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JP6070026B2 - Organic EL display device - Google Patents
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Description

本発明は、ボトムエミッション型の有機EL(Electro−luminescense)表示装置に関する。   The present invention relates to a bottom emission type organic EL (Electro-Luminescence) display device.

従来、ボトムエミッション型の有機EL(Electro−luminescense)表示装置は、図3(a)に示すように、基材121の一面側にTFT122、該TFTの駆動で白色発光する有機EL発光層123を配した有機発光層形成基板(以下、EL基板、あるいは、有機EL基板とも言う)120と、透明な基材111の一面側にカラーフィルタ用の着色層(赤色着色層113R、緑色着色層113G、青色着色層113B)を配したカラーフィルタ形成基板110とを、接着層115にて貼り合わせた構造を有する。   Conventionally, as shown in FIG. 3A, a bottom emission type organic EL (Electro-Luminescence) display device has a TFT 122 on one surface side of a substrate 121, and an organic EL light emitting layer 123 that emits white light by driving the TFT. An organic light emitting layer forming substrate (hereinafter also referred to as an EL substrate or an organic EL substrate) 120 and a colored layer for a color filter (a red colored layer 113R, a green colored layer 113G, It has a structure in which the color filter forming substrate 110 provided with the blue colored layer 113 </ b> B) is bonded to the adhesive layer 115.

図3(a)に示す表示装置では、TFT形成基板120は、有機EL発光層123を覆うように接着層124を全面に配し、更にTFTで駆動する際の陰極125である反射性の反射電極を前記接着層124上全面に配している。   In the display device shown in FIG. 3A, the TFT formation substrate 120 is provided with an adhesive layer 124 over the entire surface so as to cover the organic EL light emitting layer 123, and further, the reflective reflection that is the cathode 125 when driven by the TFT. An electrode is disposed on the entire surface of the adhesive layer 124.

また、図3(a)に示すB0部は、図3(b)に材料層構成を示すような構造をしている。   Further, the B0 portion shown in FIG. 3A has a structure showing the material layer configuration in FIG.

尚、ここでは、透明な基板である基材111の一面上に画素区分用遮光部(ブラックマトリクスとも言う)112とカラーフィルタ用の各色の着色層113R、113G、113Bを形成しただけの第1の形態のもの、更に、第1の形態のものに対して、画素区分用遮光部112、カラーフィルタ用の各色の113R、113G、113Bを覆うように全面に保護層を配した第2の形態のもの、第1の形態のものの各色の着色層113R、113G、113Bを覆うように、あるいは、第2の形態のものの保護層を覆うように接着層を配した状態のものを、いずれも、カラーフィルタ形成基板とも言い、保護層が接着層を兼ねる、あるいは接着層が保護層を兼ねる場合もある。   In this case, the first pixel is formed by simply forming a pixel-partitioning light-blocking portion (also referred to as a black matrix) 112 and colored layers 113R, 113G, and 113B for each color filter on one surface of a base material 111 that is a transparent substrate. In addition to the first embodiment, in addition to the first embodiment, a second embodiment in which a protective layer is disposed on the entire surface so as to cover the pixel classification light-shielding portion 112 and the color filters 113R, 113G, and 113B. In the state where the adhesive layer is disposed so as to cover the colored layers 113R, 113G, 113B of the respective colors of the first form or the protective layer of the second form, Also referred to as a color filter forming substrate, the protective layer may also serve as an adhesive layer, or the adhesive layer may also serve as a protective layer.

図3(a)に示す表示装置では、接着層115が保護層を兼ねており、基材111、画素区分用遮光部(ブラックマトリクスとも言う)112、カラーフィルタ用の各色の着色層113R、113G、113B、接着層115を併せて、カラーフィルタ形成基板110としている。   In the display device shown in FIG. 3A, the adhesive layer 115 also serves as a protective layer, and includes a base material 111, a pixel section light-shielding portion (also referred to as a black matrix) 112, and colored layers 113R and 113G for each color filter. 113B and the adhesive layer 115 are combined to form a color filter forming substrate 110.

また、図3(a)中、点線矢印は、出射光を示している。   In FIG. 3A, the dotted arrow indicates the emitted light.

しかし、このような貼り合わせた構造を有する、従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置の場合、貼り合わせ精度が劣るため、画素区分用遮光部の幅を広くする必要があり、結果として、画素領域の開口率を低下させるため、消費電力が大きくなるという問題があった。   However, in the case of a conventional bottom emission type organic EL display device having such a bonded structure, since the bonding accuracy is inferior, it is necessary to increase the width of the pixel-shading light-shielding portion. There is a problem in that power consumption increases because the aperture ratio of the region is reduced.

貼り合わせの精度(以下、位置合わせ精度とも言う)が劣ると、貼り合わせの精度が良い場合に比べて、画素領域の開口率が低下して、表示の際の輝度が低下してしまうが、これに対応するには、電気的に輝度を上げることが必要となり、結果的に消費電力が大きくなってしまう。   If the accuracy of pasting (hereinafter also referred to as positioning accuracy) is inferior, the aperture ratio of the pixel area is lowered and the luminance at the time of display is lowered as compared with the case where the pasting accuracy is good. In order to cope with this, it is necessary to increase the luminance electrically, resulting in an increase in power consumption.

また、カラーフィルタ形成基板110と有機発光層形成基板120とを接着層(保護層)115で貼り合わせた構造であるため、カラーフィルタ用の各色の着色層113R、113G、113Bと基材121との間に間隔が発生するため、視差や混色の問題が発生し易いという問題もあった。   Further, since the color filter forming substrate 110 and the organic light emitting layer forming substrate 120 are bonded to each other with an adhesive layer (protective layer) 115, the colored layers 113R, 113G, 113B for each color for the color filter and the base material 121 are provided. There is also a problem that a problem of parallax and color mixing is likely to occur because an interval is generated between them.

また、カラーフィルタ形成基板110と有機発光層形成基板120とを接着層(保護層)115で貼り合わせた構造であるため、厚さが厚くなってしまうという問題もある。   In addition, since the color filter forming substrate 110 and the organic light emitting layer forming substrate 120 are bonded to each other with an adhesive layer (protective layer) 115, there is a problem that the thickness is increased.

更にまた、カラーフィルタ形成基板110と有機発光層形成基板120とを、別々に作製して貼り合わせるため、作製が高コストになるという問題もあった。   Furthermore, since the color filter forming substrate 110 and the organic light emitting layer forming substrate 120 are separately manufactured and bonded, there is a problem that the manufacturing becomes expensive.

