Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6074851B2 - Conductive optical member - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6074851B2 - Conductive optical member - Google Patents

Conductive optical member Download PDF

Info

Publication number
JP6074851B2
JP6074851B2 JP2013074552A JP2013074552A JP6074851B2 JP 6074851 B2 JP6074851 B2 JP 6074851B2 JP 2013074552 A JP2013074552 A JP 2013074552A JP 2013074552 A JP2013074552 A JP 2013074552A JP 6074851 B2 JP6074851 B2 JP 6074851B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
conductive
resin
conductive layer
optical member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013074552A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014199751A (en
Inventor
和彦 金内
和彦 金内
福崎 僚三
僚三 福崎
名栄美 南
名栄美 南
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority to JP2013074552A priority Critical patent/JP6074851B2/en
Publication of JP2014199751A publication Critical patent/JP2014199751A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6074851B2 publication Critical patent/JP6074851B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Description

本発明は、透明性と導電性とを併せ持つ導電性光学部材に関する。   The present invention relates to a conductive optical member having both transparency and conductivity.

従来、透明性と導電性とを併せ持つ導電性光学部材は、タッチパネル、有機EL、液晶ディスプレイ、太陽電池等のデバイスに広く適用されている。   Conventionally, conductive optical members having both transparency and conductivity have been widely applied to devices such as touch panels, organic EL, liquid crystal displays, and solar cells.

近年、銀ナノワイヤなどの金属ナノワイヤを含有する導電層を備える導電性光学部材が、提案されている。この場合、導電層では、金属ナノワイヤに起因する光の散乱が生じやすいため、タッチパネル、ディスプレイ等において、導電層が白っぽく浮き上がって見える現象が生じやすい。尚、この現象は、それによって本来黒であるべき色が明るく見えてしまうために黒浮きとも呼ばれるが、本明細書ではミルキーフェイスと呼ぶ。   In recent years, a conductive optical member including a conductive layer containing metal nanowires such as silver nanowires has been proposed. In this case, in the conductive layer, light scattering due to the metal nanowires is likely to occur. Therefore, a phenomenon that the conductive layer appears to be whitish is likely to occur in a touch panel, a display, or the like. This phenomenon is also called black float because the color that should be black appears to be bright thereby, but in this specification is called a milky face.

そこで、特許文献1では、導電層(透明導電膜)内の金属ナノワイヤに有色化合物を吸着させることで、金属ナノワイヤでの光の乱反射を防止することが、提案されている。   Therefore, Patent Document 1 proposes preventing irregular reflection of light on the metal nanowires by adsorbing a colored compound to the metal nanowires in the conductive layer (transparent conductive film).

特許第4893867号公報Japanese Patent No. 4893867

しかし、特許文献1に開示されているように金属ナノワイヤに有色化合物を吸着させると、有色化合物によって金属ナノワイヤの導電性が損なわれてしまう。つまり、ミルキーフェイスの防止によって外観の向上を図ろうとすると、導電性の本質的な機能である導電性が損なわれるという事態が生じてしまう。   However, when a colored compound is adsorbed on the metal nanowire as disclosed in Patent Document 1, the conductivity of the metal nanowire is impaired by the colored compound. That is, when the appearance is improved by preventing the milky face, a situation occurs in which the conductivity, which is an essential function of conductivity, is impaired.

また、金属ナノワイヤを含有する導電層を光が透過すると、透過後の光の色相が、透過前よりも黄色味又は赤色味を帯びてしまう。従って、導電性光学部材の外観を向上するためには、ミルキーフェイスを抑制すると同時に、導電性光学部材を透過する前後での光の色相の変化を抑制する必要もある。   Moreover, when light passes through the conductive layer containing metal nanowires, the hue of the light after transmission becomes more yellow or red than before transmission. Therefore, in order to improve the appearance of the conductive optical member, it is necessary to suppress the milky face and at the same time suppress the change in the hue of light before and after passing through the conductive optical member.

本発明は、上記事由に鑑みてなされたものであり、金属ナノワイヤを含有する導電層の導電性を阻害することなく、金属ナノワイヤに起因するミルキーフェイスを抑制することができ、しかも透過光の色相の変化を抑制することができる導電性光学部材を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above reasons, and can suppress the milky face caused by the metal nanowire without impeding the conductivity of the conductive layer containing the metal nanowire, and the hue of transmitted light. It is an object of the present invention to provide a conductive optical member that can suppress the change of the above.

本発明の第1の態様に係る導電性光学部材は、光透過性を備える基材と、導電層とを備え、前記導電層が、第一の面及びこの第一の面とは反対側に位置する第二の面を有し、前記基材が、前記導電層に対して前記第二の面側に位置している導電性光学部材であって、
前記導電層が、金属ナノワイヤと青色化合物とを含有し、前記青色化合物が、前記導電層内で、前記第一の面側に偏在し、
前記導電性光学部材が、前記導電層に対して前記第二の面側に位置している調整層を更に備え、前記調整層が、黄色化合物を含有することを特徴とする。
The conductive optical member according to the first aspect of the present invention includes a base material having light permeability and a conductive layer, and the conductive layer is on the first surface and the side opposite to the first surface. A conductive optical member having a second surface positioned, wherein the substrate is positioned on the second surface side with respect to the conductive layer,
The conductive layer contains metal nanowires and a blue compound, and the blue compound is unevenly distributed on the first surface side in the conductive layer,
The conductive optical member further includes an adjustment layer positioned on the second surface side with respect to the conductive layer, and the adjustment layer contains a yellow compound.

本発明の第2の態様に係る導電性光学部材では、第1の態様において、前記導電層が、第一層と、この第一層に対して前記調整層とは反対側に位置している第二層とを備え、前記金属ナノワイヤが前記第一層内に分散し、前記青色化合物が前記第二層内に分散している。   In the conductive optical member according to the second aspect of the present invention, in the first aspect, the conductive layer is located on a side opposite to the adjustment layer with respect to the first layer and the first layer. A second layer, wherein the metal nanowires are dispersed in the first layer, and the blue compound is dispersed in the second layer.

本発明の第3の態様に係る導電性光学部材では、第1又は第2の態様において、前記金属ナノワイヤが、銀ナノワイヤを含有する。   In the electroconductive optical member which concerns on the 3rd aspect of this invention, in the 1st or 2nd aspect, the said metal nanowire contains silver nanowire.

本発明の第4の態様に係る導電性光学部材では、第1乃至第3のいずれか一の態様において、前記調整層が、前記基材と前記導電層との間に介在する。   In the conductive optical member according to the fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, the adjustment layer is interposed between the base material and the conductive layer.

本発明によれば、金属ナノワイヤに起因するミルキーフェイスを、調整層が、抑制することができる。更に、導電性光学部材を光が透過する際の、透過前と透過後との間での光の色相の変化を、導電層内の青色化合物と調整層が、抑制することができる。しかも、青色化合物は導電層内に分散しているため、青色化合物は導電層の導電性を阻害しにくい。従って、導電層の導電性を阻害することなく、導電性光学部材の外観が向上する。   According to the present invention, the adjustment layer can suppress the milky face caused by the metal nanowires. Further, the blue compound and the adjustment layer in the conductive layer can suppress a change in the hue of the light before and after transmission when the light is transmitted through the conductive optical member. Moreover, since the blue compound is dispersed in the conductive layer, the blue compound is unlikely to hinder the conductivity of the conductive layer. Accordingly, the appearance of the conductive optical member is improved without impeding the conductivity of the conductive layer.

本発明の一実施形態における導電性光学部材を示す概略の断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the electroconductive optical member in one Embodiment of this invention. 銀ナノワイヤの光反射率の、波長依存性を示すグラフである。It is a graph which shows the wavelength dependence of the light reflectivity of silver nanowire.

本実施形態に係る導電性光学部材1は、図1に示すように、光透過性を備える基材2と、導電層3とを備える。導電層3は、第一の面33及びこの第一の面33とは反対側に位置する第二の面34を有する。基材2は、導電層3に対して第二の面34側に位置している。   As shown in FIG. 1, the conductive optical member 1 according to the present embodiment includes a base material 2 having optical transparency and a conductive layer 3. The conductive layer 3 has a first surface 33 and a second surface 34 located on the opposite side of the first surface 33. The substrate 2 is located on the second surface 34 side with respect to the conductive layer 3.

導電層3が、金属ナノワイヤ4と青色化合物とを含有する。青色化合物は、導電層3内で、第一の面33寄りに偏在している。   The conductive layer 3 contains the metal nanowire 4 and a blue compound. The blue compound is unevenly distributed near the first surface 33 in the conductive layer 3.

導電性光学部材1は、導電層3に対して第二の面34側に位置している調整層5を更に備え、調整層5は、黄色化合物を含有する。   The conductive optical member 1 further includes an adjustment layer 5 positioned on the second surface 34 side with respect to the conductive layer 3, and the adjustment layer 5 contains a yellow compound.

本実施形態によれば、光が導電性光学部材1を透過しても、ミルキーフェイスが生じにくくなる。しかも、導電性光学部材1を透過する前と透過した後との間で、光の色相が変化しにくい。このため、導電性光学部材1の外観が向上する。当該作用は、次のような機序によって奏されると考えられる。   According to this embodiment, even if light passes through the conductive optical member 1, a milky face is less likely to occur. In addition, the hue of light hardly changes between before and after passing through the conductive optical member 1. For this reason, the external appearance of the conductive optical member 1 is improved. This action is considered to be achieved by the following mechanism.

図2に、銀ナノワイヤの光反射率の、波長依存性を示す。この図2に示すように、金属ナノワイヤ4の光反射率は、短波長領域(青色領域)にピークを有し、長波長領域では、光反射率が低くなる。このため、金属ナノワイヤ4に照射される光中の短波長領域の成分の割合が高い場合には、金属ナノワイヤ4に起因するミルキーフェイスが著しくなる。   FIG. 2 shows the wavelength dependence of the light reflectance of silver nanowires. As shown in FIG. 2, the light reflectance of the metal nanowire 4 has a peak in the short wavelength region (blue region), and the light reflectance is low in the long wavelength region. For this reason, when the ratio of the component of the short wavelength area | region in the light irradiated to the metal nanowire 4 is high, the milky face resulting from the metal nanowire 4 becomes remarkable.

しかし、本実施形態では、光が導電性光学部材1を、基材2側から導電層3側へ向けて透過する際、まず調整層5内で、黄色化合物が光の短波長領域の成分を選択的に吸収する。このため、光が導電層3へ到達した時点では、光中の短波長領域の成分の割合が少なくなる。その結果、金属ナノワイヤ4による短波長領域の成分の反射に起因するミルキーフェイスが、抑制される。   However, in this embodiment, when light passes through the conductive optical member 1 from the base material 2 side to the conductive layer 3 side, first, in the adjustment layer 5, the yellow compound is a component in the short wavelength region of light. Absorb selectively. For this reason, when the light reaches the conductive layer 3, the proportion of the short wavelength region component in the light decreases. As a result, the milky face due to the reflection of the component in the short wavelength region by the metal nanowire 4 is suppressed.

更に、光が導電層3を通過する際に、青色化合物が光中の長波長領域の成分を吸収するため、光中の長波長領域の成分の割合が低くなる。このように、まず調整層5で光中の短波長成分が吸収され、続いて導電層3で光中の長波長領域の成分が吸収されるため、結果として、導電性光学部材1を透過する前と透過した後との間では、光中の短波長成分の割合と長波長領域の成分の割合が変化しにくくなる。このため、光の色相が変化しにくくなる。   Furthermore, when light passes through the conductive layer 3, the blue compound absorbs components in the long wavelength region in the light, so that the proportion of components in the long wavelength region in the light is low. In this way, first, the adjustment layer 5 absorbs the short wavelength component in the light, and then the conductive layer 3 absorbs the component in the long wavelength region in the light. The ratio of the short wavelength component in the light and the ratio of the component in the long wavelength region hardly change between before and after transmission. For this reason, the hue of light becomes difficult to change.

