ）に対して、ジクロロメタン１１０ｍｌ、ＨＣｌメタノール溶液（１Ｎ）６５．３ｍｌを加えて、０．５時間攪拌した後、溶媒を除去することにより目的とするジアミン塩酸塩を１１．１ｇ得た。収率９３．９％。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）δ：
1.62(m, 3H), 2.60(s, 3H), 2.78-3.12(m, 2H), 3.52-3.70(m, 2H), 3.86(s, 2H) ,4.75(m, 1H), 4.92(m, 1H), 5.40(m, 1H), 5.68(m, 1H), 6.75-7.35(m, 10H), 7.40(t, 1H), 7.50(t, 1H), 7.60(d, 1H), 7.75(d, 1H), 8.90(m, 1H), 8.98(brd, 1H), 9.92(brd, 1H);¹⁹Ｆ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：-57.16;
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₃₁Ｈ₃₃Ｎ₂Ｏ₃Ｆ₃Ｓ・ＨＣｌとして、
計算値：［Ｍ−Ｃｌ］⁺ ５７１．２２３７
実測値： ５７１．２２４４

［合成１１］
ＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ｏ−ＴＦＴｓ−ＤＰＥＮ）の製造

合成１０で製造したジアミン塩酸塩５．０ｇ（８．２５ｍｍｏｌ）、を３−メトキシプロパノール６６ｍｌ、水２２ｍｌに溶解した。三塩化ルテニウム・三水和物１．７９ｇ（６．８６ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム０．５８ｇ（６．８６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で２時間攪拌した。３−メトキシプロパノールを５０ｍｌ回収後、ＭＩＢＫ７５ｍｌ、トリエチルアミン２．７８ｇ（２７．４５ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。０．３Ｍ塩酸を加え分液し、得られた有機層を２回水洗した。溶媒を約６０ｍｌ回収して、ヘプタン８５ｍｌを加え晶析を行った。析出した結晶をろ取し、目的とするＲｕ錯体４．６０ｇを得た。収率９５．２％。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₂Ｃｌ₂，３００ＭＨｚ）δ：
2.50 (s, 3H), 3.15 - 3.20 (m, 1H), 3.70 - 3.82 (m, 2H), 4.00 (m, 2H), 4.15 (m, 1H), 4.40 (m, 1H), 4.80 (m, 1H), 5.10 (d, 1H), 5.45 (d, 1H), 5.62 (d, 1H), 5.70 (d, 1H), 6.38 (d, 1H), 6.50-7.50(m, 14H);
¹⁹Ｆ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：
-58.45
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₃₁Ｈ₃₀ＣｌＮ₂Ｏ₃Ｆ₃ＲｕＳとして、
計算値：［Ｍ＋Ｈ］⁺ ７０５．７０３４
実測値： ７０５．０７５８

［合成１２］
２，４，６−トリメチル−Ｎ−（（１Ｒ，２Ｒ）−２−（２−（（４−メチルシクロヘキサ−１，４−ジエニル）メトキシ）エチルアミノ）−１，２−ジフェニルエチル）ベンゼンスルホンアミドの製造

前記合成７で得られたトシレート１．０ｇ（３．０ｍｍｏｌ）をトルエン５ｍｌに溶解し、ＤＩＰＥＡ０．３９ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、（Ｒ，Ｒ）−ＭＥＳｓＤＰＥＮ１．３ｇ（３．３ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で８時間攪拌した。その後溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝４／１）で精製することにより表題化合物０．７１ｇを無色油状物質色として得た。収率４４．７％。