特開2012−146517号公報JP 2012-146517 A

上記のように、有機発光層形成基板とカラーフィルタ形成基板とを接着層にて貼り合わせた構造である、図3(a)に示す従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置の場合、貼り合わせ精度が劣るために画素領域の開口率が低下して消費電力が大きくなってしまうという問題や、カラーフィルタ形成基板のカラーフィルタ用の各色の着色層と有機発光層形成基板の基材(図3(a)の111に相当)との間に間隔が発生するため、視差や混色の問題が発生し易いという問題や、パネルとしての厚さが厚くなってしまうという問題や、カラーフィルタ形成基板と有機発光層形成基板とを、別々に作製して貼り合わせるため、作製が高コストになるという問題があり、その対応が求められていた。   As described above, in the case of the conventional bottom emission type organic EL display device shown in FIG. 3A, which has a structure in which an organic light emitting layer forming substrate and a color filter forming substrate are bonded together by an adhesive layer, bonding is performed. The problem is that the aperture ratio of the pixel region decreases due to inaccuracy and the power consumption increases, and the color layers for the color filters of the color filter forming substrate and the base material of the organic light emitting layer forming substrate (FIG. 3). (Corresponding to 111 of (a)), a problem that parallax and color mixing are likely to occur, a problem that the thickness of the panel becomes thick, and a color filter forming substrate Since the organic light emitting layer forming substrate is separately manufactured and bonded, there is a problem that the manufacturing becomes expensive, and a countermeasure for this is required.

本発明は、これらに対応するもので、有機発光層形成基板とカラーフィルタ形成基板とを接着層にて貼り合わせた構造である従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置において、従来問題となっていた有機発光層形成基板とカラーフィルタ形成基板との貼り合わせ精度に起因する開口率低下を改善でき、視差や混色をすくなくでき、パネルとしての厚さを薄くでき、作製の低コスト化が図れる、ボトムエミッション型の有機EL表示装置を提供しようとするものである。   The present invention corresponds to these, and is a conventional problem in a conventional bottom emission type organic EL display device having a structure in which an organic light emitting layer forming substrate and a color filter forming substrate are bonded together with an adhesive layer. The reduction in aperture ratio due to the bonding accuracy between the organic light emitting layer forming substrate and the color filter forming substrate can be improved, parallax and color mixing can be eliminated, the panel thickness can be reduced, and the production cost can be reduced. A bottom emission type organic EL display device is to be provided.

本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、透明な基板である基材の一方の面にはTFTと有機発光層を配し、前記基材の他方の面側に前記有機発光層からの発光光を出射する、ボトムエミッション型の有機EL表示装置であって、前記基材の前記他方の面には、画素区分用遮光層とカラーフィルタ形成用の着色層が形成されており、且つ、前記基材の前記一方側が封止された構造であることを特徴とするものである。   In the bottom emission type organic EL display device of the present invention, a TFT and an organic light emitting layer are arranged on one surface of a base material which is a transparent substrate, and the organic light emitting layer is provided on the other surface side of the base material from the organic light emitting layer. A bottom emission type organic EL display device that emits emitted light, wherein the other surface of the substrate is formed with a pixel classification light-shielding layer and a colored layer for forming a color filter, and The one side of the substrate has a sealed structure.

そして、上記のボトムエミッション型の有機EL表示装置であって、前記カラーフィルタ形成用の各色の着色層および画素区分用の遮光層を覆うように全体に保護層が形成されていることを特徴とするものであり、前記保護層は、フィルムをラミネートして形成されたものであることを特徴とするものである。   In the bottom emission type organic EL display device described above, a protective layer is formed as a whole so as to cover the colored layers for forming the color filters and the light shielding layer for pixel division. The protective layer is formed by laminating a film.

(作用)
本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、このような構成にすることにより、有機発光層形成基板とカラーフィルタ形成基板とを接着層にて貼り合わせた構造である従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置において問題となっていた有機発光層形成基板とカラーフィルタ形成基板との貼り合わせ精度に起因する開口率低下を改善でき、視差や混色をすくなくでき、パネルとしての厚さを薄くでき、作製の低コスト化が図れる、ボトムエミッション型の有機EL表示装置の提供を可能としている。
(Function)
The bottom emission type organic EL display device according to the present invention has a conventional bottom emission type structure having a structure in which an organic light emitting layer forming substrate and a color filter forming substrate are bonded together with an adhesive layer. It is possible to improve the aperture ratio reduction due to the bonding accuracy between the organic light emitting layer forming substrate and the color filter forming substrate, which has been a problem in organic EL display devices, and to reduce parallax and color mixing, and to reduce the thickness of the panel. Therefore, it is possible to provide a bottom emission type organic EL display device that can be manufactured at low cost.

具体的には、基材のTFTと有機発光層とを配した側ではない側の面には、画素区分用遮光層とカラーフィルタ形成用の着色層が形成されており、且つ、前記基材の前記一方側が封止された構造であることにより、これを達成している。   Specifically, a pixel classification light-shielding layer and a colored layer for forming a color filter are formed on the surface of the substrate other than the side on which the TFT and the organic light emitting layer are arranged, and the substrate This is achieved by having a structure in which the one side of is sealed.

詳しくは、本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、図3(a)に示す従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置の場合のように、有機発光層形成基板120とカラーフィルタ形成基板110とを接着層115にて貼り合わせた構造のものではなく、有機発光層形成基板のTFTや有機発光層を配した基材の、TFT、有機発光層を配した側ではない他方の面にカラーフィルタ用の着色層、画素区分用の遮光層を配していることにより、従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置に比べて、前記基材の一方の面側のTFTや有機発光層と、前記基材の他方の面のカラーフィルタ用の着色層、画素区分用の遮光層との位置合わせ精度を上げることができ、結果、画素区分用の遮光層の幅を小さくとれるため、画素区分用の遮光層の開口率を大きくでき、これにより、消費電力を低くすることを可能としている。   Specifically, the bottom emission type organic EL display device according to the present invention includes an organic light emitting layer forming substrate 120 and a color filter forming substrate as in the conventional bottom emission type organic EL display device shown in FIG. 110 on the other side of the substrate on which the organic light emitting layer is formed and the TFT on which the organic light emitting layer is disposed, not on the side on which the TFT or organic light emitting layer is disposed. Compared with the conventional bottom emission type organic EL display device, the colored layer for the color filter and the light-shielding layer for the pixel section are arranged. The accuracy of alignment with the colored layer for the color filter on the other surface of the substrate and the light shielding layer for pixel division can be increased, and as a result, the width of the light shielding layer for pixel division can be reduced. The possible increase the aperture ratio of the light-shielding layer, thereby, it is made possible to lower the power consumption.

図3に示す従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置に比べて、前記位置合わせの際の間隔を小さくできるため、図3に示す表示装置に比べて、TFTや有機発光層と、カラーフィルタ用の着色層、画素区分用の遮光層との位置合わせ精度を上げることができるのである。   Compared with the conventional bottom emission type organic EL display device shown in FIG. 3, the alignment interval can be made smaller. Therefore, compared with the display device shown in FIG. 3, TFTs, organic light emitting layers, and color filters are used. Therefore, it is possible to increase the alignment accuracy between the colored layer and the light blocking layer for pixel division.

特に、高精細で微小な画素を有する表示装置の場合、画素区分用の遮光層の幅が、画素区分用の遮光層の開口率に大きく影響しており、画素区分用の遮光層の幅を決める要因となる、TFTや有機発光層とカラーフィルタ用の着色層、画素区分用の遮光層との位置合わせ精度が、開口率に大きく影響し、表示の際の輝度に大きく影響することとなるため、本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、高精細で微小な画素を有する場合には、図3に示す表示装置に比べて、有利と言える。   In particular, in the case of a display device having high definition and minute pixels, the width of the light blocking layer for pixel division greatly affects the aperture ratio of the light blocking layer for pixel classification. The alignment accuracy between the TFT or organic light emitting layer, the color filter coloring layer, and the pixel classification light blocking layer, which is a determining factor, greatly affects the aperture ratio and greatly affects the luminance at the time of display. Therefore, it can be said that the bottom emission type organic EL display device of the present invention is more advantageous than the display device shown in FIG. 3 when it has high definition and minute pixels.