また、本実施形態において、光が導電層3側から導電性光学部材1へ照射され、この光が導電性光学部材1で反射される場合には、光の短波長領域の成分が青色化合物によって反射されやすくなり、このため、短波長領域の成分が金属ナノワイヤ4へ到達しにくくなる。このため、金属ナノワイヤ4による光の反射が抑制される。また、金属ナノワイヤ4で光が反射されても、調整層5へ向かう反射光は、調整層5中の黄色化合物に吸収されやすい。このため、金属ナノワイヤ4で反射されて導電性光学部材1の外部へ出射する光が低減し、これにより、ミルキーフェイスが抑制される。   Moreover, in this embodiment, when light is irradiated to the conductive optical member 1 from the conductive layer 3 side and this light is reflected by the conductive optical member 1, the component in the short wavelength region of the light is a blue compound. It becomes easy to be reflected, and for this reason, the component of a short wavelength area | region becomes difficult to reach | attain the metal nanowire 4. FIG. For this reason, reflection of light by the metal nanowire 4 is suppressed. Even if light is reflected by the metal nanowire 4, the reflected light toward the adjustment layer 5 is easily absorbed by the yellow compound in the adjustment layer 5. For this reason, the light reflected by the metal nanowire 4 and emitted to the outside of the conductive optical member 1 is reduced, thereby suppressing the milky face.

また、本実施形態では、青色化合物は導電層3内に分散しているため、青色化合物は、金属ナノワイヤ4の導電性を阻害しにくい。このため、導電層3の高い導電性が保たれやすくなる。   In the present embodiment, since the blue compound is dispersed in the conductive layer 3, the blue compound is unlikely to hinder the conductivity of the metal nanowire 4. For this reason, high conductivity of the conductive layer 3 is easily maintained.

本実施形態では、導電層3が、第一層31と、この第一層31に対して調整層5とは反対側に位置している第二層32とを備え、金属ナノワイヤ4が第一層31内に分散し、青色化合物が第二層32内に分散している。これにより、青色化合物が、導電層3内で、第一の面33寄りに偏在して分散している。   In the present embodiment, the conductive layer 3 includes a first layer 31 and a second layer 32 located on the opposite side of the adjustment layer 5 with respect to the first layer 31, and the metal nanowire 4 is the first layer 31. The blue compound is dispersed in the second layer 32 while being dispersed in the layer 31. Thereby, the blue compound is unevenly distributed near the first surface 33 in the conductive layer 3 and dispersed.

このため、本実施形態によれば、光が導電層3を透過する際には、光はまず金属ナノワイヤ4を含有する第一層31を透過し、続いて、青色化合物を含有する第二層32を透過する。このため、青色化合物によって長波長成分が吸収される前の光(つまり短波長成分の割合が低い状態にある光)が、金属ナノワイヤ4に照射されやすくなる。その結果、金属ナノワイヤ4による光の反射が特に抑制され、ミルキーフェイスがより確実に抑制される。   Therefore, according to the present embodiment, when light passes through the conductive layer 3, the light first passes through the first layer 31 containing the metal nanowire 4, and then the second layer containing the blue compound. 32 is transmitted. For this reason, the light before the long wavelength component is absorbed by the blue compound (that is, the light in a state where the ratio of the short wavelength component is low) is easily irradiated to the metal nanowire 4. As a result, the reflection of light by the metal nanowire 4 is particularly suppressed, and the milky face is more reliably suppressed.

本実施形態では、第一層31上に第二層33が直接積層しているが、第一層31と第二層33との間に別の層が介在してもよい。   In the present embodiment, the second layer 33 is directly laminated on the first layer 31, but another layer may be interposed between the first layer 31 and the second layer 33.

尚、青色化合物が、導電層3内で、第一の面33寄りに偏在して分散しているならば、導電層3が、本実施形態のような第一層31と第二層32とを備えなくてもよい。例えば、導電層3が単一の層から構成され、この導電層3内で金属ナノワイヤ4と青色化合物とが混在し、更に導電層3内に、第一の面33側ほど高濃度となるような青色化合物の濃度勾配が形成されてもよい。   In addition, if the blue compound is unevenly distributed near the first surface 33 in the conductive layer 3, the conductive layer 3 includes the first layer 31 and the second layer 32 as in the present embodiment. May not be provided. For example, the conductive layer 3 is composed of a single layer, and the metal nanowires 4 and the blue compound are mixed in the conductive layer 3, and further the concentration in the conductive layer 3 is increased toward the first surface 33 side. A blue compound concentration gradient may be formed.

本実施形態では、金属ナノワイヤ4が、銀ナノワイヤを含有することが好ましい。   In this embodiment, it is preferable that the metal nanowire 4 contains a silver nanowire.

本実施形態では、調整層5が、基材2と前記導電層3との間に介在している。これにより、調整層5が、導電層3に対して第二の面34側の位置に配置されている。   In the present embodiment, the adjustment layer 5 is interposed between the base material 2 and the conductive layer 3. Thereby, the adjustment layer 5 is arranged at a position on the second surface 34 side with respect to the conductive layer 3.

このため、本実施形態によれば、調整層5が、基材2の導電層3側の面からのオリゴマーなどの低分子量成分の析出を、抑制することもできる。このため導電性光学部材1の外観が、更に向上する。   For this reason, according to this embodiment, the adjustment layer 5 can also suppress precipitation of low molecular weight components such as oligomers from the surface of the substrate 2 on the conductive layer 3 side. For this reason, the external appearance of the conductive optical member 1 is further improved.

本実施形態では、導電層3に調整層5が直接積層しているが、導電層3と調整層5との間に別の層が介在していてもよい。また、本実施形態では、調整層5に基材2が直接積層しているが、調整層5と基材2との間に別の層が介在していてもよい。   In the present embodiment, the adjustment layer 5 is directly laminated on the conductive layer 3, but another layer may be interposed between the conductive layer 3 and the adjustment layer 5. In the present embodiment, the base material 2 is directly laminated on the adjustment layer 5, but another layer may be interposed between the adjustment layer 5 and the base material 2.

尚、調整層5が、導電層3に対して第二の面34側の位置に配置されるにあたり、調整層5と導電層3との間に基材2が介在してもよい。すなわち、例えば導電層3の第二の面34上に基材2が積層し、この基材2の導電層3とは反対側に調整層5が積層してもよい。   In addition, when the adjustment layer 5 is disposed at the position on the second surface 34 side with respect to the conductive layer 3, the base material 2 may be interposed between the adjustment layer 5 and the conductive layer 3. That is, for example, the base material 2 may be laminated on the second surface 34 of the conductive layer 3, and the adjustment layer 5 may be laminated on the opposite side of the base material 2 from the conductive layer 3.

黄色化合物が、S原子を備える化合物を含有することが好ましい。すなわち、黄色化合物のうち少なくとも一部が、S原子を備えることが好ましい。この場合、S原子を備える化合物が、金属ナノワイヤ4の硫化を抑制する。このため、金属ナノワイヤ4の劣化が抑制され、導電層3の導電性が高く保たれやすくなる。   The yellow compound preferably contains a compound having an S atom. That is, it is preferable that at least a part of the yellow compound includes an S atom. In this case, the compound having S atoms suppresses sulfidation of the metal nanowire 4. For this reason, deterioration of the metal nanowire 4 is suppressed, and the conductivity of the conductive layer 3 is easily kept high.

本実施形態において、導電層3にエッチング処理等が施されることで、適宜のパターン形状を有する導体が形成されてもよい。エッチング処理にあたっては、ドライエッチング処理等により導電層3が部分的に除去されることで、導電層3の残存する部分からなる導体が形成されてもよい。導電層3にウエットエッチング処理等が施されることで、導電層3から金属ナノワイヤ4が部分的に除去されることで、導電層3内の金属ナノワイヤ4が残存する領域からなる導体が形成されてもよい。   In the present embodiment, a conductor having an appropriate pattern shape may be formed by performing an etching process or the like on the conductive layer 3. In the etching process, the conductive layer 3 may be partially removed by a dry etching process or the like, so that a conductor composed of the remaining part of the conductive layer 3 may be formed. By conducting a wet etching process or the like on the conductive layer 3, the metal nanowire 4 is partially removed from the conductive layer 3, thereby forming a conductor including a region where the metal nanowire 4 in the conductive layer 3 remains. May be.

本実施形態について、更に詳細に説明する。   This embodiment will be described in further detail.

本実施形態では、第二の層32、第一の層31、調整層5、及び基材2が、この順番に積層している。   In this embodiment, the 2nd layer 32, the 1st layer 31, the adjustment layer 5, and the base material 2 are laminated | stacked in this order.

まず、基材2について説明する。基材2は光透過性を備える。基材2の光線透過率は、50%以上であることが好ましく、70%以上であればより好ましく、80%以上であれば特に好ましい。基材2のヘーズは3%以下であることが好ましい。この場合、導電性光学部材1を通した映像等の視認性が向上し、光学的用途の部材として特に適するようになる。ヘーズが1.5%以下であれば更に好ましい。   First, the substrate 2 will be described. The substrate 2 is light transmissive. The light transmittance of the substrate 2 is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The haze of the substrate 2 is preferably 3% or less. In this case, the visibility of images and the like through the conductive optical member 1 is improved, and it is particularly suitable as a member for optical applications. More preferably, the haze is 1.5% or less.

基材2の形状は、特に制限されないが、板状又はフィルム状であることが好ましい。特に、導電性光学部材1の生産性及び運搬性を向上するためには、基材2の形状はフィルム状であることが好ましい。基材2がフィルム状である場合、基材2の厚みは10μm以上500μm以下の範囲内であることが好ましく、25μm以上150μm以下の範囲内であれば更に好ましい。   Although the shape in particular of the base material 2 is not restrict | limited, It is preferable that it is plate shape or a film form. In particular, in order to improve the productivity and transportability of the conductive optical member 1, the shape of the base material 2 is preferably a film. When the substrate 2 is in the form of a film, the thickness of the substrate 2 is preferably in the range of 10 μm to 500 μm, and more preferably in the range of 25 μm to 150 μm.

基材2の材質は、特に制限されない。基材2の材質の例としては、ガラス、透明樹脂等が挙げられる。透明樹脂の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル共重合体、トリアセチルセルロース、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、非晶質ポリオレフィン、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等が挙げられる。   The material of the base material 2 is not particularly limited. Examples of the material of the substrate 2 include glass and transparent resin. Examples of transparent resins include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polymethyl methacrylate copolymer, triacetyl cellulose, polyolefin, polyamide, polyvinyl chloride, amorphous polyolefin, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, etc. Can be mentioned.

特に、基材2が、ポリエステルから形成されることが好ましい。ポリエステルフィルムのうち、特に、ポリエチレンテレフタレート(PET)又はポリエチレンナフタレートからなる2軸延伸フィルムは、優れた機械的特性、耐熱性、耐薬品性等を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、ラミネート用フィルム、ディスプレイ等の表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として好適である。特に、ディスプレイ用途に関しては、液晶表示装置の部材であるプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや、テレビの光学フィルムのベースフィルム、プラズマテレビの前面光学フィルターに用いられる光学フィルム、近赤外線カットフィルム、電磁波シールドフィルムのベースフィルム等として好適である。   In particular, the substrate 2 is preferably formed from polyester. Among the polyester films, in particular, biaxially stretched films made of polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate have excellent mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, etc., so magnetic tape, ferromagnetic thin film tape, packaging Films for electronic use, films for electronic parts, electrical insulating films, films for laminating, films to be attached to the surface of displays, and films for protecting various members. Especially for display applications, base films such as prism lens sheets, touch panels, and backlights, which are members of liquid crystal display devices, TV optical film base films, optical films used for plasma TV front optical filters, and near infrared rays It is suitable as a cut film, a base film of an electromagnetic shielding film, and the like.

