JP6084866B2 - Conductive particles, conductive materials, and connection structures - Google Patents
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Description
本発明は、例えば、電極間の電気的な接続に用いることができる導電性粒子に関する。また、本発明は、上記導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体に関する。 The present invention relates to conductive particles that can be used for electrical connection between electrodes, for example. The present invention also relates to a conductive material and a connection structure using the conductive particles.
異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等の異方性導電材料が広く知られている。該異方性導電材料では、バインダー樹脂中に導電性粒子が分散されている。 Anisotropic conductive materials such as anisotropic conductive pastes and anisotropic conductive films are widely known. In the anisotropic conductive material, conductive particles are dispersed in a binder resin.
上記異方性導電材料は、ICチップとフレキシブルプリント回路基板との接続、及びICチップとITO電極を有する回路基板との接続等に使用されている。例えば、ICチップの電極と回路基板の電極との間に異方性導電材料を配置した後、加熱及び加圧することにより、これらの電極を電気的に接続できる。 The anisotropic conductive material is used for connection between an IC chip and a flexible printed circuit board, connection between an IC chip and a circuit board having an ITO electrode, and the like. For example, after disposing an anisotropic conductive material between the electrode of the IC chip and the electrode of the circuit board, these electrodes can be electrically connected by heating and pressing.
上記導電性粒子の一例として、下記の特許文献1,2には、基材粒子の表面にニッケル層が形成されている導電性粒子が開示されている。特許文献1では、ニッケル層の表面に、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物が結合している導電性粒子が記載されている。特許文献1,2では、ニッケル層の表面に、セリウム又はチタンを含有する金属酸化物層が形成されており、該金属酸化物層の表面に、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物が結合している導電性粒子が記載されている。
As an example of the conductive particles, the following
特許文献3では、基材粒子の表面に、ニッケルを含有する金属層と、金又はパラジウムを含有する導電層とが順次積層されている導電性粒子が開示されている。該導電層の厚さは10nm以下であり、かつ該導電層は表面に炭素数6〜22のアルキル基を有する。
従来の導電性粒子において、導電層の表面に炭素数6〜22のアルキル基が存在する場合には、導電層の表面が疎水性になる。従って、大気中の腐食性ガス又は異方性導電材料中の腐食性物質などによって、導電層の表面に錆が生じにくくなる。このため、長期間に渡って、高い導電性を維持可能である。この結果、導電性粒子により電極間を接続すると、電極間の接続抵抗が高くなるのを抑制できる。 In the conventional conductive particles, when an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms is present on the surface of the conductive layer, the surface of the conductive layer becomes hydrophobic. Therefore, rust is hardly generated on the surface of the conductive layer by a corrosive gas in the atmosphere or a corrosive substance in the anisotropic conductive material. For this reason, high conductivity can be maintained over a long period of time. As a result, when the electrodes are connected by the conductive particles, an increase in the connection resistance between the electrodes can be suppressed.
一方で、導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散され、異方性導電材料として用いられることが多い。導電層の表面に炭素数6〜22のアルキル基が存在する導電性粒子では、バインダー樹脂中での導電性粒子の分散性が十分に高くならないことがある。 On the other hand, conductive particles are often dispersed in a binder resin and used as an anisotropic conductive material. In the case of conductive particles having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms on the surface of the conductive layer, the dispersibility of the conductive particles in the binder resin may not be sufficiently high.
本発明の目的は、導電部に錆が生じ難く、長期間にわたり高い導電性を維持でき、従って電極間を接続した場合に導通信頼性を高めることができ、更にバインダー樹脂中に良好に分散させることができる導電性粒子、並びに該導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体を提供することである。 The object of the present invention is that rust is hardly generated in the conductive part, and high conductivity can be maintained for a long period of time. Therefore, when the electrodes are connected, the conduction reliability can be improved and further dispersed in the binder resin. It is providing the electroconductive particle which can be obtained, and the electrically-conductive material and connection structure using this electroconductive particle.
本発明の広い局面によれば、バインダー樹脂中に分散されて用いられる導電性粒子であって、少なくとも表面が導電部である粒子と、該導電部の外表面上に配置されており、かつ非極性基と極性基とを有する被膜を有する、導電性粒子が提供される。 According to a wide aspect of the present invention, conductive particles dispersed and used in a binder resin, at least a surface of which is a conductive part, disposed on the outer surface of the conductive part, and non-conductive Conductive particles having a coating having a polar group and a polar group are provided.
本発明に係る導電性粒子のある特定の局面では、上記被膜が、非極性基を有する化合物と極性基を有する化合物とにより形成されている。 On the specific situation with the electroconductive particle which concerns on this invention, the said film is formed with the compound which has a nonpolar group, and the compound which has a polar group.
本発明に係る導電性粒子の他の特定の局面では、上記非極性基を有する化合物及び上記極性基を有する化合物の内の少なくとも一方が、上記導電部と結合可能な官能基を有する。 In another specific aspect of the conductive particle according to the present invention, at least one of the compound having the nonpolar group and the compound having the polar group has a functional group capable of binding to the conductive part.
本発明に係る導電性粒子の別の特定の局面では、上記被膜における上記非極性基の分子量が100以上である。 On the other specific situation of the electroconductive particle which concerns on this invention, the molecular weight of the said nonpolar group in the said film is 100 or more.
本発明に係る導電性粒子のさらに他の特定の局面では、上記被膜における上記極性基の分子量が80以上である。 On the other specific situation of the electroconductive particle which concerns on this invention, the molecular weight of the said polar group in the said film is 80 or more.
本発明に係る導電性粒子の別の特定の局面では、上記被膜における上記非極性基がアルキル基である。 In another specific aspect of the conductive particle according to the present invention, the nonpolar group in the coating is an alkyl group.
本発明に係る導電性粒子のさらに別の特定の局面では、上記被膜における上記極性基がアルキレンオキシド基である。 On another specific situation of the electroconductive particle which concerns on this invention, the said polar group in the said film is an alkylene oxide group.
本発明に係る導電性粒子の他の特定の局面では、上記被膜において、上記非極性基の数と上記極性基の数との比が、1:1〜5:1である。 On the other specific situation of the electroconductive particle which concerns on this invention, in the said film, ratio of the number of the said nonpolar group and the number of the said polar groups is 1: 1-5: 1.
本発明に係る導電性粒子のさらに他の特定の局面では、上記被膜の厚みが5nm以上、100nm以下である。 On the other specific situation of the electroconductive particle which concerns on this invention, the thickness of the said film is 5 nm or more and 100 nm or less.
本発明に係る導電性粒子の他の特定の局面では、上記導電部は外表面に突起を有する。 On the other specific situation of the electroconductive particle which concerns on this invention, the said electroconductive part has a processus | protrusion on an outer surface.
本発明に係る導電材料は、上述した導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。 The conductive material according to the present invention includes the conductive particles described above and a binder resin.
本発明に係る接続構造体は、第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、該第1,第2の接続対象部材を接続している接続部とを備えており、該接続部が、上述した導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている。 The connection structure according to the present invention includes a first connection target member, a second connection target member, and a connection portion connecting the first and second connection target members, and the connection The part is formed of a conductive material containing the above-described conductive particles and a binder resin.
本発明に係る導電性粒子は、少なくとも表面が導電部である粒子と、該導電部の外表面上に配置されており、かつ非極性基と極性基とを有する被膜とを備えているので、導電部に錆が生じ難く、長期間にわたり高い導電性を維持できる。従って、本発明に係る導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、電極間の導通信頼性を高めることができる。さらに、本発明に係る導電性粒子は、バインダー樹脂中に良好に分散させることができる。 Since the conductive particles according to the present invention include particles having at least a surface as a conductive part, and a coating film that is disposed on the outer surface of the conductive part and has a nonpolar group and a polar group, Rust hardly occurs in the conductive part, and high conductivity can be maintained over a long period. Therefore, when the electrodes are connected using the conductive particles according to the present invention, the conduction reliability between the electrodes can be improved. Furthermore, the electroconductive particle which concerns on this invention can be favorably disperse | distributed in binder resin.
以下、本発明の詳細を説明する。 Details of the present invention will be described below.
本発明に係る導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散されて用いられる。本発明に係る導電性粒子は、少なくとも表面が導電部である粒子と、該導電部の外表面上に配置された被膜とを有する。該被膜は、非極性基と極性基とを有する。 The conductive particles according to the present invention are used by being dispersed in a binder resin. The electroconductive particle which concerns on this invention has a particle | grain whose surface is a conductive part at least, and the film arrange | positioned on the outer surface of this electroconductive part. The coating has a nonpolar group and a polar group.
本発明に係る導電性粒子は、上述した構成を備えているので、特に非極性基と極性基とを有する被膜を備えているので、導電部に錆を生じ難くすることができる。さらに、本発明に係る導電性粒子は、バインダー樹脂中に良好に分散させることができる。 Since the electroconductive particle which concerns on this invention is equipped with the structure mentioned above, since it is equipped with the film which has a nonpolar group and a polar group especially, it can make it difficult to produce rust in an electroconductive part. Furthermore, the electroconductive particle which concerns on this invention can be favorably disperse | distributed in binder resin.
上記少なくとも表面が導電部である粒子は、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電部とを有する粒子であってもよく、全体が導電部である金属粒子であってもよい。上記導電部は導電層であることが好ましい。中でも、コストを低減したり、導電性粒子の柔軟性を高くして、電極間の導通信頼性をより一層高くしたりする観点からは、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電部とを有する粒子が好ましい。 The particles having at least a conductive portion on the surface may be particles having base material particles and conductive portions arranged on the surface of the base material particles, and are metal particles having a conductive portion as a whole. Also good. The conductive part is preferably a conductive layer. Above all, from the viewpoint of reducing the cost or increasing the flexibility of the conductive particles and further improving the conduction reliability between the electrodes, the base particles are arranged on the surface of the base particles. Particles having a conductive part formed are preferable.
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。 Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1に、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。 In FIG. 1, the electroconductive particle which concerns on the 1st Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.