画素の微細化が進んで画素区分用の遮光層の開口率をできるだけ大きくしたい要望があるが、このような要望の下、本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置と図3に示す従来の構造の表示装置とを、同じ仕様で作製する場合において、画素区分用の遮光層との位置合わせ精度から、図3に示す従来の構造の表示装置に比べて、本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置の方が、画素区分用の遮光層を開口率を大きくとることができる。   There is a demand for increasing the aperture ratio of the light shielding layer for pixel division as the pixel is further miniaturized. Under such demand, the bottom emission type organic EL display device of the present invention and the conventional one shown in FIG. When the display device having the structure is manufactured with the same specifications, the bottom emission type organic material of the present invention is compared with the display device having the conventional structure shown in FIG. 3 because of the alignment accuracy with the light blocking layer for pixel division. The EL display device can increase the aperture ratio of the light blocking layer for pixel division.

本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、図3(a)に示す従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置の場合のように、有機発光層形成基板120のTFTや有機発光層を配した基材111とカラーフィルタ形成基板110とを接着層115にて貼り合わせた構造ではなく、一方の面側にTFTや有機発光層を配した基材の他方の面にカラーフィルタ用の着色層、画素区分用の遮光層とを配した構造であるため、カラーフィルタ用の各色の着色層および画素区分用の遮光層と、有機発光層形成基板の基材との間に間隔が発生することはなく、従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置に比べて、視差や混色が発生し難くなる。   In the bottom emission type organic EL display device of the present invention, TFTs and organic light emitting layers of the organic light emitting layer forming substrate 120 are arranged as in the case of the conventional bottom emission type organic EL display device shown in FIG. The colored substrate for the color filter is not formed on the other surface of the base material in which the TFT and the organic light emitting layer are arranged on one surface side, instead of the structure in which the base material 111 and the color filter forming substrate 110 are bonded together by the adhesive layer 115. In addition, since it has a structure in which a light blocking layer for pixel division is arranged, a gap is generated between the colored layer for each color filter and the light blocking layer for pixel division and the base material of the organic light emitting layer forming substrate. In contrast, parallax and color mixing are less likely to occur compared to conventional bottom emission organic EL display devices.

そして、厚さを薄くすることを可能としている。   And it is possible to reduce the thickness.

TFT、有機発光層が配された側が封止された構造であり、有機発光層の信頼性を確保できるものとしている。   The side on which the TFT and the organic light emitting layer are arranged is sealed, and the reliability of the organic light emitting layer can be ensured.

更にまた、本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、図3(a)に示す従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置の場合のように、カラーフィルタ形成基板110と有機発光層形成基板120とを別々に作製して、これらを貼り合わせる構造のものではなく、言わば、図3(a)に示す表示装置のカラーフィルタ形成基板110の基材111と、有機発光層形成基板120の基材121とを兼用した構造で、作製のコスト低下を可能としている。   Furthermore, the bottom emission type organic EL display device of the present invention includes a color filter forming substrate 110 and an organic light emitting layer forming substrate as in the conventional bottom emission type organic EL display device shown in FIG. 120 is manufactured separately and bonded to each other. In other words, the base 111 of the color filter forming substrate 110 and the base of the organic light emitting layer forming substrate 120 of the display device shown in FIG. With the structure also used as the material 121, the manufacturing cost can be reduced.

また、上記のボトムエミッション型の有機EL表示装置で、前記カラーフィルタ形成用の各色の着色層および画素区分用の遮光層を覆うように全体に保護層が形成されている形態が挙げられるが、前記保護層としては、フィルムをラミネートして形成されたものが、作製上からは、特に好ましい。   In addition, in the above bottom emission type organic EL display device, a form in which a protective layer is formed as a whole so as to cover the colored layers for forming the color filters and the light shielding layer for pixel division may be mentioned. The protective layer formed by laminating a film is particularly preferable from the viewpoint of production.

本発明は、このように、有機発光層形成基板とカラーフィルタ形成基板とを接着層にて貼り合わせた構造である従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置において、従来問題となっていた有機発光層形成基板とカラーフィルタ形成基板との貼り合わせ精度に起因する開口率低下を改善でき、視差や混色をすくなくでき、パネルとしての厚さを薄くでき、作製の低コスト化が図れる、ボトムエミッション型の有機EL表示装置の提供を可能とした。   As described above, in the conventional bottom emission type organic EL display device having the structure in which the organic light emitting layer forming substrate and the color filter forming substrate are bonded to each other by the adhesive layer, the organic light emitting which has been a problem in the related art. Bottom emission type that can improve the aperture ratio reduction due to the bonding accuracy between the layer forming substrate and the color filter forming substrate, reduce parallax and color mixing, reduce the thickness of the panel, and reduce the manufacturing cost. The organic EL display device can be provided.

図1(a)は、本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置の実施形態の1例を示した断面図で、図1(b)は、図1(a)のA0部における断面の材料構成を示した図である。FIG. 1A is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a bottom emission type organic EL display device of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional material at A0 part of FIG. It is the figure which showed the structure. 図1に示すボトムエミッション型の有機EL表示装置の作製工程を示した概略工程断面図である。FIG. 2 is a schematic process cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the bottom emission type organic EL display device illustrated in FIG. 1. 図3(a)は、従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置の実施形態の1例を示した断面図で、図3(b)は、図3(a)のB0部における断面の材料構成を示した図である。FIG. 3A is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a conventional bottom emission type organic EL display device, and FIG. 3B is a cross-sectional material configuration at B0 part of FIG. FIG.

先ず、本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置の実施形態の1例を、図1に基づいて説明する。   First, an example of an embodiment of a bottom emission type organic EL display device of the present invention will be described with reference to FIG.

本例のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、図1(a)に示すように、透明な基板である基材21の一方の面にはTFT22と有機発光層23とを配し、基材21の他方の面側に前記有機発光層からの発光光を出射する、ボトムエミッション型の有機EL表示装置である。   In the bottom emission type organic EL display device of this example, as shown in FIG. 1A, a TFT 22 and an organic light emitting layer 23 are arranged on one surface of a base material 21 which is a transparent substrate. 21 is a bottom emission type organic EL display device that emits light emitted from the organic light emitting layer to the other surface side of the light emitting device.

そして、基材21の前記他方の面には、画素区分用遮光層12とカラーフィルタ形成用の各色の着色層13R、13G、13Bが形成されており、且つ、基材21の前記一方側は、全体が、封止材29と、反射電極である陰極25を内側にして配した透明基板からなる基材26とにより、封止された構造である。   On the other surface of the base material 21, the pixel classification light blocking layer 12 and the colored layers 13R, 13G, and 13B for forming the color filters are formed, and the one side of the base material 21 is The entire structure is sealed by a sealing material 29 and a base material 26 made of a transparent substrate with a cathode 25 serving as a reflective electrode inside.