［合成１３］
ＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＭＥＳｓ−ＤＰＥＮ）の製造

合成１２で得られたスルホンアミド０．６７ｇ（１．２ｍｍｏｌ）をメタノール５ｍｌに溶解した。氷冷下で１Ｍ塩酸のメタノール溶液０．２５ｇ（２．４ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２０分間攪拌した。その後、溶媒を減圧留去し得られた残渣を２−メトキシエタノール２０ｍｌ、水２ｍｌ、炭酸水素ナトリウム０．０９ｇ（１．２ｍｍｏｌ）に溶解した。三塩化ルテニウム・三水和物０．３６ｇ（１．３５ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で３時間攪拌した。溶媒を減圧留去し得られた残渣にエタノール４０ｍｌ、トリエチルアミン０．５ｇ（４．９４ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２時間攪拌した。溶媒を減圧留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝２０／１）で精製することにより目的とするＲｕ錯体０．１３ｇを得た。収率１６．０％。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₂Ｃｌ₂，５００ＭＨｚ）δ：
1.95 (s, 3H), 2.45(s, 6H), 2.46(s, 3H), 3.05(m, 1H), 3.70(m, 1H), 3.80(d, 1H), 3.85(m, 2H), 3.95(d, 1H), 4.25(d, 1H), 4.75(m, 1H), 5.00(d, 1H), 5.40(d, 1H), 5.50(d, 1H), 5.60(d, 1H), 6.30(s, 2H), 6.53(d, 1H), 6.40-7.00(m, 10H);
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₃₃Ｈ₃₇ＣｌＮ₂Ｏ₃ＲｕＳとして、
計算値：［Ｍ＋Ｈ］⁺ ６７９．１３３５
実測値： ６７９．１３２７

［合成１４］
４−メチル−Ｎ−（（１Ｒ，２Ｒ）−２−（２−（（４−メチルシクロヘキサ−１，４−ジエニル）メトキシ）エチルアミノ）シクロヘキシル）ベンゼンスルホンアミド塩酸塩の製造

前記合成７で得られたトシレート５．０６ｇ（１６．４ｍｍｏｌ）をトルエン２６ｍｌに溶解し、ＤＩＰＥＡ２．１２ｇ（１６．４ｍｍｏｌ）、（Ｒ，Ｒ）−ＴｓＣＹＤＮ４．００ｇ（１４．９ｍｍｏｌ）、ヨウ化カリウム２．７２ｇ（１６．４ｍｍｏｌ）を加え、１３５℃で２０時間攪拌した。反応液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事により、ジアミンを２．９２ｇ得た。収率４６．９％。その後、ジアミン２．８ｇ（６．６９ｍｍｏｌ）に対して、ジクロロメタン４２ｍｌ、ＨＣｌメタノール溶液（１Ｎ）２４．６ｍｌを加えて、０．５時間攪拌した後、溶媒を除去することにより目的とするジアミン塩酸塩を２．９ｇ得た。収率９４．７％。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，３００ＭＨｚ）δ：
0.95-1.30(m, 4H), 1.50(m, 2H), 1.63(s, 3H), 2.10(m, 2H), 2.40(s, 3H), 2.60(m, 2H), 2.95(brd, 1H), 3.18(m, 2H), 3.60(m, 2H), 3.90(s, 2H), 5.40(m, 1H), 5.70(m, 1H), 7.40(d, 1H), 7.75(d, 1H), 8.15(d, 1H), 8.23(brd, 1H), 9.10(brd, 1H)
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₂₃Ｈ₃₄Ｎ₂Ｏ₃Ｓとして、
計算値：［Ｍ−Ｃｌ］⁺ ４１９．２３６３
実測値： ４１９．２３６５

［合成１５］
ＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−Ｔｓ−ｃｙｄｎ）の製造

合成１４で合成したジアミン塩酸塩０．５ｇ（１．１ｍｍｏｌ）、を３−メトキシプロパノール１５ｍｌ、水３ｍｌに溶解した。三塩化ルテニウム・三水和物０．２５ｇ（０．９６ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム０．０８ｇ（０．９６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で１時間攪拌した。３−メトキシプロパノールを１２ｍｌ回収後、ＭＩＢＫ１３ｍｌ、トリエチルアミン０．３９ｇ（３．８２ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。０．３Ｍ塩酸を加え分液し、得られた有機層を２回水洗した。溶媒を約１０ｍｌ回収して、ヘプタン１５ｍｌを加え晶析を行った。析出した結晶をろ取し、目的とするＲｕ錯体０．２４ｇを得た。収率４５．５％。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₂Ｃｌ₂，５００ＭＨｚ）δ：
0.65-1.05 (m, 4H), 1.90 (m, 1H), 1.15 (m, 1H), 2.08 (m, 1H), 2.70 (m, 1H), 2.75 (s, 1H), 2.77 (s, 1H), 2.60 (m, 1H), 3.60-3.70 (m, 2H), 3.80 (m, 1H), 4.00 (m, 1H), 4.25 (m, 1H), 4.35 (d, 1H), 4.92 (d, 1H), 5.25 (d, 1H), 5.50 (d, 1H), 5.67 (d, 1H),5.83 (d, 1H), 7.20 (d, 1H), 7.80 (d, 1H);
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：
Ｃ₂₃Ｈ₃₁Ｎ₂Ｏ₃ＲｕＳとして、
計算値：［Ｍ−Ｃｌ］⁺ ５１７．１０９３
実測値： ５１７．１１０１