図1に示す導電性粒子1は、基材粒子2と、導電層3と、被膜4と、複数の絶縁物質5と、複数の芯物質6とを備える。導電性粒子1は、基材粒子2と、基材粒子2の表面上に配置された導電層3とを有する粒子とを備える。導電層3は導電部である。
A
導電層3は、基材粒子2の表面上に配置されている。導電層3は、基材粒子2の表面を覆っている。導電性粒子1は、基材粒子2の表面が導電層3により被覆された被覆粒子である。
The
被膜4は、非極性基と極性基とを有する。被膜4は、導電層3の外表面上に配置されている。被膜4は、導電層3の外表面と絶縁物質5の表面とを覆っている。
The coating 4 has a nonpolar group and a polar group. The coating 4 is disposed on the outer surface of the
絶縁物質5は、導電層3の外表面上に配置されている。絶縁物質5が導電層3の表面に付着している。絶縁物質5は絶縁性を有する材料により形成されており、絶縁性粒子である。このように、本発明に係る導電性粒子は、導電部の外表面上に配置された絶縁物質を有していてもよい。但し、本発明に係る導電性粒子は、絶縁物質を必ずしも有していなくてもよい。
The
導電層3の外表面を覆っている被膜4部分と絶縁物質5の表面を覆っている被膜4部分とは連なっている。被膜4は、絶縁物質5が付着した導電層3の外表面を被覆している。被膜4は、導電層3の絶縁物質5と接している部分に配置されておらず、導電層3と絶縁物質5との間に配置されていない。被膜4は、導電層3の外表面の一部の領域に配置されていればよく、導電層3の外表面の全領域に配置されていなくてもよい。
The portion of the coating 4 covering the outer surface of the
導電性粒子1は導電性の表面に、複数の突起1aを有する。導電層3は外表面に、複数の突起3aを有する。複数の芯物質6が、基材粒子2の表面上に配置されている。複数の芯物質6は導電層3内に埋め込まれている。芯物質6は、突起1a,3aの内側に配置されている。導電層3は、複数の芯物質6を覆っている。複数の芯物質6により導電層3の外表面が隆起されており、突起1a,3aが形成されている。
The
図2に、本発明の第2の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。 In FIG. 2, the electroconductive particle which concerns on the 2nd Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.
図2に示す導電性粒子11は、基材粒子2と、導電層12と、被膜13とを備える。導電性粒子11は、基材粒子2と、基材粒子2の表面上に配置された導電層12とを有する粒子とを備える。導電層12は導電部である。導電性粒子1と導電性粒子11とでは、被膜の配置箇所及び芯物質の有無のみが異なる。
A conductive particle 11 shown in FIG. 2 includes a
導電性粒子11は、芯物質を有さない。導電層12は、第1の部分と、該第1の部分よりも厚みが厚い第2の部分とを有する。導電性粒子11は導電性の表面に、複数の突起11aを有する。複数の突起11aを除く部分が、導電層12の上記第1の部分である。複数の突起11aは、導電層12の厚みが厚い上記第2の部分に位置している。導電層12は、外表面に、複数の突起12aを有する。
The conductive particles 11 do not have a core substance. The
被膜13は、非極性基と極性基とを有する。被膜13は、導電層12の外表面上に配置されている。被膜13は、導電層12の外表面を覆っている。導電層12の外表面の全領域に、被膜13が配置されている。導電層12の外表面の全体が、被膜13により覆われている。
The
被膜13は、絶縁物質5の表面を覆っていない。被膜13は、絶縁物質5が付着する前の導電層12の外表面を被覆している。被膜13は、導電層12と絶縁物質5との間に配置されている。
The
図3に、本発明の第3の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。 In FIG. 3, the electroconductive particle which concerns on the 3rd Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.
図3に示す導電性粒子21は、基材粒子2と、導電層22と、被膜23と、複数の絶縁物質5とを備える。導電性粒子21は、基材粒子2と、基材粒子2の表面上に配置された導電層22とを有する粒子とを備える。導電層22は導電部である。
A
図3に示す導電性粒子21は、芯物質を有さない。導電層22の外表面は球状である。導電層22は表面に突起を有さない。このように、本発明に係る導電性粒子における絶縁物質を除く部分は突起を有していなくてもよく、球状であってもよい。
The
被膜23は、非極性基と極性基とを有する。被膜23は、導電層22の外表面上に配置されている。絶縁物質5は、導電層22の表面上に配置されている。絶縁物質5が導電層22の表面に付着している。被膜23は、導電層22の外表面と絶縁物質5の表面とを覆っている。
The
導電性粒子21は、芯物質を有さない。導電層22の外表面は球状である。被膜23は、導電層22の外表面上に配置されている。被膜23は、導電層22の外表面を覆っている。絶縁物質5は、導電層22の表面上に被膜32を介して配置されている。絶縁物質5は、被膜32の外表面上に配置されている。絶縁物質5は、被膜32の外表面に付着している。
The
図4に、本発明の第4の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。 In FIG. 4, the electroconductive particle which concerns on the 4th Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.
図4に示す導電性粒子31は、基材粒子2と、導電層22と、被膜32とを備える。導電性粒子31は、基材粒子2と、基材粒子2の表面上に配置された導電層22とを有する粒子とを備える。導電性粒子21と導電性粒子31とでは、被膜の配置箇所及び絶縁物質の有無のみが異なる。
A conductive particle 31 shown in FIG. 4 includes a
被膜32は、非極性基と極性基とを有する。被膜32は、導電層22の外表面上に配置されている。被膜32は、導電層22の外表面を覆っている。導電層22の外表面の全領域に、被膜32が配置されている。導電層22の外表面の全体が、被膜32により覆われている。
The
導電性粒子31は、絶縁物質を有さない。絶縁物質が、導電層22の表面上に被膜32を介して配置されていてもよい。絶縁物質は、被膜32の外表面上に配置されていてもよい。絶縁物質は、被膜32の外表面に付着していてもよい。
The conductive particles 31 do not have an insulating material. An insulating material may be disposed on the surface of the
以下、導電性粒子をより詳しく説明する。 Hereinafter, the conductive particles will be described in more detail.
(導電性粒子)
[被膜]
上記被膜は、非極性基と極性基とを有する。上記非極性基は、導電性粒子の表面の疎水性を高め、導電部に錆が生じるのを効果的に抑制する。従って、上記非極性基は、導電性粒子における導電性を高く維持し、電極間の接続抵抗の上昇を効果的に抑制することに寄与する。上記極性基は、バインダー樹脂中での導電性粒子の分散性を効果的に高めることに寄与する。
(Conductive particles)
[Coating]
The coating has a nonpolar group and a polar group. The said nonpolar group improves the hydrophobicity of the surface of electroconductive particle, and suppresses effectively that rust arises in an electroconductive part. Therefore, the nonpolar group maintains high conductivity in the conductive particles and contributes to effectively suppressing an increase in connection resistance between the electrodes. The polar group contributes to effectively increasing the dispersibility of the conductive particles in the binder resin.
上記被膜は、非極性基を有する化合物と極性基を有する化合物とにより形成することができ、更に非極性基と極性基とを有する化合物により形成することができる。上記被膜は、非極性基を有する化合物と極性基を有する化合物とにより形成されていることが好ましい。上記非極性基と極性基とを有する化合物により形成するのではなく、上記非極性基を有する化合物と上記極性基を有する化合物とにより被膜を形成することにより、バインダー樹脂中での導電性粒子の分散性をより一層良好にすることができる。上記被膜は、上記非極性基と極性基とを有する化合物により形成されていてもよい。上記被膜における非極性基は、上記非極性基を有する化合物に由来して導入されていることが好ましい。上記被膜における上記極性基は、上記極性基を有する化合物に由来して導入されていることが好ましい。 The film can be formed of a compound having a nonpolar group and a compound having a polar group, and can be formed of a compound having a nonpolar group and a polar group. The coating is preferably formed of a compound having a nonpolar group and a compound having a polar group. The conductive particles in the binder resin are formed by forming a film with the compound having the nonpolar group and the compound having the polar group, instead of forming the compound with the nonpolar group and the polar group. Dispersibility can be further improved. The film may be formed of a compound having the nonpolar group and the polar group. The nonpolar group in the coating is preferably introduced from a compound having the nonpolar group. The polar group in the coating is preferably introduced from a compound having the polar group.
上記非極性基は、電荷を持たない官能基である。上記非極性基としては、アルキル基及びフェニル基等が挙げられる。上記非極性基は、アルキル基又はフェニル基であることが好ましい。導電部に錆をより一層生じ難くし、電極間の接続抵抗をより一層低くする観点からは、上記非極性基はアルキル基であることが好ましい。上記アルキル基の炭素数は、好ましくは6以上、好ましくは22以下、より好ましくは16以下である。上記アルキル基の炭素数が上記下限以上であると、導電部に錆がより一層生じ難くなり、電極間の接続抵抗が効果的に低くなる。上記アルキル基の炭素数が上記上限以下であると、導電性粒子における導電率の低下が抑えられる。 The nonpolar group is a functional group having no charge. Examples of the nonpolar group include an alkyl group and a phenyl group. The nonpolar group is preferably an alkyl group or a phenyl group. From the viewpoint of further reducing rust in the conductive portion and further reducing the connection resistance between the electrodes, the nonpolar group is preferably an alkyl group. The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 6 or more, preferably 22 or less, more preferably 16 or less. When the carbon number of the alkyl group is not less than the above lower limit, rust is less likely to occur in the conductive portion, and the connection resistance between the electrodes is effectively reduced. When the carbon number of the alkyl group is not more than the above upper limit, a decrease in conductivity in the conductive particles can be suppressed.
上記非極性基の分子量は好ましくは100以上、より好ましくは200以上である。上記非極性基の分子量が上記下限以上及び上記上限以下であると、導電部に錆がより一層生じ難くなり、導電性粒子における導電率の低下がより一層抑えられる。 The molecular weight of the nonpolar group is preferably 100 or more, more preferably 200 or more. When the molecular weight of the nonpolar group is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, rust is more unlikely to occur in the conductive part, and the decrease in conductivity in the conductive particles is further suppressed.
上記非極性基を有する化合物としては、アルキル基又はフェニル基を有する化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having a nonpolar group include compounds having an alkyl group or a phenyl group.
上記アルキル基を有する化合物としては、アルキル基を有するリン酸エステル又はその塩、アルキル基を有するアルコキシシラン、アルキル基を有するアルキルチオール及びアルキル基を有するジアルキルジスルフィド等が挙げられる。 Examples of the compound having an alkyl group include a phosphate ester having an alkyl group or a salt thereof, an alkoxysilane having an alkyl group, an alkylthiol having an alkyl group, and a dialkyl disulfide having an alkyl group.