また、カラーフィルタ形成用の各色の着色層13R、13G、13Bおよび画素区分用の遮光層12を覆うように全体に、保護層14が形成されている。   Further, a protective layer 14 is formed on the entire surface so as to cover the colored layers 13R, 13G, and 13B for forming the color filters and the light shielding layer 12 for pixel division.

尚、図1(a)中、点線矢印は、出射光を示している。   In FIG. 1A, the dotted arrow indicates the emitted light.

本例のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、有機発光層形成基板20の基材21の一方の面にTFT22、有機発光層23を形成し、有機発光層23からの発光光を出射する側である基材21の前記一方の面ではない他方の面にカラーフィルタ用の着色層、画素区分用の遮光層を形成している構造で、言わば、カラーフィルタ形成基板10の基材と有機発光層形成基板20の基材とを、1つの基材22で兼用させた構造であるため、図3(a)に示す従来の、カラーフィルタ形成基板110と有機発光層形成基板120とを、接着層(保護層とも言う)115で貼り合わせた構造のボトムエミッション型の有機EL表示装置に比べて、前記一方の面側のTFT22や有機発光層23と、前記他方の面のカラーフィルタ用の着色層13R、13G、13B、画素区分用の遮光層12との位置精度を上げることができ、結果、画素区分用の遮光層の幅を大きくとれるため、画素区分用の遮光層の開口率を大きくでき、これにより、消費電力を低くすることを可能としている。   In the bottom emission type organic EL display device of this example, the TFT 22 and the organic light emitting layer 23 are formed on one surface of the base 21 of the organic light emitting layer forming substrate 20, and the light emitted from the organic light emitting layer 23 is emitted. In this structure, a colored layer for color filters and a light-shielding layer for pixel division are formed on the other surface of the substrate 21 that is not the aforementioned one surface. Since the base material of the layer forming substrate 20 is shared by one base material 22, the conventional color filter forming substrate 110 and the organic light emitting layer forming substrate 120 shown in FIG. Compared with the bottom emission type organic EL display device having a structure in which the layer (also referred to as a protective layer) 115 is bonded together, the TFT 22 and the organic light emitting layer 23 on the one surface side and the coloring for the color filter on the other surface Layer 13 , 13G, 13B, and the position accuracy with respect to the light shielding layer 12 for pixel division can be increased. As a result, the width of the light shielding layer for pixel division can be increased, so that the aperture ratio of the light shielding layer for pixel division can be increased. This makes it possible to reduce power consumption.

また、本例のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、図3(a)に示す従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置の場合のように、有機発光層形成基板120のTFT122や有機発光層123を配した基材121とカラーフィルタ形成基板110とを接着層(保護層)115にて貼り合わせた構造ではないため、カラーフィルタ用の各色の着色層13R、13G、13Bと有機発光層形成基板20の基材21との間に間隔が発生することはないため、図3(a)に示す従来のボトムエミッション型の有機EL表示装置に比べて、視差や混色が発生し難くなり、表示装置全体の厚さを薄くすることを可能としている。   In addition, the bottom emission type organic EL display device of this example is similar to the conventional bottom emission type organic EL display device shown in FIG. Since the substrate 121 and the color filter forming substrate 110 on which the 123 is arranged are not bonded to each other by the adhesive layer (protective layer) 115, the colored layers 13R, 13G, and 13B of each color for the color filter and the organic light emitting layer are formed. Since there is no gap between the substrate 20 and the base material 21, parallax and color mixing are less likely to occur compared to the conventional bottom emission type organic EL display device shown in FIG. It is possible to reduce the thickness of the entire apparatus.

また、基材21のTFT22、有機発光層23が配された側が封止された構造であり、有機発光層の信頼性を確保できるものとしている。   Further, the side of the base material 21 on which the TFT 22 and the organic light emitting layer 23 are disposed is sealed, and the reliability of the organic light emitting layer can be ensured.

また、本例のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、言わば、カラーフィルタ形成基板10の基材として、有機発光層形成基板20のTFT22や有機発光層23を配した基材21を、兼用した構造のものであるため、その作製においては、低コスト化を可能としている。   In addition, the bottom emission type organic EL display device of this example also uses the base material 21 provided with the TFT 22 and the organic light emitting layer 23 of the organic light emitting layer forming substrate 20 as the base material of the color filter forming substrate 10. Since it has a structure, it can be manufactured at low cost.

次に、本例のボトムエミッション型の有機EL表示装置の作製方法を、図2に基づいて簡単に説明する。   Next, a method for manufacturing the bottom emission type organic EL display device of this example will be briefly described with reference to FIG.

先ず、透明基板からなる基材21(図2(a))の一面上に、周知の方法により、TFT22、アライメント用マーク(図示していない)、TFT22を駆動するための発光用の陽極28、有機発光層23、および、反射性の反射電極であるTFT22を駆動するため発光用の陰極25を、基材21の一面上に形成する。(図2(b)))
図2(b)に示す基板をここではTFT形成基板とも言う。
First, a TFT 22, an alignment mark (not shown), a light emitting anode 28 for driving the TFT 22, on a surface of a base material 21 (FIG. 2A) made of a transparent substrate by a known method, A light emitting cathode 25 is formed on one surface of the substrate 21 to drive the organic light emitting layer 23 and the TFT 22 which is a reflective reflective electrode. (Fig. 2 (b))
The substrate shown in FIG. 2B is also referred to herein as a TFT formation substrate.

一方、封止用の板状の基材26を用意しておき(図2(c))、接着層24を介して、TFT22、有機発光層23を配した図2(b)に示すTFT形成基板と、図2(c)に示す基材26とを、貼り合わせる。(図2(d))
この際、側面部は封止材29にて覆い、全体を封止し、有機発光層形成基板20を作製する。
On the other hand, a plate-like base material 26 for sealing is prepared (FIG. 2C), and the TFT formation shown in FIG. A board | substrate and the base material 26 shown in FIG.2 (c) are bonded together. (Fig. 2 (d))
At this time, the side surface portion is covered with the sealing material 29 and the whole is sealed, and the organic light emitting layer forming substrate 20 is manufactured.

このようにして有機発光層形成基板20が作製されるが、作製された有機発光層形成基板20の基材21のTFT22や有機発光層23が形成された面側ではない面側に、周知の方法により、画素区分用の遮光層12、カラーフィルタ形成用の各色の着色層13R、13G、13Bを、それぞれ、フォトリソにより形成し、更に、全体を覆うように保護層14を配設する。(図2(e))
有機発光層形成基板20は、全体を封止して、基材21と基板26とを表裏に配しているため、通常のカラーフィルタ形成基板の基材と同じように扱え、通常の、カラーフィルタ形成基板の作製と同様にして、基材21面上に、画素区分用の遮光層12、カラーフィルタ形成用の各色の着色層13R、13G、13Bを、それぞれ、フォトリソにより形成することができる。
In this way, the organic light emitting layer forming substrate 20 is manufactured. However, the substrate 21 of the manufactured organic light emitting layer forming substrate 20 has a well-known surface side that is not the surface side on which the TFT 22 or the organic light emitting layer 23 is formed. The light shielding layer 12 for pixel division and the colored layers 13R, 13G, and 13B for forming color filters are formed by photolithography using a method, and a protective layer 14 is disposed so as to cover the whole. (Fig. 2 (e))
Since the organic light emitting layer forming substrate 20 is entirely sealed and the base material 21 and the substrate 26 are arranged on the front and back, it can be handled in the same manner as the base material of a normal color filter forming substrate, Similarly to the production of the filter forming substrate, the light blocking layer 12 for pixel division and the colored layers 13R, 13G, and 13B for forming color filters can be formed on the surface of the base material 21 by photolithography. .

