JP6117828B2 - 無機偏光板 - Google Patents
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Description
この偏光子では、修正リブと、リブとの毛細作用の大きさに違いを設けることにより、リブへの液状汚れの侵入を防止しようとしている。
しかし、この提案の技術では、リブと修正リブとを作製する必要があるため、製造工程が煩雑となることに加え、修正リブにも毛細作用があるため、修正リブを介したリブへの液状汚れの侵入を完全には防ぐことができないという問題がある。
<1> 使用帯域の光に対して透明な基板と、第1誘電体層と、複数の線状金属層と、複数の線状第2誘電体層と、複数の線状光吸収層とをこの順で有する無機偏光板であって、
前記複数の線状金属層が、前記光の波長より短い間隔で前記第1誘電体層上に離間して配列され、
前記複数の線状第2誘電体層における各々の線状第2誘電体層が、前記複数の線状金属層の各々の線状金属層上に配され、
前記複数の線状光吸収層における各々の線状光吸収層が、前記複数の線状第2誘電体層の前記各々の線状第2誘電体層上に配され、
前記線状金属層の長手方向の端部が存在する前記無機偏光板の端部に、前記線状金属層、前記線状第2誘電体層、及び前記線状光吸収層の長手方向の端部を覆う撥水層を有することを特徴とする無機偏光板である。
<2> 複数の線状金属層間に面する、線状金属層の側面上、及び第1誘電体層の表面上に、第3誘電体層を有する前記<1>に記載の無機偏光板である。
<3> 線状金属層の材質が、Al、Ag、Cu、Mo、Cr、Ti、Ni、W、Fe、Si、Ge、Te、及びこれらのうちの2以上からなる合金のいずれかである前記<1>から<2>のいずれかに記載の無機偏光板である。
<4> 第1誘電体層、及び線状第2誘電体層の材質が、SiO2、及びAl2O3のいずれかである前記<1>から<3>のいずれかに記載の無機偏光板である。
<5> 線状光吸収層の材質が、Ta、Al、Ag、Cu、Mo、Cr、Ti、W、Ni、Fe、Sn、Si、及びこれらのうちの2以上の合金のいずれかである前記<1>から<4>のいずれかに記載の無機偏光板である。
<6> 撥水層の水接触角が、90°以上である前記<1>から<5>のいずれかに記載の無機偏光板である。
<7> 撥水層の材質が、有機ポリシラザンである前記<1>から<6>のいずれかに記載の無機偏光板である。
<8> 基板の材質が、ガラス、水晶、及びサファイアのいずれかである前記<1>から<7>のいずれかに記載の無機偏光板である。
本発明の無機偏光板は、基板と、第1誘電体層と、複数の線状金属層と、複数の線状第2誘電体層と、複数の線状光吸収層とをこの順で少なくとも有する。
前記無機偏光板は、前記線状金属層の長手方向の端部が存在する前記無機偏光板の端部に、撥水層を有する。
前記撥水層は、前記線状金属層、前記線状第2誘電体層、及び前記線状光吸収層の長手方向の端部を覆う。
前記無機偏光板は、いわゆるワイヤーグリッド偏光板である。
前記基板としては、使用帯域の光に対して透明であれば、その材質、形状、大きさ、構造は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
また、前記基板の材質としては、屈折率が、1.1〜2.2の材料が好ましい。
前記第1誘電体層は、前記基板上に形成されている。
前記第1誘電体層の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、SiO2、Al2O3、MgF2などが挙げられる。これらの中でも、SiO2、Al2O3が好ましい。
前記複数の線状金属層は、前記無機偏光板において、前記光の波長より短い間隔で前記第1誘電体層上に離間して配列されている。
また、前記線状金属層の平均厚みとしては、前記線状金属層の平均厚み、前記第2誘電体層の平均厚み、及び前記線状光吸収層の平均厚みの合計の50%以上であることが好ましい。