上記アルキル基を有するリン酸エステル又はその塩としては、例えば、リン酸ヘキシルエステル、リン酸ヘプチルエステル、リン酸モノオクチルエステル、リン酸モノノニルエステル、リン酸モノデシルエステル、リン酸モノウンデシルエステル、リン酸モノドデシルエステル、リン酸モノトリデシルエステル、リン酸モノテトラデシルエステル、リン酸モノペンタデシルエステル、リン酸モノヘキシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノヘプチルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノオクチルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノノニルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノウンデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノドデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノトリデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノテトラデシルエステルモノナトリウム塩、及びリン酸モノペンタデシルエステルモノナトリウム塩等が挙げられる。 Examples of the phosphoric acid ester having an alkyl group or a salt thereof include, for example, hexyl phosphate, heptyl phosphate, monooctyl phosphate, monononyl phosphate, monodecyl phosphate, monoundecyl phosphate. , Monododecyl phosphate, monotridecyl phosphate, monotetradecyl phosphate, monopentadecyl phosphate, monohexyl phosphate monosodium salt, monoheptyl phosphate monosodium salt, monooctyl phosphate Ester monosodium salt, phosphate monononyl ester monosodium salt, phosphate monodecyl ester monosodium salt, phosphate monoundecyl ester monosodium salt, phosphate monododecyl ester monosodium salt, phosphate monotride Ester monosodium salt, phosphate acid mono tetradecyl ester monosodium salt, and phosphoric acid mono-pentadecyl ester monosodium salt.
上記アルキル基を有するアルコキシシランとしては、例えば、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ノニルトリメトキシシラン、ノニルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ウンデシルトリメトキシシラン、ウンデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、トリデシルトリメトキシシラン、トリデシルトリエトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリエトキシシラン、ペンタデシルトリメトキシシラン、及びペンタデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the alkoxysilane having an alkyl group include hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, nonyltrimethoxysilane, nonyltriethoxy. Silane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, undecyltrimethoxysilane, undecyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, tridecyltrimethoxysilane, tridecyltriethoxysilane, tetradecyltrimethoxy Examples include silane, tetradecyltriethoxysilane, pentadecyltrimethoxysilane, and pentadecyltriethoxysilane.
上記アルキル基を有するアルキルチオールとしては、例えば、ヘキシルチオール、ヘプチルチオール、オクチルチオール、ノニルチオール、デシルチオール、ウンデシルチオール、ドデシルチオール、トリデシルチオール、テトラデシルチオール、ペンタデシルチオール、及びヘキサデシルチオール等が挙げられる。上記アルキルチオールは、アルキル基の末端にチオール基が存在することが好ましい。 Examples of the alkyl thiol having the alkyl group include hexyl thiol, heptyl thiol, octyl thiol, nonyl thiol, decyl thiol, undecyl thiol, dodecyl thiol, tridecyl thiol, tetradecyl thiol, pentadecyl thiol, and hexadecyl thiol. Etc. The alkyl thiol preferably has a thiol group at the end of the alkyl group.
上記アルキル基を有するジアルキルジスルフィドとしては、例えば、ジヘキシルジスルフィド、ジヘプチルジスルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジノニルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ジウンデシルジスルフィド、ジドデシルジスルフィド、ジトリデシルジスルフィド、ジテトラデシルジスルフィド、ジペンタデシルジスルフィド、及びジヘキサデシルジスルフィド等が挙げられる。 Examples of the dialkyl disulfide having an alkyl group include dihexyl disulfide, diheptyl disulfide, dioctyl disulfide, dinonyl disulfide, didecyl disulfide, diundecyl disulfide, didodecyl disulfide, ditridecyl disulfide, ditetradecyl disulfide, dipentadecyl. Examples include disulfide and dihexadecyl disulfide.
上記極性基は電荷を持つ官能基である。好ましい上記極性基としては、アルキレンオキシド基、ヒドロキシル基及びカルボニル基等が挙げられる。バインダー樹脂中での導電性粒子の分散性をより一層高める観点からは、上記極性基は、アルキレンオキシド基であることが好ましい。該アルキレンオキシド基の炭素数は1以上、好ましくは12以下、より好ましくは8以下である。上記アルキレンオキシド基の炭素数が上記上限以下であると、導電性粒子における導電率の低下が抑えられる。上記アルキレンオキシド基はエチレンオキシド基であることが特に好ましい。 The polar group is a functional group having a charge. Preferred examples of the polar group include an alkylene oxide group, a hydroxyl group, and a carbonyl group. From the viewpoint of further improving the dispersibility of the conductive particles in the binder resin, the polar group is preferably an alkylene oxide group. The alkylene oxide group has 1 or more carbon atoms, preferably 12 or less, more preferably 8 or less. When the carbon number of the alkylene oxide group is not more than the above upper limit, a decrease in conductivity in the conductive particles can be suppressed. The alkylene oxide group is particularly preferably an ethylene oxide group.
上記極性基の分子量は好ましくは80以上、より好ましくは100以上、更に好ましくは200以上である。上記極性基の分子量が上記下限以上及び上記上限以下であると、バインダー樹脂中での導電性粒子の分散性がより一層高くなり、導電性粒子における導電率の低下がより一層抑えられる。 The molecular weight of the polar group is preferably 80 or more, more preferably 100 or more, and still more preferably 200 or more. When the molecular weight of the polar group is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the dispersibility of the conductive particles in the binder resin is further enhanced, and the decrease in conductivity in the conductive particles is further suppressed.
上記極性基を有する化合物としては、アルキレンオキシド基を有する化合物、ヒドロキシル基を有する化合物及びカルボニル基を有する化合物等が挙げられる。上記極性基を有する化合物は、アルキレンオキシド基を有する化合物、ヒドロキシル基を有する化合物又はカルボニル基を有する化合物であることが好ましい。 Examples of the compound having a polar group include a compound having an alkylene oxide group, a compound having a hydroxyl group, and a compound having a carbonyl group. The compound having a polar group is preferably a compound having an alkylene oxide group, a compound having a hydroxyl group, or a compound having a carbonyl group.
電極間の導通信頼性及び導電性粒子の分散性をより一層高める観点からは、上記被膜において、上記非極性基の数と上記極性基の数との比(非極性基の数:極性基の数)は、好ましくは1:10〜50:1、より好ましくは1:1〜5:1である。 From the viewpoint of further improving the conduction reliability between the electrodes and the dispersibility of the conductive particles, the ratio of the number of the nonpolar groups to the number of the polar groups in the coating (number of nonpolar groups: polar groups) The number) is preferably from 1:10 to 50: 1, more preferably from 1: 1 to 5: 1.
上記比(非極性基の数:極性基の数)は、例えば、飛行時間型二次イオン質量分析(TOF−SIMS分析)により求めることができる。上記非極性基に由来するスペクトル強度と上記極性基に由来するスペクトル強度とから、上記比(非極性基の数:極性基の数)を求めることができる。 The ratio (number of nonpolar groups: number of polar groups) can be determined by, for example, time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS analysis). From the spectral intensity derived from the nonpolar group and the spectral intensity derived from the polar group, the ratio (number of nonpolar groups: number of polar groups) can be determined.
上記非極性基を有する化合物及び上記極性基を有する化合物の内の少なくとも一方は、上記導電部と結合可能な官能基を有することが好ましい。上記非極性基を有する化合物及び上記極性基を有する化合物の内の少なくとも一方は、上記導電部と結合可能な官能基を有していてもよい。上記導電性粒子において、上記導電部と、上記導電部と結合可能な官能基とが結合していることが好ましい。該結合は化学結合であることが好ましい。該化学結合には、共有結合、水素結合、イオン結合及び配位結合等が含まれる。 At least one of the compound having a nonpolar group and the compound having a polar group preferably has a functional group capable of binding to the conductive part. At least one of the compound having a nonpolar group and the compound having a polar group may have a functional group capable of binding to the conductive part. In the conductive particles, it is preferable that the conductive part and a functional group that can be bonded to the conductive part are bonded. The bond is preferably a chemical bond. The chemical bond includes a covalent bond, a hydrogen bond, an ionic bond, a coordination bond, and the like.
好ましい上記導電部と結合可能な官能基としては、アルキレンオキシド基、ヒドロキシル基及びカルボニル基等が挙げられる。上記導電部と結合可能な官能基は、アルキレンオキシド基、ヒドロキシル基又はカルボニル基であることが好ましい。なかでも、導電部と被膜とをより一層強固に結合させて、被膜の剥離をより一層抑制する観点からは、上記導電部と結合可能な官能基は、アルキレンオキシド基であることが好ましい。 Preferred examples of the functional group that can be bonded to the conductive part include an alkylene oxide group, a hydroxyl group, and a carbonyl group. The functional group that can be bonded to the conductive part is preferably an alkylene oxide group, a hydroxyl group, or a carbonyl group. Among these, from the viewpoint of further firmly bonding the conductive part and the film and further suppressing peeling of the film, the functional group that can be bonded to the conductive part is preferably an alkylene oxide group.
上記被膜の厚みは特に限定されない。上記被膜の厚みは、0nmを超え、好ましくは5nm以上、好ましくは100μm以下、より好ましくは10μm以下、更に好ましくは1μm以下、特に好ましくは100nm以下、最も好ましくは10nm以下である。上記被膜の厚みが上記下限以上であると、導電部に錆がより一層生じ難くなり、バインダー樹脂中での導電性粒子の分散性がより一層高くなる。上記被膜の厚みが上記上限以下であると、導電性粒子における導電率の低下がより一層抑えられる。 The thickness of the coating is not particularly limited. The thickness of the coating film exceeds 0 nm, preferably 5 nm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 10 μm or less, still more preferably 1 μm or less, particularly preferably 100 nm or less, and most preferably 10 nm or less. When the thickness of the coating is equal to or more than the lower limit, rust is less likely to occur in the conductive portion, and the dispersibility of the conductive particles in the binder resin is further enhanced. When the thickness of the coating is less than or equal to the above upper limit, the decrease in conductivity in the conductive particles is further suppressed.