ポリエステルとして、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタリンジカルボン酸、4,4′−ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸成分と、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオール等のグリコール成分とが反応することで生成する芳香族ポリエステルが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタリンジカルボキシレートなどが、好ましい。またポリエステルは、前記例示した複数の成分等が共重合して生成したものでもよい。   Examples of polyesters include aromatic dicarboxylic acid components such as terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4- Aromatic polyesters produced by reaction with glycol components such as cyclohexanedimethanol and 1,6-hexanediol are preferred. In particular, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate and the like are preferable. In addition, the polyester may be produced by copolymerizing a plurality of the exemplified components.

基材2は有機または無機の粒子を含有してもよい。この場合、基材2の巻き取り性、搬送性等が向上する。基材2が含有することができる粒子として、炭酸カルシウム粒子、酸化カルシウム粒子、酸化アルミニウム粒子、カオリン、酸化珪素粒子、酸化亜鉛粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が挙げられる。   The base material 2 may contain organic or inorganic particles. In this case, the winding property and transportability of the base material 2 are improved. The particles that can be contained in the substrate 2 include calcium carbonate particles, calcium oxide particles, aluminum oxide particles, kaolin, silicon oxide particles, zinc oxide particles, crosslinked acrylic resin particles, crosslinked polystyrene resin particles, urea resin particles, and melamine resin. Examples thereof include particles and crosslinked silicone resin particles.

基材2は、更に着色剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、他の樹脂等も、透明性を損なわない範囲内で含有してよい。   The substrate 2 may further contain a colorant, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, a catalyst, other resins, and the like as long as the transparency is not impaired.

基材2の導電層3側の面には、この面上に調整層5が形成される前に、表面処理が施されることが好ましい。この場合、基材2と調整層5との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。尚、基材2と導電層3との間に調整層5が介在せずに、基材2と導電層3とが直接接する場合にも、基材2の導電層3側の面に、表面処理が施されることが好ましい。この場合、基材2と導電層3との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。表面処理の方法としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理などの物理的表面処理、並びにカップリング剤、酸性成分、アルカリ性成分等による化学的表面処理などが、挙げられる。   The surface of the substrate 2 on the conductive layer 3 side is preferably subjected to surface treatment before the adjustment layer 5 is formed on this surface. In this case, the wettability and adhesion between the substrate 2 and the adjustment layer 5 can be improved. Even when the adjustment layer 5 is not interposed between the base material 2 and the conductive layer 3 and the base material 2 and the conductive layer 3 are in direct contact, the surface of the base material 2 on the conductive layer 3 side is It is preferable that the treatment is performed. In this case, the wettability and adhesion between the base material 2 and the conductive layer 3 can be improved. Examples of the surface treatment method include physical surface treatment such as plasma treatment, corona discharge treatment and flame treatment, and chemical surface treatment with a coupling agent, an acidic component, an alkaline component, and the like.

本実施形態では、基材2には、導電層3とは反対側に、裏面被覆層6が積層している。基材2の導電層3とは反対側に位置する面には、この面上に裏面被覆層6が形成される前に、表面処理が施されることが好ましい。この場合、基材2と裏面被覆層6との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。表面処理の方法としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理などの物理的表面処理、並びにカップリング剤、酸性成分、アルカリ性成分等による化学的表面処理などが、挙げられる。   In this embodiment, the back surface coating layer 6 is laminated on the base material 2 on the side opposite to the conductive layer 3. It is preferable that the surface of the substrate 2 that is located on the side opposite to the conductive layer 3 is subjected to a surface treatment before the back surface coating layer 6 is formed on this surface. In this case, it is possible to improve wettability, adhesion and the like between the substrate 2 and the back surface coating layer 6. Examples of the surface treatment method include physical surface treatment such as plasma treatment, corona discharge treatment and flame treatment, and chemical surface treatment with a coupling agent, an acidic component, an alkaline component, and the like.

次に、裏面被覆層6について説明する。裏面被覆層6は、基材2の導電層3とは反対側に位置する面からのオリゴマーなどの低分子量成分の析出を、抑制する。このため基材2の白化が抑制され、導電性光学部材1の良好な透明性が維持される。また、低分子量成分による基材2の白化は、金属ナノワイヤに起因するミルキーフェイスと同様の外観不良を引き起こすが、本実施形態では、基材2の白化が抑制されるため、ミルキーフェイスの抑制と相俟って、導電性光学部材1の外観が、更に向上する。   Next, the back surface coating layer 6 will be described. The back surface coating layer 6 suppresses the precipitation of low molecular weight components such as oligomers from the surface of the substrate 2 located on the side opposite to the conductive layer 3. For this reason, whitening of the base material 2 is suppressed, and good transparency of the conductive optical member 1 is maintained. Further, the whitening of the base material 2 due to the low molecular weight component causes the same appearance defect as the milky face due to the metal nanowires. However, in this embodiment, since the whitening of the base material 2 is suppressed, In combination, the appearance of the conductive optical member 1 is further improved.

裏面被覆層6の材質は、特に制限されないが、例えばアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂等から形成される。   Although the material in particular of the back surface coating layer 6 is not restrict | limited, For example, it forms from acrylate resin, urethane acrylate resin, etc.

裏面被覆層6が基材2からの低分子量成分の析出を充分に抑制するためには、裏面被覆層6の厚みが、0.5μm以上10μm以下の範囲内であることが好ましい。   In order for the back surface coating layer 6 to sufficiently suppress the precipitation of low molecular weight components from the base material 2, the thickness of the back surface coating layer 6 is preferably in the range of 0.5 μm to 10 μm.

裏面被覆層6は、アンチブロッキング性を備えることが好ましい。すなわち、導電性光学部材1がロール状に巻き回されるなどして重ねられる場合に、裏面被覆層6によってブロッキングが抑制されることが好ましい。そのためには、裏面被覆層6の表面が凹凸に形成されることが好ましい。そのためには、裏面被覆層6の表面に機械的加工が施されることでこの表面が凹凸に形成されることが好ましい。裏面被覆層6がシリカ粒子等のフィラーを含有することでこの裏面被覆層6の表面に凹凸が形成されることも好ましい。この場合、裏面被覆層6が、例えばアクリレート樹脂またはウレタンアクリレート樹脂を80質量%以上95質量%以下の範囲内で含有し、更に平均粒子径250nmのシリカ粒子を5質量%以上20質量%以下の範囲内で含有することが好ましい。   The back surface coating layer 6 preferably has anti-blocking properties. That is, it is preferable that blocking is suppressed by the back surface coating layer 6 when the conductive optical member 1 is rolled up and stacked. For that purpose, it is preferable that the surface of the back surface coating layer 6 is formed uneven. For that purpose, it is preferable that the surface of the back surface coating layer 6 is subjected to mechanical processing so that the surface is formed to be uneven. It is also preferable that the back surface coating layer 6 contains a filler such as silica particles so that irregularities are formed on the surface of the back surface coating layer 6. In this case, the back surface coating layer 6 contains, for example, acrylate resin or urethane acrylate resin in the range of 80% by mass to 95% by mass, and further silica particles having an average particle diameter of 250 nm of 5% by mass to 20% by mass. It is preferable to contain within the range.

裏面被覆層6が導電性光学部材1の滑性を向上することも好ましく、そのためには、裏面被覆層6が例えばシリコーン系のレベリング剤を含有することも好ましい。   It is also preferable that the back surface coating layer 6 improves the lubricity of the conductive optical member 1, and for this purpose, it is also preferable that the back surface coating layer 6 contains, for example, a silicone leveling agent.

次に、調整層5について説明する。調整層5は、上述の通り、黄色化合物を含有する。   Next, the adjustment layer 5 will be described. The adjustment layer 5 contains a yellow compound as described above.

黄色化合物が光中の短波長領域の成分を充分に吸収するのであれば、黄色化合物に特に制限はない。光中の短波長領域の成分の割合を充分に低減するためには、特に、黄色化合物が、380〜500nmの波長域内に光吸収率の極大波長を持つことが好ましい。   The yellow compound is not particularly limited as long as the yellow compound sufficiently absorbs components in the short wavelength region in the light. In order to sufficiently reduce the proportion of components in the short wavelength region in the light, it is particularly preferable that the yellow compound has a maximum wavelength of light absorption in the wavelength region of 380 to 500 nm.

黄色化合物は、染料、顔料のうちいずれを含んでもよい。染料としては、アントラキノンキノン染料、アゾ染料、ヒラゾロン染料、キノキサリン染料、アゾメチン染料、キノフタロン染料、イソインドリン染料等が挙げられる。染料の具体例としては、日本化薬株式会社製の商品名Kayaset Yellow SF-G、商品名Kayaset Yellow 2G、商品名Kayaset Yellow GN、商品名Kayaset Yellow A-G、商品名Kayaset Yellow A-H、商品名Kayaset Yellow E-L2R、及び商品名Kayaset Yellow E-3RLR等が挙げられる。顔料としては、黄色酸化鉄(黄鉄)、オーピメント(硫化物)、カドミウム黄、コバルト黄、一酸化鉛、鉛錫黄、鉛アンチモン、クロム酸系黄、黄鉛、ストロンチウム黄、亜鉛黄等が挙げられる。   The yellow compound may contain either a dye or a pigment. Examples of the dye include anthraquinone quinone dye, azo dye, hydrazolone dye, quinoxaline dye, azomethine dye, quinophthalone dye, isoindoline dye, and the like. Specific examples of dyes include trade name Kayaset Yellow SF-G, trade name Kayaset Yellow 2G, trade name Kayaset Yellow GN, trade name Kayaset Yellow AG, trade name Kayaset Yellow AH, trade name Kayaset Yellow manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. E-L2R and trade name Kayaset Yellow E-3RLR. Examples of pigments include yellow iron oxide (yellow iron), opium (sulfide), cadmium yellow, cobalt yellow, lead monoxide, lead tin yellow, lead antimony, chromic yellow, yellow lead, strontium yellow, and zinc yellow. Can be mentioned.

調整層5は、更に赤色化合物を含有してもよい。赤色化合物も、染料、顔料のうちいずれを含んでもよい。染料としては、アントラキノン染料、アゾ染料、キナクリドン染料等が挙げられる。染料の具体例としては、日本化薬株式会社製の商品名Kayaset Yellow SF-G、商品名Kayaset Red A-G、商品名Kayaset Red A-2G、商品名Kayaset Red A-BR、商品名Kayaset Red E-CG、商品名Kayaset Red E-BG、商品名Kayaset Red E-GRN、商品名Kayaset Red G、商品名Kayaset Red B、及び商品名Kayaset Red SF-B等が挙げられる。顔料としては、赤色酸化鉄(ベンガラ)等が挙げられる。   The adjustment layer 5 may further contain a red compound. The red compound may also contain any of a dye and a pigment. Examples of the dye include anthraquinone dyes, azo dyes, and quinacridone dyes. Specific examples of dyes include trade name Kayaset Yellow SF-G, trade name Kayaset Red AG, trade name Kayaset Red A-2G, trade name Kayaset Red A-BR, trade name Kayaset Red E-, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. CG, trade name Kayaset Red E-BG, trade name Kayaset Red E-GRN, trade name Kayaset Red G, trade name Kayaset Red B, trade name Kayaset Red SF-B, and the like. Examples of the pigment include red iron oxide (Bengara).