［実施例１］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成５で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）（６．５ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（０．９３ｇ，２．５０ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン（４．６ｍｌ）の溶液にトリエチルアミン（０．７５８ｇ，７．５ｍｍｏｌ）とギ酸（０．３４５ｇ，７．５ｍｍｏｌ）を加え、90℃に加熱し、６時間撹拌を続けた。一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は９９％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝９０．５：９．５であった。
20℃まで冷却した後、水洗を行い、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下回収し、標題化合物を得た。得られた粗生成物を標品と比較分析した結果、標題化合物の含有量は０．８８ｇ、収率９５％であった。またアンチ体の光学純度は９７％eeであった。

［実施例２］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成９で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴＩＰＰｓＤＰＥＮ）（７．６ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（０．９３ｇ，２．５０ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン（４．６ｍｌ）の溶液にトリエチルアミン（０．７５８ｇ，７．５ｍｍｏｌ）とギ酸（０．３４５ｇ，７．５ｍｍｏｌ）を加え、90℃に加熱し、６時間撹拌を続けた。一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は７０％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝９２．５：７．５であった。また、アンチ体の光学純度は９７％ｅｅであった。

［比較例］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
ＲｕＣｌ[（Ｒ，Ｒ）ＴｓＤＰＥＮ）]（ｐ−ｃｙｍｅｎｅ）錯体（６．４ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（０．９３ｇ，２．５０ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン（４．６ｍｌ）の溶液にトリエチルアミン（０．７５８ｇ，７．５ｍｍｏｌ）とギ酸（０．３４５ｇ，７．５ｍｍｏｌ）を加え、90℃に加熱し、６時間撹拌を続けた。一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は６５％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝８１．５：１８．５であった。また、アンチ体の光学純度は９７％ｅｅであった。
実施例１及び２並びに比較例の結果を表１に示した。

ここで、本明細書中で、Ｄｅは(アンチ体−シン体)／（アンチ体＋シン体）の質量割合を示す。

実施例１及び２と比較例の内容から、反応条件（s/c、温度、反応時間）が同じである場合に、本願発明で使用するルテニウム錯体を選択することにより、顕著に転化率が上がることが分かった。また、高い立体選択性のもとアンチ体を得られることも分かった。

［実施例３〜５］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成５で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）（６．５ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（０．９３ｇ，２．５０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（４．６ｍｌ）の溶液に、それぞれ異なるアミンを加え、さらにギ酸（０．３４５ｇ，７．５ｍｍｏｌ）を加え、３０℃で２０時間撹拌を続けた。
結果を表２に示した。

Et₃N：トリエチルアミン
nBu₃N：トリ-n-ブチルアミン
EtN(iPr)₂：ジイソプロピルエチルアミン

実施例３〜５において、第３級有機アミンを用いることで、穏やかな温度条件（30℃）であっても、比較的短い反応時間（20時間）で反応を完了させることができ、かつ、高いアンチ：シン比を達成できることが分かった。

［実施例６〜１５］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成５で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）（５．２ｍｇ，０．００８ｍｍｏｌ）、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（１．４８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１４．８ｍｌ）の溶液に、それぞれ異なるアミンを加え、さらにギ酸（０．５５２ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２０時間撹拌を続けた。
結果を表３に示した。

1-Me-pyrrolidine：１−メチルピロリジン
(i-Oct)₃N：トリ-iso-オクチルアミン
iPrMe₂N：イソプロピルジメチルアミン
1-Et-piperidine：１−エチルピペリジン
1-Me-piperidine：１−メチルピペリジン
Cy₂MeN：ジシクロヘキシルメチルアミン

このように実施例６〜１５において、様々な、第１級、第２級、もしくは第３級有機アミンを用いることで、実施例３〜５よりやや高い温度条件（60℃）にすることにより、基質触媒比(S/C)が５００という少ない触媒量の条件であっても、比較的短い反応時間（20時間）で反応を完了させることができ、かつ、比較的高いアンチ：シン比を達成できることが分かった。