[基材粒子]
上記基材粒子としては、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子、及び金属粒子等が挙げられる。上記基材粒子はコアシェル粒子であってもよい。上記基材粒子は、金属粒子を除く基材粒子であることが好ましく、樹脂粒子、金属を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子であることがより好ましい。
[Base material particles]
Examples of the substrate particles include resin particles, inorganic particles excluding metal particles, organic-inorganic hybrid particles, and metal particles. The base particles may be core-shell particles. The substrate particles are preferably substrate particles excluding metal particles, and more preferably resin particles, inorganic particles excluding metal, or organic-inorganic hybrid particles.
上記基材粒子は、樹脂により形成された樹脂粒子であることが好ましい。上記導電性粒子を用いて電極間を接続する際には、上記導電性粒子を電極間に配置した後、圧着することにより上記導電性粒子を圧縮させる。基材粒子が樹脂粒子であると、上記圧着の際に上記導電性粒子が変形しやすく、導電性粒子と電極との接触面積が大きくなる。このため、電極間の導通信頼性が高くなる。 The substrate particles are preferably resin particles formed of a resin. When connecting between electrodes using the said electroconductive particle, after arrange | positioning the said electroconductive particle between electrodes, the said electroconductive particle is compressed by crimping | bonding. When the substrate particles are resin particles, the conductive particles are easily deformed during the pressure bonding, and the contact area between the conductive particles and the electrode is increased. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes high.
上記樹脂粒子を形成するための樹脂として、種々の有機物が好適に用いられる。上記樹脂粒子を形成するための樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂;ポリメチルメタクリレート及びポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂;ポリアルキレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、及び、エチレン性不飽和基を有する種々の重合性単量体を1種もしくは2種以上重合させて得られる重合体等が挙げられる。基材粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御できるので、上記樹脂粒子を形成するための樹脂は、エチレン性不飽和基を複数有する重合性単量体を1種又は2種以上重合させた重合体であることが好ましい。 Various organic materials are suitably used as the resin for forming the resin particles. Examples of the resin for forming the resin particles include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyisobutylene, and polybutadiene; acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; Alkylene terephthalate, polycarbonate, polyamide, phenol formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, polysulfone, polyphenylene Oxide, polyacetal, polyimide, polyamideimide, polyether ether Ketones, polyether sulfones, and polymers such as obtained by a variety of polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group is polymerized with one or more thereof. Since the hardness of the substrate particles can be easily controlled within a suitable range, the resin for forming the resin particles is obtained by polymerizing one or more polymerizable monomers having a plurality of ethylenically unsaturated groups. A polymer is preferred.
上記樹脂粒子を、エチレン性不飽和基を有する単量体を重合させて得る場合には、該エチレン性不飽和基を有する単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。 When the resin particles are obtained by polymerizing a monomer having an ethylenically unsaturated group, the monomer having the ethylenically unsaturated group may be a non-crosslinkable monomer or a crosslinkable monomer. And a polymer.
上記非架橋性の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の酸素原子含有(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル含有単量体;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類;酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル類;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン等の不飽和炭化水素;トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、クロルスチレン等のハロゲン含有単量体等が挙げられる。 Examples of the non-crosslinkable monomer include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( Alkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; oxygen such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate Child-containing (meth) acrylates; Nitrile-containing monomers such as (meth) acrylonitrile; Vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, and propyl vinyl ether; Vinyl acetates such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate, and vinyl stearate Esters; Unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene; Halogen-containing monomers such as trifluoromethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride and chlorostyrene Is mentioned.
上記架橋性の単量体としては、例えば、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)テトラメチレンジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート類;トリアリル(イソ)シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、ビニルトリメトキシシラン等のシラン含有単量体等が挙げられる。 Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) Polyfunctional (meth) acrylates such as acrylate, (poly) tetramethylene di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate; triallyl (iso) cyanurate, tria Rutorimeriteto, divinylbenzene, diallyl phthalate, diallyl acrylamide, diallyl ether, .gamma. (meth) acryloxy propyl trimethoxy silane, trimethoxy silyl styrene, include silane-containing monomers such as vinyltrimethoxysilane.
上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を、公知の方法により重合させることで、上記樹脂粒子を得ることができる。この方法としては、例えば、ラジカル重合開始剤の存在下で懸濁重合する方法、並びに非架橋の種粒子を用いてラジカル重合開始剤とともに単量体を膨潤させて重合する方法等が挙げられる。 The resin particles can be obtained by polymerizing the polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group by a known method. Examples of this method include a method of suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, and a method of polymerizing by swelling a monomer together with a radical polymerization initiator using non-crosslinked seed particles.
上記基材粒子が金属を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子である場合には、基材粒子を形成するための無機物としては、シリカ及びカーボンブラック等が挙げられる。上記シリカにより形成された粒子としては特に限定されないが、例えば、加水分解性のアルコキシシル基を2つ以上有するケイ素化合物を加水分解して架橋重合体粒子を形成した後に、必要に応じて焼成を行うことにより得られる粒子が挙げられる。上記有機無機ハイブリッド粒子としては、例えば、架橋したアルコキシシリルポリマーとアクリル樹脂とにより形成された有機無機ハイブリッド粒子等が挙げられる。 In the case where the substrate particles are inorganic particles or organic-inorganic hybrid particles excluding metal, examples of the inorganic material for forming the substrate particles include silica and carbon black. Although it does not specifically limit as the particle | grains formed with the said silica, For example, after hydrolyzing the silicon compound which has two or more hydrolysable alkoxysil groups, and forming a crosslinked polymer particle, it calcinates as needed. The particle | grains obtained by performing are mentioned. Examples of the organic / inorganic hybrid particles include organic / inorganic hybrid particles formed of a crosslinked alkoxysilyl polymer and an acrylic resin.
上記基材粒子が金属粒子である場合に、該金属粒子を形成するための金属としては、銀、銅、ニッケル、ケイ素、金及びチタン等が挙げられる。但し、上記基材粒子は金属粒子ではないことが好ましい。 When the substrate particles are metal particles, examples of the metal for forming the metal particles include silver, copper, nickel, silicon, gold, and titanium. However, the substrate particles are preferably not metal particles.
[導電部]
上記導電部を形成するための金属は特に限定されない。少なくとも表面が導電部である粒の全体が、導電部である金属粒子である場合に、該金属粒子を形成するための金属は特に限定されない。該金属としては、例えば、金、銀、パラジウム、銅、白金、亜鉛、鉄、錫、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、タリウム、ゲルマニウム、カドミウム、ケイ素及びこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)及びはんだ等が挙げられる。なかでも、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができるので、錫を含む合金、ニッケル、パラジウム、銅又は金が好ましく、ニッケル又はパラジウムが好ましい。上記導電部の融点は、好ましくは300℃以上、より好ましくは450℃以上である。上記導電部ははんだではないことが好ましい。はんだの融点は一般に300℃未満である。
[Conductive part]
The metal for forming the conductive part is not particularly limited. In the case where at least the whole of the grains whose surface is the conductive part is metal particles which are the conductive part, the metal for forming the metal particles is not particularly limited. Examples of the metal include gold, silver, palladium, copper, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, silicon, and these. And the like. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. Especially, since the connection resistance between electrodes can be made still lower, an alloy containing tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is preferable. The melting point of the conductive part is preferably 300 ° C. or higher, more preferably 450 ° C. or higher. The conductive part is preferably not solder. The melting point of solder is generally less than 300 ° C.
上記導電部を構成する金属に錆が生じやすいほど、上記被膜による被覆効果が顕著に得られる。ニッケル、銅又は錫により形成された導電部では、導電部の表面に錆が比較的生じやすい。このような導電部の表面を被膜で被覆することにより、導電部の表面に錆が生じるのを効果的に抑制できる。上記被膜による被覆効果が効果的に得られるので、上記導電部は、ニッケル、銅又は錫を含んでいてもよい。 As the metal constituting the conductive part is more likely to be rusted, the coating effect by the coating is more remarkable. In the conductive part formed of nickel, copper or tin, rust is relatively likely to occur on the surface of the conductive part. By covering the surface of such a conductive part with a film, it is possible to effectively suppress the occurrence of rust on the surface of the conductive part. Since the covering effect by the said film is acquired effectively, the said electroconductive part may contain nickel, copper, or tin.
なお、導電部の表面には、酸化により水酸基が存在することが多い。一般的に、ニッケルにより形成された導電部の表面には、酸化により水酸基が存在する。このような水酸基を有する導電部は被膜と化学結合しやすい。 In many cases, hydroxyl groups are present on the surface of the conductive portion by oxidation. In general, a hydroxyl group exists on the surface of a conductive portion formed of nickel by oxidation. Such a conductive part having a hydroxyl group is easily chemically bonded to the film.
上記導電層は、1つの層により形成されていてもよく、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、導電層は、2層以上の積層構造を有していてもよい。導電層が複数の層により形成されている場合には、最外層は、金層、ニッケル層、パラジウム層、銅層又は錫と銀とを含む合金層であることが好ましく、金層であることがより好ましい。最外層がこれらの好ましい導電層である場合には、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。また、最外層が金層である場合には、耐腐食性がより一層高くなる。 The conductive layer may be formed of one layer or may be formed of a plurality of layers. That is, the conductive layer may have a stacked structure of two or more layers. When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the outermost layer is preferably a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, a copper layer, or an alloy layer containing tin and silver, and is a gold layer. Is more preferable. When the outermost layer is these preferred conductive layers, the connection resistance between the electrodes is further reduced. Moreover, when the outermost layer is a gold layer, the corrosion resistance is further enhanced.
上記基材粒子の表面に導電部を形成する方法は特に限定されない。導電部を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的蒸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを基材粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。なかでも、導電部の形成が簡便であるので、無電解めっきによる方法が好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。 The method for forming the conductive portion on the surface of the substrate particles is not particularly limited. As a method for forming the conductive portion, for example, a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, and a method of coating the surface of base particles with metal powder or a paste containing metal powder and a binder Etc. Especially, since formation of an electroconductive part is simple, the method by electroless plating is preferable. Examples of the method by physical vapor deposition include methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, and ion sputtering.