黄色化合物が、S原子を備える化合物を含有すれば、上記の通り、この化合物が、金属ナノワイヤ4の硫化を抑制する作用を発揮し、それにより金属ナノワイヤ4の劣化が抑制され、導電層3の導電性が高く保たれやすくなる。S原子を備える化合物は、例えばチオール系の硫黄系酸化防止剤、並びにスルフィド基を有する硫黄系酸化防止剤から選択される。調整層5が硫黄系酸化防止剤を含有する場合、調整層5がフェノール系酸化防止剤を更に含有することも好ましい。この場合、金属ナノワイヤ4の腐食が、更に抑制される。黄色化合物が、S原子を備える化合物含有する場合、黄色化合物全体に対する、S原子を備える化合物の割合は、20〜100質量%の範囲内であることが好ましい。   If the yellow compound contains a compound having S atoms, as described above, this compound exerts an action of suppressing sulfidation of the metal nanowire 4, thereby suppressing deterioration of the metal nanowire 4, and High conductivity is easily maintained. The compound having an S atom is selected from, for example, a thiol-based sulfur-based antioxidant and a sulfur-based antioxidant having a sulfide group. When the adjustment layer 5 contains a sulfur-based antioxidant, it is also preferable that the adjustment layer 5 further contains a phenol-based antioxidant. In this case, the corrosion of the metal nanowire 4 is further suppressed. When a yellow compound contains the compound provided with S atom, it is preferable that the ratio of the compound provided with S atom with respect to the whole yellow compound exists in the range of 20-100 mass%.

調整層5中の黄色化合物の量は、光が調整層5を透過することで光中の短波長領域の成分の割合が充分に低減されるように、適宜調整されうる。特に、導電性光学部材1の良好な光透過性を確保し、且つ導電性光学部材1を透過する前後での光の色相の変化を効果的に抑制するためには、導電層2中の金属ナノワイヤ4に対する調整層5中の黄色化合物の割合が、25〜50質量%の範囲内であることが好ましい。   The amount of the yellow compound in the adjustment layer 5 can be adjusted as appropriate so that the ratio of components in the short wavelength region in the light is sufficiently reduced when light passes through the adjustment layer 5. In particular, in order to ensure good light transmittance of the conductive optical member 1 and to effectively suppress the change in the hue of light before and after passing through the conductive optical member 1, the metal in the conductive layer 2 is used. The ratio of the yellow compound in the adjustment layer 5 to the nanowire 4 is preferably in the range of 25 to 50% by mass.

本実施形態のように調整層5が基材2と導電層3との間に介在すると、調整層5が、基材2の導電層3側の面からのオリゴマーなどの低分子量成分の析出を、抑制することもできる。このため基材2の白化が抑制され、導電性光学部材1の良好な透明性が維持される。また、低分子量成分による基材2の白化は、金属ナノワイヤに起因するミルキーフェイスと同様の外観不良を引き起こすが、本実施形態では、基材2の白化が抑制されるため、ミルキーフェイスの抑制と相俟って、導電性光学部材1の外観が、更に向上する。   When the adjustment layer 5 is interposed between the base material 2 and the conductive layer 3 as in this embodiment, the adjustment layer 5 causes precipitation of low molecular weight components such as oligomers from the surface of the base material 2 on the conductive layer 3 side. It can also be suppressed. For this reason, whitening of the base material 2 is suppressed, and good transparency of the conductive optical member 1 is maintained. Further, the whitening of the base material 2 due to the low molecular weight component causes the same appearance defect as the milky face due to the metal nanowires. However, in this embodiment, since the whitening of the base material 2 is suppressed, In combination, the appearance of the conductive optical member 1 is further improved.

調整層5の厚みは、30〜10000nmの範囲内であることが好ましい。この厚みが30nm以上であると、基材2からの低分子量成分の析出が充分に抑制される。この厚みが10000nm以下であると、基材2上で調整層5が形成される際の調整層5の硬化収縮量が低減することで、基材2に反りが生じにくくなる。特に、基材2がフィルム状である場合に、基材2の反りが著しく抑制される。   The thickness of the adjustment layer 5 is preferably in the range of 30 to 10,000 nm. When this thickness is 30 nm or more, precipitation of low molecular weight components from the substrate 2 is sufficiently suppressed. When the thickness is 10000 nm or less, the amount of curing shrinkage of the adjustment layer 5 when the adjustment layer 5 is formed on the substrate 2 is reduced, so that the substrate 2 is less likely to warp. In particular, when the substrate 2 is in the form of a film, the warp of the substrate 2 is remarkably suppressed.

調整層5は、例えば黄色化合物と樹脂成分とを含有する適宜の樹脂組成物(第一の組成物)から形成される。第一の組成物は、反応性硬化型樹脂組成物であることが好ましく、例えば熱硬化型樹脂組成物と電離放射線硬化型樹脂組成物の少なくとも一方であることが好ましい。   The adjustment layer 5 is formed from an appropriate resin composition (first composition) containing, for example, a yellow compound and a resin component. The first composition is preferably a reactive curable resin composition, for example, preferably at least one of a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition.

第一の組成物が熱硬化型樹脂組成物である場合、第一の組成物中の樹脂成分は、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、及びポリシロキサン樹脂から選択される一種以上の熱硬化性樹脂を含有する。第一の組成物が、熱硬化性樹脂と共に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を含有してもよい。この場合、第一の組成物が例えば基材2上に塗布され、続いてこの第一の組成物が加熱されて熱硬化することで、調整層5が形成されうる。   When the first composition is a thermosetting resin composition, the resin component in the first composition is, for example, a phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy One or more thermosetting resins selected from resins, aminoalkyd resins, silicon resins, and polysiloxane resins are contained. A 1st composition may contain a crosslinking agent, a polymerization initiator, a hardening | curing agent, a hardening accelerator, a solvent etc. with a thermosetting resin as needed. In this case, the adjustment layer 5 can be formed by applying the first composition onto, for example, the substrate 2 and then heating and thermosetting the first composition.

第一の組成物が電離放射線硬化型樹脂組成物である場合、第一の組成物中の樹脂成分は、例えばアクリレート系の官能基を有する樹脂を含むことが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂としては、例えば比較的低分子量の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーなどが挙げられる。前記の多官能化合物としては、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等が挙げられる。第一の組成物が、更に反応性希釈剤を含有することも好ましい。反応性希釈剤としては、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びにトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートの多官能モノマーが挙げられる。   When the first composition is an ionizing radiation curable resin composition, the resin component in the first composition preferably includes, for example, a resin having an acrylate functional group. Examples of the resin having an acrylate functional group include oligomers such as (meth) acrylates of a relatively low molecular weight polyfunctional compound, prepolymers, and the like. Examples of the polyfunctional compound include polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyhydric alcohols. It is also preferred that the first composition further contains a reactive diluent. Examples of reactive diluents include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and hexanediol (meth) acrylate. , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di The polyfunctional monomer of (meth) acrylate is mentioned.

第一の組成物が、紫外線硬化型樹脂組成物などの光硬化型樹脂組成物である場合には、第一の組成物が、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などが挙げられる。第一の組成物が、光重合開始剤に加えて、或いは光重合開始剤に代えて、光増感剤を含有してもよい。光増感剤としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、チオキサントンなどが挙げられる。このような第一の組成物が例えば基材2上に塗布され、続いてこの第一の組成物に紫外線などの光が照射されて光硬化することで、調整層5が形成されうる。   When the first composition is a photocurable resin composition such as an ultraviolet curable resin composition, the first composition preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like. The first composition may contain a photosensitizer in addition to the photopolymerization initiator or in place of the photopolymerization initiator. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone. The adjustment layer 5 can be formed by applying such a first composition onto, for example, the base material 2 and subsequently irradiating the first composition with light such as ultraviolet rays and photocuring.

調整層5は、膜質の調整、屈折率の調整等の目的で、適宜の粒子を含有してもよい。粒子の具体例としては、チタン、アルミニウム、セリウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、アンチモンから選ばれる一種あるいは二種以上の酸化物を含有する粒子が挙げられる。酸化物の具体例としては、ZnO(屈折率1.90)、TiO2(屈折率2.3〜2.7)、CeO2(屈折率1.95)、Sb25(屈折率1.71)、SnO2、ITO(屈折率1.95)、Y23(屈折率1.87)、La23(屈折率1.95)、ZrO2(屈折率2.05)、Al23(屈折率1.63)等が挙げられる。粒子の粒径は、0.5nm〜150nmの範囲内であることが好ましい。この粒径とは、粒子の電子顕微鏡写真画像から算出される投影面積と同一の面積を有する円(面積相当円)の径のことである。調整層5内の粒子の含有量は、例えば5〜70体積%の範囲内である。 The adjustment layer 5 may contain appropriate particles for the purpose of adjusting the film quality and adjusting the refractive index. Specific examples of the particles include particles containing one or more oxides selected from titanium, aluminum, cerium, yttrium, zirconium, niobium, and antimony. Specific examples of the oxide include ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1. 71), SnO 2, ITO (refractive index 1.95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2 O 3 (refractive index 1.63) and the like. The particle size of the particles is preferably in the range of 0.5 nm to 150 nm. This particle diameter is the diameter of a circle (area equivalent circle) having the same area as the projected area calculated from the electron micrograph image of the particle. Content of the particle | grains in the adjustment layer 5 exists in the range of 5-70 volume%, for example.

調整層5の、導電層3側の面には、この面上に導電層3が形成される前に表面処理が施されることが好ましい。この場合、調整層5と導電層3との間の濡れ性、密着性等の向上が可能となる。表面処理の方法としては、プラズマ処理、コロナ放電処理、フレーム処理などの物理的表面処理、カップリング剤、酸、アルカリによる化学的表面処理などが、挙げられる。   The surface of the adjustment layer 5 on the conductive layer 3 side is preferably subjected to a surface treatment before the conductive layer 3 is formed on this surface. In this case, the wettability, adhesion, etc. between the adjustment layer 5 and the conductive layer 3 can be improved. Examples of the surface treatment method include plasma surface treatment, corona discharge treatment, physical surface treatment such as flame treatment, and chemical surface treatment with a coupling agent, acid, and alkali.

次に、導電層3について説明する。   Next, the conductive layer 3 will be described.

導電層3における第一層31は、金属ナノワイヤ4を含有する。本実施形態では、第一層31は、青色化合物を含有しない。   The first layer 31 in the conductive layer 3 contains the metal nanowire 4. In the present embodiment, the first layer 31 does not contain a blue compound.

金属ナノワイヤ4とは、ナノサイズの直径を有する金属繊維である。ナノサイズとは、1000nm以下のサイズのことであり、1nm以下のサイズも含みうる。   The metal nanowire 4 is a metal fiber having a nano-sized diameter. The nano size refers to a size of 1000 nm or less, and may include a size of 1 nm or less.

金属ナノワイヤ4を構成する金属の種類は、特に制限されないが、例えばAg、Au、Cu、Co、Al、Pt等が挙げられる。特に第一層31の導電性がより向上するためには、金属ナノワイヤ4を構成する金属がAu、Ag、Cu及びPtから選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましく、特にAg及びCuから選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましい。   The type of metal constituting the metal nanowire 4 is not particularly limited, and examples thereof include Ag, Au, Cu, Co, Al, and Pt. In particular, in order to further improve the conductivity of the first layer 31, the metal constituting the metal nanowire 4 preferably includes at least one selected from Au, Ag, Cu, and Pt, and in particular, at least selected from Ag and Cu. It is preferable to include one kind.

