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JP6066764B2 - Pattern forming apparatus and pattern forming method - Google Patents
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Description

この発明は、担持体に担持されたパターンを被転写体に転写する技術に関し、特に担持体と被転写体との位置合わせに関するものである。   The present invention relates to a technique for transferring a pattern supported on a carrier to a transfer target, and more particularly to alignment between the support and the transfer target.

ガラス基板や半導体基板などの基板にパターンを形成する技術として、パターンを担持する担持体を被転写体(基板)に密着させてパターンを転写するものがある。このような転写技術においては、被転写体へのパターン転写位置を適正に管理するために、転写前の担持体と被転写体との位置合わせが重要となる。このような位置合わせのための技術としては、例えば特許文献1および2に記載されたものがある。   As a technique for forming a pattern on a substrate such as a glass substrate or a semiconductor substrate, there is a technique of transferring a pattern by bringing a carrier carrying the pattern into close contact with a transfer target (substrate). In such a transfer technique, in order to properly manage the pattern transfer position to the transfer target, it is important to align the carrier before transfer and the transfer target. For example, Patent Documents 1 and 2 disclose techniques for such alignment.

これらの技術においては、それぞれに予めアライメントマークが形成された担持体と被転写体とを近接対向配置した状態でこれらのアライメントマークをカメラにより撮像する。そして、画像内でのアライメントマークの位置関係から担持体と被転写体との相対的な位置ずれ量を求め、該位置ずれを補正するように担持体と被転写体とを相対移動させることで位置合わせを行う。なお、特許文献2に記載の技術はパターン転写ではなく、真空蒸着によるパターン形成のためのマスクと基板との間での位置合わせに関するものであるが、位置合わせの手法自体は転写によるパターン形成技術にも適用可能なものである。   In these techniques, the alignment marks are previously imaged with a camera in a state where a carrier and a transfer target, which are previously formed with alignment marks, are arranged in close proximity to each other. Then, a relative positional shift amount between the carrier and the transfer target is obtained from the positional relationship of the alignment marks in the image, and the support and the transfer target are moved relative to each other so as to correct the positional shift. Perform alignment. The technique described in Patent Document 2 is not related to pattern transfer but relates to alignment between a mask and a substrate for pattern formation by vacuum deposition, but the alignment method itself is a pattern formation technique by transfer. It is also applicable to.

特開2009−212489号公報JP 2009-212489 A 特開2006−172930号公報JP 2006-172930 A

これらの従来技術では、担持体および被転写体のそれぞれに形成されているアライメントマークが予めカメラにより撮像可能な位置に配置されていることが前提となっている。しかしながら、以下に説明するように、近年ではこのような前提が成立しないケースが生じるようになってきており、上記従来技術では高精度な位置合わせを行うことが難しい場合がある。   In these prior arts, it is assumed that alignment marks formed on the carrier and the transfer target are arranged in advance at positions where they can be imaged by the camera. However, as will be described below, in recent years, there are cases where such a premise is not satisfied, and it is sometimes difficult to perform highly accurate alignment with the above-described conventional technology.

すなわち、アライメントマークが撮像視野に収まる程度の位置まで担持体や被転写体の位置を合わせ込む、いわば粗い位置合わせは、従来は例えば適宜の位置に設けた位置規制部材に担持体や被転写体を突き当てることによってなされてきた。しかしながら、近年では、パターンの細密化が求められることからアライメントマークのサイズが小さくなり、また求められる位置精度も微細になっている。このため、撮像には高分解能で高倍率のカメラが使用され、これに起因して撮像視野は小さくなってきている。その一方で、被転写体の大型化も進んでおり、これに起因して担持体や被転写体の重量も増大し撓みが生じやすくなっているため、機械的な突き当てによる位置規制では担持体や被転写体を適正な位置に位置決めすることが困難となってきている。   That is, the position of the carrier or the transfer object is adjusted to a position where the alignment mark is within the imaging field of view. In other words, the rough alignment is conventionally performed by, for example, a position restriction member provided at an appropriate position on the support or the transfer object. Has been made by hitting. However, in recent years, since the pattern is required to be finer, the size of the alignment mark is reduced, and the required positional accuracy is also reduced. For this reason, a high-resolution and high-magnification camera is used for imaging, and the imaging field of view has become smaller due to this. On the other hand, the size of the transfer object is also increasing, and due to this, the weight of the support and transfer object is increased and bending tends to occur. It has become difficult to position the body and the transfer target at an appropriate position.

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、パターンを担持する担持体と、該パターンが転写される被転写体とを高精度に位置合わせすることが可能な技術を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a technique capable of highly accurately aligning a carrier carrying a pattern and a transfer target to which the pattern is transferred. To do.

この発明にかかるパターン形成装置は、上記目的を達成するため、パターン担持面にパターンを担持する担持体を保持する第1保持手段と、前記パターンを転写される被転写面を有する被転写体を、前記被転写面を前記担持体の前記パターン担持面と対向させて保持する第2保持手段と、前記第1保持手段に保持された前記担持体を下方から押し上げる押し上げ手段と、前記第1保持手段を前記パターン担持面と平行に移動させる第1移動手段と、前記第2保持手段を前記被転写面と平行に移動させる第2移動手段と、前記第1保持手段に保持された前記担持体の外縁の少なくとも一部を撮像し、その撮像結果に基づき前記第1移動手段を作動させて前記担持体を所定の第1目標位置に位置決めするとともに、前記第2保持手段に保持された前記被転写体の外縁のうち少なくとも一部を撮像し、その撮像結果に基づき前記第2移動手段を作動させて前記被転写体を所定の第2目標位置に位置決めする予備アライメント手段と、前記第1目標位置に位置決めされた前記担持体に形成された第1アライメントマークと前記第2目標位置に位置決めされた前記被転写体に形成された第2アライメントマークとを撮像し、その撮像結果に基づき前記第1保持手段および前記第2保持手段の少なくとも一方を作動させて、前記担持体と前記被転写体との位置合わせを行う精密アライメント手段とを備え、前記第1保持手段は、前記担持体の周縁部を保持して、前記パターン担持面を上向きにした水平姿勢で、かつ前記周縁部よりも内側の中央部の下方を開放した状態で前記担持体を保持し、前記押し上げ手段は、前記担持体の前記中央部を下方から押し上げることで前記担持体に担持された前記パターンを前記被転写体の前記被転写面に当接させる。 In order to achieve the above object, a pattern forming apparatus according to the present invention comprises: a first holding unit that holds a carrier that carries a pattern on a pattern carrying surface; and a transfer body that has a transfer surface to which the pattern is transferred. A second holding means for holding the transfer surface facing the pattern carrying surface of the carrier, a push-up means for pushing up the carrier held by the first holding means, and the first holding A first moving means for moving the means parallel to the pattern holding surface; a second moving means for moving the second holding means parallel to the transfer surface; and the carrier held by the first holding means. At least a part of the outer edge of the image is imaged, and the first moving unit is operated based on the imaging result to position the carrier at a predetermined first target position, and is held by the second holding unit. Preliminarily aligning means for imaging at least a part of the outer edge of the transferred object and operating the second moving means based on the imaging result to position the transferred object at a predetermined second target position; The first alignment mark formed on the carrier positioned at one target position and the second alignment mark formed on the transfer target positioned at the second target position are imaged, and based on the imaging result And a precision alignment unit that operates at least one of the first holding unit and the second holding unit to align the carrier and the transfer target, and the first holding unit includes the carrier. And holding the carrier in a horizontal posture with the pattern carrying surface facing upward, and in a state where the lower part of the central part inside the peripheral part is opened. Push means, it is brought into contact with the pattern carried on the carrier by pushing the central portion of the carrier from below the transferred surface of the transferred object.

このように構成された発明では、第1保持手段に保持された担持体および第2保持手段に保持された被転写体のそれぞれ外縁が撮像され、その撮像結果に基づいて第1移動手段および第2移動手段が担持体および被転写体をそれぞれの目標位置に移動させる。ここでは担持体および被転写体の外縁の位置が検出可能であればよく、高分解能であることよりも撮像視野が広いことが好ましい。   In the invention configured as described above, the outer edges of the carrier held by the first holding unit and the transfer target held by the second holding unit are imaged, and the first moving unit and the first moving unit are captured based on the imaging result. Two moving means move the carrier and the transfer target to respective target positions. Here, it is only necessary that the positions of the outer edges of the carrier and the transfer target can be detected, and it is preferable that the imaging field of view is wider than that of high resolution.

このときの各目標位置への位置決め精度が必ずしも高くなかったとしても、担持体に形成された第1アライメントマークと被転写体に形成された第2アライメントマークとの位置をある程度の範囲に収めることが可能である。すなわち、第1および第2目標位置を適切に設定することにより、第1および第2アライメントマークが精密アライメント手段により撮像可能な位置となるように位置調整を行うことができる。したがって精密アライメント手段による撮像視野は比較的狭くてもよく、これにより高分解能での撮像が可能となり、高い位置合わせ精度を得ることが可能となる。   Even if the positioning accuracy to each target position at this time is not necessarily high, the positions of the first alignment mark formed on the carrier and the second alignment mark formed on the transferred body are within a certain range. Is possible. That is, by appropriately setting the first and second target positions, it is possible to perform position adjustment so that the first and second alignment marks can be imaged by the precision alignment means. Therefore, the imaging field of view by the precision alignment means may be relatively narrow, which enables imaging with high resolution and high alignment accuracy.

これらの場合における担持体および被転写体の移動は、これらを保持する第1および第2保持手段を移動させることにより第1および第2保持手段とともに行われる。このため、大型で重量のある担持体または被転写体であってもこれらを変形させることなく確実に目標位置へ移動させることができる。   In these cases, the carrier and the transfer target are moved together with the first and second holding means by moving the first and second holding means for holding them. For this reason, even a large and heavy carrier or transfer target can be reliably moved to the target position without being deformed.

このように、本発明では、アライメントマークを用いない予備アライメントによって第1および第2アライメントマークを所定の範囲内に移動させることができ、またこうしてある程度位置が絞り込まれた第1および第2アライメントマークを用いた精密アライメントによってより高精度な位置合わせが可能となっており、パターンを担持する担持体と該パターンが転写される被転写体とを高精度に位置合わせすることができる。特に、第1保持手段が担持体の周縁部を保持して、パターン担持面を上向きにした水平姿勢で、かつ周縁部よりも内側の中央部の下方を開放した状態で担持体を保持し、さらに押し上げ手段が担持体の中央部を下方から押し上げることで担持体に担持されたパターンを被転写体の被転写面に当接させる構成では、第1保持手段に周縁部を保持された担持体の中央部が自重で下向きに撓み、側方から担持体を押して動かそうとしても撓みに吸収されてしまい位置合わせが難しい。このような構成において、本願発明の効果は特に顕著なものとなる。 As described above, in the present invention, the first and second alignment marks can be moved within a predetermined range by the preliminary alignment without using the alignment marks, and the positions are narrowed down to some extent in this way. High-precision alignment is possible by the precise alignment using, so that the carrier carrying the pattern and the transfer target to which the pattern is transferred can be aligned with high accuracy. In particular, the first holding means holds the peripheral portion of the support, holds the support in a horizontal posture with the pattern support surface facing upward, and in a state where the lower portion of the central portion inside the peripheral portion is opened, Further, in the configuration in which the push-up means pushes up the central portion of the carrier from below to bring the pattern carried on the carrier into contact with the transfer surface of the transfer body, the carrier having the peripheral edge held by the first holding means The center part of the body is bent downward by its own weight, and even if it tries to move the carrier by pushing it from the side, it is absorbed by the bending and is difficult to align. In such a configuration, the effect of the present invention is particularly remarkable.

この発明において、精密アライメント手段は、例えば第1アライメントマークと第2アライメントマークとを同一視野内で同時に撮像するように構成されてもよい。担持体および被転写体それぞれに形成されたアライメントマークを同一視野で撮像することで、両者の位置関係をより精度よく把握して、担持体と被転写体との位置合わせをより高精度に行うことができる。   In the present invention, the precision alignment means may be configured to simultaneously image the first alignment mark and the second alignment mark in the same field of view, for example. By imaging the alignment marks formed on each of the carrier and the transferred body in the same field of view, the positional relationship between the two can be grasped more accurately and the positioning of the carrier and the transferred body can be performed with higher accuracy. be able to.

また例えば、予備アライメント手段が担持体および被転写体の外縁を撮像する予備アライメント用撮像部を有する一方、精密アライメント手段は予備アライメント用撮像部よりも高い分解能で第1アライメントマークおよび第2アライメントマークを撮像する精密アライメント用撮像部を有する構成であってもよい。このように、目的に応じて分解能の異なる撮像部を備えることで、装置コストと必要な性能とをバランスさせることができる。   In addition, for example, the preliminary alignment unit has a preliminary alignment imaging unit that images the outer edges of the carrier and the transfer object, while the precision alignment unit has a higher resolution than the preliminary alignment imaging unit, and the first alignment mark and the second alignment mark. The structure which has the imaging part for precise alignment which images the image may be sufficient. As described above, by providing the imaging units having different resolutions according to the purpose, it is possible to balance the apparatus cost and the required performance.

この場合、精密アライメント用撮像部は、例えば倍率が固定された撮像光学系を有するものであってもよい。倍率を可変とした場合の光軸ずれや高倍率時の画像の歪みなどは検出精度を低下させる原因となるが、倍率を固定することでこのような問題を回避しアライメントマークの高精度な位置検出およびそれに基づく高精度の位置合わせが可能となる。   In this case, the precision alignment imaging unit may have, for example, an imaging optical system with a fixed magnification. Optical axis misalignment when the magnification is variable and distortion of the image at high magnification may cause a decrease in detection accuracy. However, by fixing the magnification, this problem can be avoided and the alignment mark can be positioned with high accuracy. Detection and high-precision alignment based on the detection are possible.

一方、予備アライメント手段は、例えば担持体の外縁のうち互いに異なる複数箇所および被転写体の外縁のうち互いに異なる複数箇所をそれぞれ撮像する複数の予備アライメント用撮像部を有する構成であってもよい。担持体および被転写体の外縁を複数箇所で撮像することにより、これらの面内での位置ずれ量を把握することができ、目標位置への移動をより的確に行うことができる。   On the other hand, the preliminary alignment means may have a plurality of preliminary alignment imaging units that respectively image a plurality of different locations on the outer edge of the carrier and a plurality of different locations on the outer edge of the transferred body. By imaging the outer edges of the carrier and the transferred body at a plurality of locations, the amount of positional deviation within these planes can be grasped, and the movement to the target position can be performed more accurately.

また、この発明にかかるパターン形成方法は、上記目的を達成するため、パターンを担持する担持体を第1保持手段により保持するとともに、前記パターンが転写される被転写体を第2保持手段により保持し、前記担持体のパターン担持面と、前記被転写体の被転写面とを対向させて配置する配置工程と、前記担持体の外縁の少なくとも一部を撮像し、その撮像結果に基づき前記第1保持手段を移動させて前記担持体を所定の第1目標位置に位置決めするとともに、前記被転写体の外縁のうち少なくとも一部を撮像し、その撮像結果に基づき前記第2保持手段を移動させて前記被転写体を所定の第2目標位置に位置決めする予備アライメント工程と、前記担持体に形成された第1アライメントマークと前記被転写体に形成された第2アライメントマークとを撮像し、その撮像結果に基づき前記第1保持手段および前記第2保持手段の少なくとも一方を移動させて、前記担持体と前記被転写体との位置合わせを行う精密アライメント工程とを備え、前記第1保持手段は、前記担持体の周縁部を保持して、前記パターン担持面を上向きにした水平姿勢で、かつ前記周縁部よりも内側の中央部の下方を開放した状態で前記担持体を保持し、前記担持体の前記中央部を押し上げ手段により下方から押し上げることで前記担持体に担持された前記パターンを前記被転写体の前記被転写面に当接させるIn addition, in order to achieve the above object, the pattern forming method according to the present invention holds the carrier carrying the pattern by the first holding means, and holds the transferred body onto which the pattern is transferred by the second holding means. The pattern carrying surface of the carrier and the transfer surface of the transfer body are arranged to face each other, and at least a part of the outer edge of the carrier is imaged. The first holding unit is moved to position the carrier at a predetermined first target position, and at least a part of the outer edge of the transferred body is imaged, and the second holding unit is moved based on the imaging result. A preliminary alignment step of positioning the transferred body at a predetermined second target position, a first alignment mark formed on the carrier, and a second alignment formed on the transferred body. And a precise alignment step of positioning at least one of the first holding unit and the second holding unit based on the imaging result to align the carrier and the transfer target. The first holding means holds the peripheral portion of the carrier, has a horizontal posture with the pattern carrying surface facing upward, and opens the lower portion of the central portion inside the peripheral portion. The body is held, and the central portion of the carrier is pushed up from below by a push-up means, so that the pattern carried on the carrier is brought into contact with the transfer surface of the transfer body .

このように構成された発明では、上記したパターン形成装置の発明と同様に、予備アライメント工程でアライメントマークを用いずにある程度の第1および第2アライメントマークの位置調整を行った上でアライメントマークを用いた精密アライメント工程を実行することにより、パターンを担持する担持体と該パターンが転写される被転写体とを高精度に位置合わせすることが可能である。   In the invention configured as described above, as in the case of the above-described pattern forming apparatus, the alignment mark is adjusted after the position of the first and second alignment marks is adjusted to some extent without using the alignment mark in the preliminary alignment step. By executing the precision alignment process used, it is possible to align the carrier carrying the pattern and the transfer medium onto which the pattern is transferred with high accuracy.

この発明においても、精密アライメント工程では第1アライメントマークと第2アライメントマークとを同一視野内で同時に撮像するようにしてもよく、こうすることで、両アライメントマークの位置関係をより精度よく把握して、担持体と被転写体との位置合わせをより高精度に行うことができる。   Also in the present invention, in the precision alignment process, the first alignment mark and the second alignment mark may be imaged simultaneously in the same field of view, so that the positional relationship between both alignment marks can be grasped more accurately. Thus, the positioning of the carrier and the transfer target can be performed with higher accuracy.

また、この発明では、精密アライメント工程において撮像を行う撮像部の視野内に第1アライメントマークを位置決めしたときの担持体の位置を第1目標位置とする一方、撮像部の視野内に第2アライメントマークを位置決めしたときの被転写体の位置を第2目標位置とすることが好ましい。こうすることで、予備アライメント工程を実行することにより確実に両アライメントマークを撮像部の視野内に収めることが可能となり、その上で精密アライメント工程を実行することにより、担持体と被転写体との高精度な位置合わせが可能となる。   In the present invention, the position of the carrier when the first alignment mark is positioned in the field of view of the imaging unit that performs imaging in the precision alignment step is set as the first target position, while the second alignment is in the field of view of the imaging unit. The position of the transfer object when the mark is positioned is preferably set as the second target position. By doing so, it is possible to securely place both alignment marks in the field of view of the imaging unit by executing the preliminary alignment step, and then performing the precision alignment step on the carrier and the transfer target. High-precision alignment is possible.