ここで、本明細書において、線状金属層の平均厚みとは、前記線状金属層の長手方向に直交する断面における金属層の高さの算術平均値であり、例えば、走査型電子顕微鏡観察、透過型電子顕微鏡観察により求めることができる。例えば、任意の10箇所の前記高さを測定して、その算術平均値から、平均厚みを求める。
前記線状金属層の平均幅は、例えば、走査型電子顕微鏡観察、透過型電子顕微鏡観察により求めることができる。例えば、4本の線状金属層について、任意の箇所の幅を測定して、その算術平均値から、平均幅を求める。なお、前記幅は、前記線状金属層の頂部において測定する。
前記平均間隔は、例えば、走査型電子顕微鏡観察、透過型電子顕微鏡観察により求めることができる。例えば、任意の4箇所の線状金属層の間隔(ピッチ)について測定して、その算術平均値から、平均間隔を求める。なお、前記間隔(ピッチ)は、隣接する2つの線状金属層における、一方の線状金属層の頂部における他方の線状金属層側の端部と、他方の線状金属層の頂部における一方の線状金属層側と反対側の端部との距離である。
前記複数の線状第2誘電体層において、各々の線状第2誘電体層は、前記複数の線状金属層の各々の線状金属層上に配されている。
前記平均厚みは、前記線状金属層の平均厚みと同様にして求めることができる。
前記複数の線状光吸収層において、各々の線状光吸収層は、前記複数の線状第2誘電体層の前記各々の線状第2誘電体層上に配されている。
ここで、光吸収作用とは、前記無機偏光板内に形成される格子(グリッド)に平行な電界成分を持つ偏光波(TE波(S波))を減衰させる作用を意味する。なお、前記線状光吸収層は、前記格子に垂直な電界成分を持つ偏光波(TM波(P波))を透過する。
前記線状光吸収層が、金属又は半導体と、金属含有半導体とから形成される2層構造であることにより、反射を抑制し、透過率を向上させることができ、コントラストを増大させることができる。
前記平均厚みは、前記線状金属層の平均厚みと同様にして求めることができる。
前記撥水層は、前記線状金属層の長手方向の端部が存在する前記無機偏光板の端部に、形成される。前記撥水層は、前記線状金属層、前記線状第2誘電体層、及び前記線状光吸収層の長手方向の端部を覆う。
前記無機偏光板において、撥水層は、前記線状金属層の長手方向の端部が存在する前記無機偏光板の端部に加え、それ以外の箇所に形成されていてもよい。
また、前記無機偏光板は、前記撥水層により、液状汚れが線状金属層間(ワイヤーグリッドのグリッド間)に侵入し、更に毛管現象によりワイヤーグリッド内に拡散することを防止できるため、特開2013−218294号公報に記載の発明のように、修正リブと、リブとを作製する必要がない。そのため、前記無機偏光板は、製造工程が煩雑になることもない。
前記その他の部材としては、例えば、第3誘電体層などが挙げられる。
前記第3誘電体層は、2つの線状金属層間に面する前記線状金属層の側面上に配されている。
前記第3誘電体層は、2つの線状金属層間に面する前記第1誘電体層の表面上に配されている。
前記無機偏光板が第3誘電体層を有することにより、耐熱性、耐湿性等の耐久性が向上できる。
図2は、本発明の無機偏光板の他の一例の概略側面図である。
図3は、本発明の無機偏光板の他の一例の概略側面図である。
図4は、本発明の無機偏光板の他の一例の概略側面図である。
複数の線状金属層3は、光の波長より短い間隔で第1誘電体層2上に離間して配列されている。
複数の線状第2誘電体層4における各々の線状第2誘電体層4は、複数の線状金属層3の各々の線状金属層3上に配されている。
複数の線状光吸収層5における各々の線状光吸収層5は、複数の線状第2誘電体層4の各々の線状第2誘電体層4上に配されている。
この無機偏光板は、線状金属層3の長手方向の端部が存在する前記無機偏光板の端部に、線状金属層3、線状第2誘電体層4、及び線状光吸収層5の長手方向の端部を覆う撥水層6を有する。
図6は、本発明の無機偏光板の他の一例の概略上面図である。
図7は、本発明の無機偏光板の他の一例の概略上面図である。
図8は、本発明の無機偏光板の他の一例の概略上面図である。
次に、本発明の無機偏光板の製造方法の一例を、図9及び図10A〜図10Iに沿って説明する。
図9は、本発明の無機偏光板の製造方法の一例のフローチャートである。