画素区分用の遮光層12、カラーフィルタ形成用の各色の着色層13R、13G、13Bを形成する際の位置合わせは、基材21のTFT22が形成された側の面に設けられたアライメント用マーク(図示していない)を用いて行う。   The alignment when forming the light blocking layer 12 for pixel division and the colored layers 13R, 13G, and 13B for forming the color filters is the alignment mark provided on the surface of the substrate 21 on the side where the TFT 22 is formed. (Not shown).

尚、図3(a)に示す従来の表示装置を作製する場合も、有機発光層形成基板120の基材121のTFT122側に形成したアライメント用マーク(図示していない)を用いて、有機発光層形成基板120とカラーフィルタ形成基板110との位置合わせして、貼り合わせを行うが、図3(a)に示す従来の表示装置を作製する場合は、図2に示す本例のボトムエミッション型の有機EL表示装置の作製方法に比べて、カラーフィルタ形成基板110の画素区分用の遮光層12、カラーフィルタ形成用の各色の着色層13R、13G、13Bを形成した面と、有機発光層形成基板120の基材121のアライメント用マークとの距離が大きいため、貼り合わせ精度(位置合わせ精度とも言う)が劣ってしまう。   In the case of manufacturing the conventional display device shown in FIG. 3A, organic light emission is performed using an alignment mark (not shown) formed on the TFT 122 side of the base material 121 of the organic light emitting layer forming substrate 120. The layer forming substrate 120 and the color filter forming substrate 110 are aligned and bonded to each other. When the conventional display device shown in FIG. 3A is manufactured, the bottom emission type of this example shown in FIG. Compared with the method for manufacturing the organic EL display device, the surface on which the light blocking layer 12 for pixel division of the color filter forming substrate 110 and the color layers 13R, 13G, and 13B for forming the color filters are formed, and the organic light emitting layer formation is performed. Since the distance from the alignment mark of the base material 121 of the substrate 120 is large, the bonding accuracy (also referred to as alignment accuracy) is poor.

基板の歪み、パターン歪みもあるため、貼り合わせ精度は良くても±5μm程度になってしまう。   Since there are substrate distortion and pattern distortion, the bonding accuracy is about ± 5 μm at best.

さらに、精度良く位置合せするには、時間を要するため生産性も低下する。   Furthermore, since it takes time to align with high accuracy, the productivity also decreases.

尚、各部と作製方法については周知であり、ここでは説明を省く。(各部材の記載やその形成方法を参照)
次に、図1(a)に示す有機EL表示装置の各部材について説明する。
Note that each part and the manufacturing method are well known and will not be described here. (Refer to the description of each member and its formation method)
Next, each member of the organic EL display device shown in FIG.

<有機発光層形成基板20>
(1) 基材21
基材21としては、透明基板が用いられるが、従来より用いられている石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができるが、特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。
<Organic light emitting layer forming substrate 20>
(1) Substrate 21
As the base material 21, a transparent substrate is used, but a transparent inorganic substrate having no flexibility such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, synthetic quartz plate, and the like, and a transparent resin film, A flexible transparent resin substrate such as an optical resin plate can be used, and an inorganic substrate is particularly preferable, and a glass substrate is preferably used among the inorganic substrates.

さらには、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。   Furthermore, it is preferable to use an alkali-free type glass substrate among the glass substrates.

無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、好適である。
(2) TFT
TFT22駆動にて有機発行層23の発光動作を制御するが、TFTは、半導体で、周知の部材からなり、周知の半導体製造において作製され、ここでは説明を省く。
(3) 有機発光層23
有機発光層23は、少なくとも発光層を含む1層もしくは複数層の有機層から構成されるものである。
An alkali-free type glass substrate is suitable because it is excellent in dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and does not contain an alkali component in the glass.
(2) TFT
The light emission operation of the organic issue layer 23 is controlled by driving the TFT 22. The TFT is a semiconductor and is made of a well-known member, and is manufactured in a well-known semiconductor manufacturing, and the description is omitted here.
(3) Organic light emitting layer 23
The organic light emitting layer 23 is composed of one or more organic layers including at least a light emitting layer.

本例での有機発光層23は、白色発光の有機発光層で、例えば、図3(b)に示すような材料構成をしている。   The organic light emitting layer 23 in this example is a white light emitting organic light emitting layer, and has a material configuration as shown in FIG. 3B, for example.

図3(b)に示す有機発光層23は、赤、緑、青に発光する3つの材料を用いて、併せて白色発光とするものです。   The organic light emitting layer 23 shown in FIG. 3B uses three materials that emit red, green, and blue, and emits white light together.

有機EL素子27は、発光材料を含む有機発光層23、陽極28、陰極25とからなり、TFT22駆動で発光動作を制御される。   The organic EL element 27 includes an organic light emitting layer 23 containing a light emitting material, an anode 28, and a cathode 25, and the light emission operation is controlled by driving the TFT 22.

発光層以外の有機発光層23を構成する有機層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。   Examples of the organic layer constituting the organic light emitting layer 23 other than the light emitting layer include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer.

この正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合が多い。   This hole transport layer is often integrated with the hole injection layer by imparting a hole transport function to the hole injection layer.

また、有機発光層23を構成する有機層としては、正孔ブロック層や電子ブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して発光層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。   In addition, as the organic layer constituting the organic light emitting layer 23, holes or electrons such as a hole blocking layer and an electron blocking layer are prevented from penetrating, and further, exciton diffusion is prevented and excitons are included in the light emitting layer. A layer for increasing the recombination efficiency and the like can be given by confining.

有機発光層の構成としては、一般的な構成であればよく、発光層のみ、正孔注入層/発光層、正孔注入層/発光層/電子注入層、正孔注入層/正孔ブロック層/発光層/電子注入層、正孔注入層/発光層/電子輸送層などを例示することができる。   The organic light emitting layer may be of a general structure, and only the light emitting layer, hole injection layer / light emitting layer, hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer, hole injection layer / hole blocking layer. / Light emitting layer / electron injection layer, hole injection layer / light emitting layer / electron transport layer, and the like can be exemplified.

尚、白色発光の有機EL素子27における、発光材料は、単一の化合物で構成されることはほとんどなく、一般的には、2つないし3つの色の異なる発光材料を用いているが、図3(b)に示す材料構成に限定はされない。   Note that the light emitting material in the white light emitting organic EL element 27 is rarely composed of a single compound, and generally two or three different light emitting materials are used. The material configuration shown in 3 (b) is not limited.

発光スペクトルは、各色の発光材料のスペクトルを併せた形となる。   The emission spectrum is a combination of the spectra of the luminescent materials of each color.

(陽極28、陰極25)
陽極28、陰極25の電極層を形成する導電性材料としては、一般に金属材料が用いられるが、有機物や無機化合物を用いてもよく、複数の材料を混合して用いてもよい。
(Anode 28, Cathode 25)
As the conductive material for forming the electrode layers of the anode 28 and the cathode 25, a metal material is generally used. However, an organic material or an inorganic compound may be used, or a plurality of materials may be mixed and used.