また例えば、予備アライメント工程では、担持体の外縁のうち互いに異なる複数箇所を撮像して第1目標位置からの担持体の位置ずれ量を求め、該位置ずれ量に応じた第1保持手段の移動を行う一方、被転写体の外縁のうち互いに異なる複数箇所を撮像して第2目標位置からの被転写体の位置ずれ量を求め、該位置ずれ量に応じた第2保持手段の移動を行うようにしてもよい。こうすることで、上記したパターン形成装置の発明と同様に、担持体および被転写体の面内での位置ずれ量を把握することができ、目標位置への移動をより的確に行うことができる。   Further, for example, in the preliminary alignment step, a plurality of different positions on the outer edge of the carrier are imaged to determine the amount of positional deviation of the carrier from the first target position, and the first holding means moves according to the amount of positional deviation. On the other hand, a plurality of different locations on the outer edge of the transferred body are imaged to determine the amount of positional deviation of the transferred body from the second target position, and the second holding means is moved in accordance with the positional deviation amount. You may do it. By doing so, similarly to the above-described invention of the pattern forming apparatus, it is possible to grasp the amount of positional deviation in the plane of the carrier and the transfer target, and more accurately move to the target position. .

また、精密アライメント工程の後に、担持体と被転写体とを当接させてパターンを担持体から被転写体に転写する転写工程を備えてもよい。担持体と被転写体とが精度よく位置合わせされた状態でこれらを当接させパターン転写を行うことで、被転写体の適正な位置にパターンを形成することができる。   Further, after the precision alignment step, a transfer step of transferring the pattern from the support to the transfer target by bringing the support and the transfer target into contact with each other may be provided. A pattern can be formed at an appropriate position of the transferred body by performing pattern transfer by bringing the carrier and the transferred body into contact with each other in a state of being accurately aligned.

この発明によれば、担持体および被転写体の外縁を撮像することでアライメントマークを利用することなく概略の位置合わせを行い、その上で担持体の第1アライメントマークと被転写体の第2アライメントマークを撮像してより精密な位置合わせを行うことにより、担持体と被転写体との位置合わせを高精度に行うことができる。   According to the present invention, the outer edges of the carrier and the transfer object are imaged to perform approximate alignment without using the alignment mark, and then the first alignment mark of the support and the second of the transfer object are transferred. By imaging the alignment mark and performing more precise alignment, alignment between the carrier and the transfer target can be performed with high accuracy.

この発明にかかるパターン形成装置の一実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view showing one embodiment of a pattern formation device concerning this invention. このパターン形成装置の制御系を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the control system of this pattern formation apparatus. 下ステージブロックの構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of a lower stage block. 昇降ハンドユニットの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of a raising / lowering hand unit. 転写ローラユニットの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of a transfer roller unit. 上ステージアセンブリの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of an upper stage assembly. パターン形成処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a pattern formation process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第1の図である。It is a 1st figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第2の図である。It is a 2nd figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第3の図である。It is a 3rd figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第4の図である。It is a 4th figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第5の図である。It is a 5th figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第6の図である。It is a 6th figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of processing. 版または基板とブランケットとの位置関係を示す図である。It is a figure which shows the positional relationship of a plate | board or a board | substrate, and a blanket. 処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す第7の図である。It is a 7th figure which shows typically the positional relationship of each part of an apparatus in each step of a process. アライメント処理の原理を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the principle of an alignment process. プリアライメントの原理を説明するための第1の図である。It is a 1st figure for demonstrating the principle of pre-alignment. プリアライメントの原理を説明するための第2の図である。It is a 2nd figure for demonstrating the principle of pre-alignment.

図1はこの発明にかかるパターン形成装置の一実施形態を示す斜視図である。また、図2はこのパターン形成装置の制御系を示すブロック図である。なお、図1では、装置の内部構成を示すために外部カバーを除いた状態を示している。各図における方向を統一的に示すために、図1右下に示すようにXYZ直交座標軸を設定する。ここでXY平面が水平面、Z軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、(+Z)方向が鉛直上向き方向を表している。装置から見たときの正面方向は(−Y)方向であり、物品の搬入出を含む外部からの装置へのアクセスはY軸方向に沿ってなされる。   FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a pattern forming apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a block diagram showing a control system of the pattern forming apparatus. FIG. 1 shows a state in which the external cover is removed to show the internal configuration of the apparatus. In order to uniformly indicate the direction in each figure, XYZ orthogonal coordinate axes are set as shown in the lower right of FIG. Here, the XY plane represents a horizontal plane and the Z axis represents a vertical axis. More specifically, the (+ Z) direction represents a vertically upward direction. The front direction when viewed from the apparatus is the (−Y) direction, and access to the apparatus from the outside, including loading and unloading of articles, is made along the Y-axis direction.

このパターン形成装置1は、メインフレーム2に上ステージブロック4および下ステージブロック6が取り付けられた構造を有している。図1では、各ブロックの区別を明示するために、上ステージブロック4には粗いピッチのドットを、また下ステージブロック6にはより細かいピッチのドットを付している。パターン形成装置1は上記以外に、予め記憶された処理プログラムに従い装置各部を制御して所定の動作を実行する制御ユニット8(図2)を有している。上ステージブロック4および下ステージブロック6の詳細な構成については後に説明することとし、まず装置1の全体構成を説明する。   The pattern forming apparatus 1 has a structure in which an upper stage block 4 and a lower stage block 6 are attached to a main frame 2. In FIG. 1, in order to clearly show the distinction between the blocks, the upper stage block 4 is provided with dots having a coarse pitch, and the lower stage block 6 is provided with dots having a finer pitch. In addition to the above, the pattern forming apparatus 1 has a control unit 8 (FIG. 2) that controls each part of the apparatus according to a processing program stored in advance and executes a predetermined operation. Detailed configurations of the upper stage block 4 and the lower stage block 6 will be described later. First, the overall configuration of the apparatus 1 will be described.

パターン形成装置1は、下ステージブロック6により保持されたブランケットBLと、上ステージブロック4により保持された版PPまたは基板SBとを互いに当接させることでパターン形成を行う装置である。この装置1によるパターン形成プロセスは、より具体的には以下の通りである。まず、パターン形成材料が一様に塗布されたブランケットBLに対して、形成すべきパターンに対応して作成された版PPを当接させることにより、ブランケットBLに担持された塗布層をパターニングする(パターニング処理)。そして、こうしてパターニングされたブランケットBLと基板SBとを当接させることで、ブランケットBLに担持されたパターンを基板SBに転写する(転写処理)。これにより、基板SBに所望のパターンが形成される。   The pattern forming apparatus 1 is an apparatus that forms a pattern by bringing the blanket BL held by the lower stage block 6 and the plate PP or the substrate SB held by the upper stage block 4 into contact with each other. More specifically, the pattern forming process by the apparatus 1 is as follows. First, the coated layer carried on the blanket BL is patterned by bringing a plate PP created corresponding to the pattern to be formed into contact with the blanket BL on which the pattern forming material is uniformly applied (see FIG. Patterning process). Then, by bringing the blanket BL thus patterned and the substrate SB into contact, the pattern carried on the blanket BL is transferred to the substrate SB (transfer process). As a result, a desired pattern is formed on the substrate SB.

このように、このパターン形成装置1は基板SBに所定のパターンを形成するパターン形成プロセスにおけるパターニング処理および転写処理の両方に使用することが可能であるが、これらの処理の一方のみを受け持つ態様で用いられてもよい。   As described above, the pattern forming apparatus 1 can be used for both the patterning process and the transfer process in the pattern forming process for forming a predetermined pattern on the substrate SB. However, the pattern forming apparatus 1 is responsible for only one of these processes. May be used.

パターン形成装置1の下ステージブロック6は、メインフレーム2のベースフレーム21により支持されている。一方、上ステージブロック4は、下ステージブロック6をX方向から挟むようにベースフレーム21から立設されY方向に延びる1対の上ステージ支持フレーム22,23に取り付けられている。   The lower stage block 6 of the pattern forming apparatus 1 is supported by the base frame 21 of the main frame 2. On the other hand, the upper stage block 4 is attached to a pair of upper stage support frames 22 and 23 that are erected from the base frame 21 and extend in the Y direction so as to sandwich the lower stage block 6 from the X direction.

また、メインフレーム2には、装置に搬入される基板SBとブランケットBLとの位置検出を行うためのプリアライメントカメラが取り付けられている。具体的には、Y軸方向に沿って装置に搬入される基板SBのエッジを異なる3か所で検出するための3基の基板用プリアライメントカメラ241,242,243が、上ステージ支持フレーム22,23から立設されたブームにそれぞれ取り付けられている。同様に、Y軸方向に沿って装置に搬入されるブランケットBLのエッジを異なる3か所で検出するための3基のブランケット用プリアライメントカメラ244,245,246が上ステージ支持フレーム22,23から立設されたブームにそれぞれ取り付けられている。なお図1では、上ステージブロック4の背後に位置する1基のブランケット用プリアライメントカメラ246が現れていない。また、図2では基板用プリアライメントカメラを「基板用PAカメラ」と、ブランケット用プリアライメントカメラを「ブランケット用PAカメラ」と、それぞれ略記している。   Further, a pre-alignment camera for detecting the positions of the substrate SB and the blanket BL carried into the apparatus is attached to the main frame 2. More specifically, three substrate pre-alignment cameras 241, 242, and 243 for detecting the edge of the substrate SB carried into the apparatus along the Y-axis direction at three different positions are provided on the upper stage support frame 22. , 23 are respectively attached to booms erected. Similarly, three blanket pre-alignment cameras 244, 245 and 246 for detecting the edge of the blanket BL carried into the apparatus along the Y-axis direction at three different positions are provided from the upper stage support frames 22 and 23. Each is attached to a standing boom. In FIG. 1, one blanket pre-alignment camera 246 located behind the upper stage block 4 does not appear. In FIG. 2, the substrate pre-alignment camera is abbreviated as “substrate PA camera”, and the blanket pre-alignment camera is abbreviated as “blanket PA camera”.

図3は下ステージブロックの構造を示す斜視図である。下ステージブロック6では、中央部が開口するプレート状のアライメントステージ601の四隅にそれぞれ支柱602が鉛直方向(Z方向)に立設されており、これらの支柱602により、ステージ支持プレート603が支持されている。図示を省略しているが、アライメントステージ601の下部には、鉛直方向Zに延びる回転軸を回転中心とする回転方向(以下、「θ方向」と称する)、X方向およびY方向の3自由度を有する例えばクロスローラベアリング等のアライメントステージ支持機構605(図2)が設けられており、該アライメントステージ支持機構605を介してアライメントステージ601はベースフレーム21に取り付けられている。したがって、アライメントステージ支持機構605の作動によって、アライメントステージ601はベースフレーム21に対してX方向、Y方向およびθ方向に所定の範囲で移動可能である。   FIG. 3 is a perspective view showing the structure of the lower stage block. In the lower stage block 6, pillars 602 are erected in the vertical direction (Z direction) at the four corners of a plate-shaped alignment stage 601 with an opening at the center, and the stage support plate 603 is supported by these pillars 602. ing. Although not shown, at the lower part of the alignment stage 601, there are three degrees of freedom in the rotational direction (hereinafter referred to as “θ direction”), the X direction and the Y direction with the rotational axis extending in the vertical direction Z as the rotational center. An alignment stage support mechanism 605 (FIG. 2) such as a cross roller bearing is provided, and the alignment stage 601 is attached to the base frame 21 via the alignment stage support mechanism 605. Therefore, the alignment stage 601 can move in a predetermined range in the X direction, the Y direction, and the θ direction with respect to the base frame 21 by the operation of the alignment stage support mechanism 605.

ステージ支持プレート603の上部に、上面が略水平面と一致する平面となり中央部に開口窓611が形成された環状矩形の下ステージ61が配置されている。下ステージ61の上面にブランケットBLが載置され、下ステージ61がこれを保持する。   An annular rectangular lower stage 61 having an upper surface substantially coincident with a horizontal plane and having an opening window 611 formed at the center is disposed above the stage support plate 603. A blanket BL is placed on the upper surface of the lower stage 61, and the lower stage 61 holds it.

開口窓611の開口サイズについては、ブランケットBLの表面領域のうち、パターン形成領域として有効に機能する中央部の有効領域(図示せず)の平面サイズよりは大きいことが必要である。つまり、ブランケットBLが下ステージ61に載置されたとき、ブランケットBL下面のうち有効領域に対応する領域の全体が開口窓611に臨み、有効領域の下方が完全に開放された状態である必要がある。またパターン形成材料による塗布層は、少なくとも有効領域の全体を覆うように形成される。   The opening size of the opening window 611 needs to be larger than the planar size of the effective area (not shown) in the central portion that effectively functions as the pattern formation area in the surface area of the blanket BL. That is, when the blanket BL is placed on the lower stage 61, the entire area corresponding to the effective area on the lower surface of the blanket BL faces the opening window 611, and the lower part of the effective area needs to be completely open. is there. The coating layer made of the pattern forming material is formed so as to cover at least the entire effective area.

下ステージ61の上面61aには、開口窓611の周縁各辺にそれぞれ沿うように複数の溝612が設けられており、各溝612は図示しない制御バルブを介して制御ユニット8の負圧供給部804に接続されている。各溝612は、ブランケットBLの平面サイズよりも小さい平面サイズの領域内に配置されている。そして、図において一点鎖線で示すように、ブランケットBLは、これらの溝612を全て覆うようにして下ステージ61に載置される。またこれを可能とするために、下ステージ上面61aにブランケットBLの位置規制用のストッパ部材613が適宜配置される。   On the upper surface 61a of the lower stage 61, a plurality of grooves 612 are provided along the peripheral edges of the opening window 611. Each groove 612 is connected to a negative pressure supply section of the control unit 8 via a control valve (not shown). 804 is connected. Each groove 612 is disposed in a region having a planar size smaller than the planar size of the blanket BL. Then, as indicated by the alternate long and short dash line in the figure, the blanket BL is placed on the lower stage 61 so as to cover all the grooves 612. In order to enable this, a stopper member 613 for restricting the position of the blanket BL is appropriately disposed on the lower stage upper surface 61a.

各溝612に負圧が供給されることにより各溝612は真空吸着溝として機能し、こうしてブランケットBLの周縁部の四辺が下ステージ61の上面61aに吸着保持される。真空吸着溝を互いに独立した複数の溝612で構成することにより、何らかの原因で一部の溝において真空破壊が生じても他の溝によるブランケットBLの吸着が維持されるので、ブランケットBLを確実に保持することができる。また、単独の溝を設けた場合よりも強い吸着力でブランケットBLを吸着することができる。   By supplying negative pressure to each groove 612, each groove 612 functions as a vacuum suction groove, and thus the four sides of the peripheral portion of the blanket BL are sucked and held on the upper surface 61a of the lower stage 61. By configuring the vacuum suction groove with a plurality of independent grooves 612, even if a vacuum break occurs in some of the grooves for some reason, the suction of the blanket BL by other grooves is maintained, so that the blanket BL can be securely attached. Can be held. Further, the blanket BL can be adsorbed with a stronger adsorbing force than when a single groove is provided.

下ステージ61の開口窓611の下方には、ブランケットBLをZ軸方向に上下動させるための昇降ハンドユニット62,63と、ブランケットBLに下方から当接して押し上げる転写ローラユニット64とが設けられている。   Below the opening window 611 of the lower stage 61, there are provided lifting hand units 62 and 63 for moving the blanket BL up and down in the Z-axis direction, and a transfer roller unit 64 that abuts and pushes up the blanket BL from below. Yes.

図4は昇降ハンドユニットの構造を示す図である。2つの昇降ハンドユニット62,63の構造は同一であるので、ここでは一方の昇降ハンドユニット62の構造について説明する。昇降ハンドユニット62は、ベースフレーム21からZ方向に立設された2本の支柱621,622を有しており、これらの支柱621,622に対してプレート状のスライドベース623が上下動可能に取り付けられている。より具体的には、2本の支柱621,622にはそれぞれ鉛直方向(Z方向)に延びるガイドレール6211,6221が取り付けられており、スライドベース623の背面、つまり(+Y)側主面に取り付けられた図示しないスライダがガイドレール6211,6221に摺動自在に取り付けられる。そして、例えばモータおよびボールねじ機構などの適宜の駆動機構を備える昇降機構624が、制御ユニット8からの制御指令に応じてスライドベース623を上下動させる。   FIG. 4 is a diagram showing the structure of the lifting hand unit. Since the structures of the two lifting hand units 62 and 63 are the same, the structure of one lifting hand unit 62 will be described here. The elevating hand unit 62 has two support columns 621 and 622 erected in the Z direction from the base frame 21, and a plate-like slide base 623 can move up and down with respect to these support columns 621 and 622. It is attached. More specifically, guide rails 6211 and 6221 extending in the vertical direction (Z direction) are attached to the two support columns 621 and 622, respectively, and attached to the rear surface of the slide base 623, that is, the (+ Y) side main surface. The slider (not shown) is slidably attached to the guide rails 6211 and 6221. Then, for example, an elevating mechanism 624 including an appropriate drive mechanism such as a motor and a ball screw mechanism moves the slide base 623 up and down in accordance with a control command from the control unit 8.

スライドベース623には複数(この例では4本)のハンド625が上下動自在に取り付けられている。各ハンド625の構造は、配設位置に応じてベース部分の形状が異なる点を除いて基本的に同一である。各ハンド625は、スライドベース623の正面、つまり(−Y)側主面に鉛直方向(Z方向)に沿って取り付けられたガイドレール626に対して摺動自在に係合されたスライダ627に固定されている。スライダ627はスライドベース623の背面に取り付けられた例えばロッドレスシリンダなどの適宜の駆動機構を備える昇降機構628に連結されており、該昇降機構628の作動によりスライドベース623に対して上下方向に移動する。各ハンド625にはそれぞれ独立の昇降機構628が設けられており、各ハンド625を個別に上下動させることができる。   A plurality (four in this example) of hands 625 are attached to the slide base 623 so as to be movable up and down. The structure of each hand 625 is basically the same except that the shape of the base portion differs depending on the arrangement position. Each hand 625 is fixed to a slider 627 that is slidably engaged with a guide rail 626 that is attached to the front surface of the slide base 623, that is, the (−Y) side main surface along the vertical direction (Z direction). Has been. The slider 627 is connected to an elevating mechanism 628 having an appropriate drive mechanism such as a rodless cylinder attached to the back surface of the slide base 623, and moves up and down with respect to the slide base 623 by the operation of the elevating mechanism 628. To do. Each hand 625 is provided with an independent lifting mechanism 628, and each hand 625 can be moved up and down individually.