上記導電性粒子の粒子径は、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下である。導電性粒子の粒子径が上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が充分に大きくなり、かつ導電部を形成する際に凝集した導電性粒子が形成されにくくなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電部が基材粒子の表面から剥離し難くなる。 The particle diameter of the conductive particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less. When the particle diameter of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the contact area between the conductive particles and the electrode becomes sufficiently large when the electrodes are connected using the conductive particles, and the conductive part When forming the conductive particles, it becomes difficult to form aggregated conductive particles. Further, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive portion is difficult to peel from the surface of the base particle.
上記導電性粒子の粒子径は、導電性粒子が真球状である場合には、直径を示し、導電性粒子が真球状ではない場合には、最大径を示す。 The particle diameter of the conductive particles indicates the diameter when the conductive particles are true spherical, and indicates the maximum diameter when the conductive particles are not true spherical.
上記導電層の厚みは、好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.3μm以下である。導電層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性が充分に高くなり、かつ導電性粒子が硬くなりすぎずに、電極間の接続の際に導電性粒子が充分に変形可能である。 The thickness of the conductive layer is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 1 μm or less, more preferably 0.3 μm or less. When the thickness of the conductive layer is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductivity is sufficiently high and the conductive particles are not too hard, and the conductive particles can be sufficiently deformed when connecting the electrodes. It is.
上記導電層が複数の層により形成されている場合に、最外層の導電層の厚みは、特に最外層が金層である場合の金層の厚みは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。上記最外層の導電層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、最外層の導電層による被覆を均一にでき、耐腐食性が充分に高くなり、かつ電極間の接続抵抗が充分に低くなる。また、上記最外層が金層である場合の金層の厚みが薄いほど、コストが低くなる。 When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the thickness of the outermost conductive layer is preferably 0.001 μm or more, more preferably the thickness of the gold layer when the outermost layer is a gold layer. It is 0.01 μm or more, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. When the thickness of the outermost conductive layer is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the outermost conductive layer can be uniformly coated, the corrosion resistance is sufficiently high, and the connection resistance between the electrodes is sufficiently high. Lower. Further, the thinner the gold layer when the outermost layer is a gold layer, the lower the cost.
上記導電層の厚みは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子の断面を観察することにより測定可能である。 The thickness of the conductive layer can be measured by observing the cross section of the conductive particles using, for example, a transmission electron microscope (TEM).
[芯物質]
導電性粒子は、導電性の表面に突起を有することが好ましく、導電部の表面に突起を有することが好ましく、該突起は複数であることが好ましい。導電性粒子により接続される電極の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。導電部の表面に突起を有する導電性粒子を用いた場合には、電極間に導電性粒子を配置して圧着させることにより、突起により上記酸化被膜を効果的に排除できる。このため、電極と導電部とがより一層確実に接触し、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。さらに、電極間の接続時に、導電性粒子の突起によって、導電性粒子と電極との間の絶縁物質を効果的に排除できる。このため、電極間の導通信頼性が高くなる。
[Core material]
The conductive particles preferably have protrusions on the conductive surface, preferably have protrusions on the surface of the conductive portion, and the protrusions are preferably plural. An oxide film is often formed on the surface of the electrode connected by the conductive particles. When conductive particles having protrusions on the surface of the conductive portion are used, the oxide film can be effectively eliminated by the protrusions by placing the conductive particles between the electrodes and pressing them. For this reason, an electrode and an electroconductive part contact more reliably and the connection resistance between electrodes becomes still lower. Furthermore, when the electrodes are connected, the insulating material between the conductive particles and the electrodes can be effectively eliminated by the protrusions of the conductive particles. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes high.
上記芯物質が上記導電部中に埋め込まれていることによって、上記導電部が外表面に複数の突起を有するようにすることが容易である。但し、導電性粒子及び導電部の表面に突起を形成するために、芯物質を必ずしも用いなくてもよい。すなわち、芯物質を用いる方法以外の方法で、導電性粒子及び導電部の表面に突起を形成してもよい。 Since the core substance is embedded in the conductive portion, it is easy for the conductive portion to have a plurality of protrusions on the outer surface. However, the core substance is not necessarily used in order to form protrusions on the surfaces of the conductive particles and the conductive part. That is, the protrusions may be formed on the surfaces of the conductive particles and the conductive portion by a method other than the method using the core substance.
上記突起を形成する方法としては、基材粒子の表面に芯物質を付着させた後、無電解めっきにより導電層を形成する方法、並びに基材粒子の表面に無電解めっきにより導電層を形成した後、芯物質を付着させ、更に無電解めっきにより導電層を形成する方法等が挙げられる。上記突起を形成する他の方法としては、基材粒子の表面上に、第1の導電層を形成した後、該第1の導電層上に芯物質を配置し、次に第2の導電層を形成する方法、並びに基材粒子の表面上に導電層を形成する途中段階で、芯物質を添加する方法等が挙げられる。 As the method for forming the protrusions, a core material is attached to the surface of the base particle, and then a conductive layer is formed by electroless plating, and a conductive layer is formed on the surface of the base particle by electroless plating. Thereafter, a method of attaching a core substance and further forming a conductive layer by electroless plating may be used. As another method for forming the protrusion, a first conductive layer is formed on the surface of the base particle, and then a core substance is disposed on the first conductive layer, and then the second conductive layer. And a method of adding a core substance in the middle of forming the conductive layer on the surface of the base particle.
上記基材粒子の表面上に芯物質を配置する方法としては、例えば、基材粒子の分散液中に、芯物質を添加し、基材粒子の表面に芯物質を、例えば、ファンデルワールス力により集積させ、付着させる方法、並びに基材粒子を入れた容器に、芯物質を添加し、容器の回転等による機械的な作用により基材粒子の表面に芯物質を付着させる方法等が挙げられる。なかでも、付着させる芯物質の量を制御しやすいため、分散液中の基材粒子の表面に芯物質を集積させ、付着させる方法が好ましい。 As a method of disposing the core substance on the surface of the base particle, for example, the core substance is added to the dispersion of the base particle, and the core substance is applied to the surface of the base particle, for example, van der Waals force. And a method in which a core substance is added to a container containing base particles, and a core substance is attached to the surface of the base particles by mechanical action such as rotation of the container. . Especially, since the quantity of the core substance to adhere is easy to control, the method of making a core substance accumulate and adhere on the surface of the base particle in a dispersion liquid is preferable.
上記導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電層を有し、かつ該第1の導電層上に第2の導電層を有していてもよい。この場合に、第1の導電層の表面に芯物質を付着させてもよい。芯物質は第2の導電層により被覆されていること好ましい。上記第1の導電層の厚みは、好ましくは0.05μm以上、好ましくは0.5μm以下である。導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電層を形成し、次に該第1の導電層の表面上に芯物質を付着させた後、第1の導電層及び芯物質の表面上に第2の導電層を形成することにより得られていることが好ましい。 The conductive particles may have a first conductive layer on the surface of the base particle, and may have a second conductive layer on the first conductive layer. In this case, a core substance may be attached to the surface of the first conductive layer. The core material is preferably covered with a second conductive layer. The thickness of the first conductive layer is preferably 0.05 μm or more, and preferably 0.5 μm or less. The conductive particles form a first conductive layer on the surface of the base particle, and then a core material is deposited on the surface of the first conductive layer, and then the first conductive layer and the core material are formed. It is preferably obtained by forming a second conductive layer on the surface.
上記芯物質を構成する物質としては、導電性物質及び非導電性物質が挙げられる。上記導電性物質としては、例えば、金属、金属の酸化物、黒鉛等の導電性非金属及び導電性ポリマー等が挙げられる。上記導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン等が挙げられる。上記非導電性物質としては、シリカ、アルミナ及びジルコニア等が挙げられる。なかでも、導電性を高めることができ、更に接続抵抗を効果的に低くすることができるので、金属が好ましい。上記芯物質は金属粒子であることが好ましい。 Examples of the material constituting the core material include conductive materials and non-conductive materials. Examples of the conductive material include conductive non-metals such as metals, metal oxides, and graphite, and conductive polymers. Examples of the conductive polymer include polyacetylene. Examples of the nonconductive material include silica, alumina, and zirconia. Among them, metal is preferable because conductivity can be increased and connection resistance can be effectively reduced. The core substance is preferably metal particles.
上記金属としては、例えば、金、銀、銅、白金、亜鉛、鉄、鉛、錫、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム及びカドミウム等の金属、並びに錫−鉛合金、錫−銅合金、錫−銀合金、錫−鉛−銀合金及び炭化タングステン等の2種類以上の金属で構成される合金等が挙げられる。なかでも、ニッケル、銅、銀又は金が好ましい。上記芯物質を構成する金属は、上記導電部を構成する金属と同じであってもよく、異なっていてもよい。上記芯物質を構成する金属は、上記導電部を構成する金属を含むことが好ましい。上記芯物質を構成する金属は、ニッケルを含むことが好ましい。上記芯物質を構成する金属は、ニッケルを含むことが好ましい。 Examples of the metal include gold, silver, copper, platinum, zinc, iron, lead, tin, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium and cadmium, and tin-lead. Examples include alloys composed of two or more metals such as alloys, tin-copper alloys, tin-silver alloys, tin-lead-silver alloys, and tungsten carbide. Of these, nickel, copper, silver or gold is preferable. The metal constituting the core substance may be the same as or different from the metal constituting the conductive part. The metal constituting the core substance preferably includes a metal constituting the conductive part. It is preferable that the metal which comprises the said core substance contains nickel. It is preferable that the metal which comprises the said core substance contains nickel.
上記芯物質の形状は特に限定されない。芯物質の形状は塊状であることが好ましい。芯物質としては、例えば、粒子状の塊、複数の微小粒子が凝集した凝集塊、及び不定形の塊等が挙げられる。 The shape of the core material is not particularly limited. The shape of the core substance is preferably a lump. Examples of the core substance include a particulate lump, an agglomerate in which a plurality of fine particles are aggregated, and an irregular lump.
上記芯物質の平均径(平均粒子径)は、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.05μm以上、好ましくは0.9μm以下、より好ましくは0.2μm以下である。上記芯物質の平均径が上記下限以上及び上限以下であると、電極間の接続抵抗が効果的に低くなる。 The average diameter (average particle diameter) of the core substance is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, preferably 0.9 μm or less, more preferably 0.2 μm or less. When the average diameter of the core substance is not less than the above lower limit and not more than the upper limit, the connection resistance between the electrodes is effectively reduced.