金属ナノワイヤ4の製造方法としては、特に制限されず、例えば、液相法や気相法等の公知の方法が採用されうる。例えば銀ナノワイヤの製造方法の具体例として、Adv.Mater.2002,14,P833〜837、Chem.Mater.2002,14,P4736〜4745、特表2009−505358号公報等の文献に開示されている方法が、挙げられる。金ナノワイヤの製造方法の具体例としては、特開2006−233252号公報等に開示されている方法が、挙げられる。銅ナノワイヤを製造する方法としては、特開2002−266007号公報等に開示されている方法が挙げられる。コバルトナノワイヤを製造する方法としては、特開2004−149871号公報等に開示されている方法が挙げられる。特に、Adv.Mater.2002,14,P833〜837、並びにChem.Mater.2002,14,P4736〜4745に開示されている銀ナノワイヤの製造方法が採用されると、水系で簡便にかつ大量に銀ナノワイヤが製造されうる。   The method for producing the metal nanowire 4 is not particularly limited, and for example, a known method such as a liquid phase method or a gas phase method can be adopted. For example, as a specific example of a method for producing silver nanowires, Adv. Mater. 2002, 14, P833-837, Chem. Mater. Examples include methods disclosed in documents such as 2002, 14, P4736 to 4745, and Japanese translations of PCT publication No. 2009-505358. Specific examples of the method for producing gold nanowires include the method disclosed in JP-A-2006-233252. Examples of the method for producing the copper nanowire include a method disclosed in JP-A No. 2002-266007. Examples of the method for producing the cobalt nanowire include a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-148771. In particular, Adv. Mater. 2002, 14, P 833-837, and Chem. Mater. If the manufacturing method of the silver nanowire currently disclosed by 2002, 14, P4736-4745 is employ | adopted, a silver nanowire can be manufactured simply and in large quantities by an aqueous system.

金属ナノワイヤ4の平均直径は、10〜100nmの範囲内であることが好ましい。この平均直径が10nm以上であると、第一層31の導電性が特に高くなる。この平均粒径が100nm以下であると、第一層31の透明性が特に高くなる。この金属ナノワイヤ4の平均直径は、20〜100nmの範囲内であればより好ましく、40〜100nmの範囲内であれば更に好ましい。   The average diameter of the metal nanowire 4 is preferably in the range of 10 to 100 nm. When the average diameter is 10 nm or more, the conductivity of the first layer 31 is particularly high. When the average particle size is 100 nm or less, the transparency of the first layer 31 is particularly high. The average diameter of the metal nanowire 4 is more preferably in the range of 20 to 100 nm, and still more preferably in the range of 40 to 100 nm.

金属ナノワイヤ4の平均長さは、1〜100μmの範囲内であることが好ましい。この平均長さが1μm以上であると、第一層31の導電性が特に高くなる。またこの平均粒径が100μm以下であると、第一層31中で金属ナノワイヤ4が凝集しにくくなり、このため第一層31の透明性が向上する。この金属ナノワイヤ4の平均長さは、1〜50μmの範囲内であればより好ましく、3〜50μmの範囲内であれば最も好ましい。   The average length of the metal nanowire 4 is preferably in the range of 1 to 100 μm. When the average length is 1 μm or more, the conductivity of the first layer 31 is particularly high. In addition, when the average particle diameter is 100 μm or less, the metal nanowires 4 are less likely to aggregate in the first layer 31, and thus the transparency of the first layer 31 is improved. The average length of the metal nanowire 4 is more preferably in the range of 1 to 50 μm, and most preferably in the range of 3 to 50 μm.

尚、金属ナノワイヤ4の平均直径は、充分な数の金属ナノワイヤ4の直径を測定し、その結果を算術平均して得られる値である。金属ナノワイヤ4の平均長さは、充分な数の金属ナノワイヤ4の長さを測定し、その結果を算術平均して得られる値である。金属ナノワイヤ4の直径及び長さは、金属ナノワイヤ4の電子顕微鏡画像を画像解析することで導出される。例えば金属ナノワイヤ4の電子顕微鏡画像が屈曲している場合に、画像解析によって金属ナノワイヤ4の直径(投影径(D))及び面積(投影面積(S))が、算出される。更に投影面積(S)を投影径(D)で割ることで、金属ナノワイヤ4の長さ(L=S/D)が、求められる。金属ナノワイヤ4の平均直径及び平均長さを導出するためには、少なくとも100個の金属ナノワイヤ4の直径及び長さが測定されることが好ましく、300個以上の金属ナノワイヤ4の直径及び長さが測定されることが更に好ましい。   The average diameter of the metal nanowires 4 is a value obtained by measuring the diameters of a sufficient number of metal nanowires 4 and arithmetically averaging the results. The average length of the metal nanowires 4 is a value obtained by measuring the length of a sufficient number of metal nanowires 4 and arithmetically averaging the results. The diameter and length of the metal nanowire 4 are derived by image analysis of an electron microscope image of the metal nanowire 4. For example, when the electron microscope image of the metal nanowire 4 is bent, the diameter (projection diameter (D)) and area (projection area (S)) of the metal nanowire 4 are calculated by image analysis. Further, the length (L = S / D) of the metal nanowire 4 is obtained by dividing the projected area (S) by the projected diameter (D). In order to derive the average diameter and the average length of the metal nanowires 4, it is preferable to measure the diameters and lengths of at least 100 metal nanowires 4. More preferably, it is measured.

第一層31における金属ナノワイヤ4の割合は、特に制限されないが、0.01質量%以上90質量%以下の範囲内であることが好ましく、0.1質量%以上30質量%以下の範囲内であれば更に好ましく、0.5質量%以上10質量%以下の範囲内であれば最も好ましい。   The ratio of the metal nanowire 4 in the first layer 31 is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01% by mass to 90% by mass, and in the range of 0.1% by mass to 30% by mass. If it exists in the range of 0.5 mass% or more and 10 mass% or less, it is most preferable.

第一層31は、例えば金属ナノワイヤ4と樹脂成分とを含有する組成物(第二の組成物)から形成される。この場合、湿式の成膜法によって第一層31が形成されうる。   The first layer 31 is formed from, for example, a composition (second composition) containing the metal nanowire 4 and a resin component. In this case, the first layer 31 can be formed by a wet film forming method.

第二の組成物中の樹脂成分は、例えば熱可塑性樹脂及び反応性硬化型樹脂のうち少なくとも一方を含有する。   The resin component in the second composition contains, for example, at least one of a thermoplastic resin and a reactive curable resin.

樹脂成分が熱可塑性樹脂を含有する場合、この熱可塑性樹脂は、例えばセルロース樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアクリルニトリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ジアクリルフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、並びにこれらの樹脂を構成する単量体が2種以上重合して成る共重合体から選択される、一種以上を含有する。   When the resin component contains a thermoplastic resin, the thermoplastic resin may be, for example, a cellulose resin, a silicone resin, a fluororesin, an acrylic resin, a polyethylene resin, a polypropylene resin, a polyethylene terephthalate resin, a polymethyl methacrylate resin, a polystyrene resin, or a polyether. Sulfone resin, polyarylate resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, polyacrylonitrile resin, polyvinyl acetal resin, polyamide resin, polyimide resin, diacryl phthalate resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl acetate resin, and these 1 type or more selected from the copolymer formed by polymerizing two or more types of monomers constituting the resin.

樹脂成分が、反応性硬化型樹脂を含有する場合、この反応性硬化型樹脂は、例えば熱硬化型樹脂と電離放射線硬化型樹脂の少なくとも一方を含有する。   When the resin component contains a reactive curable resin, the reactive curable resin contains, for example, at least one of a thermosetting resin and an ionizing radiation curable resin.

熱硬化型樹脂は、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、及びポリシロキサン樹脂から選択される一種以上を含有する。組成物は、熱硬化性樹脂と共に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を含有してもよい。   The thermosetting resin contains at least one selected from, for example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicon resin, and polysiloxane resin To do. The composition may contain a crosslinking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, a solvent, and the like as necessary together with the thermosetting resin.

電離放射線硬化型樹脂は、アクリレート系の官能基を有する樹脂を含有することが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂は、例えば比較的低分子量の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマー及びプレポリマーから選択される一種以上を含有する。多官能化合物は、例えばポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、及び多価アルコールから選択される一種以上を含有する。   The ionizing radiation curable resin preferably contains a resin having an acrylate functional group. The resin having an acrylate functional group contains at least one selected from oligomers and prepolymers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds having a relatively low molecular weight. The polyfunctional compound contains, for example, one or more selected from polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyhydric alcohols.

第二の組成物が電離放射線硬化型樹脂を含有する場合、組成物が、更に反応性希釈剤を含有することも好ましい。反応性希釈剤は、例えばエチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びにトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートの多官能モノマーから選択される一種以上を含有する。   When the second composition contains an ionizing radiation curable resin, it is also preferable that the composition further contains a reactive diluent. Reactive diluents include, for example, ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, monofunctional monomers such as styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di 1 type or more selected from the polyfunctional monomer of (meth) acrylate is contained.

第二の組成物が、電離放射線硬化型樹脂として紫外線硬化型樹脂などの光硬化型樹脂を含有する場合、第二の組成物が、更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は、例えばアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、及びチオキサントン類から選択される一種以上を含有する。第二の組成物が光硬化型樹脂を含有する場合、更に第二の組成物が、光重合開始剤に加えて、或いは光重合開始剤に代えて、光増感剤を含有してもよい。光増感剤は、例えばn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、及びチオキサントンから選択される一種以上を含有する。   When the second composition contains a photocurable resin such as an ultraviolet curable resin as the ionizing radiation curable resin, it is preferable that the second composition further contains a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator contains one or more selected from, for example, acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, and thioxanthones. When the second composition contains a photocurable resin, the second composition may further contain a photosensitizer in addition to the photopolymerization initiator or instead of the photopolymerization initiator. . The photosensitizer contains at least one selected from, for example, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone.

第二の組成物は、必要に応じて溶媒を含有してもよい。溶媒として、例えば有機溶剤が用いられ、或いは水が用いられ、或いは有機溶剤と水とが併用される。有機溶媒は、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール(IPA)等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、並びにこれらの混合物から選択される。   The 2nd composition may contain a solvent if needed. As the solvent, for example, an organic solvent is used, water is used, or an organic solvent and water are used in combination. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol (IPA); ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; It is selected from aromatic hydrocarbons such as xylene, and mixtures thereof.

第二の組成物中の溶媒の量は、第二の組成物中で固形分が均一に溶解又は分散することができるように、適宜調整される。組成物中の固形分濃度は、0.1〜50質量%の範囲内であることが好ましく、0.5〜30質量%の範囲内であれば更に好ましい。   The amount of the solvent in the second composition is appropriately adjusted so that the solid content can be uniformly dissolved or dispersed in the second composition. The solid content concentration in the composition is preferably in the range of 0.1 to 50% by mass, and more preferably in the range of 0.5 to 30% by mass.