図10A〜図10Iは、本発明の無機偏光板の製造方法の一例を説明するための概略図である。
まず、基板1を用意する(図10A)。
続いて、基板1上に、第1誘電体層2を形成する(図10B)。第1誘電体層2は、例えば、蒸着法、スパッタ法などにより形成できる。
続いて、第1誘電体層2上に、金属層3’を形成する(図10C)。金属層3’は、例えば、蒸着法、スパッタ法などにより形成できる。
続いて、金属層3’上に、第2誘電体層4’を形成する(図10D)。第2誘電体層4’は、例えば、蒸着法、スパッタ法などにより形成できる。
続いて、第2誘電体層4’上に、光吸収層5’を形成する(図10E)。光吸収層5’は、例えば、蒸着法、スパッタ法などにより形成できる。
続いて、光吸収層5’上に、レジスト層11’を形成する(図10F)。レジスト層11’の材質としては、後述するエッチングに耐性を有するレジストパターンが形成可能な材質であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。レジスト層11’の形成方法としては、例えば、塗布法などが挙げられる。
続いて、レジスト層11’に対して、露光及び現像を行い、レジストパターン11を形成する(図10G)。
続いて、レジストパターン11をマスクとしてエッチングを行い、線状金属層3、線状第2誘電体層4、線状光吸収層5を形成する(図10H)。
続いて、任意に、スクライブ装置により、所望の大きさに切断する。
続いて、線状金属層3の長手方向の端部が存在する無機偏光板の端部に、線状金属層3、線状第2誘電体層4、及び線状光吸収層5の長手方向の端部を覆う撥水層6を形成する(図10I)。撥水層6の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
以上により、無機偏光板が作製される。
図11は、本発明の無機偏光板の製造方法の他の一例のフローチャートである。
図12A〜図12Bは、本発明の無機偏光板の製造方法の他の一例を説明するための概略図である。
レジストパターン11をマスクとしてエッチングを行い、線状金属層3、線状第2誘電体層4、線状光吸収層5を形成するところまでは、図9及び図10A〜図10Hと同じである。
続いて、任意に、スクライブ装置により、所望の大きさに切断する。
続いて、露出する第1誘電体層2上、線状金属層3側面上、線状第2誘電体層4側面上、並びに線状光吸収層5側面及び上面上に、第3誘電体層7を形成する(図12A)。そうすることにより、複数の線状金属層3間に面する、線状金属層3の側面上、及び第1誘電体層2の表面上に、第3誘電体層7が形成される。
続いて、線状金属層3の長手方向の端部が存在する無機偏光板の端部に、線状金属層3、線状第2誘電体層4、及び線状光吸収層5の長手方向の端部を覆う撥水層6を形成する(図12B)。
以上により、無機偏光板が作製される。
図13は、本発明の無機偏光板の製造方法の他の一例のフローチャートである。
図14A〜図14Dは、本発明の無機偏光板の製造方法の一例を説明するための概略図である。
まず、用意した基板1上に、第1誘電体層2、金属層、及びレジスト層をこの順で形成した後に、露光及び現像を行いレジストパターンを形成し、更に続いて、レジストパターンをマスクとしてエッチングを行い、金属層を、所望の線状金属層3に加工する(図14A)。
続いて、任意に、スクライブ装置により、所望の大きさに切断する。
続いて、露出する第1誘電体層2上、並びに線状金属層3側面及び上面上に、誘電体層を形成する(図14B)。そうすることにより、複数の線状金属層3間に面する、線状金属層3の側面上、及び第1誘電体層2の表面上に、第3誘電体層7が形成される。なお、ここで、図14Bにおいては、形成された誘電体層のうち、複数の線状金属層3間に面する、線状金属層3の側面上、及び第1誘電体層2の表面上の誘電体層を第3誘電体層7と称し、線状金属層3上面上の誘電体層を線状第2誘電体層4と称する。
続いて、線状第2誘電体層4上に、線状光吸収層5を形成する(図14C)。
続いて、線状金属層3の長手方向の端部が存在する無機偏光板の端部に、線状金属層3、線状第2誘電体層4、及び線状光吸収層5の長手方向の端部を覆う撥水層6を形成する(図14D)。