上記芯物質の「平均径(平均粒子径)」は、数平均径(数平均粒子径)を示す。芯物質の平均径は、任意の芯物質50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。 The “average diameter (average particle diameter)” of the core substance indicates a number average diameter (number average particle diameter). The average diameter of the core material is obtained by observing 50 arbitrary core materials with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.
[絶縁物質]
本発明に係る導電性粒子は、上記導電部の表面上に配置された絶縁物質を備えることが好ましい。この場合には、導電性粒子を電極間の接続に用いると、隣接する電極間の短絡を防止できる。具体的には、複数の導電性粒子が接触したときに、複数の電極間に絶縁物質が存在するので、上下の電極間ではなく横方向に隣り合う電極間の短絡を防止できる。なお、電極間の接続の際に、2つの電極で導電性粒子を加圧することにより、導電部と電極との間の絶縁物質を容易に排除できる。導電性粒子が導電部の外表面に複数の突起を有する場合には、導電性粒子の導電部と電極との間の絶縁物質をより一層容易に排除できる。
[Insulating material]
The conductive particles according to the present invention preferably include an insulating substance disposed on the surface of the conductive part. In this case, when the conductive particles are used for connection between the electrodes, a short circuit between adjacent electrodes can be prevented. Specifically, when a plurality of conductive particles are in contact with each other, an insulating material is present between the plurality of electrodes, so that it is possible to prevent a short circuit between electrodes adjacent in the lateral direction instead of between the upper and lower electrodes. Note that the insulating material between the conductive portion and the electrode can be easily removed by pressurizing the conductive particles with the two electrodes when connecting the electrodes. When the conductive particles have a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive part, the insulating material between the conductive part of the conductive particles and the electrode can be more easily removed.
電極間の圧着時に上記絶縁物質をより一層容易に排除できることから、上記絶縁物質は、絶縁性粒子であることが好ましい。 It is preferable that the insulating material is an insulating particle because the insulating material can be more easily removed when the electrodes are pressed.
上記絶縁物質の材料である絶縁性樹脂の具体例としては、ポリオレフィン類、(メタ)アクリレート重合体、(メタ)アクリレート共重合体、ブロックポリマー、熱可塑性樹脂、熱可塑性樹脂の架橋物、熱硬化性樹脂及び水溶性樹脂等が挙げられる。 Specific examples of the insulating resin that is the material of the insulating material include polyolefins, (meth) acrylate polymers, (meth) acrylate copolymers, block polymers, thermoplastic resins, crosslinked thermoplastic resins, and thermosetting. Resin, water-soluble resin, and the like.
上記ポリオレフィン類としては、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びエチレン−アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記(メタ)アクリレート重合体としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート及びポリブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記ブロックポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、SB型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、及びSBS型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、並びにこれらの水素添加物等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、ビニル重合体及びビニル共重合体等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。上記水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド及びメチルセルロース等が挙げられる。なかでも、水溶性樹脂が好ましく、ポリビニルアルコールがより好ましい。 Examples of the polyolefins include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-acrylic acid ester copolymer. Examples of the (meth) acrylate polymer include polymethyl (meth) acrylate, polyethyl (meth) acrylate, and polybutyl (meth) acrylate. Examples of the block polymer include polystyrene, styrene-acrylic acid ester copolymer, SB type styrene-butadiene block copolymer, SBS type styrene-butadiene block copolymer, and hydrogenated products thereof. Examples of the thermoplastic resin include vinyl polymers and vinyl copolymers. As said thermosetting resin, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, etc. are mentioned. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and methyl cellulose. Of these, water-soluble resins are preferable, and polyvinyl alcohol is more preferable.
熱圧着時の絶縁性粒子の脱離性をより一層高める観点からは、絶縁性粒子は、無機粒子であることが好ましく、シリカ粒子であることが好ましい。上記無機粒子としては、シラス粒子、ハイドロキシアパタイト粒子、マグネシア粒子、酸化ジルコニウム粒子及びシリカ粒子等が挙げられる。上記シリカ粒子としては、粉砕シリカ、球状シリカが挙げられ、球状シリカを用いることが好ましい。 From the viewpoint of further increasing the detachability of the insulating particles during thermocompression bonding, the insulating particles are preferably inorganic particles, and are preferably silica particles. Examples of the inorganic particles include shirasu particles, hydroxyapatite particles, magnesia particles, zirconium oxide particles, and silica particles. Examples of the silica particles include pulverized silica and spherical silica, and spherical silica is preferably used.
上記導電部の表面上に絶縁物質を配置する方法としては、化学的方法、及び物理的もしくは機械的方法等が挙げられる。上記化学的方法としては、例えば、界面重合法、粒子存在下での懸濁重合法及び乳化重合法等が挙げられる。上記物理的もしくは機械的方法としては、スプレードライ、ハイブリダイゼーション、静電付着法、噴霧法、ディッピング及び真空蒸着による方法等が挙げられる。なかでも、絶縁物質が脱離し難いことから、上記導電部の表面又は上記被膜の表面に、化学結合を介して上記絶縁物質を配置する方法が好ましい。 Examples of a method for disposing an insulating material on the surface of the conductive part include a chemical method and a physical or mechanical method. Examples of the chemical method include an interfacial polymerization method, a suspension polymerization method in the presence of particles, and an emulsion polymerization method. Examples of the physical or mechanical method include spray drying, hybridization, electrostatic adhesion, spraying, dipping, and vacuum deposition. In particular, since the insulating substance is difficult to be detached, a method in which the insulating substance is disposed on the surface of the conductive part or the surface of the film via a chemical bond is preferable.
上記絶縁物質の平均径(平均粒子径)は、導電性粒子の粒子径及び導電性粒子の用途等によって適宜選択可能である。上記絶縁物質の平均径(平均粒子径)は好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下である。絶縁物質の平均径が上記下限以上であると、導電性粒子がバインダー樹脂中に分散されたときに、複数の導電性粒子における導電部同士が接触し難くなる。絶縁性粒子の平均径が上記上限以下であると、電極間の接続の際に、電極と導電性粒子との間の絶縁物質を排除するために、圧力を高くしすぎる必要がなくなり、高温に加熱する必要もなくなる。 The average diameter (average particle diameter) of the insulating material can be appropriately selected depending on the particle diameter of the conductive particles, the use of the conductive particles, and the like. The average diameter (average particle diameter) of the insulating material is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less. When the average diameter of the insulating material is not less than the above lower limit, when the conductive particles are dispersed in the binder resin, the conductive portions in the plurality of conductive particles are difficult to contact each other. When the average diameter of the insulating particles is not more than the above upper limit, it is not necessary to make the pressure too high in order to eliminate the insulating material between the electrodes and the conductive particles when the electrodes are connected. There is no need for heating.
上記絶縁物質の「平均径(平均粒子径)」は、数平均径(数平均粒子径)を示す。絶縁物質の平均径は、粒度分布測定装置等を用いて求められる。 The “average diameter (average particle diameter)” of the insulating material indicates a number average diameter (number average particle diameter). The average diameter of the insulating material is obtained using a particle size distribution measuring device or the like.
(導電材料)
本発明に係る導電材料は、上述した導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。上記導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散され、導電材料として用いられることが好ましい。上記導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。上記バインダー樹脂は特に限定されない。上記バインダー樹脂として、公知の絶縁性の樹脂が用いられる。
(Conductive material)
The conductive material according to the present invention includes the conductive particles described above and a binder resin. The conductive particles are preferably dispersed in a binder resin and used as a conductive material. The conductive material is preferably an anisotropic conductive material. The binder resin is not particularly limited. As the binder resin, a known insulating resin is used.
上記バインダー樹脂としては、例えば、ビニル樹脂、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、熱可塑性ブロック共重合体及びエラストマー等が挙げられる。上記バインダー樹脂は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Examples of the binder resin include vinyl resins, thermoplastic resins, curable resins, thermoplastic block copolymers, and elastomers. As for the said binder resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
上記ビニル樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びスチレン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びポリアミド樹脂等が挙げられる。上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。なお、上記硬化性樹脂は、常温硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂又は湿気硬化性樹脂であってもよい。上記硬化性樹脂は、硬化剤と併用されてもよい。上記熱可塑性ブロック共重合体としては、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。上記エラストマーとしては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、及びアクリロニトリル−スチレンブロック共重合ゴム等が挙げられる。 Examples of the vinyl resin include vinyl acetate resin, acrylic resin, and styrene resin. Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, and polyamide resins. Examples of the curable resin include an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin, and an unsaturated polyester resin. The curable resin may be a room temperature curable resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a moisture curable resin. The curable resin may be used in combination with a curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymer include a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a styrene-isoprene-styrene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, and a styrene-isoprene. -Hydrogenated product of a styrene block copolymer. Examples of the elastomer include styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.
上記導電材料は、上記導電性粒子及び上記バインダー樹脂の他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。 In addition to the conductive particles and the binder resin, the conductive material includes, for example, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a colorant, an antioxidant, a heat stabilizer, and a light stabilizer. Various additives such as an agent, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent and a flame retardant may be contained.
上記バインダー樹脂中に上記導電性粒子を分散させる方法は、従来公知の分散方法を用いることができ特に限定されない。上記バインダー樹脂中に上記導電性粒子を分散させる方法としては、例えば、上記バインダー樹脂中に上記導電性粒子を添加した後、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、上記導電性粒子を水又は有機溶剤中にホモジナイザー等を用いて均一に分散させた後、上記バインダー樹脂中に添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、並びに上記バインダー樹脂を水又は有機溶剤等で希釈した後、上記導電性粒子を添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法等が挙げられる。 The method for dispersing the conductive particles in the binder resin is not particularly limited, and a conventionally known dispersion method can be used. Examples of a method for dispersing the conductive particles in the binder resin include a method in which the conductive particles are added to the binder resin and then kneaded and dispersed with a planetary mixer or the like. The conductive particles are dispersed in water. Alternatively, after uniformly dispersing in an organic solvent using a homogenizer or the like, it is added to the binder resin and kneaded with a planetary mixer or the like, and the binder resin is diluted with water or an organic solvent. Then, the method of adding the said electroconductive particle, kneading with a planetary mixer etc. and disperse | distributing is mentioned.