［実施例１６］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成５で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）（２．６ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）(Ｓ/Ｃ＝１，０００)、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（１．４８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、酢酸エチル（１４．８ｍｌ）の溶液に、トリエチルアミン（１．２１ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、さらにギ酸（０．５５２ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２０時間撹拌を続けた。一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は９７％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝８８．３：１１．７であった。

［実施例１７］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成５で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）（２．６ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）(Ｓ/Ｃ＝１，０００)、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（１．４８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、酢酸メチル（１４．８ｍｌ）の溶液に、トリエチルアミン（１．２１ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、さらにギ酸（０．５５２ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２０時間撹拌を続けた。一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は９４％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝８８．５：１１．５であった。

実施例１６、１７のように、酢酸エチルや酢酸メチルなどの適切な溶媒を用い、６０℃という温度条件で反応させることにより、基質触媒比(S/C)が１,０００という非常に少ない触媒量の条件であっても、比較的短い反応時間（20時間）で反応を完了させることができ、かつ、比較的高いアンチ：シン比を達成できることが分かった。

［実施例１８］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成５で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）（２．６ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）(Ｓ/Ｃ＝１，０００)、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（１．４８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、酢酸エチル（１４．８ｍｌ）の溶液に、ジイソプロピルエチルアミン（１．５５ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、さらにギ酸（０．５５２ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２０時間撹拌を続けた。一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は１００％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝８７．８：１２．２（７５．７％ｄｅ）であった。

［実施例１９］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成５で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＴｓＤＰＥＮ）（２．６ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）(Ｓ/Ｃ＝１，０００)、ジイソプロピルエチルアミン（１．５５ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（１４．８ｍｌ）の溶液を６０℃に加温し攪拌したところに、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（１．４８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）とギ酸（０．５５２ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を５ｍｌのＴＨＦに溶解させた溶液を、１０時間かけて滴下した。そのままさらに１０時間攪拌を続け、一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は１００％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝９１．７：８．３（８３．３％ｄｅ）であった。

実施例１８、１９を比較して分かるように、実施例１９において基質の溶液を触媒の溶液に対してゆっくり滴下させることにより、実施例１８のように全ての基質を最初から触媒溶液と混合し反応させた時と比べてアンチ：シン比をさらに向上させることができることが分かった。

［実施例２０］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成１１で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ｏ−ＴＦＴｓ−ＤＰＥＮ）（２．８ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）(Ｓ/Ｃ＝１，０００)、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（１．４８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、酢酸メチル（１４．８ｍｌ）の溶液に、ジイソプロピルエチルアミン（１．５５ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、さらにギ酸（０．５５２ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２０時間撹拌を続けた。一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は９２％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝９１．０：９．０（８２．０％ｄｅ）であった。

［実施例２１］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成１３で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−ＭＥＳｓ−ＤＰＥＮ）（２．７ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）(Ｓ/Ｃ＝１，０００)、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（１．４８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、酢酸メチル（１４．８ｍｌ）の溶液に、ジイソプロピルエチルアミン（１．５５ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、さらにギ酸（０．５５２ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２０時間撹拌を続けた。一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は９５％であった。さらに２０時間攪拌を続け再びサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は１００％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝９１．６：８．４（８３．３％ｄｅ）であった。

［実施例２２］
（２Ｒ，３Ｒ）−２−アセチルアミノ−３−ヒドロキシオクタデカン酸メチルの製造
合成１５で製造したＲｕＣｌ（（Ｒ，Ｒ）−Ｏ−ＨＴ−Ｔｓ−ｃｙｄｎ）（２．７ｍｇ，０．００４ｍｍｏｌ）(Ｓ/Ｃ＝１，０００)、２−アセチルアミノ−３−オキソオクタデカン酸メチル（１．４８ｇ，４．００ｍｍｏｌ）、酢酸メチル（１４．８ｍｌ）の溶液に、ジイソプロピルエチルアミン（１．５５ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、さらにギ酸（０．５５２ｇ，１２．０ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２０時間撹拌を続けた。一部をサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は８９％であった。さらに２０時間攪拌を続け再びサンプリングし、HPLCにて分析したところ、転化率は９８％であった。またアンチ体（（２Ｒ，３Ｒ）体）とシン体（（２Ｓ，３Ｒ）体）の比率はアンチ体：シン体＝８９．０：１１．０（７８．１％ｄｅ）であった。

医薬品、機能性材料の製造原料などとして有用な光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルを選択的に製造することができる。