つまり、昇降ハンドユニット62では、昇降機構624がスライドベース623を上下動させることで各ハンド625を一体的に昇降させることができるとともに、各昇降機構628が独立して作動することで各ハンド625を個別に昇降させることが可能となっている。   That is, in the elevating hand unit 62, the elevating mechanism 624 moves the slide base 623 up and down to integrally move the hands 625 up and down, and the elevating mechanisms 628 operate independently to allow the hands 625 to move up and down. Can be raised and lowered individually.

ハンド625の上面625aはY方向を長手方向とする細長い平面状に仕上げられており、該上面625aをブランケットBLの下面に当接させてブランケットBLを支持することができる。また上面625aには、図示しない配管および制御バルブを介して制御ユニット8に設けられた負圧供給部804と連通する吸着孔625bが設けられている。これにより、吸着孔625bには必要に応じて負圧供給部804からの負圧が供給されて、ハンド625の上面625aにブランケットBLを吸着保持することができる。そのため、ハンド625でブランケットBLを支持する際の滑りを防止することができる。   The upper surface 625a of the hand 625 is finished in an elongated flat surface with the Y direction as the longitudinal direction, and the upper surface 625a can be brought into contact with the lower surface of the blanket BL to support the blanket BL. The upper surface 625a is provided with an adsorption hole 625b that communicates with a negative pressure supply unit 804 provided in the control unit 8 via a pipe and a control valve (not shown). Thereby, negative pressure from the negative pressure supply unit 804 is supplied to the suction hole 625b as necessary, and the blanket BL can be sucked and held on the upper surface 625a of the hand 625. Therefore, it is possible to prevent slipping when the hand 625 supports the blanket BL.

また、吸着孔625bに対しては、図示しない配管および制御バルブを介して制御ユニット8のガス供給部806から適宜の気体、例えば乾燥空気や不活性ガスなどが必要に応じて供給される。すなわち、制御ユニット8により制御される各制御バルブの開閉によって、吸着孔625bには、負圧供給部804からの負圧およびガス供給部806からの気体が選択的に供給される。   In addition, an appropriate gas, for example, dry air or inert gas, is supplied to the adsorption hole 625b from a gas supply unit 806 of the control unit 8 through a pipe and a control valve (not shown) as necessary. That is, the negative pressure from the negative pressure supply unit 804 and the gas from the gas supply unit 806 are selectively supplied to the suction hole 625 b by opening and closing each control valve controlled by the control unit 8.

ガス供給部806からの気体が吸着孔625bに供給されるとき、吸着孔625bからは少量の気体が吐出される。これによりブランケットBLの下面とハンド上面625aとの間に微小な隙間が形成され、ハンド625はブランケットBLを下方から支持しつつ、ブランケットBL下面からは離間した状態となる。そのため、各ハンド625によりブランケットBLを支持しながら、ブランケットBLを各ハンド625に対して摺擦させることなく水平方向に移動させることができる。なお、気体吐出孔を吸着孔625bとは別にハンド上面625aに設けてもよい。   When the gas from the gas supply unit 806 is supplied to the adsorption hole 625b, a small amount of gas is discharged from the adsorption hole 625b. Thereby, a minute gap is formed between the lower surface of the blanket BL and the upper surface 625a of the hand, and the hand 625 is in a state of being separated from the lower surface of the blanket BL while supporting the blanket BL from below. Therefore, the blanket BL can be moved in the horizontal direction without being rubbed against each hand 625 while the blanket BL is supported by each hand 625. In addition, you may provide a gas discharge hole in the hand upper surface 625a separately from the adsorption hole 625b.

図3に戻って、下ステージブロック6では、上記のような構成を有する昇降ハンドユニット62,63がハンド625を内向きにしてY方向に向かい合うように対向配置されている。各ハンド625が最も下降した状態では、ハンド上面625aは下ステージ上面61aよりも下方、つまり(−Z)方向に大きく後退した位置にある。一方、各ハンド625が最も上昇した状態では、各ハンド625の先端は下ステージ61の開口窓611から上方へ突き出した状態となり、ハンド上面625aは下ステージ上面61aよりも上方、つまり(+Z)方向に突出した位置まで到達する。   Returning to FIG. 3, in the lower stage block 6, the lifting hand units 62, 63 having the above-described configuration are disposed facing each other so as to face the Y direction with the hand 625 facing inward. In the state where each hand 625 is lowered most, the upper surface 625a of the hand is located below the lower stage upper surface 61a, that is, a position that is largely retracted in the (−Z) direction. On the other hand, in the state where each hand 625 is raised most, the tip of each hand 625 protrudes upward from the opening window 611 of the lower stage 61, and the hand upper surface 625a is above the lower stage upper surface 61a, that is, in the (+ Z) direction. To the position protruding.

また、上方から見たとき、両昇降ハンドユニット62,63の互いに向かい合うハンド625の先端同士の間には一定の間隔が設けられており、これらが接触することはない。また次に述べるように、この隙間を利用して、転写ローラユニット64がX方向に移動する。   Further, when viewed from above, a certain distance is provided between the tips of the hands 625 facing each other of the elevating hand units 62 and 63 so that they do not come into contact with each other. Further, as will be described next, the transfer roller unit 64 moves in the X direction using this gap.

図5は転写ローラユニットの構造を示す図である。転写ローラユニット64は、Y方向に延びる円筒状のローラ部材である転写ローラ641と、該転写ローラ641の下方に沿ってY方向に延びその両端部で転写ローラ641を回転自在に支持する支持フレーム642と、適宜の駆動機構を有し支持フレーム642をZ方向に上下動させる昇降機構644とを有している。転写ローラ641は回転駆動機構と接続されておらず、自由回転する。また、支持フレーム642には、転写ローラ641の表面に下方から当接して転写ローラ641の撓みを防止するバックアップローラ643が設けられている。   FIG. 5 shows the structure of the transfer roller unit. The transfer roller unit 64 includes a transfer roller 641 that is a cylindrical roller member extending in the Y direction, and a support frame that extends in the Y direction along the lower side of the transfer roller 641 and rotatably supports the transfer roller 641 at both ends thereof. 642 and an elevating mechanism 644 that has an appropriate drive mechanism and moves the support frame 642 up and down in the Z direction. The transfer roller 641 is not connected to a rotation drive mechanism and rotates freely. Further, the support frame 642 is provided with a backup roller 643 that comes into contact with the surface of the transfer roller 641 from below to prevent the transfer roller 641 from bending.

Y方向における転写ローラ641の長さは、下ステージ61の開口窓611の四辺のうちY方向に沿った辺の長さ、つまり開口窓611のY方向における開口寸法よりは短く、かつ、後述する上ステージに保持されたときの版PPまたは基板SBのY方向に沿った長さよりは長い。ブランケットBLのうちパターン形成領域として有効な有効領域の長さは当然に版PPまたは基板SBの長さ以下であるから、Y方向において転写ローラ641は有効領域よりも長い。   The length of the transfer roller 641 in the Y direction is shorter than the length of the four sides of the opening window 611 of the lower stage 61 along the Y direction, that is, the opening dimension of the opening window 611 in the Y direction, and will be described later. It is longer than the length along the Y direction of the plate PP or the substrate SB when held on the upper stage. Since the effective area effective as a pattern formation area in the blanket BL is naturally equal to or shorter than the length of the plate PP or the substrate SB, the transfer roller 641 is longer than the effective area in the Y direction.

昇降機構644は、ベース部644aと、該ベース部644aから上方に延びて支持フレーム642のY方向における中央付近に連結された支持脚644bを有している。支持脚644bはモータまたはシリンダ等の適宜の駆動機構によりベース部644aに対して上下動可能となっている。ベース部644aは、X方向に延設されたガイドレール646に対して摺動自在に取り付けられており、さらに例えばモータおよびボールねじ機構などの適宜の駆動機構を備える移動機構647に連結されている。そして、X方向に延設されてベースフレーム21に固定された下部フレーム645の上面に、ガイドレール646が取り付けられている。移動機構647が作動することにより、転写ローラ641、支持フレーム642および昇降機構644が一体的にX方向に走行する。   The elevating mechanism 644 includes a base portion 644a and support legs 644b extending upward from the base portion 644a and connected to the vicinity of the center of the support frame 642 in the Y direction. The support leg 644b can move up and down with respect to the base portion 644a by an appropriate drive mechanism such as a motor or a cylinder. The base portion 644a is slidably attached to a guide rail 646 extending in the X direction, and is further coupled to a moving mechanism 647 having an appropriate driving mechanism such as a motor and a ball screw mechanism. . A guide rail 646 is attached to the upper surface of the lower frame 645 that extends in the X direction and is fixed to the base frame 21. By operating the moving mechanism 647, the transfer roller 641, the support frame 642, and the lifting mechanism 644 integrally travel in the X direction.

詳しくは後述するが、このパターン形成装置1では、下ステージ61に保持されたブランケットBLに転写ローラ641を当接させてブランケットBLを部分的に押し上げることにより、上ステージに保持されてブランケットBLに近接対向配置された版PPまたは基板SBにブランケットBLを当接させる。   As will be described in detail later, in this pattern forming apparatus 1, the blanket BL held on the lower stage 61 is brought into contact with the transfer roller 641 to partially lift the blanket BL, whereby the blanket BL is held on the upper stage. The blanket BL is brought into contact with the plate PP or the substrate SB arranged in close proximity to each other.

昇降機構644は、昇降ハンドユニット62,63の互いに向かい合うハンド625が作る隙間を通って走行する。また各ハンド625は、その上面625aが転写ローラユニット64の支持フレーム642の下面より下方まで(−Z)方向に後退可能となっている。したがってこの状態で昇降機構644が走行することで、転写ローラユニット64の支持フレーム642が各ハンド625の上面625aの上方を通過し、転写ローラユニット64とハンド625とが衝突することが回避される。   The elevating mechanism 644 travels through a gap formed by the hands 625 facing each other of the elevating hand units 62 and 63. Each hand 625 has an upper surface 625 a that can be retracted in the (−Z) direction from the lower surface of the support frame 642 of the transfer roller unit 64 to the lower side. Therefore, when the elevating mechanism 644 runs in this state, the support frame 642 of the transfer roller unit 64 passes over the upper surface 625a of each hand 625, and the transfer roller unit 64 and the hand 625 are prevented from colliding. .

次に上ステージブロック4の構造について説明する。図1に示すように、上ステージブロック4は、X方向に延びる構造体である上ステージアセンブリ40と、上ステージ支持フレーム22,23からそれぞれ立設されて上ステージアセンブリ40のX方向両端部をそれぞれ支持する1対の支持柱45,46と、例えばモータおよびボールねじ機構などの適宜の駆動機構を備え上ステージアセンブリ40全体をZ方向に昇降移動させる昇降機構47とを備えている。   Next, the structure of the upper stage block 4 will be described. As shown in FIG. 1, the upper stage block 4 is erected from an upper stage assembly 40 that is a structure extending in the X direction and upper stage support frames 22 and 23. A pair of support columns 45 and 46 for supporting each of them, and an elevating mechanism 47 that includes an appropriate drive mechanism such as a motor and a ball screw mechanism and moves the entire upper stage assembly 40 up and down in the Z direction.

図6は上ステージアセンブリの構造を示す図である。上ステージアセンブリ40は、下面に版PPまたは基板SBを保持する上ステージ41と、上ステージ41の上部に設けられた補強フレーム42と、補強フレーム42に結合されてX方向に沿って水平に延びる梁状構造体43と、上ステージ41に装着される上部吸着ユニット44とを備えている。図6に示すように、上ステージアセンブリ40はその外形上の中心を含むXZ平面およびYZ平面に対してそれぞれ概ね対称な形状を有している。   FIG. 6 shows the structure of the upper stage assembly. The upper stage assembly 40 is coupled to the upper stage 41 holding the plate PP or the substrate SB on the lower surface, a reinforcing frame 42 provided on the upper stage 41, and extends horizontally along the X direction. A beam-like structure 43 and an upper suction unit 44 mounted on the upper stage 41 are provided. As shown in FIG. 6, the upper stage assembly 40 has substantially symmetric shapes with respect to the XZ plane and the YZ plane including the center on the outer shape.

上ステージ41は、保持すべき版PPまたは基板SBの平面サイズより少し小さい平板状部材であり、水平姿勢に保持されたその下面41aが版PPまたは基板SBを当接させて保持する保持平面となっている。保持平面は高い平面度が要求されるので、その材料としては石英ガラスまたはステンレス板が好適である。また保持平面には後述する上部吸着ユニット44の吸着パッドを装着するための貫通孔が設けられている。   The upper stage 41 is a flat member slightly smaller than the plane size of the plate PP or the substrate SB to be held, and a lower surface 41a held in a horizontal posture holds the plate PP or the substrate SB in contact with the holding plane. It has become. Since the holding plane is required to have a high degree of flatness, quartz glass or a stainless steel plate is suitable as the material. The holding plane is provided with a through hole for mounting a suction pad of the upper suction unit 44 described later.

補強フレーム42は、上ステージ41の上面にZ方向に延設された補強リブの組み合わせからなっており、図に示すように、上ステージ41の撓みを防止してその下面(保持平面)41aの平面度を維持するために、YZ平面と平行な補強リブ421と、XZ平面と平行な補強リブ422とがそれぞれ複数適宜組み合わされている。補強リブ421,422は例えば金属板により構成することができる。   The reinforcing frame 42 is composed of a combination of reinforcing ribs extending in the Z direction on the upper surface of the upper stage 41. As shown in the drawing, the upper stage 41 is prevented from being bent and its lower surface (holding plane) 41a In order to maintain the flatness, a plurality of reinforcing ribs 421 parallel to the YZ plane and reinforcing ribs 422 parallel to the XZ plane are appropriately combined. The reinforcing ribs 421 and 422 can be made of, for example, a metal plate.

また、梁状構造体43は、複数の金属板を組み合わせて形成されたX方向を長手方向とする構造体であり、その両端部が支持柱45,46に支持されて上下動可能となっている。具体的には、支持柱45,46にはZ方向に延びるガイドレール451,461がそれぞれ設けられる一方、これと対向する梁状構造体43の(+Y)側主面に図示しないスライダが取り付けられており、これらが摺動自在に係合されている。そして、図1に示すように、梁状構造体43と支持柱46とは昇降機構47によって連結されており、昇降機構47が作動することにより、梁状構造体43が水平姿勢を維持したまま鉛直方向(Z方向)に移動する。上ステージ41は補強フレーム42を介して梁状構造体43と一体的に結合されているので、昇降機構47の作動により、上ステージ41が保持平面41aを水平に保ったまま上下動する。   Further, the beam-like structure 43 is a structure formed by combining a plurality of metal plates and having a longitudinal direction in the X direction, and both ends thereof are supported by the support columns 45 and 46 so as to be vertically movable. Yes. Specifically, guide rails 451 and 461 extending in the Z direction are provided on the support columns 45 and 46, respectively, and a slider (not shown) is attached to the (+ Y) side main surface of the beam-like structure 43 facing the support pillars 45 and 46, respectively. These are slidably engaged. As shown in FIG. 1, the beam-like structure 43 and the support column 46 are connected by an elevating mechanism 47, and the elevating mechanism 47 operates to keep the beam-like structure 43 in a horizontal posture. Move in the vertical direction (Z direction). Since the upper stage 41 is integrally coupled to the beam-like structure 43 via the reinforcing frame 42, the upper stage 41 moves up and down with the holding plane 41 a kept horizontal by the operation of the elevating mechanism 47.

なお、補強フレーム42および梁状構造体43の構造は図示したものに限定されない。ここではYZ平面と平行な板状部材とXZ平面と平行な板状部材とを組み合わせて必要な強度を得ているが、これ以外の形状に板金やアングル部材等を適宜組み合わせてもよい。このような構造とするのは上ステージアセンブリ40を軽量に構成するためである。各部の撓みを低減させるために、上ステージ41の厚みを増したり梁状構造体43を中実体とすることも考えられるが、そのようにすると上ステージアセンブリ40全体の質量が大きくなってしまう。   The structures of the reinforcing frame 42 and the beam-like structure 43 are not limited to those illustrated. Here, a necessary strength is obtained by combining a plate-like member parallel to the YZ plane and a plate-like member parallel to the XZ plane, but a sheet metal, an angle member, or the like may be appropriately combined with other shapes. The reason for this structure is to make the upper stage assembly 40 lightweight. In order to reduce the deflection of each part, it is conceivable to increase the thickness of the upper stage 41 or to use the beam-like structure 43 as a solid body, but if so, the mass of the entire upper stage assembly 40 will increase.

装置の上部に配置される構造物の重量が大きくなることは、これを支持したり移動させたりするための機構にさらなる強度および耐久性が必要となり、装置全体も非常に大きく重くなってしまう。板材等の組み合わせにより必要な強度を得つつ、構造物全体の軽量化を図ることがより現実的である。   The increase in the weight of the structure disposed on the upper part of the apparatus requires additional strength and durability for a mechanism for supporting and moving the structure, and the entire apparatus becomes very large and heavy. It is more realistic to reduce the weight of the entire structure while obtaining the required strength by combining plate materials and the like.

また、補強フレーム42により囲まれた上ステージ41の上部には、1対の上部吸着ユニット44が装着される。一方の上部吸着ユニット44が上方へ取り出された状態が図6上部に示されている。上部吸着ユニット44では、支持フレーム441から下方へ延びる複数のパイプ442の下端に例えばゴム製の吸着パッド443がそれぞれ装着されている。各パイプ442の上端側は図示しない配管および制御バルブを介して制御ユニット8の負圧供給部804に接続されている。支持フレーム441は、補強フレーム42を構成するリブ421,422と干渉しない形状とされる。   A pair of upper suction units 44 are mounted on the upper stage 41 surrounded by the reinforcing frame 42. A state where one upper suction unit 44 is taken out upward is shown in the upper part of FIG. In the upper suction unit 44, for example, rubber suction pads 443 are attached to lower ends of a plurality of pipes 442 extending downward from the support frame 441, respectively. The upper end side of each pipe 442 is connected to a negative pressure supply unit 804 of the control unit 8 via a pipe and a control valve (not shown). The support frame 441 has a shape that does not interfere with the ribs 421 and 422 constituting the reinforcing frame 42.