本発明に係る導電材料は、導電ペースト及び導電フィルム等として使用され得る。本発明に係る導電材料が、導電フィルムである場合には、導電性粒子を含む導電フィルムに、導電性粒子を含まないフィルムが積層されていてもよい。上記導電ペーストは、異方性導電ペーストであることが好ましい。上記導電フィルムは、異方性導電フィルムであることが好ましい。 The conductive material according to the present invention can be used as a conductive paste and a conductive film. When the conductive material according to the present invention is a conductive film, a film that does not include conductive particles may be laminated on a conductive film that includes conductive particles. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.
上記導電材料100重量%中、上記バインダー樹脂の含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、更に好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダー樹脂の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間に導電性粒子が効率的に配置され、導電材料により接続された接続対象部材の接続信頼性がより一層高くなる。 In 100% by weight of the conductive material, the content of the binder resin is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably 99.% or more. It is 99 weight% or less, More preferably, it is 99.9 weight% or less. When the content of the binder resin is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductive particles are efficiently arranged between the electrodes, and the connection reliability of the connection target member connected by the conductive material is further increased.
上記導電材料100重量%中、上記導電性粒子の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは40重量%以下、より好ましくは20重量%以下、更に好ましくは10重量%以下である。上記導電性粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。 In 100% by weight of the conductive material, the content of the conductive particles is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 40% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, More preferably, it is 10 weight% or less. When the content of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conduction reliability between the electrodes is further enhanced.
(接続構造体)
本発明に係る導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。
(Connection structure)
A connection structure can be obtained by connecting a connection object member using the electrically-conductive material containing the electroconductive particle and binder resin which concern on this invention.
上記接続構造体は、第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、第1,第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、該接続部が本発明に係る導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料(異方性導電材料など)により形成されている接続構造体であることが好ましい。 The connection structure includes a first connection target member, a second connection target member, and a connection portion connecting the first and second connection target members, the connection portion according to the present invention. A connection structure formed of a conductive material (such as an anisotropic conductive material) containing conductive particles and a binder resin is preferable.
図5に、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に正面断面図で示す。 In FIG. 5, the connection structure using the electroconductive particle which concerns on the 1st Embodiment of this invention is typically shown with front sectional drawing.
図5に示す接続構造体51は、第1の接続対象部材52と、第2の接続対象部材53と、第1,第2の接続対象部材52,53を接続している接続部54とを備える。接続部54は、導電性粒子1とバインダー樹脂(硬化したバインダー樹脂など)とを含む。接続部54は、導電性粒子1を含む導電材料を硬化させることにより形成されている。なお、図5では、導電性粒子1は、図示の便宜上、略図的に示されている。導電性粒子1にかえて、導電性粒子11,21,31などを用いてもよい。
The
第1の接続対象部材52は表面52a(上面)に、複数の電極52bを有する。第2の接続対象部材53は表面53a(下面)に、複数の電極53bを有する。電極52bと電極53bとが、1つ又は複数の導電性粒子1により電気的に接続されている。従って、第1,第2の接続対象部材52,53が導電性粒子1により電気的に接続されている。
The first
上記接続構造体の製造方法は特に限定されない。接続構造体の製造方法の一例としては、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材との間に上記導電材料を配置し、積層体を得た後、該積層体を加熱及び加圧する方法等が挙げられる。上記加圧の圧力は9.8×104〜4.9×106Pa程度である。上記加熱の温度は、120〜220℃程度である。 The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of the manufacturing method of the connection structure, the conductive material is disposed between the first connection target member and the second connection target member to obtain a laminate, and then the laminate is heated and pressurized. Methods and the like. The pressure of the said pressurization is about 9.8 * 10 < 4 > -4.9 * 10 < 6 > Pa. The temperature of the said heating is about 120-220 degreeC.
上記接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びにプリント基板、フレキシブルプリント基板、ガラスエポキシ基板及びガラス基板等の回路基板である電子部品等が挙げられる。上記接続対象部材は電子部品であることが好ましい。上記導電性粒子は、電子部品における電極の電気的な接続に用いられることが好ましい。 Specific examples of the connection target member include electronic components such as semiconductor chips, capacitors, and diodes, and electronic components that are circuit boards such as printed boards, flexible printed boards, glass epoxy boards, and glass boards. The connection target member is preferably an electronic component. The conductive particles are preferably used for electrical connection of electrodes in an electronic component.
上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブルプリント基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物層の材料としては、3価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び3価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記3価の金属元素としては、Sn、Al及びGa等が挙げられる。 Examples of the electrode provided on the connection target member include metal electrodes such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode. When the connection object member is a flexible printed board, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, or a copper electrode. When the connection target member is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. In addition, when the said electrode is an aluminum electrode, the electrode formed only with aluminum may be sufficient and the electrode by which the aluminum layer was laminated | stacked on the surface of the metal oxide layer may be sufficient. Examples of the material for the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal element include Sn, Al, and Ga.
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.
(実施例1)
粒子径が3.0μmであるジビニルベンゼン共重合体樹脂粒子(積水化学工業社製「ミクロパールSP−203」)を用意した。
Example 1
Divinylbenzene copolymer resin particles having a particle size of 3.0 μm (“Micropearl SP-203” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) were prepared.
パラジウム触媒液を5重量%含むアルカリ溶液100重量部に、上記樹脂粒子10重量部を、超音波分散器を用いて分散させた後、溶液をろ過することにより、樹脂粒子を取り出した。次いで、樹脂粒子をジメチルアミンボラン1重量%溶液100重量部に添加し、樹脂粒子の表面を活性化させた。表面が活性化された樹脂粒子を十分に水洗した後、蒸留水500重量部に加え、分散させることにより、懸濁液を得た。 After dispersing 10 parts by weight of the resin particles in 100 parts by weight of an alkaline solution containing 5% by weight of a palladium catalyst solution using an ultrasonic disperser, the resin particles were taken out by filtering the solution. Next, the resin particles were added to 100 parts by weight of a 1% by weight dimethylamine borane solution to activate the surface of the resin particles. The resin particles whose surface was activated were sufficiently washed with water, and then added to 500 parts by weight of distilled water and dispersed to obtain a suspension.
また、硫酸ニッケル0.23mol/L、ジメチルアミンボラン0.92mol/L及びクエン酸ナトリウム0.5mol/Lを含むニッケルめっき液(pH8.5)を用意した。 Further, a nickel plating solution (pH 8.5) containing 0.23 mol / L of nickel sulfate, 0.92 mol / L of dimethylamine borane and 0.5 mol / L of sodium citrate was prepared.
得られた懸濁液を60℃にて攪拌しながら、上記ニッケルめっき液を懸濁液に徐々に滴下し、無電解ニッケルめっきを行った。その後、懸濁液をろ過することにより、粒子を取り出し、水洗し、乾燥することにより、樹脂粒子の表面にニッケル−ボロン導電層(厚み0.1μm)が配置された表面が導電層である粒子を得た。 While stirring the obtained suspension at 60 ° C., the nickel plating solution was gradually added dropwise to the suspension to perform electroless nickel plating. Thereafter, the suspension is filtered to take out the particles, which are washed with water and dried, so that the surface on which the nickel-boron conductive layer (thickness 0.1 μm) is disposed on the surface of the resin particles is a conductive layer. Got.
純水25gとエタノール25gとの混合液中に上記導電性粒子本体10重量部とリン酸モノヘキシルエステル(非極性基を有する化合物)0.5重量部とリン酸ポリオキシエチレントリドデシルエーテル(エチレンオキシド鎖長:5)(極性基を有する化合物)0.5重量部とを入れ、50℃で1時間攪拌した。その後、ろ過し、真空乾燥機により100℃で8時間乾燥させ、表面が導電層である粒子の導電層の外表面上に、上記リン酸モノヘキシルエステルと上記リン酸ポリオキシエチレントリドデシルエーテルとにより形成された被膜を有する導電性粒子を得た。 In a mixed solution of 25 g of pure water and 25 g of ethanol, 10 parts by weight of the conductive particle body, 0.5 part by weight of monohexyl phosphate (a compound having a nonpolar group), and polyoxyethylene tridodecyl ether phosphate (ethylene oxide) Chain length: 5) (a compound having a polar group) 0.5 part by weight was added and stirred at 50 ° C. for 1 hour. Then, it is filtered and dried at 100 ° C. for 8 hours by a vacuum dryer, and the monohexyl phosphate and the polyoxyethylene tridodecyl ether phosphate are formed on the outer surface of the conductive layer of the particle whose surface is a conductive layer. The electroconductive particle which has the film formed by this was obtained.
(実施例2)
リン酸モノヘキシルエステル(非極性基を有する化合物)の使用量を0.5重量部から2.5重量部に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、導電性粒子を得た。
(Example 2)
Conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of phosphoric acid monohexyl ester (compound having a nonpolar group) was changed from 0.5 parts by weight to 2.5 parts by weight.
(実施例3)
リン酸モノヘキシルエステル(非極性基を有する化合物)をリン酸モノオクチルエステルに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、導電性粒子を得た。
(Example 3)
Conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that monohexyl phosphate (compound having a nonpolar group) was changed to monooctyl phosphate.
(実施例4)
リン酸モノヘキシルエステル(非極性基を有する化合物)の使用量を0.5重量部から5.0重量部に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、導電性粒子を得た。
Example 4
Conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of phosphoric acid monohexyl ester (compound having a nonpolar group) was changed from 0.5 parts by weight to 5.0 parts by weight.
(比較例1)
純水25gとエタノール25gとの混合液中に、実施例1で得られた表面が導電層である粒子10重量部とリン酸モノヘキシルエステル(非極性基を有する化合物)0.5重量部とを入れ、50℃で1時間攪拌した。その後、ろ過し、真空乾燥機により100℃で8時間乾燥させ、表面が導電層である粒子の導電層の外表面上に、上記リン酸モノヘキシルエステルにより形成された被膜を有する導電性粒子を得た。
(Comparative Example 1)
In a mixed solution of 25 g of pure water and 25 g of ethanol, 10 parts by weight of particles whose surface is a conductive layer obtained in Example 1 and 0.5 parts by weight of monohexyl phosphate (compound having a nonpolar group) And stirred at 50 ° C. for 1 hour. Thereafter, the mixture is filtered and dried at 100 ° C. for 8 hours by a vacuum dryer, and conductive particles having a film formed of the monohexyl phosphate are formed on the outer surface of the conductive layer of the particles whose surface is a conductive layer. Obtained.