以上により、無機偏光板が作製される。
続いて、撥水層について更に詳述する。
図15A及び図15Bは、本発明の無機偏光板のグリッド構造を前提に、水を媒質として、毛管現象によって発生する液面上昇高さを、接触角に応じてシミュレーションした結果である。
ここで、図15A及び図15Bにおける液面上昇高さH(m)は、下記式により求めることができる。
また、図15A及び図15B中、「全封止」、「50%封止」、「25%封止」とは、以下のとおりである。
全封止:空隙部に侵入した媒質が、グリッド高さの最大まで満たしている状態
50%封止:空隙部に侵入した媒質が、グリッド高さの50%まで満たしいている状態
25%封止:空隙部に侵入した媒質が、グリッド高さの25%まで満たしいている状態
撥水層は、図1及び図3に示すように、線状金属層3の長手方向の端部が存在する前記無機偏光板の端部である前記無機偏光板の辺の両端に位置する線状金属層3、線状第2誘電体層4、及び線状光吸収層5の長手方向の端部を覆う必要はない。しかし、覆われていない箇所は、前記無機偏光板の前記辺において、前記両端から0.5mm未満が好ましい。
図17は、実際に経時変化を観察したものである。水接触角が20°〜30°の無機偏光板は、皮脂汚れの付着直後から毛管現象の発生が確認され、時間経過と共に進行が見られるのに対して、水接触角が90°以上の撥水層を有する本発明の無機偏光板は、21時間経過しても毛管現象の発生はなかった。
100時間毎における、無機偏光板の中心部における水接触角は、積算照射時間と共に低下している。しかし、光路から外れた無機偏光板の端部では、その接触角が135°以上を保っている。そのため、毛管現象に対して有効な水接触角を維持できる。その効果を毛管現象TESTで確認した結果、図19に示すように、積算500時間においても、毛管現象の進行は発生しなかった。
2 第1誘電体層
3 線状金属層
3’ 金属層
4 線状第2誘電体層
4’ 第2誘電体層
5 線状光吸収層
5’ 光吸収層
6 撥水層
6 第1のマスク層
7 第3誘電体層
11’ レジスト層
11 レジストパターン
Claims (8)
- 使用帯域の光に対して透明な基板と、第1誘電体層と、複数の線状金属層と、複数の線状第2誘電体層と、複数の線状光吸収層とをこの順で有する無機偏光板であって、
前記複数の線状金属層が、前記光の波長より短い間隔で前記第1誘電体層上に離間して配列され、
前記複数の線状第2誘電体層における各々の線状第2誘電体層が、前記複数の線状金属層の各々の線状金属層上に配され、
前記複数の線状光吸収層における各々の線状光吸収層が、前記複数の線状第2誘電体層の前記各々の線状第2誘電体層上に配され、
前記線状金属層の長手方向の端部が存在する前記無機偏光板の端部に、前記線状金属層、前記線状第2誘電体層、及び前記線状光吸収層の長手方向の端部を覆う撥水層を有することを特徴とする無機偏光板。 - 複数の線状金属層間に面する、線状金属層の側面上、及び第1誘電体層の表面上に、第3誘電体層を有する請求項1に記載の無機偏光板。
- 線状金属層の材質が、Al、Ag、Cu、Mo、Cr、Ti、Ni、W、Fe、Si、Ge、Te、及びこれらのうちの2以上からなる合金のいずれかである請求項1から2のいずれかに記載の無機偏光板。
- 第1誘電体層、及び線状第2誘電体層の材質が、SiO2、及びAl2O3のいずれかである請求項1から3のいずれかに記載の無機偏光板。
- 線状光吸収層の材質が、Ta、Al、Ag、Cu、Mo、Cr、Ti、W、Ni、Fe、Sn、Si、及びこれらのうちの2以上の合金のいずれかである請求項1から4のいずれかに記載の無機偏光板。
- 撥水層の水接触角が、90°以上である請求項1から5のいずれかに記載の無機偏光板。
- 撥水層の材質が、有機ポリシラザンである請求項1から6のいずれかに記載の無機偏光板。
- 基板の材質が、ガラス、水晶、及びサファイアのいずれかである請求項1から7のいずれかに記載の無機偏光板。
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