Claims (7)

1. 次の一般式（１）もしくは（１）'
   

   

   （式中、
   Ｒ¹は、炭素数１〜１０のアルキル基；炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基；１０−カンフォリル基；１個又は２個の炭素数１〜１０のアルキル基によって置換されていてもよいアミノ基；又はアリール基（但し、アリール基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基、アルキルアミノ基（−ＮＲ²⁰Ｒ²¹）、５員若しくは６員の環状アミノ基、アシルアミノ基（−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁰）、水酸基、アルコキシ基（−ＯＲ²⁰）、アシル基（−ＣＯ−Ｒ²⁰）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ²⁰）、フェノキシカルボニル基、メルカプト基、アルキルチオ基（−ＳＲ²⁰）、シリル基（−ＳｉＲ²⁰Ｒ²¹Ｒ²²）、およびニトロ基（−ＮＯ₂）から選択される１以上で置換されていてもよい）を示し、
   Ｒ²⁰、Ｒ²¹、及びＲ²²は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数３〜１０のシクロアルキル基を示し、
   Ｙは水素原子を示し、
   Ｘはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、水素原子、又はハロゲン原子を示し、
   Q^-はカウンターアニオンを示し、
   ｊ及びｋはそれぞれ０又は１を示すが、ｊ＋ｋが１になることはなく、
   Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立して、水素原子；炭素数１〜１０のアルキル基；フェニル基（但し、フェニル基は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、およびハロゲン原子から選択される１以上で置換されていてもよい）；又は炭素数３〜８のシクロアルキル基を示すか、又はＲ²及びＲ³が一緒になって環を形成してもよく、
   Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示し、
   Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示すか、Ｒ¹⁶とＲ¹⁷とこれらが結合している炭素原子、及び／又はＲ¹⁸とＲ¹⁹とこれらが結合している炭素原子とでカルボニル基を形成してもよく、
   Ｚは酸素原子、硫黄原子、又は、メチレンを示し、
   ｎ₁は１又は２を、ｎ₂は１から３のいずれかの整数を示し、
   ＊は不斉炭素原子を示す（但し、Ｒ²及び／又はＲ³が水素原子である場合にはその水素原子が結合した炭素原子は不斉炭素原子ではない）。）
   で表されるルテニウム錯体及び、水素供与体の存在下、下記一般式（２）
   

   

   （式中、Ｒ²³はペンタデシル基を示し、Ｒ²⁴はメチル基を示し、Ｒ²⁵ は水素を示し、Ｒ²⁶はアセチル基を示す。）で表されるβ-ケト-α-アミノカルボン酸エステルの不斉還元反応を行うことを特徴とする、下記一般式（３）または一般式（４）；
   

   

   

   （式中、＊は不斉炭素原子であることを示し、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵及びＲ²⁶は前記と同じ。）で表され、
   前記水素供与体として、ギ酸を使用する、光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルの製造方法。
2. 反応の際、塩基を共存させることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
3. 不斉還元反応を行うために用いる塩基が炭素数３〜３０の有機アミン類であることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
4. 光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルの主生成物が一般式（４）で表される（２Ｒ，３Ｒ）体であり、（２Ｒ，３Ｒ）体：（２Ｓ，３Ｒ）体の生成比率が８５：１５〜１００：０であり、且つ、反応時間が１０時間以内に完結することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
5. 光学活性β-ヒドロキシ-α-アミノカルボン酸エステルの主生成物が一般式（４）で表される（２Ｒ，３Ｒ）体であり、（２Ｒ，３Ｒ）体：（２Ｓ，３Ｒ）体の生成比率が８５：１５〜１００：０であり、且つ、一般式（１）で表されるルテニウム錯体が一般式（２）で表されるβ-ケト-α-アミノカルボン酸エステルに対してモル比で１／５００〜１／１００００であるときに反応時間が２０時間以内に完結することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
6. 一般式（１）で表されるルテニウム錯体が一般式（２）で表されるβ-ケト-α-アミノカルボン酸エステルに対してモル比で１／２５０〜１／１００００であることを特徴とする請求項１〜４に記載の製造方法。
7. 有機アミンとしてトリエチルアミン、トリブチルアミン及びジイソプロピルエチルアミンの少なくとも１種を使用することを特徴とする請求項３〜６のいずれかに記載の製造方法。