(実施例5)
リン酸モノヘキシルエステル(非極性基を有する化合物)をリン酸モノドデシルエステルに変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電性粒子を得た。
(Example 5)
Conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that monohexyl phosphate (a compound having a nonpolar group) was changed to monododecyl phosphate.
(実施例6)
リン酸ポリオキシエチレントリドデシルエーテル(エチレンオキシド鎖長:5)(極性基を有する化合物)をリン酸ポリオキシエチレントリドデシルエーテル(エチレンオキシド鎖長:10)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電性粒子を得た。
(Example 6)
Except that phosphoric acid polyoxyethylene tridodecyl ether (ethylene oxide chain length: 5) (compound having a polar group) was changed to phosphoric acid polyoxyethylene tridodecyl ether (ethylene oxide chain length: 10), the same as in Example 1. Thus, conductive particles were obtained.
(実施例7)
リン酸ポリオキシエチレントリドデシルエーテル(エチレンオキシド鎖長:5)(極性基を有する化合物)をリン酸ポリオキシエチレントリドデシルエーテル(エチレンオキシド鎖長:20)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、導電性粒子を得た。
(Example 7)
Except that phosphoric acid polyoxyethylene tridodecyl ether (ethylene oxide chain length: 5) (compound having a polar group) was changed to phosphoric acid polyoxyethylene tridodecyl ether (ethylene oxide chain length: 20), the same procedure as in Example 1 was performed. Thus, conductive particles were obtained.
(評価)
(1)飛行時間型二次イオン質量分析(TOF−SIMS分析)
飛行時間型二次イオン質量分析TOF−SIMS(ION−TOF社製 TOF−SIMS 5型)により、導電層の表面上に配置された被膜において、上記非極性基に由来するスペクトル強度と上記極性基に由来するスペクトル強度とを測定した。上記比(非極性基の数:極性基の数)を求めた。
(Evaluation)
(1) Time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS analysis)
Time-of-flight secondary ion mass spectrometry TOF-SIMS (TOF-
(2)バインダー樹脂中での導電性粒子の分散性
得られた導電性粒子を含有量が10重量%となるように、三井化学社製「ストラクトボンドXN−5A」)に添加し、分散させて、異方性導電ペーストを作製した。
(2) Dispersibility of conductive particles in binder resin The resulting conductive particles are added to and dispersed in Mitsui Chemicals' “Struct Bond XN-5A” so that the content is 10% by weight. Thus, an anisotropic conductive paste was produced.
作製直後の異方性導電ペーストを150℃で10秒放置した。放置後の異方性導電ペーストを観察して、バインダー樹脂中での導電性粒子の分散性を下記の基準で判定した。 The anisotropic conductive paste immediately after production was left at 150 ° C. for 10 seconds. The anisotropic conductive paste after standing was observed, and the dispersibility of the conductive particles in the binder resin was determined according to the following criteria.
[バインダー樹脂中での導電性粒子の分散性の判定基準]
○○:粒子1000個中の5個以上凝集物がない
○:粒子1000個中の5個以上凝集物が1〜5個
△:粒子1000個中の5個以上凝集物が6〜10個
×:粒子1000個中の5個以上凝集物が11個以上
[Criteria for dispersibility of conductive particles in binder resin]
◯: There is no aggregate of 5 or more in 1000 particles ○: 1 to 5 aggregates of 5 or more in 1000 particles Δ: 6 to 10 aggregates of 5 or more in 1000 particles × : 11 or more aggregates of 5 or more of 1000 particles
(3)導通評価(上下の電極間)
得られた導電性粒子を含有量が10重量%となるように、三井化学社製「ストラクトボンドXN−5A」)に添加し、分散させて、異方性導電ペーストを作製した。
(3) Conductivity evaluation (between upper and lower electrodes)
The obtained conductive particles were added to “Strectbond XN-5A” manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd. so as to have a content of 10% by weight, and dispersed to prepare an anisotropic conductive paste.
L/Sが30μm/30μmであるITO電極パターンを上面に有する透明ガラス基板を用意した。また、L/Sが30μm/30μmである銅電極パターンを下面に有する半導体チップを用意した。 A transparent glass substrate having an ITO electrode pattern having an L / S of 30 μm / 30 μm on the upper surface was prepared. Moreover, the semiconductor chip which has a copper electrode pattern whose L / S is 30 micrometers / 30 micrometers on the lower surface was prepared.
上記透明ガラス基板上に、作製直後の異方性導電ペーストを厚さ30μmとなるように塗工し、異方性導電ペースト層を形成した。次に、異方性導電ペースト層上に上記半導体チップを、電極同士が対向するように積層した。その後、異方性導電ペースト層の温度が185℃となるようにヘッドの温度を調整しながら、半導体チップの上面に加圧加熱ヘッドを載せ、1MPaの圧力をかけて異方性導電ペースト層を185℃で硬化させて、接続構造体を得た。 On the said transparent glass substrate, the anisotropic conductive paste immediately after preparation was applied so that it might become thickness of 30 micrometers, and the anisotropic conductive paste layer was formed. Next, the semiconductor chip was stacked on the anisotropic conductive paste layer so that the electrodes face each other. Then, while adjusting the temperature of the head so that the temperature of the anisotropic conductive paste layer becomes 185 ° C., a pressure heating head is placed on the upper surface of the semiconductor chip and a pressure of 1 MPa is applied to form the anisotropic conductive paste layer. It hardened | cured at 185 degreeC and the connection structure was obtained.
得られた接続構造体の上下の電極間の接続抵抗を、4端子法により測定した。2つの接続抵抗の平均値を算出した。なお、電圧=電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。導通評価を下記の基準で判定した。 The connection resistance between the upper and lower electrodes of the obtained connection structure was measured by a four-terminal method. The average value of the two connection resistances was calculated. Note that the connection resistance can be obtained by measuring the voltage when a constant current is passed from the relationship of voltage = current × resistance. The continuity evaluation was determined according to the following criteria.
[導通評価の判定基準]
○:接続抵抗の平均値が2Ω以下である
×:接続抵抗の平均値が2Ωを超える
[Judgment criteria for continuity evaluation]
○: The average value of connection resistance is 2Ω or less ×: The average value of connection resistance exceeds 2Ω
(4)絶縁評価(横方向に隣り合う電極間)
上記導通評価で作製した接続構造体において、隣接する電極間のリークの有無を、テスターで抵抗を測定することにより評価した。絶縁評価を下記の基準で判定した。
(4) Insulation evaluation (between adjacent electrodes in the horizontal direction)
In the connection structure produced by the above continuity evaluation, the presence or absence of leakage between adjacent electrodes was evaluated by measuring the resistance with a tester. Insulation evaluation was determined according to the following criteria.
[絶縁評価の判定基準]
○:抵抗が500MΩを超える(リーク無し)
△:抵抗が500MΩ以下(リーク有り)
[Criteria for insulation evaluation]
○: Resistance exceeds 500 MΩ (no leakage)
Δ: Resistance is 500 MΩ or less (leak)
(5)防錆評価
上記絶縁評価で作製した接続構造体を、85℃及び相対湿度85%の条件で放置した。放置開始から100時間後に、上記導通評価と同様に電極間の接続抵抗を4端子法により測定した。上記の導通評価と同様にして接続抵抗を測定した。防錆評価を下記の基準で判定した。
(5) Rust prevention evaluation The connection structure produced by the above-mentioned insulation evaluation was left under conditions of 85 ° C. and relative humidity 85%. After 100 hours from the start of standing, the connection resistance between the electrodes was measured by the four-terminal method in the same manner as in the above continuity evaluation. The connection resistance was measured in the same manner as in the above continuity evaluation. Rust prevention evaluation was determined according to the following criteria.
[防錆評価の判定基準]
○:接続抵抗(放置前)の平均値に比べ、接続抵抗(放置後)の平均値が150%未満
×:接続抵抗(放置前)の平均値に比べ、続抵抗(放置後)の平均値が150%以上上昇
[Criteria for rust prevention evaluation]
○: Compared to the average value of connection resistance (before leaving), the average value of connection resistance (after leaving) is less than 150% ×: Average value of secondary resistance (after leaving) compared to the average value of connection resistance (before leaving) Increased by more than 150%
結果を下記の表1に示す。 The results are shown in Table 1 below.
1…導電性粒子
1a…突起
2…基材粒子
3…導電層(導電部)
3a…突起
4…被膜
5…絶縁物質
6…芯物質
11…導電性粒子
11a…突起
12…導電層(導電部)
12a…突起
13…被膜
21…導電性粒子
22…導電層(導電部)
23…被膜
31…導電性粒子
32…被膜
51…接続構造体
52…第1の接続対象部材
52a…表面
52b…電極
53…第2の接続対象部材
53a…表面
53b…電極
54…接続部
DESCRIPTION OF
3a ... projection 4 ... coating 5 ... insulating material 6 ... core material 11 ... conductive particles 11a ...
12a ...
DESCRIPTION OF
Claims (11)
少なくとも表面が導電部である粒子と、
前記導電部の外表面上に配置されており、かつ非極性基と極性基とを有する被膜とを備え、
前記少なくとも表面が導電部である粒子が、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電部とを有する粒子であり、
前記基材粒子が、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子、又は有機無機ハイブリッド粒子であり、
前記被膜が、非極性基を有する化合物と極性基を有する化合物とにより形成されている、導電性粒子。 Conductive particles used dispersed in a binder resin,
Particles whose surface is at least a conductive part;
A coating that is disposed on the outer surface of the conductive part and has a nonpolar group and a polar group ;
The particles having at least a conductive part on the surface are base particles and particles having conductive parts arranged on the surface of the base particles,
The substrate particles are resin particles, inorganic particles excluding metal particles, or organic-inorganic hybrid particles,
The electroconductive particle in which the said film is formed with the compound which has a nonpolar group, and the compound which has a polar group .
前記接続部が、請求項1〜9のいずれか1項に記載の導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている、接続構造体。 A first connection target member, a second connection target member, and a connection portion connecting the first and second connection target members;
The connecting portion is formed of a conductive material containing conductive particles and a binder resin according to any one of claims 1 to 9 connected structure.
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