第二の組成物が塗布され、更に成膜されることで、第一層31が形成されうる。第二の組成物の塗布にあたっては、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法などの適宜の方法が採用される。第二の組成物を成膜するための手法は、第二の組成物中の樹脂成分等の種類に応じて適宜選択される。例えば第二の組成物が熱硬化型樹脂を含有する場合は、第二の組成物が加熱されて熱硬化することで、金属ナノワイヤ4を含有する第一層31が形成される。例えば第二の組成物が電離放射線硬化型樹脂を含有する場合には、第二の組成物に紫外線等の電離放射線が照射されることで、第二の組成物が硬化することで、金属ナノワイヤ4を含有する第一層31が形成される。   The first layer 31 can be formed by applying the second composition and further forming a film. In applying the second composition, an appropriate method such as a roll coating method, a spin coating method, or a dip coating method is employed. The technique for forming the second composition is appropriately selected according to the type of resin component and the like in the second composition. For example, when the second composition contains a thermosetting resin, the first layer 31 containing the metal nanowires 4 is formed by heating and thermosetting the second composition. For example, when the second composition contains an ionizing radiation curable resin, the second composition is cured by irradiating the second composition with ionizing radiation such as ultraviolet rays, so that the metal nanowires are cured. A first layer 31 containing 4 is formed.

第一層31の厚みは、特に制限されないが、10〜300nmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the first layer 31 is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 300 nm.

導電層3における第二層32は、青色化合物を含有する。青色化合物は、第二層32内に分散して存在する。本実施形態では、第二層32は、金属ナノワイヤ4を含有しない。   The second layer 32 in the conductive layer 3 contains a blue compound. The blue compound is present dispersed in the second layer 32. In the present embodiment, the second layer 32 does not contain the metal nanowire 4.

青色化合物が光中の長波長領域の成分を充分に吸収するのであれば、青色化合物に、特に制限はない。光中の長波長領域の成分の割合を充分に低減するためには、特に、青色化合物が、500〜750nmの波長域内に光吸収率の極大波長を持つことが好ましい。   If a blue compound fully absorbs the component of the long wavelength region in light, there will be no restriction | limiting in particular in a blue compound. In order to sufficiently reduce the ratio of components in the long wavelength region in the light, it is particularly preferable that the blue compound has a maximum wavelength of light absorption within a wavelength range of 500 to 750 nm.

青色化合物は、染料、顔料のうちいずれを含んでもよい。染料としては、アントラキノン染料、アゾ染料等が挙げられる。染料の具体例としては、日本化薬株式会社製の商品名Kayaset Blue A2R、商品名Kayaset Blue N、商品名Kayaset Blue FR、及び商品名Kayaset Blue A-Sが、挙げられる。顔料としては、コバルト青(アルミン酸コバルト)、錫酸コバルト、コバルトクロム青、コバルト−アルミニウム−珪素酸化物、コバルト−亜鉛−珪素酸化物、マンガン青等が挙げられる。   The blue compound may contain either a dye or a pigment. Examples of the dye include anthraquinone dyes and azo dyes. Specific examples of the dye include trade name Kayaset Blue A2R, trade name Kayaset Blue N, trade name Kayaset Blue FR, and trade name Kayaset Blue A-S manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Examples of the pigment include cobalt blue (cobalt aluminate), cobalt stannate, cobalt chrome blue, cobalt-aluminum-silicon oxide, cobalt-zinc-silicon oxide, and manganese blue.

第二層32中の青色化合物の量は、光が第二層32を透過することで光中の長波長領域の成分の割合が充分に低減されるように、適宜調整されうる。特に、ミルキーフェイスを効果的に抑制するためには、導電層2中の金属ナノワイヤ4に対する青色化合物の割合が、10〜80質量%の範囲内であることが好ましい。更に、導電性光学部材1の良好な光透過性を保ち、且つ導電性光学部材1を透過する前後での光の色相の変化を効果的に抑制するためには、青色化合物の割合が25〜50質量%の範囲内であれば、より好ましい。   The amount of the blue compound in the second layer 32 can be appropriately adjusted so that the ratio of components in the long wavelength region in the light is sufficiently reduced by the light passing through the second layer 32. In particular, in order to effectively suppress the milky face, the ratio of the blue compound to the metal nanowire 4 in the conductive layer 2 is preferably in the range of 10 to 80% by mass. Furthermore, in order to maintain good light transmittance of the conductive optical member 1 and to effectively suppress the change in the hue of light before and after passing through the conductive optical member 1, the ratio of the blue compound is 25 to 25%. If it is in the range of 50 mass%, it is more preferable.

また、調整層5中の黄色化合物に対する第二層32中の青色化合物の質量比の値は、0.5〜2の範囲内であることが好ましい。この場合、導電性光学部材1を透過する前後での光の色相の変化が、特に抑制される。   Moreover, it is preferable that the value of the mass ratio of the blue compound in the second layer 32 to the yellow compound in the adjustment layer 5 is in the range of 0.5-2. In this case, the change in the hue of light before and after passing through the conductive optical member 1 is particularly suppressed.

また、第二層32が第一層31を覆うと、第二層32が第一層31を保護することで、第一層31中の金属ナノワイヤ4の酸化等の劣化が抑制されうる。   Moreover, when the second layer 32 covers the first layer 31, the second layer 32 protects the first layer 31, so that deterioration such as oxidation of the metal nanowire 4 in the first layer 31 can be suppressed.

第二層32の厚みは、制限的ではないが、30〜300nmの範囲内であることが好ましい。第二層32の厚みが30nm以上であれば、第一層31を保護する効果が充分に得られ、更に第一層31からの金属ナノワイヤ4の脱離を抑制する効果も得られる。この厚みが100nm以上であれば、より好ましい。第二層32の厚みが300nm以下であれば、金属ナノワイヤ4の酸化抑制、硫化抑制、摩擦等による剥がれ抑制等の効果が、十分に得られる。更に、第二層32の厚みが300nm以下であれば、第二層32が存在しても、ウエットエッチング処理によって第一層31中の金属ナノワイヤ4が容易に除去される。このため、エッチング処理が容易に行われる。この厚みが200nm以下であれば、より好ましい。この場合、第一層31が第二層32で覆われていても、第二層32の表面から第一層31への電気伝導性が良好に保たれ、このため、導電層3が、電子デバイス等の電極として良好に機能しうるようになる。第二層32の厚みが100〜200nmの範囲内であれば、特に好ましい。   The thickness of the second layer 32 is not limited, but is preferably in the range of 30 to 300 nm. If the thickness of the second layer 32 is 30 nm or more, the effect of protecting the first layer 31 is sufficiently obtained, and the effect of suppressing the detachment of the metal nanowires 4 from the first layer 31 is also obtained. If this thickness is 100 nm or more, it is more preferable. If the thickness of the second layer 32 is 300 nm or less, effects such as suppression of oxidation, suppression of sulfidation, and suppression of peeling due to friction and the like of the metal nanowire 4 are sufficiently obtained. Furthermore, if the thickness of the second layer 32 is 300 nm or less, even if the second layer 32 exists, the metal nanowires 4 in the first layer 31 are easily removed by the wet etching process. For this reason, an etching process is easily performed. If this thickness is 200 nm or less, it is more preferable. In this case, even if the first layer 31 is covered with the second layer 32, the electrical conductivity from the surface of the second layer 32 to the first layer 31 is kept good. It can function well as an electrode of a device or the like. It is particularly preferable if the thickness of the second layer 32 is in the range of 100 to 200 nm.

第二層32は、例えば青色化合物と樹脂成分とを含有する組成物(第三の組成物)から形成される。この場合、第二層32が、湿式の成膜法により形成されうる。着色剤を含有する第二層32が形成される場合には、第三の組成物が着色剤を含有する。ナノカーボンを含有する第二層32が形成される場合には、第三の組成物がナノカーボンを含有する。第三の組成物は、更に適宜のフィラーを含有してもよい。   The second layer 32 is formed from, for example, a composition (third composition) containing a blue compound and a resin component. In this case, the second layer 32 can be formed by a wet film forming method. When the second layer 32 containing the colorant is formed, the third composition contains the colorant. When the second layer 32 containing nanocarbon is formed, the third composition contains nanocarbon. The third composition may further contain an appropriate filler.

第三の組成物は、反応性硬化型樹脂組成物であることが好ましく、例えば熱硬化型樹脂組成物と電離放射線硬化型樹脂組成物の少なくとも一方であることが好ましい。   The third composition is preferably a reactive curable resin composition, for example, preferably at least one of a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition.

第三の組成物が熱硬化型樹脂組成物である場合、第三の組成物は、樹脂成分として、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、及びポリシロキサン樹脂から選択される一種以上の熱硬化性樹脂を含有する。第三の組成物が、熱硬化性樹脂と共に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を含有してもよい。この場合、第三の組成物が例えば第一層31上に塗布され、続いてこの第三の組成物が加熱されて熱硬化することで、第二層32が形成されうる。   When the third composition is a thermosetting resin composition, the third composition includes, for example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy as a resin component. One or more thermosetting resins selected from resins, aminoalkyd resins, silicon resins, and polysiloxane resins are contained. A 3rd composition may contain a crosslinking agent, a polymerization initiator, a hardening | curing agent, a hardening accelerator, a solvent, etc. with a thermosetting resin as needed. In this case, the second composition 32 can be formed by applying the third composition onto, for example, the first layer 31 and then heating and thermosetting the third composition.

第三の組成物が電離放射線硬化型樹脂組成物である場合、第三の組成物は、樹脂成分として、例えばアクリレート系の官能基を有する樹脂を含むことが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂としては、例えば比較的低分子量の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーなどが挙げられる。前記の多官能化合物としては、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等が挙げられる。第三の組成物が、更に反応性希釈剤を含有することも好ましい。反応性希釈剤としては、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びにトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートの多官能モノマーが挙げられる。   When the third composition is an ionizing radiation curable resin composition, the third composition preferably includes, for example, a resin having an acrylate functional group as a resin component. Examples of the resin having an acrylate functional group include oligomers such as (meth) acrylates of a relatively low molecular weight polyfunctional compound, prepolymers, and the like. Examples of the polyfunctional compound include polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyhydric alcohols. It is also preferred that the third composition further contains a reactive diluent. Examples of reactive diluents include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and hexanediol (meth) acrylate. , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di The polyfunctional monomer of (meth) acrylate is mentioned.

第三の組成物が、紫外線硬化型樹脂組成物などの光硬化型樹脂組成物である場合には、第三の組成物が、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類などが挙げられる。第一の組成物が、光重合開始剤に加えて、或いは光重合開始剤に代えて、光増感剤を含有してもよい。光増感剤としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、チオキサントンなどが挙げられる。このような第三の組成物が例えば第一層31上に塗布され、続いてこの第三の組成物に紫外線などの光が照射されて光硬化することで、第二層32が形成されうる。   When the third composition is a photocurable resin composition such as an ultraviolet curable resin composition, the third composition preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones, and the like. The first composition may contain a photosensitizer in addition to the photopolymerization initiator or in place of the photopolymerization initiator. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone. Such a third composition can be applied, for example, onto the first layer 31, and then the second composition 32 can be formed by irradiating the third composition with light such as ultraviolet rays and photocuring. .

第二層32は、第一層31の、基材2とは反対側に位置する面を、部分的に覆ってもよい。第一層31中の金属ナノワイヤ4が、第二層32を突き抜けていてもよい。本実施形態では、図1に示すように、第一層31の、基材2とは反対側に位置する面に、金属ナノワイヤ4に起因して、凹凸が形成されている。このため、本実施形態では、第二層32が、第一の層31の基材2とは反対側に位置する面を、部分的に覆っており、更に、第一層31中の金属ナノワイヤ4の一部が、第二層32を突き抜けている。尚、勿論、第二層32が、第一層31の、基材2とは反対側に位置する面を、全体的に覆ってもよい。   The second layer 32 may partially cover the surface of the first layer 31 located on the side opposite to the substrate 2. The metal nanowire 4 in the first layer 31 may penetrate through the second layer 32. In this embodiment, as shown in FIG. 1, irregularities are formed on the surface of the first layer 31 located on the side opposite to the substrate 2 due to the metal nanowires 4. For this reason, in the present embodiment, the second layer 32 partially covers the surface of the first layer 31 located on the side opposite to the substrate 2, and further the metal nanowires in the first layer 31. Part of 4 penetrates through the second layer 32. Of course, the second layer 32 may entirely cover the surface of the first layer 31 located on the side opposite to the substrate 2.