また、陽極、陰極の電極層は、光の取り出し面に応じて、透明性を有するか否かを適宜選択される。   In addition, the electrode layers of the anode and the cathode are appropriately selected as to whether or not they have transparency depending on the light extraction surface.

本例では、陰極25が反射電極となるため反射性の金属を電極とする。   In this example, since the cathode 25 serves as a reflective electrode, a reflective metal is used as the electrode.

また、本例では、ボトムエミッション型であるため、陽極28は透明電極とする。   In this example, since it is a bottom emission type, the anode 28 is a transparent electrode.

陽極28には、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく用いられ、陰極25には、電子が注入し易いように仕事関数の小さな導電性材料が好ましく用いられる。   A conductive material having a high work function is preferably used for the anode 28 so that holes can be easily injected, and a conductive material having a low work function is preferably used for the cathode 25 so that electrons can be easily injected.

前記導電性材料としては、透明性を要求される場合には、In−Zn−O(IZO)、In−Sn−O(ITO)、Zn−O−Al、Zn−Sn−O等が挙げられ、透明性が要求されない場合には、金属を用いることができ、具体的にはAu、Ta、W、Pt、Ni、Al、Pd、Cr、あるいは、Al合金、Ni合金、Cr合金等を挙げることができる。   Examples of the conductive material include In—Zn—O (IZO), In—Sn—O (ITO), Zn—O—Al, and Zn—Sn—O when transparency is required. In the case where transparency is not required, metals can be used, specifically, Au, Ta, W, Pt, Ni, Al, Pd, Cr, Al alloy, Ni alloy, Cr alloy, etc. be able to.

陽極28および陰極25のいずれの電極層も、抵抗が比較的小さいことが好ましい。   Both electrode layers of the anode 28 and the cathode 25 preferably have a relatively small resistance.

電極層の成膜方法としては、一般的な電極の成膜方法を用いることができ、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、CVD法、印刷法等を挙げることができる。   As a method for forming the electrode layer, a general method for forming an electrode can be used, and examples thereof include a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, a CVD method, and a printing method.

また、電極層のパターニング方法としては、フォトリソグラフィー法を挙げることができる。   An example of the patterning method for the electrode layer is a photolithography method.

(接着層24)
透明な接着性の樹脂材料が用いられ、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
(Adhesive layer 24)
A transparent adhesive resin material is used, and examples thereof include a thermosetting resin composition and a photocurable resin composition.

光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。   The photocurable resin composition is the same as the binder resin used for the color layers for forming the color filter, for example, acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber A photosensitive resin having a reactive vinyl group is used.

この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。   In this case as well, a photopolymerization initiator may be added to the photosensitive resin composition for forming colored portions containing the photosensitive resin, and further, a sensitizer, a coating property improver, and a development improver as necessary. Further, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant and the like may be added.

熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂などが用いられる。必要に応じて、酸、アミン系などの硬化剤を添加しても良い。   As the thermosetting resin composition, an epoxy resin, an oxetane resin, or the like is used. If necessary, a curing agent such as an acid or an amine may be added.

(基板26)
透明性は必要ではないが、基材21と同様の材質のものが用いられる。
(Substrate 26)
Transparency is not necessary, but the same material as the substrate 21 is used.

(封止材29)
有機発光層形成基板20の側面部を封止するための封止材29としては、例えば、無機材料として、SiO2 、Si3 N4 、Al2 O3 、ITO、Six Oy 等、有機材料としては、エポキシ樹脂を始め、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等が用いられる。
(Sealing material 29)
As the sealing material 29 for sealing the side surface portion of the organic light emitting layer forming substrate 20, for example, an inorganic material such as SiO2, Si3N4, Al2O3, ITO, Six Oy, etc., an organic material such as an epoxy resin is used. First, acrylic resin, urethane resin, or the like is used.

<画素区分け用の遮光層(ブラックマトリクスとも言う)12>
カラーフィルタ用の各色の着色層の画素領域を区分けする画素区分け用の遮光層12を形成するための遮光性の着色層としては、例えば、ここでは、エポキシ樹脂等の樹脂で被覆したカーボンブラックをピグメント(顔料)としてバインダ樹脂中に分散させたものが用いられている。
<Light shielding layer for pixel division (also referred to as black matrix) 12>
For example, carbon black covered with a resin such as an epoxy resin is used as the light-shielding colored layer for forming the pixel-segmenting light-shielding layer 12 for segmenting the pixel regions of the color layers for the color filters. A pigment (pigment) dispersed in a binder resin is used.

カーボンブラックをピグメント(顔料)としてバインダ樹脂中に分散させたものは、膜厚を比較的薄くして遮光性の樹脂層を形成することができる。   In the case where carbon black is dispersed as a pigment (pigment) in a binder resin, the light-shielding resin layer can be formed with a relatively thin film thickness.

ここでは、ブラックマトリクスの遮光性の着色層の形成をフォトリソグラフィー法を用いているが、この場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。   Here, the light-blocking colored layer of the black matrix is formed using a photolithography method. In this case, as the binder resin, for example, an acrylate type, a methacrylate type, a polyvinyl cinnamate type, or a cyclized rubber type is used. A photosensitive resin having a reactive vinyl group is used.

この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有するブラックマトリクス形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。   In this case, a photopolymerization initiator may be added to the photosensitive resin composition for forming a black matrix containing a black colorant and a photosensitive resin, and further, if necessary, a sensitizer, a coatability improver, A development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like may be added.

尚、ブラックマトリクスの遮光性の着色層を、印刷法やインクジェット法を用いて形成する場合もあるが、この場合には、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。   The light-blocking colored layer of the black matrix may be formed using a printing method or an inkjet method. In this case, examples of the binder resin include polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, and polycarbonate resin. , Polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, polyvinyl chloride resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin, etc. .

尚、画素区分け用の遮光層の開口パターン形状や各色の着色層の配列は、限定はされない。   In addition, the opening pattern shape of the light shielding layer for pixel division and the arrangement of the colored layers of each color are not limited.

画素区分け用の遮光層の開口パターン形状がストライプ状のものや、くの字形状、デルタ配列などの様に着色層の配列を変えたものも挙げられる。   There are also examples in which the shape of the opening pattern of the light blocking layer for pixel division is a stripe shape, and the arrangement of the colored layers is changed, such as a dogleg shape or a delta arrangement.

<着色層13R、13G、13B>
本例では、カラーフィルタ形成用の各色の着色層は、赤色の着色層13R、緑色の着色層13G、青色の着色層13Bの3色の着色層である。
<Colored layers 13R, 13G, 13B>
In this example, the colored layers for forming the color filters are the three colored layers of the red colored layer 13R, the green colored layer 13G, and the blue colored layer 13B.

各色の着色層は、各色の顔料や染料等の着色材(色材ともいう)をバインダ樹脂中に分散または溶解させた着色部形成用の樹脂組成物を用いて、フォトリソ法(フォトリソグラフィー法とも言う)により形成されるものである。   The colored layer of each color is formed by using a resin composition for forming a colored portion in which a coloring material (also referred to as a coloring material) such as a pigment or dye of each color is dispersed or dissolved in a binder resin, and a photolithography method (also called a photolithography method). Say).

上記着色層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。   As the binder resin used in the colored layer, for example, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber is used.

この場合、着色材および感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。   In this case, a photopolymerization initiator may be added to the photosensitive resin composition for forming a colored part containing a colorant and a photosensitive resin, and further a sensitizer, a coating property improver, and a development as necessary. You may add an improving agent, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, etc.

上記各色の着色層の膜厚は、通常、1μm〜5μm程度で設定される。   The thickness of the colored layer of each color is usually set to about 1 μm to 5 μm.

着色層の色としては、赤色、緑色、青色の3色を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではなく、例えば、赤色、緑色、青色の3色、または、赤色、緑色、青色、黄色の4色、または、赤色、緑色、青色、黄色、シアンの5色等とすることもできる。   The color of the colored layer is not particularly limited as long as it includes at least three colors of red, green, and blue. For example, three colors of red, green, and blue, or red, green, blue, and yellow Or five colors such as red, green, blue, yellow, and cyan.

特に、赤色、緑色、青色、白色( 透明) の4 色が、消費電力の観点で好ましい。   In particular, four colors of red, green, blue, and white (transparent) are preferable from the viewpoint of power consumption.

尚、赤色(Rとも記載)の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。   Examples of the colorant used in the red (also referred to as R) colored layer include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. Can be mentioned.

これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。   These pigments may be used alone or in combination of two or more.

緑色(Gとも記載)の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。   Examples of the colorant used in the green (also referred to as G) colored layer include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, and isoindoline pigments. Examples thereof include pigments and isoindolinone pigments.

これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。   These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.

青色(Bとも記載)の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。   Examples of the colorant used in the blue (also referred to as B) coloring layer include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. .

これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。   These pigments may be used alone or in combination of two or more.

<保護層14>
保護層用の材料としては、塗膜して形成する熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられるが、フィルムをラミネートして形成するフィルム部材である場合には、特に、作製面から好ましい。
<Protective layer 14>
Examples of the material for the protective layer include a thermosetting resin composition and a photocurable resin composition that are formed by coating, and particularly when the film member is formed by laminating a film. From the aspect, it is preferable.

塗膜形成用の光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。   The photocurable resin composition for forming a coating film is the same as the binder resin used for the colored layer for forming each color filter, for example, acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or ring. A photosensitive resin having a reactive vinyl group such as a synthetic rubber is used.

この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。   In this case as well, a photopolymerization initiator may be added to the photosensitive resin composition for forming colored portions containing the photosensitive resin, and further, a sensitizer, a coating property improver, and a development improver as necessary. Further, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant and the like may be added.

尚、第1の例では、カラーフィルタ形成基板は面付けして赤色、緑色、青色の各着色層13R、13G、13B、及び、画素区分用遮光部13Mおよび、額縁部12を形成した後に、樹脂組成物をスピンコーテイング法により塗布する。   In the first example, the color filter forming substrate is impositioned and the red, green, and blue colored layers 13R, 13G, and 13B, the pixel-segmenting light-shielding portion 13M, and the frame portion 12 are formed. The resin composition is applied by a spin coating method.

塗膜形成用の熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤をもちいたものがあげられる。   Examples of the thermosetting resin composition for forming a coating film include those using an epoxy compound and those using a thermal radical generator.

エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊(昭和62年)等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。   Examples of the epoxy compound include known polyvalent epoxy compounds that can be cured by a carboxylic acid or an amine compound. Examples of such an epoxy compound include “Epoxy resin handbook” edited by Masaki Shinbo, published by Nikkan Kogyo Shimbun. (1987) and the like, and these can be used.

熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。   The thermal radical generator is at least one selected from the group consisting of persulfates, halogens such as iodine, azo compounds, and organic peroxides, more preferably azo compounds or organic peroxides.

アゾ化合物としては、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’−アゾビス−[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、および2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ(4−メチルゼンゾイル)ペーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルエキサネート、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカルボネート、t−ブチル−4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。   Examples of the azo compound include 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile, 1-[(1-cyano-1-methylethyl) azo] formamide, 2,2′-azobis- [N- (2-propenyl). ) -2-methylpropionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2′-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide) and the like, Examples of the organic peroxide include di (4-methylzenzoyl) peroxide, t-butylperoxy-2-ethylexanate, 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-di ( t-butylperoxy) cyclohexane, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, - butyl-4,4-di - (t-butylperoxy) Butaneto, and the like dicumyl peroxide.

ラミネート形成用のフィルム部材としては、熱硬化性の樹脂フィルム(シートとも言う)が挙げられるが、ロールラミネーターなどで画素区分け用の遮光層やカラーフィルタ用の各色の着色層が形成された側上にフィルム部材を置き、熱と圧力で樹脂を流動させ、封止させる。   Examples of the film member for forming a laminate include a thermosetting resin film (also referred to as a sheet). On the side where a light-blocking layer for pixel division and a colored layer for each color filter are formed by a roll laminator or the like. The film member is placed on the substrate, and the resin is flowed with heat and pressure to be sealed.

例えば、半硬化のエポキシ樹脂をベースとする樹脂フィルムの両面を剥離性のフイルムで保護した形態で用いる場合には、扱いが容易で、ロールラミネーターで低温で短時間に貼り付け、別の硬化炉でキュアーすることができる。   For example, when both sides of a resin film based on a semi-cured epoxy resin are used in a form protected with a peelable film, it is easy to handle, and is applied in a short time at a low temperature with a roll laminator. Can be cured.

本発明の表示装置は、図1に示す例に限定されない。   The display device of the present invention is not limited to the example shown in FIG.

例えば、図1に示す表示装置において、カラーフィルタ用のR、G、Bの各色の着色層を配した画素(着色画素とも言う)のほかに、高い光透過性の高光透過画素(以下、WHITE画素とも言う)を、前記各色の着色層形成側に備えた形態も挙げられる。   For example, in the display device shown in FIG. 1, in addition to a pixel (also referred to as a colored pixel) provided with colored layers of R, G, and B for color filters, a highly light transmissive pixel (hereinafter referred to as WHITE) having high light transmittance. A form in which the pixel is also provided on the colored layer forming side of each color.

高光透過画素には、通常、着色していない樹脂層や、若干着色してある樹脂層を配している。   A high light transmission pixel is usually provided with an uncolored resin layer or a slightly colored resin layer.

更に、図1に示す表示装置や、上記の高光透過画素を備えた表示装置において、電源OFF時の見栄えをよくするために、外光が表示部に入射した際、反射電極である陰極からの反射による反射光を低減させるために、各色の着色層形成側において、WHITE画素領域に、あるいは、WHITE画素領域と着色層が形成された画素領域を覆うように光吸収層を配した形態としても良い。   Further, in the display device shown in FIG. 1 and the display device having the above-described high light transmission pixel, when external light is incident on the display portion, the cathode electrode which is a reflective electrode is used to improve the appearance when the power is turned off. In order to reduce reflected light due to reflection, a light absorption layer may be arranged on the colored layer forming side of each color so as to cover the WHITE pixel region or the pixel region where the WHITE pixel region and the colored layer are formed. good.

光吸収層を形成する材料としては、例えば、樹脂中に、色材としてカーボンブラックを含有し、色調整用にBLUE顔料等含有し、これらを分散させたものが用いられるが、上記樹脂としては、画素区分け用の遮光層や各色の着色層を形成する樹脂組成物等から色材を除いた組成の樹脂を用い、塗膜する。   As a material for forming the light absorption layer, for example, a resin containing carbon black as a coloring material, BLUE pigment for color adjustment, and the like dispersed therein can be used. The coating is made using a resin having a composition obtained by removing a color material from a resin composition for forming a light-blocking layer for pixel division or a colored layer of each color.

同じ仕様で、画素区分用の遮光層の開口率を50%として、図3に示す従来の構造のボトムエミッション型の有機EL表示装置表示装置と、図1に示す本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置とを作製して、TFTや有機発光層と、カラーフィルタ用の着色層、画素区分用の遮光層との位置合わせ精度を測定したが、前記従来の表示装置では、位置合わせ精度の誤差は平均で±6μm程度であるのに対して、前記本発明の表示装置では、位置合わせ精度の誤差は平均で±3μm程度であった。   With the same specification, the aperture ratio of the light shielding layer for pixel division is set to 50%, and the bottom emission type organic EL display device having the conventional structure shown in FIG. 3 and the bottom emission type organic EL display of the present invention shown in FIG. An EL display device was manufactured, and the alignment accuracy of the TFT or organic light emitting layer, the color layer for the color filter, and the light shielding layer for the pixel division was measured. In the conventional display device, the alignment accuracy was The average error is about ± 6 μm, whereas in the display device of the present invention, the alignment accuracy error is about ± 3 μm on average.

尚、ここでは、開口ピッチはX方向で105μm、Y方向で315μm、画素区分用の遮光層の最細線幅は12μmであった。   Here, the opening pitch was 105 μm in the X direction, 315 μm in the Y direction, and the thinnest line width of the light blocking layer for pixel division was 12 μm.

従来の表示装置では、上記のように、画素区分用の遮光層との位置合わせ精度が±6μm程度であるから、開口率60%に上げることができないが、本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置の場合には、上記のように、画素区分用の遮光層との位置合わせ精度が±3μm程度であるから、開口率60%に上げることができるとして、更に、画素区分用の遮光層の開口率のみを60%として、他を変えずに、同様に、本発明の表示装置を作製した。   In the conventional display device, since the alignment accuracy with the light blocking layer for pixel division is about ± 6 μm as described above, the aperture ratio cannot be increased to 60%, but the bottom emission type organic EL of the present invention In the case of a display device, as described above, since the alignment accuracy with the light blocking layer for pixel division is about ± 3 μm, the aperture ratio can be increased to 60%. Similarly, the display device of the present invention was manufactured by changing only the aperture ratio of 60% to 60% without changing the others.

開口率を60%として作製された本発明の表示装置と、開口率を50%として作製された従来の表示装置に対して、表示した際の輝度を、それぞれ、輝度計(SR3 UL−1;TOPCON社製)で評価したが、図1に示す本発明のボトムエミッション型の有機EL表示装置は、図3に示す従来の構造の前記表示装置に比べて、平均で、20%程度輝度が向上していた。   With respect to the display device of the present invention manufactured with an aperture ratio of 60% and a conventional display device manufactured with an aperture ratio of 50%, the luminance when displayed is a luminance meter (SR3 UL-1; The bottom emission type organic EL display device of the present invention shown in FIG. 1 has an average brightness improvement of about 20% compared to the display device having the conventional structure shown in FIG. Was.

10 カラーフィルタ形成基板
11 基材
12 画素区分け用の遮光層
13R 赤色の着色層(赤色の着色樹脂層とも言う)
13G 緑色の着色層(緑色の着色樹脂層とも言う)
13B 青色の着色層(青色の着色樹脂層とも言う)
14 保護層
20 有機発光層形成基板
21 基材
22 TFT
23 有機発光層
24 接着層
25 陰極(反射電極)
26 基板
27 有機EL素子
28 陽極
29 封止材
110 カラーフィルタ形成基板
112 画素区分け用の遮光層
113R 赤色の着色層(赤色の着色樹脂層とも言う)
113G 緑色の着色層(緑色の着色樹脂層とも言う)
113B 青色の着色層(青色の着色樹脂層とも言う)
115 接着層(保護層とも言う)
120 有機発光層形成基板
121 基材
122 TFT
123 有機発光層
124 接着層
125 陰極(反射電極)
126 基板
127 有機EL素子
128 陽極
129 封止材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Color filter formation board | substrate 11 Base material 12 Light shielding layer 13R for pixel division Red colored layer (it is also called red colored resin layer)
13G green colored layer (also called green colored resin layer)
13B Blue colored layer (also called blue colored resin layer)
14 Protective layer 20 Organic light emitting layer forming substrate 21 Base material 22 TFT
23 Organic Light-Emitting Layer 24 Adhesive Layer 25 Cathode (Reflective Electrode)
26 Substrate 27 Organic EL element 28 Anode 29 Sealing material 110 Color filter forming substrate 112 Light blocking layer 113R for pixel division Red colored layer (also referred to as red colored resin layer)
113G Green colored layer (also called green colored resin layer)
113B Blue colored layer (also called blue colored resin layer)
115 Adhesive layer (also called protective layer)
120 Organic light emitting layer forming substrate 121 Base material 122 TFT
123 Organic light emitting layer 124 Adhesive layer 125 Cathode (reflective electrode)
126 Substrate 127 Organic EL Element 128 Anode 129 Sealant

Claims (3)

透明な基板である基材の一方の面にはTFTと有機発光層を配し、前記基材の他方の面側に前記有機発光層からの発光光を出射する、ボトムエミッション型の有機EL表示装置であって、前記基材の前記他方の面には、画素区分用遮光層とカラーフィルタ形成用の着色層が直に形成されており、且つ、前記基材の前記一方側が封止された構造であることを特徴とするボトムエミッション型の有機EL表示装置。 A bottom emission type organic EL display in which a TFT and an organic light emitting layer are arranged on one surface of a base material which is a transparent substrate, and light emitted from the organic light emitting layer is emitted to the other surface side of the base material. In the apparatus, a light-blocking layer for pixel division and a colored layer for forming a color filter are directly formed on the other surface of the base material, and the one side of the base material is sealed. A bottom emission type organic EL display device characterized by having a structure. 請求項1に記載のボトムエミッション型の有機EL表示装置であって、前記カラーフィルタ形成用の各色の着色層および画素区分用の遮光層を覆うように全体に保護層が形成されていることを特徴とするボトムエミッション型の有機EL表示装置。   2. The bottom emission type organic EL display device according to claim 1, wherein a protective layer is entirely formed so as to cover the colored layers for forming the color filters and the light shielding layer for pixel division. A bottom emission type organic EL display device. 請求項2に記載のボトムエミッション型の有機EL表示装置であって、前記保護層は、フィルムをラミネートして形成されたものであることを特徴とするボトムエミッション型の有機EL表示装置。   3. The bottom emission type organic EL display device according to claim 2, wherein the protective layer is formed by laminating a film.
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