支持フレーム441は、1対のスライダ444とこれに係合する1対のガイドレール445を介して、ベースプレート446に対し鉛直方向に移動自在に支持されている。また、ベースプレート446と支持フレーム441とは、例えばモータおよびボールねじ機構などの適宜の駆動機構を有する昇降機構447により結合されている。昇降機構447の作動により、ベースプレート446に対して支持フレーム441が昇降し、これと一体的にパイプ442および吸着パッド443が昇降する。   The support frame 441 is supported movably in the vertical direction with respect to the base plate 446 through a pair of sliders 444 and a pair of guide rails 445 engaged therewith. Further, the base plate 446 and the support frame 441 are coupled by an elevating mechanism 447 having an appropriate driving mechanism such as a motor and a ball screw mechanism. By the operation of the lifting mechanism 447, the support frame 441 moves up and down with respect to the base plate 446, and the pipe 442 and the suction pad 443 move up and down integrally therewith.

ベースプレート446が梁状構造体43の側面に固定されることで、上部吸着ユニット44が上ステージ41と一体化される。この状態では、各パイプ442の下端および吸着パッド443は、上ステージ41に設けられた図示しない貫通孔に挿通されている。そして、昇降機構447の作動により、吸着パッド443は、その下面が上ステージ41の下面(保持平面)41aよりも下方まで吐出した吸着位置と、下面が上ステージ41の貫通孔の内部(上方)に退避した退避位置との間で昇降移動する。また吸着パッド443の下面が上ステージ41の保持平面41aとほぼ同一高さに位置決めされたとき、上ステージ41と吸着パッド443とが協働して、版PPまたは基板SBを保持平面41aに保持することができる。   The upper suction unit 44 is integrated with the upper stage 41 by fixing the base plate 446 to the side surface of the beam-like structure 43. In this state, the lower end of each pipe 442 and the suction pad 443 are inserted through through holes (not shown) provided in the upper stage 41. Then, by the operation of the elevating mechanism 447, the suction pad 443 has the lower surface discharged to the lower side of the lower surface (holding plane) 41a of the upper stage 41 and the lower surface inside the through hole of the upper stage 41 (upper). It moves up and down with the retracted position. When the lower surface of the suction pad 443 is positioned at substantially the same height as the holding plane 41a of the upper stage 41, the upper stage 41 and the suction pad 443 cooperate to hold the plate PP or the substrate SB on the holding plane 41a. can do.

図1に戻って、上記のように構成された上ステージアセンブリ40はベースプレート481上に設けられている。より詳しくは、支持柱45,46がそれぞれベースプレート481に立設されており、該支持柱45,46に対して上ステージアセンブリ40が昇降可能に取り付けられている。ベースプレート481は、上ステージ支持フレーム22,23に取り付けられ例えばクロスローラベアリング等の適宜の可動機構を備える上ステージブロック支持機構482により支持されている。   Returning to FIG. 1, the upper stage assembly 40 configured as described above is provided on a base plate 481. More specifically, the support columns 45 and 46 are respectively erected on the base plate 481, and the upper stage assembly 40 is attached to the support columns 45 and 46 so as to be movable up and down. The base plate 481 is attached to the upper stage support frames 22 and 23, and is supported by an upper stage block support mechanism 482 including an appropriate movable mechanism such as a cross roller bearing.

このため、上ステージアセンブリ40全体が、メインフレーム2に対して水平移動可能となっている。具体的には、ベースプレート481が上ステージブロック支持機構482の作動により水平面、すなわちXY平面内で水平移動する。支持柱45,46のそれぞれに対応して設けられた1対のベースプレート481は互いに独立して移動可能となっており、これらの移動に伴って、上ステージアセンブリ40はメインフレーム2に対してX方向、Y方向およびθ方向に所定の範囲で移動可能である。   Therefore, the entire upper stage assembly 40 can be moved horizontally with respect to the main frame 2. Specifically, the base plate 481 moves horizontally in the horizontal plane, that is, the XY plane by the operation of the upper stage block support mechanism 482. A pair of base plates 481 provided corresponding to the support pillars 45 and 46 can move independently of each other, and the upper stage assembly 40 moves with respect to the main frame 2 in accordance with these movements. It is possible to move in a predetermined range in the direction, the Y direction, and the θ direction.

上記のように構成されたパターン形成装置1の各部は、制御ユニット8により制御される。図2に示すように、制御ユニット8は、装置全体の動作を司るCPU801と、各部に設けられたモータを制御するモータ制御部802と、各部に設けられた制御バルブ類を制御するバルブ制御部803と、各部に供給する負圧を発生する負圧供給部804とを備えている。なお、外部から供給される負圧を利用可能である場合には制御ユニット8が負圧供給部を備えていなくてもよい。   Each part of the pattern forming apparatus 1 configured as described above is controlled by the control unit 8. As shown in FIG. 2, the control unit 8 includes a CPU 801 that controls the operation of the entire apparatus, a motor control unit 802 that controls a motor provided in each unit, and a valve control unit that controls control valves provided in each unit. 803 and a negative pressure supply unit 804 that generates a negative pressure to be supplied to each unit. In addition, when the negative pressure supplied from the outside can be utilized, the control unit 8 does not need to be provided with the negative pressure supply part.

モータ制御部802は、各機能ブロックに設けられたモータ群を制御することで、装置各部の位置決めや移動を司る。また、バルブ制御部803は、負圧供給部804から各機能ブロックに接続される負圧の配管経路上およびガス供給部806からハンド625に接続される配管経路上に設けられたバルブ群を制御することで、負圧供給による真空吸着の実行およびその解除と、ハンド上面625aからのガス吐出とを司る。   The motor control unit 802 controls positioning and movement of each part of the apparatus by controlling a motor group provided in each functional block. Further, the valve control unit 803 controls a valve group provided on a negative pressure piping path connected from the negative pressure supply unit 804 to each functional block and on a piping path connected from the gas supply unit 806 to the hand 625. Thus, the vacuum suction by the negative pressure supply is executed and released, and the gas is discharged from the hand upper surface 625a.

また、この制御ユニット8は、カメラにより撮像された画像に対し画像処理を施す画像処理部805を備えている。画像処理部805は、メインフレーム2に取り付けられた基板用プリアライメントカメラ241〜243およびブランケット用プリアライメントカメラ244〜246により撮像された画像に対して所定の画像処理を行うことで、基板SBおよびブランケットBLの概略位置を検出する。また、後述する精密アライメント用のアライメントカメラ27により撮像された画像に対して所定の画像処理を行うことで、基板SBとブランケットBLとの位置関係をより精密に検出する。CPU801は、これらの位置検出結果に基づいて上ステージブロック支持機構482およびアライメント支持機構605を制御し、上ステージ41に保持された版PPまたは基板SBと下ステージ61に保持されたブランケットBLとの位置合わせ(プリアライメント処理および精密アライメント処理)を行う。   The control unit 8 includes an image processing unit 805 that performs image processing on an image captured by the camera. The image processing unit 805 performs predetermined image processing on images captured by the substrate pre-alignment cameras 241 to 243 and the blanket pre-alignment cameras 244 to 246 attached to the main frame 2, so that the substrate SB and The approximate position of the blanket BL is detected. Further, the positional relationship between the substrate SB and the blanket BL is detected more precisely by performing predetermined image processing on an image picked up by an alignment camera 27 for precision alignment described later. The CPU 801 controls the upper stage block support mechanism 482 and the alignment support mechanism 605 based on these position detection results, and the plate PP or substrate SB held on the upper stage 41 and the blanket BL held on the lower stage 61. Alignment (pre-alignment processing and precision alignment processing) is performed.

次に、上記のように構成されたパターン形成装置1におけるパターン形成処理について説明する。このパターン形成処理では、上ステージ41に保持された版PPまたは基板SBと、下ステージ61に保持されたブランケットBLとが微小なギャップを隔てて近接対向配置される。そして、転写ローラ641がブランケットBLの下面に当接してブランケットBLを局所的に上方へ押し上げながらブランケットBL下面に沿って移動する。押し上げられたブランケットBLは版PPまたは基板SBとまず局所的に当接し、ローラ移動に伴って当接部分が次第に拡大して最終的には版PPまたは基板SBの全体と当接する。これにより、版PPからブランケットBLへのパターニング、またはブランケットBLから基板SBへのパターン転写が行われる。   Next, a pattern forming process in the pattern forming apparatus 1 configured as described above will be described. In this pattern forming process, the plate PP or the substrate SB held on the upper stage 41 and the blanket BL held on the lower stage 61 are arranged close to each other with a minute gap therebetween. Then, the transfer roller 641 contacts the lower surface of the blanket BL and moves along the lower surface of the blanket BL while locally pushing up the blanket BL. The pushed blanket BL first locally contacts the plate PP or the substrate SB, and the contact portion gradually expands as the roller moves, and finally contacts the entire plate PP or the substrate SB. Thus, patterning from the plate PP to the blanket BL or pattern transfer from the blanket BL to the substrate SB is performed.

図7はパターン形成処理を示すフローチャートである。また、図8ないし図15は処理の各段階における装置各部の位置関係を模式的に示す図である。以下、パターン形成処理における各部の動作を図8ないし図15を参照しつつ説明する。なお、処理の各段階における各部の関係をわかりやすく示すために、当該段階の処理に直接に関係しない構成またはそれに付すべき符号の図示を省略することがある。また、上ステージ41に保持される処理対象物が版PPであるときと基板SBであるときとの間では一部を除いて動作が同じであるため、図を共通として版PPと基板SBとを適宜読み替えることとする。   FIG. 7 is a flowchart showing the pattern forming process. FIGS. 8 to 15 are diagrams schematically showing the positional relationship of each part of the apparatus at each stage of processing. The operation of each part in the pattern forming process will be described below with reference to FIGS. In addition, in order to show the relationship between the respective units at each stage of the process in an easy-to-understand manner, a configuration that is not directly related to the process at the stage or a reference numeral to be attached thereto may be omitted. In addition, since the operation is the same except when a processing object held on the upper stage 41 is a plate PP and a substrate SB, the plate PP and the substrate SB are shown in common in the figure. Will be read as appropriate.

このパターン形成処理では、初期化されたパターン形成装置1に対して、まず形成すべきパターンに対応する版PPを搬入して上ステージ41にセットし(ステップS101)、次いで、パターン形成材料による一様な塗布層が形成されたブランケットBLを搬入して下ステージ61にセットする(ステップS102)。版PPはパターンに対応する有効面を下向きにして、またブランケットBLは塗布層を上向きにして搬入される。   In this pattern forming process, the plate PP corresponding to the pattern to be formed is first loaded into the initialized pattern forming apparatus 1 and set on the upper stage 41 (step S101). A blanket BL on which such a coating layer is formed is carried and set on the lower stage 61 (step S102). The plate PP is loaded with the effective surface corresponding to the pattern facing downward, and the blanket BL is loaded with the coating layer facing upward.

図8は、版PPまたは基板SBが装置に搬入され上ステージ41にセットされるまでの過程を示している。図8(a)に示すように、初期状態では、上ステージ41が上方に退避して下ステージ61との間隔が大きくなっており、両ステージの間に広い処理空間SPが形成されている。また、各ハンド625は下ステージ61の上面よりも下方に退避している。転写ローラ641は下ステージ61の開口窓611に臨む位置のうち最も(−X)方向に寄った位置で、かつ鉛直方向(Z方向)には下ステージ61の上面よりも下方に退避した位置にある。負圧供給部804に接続される各制御バルブは閉じられている。   FIG. 8 shows a process until the plate PP or the substrate SB is carried into the apparatus and set on the upper stage 41. As shown in FIG. 8A, in the initial state, the upper stage 41 is retracted upward and the distance from the lower stage 61 is increased, and a wide processing space SP is formed between both stages. Each hand 625 is retracted below the upper surface of the lower stage 61. The transfer roller 641 is the position closest to the (−X) direction among the positions facing the opening window 611 of the lower stage 61, and the position retracted below the upper surface of the lower stage 61 in the vertical direction (Z direction). is there. Each control valve connected to the negative pressure supply unit 804 is closed.

この状態で、装置の正面側から、つまり(−Y)方向から(+Y)方向に向かって、外部の版用ハンドHPに載置された版PPが、予めその厚みが計測された上で処理空間SPに搬入される。版用ハンドHPは、オペレータにより手動操作される操作治具であってもよく、また外部の搬送ロボットのハンドであってもよい。このときハンド625および転写ローラ641が下方に退避していることで、搬入作業を容易にすることができる。版PPが所定の位置に位置決めされると、矢印で示すように上ステージ41が降下してくる。   In this state, from the front side of the apparatus, that is, from the (−Y) direction to the (+ Y) direction, the plate PP placed on the external plate hand HP is processed after its thickness is measured in advance. It is carried into the space SP. The plate hand HP may be an operation jig manually operated by an operator, or may be a hand of an external transfer robot. At this time, since the hand 625 and the transfer roller 641 are retracted downward, the carrying-in operation can be facilitated. When the plate PP is positioned at a predetermined position, the upper stage 41 is lowered as indicated by an arrow.

上ステージ41が版PPに近接した所定の位置まで降下すると、図8(b)に示すように、上ステージ41に設けられた吸着パッド443が上ステージ41の下面、つまり保持平面41aよりも下方までせり出してきて、版PPの上面に当接する。吸着パッド443につながる制御バルブが開かれることで、吸着パッド443により版PPの上面が吸着されて版PPが保持される。そして、吸着を継続したまま吸着パッド443を上昇させることで、版PPは版用ハンドHPから持ち上げられる。この時点で版用ハンドHPは装置外へ移動する。   When the upper stage 41 is lowered to a predetermined position close to the plate PP, the suction pad 443 provided on the upper stage 41 is below the lower surface of the upper stage 41, that is, the holding plane 41a, as shown in FIG. Until it touches the upper surface of the plate PP. When the control valve connected to the suction pad 443 is opened, the upper surface of the plate PP is sucked by the suction pad 443 and the plate PP is held. Then, the plate PP is lifted from the plate hand HP by raising the suction pad 443 while continuing the suction. At this point, the plate hand HP moves out of the apparatus.

最終的には、図8(c)に示すように、吸着パッド443の下面が保持平面41aと同一高さあるいはそれより僅かに高い位置まで上昇し、これにより版PPの上面が上ステージ41の保持平面41aに密着した状態で保持される。上ステージ41の下面に吸着溝もしくは吸着孔を設け、これらにより、吸着パッド443から受け渡される版PPを吸着保持する構成であってもよい。このようにして版PPの保持が完了する。同様の手順により、基板用ハンドHSにより基板SBを搬入することができる。   Finally, as shown in FIG. 8C, the lower surface of the suction pad 443 rises to a position that is the same height as or slightly higher than the holding plane 41a, so that the upper surface of the plate PP becomes higher than that of the upper stage 41. It is held in close contact with the holding plane 41a. A configuration may be adopted in which suction grooves or suction holes are provided on the lower surface of the upper stage 41 so that the plate PP delivered from the suction pad 443 is sucked and held. In this way, the holding of the plate PP is completed. By the same procedure, the substrate SB can be loaded by the substrate hand HS.

図9および図10は、版PPの搬入後、ブランケットBLが搬入されて下ステージ61に保持されるまでの過程を示している。上ステージ41による版PPの保持が完了すると、図9(a)に示すように、上ステージ41を上昇させて再び広い処理空間SPを形成するとともに、各ハンド625を下ステージ61の上面61aよりも上方まで上昇させる。このとき、各ハンド625の上面625aが全て同一高さとなるようにする。   9 and 10 show a process from the loading of the plate PP until the blanket BL is loaded and held on the lower stage 61. FIG. When the holding of the plate PP by the upper stage 41 is completed, as shown in FIG. 9A, the upper stage 41 is raised to form a wide processing space SP again, and each hand 625 is moved from the upper surface 61 a of the lower stage 61. Also raise to the top. At this time, the upper surfaces 625a of the hands 625 are all set to the same height.

この状態で、図9(b)に示すように、上面にパターニング形成材料による塗布層PTが形成されたブランケットBLが外部のブランケット用ハンドHBに載置されて処理空間SPに搬入されるのを受け付ける。ブランケットBLは搬入に先立ってその厚みが計測される。ブランケット用ハンドHBは、ハンド625と干渉することなくそれらの隙間を通って進入することができるように、Y方向に延びるフィンガーを有するフォーク型のものであることが望ましい。   In this state, as shown in FIG. 9B, the blanket BL having the coating layer PT made of the patterning material formed on the upper surface is placed on the external blanket hand HB and carried into the processing space SP. Accept. The thickness of the blanket BL is measured prior to loading. The blanket hand HB is preferably of the fork type having fingers extending in the Y direction so that the blanket hand HB can enter through the gap without interfering with the hand 625.

ブランケット用ハンドHBが進入後降下する、またはハンド625が上昇することによって、ハンド625の上面625aはブランケットBLの下面に当接し、図9(c)に示すように、それ以降ブランケットBLはハンド625により支持される。ハンド625に設けた吸着孔625b(図4)に負圧を供給することで、支持をより確実なものとすることができる。こうしてブランケットBLはブランケット用ハンドHBからハンド625に受け渡され、ブランケット用ハンドHBについては装置外へ排出することができる。   When the blanket hand HB descends after entering or the hand 625 rises, the upper surface 625a of the hand 625 comes into contact with the lower surface of the blanket BL. Thereafter, as shown in FIG. Is supported by By supplying a negative pressure to the suction hole 625b (FIG. 4) provided in the hand 625, the support can be made more reliable. Thus, the blanket BL is transferred from the blanket hand HB to the hand 625, and the blanket hand HB can be discharged out of the apparatus.

その後、図10(a)に示すように、各ハンド625の上面625aの高さを揃えたままハンド625を降下させ、最終的にはハンド上面625aを下ステージ61の上面61aと同じ高さとする。これにより、ブランケットBL四辺の周縁部が下ステージ61の上面61aに当接する。   Thereafter, as shown in FIG. 10A, the hand 625 is lowered with the height of the upper surface 625 a of each hand 625 aligned, and finally the hand upper surface 625 a is made to be the same height as the upper surface 61 a of the lower stage 61. . As a result, the peripheral portions of the four sides of the blanket BL abut against the upper surface 61 a of the lower stage 61.

このとき、図10(b)に示すように、下ステージ上面61aに設けた真空吸着溝612に負圧を供給して、ブランケットBLを吸着保持する。これに伴い、ハンド625での吸着は解除する。これにより、ブランケットBLは、その四辺の周縁部を下ステージ61により吸着保持された状態となる。図10(b)では、ハンド625による吸着保持を解除したことを明示するためにブランケットBLとハンド625とが離間しているが、実際にはブランケットBLの下面がハンド上面625aに当接した状態が維持される。   At this time, as shown in FIG. 10B, a negative pressure is supplied to the vacuum suction groove 612 provided on the lower stage upper surface 61a to suck and hold the blanket BL. Accordingly, the suction with the hand 625 is released. As a result, the blanket BL is in a state in which the peripheral portions of the four sides are sucked and held by the lower stage 61. In FIG. 10B, the blanket BL and the hand 625 are separated to clearly indicate that the suction holding by the hand 625 has been released, but in actuality, the lower surface of the blanket BL is in contact with the upper surface 625a of the hand. Is maintained.

仮にこの状態でハンド625を離間させたとすると、ブランケットBLは自重によって中央部が下方へ撓み、全体として下に凸の形状になると考えられる。ハンド625を下ステージ上面61aと同じ高さに維持することによって、このような撓みを抑えてブランケットBLを平面状態に維持することができる。こうして、ブランケットBLはその周縁部が下ステージ61により吸着保持されつつ、中央部についてはハンド625により補助的に支持された状態となって、ブランケットBLの保持が完了する。   If the hand 625 is separated in this state, it is considered that the blanket BL is bent downward at its center by its own weight, and has a convex shape as a whole. By maintaining the hand 625 at the same height as the lower stage upper surface 61a, it is possible to suppress the bending and maintain the blanket BL in a planar state. In this way, the blanket BL is held by the lower stage 61 by suction and the central portion is supplementarily supported by the hand 625, and the holding of the blanket BL is completed.

版PPとブランケットBLとの搬入順序は上記と逆であっても構わない。ただし、ブランケットBLを搬入した後に版PPを搬入する場合、版PPの搬入時にブランケットBL上に異物が落下してパターン形成材料による塗布層PTを汚染したり欠陥を発生させるおそれがある。上記のように版PPを上ステージ41にセットした後に下ステージ61にブランケットBLをセットすることで、そのような問題を未然に回避することが可能である。   The order of loading the plate PP and the blanket BL may be reversed. However, when the plate PP is loaded after the blanket BL is loaded, there is a risk that foreign matter may fall on the blanket BL when the plate PP is loaded, thereby contaminating the coating layer PT with the pattern forming material or causing defects. By setting the blanket BL on the lower stage 61 after setting the plate PP on the upper stage 41 as described above, such a problem can be avoided in advance.

図7に戻って、こうして上下ステージに版PPおよびブランケットBLがそれぞれセットされると、続いて版PPおよびブランケットBLのプリアライメント処理が行われる(ステップS103)。さらに、両者が予め設定されたギャップを隔てて対向するように、ギャップ調整が行われる(ステップS104)。   Returning to FIG. 7, when the plate PP and the blanket BL are set on the upper and lower stages in this way, the plate PP and the blanket BL are pre-aligned (step S103). Furthermore, gap adjustment is performed so that both face each other across a preset gap (step S104).

図11はギャップ調整処理およびアライメント処理の過程を示す図である。このうち図11(c)に示す精密アライメント処理は後述する転写処理のみにおいて必要な処理であるので、これについては後の転写処理の説明において述べる。上記のように版PP、基板SBまたはブランケットBLが外部から搬入されるが、その受け渡しの際に位置ずれが起こり得る。プリアライメント処理は、上ステージ41に保持された版PPまたは基板SBと、下ステージ61に保持されたブランケットBLとのそれぞれを、以後の処理に適した位置に概略位置決めするための処理である。   FIG. 11 is a diagram illustrating a process of gap adjustment processing and alignment processing. Among them, the precision alignment process shown in FIG. 11C is a process necessary only for the transfer process described later, and will be described in the later description of the transfer process. As described above, the plate PP, the substrate SB, or the blanket BL is carried in from the outside, but a positional shift may occur during the delivery. The pre-alignment process is a process for roughly positioning the plate PP or substrate SB held on the upper stage 41 and the blanket BL held on the lower stage 61 at positions suitable for the subsequent processes.

図11(a)はプリアライメントを実行するための構成の配置を模式的に示す側面図である。前述したように、この実施形態では、装置上部に全部で6基のプリアライメントカメラ241〜246が設けられている。このうち3基のカメラ241〜243は、上ステージ41に保持された版PP(または基板SB)の外縁を検出するための基板用プリアライメントカメラである。また、他の3基のカメラ244〜246は、ブランケットBLの外縁を検出するためのブランケット用プリアライメントカメラである。なお、ここではプリアライメントカメラ241〜243を便宜的に「基板用プリアライメントカメラ」と称しているが、これらは版PPの位置合わせおよび基板SBの位置合わせのいずれにも使用可能なものであり、またその処理内容も同じである。   FIG. 11A is a side view schematically showing the arrangement of a configuration for executing pre-alignment. As described above, in this embodiment, a total of six pre-alignment cameras 241 to 246 are provided in the upper part of the apparatus. Among these, the three cameras 241 to 243 are substrate pre-alignment cameras for detecting the outer edge of the plate PP (or the substrate SB) held on the upper stage 41. The other three cameras 244 to 246 are blanket pre-alignment cameras for detecting the outer edge of the blanket BL. Here, the pre-alignment cameras 241 to 243 are referred to as “substrate pre-alignment cameras” for the sake of convenience, but these can be used for both the alignment of the plate PP and the alignment of the substrate SB. The processing contents are also the same.

図1および図11(a)に示すように、基板用プリアライメントカメラ241,242はX方向には略同位置でY方向に互いに位置を異ならせて設置されており、版PPまたは基板SBの(−X)側外縁部を上方からそれぞれ撮像する。上ステージ41は基板SBより少し小さい平面サイズに形成されているため、上ステージ41の端部よりも外側まで延びた版PP(または基板SB)の(−X)側外縁部を上方から撮像することができる。また、図には現れないが、図11(a)紙面の手前側にはもう1基の基板用プリアライメントカメラ243が設けられており、該カメラ243は版PP(または基板SB)の(−Y)側外縁部を上方から撮像する。   As shown in FIGS. 1 and 11 (a), the substrate pre-alignment cameras 241 and 242 are installed at substantially the same position in the X direction and different positions in the Y direction. The (-X) side outer edge is imaged from above. Since the upper stage 41 is formed in a plane size slightly smaller than the substrate SB, the (-X) side outer edge portion of the plate PP (or the substrate SB) extending outward from the end portion of the upper stage 41 is imaged from above. be able to. Further, although not shown in the figure, another substrate pre-alignment camera 243 is provided on the front side of the paper surface of FIG. 11A, and the camera 243 is (−) of the plate PP (or the substrate SB). Y) Take an image of the side outer edge from above.

一方、ブランケット用プリアライメントカメラ244,246はX方向には略同位置でY方向に互いに位置を異ならせて設置されており、下ステージ61に載置されるブランケットBLの(+X)側外縁部を上方からそれぞれ撮像する。また、図11(a)紙面の手前側にもう1基のブランケット用プリアライメントカメラ245が設けられており、該カメラ245はブランケットBLの(−Y)側外縁部を上方から撮像する。   On the other hand, the blanket pre-alignment cameras 244 and 246 are installed in substantially the same position in the X direction and different positions in the Y direction, and the (+ X) side outer edge portion of the blanket BL placed on the lower stage 61. Are imaged from above. Further, another blanket pre-alignment camera 245 is provided on the front side of FIG. 11A, and the camera 245 images the outer edge of the blanket BL on the (−Y) side from above.

これらのプリアライメントカメラ241〜246による撮像結果から版PP(または基板SB)およびブランケットBLの位置がそれぞれ把握される。そして、必要に応じて上ステージブロック支持機構482およびアライメントステージ支持機構605が作動することにより、版PP(または基板SB)およびブランケットBLがそれぞれ予め設定された目標位置に位置決めされる。   The positions of the plate PP (or the substrate SB) and the blanket BL are grasped from the imaging results of these pre-alignment cameras 241 to 246, respectively. Then, when the upper stage block support mechanism 482 and the alignment stage support mechanism 605 operate as necessary, the plate PP (or the substrate SB) and the blanket BL are respectively positioned at preset target positions.

なお、下ステージ61とともにブランケットBLを水平移動させるとき、図11(a)に示すように、各ハンド625の上面625aとブランケットBLの下面とは僅かに離間させておくことが好ましい。この目的のために、ガス供給部806から供給されるガスをハンド625の吸着孔625bから吐出させておくことができる。これは後述する精密アライメント処理においても同様である。   When the blanket BL is moved horizontally together with the lower stage 61, it is preferable that the upper surface 625a of each hand 625 and the lower surface of the blanket BL are slightly separated from each other as shown in FIG. For this purpose, the gas supplied from the gas supply unit 806 can be discharged from the suction hole 625 b of the hand 625. The same applies to the precision alignment process described later.

また、薄型あるいは大型で撓みが生じやすい基板SBについては、取り扱いを容易にするために例えば背面に板状の支持部材を当接させた状態で基板SBが処理に供する場合がある。このような場合、たとえ支持部材が基板SBよりも大型のものであっても、例えば支持部材を透明材料で構成したり、支持部材に部分的に透明な窓または貫通孔を設けるなど、基板SBの外縁部の位置を検出容易な構成としておけば、上記と同様のプリアライメント処理が可能である。   In addition, for a thin or large substrate SB that is likely to be bent, the substrate SB may be subjected to processing with a plate-like support member in contact with the back surface, for example, in order to facilitate handling. In such a case, even if the support member is larger than the substrate SB, for example, the support member is made of a transparent material, or a partially transparent window or through hole is provided in the support member. If the position of the outer edge portion is set to be easy to detect, pre-alignment processing similar to the above can be performed.

次いで、図11(b)に示すように、ブランケットBLを保持する下ステージ61に対して、版PPを保持する上ステージ41を降下させて、版PPとブランケットBLとの間隔Gを予め定められた設定値に合わせる。このとき、事前に計測された版PPおよびブランケットBLの厚みが考慮される。すなわち、版PPおよびブランケットBLの厚みを加味した上で両者のギャップが所定値になるように、上ステージ41と下ステージ61との間隔が調整される。ここでのギャップ値Gとしては、例えば300μm程度とすることができる。   Next, as shown in FIG. 11B, the upper stage 41 holding the plate PP is lowered with respect to the lower stage 61 holding the blanket BL, and a gap G between the plate PP and the blanket BL is determined in advance. To the set value. At this time, the thicknesses of the plate PP and the blanket BL measured in advance are taken into consideration. That is, the distance between the upper stage 41 and the lower stage 61 is adjusted so that the gap between the plates PP and the blanket BL takes a predetermined value in consideration of the thickness. The gap value G here can be set to about 300 μm, for example.

版PPおよびブランケットBLの厚みについては、製造上の寸法ばらつきによる個体差があるほか、同一部品であっても例えば膨潤による厚みの変化が考えられるので、使用の都度計測されることが望ましい。また、ギャップGについては、版PPの下面とブランケットBLの上面との間で定義されてもよく、また版PPの下面と、ブランケットBLに担持されたパターン形成材料の塗布層PTの上面との間で定義されてもよい。塗布層PTの厚みが塗布段階で厳密に管理されている限り、技術的には等価である。   Regarding the thicknesses of the plate PP and the blanket BL, there are individual differences due to dimensional variations in manufacturing, and even for the same part, for example, a change in thickness due to swelling is conceivable. Further, the gap G may be defined between the lower surface of the plate PP and the upper surface of the blanket BL, and between the lower surface of the plate PP and the upper surface of the coating layer PT of the pattern forming material carried on the blanket BL. May be defined between. As long as the thickness of the coating layer PT is strictly controlled in the coating stage, it is technically equivalent.

図7に戻って、こうして版PPとブランケットBLとがギャップGを隔てて対向配置されると、続いて転写ローラ641をブランケットBLの下面に当接させつつX方向に走行させることで、版PPとブランケットBLとを当接させる。これによりブランケットBL上のパターン形成材料の塗布層PTを版PPによりパターニングする(パターニング処理;ステップS105)。   Returning to FIG. 7, when the plate PP and the blanket BL are arranged to face each other with a gap G therebetween, the plate PP is moved by moving the transfer roller 641 in the X direction while contacting the lower surface of the blanket BL. And the blanket BL are brought into contact with each other. Thereby, the coating layer PT of the pattern forming material on the blanket BL is patterned by the plate PP (patterning process; step S105).

図12はパターニング処理の過程を示している。具体的には、図12(a)に示すように、転写ローラ641をブランケットBLの直下位置まで上昇させるとともに、X方向には転写ローラ641の中心線が版PPの端部と略同じ位置、またはこれよりも(−X)方向に僅かに外れた位置に、転写ローラ641を配置する。この状態で、図12(b)に示すように、転写ローラ641をさらに上昇させてブランケットBLの下面に当接させ、該当接された位置のブランケットBLを局所的に上方に押し上げる。これにより、ブランケットBL(より厳密にはブランケットBLに担持されたパターン形成材料の塗布層PT)が所定の押圧力で版PPの下面に押圧される。転写ローラ641はY方向において版PP(および有効領域)より長いので、版PPの下面のうちY方向における一方端から他方端に至るY方向に沿った細長い領域がブランケットBLと当接する。   FIG. 12 shows the patterning process. Specifically, as shown in FIG. 12A, the transfer roller 641 is raised to a position immediately below the blanket BL, and the center line of the transfer roller 641 is substantially the same as the end of the plate PP in the X direction. Alternatively, the transfer roller 641 is disposed at a position slightly deviated in the (−X) direction. In this state, as shown in FIG. 12B, the transfer roller 641 is further raised and brought into contact with the lower surface of the blanket BL, and the blanket BL at the contacted position is locally pushed upward. As a result, the blanket BL (more precisely, the coating layer PT of the pattern forming material carried on the blanket BL) is pressed against the lower surface of the plate PP with a predetermined pressing force. Since the transfer roller 641 is longer than the plate PP (and the effective region) in the Y direction, an elongated region along the Y direction from one end to the other end in the Y direction on the lower surface of the plate PP contacts the blanket BL.

こうして転写ローラ641がブランケットBLを押圧した状態のまま昇降機構644が(+X)方向に向けて走行することで、ブランケットBLの押し上げ位置を(+X)方向に移動させる。このときハンド625が転写ローラ641と接触するのを防止するため、図12(c)に示すように、転写ローラ641とのX方向距離が所定値以下となったハンド625については少なくとも当該ハンド625の上面625aが支持フレーム642の下面より低い位置となるまで下方に退避させる。   Thus, the lifting mechanism 644 travels in the (+ X) direction while the transfer roller 641 presses the blanket BL, thereby moving the push-up position of the blanket BL in the (+ X) direction. At this time, in order to prevent the hand 625 from coming into contact with the transfer roller 641, as shown in FIG. 12C, at least the hand 625 with respect to the hand 625 whose X-direction distance to the transfer roller 641 is equal to or smaller than a predetermined value. The upper surface 625a is retracted downward until it is positioned lower than the lower surface of the support frame 642.

ハンド625による吸着は既に解除されているので、ハンド625の降下とともにブランケットBLが下方へ引き下げられることはない。また、降下を開始するタイミングを転写ローラ641の走行に同期して適宜に管理することで、ハンド625による支持を失ったブランケットBLが自重で下方へ垂れ下がることも防止することが可能である。   Since the suction by the hand 625 has already been released, the blanket BL is not lowered downward as the hand 625 is lowered. Further, by appropriately managing the timing of starting the descent in synchronization with the travel of the transfer roller 641, it is possible to prevent the blanket BL that has lost support by the hand 625 from drooping downward due to its own weight.

図13は転写ローラ641の走行過程を示している。いったん当接した版PPとブランケットBLとはパターン形成材料の塗布層PTを介して密着した状態が維持されるので、図13(a)に示すように、転写ローラ641の走行に伴って版PPとブランケットBLとが密着した領域が次第に(+X)方向に拡大してゆく。この際、同図に示すように、転写ローラ641が接近するにつれてハンド625を順次降下させる。   FIG. 13 shows the running process of the transfer roller 641. Since the plate PP and the blanket BL that have been in contact with each other are maintained in close contact with each other through the coating layer PT of the pattern forming material, the plate PP is moved along with the travel of the transfer roller 641 as shown in FIG. And the area where the blanket BL is in close contact gradually expands in the (+ X) direction. At this time, as shown in the figure, the hand 625 is sequentially lowered as the transfer roller 641 approaches.

こうして最終的には、図13(b)に示すように、全てのハンド625が降下し、転写ローラ641が下ステージ61下方の(+X)側端部近傍まで到達する。この時点で転写ローラ641は版PPの(+X)側端部の略直下またはこれより僅かに(+X)側の位置に到達しており、版PPの下面全てがブランケットBL上の塗布層PTに当接される。   Finally, as shown in FIG. 13B, all the hands 625 are lowered, and the transfer roller 641 reaches the vicinity of the (+ X) side end below the lower stage 61. At this time, the transfer roller 641 has reached a position substantially directly below or slightly to the (+ X) side of the end of the (+ X) side of the plate PP, and the entire lower surface of the plate PP is applied to the coating layer PT on the blanket BL. Abutted.

転写ローラ641が一定の高さを維持して走行する間、ブランケットBL下面のうち転写ローラ641により押圧される領域の面積は一定である。したがって、昇降機構644が一定の荷重を与えながら転写ローラ641をブランケットBLに押し付けることによって、版PPとブランケットBLとは間にパターン形成材料の塗布層PTを挟みながら一定の押圧力で互いに押圧されることになる。これにより、版PPからブランケットBLへのパターニングを良好に行うことができる。   While the transfer roller 641 travels while maintaining a constant height, the area of the area pressed by the transfer roller 641 on the lower surface of the blanket BL is constant. Therefore, when the lifting mechanism 644 applies a constant load and presses the transfer roller 641 against the blanket BL, the plate PP and the blanket BL are pressed against each other with a constant pressing force with the coating layer PT of the pattern forming material interposed therebetween. Will be. Thereby, patterning from the plate PP to the blanket BL can be performed satisfactorily.

なお、パターニングに際しては、版PPの表面領域の全体が有効に利用できることが理想的であるが、版PPの周縁部には傷や搬送時のハンドとの接触等により有効利用できない領域が不可避的に生じる。図13(b)に示すように、版PPの端部領域を除外した中央部分を版として有効に機能する有効領域ARとしたとき、少なくとも有効領域AR内では転写ローラ641の押圧力および走行速度が一定であることが望ましい。このためには、転写ローラ641のY方向長さが同方向における有効領域ARの長さよりも長い必要がある。またX方向においては、(−X)方向における有効領域ARの端部よりも(−X)側位置から転写ローラ641の走行を開始し、少なくとも(+X)方向における有効領域ARの端部に到達するまでは一定速度を維持することが望ましい。版PPの有効領域ARと対向するブランケットBLの表面領域が、ブランケットBL側の有効領域となる。   In patterning, it is ideal that the entire surface area of the plate PP can be used effectively. However, an area that cannot be effectively used due to scratches, contact with the hand during transportation, or the like is unavoidable at the periphery of the plate PP. To occur. As shown in FIG. 13B, when the central area excluding the end area of the plate PP is an effective area AR that functions effectively as a plate, at least the effective area AR has a pressing force and a traveling speed of the transfer roller 641. It is desirable that is constant. For this purpose, the length of the transfer roller 641 in the Y direction needs to be longer than the length of the effective area AR in the same direction. In the X direction, the transfer roller 641 starts traveling from a position on the (−X) side of the end of the effective area AR in the (−X) direction, and reaches at least the end of the effective area AR in the (+ X) direction. Until then, it is desirable to maintain a constant speed. The surface area of the blanket BL facing the effective area AR of the plate PP is the effective area on the blanket BL side.

図14は版または基板とブランケットとの位置関係を示している。より具体的には、この図は版PPまたは基板SBがブランケットBLに当接するときの位置関係を上方から見た平面図である。図に示すように、ブランケットBLは版PPまたは基板SBよりも大きな平面サイズを有している。ブランケットBLのうち図においてドットを付した周縁部に近い領域R1は、下ステージ61に保持されるときに下ステージ上面61aに当接する領域である。これより内側の領域については下面が開放された状態で、ブランケットBLは下ステージ61に保持される。   FIG. 14 shows the positional relationship between the plate or substrate and the blanket. More specifically, this figure is a plan view of the positional relationship when the plate PP or the substrate SB contacts the blanket BL as viewed from above. As shown in the figure, the blanket BL has a larger planar size than the plate PP or the substrate SB. The region R1 near the peripheral edge with dots in the drawing in the blanket BL is a region that abuts the lower stage upper surface 61a when held by the lower stage 61. The blanket BL is held by the lower stage 61 in a state where the lower surface of the inner region is open.

版PPと基板SBとはほぼ同じサイズであり、これらは下ステージ61の開口窓サイズよりも小さい。また、実際のパターン形成に有効に使用される有効領域ARは、版PPまたは基板SBのサイズよりも小さい。したがって、ブランケットBLのうち有効領域ARに対応する領域は下面が開放されて下ステージ61の開口窓611に臨んだ状態である。   The plate PP and the substrate SB are substantially the same size, and these are smaller than the opening window size of the lower stage 61. The effective area AR that is effectively used for actual pattern formation is smaller than the size of the plate PP or the substrate SB. Therefore, the area corresponding to the effective area AR in the blanket BL is in a state where the lower surface is opened and faces the opening window 611 of the lower stage 61.

ハッチングを付した領域R2は、ブランケットBL下面のうち転写ローラ641によって同時に押圧を受ける領域(押圧領域)を示している。押圧領域R2は、ローラ延設方向、つまりY方向に延びる細長い領域であり、そのY方向における両端部は版PPまたは基板SBの端部よりも外側までそれぞれ延びている。したがって、ブランケットBL下面と平行な状態で転写ローラ641がブランケットBLを押圧するとき、その押圧力は、Y方向における有効領域ARの一方端部から他方端部までの間でY方向に一様である。   A hatched region R2 indicates a region (pressing region) that is simultaneously pressed by the transfer roller 641 on the lower surface of the blanket BL. The pressing region R2 is an elongated region extending in the roller extending direction, that is, the Y direction, and both end portions in the Y direction extend to the outside from the end portions of the plate PP or the substrate SB, respectively. Therefore, when the transfer roller 641 presses the blanket BL in a state parallel to the lower surface of the blanket BL, the pressing force is uniform in the Y direction from one end to the other end of the effective area AR in the Y direction. is there.

こうしてY方向に一様な押圧力を有効領域ARに与えながら転写ローラ641がX方向に移動することで、有効領域AR内の全体で、版PPまたは基板SBとブランケットBLとが一様な押圧力で互いに押圧されることになる。これにより、不均一な押圧に起因するパターン損傷を防止して良質なパターンを形成することが可能となる。   Thus, the transfer roller 641 moves in the X direction while applying a uniform pressing force in the Y direction to the effective area AR, so that the plate PP or the substrate SB and the blanket BL are uniformly pressed in the entire effective area AR. They are pressed against each other by pressure. Thereby, it is possible to prevent pattern damage due to non-uniform pressing and to form a high quality pattern.

こうして転写ローラ641が(+X)側端部まで到達すると、転写ローラ641の走行を停止するとともに、図13(c)に示すように転写ローラ641を下方へ退避させる。これにより、転写ローラ641はブランケットBL下面から離間してパターニング処理が終了する。   When the transfer roller 641 reaches the end on the (+ X) side in this way, the transfer roller 641 stops running, and the transfer roller 641 is retracted downward as shown in FIG. Thereby, the transfer roller 641 is separated from the lower surface of the blanket BL, and the patterning process is completed.

図7に戻って、こうしてパターニング処理が終了すると版PPおよびブランケットBLの搬出が行われる(ステップS106)。図15は版およびブランケットの搬出の過程を示している。まず、図15(a)に示すように、パターニング処理時に降下していた各ハンド625を再び上昇させて、上面625aが下ステージ61の上面61aと同一高さとなる位置に位置決めする。この状態で、上ステージ41の吸着パッド443による版PPの吸着(吸着溝または吸着孔による吸着保持の場合は、それらによる吸着)を解除する。これにより上ステージ41による版PPの保持が解除され、版PPとブランケットBLとがパターン形成材料の塗布層PTを介して一体化された積層体が下ステージ61上に残される。積層体の中央部についてはハンド625により支持される。   Returning to FIG. 7, when the patterning process is completed in this way, the plate PP and the blanket BL are carried out (step S106). FIG. 15 shows the process of carrying out the plate and blanket. First, as shown in FIG. 15A, each hand 625 that has been lowered during the patterning process is raised again to position the upper surface 625 a at the same height as the upper surface 61 a of the lower stage 61. In this state, the adsorption of the plate PP by the suction pad 443 of the upper stage 41 (in the case of suction holding by the suction groove or suction hole, suction by them) is released. As a result, the holding of the plate PP by the upper stage 41 is released, and a laminated body in which the plate PP and the blanket BL are integrated via the coating layer PT of the pattern forming material is left on the lower stage 61. The center of the laminate is supported by the hand 625.

続いて、図15(b)に示すように、上ステージ41を上昇させて広い処理空間SPを形成し、下ステージ61の溝612による吸着を解除するとともに、ハンド625をさらに上昇させて下ステージ61よりも上方へ移動させる。このときハンド625により積層体を吸着保持することが好ましい。   Subsequently, as shown in FIG. 15B, the upper stage 41 is lifted to form a wide processing space SP, the suction by the groove 612 of the lower stage 61 is released, and the hand 625 is further lifted to lower the lower stage. Move upward from 61. At this time, it is preferable that the laminate is sucked and held by the hand 625.

こうすることで外部からのアクセスが可能となる。そこで、図15(c)に示すように、ブランケット用ハンドHBを外部から受け入れて、搬入時とは逆の動作をすることで、版PPを密着させた状態のブランケットBLが外部へ搬出される。こうして密着した版PPをブランケットBLから適宜の剥離手段によって剥離すれば、ブランケットBL上に所定のパターンが形成される。   This makes it possible to access from the outside. Therefore, as shown in FIG. 15C, the blanket BL with the plate PP in close contact is carried out by accepting the blanket hand HB from the outside and performing the reverse operation to that during loading. . If the plate PP thus adhered is peeled from the blanket BL by an appropriate peeling means, a predetermined pattern is formed on the blanket BL.

次に、ブランケットBLに形成されたパターンをその最終的な目的物である基板SBに転写する場合について説明する。その工程は基本的にパターニング処理の場合と同じである。すなわち、図7に示すように、まず基板SBを上ステージ41にセットし(ステップS107)、次いでパターン形成済みのブランケットBLを下ステージ61にセットする(ステップS108)。そして、基板SBとブランケットBLとのプリアライメント処理およびギャップ調整を行った後(ステップS109、S110)、ブランケットBL下部で転写ローラ641を走行させることで、ブランケットBL上のパターンを基板SBに転写する(転写処理;ステップS112)。転写終了後は、一体化されたブランケットBLと基板SBとを搬出して処理は終了する(ステップS113)。これら一連の動作も、図8ないし図15に示したものと同じである。なお、これらの図において版PPを基板SBと読み替えるとき、符号PTはパターニング処理後のパターンを意味するものとする。   Next, a case where the pattern formed on the blanket BL is transferred to the substrate SB that is the final object will be described. The process is basically the same as in the patterning process. That is, as shown in FIG. 7, first, the substrate SB is set on the upper stage 41 (step S107), and then the blanket BL after pattern formation is set on the lower stage 61 (step S108). Then, after pre-alignment processing and gap adjustment between the substrate SB and the blanket BL (steps S109 and S110), the pattern on the blanket BL is transferred to the substrate SB by running the transfer roller 641 below the blanket BL. (Transfer process; Step S112). After the transfer is completed, the integrated blanket BL and the substrate SB are carried out, and the process ends (step S113). These series of operations are also the same as those shown in FIGS. In these drawings, when the plate PP is read as the substrate SB, the symbol PT means a pattern after the patterning process.

ただし、転写処理においては、基板SBの所定位置にパターンを適正に転写するために、基板SBとブランケットBLとを当接させる前に両者のより精密な位置合わせ(精密アライメント処理)を実行する(ステップS111)。図11(c)がその過程を示している。   However, in the transfer process, in order to properly transfer the pattern to a predetermined position on the substrate SB, before the substrate SB and the blanket BL are brought into contact with each other, a more precise alignment (precise alignment process) between the two is performed ( Step S111). FIG. 11C shows the process.

図1では記載を省略したが、このパターン形成装置1には、ベースフレーム21から(+Z)方向に立設された支持柱に支持された精密アライメントカメラ27が設けられている。精密アライメントカメラ27は、下ステージ61の開口窓611を通して基板SBの四隅をそれぞれ撮像するように、その光軸を鉛直上向きにして計4基設けられている。   Although not shown in FIG. 1, the pattern forming apparatus 1 is provided with a precision alignment camera 27 supported by a support column erected in the (+ Z) direction from the base frame 21. A total of four precision alignment cameras 27 are provided with their optical axes oriented vertically upward so as to respectively image the four corners of the substrate SB through the opening window 611 of the lower stage 61.

基板SBの四隅には予め位置基準となるアライメントマーク(基板側アライメントマーク)が形成される一方、ブランケットBLのこれと対応する位置には、版PPによりパターニングされるパターンの一部としてブランケット側アライメントマークが形成されている。これらを精密アライメントカメラ27の同一視野で撮像し、それらの位置関係を検出することで両者の位置ずれ量を求め、これを補正するようなブランケットBLの移動量を求める。アライメントステージ支持機構605により、求められた移動量だけアライメントステージ601を移動させることで、下ステージ61が水平面内で移動し、基板SBとブランケットBLとの位置ずれが補正される。   On the four corners of the substrate SB, alignment marks (substrate-side alignment marks) serving as position references are formed in advance. On the corresponding positions of the blanket BL, blanket-side alignment is performed as a part of the pattern patterned by the plate PP. A mark is formed. These are imaged with the same visual field of the precision alignment camera 27, and the positional relationship between them is obtained by detecting the positional relationship between them, and the amount of movement of the blanket BL that corrects this is obtained. By moving the alignment stage 601 by the obtained movement amount by the alignment stage support mechanism 605, the lower stage 61 moves in the horizontal plane, and the positional deviation between the substrate SB and the blanket BL is corrected.

基板SBとブランケットBLとを微小なギャップGを隔てて対向させた状態で、かつそれぞれに形成されたアライメントマークを同一カメラで撮像することで、基板SBとブランケットBLとの高精度な位置合わせを行うことができる。この意味において、上記アライメント処理は、基板SBおよびブランケットBLを個別に撮像して位置調整を行う場合に比べてより高精度な精密アライメント処理ということができる。その状態から両者を当接させることで、この実施形態では、基板SBの所定位置に高精度に位置合わせされたパターンを形成することが可能である。そして、基板SBおよびブランケットBLのプリアライメント処理を予め行っておくことにより、基板SBおよびブランケットBLにそれぞれ形成されたアライメントマークを精密アライメントカメラ27の視野内に位置決めすることができる。   The substrate SB and the blanket BL are opposed to each other with a small gap G, and the alignment marks formed on the substrates SB and the blanket BL are imaged with the same camera, so that the substrate SB and the blanket BL can be aligned with high accuracy. It can be carried out. In this sense, the alignment process can be said to be a highly accurate precision alignment process compared to the case where the substrate SB and the blanket BL are individually imaged and the position is adjusted. By bringing them into contact with each other from this state, in this embodiment, it is possible to form a pattern that is accurately aligned with a predetermined position of the substrate SB. Then, by performing pre-alignment processing of the substrate SB and the blanket BL in advance, the alignment marks respectively formed on the substrate SB and the blanket BL can be positioned in the visual field of the precision alignment camera 27.

なお、版PPによるブランケットBLへのパターン形成の際には、必ずしもそのように精密なアライメント処理を要しない。というのは、ブランケット側アライメントマークがパターンと一緒に予め版PPに作り込まれることで、ブランケットBL上に形成されるパターンとブランケット側アライメントマークとの間での位置ずれが生じることはなく、ブランケット側アライメントマークと基板側アライメントマークとで精密アライメントがなされる限り、版PPとブランケットBLとの多少の位置ずれはパターン形成に影響しないからである。この点から、パターニング処理においてはプリアライメント処理のみが実行される。   It should be noted that such a precise alignment process is not necessarily required when forming a pattern on the blanket BL using the plate PP. This is because the blanket side alignment mark is preliminarily formed on the plate PP together with the pattern, so that there is no positional deviation between the pattern formed on the blanket BL and the blanket side alignment mark. This is because a slight misalignment between the plate PP and the blanket BL does not affect pattern formation as long as precise alignment is performed between the side alignment mark and the substrate side alignment mark. From this point, only the pre-alignment process is executed in the patterning process.

アライメント処理についてより詳しく説明する。上記したように、この実施形態では、基板SBとブランケットBLとを微小なギャップG(例えば、G=300μm)を隔てて対向させた状態で、両者間のアライメント調整、つまり相対的な位置合わせを行うことが可能である。このため、基板SBとブランケットBLとを極めて高い位置精度(例えば、±3μm程度)で位置合わせすることが可能である。   The alignment process will be described in more detail. As described above, in this embodiment, the substrate SB and the blanket BL are opposed to each other with a minute gap G (for example, G = 300 μm), and alignment adjustment between them, that is, relative alignment is performed. Is possible. For this reason, it is possible to align the substrate SB and the blanket BL with extremely high positional accuracy (for example, about ± 3 μm).

図16はアライメント処理の原理を説明するための図である。図16(a)に示すように、上ステージ41に保持された基板SBの下面、すなわちパターンの被転写面の四隅に近い位置には、位置基準となる適宜の形状のアライメントマーク(基板側アライメントマーク)AM1が予め形成されている。一方、下ステージ61に保持されたブランケットBLの上面、すなわちパターン担持面には、パターン形成材料により適宜の形状のアライメントマーク(ブランケット側アライメントマーク)AM2が形成されている。より詳しくは、予め版PPに、形成すべきパターンとともにアライメントマークAM2が作り込まれており、ブランケットBL上のパターン形成材料による塗布層PTを版PPによりパターニングした際に、パターンとともにアライメントマークAM2がブランケットBL上に形成される。   FIG. 16 is a diagram for explaining the principle of alignment processing. As shown in FIG. 16A, an alignment mark (substrate-side alignment) having an appropriate shape serving as a position reference is provided on the lower surface of the substrate SB held by the upper stage 41, that is, at a position close to the four corners of the pattern transfer surface. Mark) AM1 is formed in advance. On the other hand, on the upper surface of the blanket BL held by the lower stage 61, that is, the pattern carrying surface, an alignment mark (blanket side alignment mark) AM2 having an appropriate shape is formed of a pattern forming material. More specifically, the alignment mark AM2 is formed in advance along with the pattern to be formed on the plate PP. When the coating layer PT made of the pattern forming material on the blanket BL is patterned with the plate PP, the alignment mark AM2 is formed together with the pattern. It is formed on the blanket BL.

したがって、パターニング後のブランケットBL上では、基板SBに転写すべきパターンとアライメントマークAM2とが形成され、それらの間の位置関係は固定されている。そのため、基板側アライメントマークAM1とブランケット側アライメントマークAM2との位置合わせを行うことで、間接的に基板SBとこれに転写すべきパターンとの相対位置が正しく規定されることになる。   Therefore, on the blanket BL after patterning, the pattern to be transferred to the substrate SB and the alignment mark AM2 are formed, and the positional relationship between them is fixed. Therefore, by performing alignment between the substrate side alignment mark AM1 and the blanket side alignment mark AM2, the relative position between the substrate SB and the pattern to be transferred to the substrate SB is correctly defined.

具体的には、図16(a)に示すように、下ステージ61の開口部611の内側でブランケットBLの下方に配置したアライメントカメラ27により、ブランケットBLの上面に形成されたブランケット側アライメントマークAM2と、基板SBの下面に形成された基板側アライメントマークAM1とをブランケットBLを介して撮像する。ブランケットBLは例えば石英ガラスを主材料とするものであり光透過性を有する。このとき、図16(b)に示すように、同一の視野FV内に両アライメントマークAM1,AM2が含まれるようにする。   Specifically, as shown in FIG. 16A, a blanket side alignment mark AM2 formed on the upper surface of the blanket BL by an alignment camera 27 disposed inside the opening 611 of the lower stage 61 and below the blanket BL. Then, the substrate side alignment mark AM1 formed on the lower surface of the substrate SB is imaged through the blanket BL. The blanket BL is mainly made of, for example, quartz glass, and has light transmittance. At this time, as shown in FIG. 16B, both alignment marks AM1 and AM2 are included in the same visual field FV.

撮像された画像は制御ユニット8の画像処理部805で画像処理されて、両アライメントマークAM1,AM2の相対位置が検出される。図16(b)に示すように、両アライメントマークAM1,AM2の形状を互いに異なるものとしておくことでそれらの識別が容易となる。また両アライメントマークAM1,AM2を同一視野FVに収めた画像内で位置検出を行うことで、両アライメントマークAM1,AM2間の相対位置を高精度に求めることが可能となる。基板SBの四隅にそれぞれ設けられたアライメントマークについてこのような撮像および位置検出が行われることにより、基板SBとブランケットBLとの間の位置ずれ量が求められる。なお、原理的には基板SBおよびブランケットBLそれぞれ1箇所ずつのアライメントマークを用いて位置合わせは可能であるが、少なくともそれぞれ2箇所以上にアライメントマークを形成しそれを撮像して位置合わせを行うことで、より高精度な位置合わせが可能となる。   The captured image is subjected to image processing by the image processing unit 805 of the control unit 8, and the relative positions of both alignment marks AM1, AM2 are detected. As shown in FIG. 16B, the alignment marks AM1 and AM2 are made different from each other so that they can be easily identified. Further, by performing position detection in an image in which both alignment marks AM1, AM2 are accommodated in the same visual field FV, it is possible to obtain the relative position between the alignment marks AM1, AM2 with high accuracy. By performing such imaging and position detection for the alignment marks respectively provided at the four corners of the substrate SB, the amount of positional deviation between the substrate SB and the blanket BL is obtained. In principle, the alignment is possible by using one alignment mark for each of the substrate SB and the blanket BL, but at least two alignment marks are formed and imaged to perform alignment. Thus, it is possible to perform alignment with higher accuracy.

求められた位置ずれ量をキャンセルするように、アライメントステージ支持機構605がアライメントステージ601(図3)を水平面内で移動させる。これにより、下ステージ61がXYθ方向に必要量だけ水平移動し、基板SBとブランケットBL(より正確にはブランケットBL上のパターン)との精密な位置合わせが実現される。   The alignment stage support mechanism 605 moves the alignment stage 601 (FIG. 3) in the horizontal plane so as to cancel the obtained positional deviation amount. As a result, the lower stage 61 moves horizontally in the XYθ directions by a necessary amount, and precise alignment between the substrate SB and the blanket BL (more precisely, the pattern on the blanket BL) is realized.

このような精密アライメントを高精度に行うためにはアライメントマークの位置検出における分解能を高くする必要があり、そのためには比較的高倍率での撮像を行う必要がある。高倍率の撮像では視野FVが狭くなるので、基板側アライメントマークAM1とブランケット側アライメントマークAM2とを同一視野内に収めるためには、精密アライメントに先立って基板SBとブランケットBLとの相対位置をある程度(例えば数十μm程度の位置精度で)合わせておく必要が生じる。   In order to perform such precise alignment with high accuracy, it is necessary to increase the resolution in detecting the position of the alignment mark. For that purpose, it is necessary to perform imaging at a relatively high magnification. Since the field of view FV is narrowed in high-magnification imaging, the relative position between the substrate SB and the blanket BL must be set to some extent prior to precise alignment in order to keep the substrate-side alignment mark AM1 and the blanket-side alignment mark AM2 within the same field of view. (For example, with a positional accuracy of about several tens of μm), it is necessary to match.

しかしながら、装置外部からの基板SBおよびブランケットBLの受け渡し時点でそのような位置精度を実現することは容易ではなく、たとえ図3に示したようにストッパ部材613を設けて位置規制したとしても、例えば各部材の寸法ばらつきに起因して、必要な位置精度には達しないことがある。特に基板SBやブランケットBLが大型になるとこれらが撓みやすくなり寸法ばらつきも大きくなる一方で重量が増加するため、機械的な突き当てによる位置規制には精度の面で限界がある。   However, it is not easy to achieve such positional accuracy at the time of transferring the substrate SB and the blanket BL from the outside of the apparatus. Even if the position is restricted by providing the stopper member 613 as shown in FIG. Due to the dimensional variation of each member, the required position accuracy may not be reached. In particular, when the substrate SB and the blanket BL are large, they are easily bent and the dimensional variation increases, while the weight increases. Therefore, there is a limit in terms of accuracy in position regulation by mechanical abutment.

このような比較的粗い位置合わせに使用する目的でアライメントカメラ27の倍率および視野FVを可変とすることは、精密アライメント用の撮像時の撮像位置精度を却って低下させる原因となり得るため好ましくない。というのは、倍率可変とすることで、光学系の光軸ずれ、高倍率時の光量不足および画像歪み等が生じやすくなるからである。そこでこの実施形態では、精密アライメントに先立ってプリアライメントを実行することで、両アライメントマークAM1,AM2がアライメントカメラ27の同一視野に収まる程度まで基板SBとブランケットBLとの相対位置を合わせている。アライメントカメラ27の撮像光学系については、倍率および視野FVが一定とされる。   Making the magnification and field of view FV of the alignment camera 27 variable for the purpose of such relatively coarse alignment is not preferable because it may cause a decrease in the imaging position accuracy at the time of imaging for precision alignment. This is because by making the magnification variable, the optical axis shift of the optical system, insufficient light quantity at high magnification, image distortion, and the like are likely to occur. Therefore, in this embodiment, the relative positions of the substrate SB and the blanket BL are aligned to the extent that both alignment marks AM1 and AM2 are within the same field of view of the alignment camera 27 by executing pre-alignment prior to precise alignment. For the imaging optical system of the alignment camera 27, the magnification and field of view FV are constant.

図17および図18はこの実施形態におけるプリアライメントの原理を説明するための図である。より詳しくは、図17はプリアライメントカメラによるブランケットBLの撮像範囲を示す図であり、図18はプリアライメントカメラにより撮像された画像に基づく位置合わせの原理を説明する図である。   17 and 18 are diagrams for explaining the principle of pre-alignment in this embodiment. More specifically, FIG. 17 is a diagram showing the imaging range of the blanket BL by the pre-alignment camera, and FIG. 18 is a diagram for explaining the principle of alignment based on the image captured by the pre-alignment camera.

前述したように、この実施形態では、装置上部に全部で6基のプリアライメントカメラ241〜246が設けられている。このうち3基のカメラ241〜243は、基板SBの外縁を検出するための基板用プリアライメントカメラである。また、他の3基のカメラ244〜246は、ブランケットBLの外縁を検出するためのブランケット用プリアライメントカメラである。これらのカメラは精密アライメント用のアライメントカメラ27よりも低倍率のものであってよく、こうすることで広い視野を確保することができる。また分解能についてもより低いものであってよく、これにより装置コストの上昇を抑えることができる。   As described above, in this embodiment, a total of six pre-alignment cameras 241 to 246 are provided in the upper part of the apparatus. Of these, three cameras 241 to 243 are substrate pre-alignment cameras for detecting the outer edge of the substrate SB. The other three cameras 244 to 246 are blanket pre-alignment cameras for detecting the outer edge of the blanket BL. These cameras may have a lower magnification than the alignment camera 27 for precision alignment, and thus a wide field of view can be secured. Also, the resolution may be lower, which can suppress an increase in apparatus cost.

基板用プリアライメントカメラ241〜243による基板SBの位置検出およびそれに基づく位置合わせと、ブランケット用プリアライメントカメラ244〜246によるブランケットBLの位置検出およびそれに基づく位置合わせとは原理的には同じである。以下では、ブランケット用プリアライメントカメラ244〜246の撮像結果に基づくブランケットBLの位置合わせを例に取ってその原理を説明する。   In principle, the position detection of the substrate SB by the substrate pre-alignment cameras 241 to 243 and the alignment based thereon are the same as the position detection of the blanket BL by the blanket pre-alignment cameras 244 to 246 and the alignment based thereon. In the following, the principle will be described by taking as an example the alignment of the blanket BL based on the imaging results of the blanket pre-alignment cameras 244 to 246.

図17に示すように、ブランケット用プリアライメントカメラ244〜246は、ブランケットBLの四辺のうち(+X)側の外縁の2箇所と、(+Y)側の外縁の1箇所とをそれぞれ撮像する。図において、領域IR1、IR2およびIR3はそれぞれ、カメラ246、244および245による撮像範囲を示している。ブランケットBLの角部に近い外縁をそれぞれ撮像することで、位置合わせ精度を高めることが可能である。   As shown in FIG. 17, the blanket pre-alignment cameras 244 to 246 respectively image two locations on the (+ X) side outer edge and one location on the (+ Y) side of the four sides of the blanket BL. In the figure, regions IR1, IR2, and IR3 indicate imaging ranges by the cameras 246, 244, and 245, respectively. By imaging the outer edges close to the corners of the blanket BL, it is possible to improve the alignment accuracy.

ブランケットBLの外縁をなす四辺のうち、互いに平行でない2つの辺の一部をそれぞれ撮像することで、X方向およびY方向の2次元におけるブランケットBLの位置ずれ量を独立に求めることが可能である。また、同一辺または互いに平行な辺において2箇所以上を撮像することにより、θ方向におけるブランケットBLの傾き量を求めることができる。   By imaging a part of two sides that are not parallel to each other among the four sides that form the outer edge of the blanket BL, it is possible to independently determine the amount of positional deviation of the blanket BL in two dimensions in the X direction and the Y direction. . Moreover, the amount of inclination of the blanket BL in the θ direction can be obtained by imaging two or more locations on the same side or sides parallel to each other.

図18(a)においては撮像範囲IR1,IR2のX方向位置が僅かに異なっている。これは部品の寸法精度等に起因して各カメラの取り付け位置ずれが生じる可能性があることを想定したものであり、このようなカメラ間の若干の位置ずれを含んだ状態でもブランケットの位置合わせが可能であることを示すために、このような図示としている。   In FIG. 18A, the X-direction positions of the imaging ranges IR1 and IR2 are slightly different. This assumes that there is a possibility that the mounting position of each camera may be displaced due to the dimensional accuracy of the parts, etc., and that the blanket is aligned even if there is a slight displacement between these cameras. In order to show that this is possible, this is illustrated.

撮像結果に基づく位置合わせの原理について、図18を参照して説明する。まず、位置ずれのない設計上の理想位置(目標位置)にあるブランケットBLiを仮定し、図18(a)に示すように、このようなブランケットBLiを各カメラ244〜246で撮像した場合のブランケット端部の位置を基準値として登録しておく。具体的には、カメラ246による撮像範囲IR1の端からブランケットBLiの(+X)側端部までのX方向距離X10と、カメラ244による撮像範囲IR2における該撮像範囲IR2の端からブランケットBLiの(+X)側端部までのX方向距離X20と、カメラ245による撮像範囲IR3の端からブランケットBLiの(+Y)側端部までのY方向距離Y30とを基準値として登録しておく。基準値の登録は、各カメラの位置が変更されない限り更新する必要はない。   The principle of alignment based on the imaging result will be described with reference to FIG. First, assuming a blanket BLi at a design ideal position (target position) with no positional deviation, as shown in FIG. 18A, a blanket when such a blanket BLi is imaged by each camera 244 to 246 is shown. The end position is registered as a reference value. Specifically, the X-direction distance X10 from the end of the imaging range IR1 by the camera 246 to the (+ X) side end of the blanket BLi, and the (+ X) of the blanket BLi from the end of the imaging range IR2 in the imaging range IR2 by the camera 244 ) The X direction distance X20 to the side end and the Y direction distance Y30 from the end of the imaging range IR3 by the camera 245 to the (+ Y) side end of the blanket BLi are registered as reference values. The registration of the reference value does not need to be updated unless the position of each camera is changed.

次に、実際にブランケットBLが搬入された状態でブランケット用プリアライメントカメラ244〜246によりブランケットBLの端部をそれぞれ撮像する。図18(b)はその一例を示しており、一般的にはこのように理想位置からずれた状態でブランケットBLが下ステージ61に載置される。このときの、カメラ246による撮像範囲IR1の端からブランケットBLの(+X)側端部までのX方向距離X11と、カメラ244による撮像範囲IR2における該撮像範囲IR2の端からブランケットBLの(+X)側端部までのX方向距離X21と、カメラ245による撮像範囲IR3の端からブランケットBLの(+Y)側端部までのY方向距離Y31とを求めておく。   Next, the end of the blanket BL is imaged by the blanket pre-alignment cameras 244 to 246 in a state where the blanket BL is actually loaded. FIG. 18B shows an example thereof, and generally, the blanket BL is placed on the lower stage 61 in such a state that it deviates from the ideal position. At this time, the X-direction distance X11 from the end of the imaging range IR1 by the camera 246 to the (+ X) side end of the blanket BL, and the (+ X) of the blanket BL from the end of the imaging range IR2 in the imaging range IR2 by the camera 244 An X-direction distance X21 to the side end and a Y-direction distance Y31 from the end of the imaging range IR3 by the camera 245 to the (+ Y) side end of the blanket BL are obtained.

ブランケットBLに位置ずれがなければ、これらの値X11,X21,Y31はそれぞれ基準値X10,X20,Y30と一致するが、一般的には異なる値となる。その値の基準値からの差が、ブランケットBLのずれ量の大きさを表す。すなわち、値Y31と値Y30との差はブランケットBLのY方向における位置ずれ量に対応する。また値X11と値X10との差、および値X21と値X20との差はいずれもブランケットBLのX方向における位置ずれ量に対応する。さらに、値(X20−X10)と値(X21−X11)との差は、Z軸周り、すなわちθ方向におけるブランケットBLの位置ずれ量(傾き)に対応する。このように理想状態におけるブランケット外縁位置を基準値として登録しておきそこからの相対的な位置ずれ量を求めることで、各カメラの絶対的な位置については精度が必要とされない。すなわち、カメラの取り付け位置が厳しく管理される必要はなく、搬入の都度位置がばらつくブランケットBLの外縁を安定的に視野に収めることができる程度の位置精度があればよい。   If there is no misalignment in the blanket BL, these values X11, X21, and Y31 coincide with the reference values X10, X20, and Y30, respectively, but are generally different values. The difference from the reference value of the value represents the magnitude of the blanket BL shift amount. That is, the difference between the value Y31 and the value Y30 corresponds to the amount of displacement of the blanket BL in the Y direction. Further, the difference between the value X11 and the value X10 and the difference between the value X21 and the value X20 all correspond to the amount of displacement of the blanket BL in the X direction. Further, the difference between the value (X20−X10) and the value (X21−X11) corresponds to the positional deviation amount (inclination) of the blanket BL around the Z axis, that is, in the θ direction. In this way, by registering the blanket outer edge position in the ideal state as a reference value and obtaining the relative positional deviation amount therefrom, the absolute position of each camera does not require accuracy. That is, it is not necessary to strictly manage the mounting position of the camera, and it is only necessary to have a positional accuracy that can stably fit the outer edge of the blanket BL whose position varies with each loading.

これらの値から、ブランケットBLの理想位置からの位置ずれ量がX方向、Y方向およびθ方向のそれぞれで求められ、この位置ずれを解消するようなブランケットBLの水平移動量を求めてブランケットBLを移動させることで、ブランケットBLの位置合わせを行うことができる。ブランケットBLが理想位置に位置決めされるまで、位置検出および移動を繰り返し行ってもよい。上ステージ41に保持される基板SBまたは版PPについても、同様にして位置決めを行うことができる。   From these values, the amount of displacement of the blanket BL from the ideal position is obtained in each of the X direction, Y direction, and θ direction, and the amount of horizontal movement of the blanket BL that eliminates this displacement is obtained to determine the blanket BL. The blanket BL can be aligned by moving it. Position detection and movement may be repeated until the blanket BL is positioned at the ideal position. The substrate SB or the plate PP held on the upper stage 41 can be similarly positioned.

プリアライメントカメラにより撮像される低倍率の画像に基づく位置合わせでは最終的に必要な位置精度を得ることはできないとしても、少なくとも基板側、ブランケット側両アライメントマークをアライメントカメラ27の同一視野FV内に収める程度の位置合わせは上記方法により十分実現可能である。言い換えれば、少なくとも基板側、ブランケット側両アライメントマークをアライメントカメラ27の同一視野FV内に収まるようにブランケットBLおよび基板SBの理想位置(目標位置)が予め設定された上で、上記したプリアライメント処理が行われる。   Although alignment based on the low-magnification image captured by the pre-alignment camera cannot finally obtain the required positional accuracy, at least both the substrate side and blanket side alignment marks are within the same field of view FV of the alignment camera 27. Positioning that can be accommodated can be sufficiently realized by the above method. In other words, after the ideal positions (target positions) of the blanket BL and the substrate SB are set in advance so that at least both the substrate-side and blanket-side alignment marks are within the same field of view FV of the alignment camera 27, the above-described pre-alignment processing Is done.

なお、プリアライメントカメラの撮像結果に基づく基板SBまたはブランケットBLの移動については、版PP(または基板SB)およびブランケットBLの搬入後で精密アライメントよりも前であれば任意のタイミングで実行することが可能である。この実施形態では、版PP(または基板SB)とブランケットBLとが搬入された後、ギャップ調整が行われる前にプリアライメント処理が実行される。これは、基板用プリアライメントカメラ241〜243により版PPまたは基板SBの端部を検出する際に、背後の近接位置にブランケットBLが存在することで外乱となることを防止するためである。一方、版PP(または基板SB)とブランケットBLとの間のギャップ調整を実行した後にプリアライメント処理を行うと、ギャップを変化させる際に生じ得る水平方向の位置ずれをより確実に防止することが可能である。   Note that the movement of the substrate SB or the blanket BL based on the imaging result of the pre-alignment camera may be executed at an arbitrary timing as long as the plate PP (or the substrate SB) and the blanket BL are brought in and before the precise alignment. Is possible. In this embodiment, after the plate PP (or the substrate SB) and the blanket BL are loaded, the pre-alignment process is performed before the gap adjustment is performed. This is to prevent disturbance due to the presence of the blanket BL in the proximity position behind the plate PP or the substrate SB detected by the substrate pre-alignment cameras 241 to 243. On the other hand, if the pre-alignment process is performed after the gap adjustment between the plate PP (or the substrate SB) and the blanket BL is performed, it is possible to more surely prevent the horizontal displacement that may occur when the gap is changed. Is possible.

プリアライメントのための基板SBの移動については、上ステージブロック支持機構482が上ステージアセンブリ40を移動させて、基板SBを保持する上ステージ41を水平移動させることにより行う。一方、ブランケットBLの移動については、アライメントステージ支持機構605がアライメントステージ601を移動させて、ブランケットBLを保持する下ステージ61を水平移動させることにより行う。このとき、図11(a)に示したように、各ハンド625の上面625aがブランケットBLの下面から離間していることが好ましい。この実施形態では昇降ハンドユニット62,63がベースフレーム21に固定されており、アライメントステージ支持機構605の作動によりアライメントステージ601が水平移動する際、各ハンド625はこれと連動しないからである。   The movement of the substrate SB for pre-alignment is performed by the upper stage block support mechanism 482 moving the upper stage assembly 40 and horizontally moving the upper stage 41 holding the substrate SB. On the other hand, the blanket BL is moved by the alignment stage support mechanism 605 moving the alignment stage 601 and horizontally moving the lower stage 61 holding the blanket BL. At this time, as shown in FIG. 11A, it is preferable that the upper surface 625a of each hand 625 is separated from the lower surface of the blanket BL. In this embodiment, the lifting / lowering hand units 62 and 63 are fixed to the base frame 21, and when the alignment stage 601 moves horizontally by the operation of the alignment stage support mechanism 605, each hand 625 does not interlock with this.

ただし、この目的のために各ハンド625を下降させると、ブランケットBLもこれに伴って下方へ撓んでしまうことがある。各ハンド625の鉛直方向位置を維持したままハンド上面625aの吸着孔625bから気体を吐出させるようにすれば、ブランケットBLの水平姿勢を維持しつつ、ブランケットBLとハンド上面625aとの間に微小な隙間を作ることができる。これにより、ブランケットBLの移動時にハンド625と摺擦することが回避される。ブランケットBLを下ステージ61に吸着保持した状態を維持することで、下ステージ61に対するブランケットBLの変位は防止される。図11(c)に示したように、精密アライメントにおけるブランケットBLの移動時にも同様にすることができる。   However, if each hand 625 is lowered for this purpose, the blanket BL may be bent downward accordingly. If gas is discharged from the suction holes 625b on the upper surface 625a of the hand 625 while maintaining the vertical position of each hand 625, the horizontal position of the blanket BL is maintained and a minute amount between the blanket BL and the upper surface 625a of the hand is maintained. A gap can be made. This avoids rubbing against the hand 625 when the blanket BL moves. By maintaining the state where the blanket BL is sucked and held on the lower stage 61, the displacement of the blanket BL with respect to the lower stage 61 is prevented. As shown in FIG. 11C, the same can be done when the blanket BL is moved in precision alignment.

基板SBまたはブランケットBLを単体で移動させるのではなく、これらを上ステージ41または下ステージ61に保持した状態でステージとともに移動させることにより、これらの姿勢を維持したまま移動させることができ、撓みによる位置合わせ精度の低下を防止することが可能である。   Instead of moving the substrate SB or the blanket BL alone, the substrate SB or the blanket BL is moved together with the stage while being held on the upper stage 41 or the lower stage 61, so that these postures can be maintained and the substrate SB or the blanket BL can be moved. It is possible to prevent a decrease in alignment accuracy.

以上説明したように、この実施形態では、ブランケットBLが本発明の「担持体」に相当し、基板SBが本発明の「被転写体」に相当している。そして、下ステージ61が本発明の「第1保持手段」として機能する一方、アライメントステージ支持機構605が本発明の「第1移動手段」として機能している。また、上ステージ41が本発明の「第2保持手段」として機能する一方、上ステージブロック支持機構482が本発明の「第2移動手段」として機能している。   As described above, in this embodiment, the blanket BL corresponds to the “supporting body” of the present invention, and the substrate SB corresponds to the “transfer body” of the present invention. The lower stage 61 functions as the “first holding unit” of the present invention, while the alignment stage support mechanism 605 functions as the “first moving unit” of the present invention. The upper stage 41 functions as the “second holding unit” of the present invention, while the upper stage block support mechanism 482 functions as the “second moving unit” of the present invention.

また、この実施形態では、制御ユニット8と、プリアライメントカメラ241〜246と、上ステージブロック4および下ステージブロック6に設けられたモータ群とが一体として本発明の「予備アライメント手段」として機能する一方、制御ユニット8と、アライメントカメラ27と、下ステージブロック6に設けられたモータ群とが一体として本発明の「精密アライメント手段」として機能している。これらのうちプリアライメントカメラ241〜246、アライメントカメラ27がそれぞれ本発明の「予備アライメント用撮像部」、「精密アライメント用撮像部」として機能している。また、転写ローラユニット64が本発明の「押し上げ手段」として機能している。   In this embodiment, the control unit 8, the pre-alignment cameras 241 to 246, and the motor groups provided in the upper stage block 4 and the lower stage block 6 function as the “preliminary alignment means” of the present invention. On the other hand, the control unit 8, the alignment camera 27, and the motor group provided in the lower stage block 6 function as a “precision alignment unit” of the present invention. Among these, the pre-alignment cameras 241 to 246 and the alignment camera 27 function as the “preliminary alignment imaging unit” and the “precision alignment imaging unit” of the present invention, respectively. Further, the transfer roller unit 64 functions as the “pushing means” of the present invention.

また、上記実施形態では、図18(a)に示す理想的なブランケットBLiの位置が本発明の「第1目標位置」に相当している。図示していないが、同じ考えを基板SBに適用したときの理想的な基板の位置が、本発明の「第2目標位置」に相当する。   In the above embodiment, the ideal position of the blanket BLi shown in FIG. 18A corresponds to the “first target position” of the present invention. Although not shown, an ideal substrate position when the same idea is applied to the substrate SB corresponds to the “second target position” of the present invention.

また、上記実施形態では、図7のステップステップS107〜S108が本発明の「配置工程」に相当しており、ステップS109が本発明の「予備アライメント工程」に相当している。また、ステップS111が本発明の「精密アライメント工程」に相当している。また、ステップS112が本発明の「転写工程」に相当している。   In the above embodiment, steps S107 to S108 in FIG. 7 correspond to the “placement step” of the present invention, and step S109 corresponds to the “preliminary alignment step” of the present invention. Step S111 corresponds to the “precision alignment step” of the present invention. Step S112 corresponds to the “transfer process” of the present invention.

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では基板用プリアライメントカメラおよびブランケット用プリアライメントカメラをそれぞれ3基ずつ設けているが、これに限定されるものではなく、少なくともそれぞれ2基以上あればよい。また、同一のカメラが基板用プリアライメントカメラおよびブランケット用プリアライメントカメラとしての機能を兼ねてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above-described embodiment, three substrate pre-alignment cameras and three blanket pre-alignment cameras are provided, but the present invention is not limited to this. The same camera may also serve as a substrate pre-alignment camera and a blanket pre-alignment camera.

また上記実施形態では、基板用およびブランケット用プリアライメントカメラがそれぞれ基板およびブランケットの角部に近い外縁を撮像しているが、撮像位置はこれに限定されない。例えば、互いに対向する2辺のそれぞれを撮像したり、互いに対角の関係にある2つの角部をそれぞれ撮像することで、基板あるいはブランケットの位置ずれ量を求めるようにしてもよい。また画像に現れる外縁の傾きからブランケットの傾き量を求めることも可能である。   Moreover, in the said embodiment, although the board | substrate and blanket pre-alignment cameras are imaging the outer edge near the corner | angular part of a board | substrate and a blanket, respectively, an imaging position is not limited to this. For example, the positional deviation amount of the substrate or the blanket may be obtained by imaging each of the two sides facing each other or by imaging each of the two corners that are diagonal to each other. It is also possible to determine the amount of blanket inclination from the inclination of the outer edge that appears in the image.

また、上記実施形態では、ブランケットBL上にパターンとともにパターニングされた第1アライメントマークAM1を用いて精密アライメント処理を行っているが、予めブランケットBLに予め固定的に形成されたアライメントマークを用いてもよい。ただしこの場合、基板SBの適正位置にパターン形成を行うためには、版PPからブランケットBLへのパターニングの際にも精密アライメントが必要となる。   In the above embodiment, the precision alignment process is performed using the first alignment mark AM1 patterned together with the pattern on the blanket BL. However, the alignment mark previously fixedly formed on the blanket BL may be used. Good. However, in this case, in order to form a pattern at an appropriate position on the substrate SB, precise alignment is also required when patterning from the plate PP to the blanket BL.

また上記実施形態の精密アライメント処理では、下ステージ61を水平移動させることでブランケットBLを基板SBに対して移動させて位置合わせを行っているが、上ステージ41とともに基板SBを移動させても技術的には等価である。   In the precision alignment process of the above embodiment, the blanket BL is moved relative to the substrate SB by moving the lower stage 61 horizontally. However, the technology can be achieved even if the substrate SB is moved together with the upper stage 41. Are equivalent.

また、上記実施形態は、内部が開口する額縁状に形成された下ステージ61によりブランケットBLの周縁部を保持する構成を有するものであるが、本発明の思想に基づくアライメント技術は、これに限定されず、例えば平板状のステージにブランケットを載置する構成を有するパターン形成装置に対しても適用可能である。   Moreover, although the said embodiment has a structure which hold | maintains the peripheral part of blanket BL with the lower stage 61 formed in the frame shape which an inside opens, alignment technology based on the thought of this invention is limited to this. For example, it is applicable also to the pattern formation apparatus which has the structure which mounts a blanket on a flat stage.

この発明は、パターンを担持する担持体から該パターンを被転写体に転写する技術のうち、担持体と被転写体との位置合わせを行う技術に対して好適に適用可能である。   The present invention can be suitably applied to a technique for aligning a carrier and a transferred body, among techniques for transferring the pattern from the carrier carrying the pattern to the transferred body.

8 制御ユニット(予備アライメント手段、精密アライメント手段)
27 アライメントカメラ(精密アライメント手段、精密アライメント用撮像部)
41 上ステージ(第2保持手段)
61 下ステージ(第1保持手段)
64 転写ローラユニット(押し上げ手段)
605 アライメントステージ支持機構(第1移動手段)
241〜246 プリアライメントカメラ(予備アライメント手段、予備アライメント用撮像部)
482 上ステージブロック支持機構(第2移動手段)
AM1 第1アライメントマーク
AM2 第2アライメントマーク
BL ブランケット(担持体)
SB 基板(被転写体)
S107〜S108 配置工程
S109 予備アライメント工程
S111 精密アライメント工程
S112 転写工程
8 Control unit (Preliminary alignment means, precision alignment means)
27 Alignment camera (Precision alignment means, Precise alignment imaging unit)
41 Upper stage (second holding means)
61 Lower stage (first holding means)
64 Transfer roller unit (push-up means)
605 alignment stage support mechanism (first moving means)
241 to 246 pre-alignment camera (preliminary alignment means, preliminary alignment imaging unit)
482 Upper stage block support mechanism (second moving means)
AM1 1st alignment mark AM2 2nd alignment mark BL Blanket (carrier)
SB substrate (transfer object)
S107 to S108 Arrangement process S109 Preliminary alignment process S111 Precision alignment process S112 Transfer process

Claims (10)

パターン担持面にパターンを担持する担持体を保持する第1保持手段と、
前記パターンを転写される被転写面を有する被転写体を、前記被転写面を前記担持体の前記パターン担持面と対向させて保持する第2保持手段と、
前記第1保持手段に保持された前記担持体を押し上げる押し上げ手段と、
前記第1保持手段を前記パターン担持面と平行に移動させる第1移動手段と、
前記第2保持手段を前記被転写面と平行に移動させる第2移動手段と、
前記第1保持手段に保持された前記担持体の外縁の少なくとも一部を撮像し、その撮像結果に基づき前記第1移動手段を作動させて前記担持体を所定の第1目標位置に位置決めするとともに、前記第2保持手段に保持された前記被転写体の外縁のうち少なくとも一部を撮像し、その撮像結果に基づき前記第2移動手段を作動させて前記被転写体を所定の第2目標位置に位置決めする予備アライメント手段と、
前記第1目標位置に位置決めされた前記担持体に形成された第1アライメントマークと前記第2目標位置に位置決めされた前記被転写体に形成された第2アライメントマークとを撮像し、その撮像結果に基づき前記第1保持手段および前記第2保持手段の少なくとも一方を作動させて、前記担持体と前記被転写体との位置合わせを行う精密アライメント手段と
を備え
前記第1保持手段は、前記担持体の周縁部を保持して、前記パターン担持面を上向きにした水平姿勢で、かつ前記周縁部よりも内側の中央部の下方を開放した状態で前記担持体を保持し、
前記押し上げ手段は、前記担持体の前記中央部を下方から押し上げることで前記担持体に担持された前記パターンを前記被転写体の前記被転写面に当接させるパターン形成装置。
First holding means for holding a carrier carrying a pattern on the pattern carrying surface;
A second holding means for holding a transfer object having a transfer surface onto which the pattern is transferred, with the transfer surface facing the pattern support surface of the support;
A push-up means for pushing up the carrier held by the first holding means;
First moving means for moving the first holding means in parallel with the pattern carrying surface;
Second moving means for moving the second holding means in parallel with the transfer surface;
At least a part of the outer edge of the carrier held by the first holding means is imaged, and the first moving means is operated based on the imaging result to position the carrier at a predetermined first target position. Then, at least a part of the outer edge of the transferred object held by the second holding unit is imaged, and the second moving unit is operated based on the imaging result to move the transferred object to a predetermined second target position. Preliminary alignment means for positioning to,
The first alignment mark formed on the carrier positioned at the first target position and the second alignment mark formed on the transfer target positioned at the second target position are imaged, and the imaging result And a precision alignment unit that operates at least one of the first holding unit and the second holding unit to align the carrier and the transfer target ,
The first holding means holds the peripheral portion of the carrier, has a horizontal posture with the pattern carrying surface facing upward, and opens the lower portion of the central portion inside the peripheral portion. Hold
The push-up means is a pattern forming apparatus in which the central portion of the carrier is pushed up from below to bring the pattern carried on the carrier into contact with the surface to be transferred of the member to be transferred .
前記精密アライメント手段は、前記第1アライメントマークと前記第2アライメントマークとを同一視野内で同時に撮像する請求項1に記載のパターン形成装置。   The pattern forming apparatus according to claim 1, wherein the precision alignment unit simultaneously images the first alignment mark and the second alignment mark within the same field of view. 前記予備アライメント手段が前記担持体および前記被転写体の外縁を撮像する予備アライメント用撮像部を有する一方、前記精密アライメント手段は前記予備アライメント用撮像部よりも高い分解能で前記第1アライメントマークおよび前記第2アライメントマークを撮像する精密アライメント用撮像部を有する請求項1または2に記載のパターン形成装置。 The preliminary alignment unit includes a preliminary alignment imaging unit that images the outer edges of the carrier and the transfer target, while the precision alignment unit has a higher resolution than the preliminary alignment imaging unit. pattern forming apparatus according to claim 1 or 2 having a precision alignment imaging unit that captures an image of a second alignment mark. 前記精密アライメント用撮像部は、倍率が固定された撮像光学系を有する請求項に記載のパターン形成装置。 The pattern forming apparatus according to claim 3 , wherein the imaging unit for precision alignment includes an imaging optical system with a fixed magnification. 前記予備アライメント手段は、前記担持体の外縁のうち互いに異なる複数箇所および前記被転写体の外縁のうち互いに異なる複数箇所をそれぞれ撮像する複数の前記予備アライメント用撮像部を有する請求項またはに記載のパターン形成装置。 The preliminary alignment means to claim 3 or 4 having a plurality of the preliminary alignment imaging unit that each imaging different locations from each other among the outer edges of the mutually different places and the material to be transferred out of the outer edge of the carrier The pattern forming apparatus as described. パターンを担持する担持体を第1保持手段により保持するとともに、前記パターンが転写される被転写体を第2保持手段により保持し、前記担持体のパターン担持面と、前記被転写体の被転写面とを対向させて配置する配置工程と、
前記担持体の外縁の少なくとも一部を撮像し、その撮像結果に基づき前記第1保持手段を移動させて前記担持体を所定の第1目標位置に位置決めするとともに、前記被転写体の外縁のうち少なくとも一部を撮像し、その撮像結果に基づき前記第2保持手段を移動させて前記被転写体を所定の第2目標位置に位置決めする予備アライメント工程と、
前記担持体に形成された第1アライメントマークと前記被転写体に形成された第2アライメントマークとを撮像し、その撮像結果に基づき前記第1保持手段および前記第2保持手段の少なくとも一方を移動させて、前記担持体と前記被転写体との位置合わせを行う精密アライメント工程と
を備え、
前記第1保持手段は、前記担持体の周縁部を保持して、前記パターン担持面を上向きにした水平姿勢で、かつ前記周縁部よりも内側の中央部の下方を開放した状態で前記担持体を保持し、
前記担持体の前記中央部を押し上げ手段により下方から押し上げることで前記担持体に担持された前記パターンを前記被転写体の前記被転写面に当接させるパターン形成方法。
The carrier carrying the pattern is held by the first holding unit, and the transfer target to which the pattern is transferred is held by the second holding unit. The pattern holding surface of the support and the transfer target of the transfer target An arrangement step of arranging the surfaces facing each other;
At least a part of the outer edge of the carrier is imaged, and the first holding means is moved based on the imaging result to position the carrier at a predetermined first target position, and among the outer edges of the transferred body A preliminary alignment step of imaging at least a part, and moving the second holding unit based on the imaging result to position the transferred body at a predetermined second target position;
The first alignment mark formed on the carrier and the second alignment mark formed on the transfer body are imaged, and at least one of the first holding means and the second holding means is moved based on the imaging result And a precision alignment step of aligning the carrier and the transfer object,
The first holding means holds the peripheral portion of the carrier, has a horizontal posture with the pattern carrying surface facing upward, and opens the lower portion of the central portion inside the peripheral portion. Hold
A pattern forming method in which the central portion of the carrier is pushed up from below by a push-up means so that the pattern carried on the carrier is brought into contact with the transfer surface of the transfer member .
前記精密アライメント工程では、前記第1アライメントマークと前記第2アライメントマークとを同一視野内で同時に撮像する請求項に記載のパターン形成方法。 The pattern forming method according to claim 6 , wherein in the precision alignment step, the first alignment mark and the second alignment mark are simultaneously imaged within the same field of view. 前記精密アライメント工程において撮像を行う撮像部の視野内に前記第1アライメントマークを位置決めしたときの前記担持体の位置を前記第1目標位置とする一方、前記撮像部の視野内に前記第2アライメントマークを位置決めしたときの前記被転写体の位置を前記第2目標位置とする請求項に記載のパターン形成方法。 The position of the carrier when the first alignment mark is positioned in the field of view of the imaging unit that performs imaging in the precision alignment step is set as the first target position, while the second alignment is in the field of view of the imaging unit. The pattern forming method according to claim 7 , wherein the position of the transferred body when the mark is positioned is set as the second target position. 前記予備アライメント工程では、前記担持体の外縁のうち互いに異なる複数箇所を撮像して前記第1目標位置からの前記担持体の位置ずれ量を求め、該位置ずれ量に応じた前記第1保持手段の移動を行う一方、前記被転写体の外縁のうち互いに異なる複数箇所を撮像して前記第2目標位置からの前記被転写体の位置ずれ量を求め、該位置ずれ量に応じた前記第2保持手段の移動を行う請求項ないしのいずれかに記載のパターン形成方法。 In the preliminary alignment step, a plurality of different positions on the outer edge of the carrier are imaged to obtain a positional deviation amount of the carrier from the first target position, and the first holding means according to the positional deviation amount While moving the image, a plurality of different positions on the outer edge of the transferred body are imaged to obtain a positional deviation amount of the transferred body from the second target position, and the second amount corresponding to the positional deviation amount is obtained. the pattern forming method according to any one of claims 6 to 8 for moving the holding means. 前記精密アライメント工程の後に、前記担持体と前記被転写体とを当接させて前記パターンを前記担持体から前記被転写体に転写する転写工程を備える請求項ないしのいずれかに記載のパターン形成方法。 After the fine alignment step, according to one of claims 6 to 9 comprising a transfer step of transferring the to a transfer member from the carrier the pattern is brought into contact with said material to be transferred and the carrier Pattern forming method.
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