導電性光学部材1における導電層3は、例えばタッチパネル、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイパネル、光電変換デバイス等の、光学的な特性が必要とされる電子デバイスにおける電極等を形成するために利用される。   The conductive layer 3 in the conductive optical member 1 forms an electrode or the like in an electronic device that requires optical characteristics such as a touch panel, an organic electroluminescence display panel, a plasma display panel, a liquid crystal display panel, a photoelectric conversion device, and the like. To be used.

本実施形態に係る導電性光学部材1が、例えばそのまま電子デバイス内に組み込まれることで、導電性光学部材1における導電層3が電極等として利用される。また、導電性光学部材1から、導電層3及び調整層5が剥離され、この導電層3及び調整層5からなる部材が電子デバイス内に組み込まれることで、導電層3が電極等として利用されてもよい。   The conductive optical member 1 according to the present embodiment is incorporated in an electronic device as it is, for example, so that the conductive layer 3 in the conductive optical member 1 is used as an electrode or the like. Further, the conductive layer 3 and the adjustment layer 5 are peeled off from the conductive optical member 1, and the member made of the conductive layer 3 and the adjustment layer 5 is incorporated in an electronic device, so that the conductive layer 3 is used as an electrode or the like. May be.

導電性光学部材1を備える電子デバイスにおいては、導電性光学部材1は、電子デバイスから外部へ出射される光が、導電性光学部材1の調整層5を透過してから導電層3を透過するように、構成される。例えば導電性光学部材1を備える電子デバイス内において、図1に示されるように、導電性光学部材1から離れた位置であって、導電層3の第一の面33と対向する位置に、バックライト等の光源7が配置される。光源7は、導電性光学部材1へ向けて光を照射するように構成される。図1中の矢印は、光源7から導電性光学部材1への光の照射方向を示す。この電子デバイスでは、光源7から照射される光が導電性光学部材1を透過して電子デバイスの外部へ出射する場合、この光は、調整層5を透過してから導電層3を透過する。このため、上述の通り、ミルキーフェイスが抑制され、且つ導電性光学部材1を透過する前後での光の色相の変化も抑制される。   In an electronic device including the conductive optical member 1, the conductive optical member 1 transmits light that is emitted from the electronic device to the outside after passing through the adjustment layer 5 of the conductive optical member 1 and then through the conductive layer 3. As configured. For example, in an electronic device including the conductive optical member 1, as shown in FIG. 1, the back is positioned away from the conductive optical member 1 and at a position facing the first surface 33 of the conductive layer 3. A light source 7 such as a light is disposed. The light source 7 is configured to emit light toward the conductive optical member 1. The arrows in FIG. 1 indicate the direction of light irradiation from the light source 7 to the conductive optical member 1. In this electronic device, when light emitted from the light source 7 passes through the conductive optical member 1 and is emitted to the outside of the electronic device, this light passes through the adjustment layer 5 and then through the conductive layer 3. For this reason, as above-mentioned, a milky face is suppressed and the change of the hue of the light before and behind permeate | transmitting the electroconductive optical member 1 is also suppressed.

以下、本発明の具体的な実施例について説明する。   Hereinafter, specific examples of the present invention will be described.

発明者らは、下記の通り、導電性光学部材を作製し、それらの性能を評価した。   The inventors produced conductive optical members and evaluated their performance as follows.

[実施例1]
基材として、透明なポリエチレンテレフタレート製フィルム(厚み125μm)を用意した。
[Example 1]
A transparent polyethylene terephthalate film (thickness 125 μm) was prepared as a substrate.

この基材上に、次のようにして調整層を形成した。   An adjustment layer was formed on this substrate as follows.

アクリル樹脂(新中村化学工業株式会社製、品番U−6LPA)1.2質量部に、メチルエチルケトン50.0質量部及びメチルイソブチルケトン39.65質量部を加えて混合することで、アクリル樹脂を溶解させ、これにより混合液を調製した。この混合液に更に光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、チバガイギー社製、品名イルガキュア184)0.15質量部を加え、更に黄色化合物(日本化薬株式会社製、商品名Kayaset Yellow SF-G)からなる黄色化合物を加えて、よく混合した後、25℃の恒温雰囲気下で30分間撹拌混合した。これにより、調整層を形成するための第一の組成物を調製した。この第一の組成物を、基材の一面にワイヤバーコータで塗布し、23℃の温度下で1分間乾燥した後、100℃で2分間乾燥した。更に窒素雰囲気中(酸素濃度500ppm以下)で、紫外線を紫外線積算量500mJ/cm2の条件で照射することで、第一の組成物を硬化させた。これにより、厚み100nmの調整層を形成した。 Acrylic resin is dissolved by adding and mixing 50.0 parts by mass of methyl ethyl ketone and 39.65 parts by mass of methyl isobutyl ketone to 1.2 parts by mass of acrylic resin (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number U-6LPA). Thus, a mixed solution was prepared. To this mixed solution was further added 0.15 parts by mass of a photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, Ciba Geigy, product name Irgacure 184), and a yellow compound (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name Kayaset). A yellow compound consisting of Yellow SF-G) was added and mixed well, followed by stirring and mixing in a constant temperature atmosphere at 25 ° C. for 30 minutes. This prepared the 1st composition for forming an adjustment layer. This first composition was applied to one surface of the substrate with a wire bar coater, dried at a temperature of 23 ° C. for 1 minute, and then dried at 100 ° C. for 2 minutes. Further, the first composition was cured by irradiating with ultraviolet rays under a condition of an accumulated ultraviolet ray amount of 500 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 500 ppm or less). Thereby, an adjustment layer having a thickness of 100 nm was formed.

尚、黄色化合物の使用量は、導電層中の金属ナノワイヤに対する調整層中の黄色化合物の質量割合が後掲の表に示す値となるように調整した。本実施例で使用した黄色化合物は、380〜500nmの波長領域内に光吸収率の極大値を持つ。   In addition, the usage-amount of the yellow compound was adjusted so that the mass ratio of the yellow compound in the adjustment layer with respect to the metal nanowire in a conductive layer might turn into the value shown in the table | surface below. The yellow compound used in this example has a maximum value of light absorption within a wavelength range of 380 to 500 nm.

次に、調整層上に次のようにして導電層を形成した。   Next, a conductive layer was formed on the adjustment layer as follows.

まず、次のようにして第一層を形成した。   First, the first layer was formed as follows.

シグマアルドリッチ社製メチルセルロース(M7140)3質量部をイオン交換水200質量部に溶解して、メチルセルロース溶液を作製した。   3 parts by mass of methyl cellulose (M7140) manufactured by Sigma-Aldrich was dissolved in 200 parts by mass of ion-exchanged water to prepare a methyl cellulose solution.

金属ナノワイヤとして、平均直径60nm、平均長さ5μmの銀ナノワイヤを用意した。尚、この銀ナノワイヤは、公知論文(Materials Chemistry and Physics vol.114 p333-338 "Preparation of Ag nanorods with high yield by polyol process")に記載の方法に準じた方法で作製した。この銀ナノワイヤをイオン交換水に分散させることで、銀ナノワイヤを3.0質量%の割合で含有する分散液を調製した。   Silver nanowires having an average diameter of 60 nm and an average length of 5 μm were prepared as metal nanowires. In addition, this silver nanowire was produced by the method according to the method as described in a well-known paper (Materials Chemistry and Physics vol.114 p333-338 "Preparation of Ag nanorods with high yield by polyol process"). By dispersing this silver nanowire in ion-exchanged water, a dispersion containing 3.0% by mass of silver nanowire was prepared.

メチルセルロース溶液及び分散液を混合することで、メチルセルロースの割合0.25質量%、銀ナノワイヤの割合0.15質量%である第二の組成物を調製した。   By mixing the methylcellulose solution and the dispersion, a second composition having a methylcellulose ratio of 0.25% by mass and a silver nanowire ratio of 0.15% by mass was prepared.

この第二の組成物を、調整層上にワイヤーバーコーターで塗布してから、23℃で1分間放置し乾燥させ、続いて100℃で2分間加熱して乾燥させた。これにより、調整層上に60〜120nm程度の厚みの第一層を形成した。   This second composition was applied onto the adjustment layer with a wire bar coater, left to dry at 23 ° C. for 1 minute, and then heated to dry at 100 ° C. for 2 minutes. As a result, a first layer having a thickness of about 60 to 120 nm was formed on the adjustment layer.

次に、第一層上に、次のようにして第二層を形成した。   Next, a second layer was formed on the first layer as follows.

アクリル樹脂(新中村化学工業株式会社製、品番U−6LPA)1.2質量部に、メチルエチルケトン50.0質量部及びメチルイソブチルケトン39.65質量部を加えて混合することで、アクリル樹脂を溶解させ、これにより混合液を調製した。この混合液に更に光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、チバガイギー社製、品名イルガキュア184)0.15質量部を加え、更に、青色化合物(日本化薬株式会社製、商品名Kayaset Blue A2R)を加えて、よく混合することで、第三の組成物を調製した。   Acrylic resin is dissolved by adding and mixing 50.0 parts by mass of methyl ethyl ketone and 39.65 parts by mass of methyl isobutyl ketone to 1.2 parts by mass of acrylic resin (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., product number U-6LPA). Thus, a mixed solution was prepared. 0.15 parts by mass of a photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, manufactured by Ciba Geigy, product name Irgacure 184) was further added to this mixed solution, and further a blue compound (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name) A third composition was prepared by adding Kayaset Blue A2R) and mixing well.

この第三の組成物を、導電層の上に、スピンコーターで塗布してから、23℃の温度下に2分間放置することで乾燥し、続いて100℃で2分間加熱した。続いて第三の組成物に、窒素雰囲気中(酸素濃度500ppm以下)で、紫外線を紫外線積算量500mJ/cm2の条件で照射した。これにより、厚み120nmの第二層を形成した。 This third composition was applied onto the conductive layer with a spin coater, dried by leaving it at 23 ° C. for 2 minutes, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes. Subsequently, the third composition was irradiated with ultraviolet rays in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 500 ppm or less) under the condition of an ultraviolet ray cumulative amount of 500 mJ / cm 2 . Thereby, a second layer having a thickness of 120 nm was formed.

尚、青色化合物の使用量は、導電層中の金属ナノワイヤに対する第二層中の青色化合物の質量割合が後掲の表に示す値となるように調整した。本実施例で使用した青色化合物は、500〜750nmの波長領域内に光吸収率の極大値を持つ。   In addition, the usage-amount of a blue compound was adjusted so that the mass ratio of the blue compound in a 2nd layer with respect to the metal nanowire in a conductive layer might become a value shown in the table | surface below. The blue compound used in this example has a maximum value of light absorption in the wavelength region of 500 to 750 nm.

以上により、基材、調整層及び導電層を備える導電性光学部材を得た。   As described above, a conductive optical member including a base material, an adjustment layer, and a conductive layer was obtained.

[実施例2,3]
実施例1において、第三の組成物の調製時に、導電層中の金属ナノワイヤに対する第二層中の青色化合物の質量割合が後掲の表に示す値となるように、青色化合物の使用量を変更した。それ以外は実施例1と同じ条件で、基材、調整層及び導電層を備える導電性光学部材を得た。
[Examples 2 and 3]
In Example 1, when the third composition was prepared, the amount of the blue compound used was adjusted so that the mass ratio of the blue compound in the second layer to the metal nanowires in the conductive layer was the value shown in the table below. changed. Other than that was the same conditions as Example 1, and obtained the electroconductive optical member provided with a base material, an adjustment layer, and a conductive layer.

[実施例4,5]
実施例1において、第一の組成物の調製時に、導電層中の金属ナノワイヤに対する調整層中の黄色化合物の質量割合が後掲の表に示す値となるように、黄色化合物の使用量を変更した。それ以外は実施例1と同じ条件で、基材、調整層及び導電層を備える導電性光学部材を得た。
[Examples 4 and 5]
In Example 1, when the first composition was prepared, the amount of yellow compound used was changed so that the mass ratio of the yellow compound in the adjustment layer to the metal nanowires in the conductive layer would be the value shown in the table below. did. Other than that was the same conditions as Example 1, and obtained the electroconductive optical member provided with a base material, an adjustment layer, and a conductive layer.

[比較例1]
実施例1において、黄色化合物及び青色化合物を使用しなかった。それ以外は実施例1と同じ条件で、基材、調整層及び導電層を備える導電性光学部材を得た。
[Comparative Example 1]
In Example 1, a yellow compound and a blue compound were not used. Other than that was the same conditions as Example 1, and obtained the electroconductive optical member provided with a base material, an adjustment layer, and a conductive layer.

[比較例2]
実施例1において、黄色化合物を使用しなかった。それ以外は実施例1と同じ条件で、基材、調整層及び導電層を備える導電性光学部材を得た。
[Comparative Example 2]
In Example 1, no yellow compound was used. Other than that was the same conditions as Example 1, and obtained the electroconductive optical member provided with a base material, an adjustment layer, and a conductive layer.

[比較例3]
実施例1において、青色化合物を使用しなかった。それ以外は実施例1と同じ条件で、基材、調整層及び導電層を備える導電性光学部材を得た。
[Comparative Example 3]
In Example 1, no blue compound was used. Other than that was the same conditions as Example 1, and obtained the electroconductive optical member provided with a base material, an adjustment layer, and a conductive layer.

[評価試験]
1.輝度(ミルキーフェイス評価)
各実施例及び比較例で得られた導電性光学部材の導電層へ向けて光を照射した場合の、反射光の輝度を、色彩輝度計(コニカミノルタ製、型番CS−2000)で測定した。測定にあたっては、光源としてキセノンランプを用い、入射光の入射角を30°、反射光の反射角を0°に設定して、反射光の輝度を、色彩輝度計で測定した。その結果を後掲の表に示す。尚、表に示される値は、輝度の測定値から導出された相対値である。この値が低いほど、ミルキーフェイスが抑制されていると判断できる。
[Evaluation test]
1. Luminance (milky face evaluation)
The luminance of the reflected light when light was irradiated toward the conductive layer of the conductive optical member obtained in each example and comparative example was measured with a color luminance meter (manufactured by Konica Minolta, model number CS-2000). In the measurement, a xenon lamp was used as a light source, the incident angle of incident light was set to 30 °, the reflection angle of reflected light was set to 0 °, and the luminance of the reflected light was measured with a color luminance meter. The results are shown in the table below. The values shown in the table are relative values derived from the measured luminance values. It can be determined that the milky face is suppressed as the value is lower.

2.透過色度測定
各実施例及び比較例で得られた導電性光学部材を、基材、調整層、導電層の順に透過する透過光の色度a*及びb*を、JIS Z8722及びJIS Z8729に準拠して測定した。測定装置として分光測色計(コニカミノルタ製、型番CMD−3600d)を用い、光源としてCIE標準C光源を用い、2°視野の条件で測定した。その結果を、後掲の表に示す。尚、色度a*及びb*の値が0に近いほど、導電性光学部材を透過する前後での光の色相の変化が小さいと判断できる。
2. Transmission chromaticity measurement The chromaticity a * and b * of transmitted light that passes through the base material, the adjustment layer, and the conductive layer in the order of the conductive optical members obtained in each of the examples and comparative examples was changed to JIS Z8722 and JIS Z8729. Measured in conformity. A spectrocolorimeter (manufactured by Konica Minolta, model number CMD-3600d) was used as a measuring device, a CIE standard C light source was used as a light source, and measurement was performed under a 2 ° visual field condition. The results are shown in the table below. It can be determined that the closer the values of chromaticity a * and b * are to 0, the smaller the change in the hue of light before and after passing through the conductive optical member.

3.全光線透過率測定
各実施例及び比較例で得られた導電性光学部材の全光線透過率を、JIS K7361に準拠して、CIEが規定するD65光源を用いて、ヘーズメーター(日本電色工業株式会社製、型番NDH2000)で測定した。その結果を、後掲の表に示す。
3. Total Light Transmittance Measurement The total light transmittance of the conductive optical members obtained in each Example and Comparative Example was measured using a haze meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) using a D65 light source defined by CIE in accordance with JIS K7361. Measurement was made with a model number NDH2000 manufactured by Co., Ltd. The results are shown in the table below.

4.シート抵抗
各実施例及び比較例で得られた導電性光学部材の、導電層の表面でのシート抵抗を、非接触式抵抗率測定装置(ナプソン株式会社製、型番NC−10)を用いて測定した。その結果を、後掲の表に示す。
4). Sheet resistance The sheet resistance on the surface of the conductive layer of the conductive optical member obtained in each Example and Comparative Example was measured using a non-contact type resistivity measuring device (model number NC-10, manufactured by Napson Corporation). did. The results are shown in the table below.

Figure 0006074851
Figure 0006074851

1 導電性光学部材
2 基材
3 導電層
31 第一層
32 第二層
4 金属ナノワイヤ
5 調整層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive optical member 2 Base material 3 Conductive layer 31 1st layer 32 2nd layer 4 Metal nanowire 5 Adjustment layer

Claims (4)

光透過性を備える基材と、導電層とを備え、前記導電層が、第一の面及びこの第一の面とは反対側に位置する第二の面を有し、前記基材が、前記導電層に対して前記第二の面側に位置している導電性光学部材であって、
前記導電層が、金属ナノワイヤと青色化合物とを含有し、前記青色化合物が、前記導電層内で、前記第一の面側に偏在し、
前記導電性光学部材が、前記導電層に対して前記第二の面側に位置している調整層を更に備え、前記調整層が、黄色化合物を含有することを特徴とする導電性光学部材。
A substrate having light permeability; and a conductive layer, wherein the conductive layer has a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and the substrate is A conductive optical member located on the second surface side with respect to the conductive layer,
The conductive layer contains metal nanowires and a blue compound, and the blue compound is unevenly distributed on the first surface side in the conductive layer,
The conductive optical member further includes an adjustment layer positioned on the second surface side with respect to the conductive layer, and the adjustment layer contains a yellow compound.
前記導電層が、第一層と、この第一層に対して前記調整層とは反対側に位置している第二層とを備え、前記金属ナノワイヤが前記第一層内に分散し、前記青色化合物が前記第二層内に分散している請求項1に記載の導電性光学部材。 The conductive layer includes a first layer and a second layer located on the opposite side of the adjustment layer from the first layer, and the metal nanowires are dispersed in the first layer, The conductive optical member according to claim 1, wherein a blue compound is dispersed in the second layer. 前記金属ナノワイヤが、銀ナノワイヤを含有する請求項1又は2に記載の導電性光学部材。 The conductive optical member according to claim 1, wherein the metal nanowire contains a silver nanowire. 前記調整層が、前記基材と前記導電層との間に介在する請求項1乃至3のいずれか一項に記載の導電性光学部材。 The conductive optical member according to claim 1, wherein the adjustment layer is interposed between the base material and the conductive layer.
JP2013074552A 2013-03-29 2013-03-29 Conductive optical member Expired - Fee Related JP6074851B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013074552A JP6074851B2 (en) 2013-03-29 2013-03-29 Conductive optical member

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013074552A JP6074851B2 (en) 2013-03-29 2013-03-29 Conductive optical member

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014199751A JP2014199751A (en) 2014-10-23
JP6074851B2 true JP6074851B2 (en) 2017-02-08

Family

ID=52356533

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013074552A Expired - Fee Related JP6074851B2 (en) 2013-03-29 2013-03-29 Conductive optical member

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6074851B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11776710B2 (en) 2018-03-09 2023-10-03 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electroconductive film, sensor, touch panel, and image display device

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5308264B2 (en) * 2009-07-27 2013-10-09 パナソニック株式会社 Base material with transparent conductive film
JP5391932B2 (en) * 2009-08-31 2014-01-15 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, method for producing transparent electrode, and organic electroluminescence element
JP2012009359A (en) * 2010-06-25 2012-01-12 Panasonic Electric Works Co Ltd Organic electroluminescence device
JP2012185919A (en) * 2011-03-03 2012-09-27 Panasonic Corp Transparent conductive film, substrate with transparent conductive film, and organic electroluminescent element using the same
JP2014046622A (en) * 2012-08-31 2014-03-17 Dexerials Corp Transparent conductive body, input device and electronic apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11776710B2 (en) 2018-03-09 2023-10-03 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electroconductive film, sensor, touch panel, and image display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014199751A (en) 2014-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101899507B1 (en) A polarizing film laminate having a transparent pressure-sensitive adhesive layer and a patterned transparent conductive layer, and a liquid crystal panel and an organic EL panel
JP6799176B2 (en) Hard coat film, optical laminate and image display device
JP3980423B2 (en) HARD COAT FILM, ITS MANUFACTURING METHOD, OPTICAL ELEMENT AND IMAGE DISPLAY DEVICE
JP7302604B2 (en) Optical film, polarizing plate, surface plate for image display device and image display device
WO2003100794A1 (en) Transparent conductive laminate film, touch panel having this transparent conductive laminate film, and production method for this transparent conductive laminate film
KR20060071407A (en) Hard coat film, anti-reflective hard coat film, optical element and image display device
KR20140137318A (en) Double sided transparent conductive film and touch panel
WO2005064367A1 (en) Polarizing plate protective film, polarizing plate with reflection preventing function and optical product
KR20110025146A (en) Optical laminated body, polarizing plate and display device using same
JP7134549B2 (en) Anti-glare film and display device
KR20130021391A (en) Optical laminate, polarising plate and display device
WO2007123138A1 (en) Filter used for display
WO2017051725A1 (en) Transparent conductive film and touch panel comprising same
TW202132093A (en) Anti-glare film and film with anti-glare and low reflectivity
JP2003344608A (en) Anti-reflection film, optical element and display device
JP2013246976A (en) Supporting material for conductive optical member, conductive optical member including the same, and electronic device including conductive optical member
JP5861089B2 (en) Antireflection member and image display device
JP2005292646A (en) Method for producing antireflection film and antireflection film
KR20180075592A (en) OPTICAL FILM, POLARIZING FILM, POLARIZING FILM, AND IMAGE DISPLAY
JP2014198405A (en) Conductive optical member
JP2005248173A (en) Coating paint, optical film manufacturing method using the same, optical film, polarizing plate, and image display device
JP6074851B2 (en) Conductive optical member
WO2019163791A1 (en) Transparent conductive laminate
TWI495116B (en) Optical member
JP2013246975A (en) Conductive optical member and electronic device including the same

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20150225

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160108

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161124

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20161129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20161222

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6074851

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees