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JP6130712B2 - Gas purification device - Google Patents
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JP6130712B2 - Gas purification device - Google Patents

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Description

本発明は、例えば有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディスプレイ等の製造工程に使用して好適なガス浄化装置に関するものである。   The present invention relates to a gas purification apparatus suitable for use in, for example, a manufacturing process of an organic EL (electroluminescence) display or the like.

有機EL素子は、二つの電極間にある有機材料を電圧により誘起し、再び元に戻る時に光を放出する現象を利用した自然発光型素子である。そして、RGB各発光層の有機EL素子をマトリクス状に複数配置して有機ELディスプレイを構成する。
この有機ELディスプレイには、低消費電力で発熱が少なく、薄型軽量という特性がある。更に、有機ELディスプレイの画質は、良好な色再現性、高コントラスト、動画応答性とピーク精度の高さ、視野角依存性がない等の優れた特性を持つ。
An organic EL element is a spontaneous light emitting element that utilizes a phenomenon in which an organic material between two electrodes is induced by a voltage and light is emitted when it returns to its original state. Then, a plurality of organic EL elements for each light emitting layer of RGB are arranged in a matrix to constitute an organic EL display.
This organic EL display has the characteristics of low power consumption, little heat generation, thin and light weight. Furthermore, the image quality of the organic EL display has excellent characteristics such as good color reproducibility, high contrast, high video response and high peak accuracy, and no viewing angle dependency.

有機ELディスプレイの有機材料は、水や酸素に触れると劣化しやすいという特性がある。そこで、有機ELディスプレイの製造に当たっては、真空下、または窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で、RGB各発光層等の金属電極材料を真空蒸着によって基板に成膜し、また、大気に触れない状態でガラスの接着や封止を行っている。   The organic material of the organic EL display has a characteristic that it easily deteriorates when exposed to water or oxygen. Therefore, in the production of an organic EL display, metal electrode materials such as RGB light emitting layers are formed on a substrate by vacuum deposition under vacuum or in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas, The glass is bonded and sealed without touching.

さて、有機ELディスプレイを不活性ガス雰囲気下で製造する場合、長尺の製造ライン全体をカバーにより覆い、このカバーの内部に不活性ガスを充填することがある。しかしながら、製造途中で発生する塵埃や微小片(以下、単に異物という)によって不活性ガスが汚染されることがあり、通常はガス浄化装置により前記カバー内の不活性ガスをクリーニングし、異物を除去するようにしている。   When manufacturing an organic EL display under an inert gas atmosphere, the entire long production line may be covered with a cover, and the inside of the cover may be filled with an inert gas. However, the inert gas may be contaminated by dust or minute pieces (hereinafter simply referred to as foreign matter) generated during the manufacturing process. Normally, the gas purifier cleans the inert gas in the cover and removes the foreign matter. Like to do.

ここで、有機ELディスプレイの製造に関する従来技術として、例えば、特許文献1,2に記載された装置が知られている。
特許文献1,2に記載された装置では、何れも密閉された容器に電動送風機を収納している。そして、特許文献1では、冷却板にガスを接触させて熱交換を行い、この冷却板に接する水冷パイプにより排熱を行う構造を採用している。また、特許文献2では、電動送風機が作り出す風によって送風機のモータを冷却することにより、自己冷却を行っている。
Here, as a conventional technique related to the manufacture of an organic EL display, for example, devices described in Patent Documents 1 and 2 are known.
In the apparatuses described in Patent Documents 1 and 2, the electric blower is housed in a sealed container. Patent Document 1 employs a structure in which gas is brought into contact with a cooling plate to exchange heat, and heat is exhausted by a water-cooled pipe in contact with the cooling plate. Moreover, in patent document 2, self-cooling is performed by cooling the motor of an air blower with the wind which an electric air blower produces.

特開2007-198364号公報(図1〜図3等)JP 2007-198364 A (FIGS. 1-3, etc.) 特開2008-128224号公報(図1〜図4等)JP 2008-128224 A (FIGS. 1-4, etc.)

特許文献1の図1,図2に記載された装置では小型の冷却機構で熱交換するため不活性ガスとの接触面積が少なく、冷却効果が弱いという問題があった。
また、特許文献2の図1,図2,図4に記載された装置では、冷却ファンが不活性ガスを送風してモータを冷却しているため、冷却ファン機構から発する異物が不活性ガスに混入する恐れがあった。さらに冷却ファン機構を気密構造にしないと異物に加えて周囲から大気が混入する恐れがあり、大気が混入すると有機材料が水や酸素に触れて劣化し、発光できないダークスポットと呼ばれる不良部位が発生して製品の歩留まりが悪くなる等の問題があった。
The apparatus described in FIGS. 1 and 2 of Patent Document 1 has a problem that since the heat exchange is performed by a small cooling mechanism, the contact area with the inert gas is small and the cooling effect is weak.
Moreover, in the apparatus described in FIG. 1, FIG. 2, and FIG. 4 of Patent Document 2, since the cooling fan blows an inert gas to cool the motor, the foreign matter emitted from the cooling fan mechanism becomes the inert gas. There was a risk of mixing. In addition, if the cooling fan mechanism is not airtight, air may enter from the surroundings in addition to foreign substances. If air enters, the organic material will deteriorate due to contact with water or oxygen, resulting in a defective area called a dark spot that cannot emit light. As a result, there was a problem that the yield of the product deteriorated.

そこで、本発明の解決課題は、異物の混入や大気の侵入を防止しつつガスを浄化すると共に、ブロワ内のモータを効率よく冷却可能としたガス浄化装置を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a gas purification device that purifies gas while preventing the entry of foreign substances and the intrusion of the atmosphere, and that can efficiently cool the motor in the blower.

上記課題を解決するため、請求項1に係るガス浄化装置は、外部から区画された内部空間を有する密閉ケースと、
フィルタにより浄化されたガスを前記内部空間に導入するガス導入部と、
前記密閉ケースに収納され前記内部空間から吸気したガスを送気するブロワと、
前記ブロワの周囲を覆うように配置され、かつ、前記ガス導入部から前記内部空間に導入されたガスを冷却する冷却手段と、
前記ブロワが送気するガスを外部へ導出するガス導出部と、
を有する密閉送風源を備えたガス浄化装置であって、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部が、外部から供給されたガスが流入するガス流入口と、このガス流入口と前記ブロワとの間に配置されて前記内部空間へガスを放出する通孔付きの開放放出部と、を備え、前記ガス導出部が、前記ブロワにより送気されるガスが通過する送気部と、この送気部を通過したガスを外部に排出するためのガス流出口と、を有することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problem, a gas purification apparatus according to claim 1 includes a sealed case having an internal space partitioned from the outside,
A gas introduction part for introducing gas purified by a filter into the internal space;
A blower for air supply of gas that is sucked from the inner space is accommodated in the sealed casing,
A cooling means arranged to cover the periphery of the blower and cooling the gas introduced into the internal space from the gas introduction part ;
A gas outlet portion of the blower is led out to the outside Ruga scan to air,
A gas purification device having a sealed air source having
The sealed air source is
A gas inlet through which the gas supplied from the outside flows, and an open discharge portion with a through hole that is disposed between the gas inlet and the blower and discharges the gas to the internal space; The gas outlet section has an air supply section through which the gas supplied by the blower passes, and a gas outlet for discharging the gas that has passed through the air supply section to the outside. Features.

請求項2に係るガス浄化装置は、外部から区画された内部空間を有する密閉ケースと、
フィルタにより浄化されたガスを前記内部空間に導入するガス導入部と、
前記密閉ケースに収納され前記内部空間から吸気したガスを送気するブロワと、
前記ブロワの周囲を覆うように配置され、かつ、前記ガス導入部から前記内部空間に導入されたガスを冷却する冷却手段と、
前記ブロワが送気するガスを外部へ導出するガス導出部と、
を有する密閉送風源を備えたガス浄化装置であって、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部が、外部から供給されたガスが流入するガス流入口と、このガス流入口と前記ブロワとの間に配置されて前記内部空間へガスを放出するパイプと、を備え、前記ガス導出部が、前記ブロワにより送気されるガスが通過する送気部と、この送気部を通過したガスを外部に排出するためのガス流出口と、を有することを特徴とする。
A gas purification device according to claim 2 includes a sealed case having an internal space partitioned from the outside,
A gas introduction part for introducing gas purified by a filter into the internal space;
A blower that is housed in the hermetically sealed case and feeds inhaled gas from the internal space;
A cooling means arranged to cover the periphery of the blower and cooling the gas introduced into the internal space from the gas introduction part;
A gas deriving unit for deriving the gas supplied by the blower to the outside;
A gas purification device having a sealed air source having
The sealed air source is
It said gas introduction portion is provided with a gas inlet for gas supplied from the outside flows, and a pipe for discharging gas into the internal space is disposed between the gas inlet and the blower, before Symbol The gas outlet section includes an air supply section through which the gas supplied by the blower passes, and a gas outlet for discharging the gas that has passed through the air supply section to the outside.

請求項3に係るガス浄化装置は、請求項1または請求項2に記載したガス浄化装置において、
前記密閉送風源は、前記ガス導入部のガス流入口と、前記ガス導出部のガス流出口と、の周囲を冷却する第二冷却手段をさらに備えることを特徴とする。
A gas purification device according to claim 3 is the gas purification device according to claim 1 or 2 ,
The sealing blowing source is a gas inlet of the gas inlet, a gas outlet of the gas outlet portion, characterized further comprising a Rukoto a second cooling means for cooling the surrounding.

請求項4に係るガス浄化装置は、外部から供給されたガスが通過するプレフィルタと、このプレフィルタを通ったガスが供給される請求項1〜3の何れかに記載した密閉送風源と、この密閉送風源から排出されるガスを冷却する熱交換器と、この熱交換器により冷却されたガスが通過するHEPAフィルタと、を備えたことを特徴とする。 The gas purification apparatus according to claim 4 is a prefilter through which gas supplied from the outside passes, and a sealed air source according to any one of claims 1 to 3, to which gas that has passed through the prefilter is supplied. The heat exchanger which cools the gas discharged | emitted from this airtight ventilation source, and the HEPA filter through which the gas cooled by this heat exchanger passes are provided .

請求項5に係るガス浄化装置は、請求項4に記載したガス浄化装置において、前記プレフィルタ、前記密閉送風源、前記熱交換器及び前記HEPAフィルタを、単一のケーシングに収納したことを特徴とする。 The gas purification device according to claim 5 is the gas purification device according to claim 4, wherein the prefilter, the sealed air source, the heat exchanger, and the HEPA filter are housed in a single casing. And

請求項6に係るガス浄化装置は、外部から供給されたガスが通過するプレフィルタと、このプレフィルタを通ったガスが供給される請求項1〜3の何れかに記載した密閉送風源と、この密閉送風源から排出されるガスが通過するHEPAフィルタと、を備えたことを特徴とする。 The gas purification apparatus according to claim 6 is a prefilter through which gas supplied from the outside passes, and a sealed air source according to any one of claims 1 to 3, to which gas that has passed through the prefilter is supplied. And a HEPA filter through which the gas discharged from the sealed air source passes .

請求項7に係るガス浄化装置は、請求項6に記載したガス浄化装置において、前記プレフィルタ、前記密閉送風源及び前記HEPAフィルタを、単一のケーシングに収納したことを特徴とする。 A gas purification device according to a seventh aspect is the gas purification device according to the sixth aspect, wherein the prefilter, the hermetic air source, and the HEPA filter are housed in a single casing .

請求項8に係るガス浄化装置は、請求項に記載したガス浄化装置において、前記プレフィルタ及び前記HEPAフィルタが収納されたフィルタユニットと前記密閉送風源とを、ガス流路を介して連結・分離可能に形成したことを特徴とする。 A gas purification device according to an eighth aspect is the gas purification device according to the sixth aspect , wherein the filter unit in which the pre-filter and the HEPA filter are accommodated and the hermetic air source are connected via a gas flow path. It is formed to be separable .

本発明によれば、回収したガスに異物が混入したり大気が侵入することもなく、ガスを冷却しながら浄化して再び外部に供給するガス浄化装置を提供することができる。また、密閉ケースの内部空間で冷却されたガスを用いてブロワ内のモータを冷却するようにガス流路を構成することにより、ブロワ内のモータを効率よく冷却することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a gas purification apparatus that purifies a gas while cooling it and supplies it to the outside again without mixing foreign substances into the collected gas or entering the atmosphere. Further, by configuring the gas flow path so as to cool the motor in the blower using the gas cooled in the internal space of the sealed case, the motor in the blower can be efficiently cooled.

本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の内部を側面から視た内部構成図である。It is the internal block diagram which looked at the inside of the sealed ventilation source used for the gas purification apparatus of this invention from the side surface. 本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の内部を正面から視た内部構成図である。It is the internal block diagram which looked at the inside of the sealed ventilation source used for the gas purification apparatus of this invention from the front. 本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の内部を背面から視た内部構成図である。It is the internal block diagram which looked at the inside of the sealed air source used for the gas purification apparatus of this invention from the back. 本発明の第1実施例に係るガス浄化装置の構成図である。It is a block diagram of the gas purification apparatus which concerns on 1st Example of this invention. 本発明の第2実施例に係るガス浄化装置の構成図である。It is a block diagram of the gas purification apparatus which concerns on 2nd Example of this invention. 本発明の第3実施例に係るガス浄化装置の構成図である。It is a block diagram of the gas purification apparatus which concerns on 3rd Example of this invention. 本発明の第4実施例に係るガス浄化装置の構成図である。It is a block diagram of the gas purification apparatus which concerns on 4th Example of this invention. 本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the other example of the sealed air source used for the gas purification apparatus of this invention. 本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the other example of the sealed air source used for the gas purification apparatus of this invention. 本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the other example of the sealed air source used for the gas purification apparatus of this invention.

以下、図に沿って本発明の実施形態を説明する。
図1は、本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源100の内部を側面から視た構成図、図2は同じく正面から視た構成図、図3は同じく背面から視た構成図である。図1〜図3において、密閉送風源100は、蓋101aおよび有底筒状の収容体101bを有する密閉ケース101と、この密閉ケース101内に収納されたボルテックスブロワ102と、密閉ケース101の内周面において螺旋状に配置された冷却管103とを備えている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a structural view of the inside of a sealed air source 100 used in the gas purification apparatus of the present invention as viewed from the side, FIG. 2 is a structural view as viewed from the front, and FIG. 3 is a structural view as viewed from the back. is there. 1 to 3, a sealed air source 100 includes a sealed case 101 having a lid 101 a and a bottomed cylindrical container 101 b, a vortex blower 102 housed in the sealed case 101, And a cooling pipe 103 arranged in a spiral shape on the peripheral surface.

また、104は製造ラインからの不活性ガス(例えば窒素(N)ガス)が供給されるガス流入口であり、このガス流入口104から流入した不活性ガスは、開放放出部105を介して内部空間へ供給されるようになっている。これらガス流入口104および開放放出部105はガス導入部の具体例である。なお、図1,図2で示すように、開放放出部105には多数の通孔105aが設けられている。この開放放出部105の通孔105aから不活性ガスが放出される。この不活性ガスは螺旋状の冷却管103に接触して冷却された後、図3で示すようにボルテックスブロワ102の吸気口102aを介してボルテックスブロワ102の内部に流入し、ホースやパイプなどの送気部106を介してガス流出口107に到達するように構成されている。これら送気部106およびガス流出口107はガス導出部の具体例である。 Reference numeral 104 denotes a gas inlet to which an inert gas (for example, nitrogen (N 2 ) gas) from the production line is supplied. The inert gas flowing in from the gas inlet 104 passes through the open discharge part 105. It is designed to be supplied to the internal space. The gas inlet 104 and the open discharge part 105 are specific examples of the gas introduction part. As shown in FIGS. 1 and 2, the open discharge part 105 is provided with a large number of through holes 105 a. The inert gas is released from the through hole 105a of the open discharge part 105. The inert gas contacts the spiral cooling pipe 103 and is cooled, and then flows into the vortex blower 102 through the intake port 102a of the vortex blower 102 as shown in FIG. It is configured to reach the gas outlet 107 through the air supply unit 106. These air supply part 106 and gas outlet 107 are specific examples of the gas outlet part.

冷却管103の両端部は、冷却水供給口103a及び冷却水排出口103bに接続され、図示されていない外部の冷却ポンプから送られる冷却水が冷却管103を通過することにより、密閉ケース101の内部空間に充満しているガスが冷却される。この冷却管103は螺旋状に構成しており、不活性ガスとの接触面積を大幅に増大させている。なお、この密閉送風源100における不活性ガスの冷却を一次冷却という。   Both ends of the cooling pipe 103 are connected to a cooling water supply port 103a and a cooling water discharge port 103b. When cooling water sent from an external cooling pump (not shown) passes through the cooling pipe 103, The gas filling the internal space is cooled. The cooling pipe 103 is formed in a spiral shape and greatly increases the contact area with the inert gas. The cooling of the inert gas in the sealed air source 100 is referred to as primary cooling.

密閉ケース101の底面には、キャスター及びストッパーが取り付けられており、密閉送風源100の移動及び固定を容易にしている。
また、ボルテックスブロワ102の内部に設けられたモータを駆動するためのインバータ等の制御ユニットは、密閉ケース101内に収納しても良いし、密閉ケース101の外部に配置しても良い。
A caster and a stopper are attached to the bottom surface of the sealed case 101 to facilitate movement and fixing of the sealed air source 100.
Further, a control unit such as an inverter for driving a motor provided inside the vortex blower 102 may be housed in the sealed case 101 or may be disposed outside the sealed case 101.

次に、図4は本発明の第1実施例に係るガス浄化装置の構成図である。
図4において、製造プロセスから回収された不活性ガスは、流路501を介してフィルタユニット200内のプレフィルタ201を通り、流路502から前記密閉送風源100のガス流入口104に流入する。
製造プロセスとしては、例えば有機ELディスプレイの製造工程において、基板の表面を不活性ガスにより除塵する除塵装置が考えられ、除塵後の不活性ガスを回収して冷却しながら浄化し、冷却・浄化後のガスを除塵装置に再び供給する。前記プレフィルタ201は、浄化前のガスから大部分の異物を除去して一次浄化を行うために設けられている。
Next, FIG. 4 is a block diagram of the gas purification apparatus according to the first embodiment of the present invention.
In FIG. 4, the inert gas recovered from the manufacturing process passes through the pre-filter 201 in the filter unit 200 via the flow path 501 and flows from the flow path 502 into the gas inlet 104 of the sealed air source 100.
As a manufacturing process, for example, in the manufacturing process of an organic EL display, a dust removal device that removes the surface of the substrate with an inert gas can be considered. After the dust is removed, the inert gas is collected and purified while cooling, and after cooling and purification. Gas is again supplied to the dust remover. The pre-filter 201 is provided for primary purification by removing most foreign substances from the gas before purification.

密閉送風源100における動作は前述したとおりであり、一次浄化された不活性ガスはガス流入口104から開放放出部105の通孔105aを介して密閉ケース101内の内部空間へ放出される。この内部空間に放出された不活性ガスは冷却管103により一次冷却され、ボルテックスブロワ102の吸気口102aを経てボルテックスブロワ102の内部に流入し、送気部106を介してガス流出口107から外部に排出される。ガス流出口107から排出された不活性ガスは、図4の流路503を介して熱交換器300に供給される。
上記のように、一次冷却された不活性ガスをボルテックスブロワ102の内部に流入させて送気部106から排出することにより、ボルテックスブロワ102の内部のモータを効率よく冷却することができる。
The operation of the sealed air source 100 is as described above, and the primarily purified inert gas is discharged from the gas inlet 104 to the internal space in the sealed case 101 through the through hole 105a of the open discharge portion 105. The inert gas released into the internal space is primarily cooled by the cooling pipe 103, flows into the vortex blower 102 through the intake port 102 a of the vortex blower 102, and flows from the gas outlet 107 through the air supply unit 106 to the outside. To be discharged. The inert gas discharged from the gas outlet 107 is supplied to the heat exchanger 300 via the flow path 503 in FIG.
As described above, the inertly cooled inert gas flows into the vortex blower 102 and is discharged from the air supply unit 106, whereby the motor inside the vortex blower 102 can be efficiently cooled.

熱交換器300は、密閉送風源100から送られた不活性ガスを適宜、温度調節しながら二次冷却するためのものであり、二次冷却後のガスの温度が製造プロセスに適した温度となるように、図示されていないコントローラによって冷却水温度や水量等が制御される。
なお、製造プロセスから回収されるガスの温度は、例えば60〜80[℃]に達することも多く、この高温ガスを浄化して再び製造プロセスに戻すと基板や電極材料の劣化等、種々の問題を生じる。このため、熱交換器300によってガスを例えば23[℃]程度の常温まで冷却し、冷却後のガスを製造プロセスに供給することで、製品の劣化や不良の発生を防止し、歩留まりを向上させることができる。
The heat exchanger 300 is for secondary cooling of the inert gas sent from the sealed air source 100 while appropriately adjusting the temperature, and the temperature of the gas after the secondary cooling is a temperature suitable for the manufacturing process. Thus, the cooling water temperature, the amount of water, and the like are controlled by a controller (not shown).
The temperature of the gas recovered from the manufacturing process often reaches, for example, 60 to 80 [° C.]. When this high temperature gas is purified and returned to the manufacturing process, various problems such as deterioration of the substrate and electrode materials are caused. Produce. For this reason, the heat exchanger 300 cools the gas to a room temperature of about 23 [deg.] C., for example, and supplies the cooled gas to the manufacturing process, thereby preventing product deterioration and defects and improving yield. be able to.

図4において、熱交換器300を通った二次冷却後のガスは、流路504を介してフィルタユニット200内のHEPA(High Efficiency Particulate Air)フィルタ202により二次浄化され、流路505を介して製造プロセスに供給される。HEPAフィルタ202は、二次冷却後のガス(一次浄化ガス)から高い粒子捕集率(例えば、定格風量で粒径が0.3[μm]の粒子に対して99.97[%]以上:JIS Z 8122)により微小な異物を除去するものである。
ここで、流路501〜505は、パイプまたはホースにより構成されている。
In FIG. 4, the gas after the secondary cooling that has passed through the heat exchanger 300 is secondarily purified by a HEPA (High Efficiency Particulate Air) filter 202 in the filter unit 200 via the flow path 504, and then via the flow path 505. Supplied to the manufacturing process. The HEPA filter 202 has a high particle collection rate (for example, 99.97 [%] or more with respect to particles having a rated air volume and a particle size of 0.3 [μm]) from the secondary cooled gas (primary purified gas): JIS Z 8122) is used to remove minute foreign matters.
Here, the flow paths 501 to 505 are configured by pipes or hoses.

上記のように、第1実施例のガス浄化装置においては、プレフィルタ201により一次浄化した不活性ガスを密閉送風源100の密閉ケース101内に充満させて一次冷却し、その後に一次冷却ガスを熱交換器300により二次冷却して温度調節を行うと共に、HEPAフィルタ202により高効率の二次浄化を行ってから製造プロセスに供給している。
従って、密閉ケース101内の不活性ガスに対して、更に外部から異物が混入する恐れがなく、仮にボルテックスブロワ102のモータ等から若干の異物が発生したとしても、その異物は後段のHEPAフィルタ202により確実に除去されるので、高純度の浄化ガスが製造プロセスに供給されることになる。
加えて、密閉送風源100による不活性ガスの一次冷却、熱交換器300による温度調節を伴った二次冷却を行うことにより、製造プロセスから回収された不活性ガスが高温である場合でも、これを所定温度に冷却して再び製造プロセスに供給することができ、適切な温度条件のもとで基板の除塵等を行うことが可能である。
As described above, in the gas purification apparatus of the first embodiment, the inert gas primarily purified by the prefilter 201 is filled in the sealed case 101 of the sealed air source 100 for primary cooling, and then the primary cooling gas is supplied. The temperature is adjusted by secondary cooling by the heat exchanger 300, and the highly efficient secondary purification is performed by the HEPA filter 202, and then supplied to the manufacturing process.
Therefore, there is no possibility that foreign matter may further enter the inert gas in the sealed case 101 from the outside, and even if some foreign matter is generated from the motor of the vortex blower 102, the foreign matter is removed from the HEPA filter 202 in the subsequent stage. Therefore, the purified gas with high purity is supplied to the manufacturing process.
In addition, even if the inert gas recovered from the manufacturing process is high-temperature by performing primary cooling of the inert gas by the sealed air source 100 and secondary cooling with temperature adjustment by the heat exchanger 300, Can be cooled to a predetermined temperature and supplied again to the manufacturing process, and the substrate can be dedusted under appropriate temperature conditions.

次に、図5は本発明の第2実施例に係るガス浄化装置の構成図である。
図4に示した第1実施例では、プレフィルタ201及びHEPAフィルタ202を単一のケーシングに収納してフィルタユニット200を形成することを予定しているが、図5に示すように、密閉送風源100、熱交換器300、プレフィルタ201及びHEPAフィルタ202を、単一のケーシング401に収納してもよい。この場合、各機器の配置を工夫し、流路502〜504の長さを最短に設定することにより、全体的に小型のガス浄化装置を実現することができる。
Next, FIG. 5 is a block diagram of the gas purification apparatus according to the second embodiment of the present invention.
In the first embodiment shown in FIG. 4, it is planned that the prefilter 201 and the HEPA filter 202 are housed in a single casing to form the filter unit 200. However, as shown in FIG. The source 100, the heat exchanger 300, the prefilter 201, and the HEPA filter 202 may be housed in a single casing 401. In this case, a small gas purification device can be realized as a whole by devising the arrangement of each device and setting the length of the flow paths 502 to 504 to the shortest.

図6は本発明の第3実施例に係るガス浄化装置の構成図である。
この第3実施例は、図5の第2実施例から熱交換器300を除去したものに相当し、密閉送風源100、プレフィルタ201及びHEPAフィルタ202が単一のケーシング402に収納されている。
製造プロセスから回収されるガスがそれほど高温にならない場合や、密閉送風源100での一次冷却時に温度調節が可能な場合等には、図6のように熱交換器300を除去することにより、第1実施例、第2実施例よりも構成が簡単で一層小型のガス浄化装置を実現することができる。
FIG. 6 is a block diagram of a gas purification apparatus according to the third embodiment of the present invention.
The third embodiment corresponds to the second embodiment of FIG. 5 with the heat exchanger 300 removed, and the sealed air source 100, the prefilter 201, and the HEPA filter 202 are housed in a single casing 402. .
When the gas recovered from the manufacturing process does not become so high, or when the temperature can be adjusted during the primary cooling in the sealed air source 100, the heat exchanger 300 is removed as shown in FIG. A gas purifier having a simpler configuration and a smaller size than those of the first embodiment and the second embodiment can be realized.

図7は本発明の第4実施例に係るガス浄化装置の構成図である。
この第4実施例は、フィルタユニット200と密閉送風源100とを分離し、密閉送風源100の流路502,503の端部に取り付けたジョイント512,513によってフィルタユニット200内のプレフィルタ201及びHEPAフィルタ202に連結するように構成されている。なお、この第4実施例でも、熱交換器300は用いられていない。
FIG. 7 is a block diagram of a gas purification apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.
In the fourth embodiment, the filter unit 200 and the sealed air source 100 are separated, and the pre-filter 201 and the filter unit 200 in the filter unit 200 are connected by joints 512 and 513 attached to the ends of the flow paths 502 and 503 of the sealed air source 100. It is configured to be coupled to the HEPA filter 202. In the fourth embodiment, the heat exchanger 300 is not used.

図6の第3実施例では、ガス浄化装置の全体をケーシング401に収納しているが、設置スペースに余裕がなくケーシング401を設置できないこともある。そのような場合には、第4実施例に示すようにフィルタユニット200と密閉送風源100とを分離し、流路502,503を例えば可撓性のあるホース等により形成すれば、フィルタユニット200と密閉送風源100とを任意の位置関係で設置できるため、狭いスペースを有効的に利用することができる。同時に、フィルタユニット200と密閉送風源100とが分離されていれば、各部の保守点検作業も容易になり、メンテナンス性に優れたガス浄化装置を提供することができる。   In the third embodiment of FIG. 6, the entire gas purification apparatus is housed in the casing 401, but the installation space may not be sufficient and the casing 401 may not be installed. In such a case, as shown in the fourth embodiment, if the filter unit 200 and the sealed air source 100 are separated and the flow paths 502 and 503 are formed by, for example, flexible hoses, the filter unit 200. And the sealed air source 100 can be installed in an arbitrary positional relationship, so that a narrow space can be used effectively. At the same time, if the filter unit 200 and the sealed air source 100 are separated from each other, maintenance and inspection work for each part can be facilitated, and a gas purifying apparatus having excellent maintainability can be provided.

なお、図5の第2実施例、図6の第3実施例におけるケーシング401,402内の各部の相対的な位置関係は特に限定されず、各部を平面的に配置し、または垂直方向に積層して配置する等、ガス浄化装置の設置スペースを考慮しながら任意に設計すれば良い。   In addition, the relative positional relationship of each part in casing 401,402 in 2nd Example of FIG. 5 and 3rd Example of FIG. 6 is not specifically limited, Each part is arrange | positioned planarly or laminated | stacked on the orthogonal | vertical direction. For example, it may be designed arbitrarily considering the installation space of the gas purification device.

次に、図8は、本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。この密閉送風源100Aでは、開放放出部105に代えて通常のパイプ108を配置したものである。このパイプ108は通孔がない管であり、下側の一個の開口のみから不活性ガスが噴射される。これらガス流入口104およびパイプ108はガス導入部の具体例である。   Next, FIG. 8 is a block diagram showing another example of a sealed air source used in the gas purification apparatus of the present invention. In this sealed air source 100A, a normal pipe 108 is arranged instead of the open discharge part 105. This pipe 108 is a pipe without a through hole, and an inert gas is injected from only one opening on the lower side. The gas inlet 104 and the pipe 108 are specific examples of the gas introduction part.

すなわち、外部の流路502(図4〜図7を参照)から供給される不活性ガスはガス流入口104からパイプ108を経て密閉ケース101の内部空間に放出される。この不活性ガスは冷却管103に接触して冷却された後、ボルテックスブロワ102の吸気口102aからボルテックスブロワ102の内部および送気部106を経てガス流出口107から外部の流路503(図4〜図7を参照)に排出される。このような密閉送風源としても良い。
なお、図8の密閉送風源100Aは、図4〜図7に示したガス浄化装置のすべてに適用可能である。
That is, the inert gas supplied from the external flow path 502 (see FIGS. 4 to 7) is discharged from the gas inlet 104 to the internal space of the sealed case 101 through the pipe 108. The inert gas contacts the cooling pipe 103 and is cooled, and then flows from the intake port 102a of the vortex blower 102 to the inside of the vortex blower 102 and the air supply unit 106 and from the gas outlet 107 to the external flow path 503 (FIG. 4). To FIG. 7). Such a sealed air source may be used.
The sealed air source 100A in FIG. 8 is applicable to all the gas purification apparatuses shown in FIGS.

次に、図9は、本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。この密閉送風源100Bでは、ガス流入口104およびガス流出口107の周囲を冷却水が通過するようにして不活性ガスをさらに冷却する構成を採用する。密閉ケース101は、蓋101a、収容体101bに加え、さらに冷却水供給口101c、冷却水排出口101dを備える。蓋101aには冷却水供給口101cおよび冷却水排出口101dを通過する流路が形成されており、冷却水供給口101cからの冷却水はこの流路を通過して冷却水排出口101dから流出される。これらは第二冷却手段として機能する。   Next, FIG. 9 is a block diagram showing another example of a sealed air source used in the gas purification apparatus of the present invention. The hermetic air source 100B employs a configuration in which the inert gas is further cooled so that the cooling water passes around the gas inlet 104 and the gas outlet 107. The sealed case 101 includes a cooling water supply port 101c and a cooling water discharge port 101d in addition to the lid 101a and the container 101b. The lid 101a is formed with a flow path that passes through the cooling water supply port 101c and the cooling water discharge port 101d, and the cooling water from the cooling water supply port 101c flows out of the cooling water discharge port 101d through this flow path. Is done. These function as a second cooling means.

このような密閉送風源100Bでは、蓋101aのガス流入口104で冷却された不活性ガスを密閉ケース101の内部空間内に放出してボルテックスブロワ102へ供給する。これによりボルテックスブロワ102の内部の温度を更に下げる効果が見込める。ボルテックスブロワ102の内部温度を下げることでブロワ内のベアリング寿命延長など各種の利点がある。そして、蓋101aのガス流出口107付近で更に不活性ガスを冷却した上で送気する。これにより不活性ガスの更なる冷却効果も見込める。   In such a sealed air source 100B, the inert gas cooled at the gas inlet 104 of the lid 101a is discharged into the internal space of the sealed case 101 and supplied to the vortex blower 102. Thereby, the effect of further lowering the temperature inside the vortex blower 102 can be expected. By lowering the internal temperature of the vortex blower 102, there are various advantages such as extending the bearing life in the blower. Then, after the inert gas is further cooled in the vicinity of the gas outlet 107 of the lid 101a, the air is supplied. Thereby, further cooling effect of the inert gas can be expected.

次に、図10は、本発明のガス浄化装置に使用される密閉送風源の他の例を示す構成図である。この密閉送風源100Cでは、不活性ガスの流路が図1の例と逆になっている。
すなわち、外部の流路502(図4〜図7を参照)から供給される不活性ガスはガス流入口104Aから送気部106を経てボルテックスブロワ102の内部に供給され、ボルテックスブロワ102の排気口102bから密閉ケース101の内部空間に放出された不活性ガスは冷却管103に接触して冷却された後、開放収集部105Aの通孔105Bを介してガス流出口107Aから外部の流路503(図4〜図7を参照)に排出される。
Next, FIG. 10 is a block diagram showing another example of a sealed air source used in the gas purification apparatus of the present invention. In this sealed air source 100C, the flow path of the inert gas is reversed from the example of FIG.
That is, the inert gas supplied from the external flow path 502 (see FIGS. 4 to 7) is supplied from the gas inlet 104 </ b> A to the inside of the vortex blower 102 through the air supply unit 106, and is exhausted from the vortex blower 102. The inert gas released into the internal space of the sealed case 101 from 102b is cooled by coming into contact with the cooling pipe 103, and then the external flow path 503 (from the gas outlet 107A through the through hole 105B of the open collection unit 105A. 4 to 7).

この密閉送風源100Cは、ボルテックスブロワ102内のモータの冷却機能は図1の密閉送風源100より若干劣っているが、回収したガスを密閉空間内で冷却して再び外部に供給する点では図1の密閉送風源100と同等の機能を持つものである。
なお、図10の密閉送風源100Cは、図4〜図7に示したガス浄化装置のすべてに適用可能である。
The sealed air source 100C is slightly inferior to the sealed air source 100 of FIG. 1 in terms of the cooling function of the motor in the vortex blower 102, but the recovered gas is cooled in the sealed space and supplied to the outside again. 1 has the same function as that of the closed air source 100.
In addition, 100 C of sealed air sources of FIG. 10 are applicable to all the gas purification apparatuses shown in FIGS.

本発明のガス浄化装置は、有機ELディスプレイ等の製造工程における不活性ガスの浄化に限らず、各種の製造設備、空調設備、測定・試験設備などにおけるガスの浄化に利用することができる。   The gas purification apparatus of the present invention is not limited to purification of inert gas in the production process of an organic EL display or the like, but can be used for purification of gas in various production facilities, air conditioning facilities, measurement / test facilities, and the like.

100,100A,100B,100C:密閉送風源
101:密閉ケース
102:ボルテックスブロワ
102a:吸気口
102b:排気口
103:冷却管
103a:冷却水供給口
103b:冷却水排出口
104,104A:ガス流入口
105:開放放出部
105a:通孔
105A:開放収集部
105B:通孔
106:送気部
107,107A:ガス流出口
200:フィルタユニット
201:プレフィルタ
202:HEPAフィルタ
300:熱交換器
401,402:ケーシング
501〜505:流路
512,513:ジョイント
100, 100A, 100B, 100C: Sealed air source 101: Sealed case 102: Vortex blower 102a: Inlet port 102b: Exhaust port 103: Cooling pipe 103a: Cooling water supply port 103b: Cooling water discharge port 104, 104A: Gas inlet 105: Open discharge part 105a: Through hole 105A: Open collection part 105B: Through hole 106: Air supply part 107, 107A: Gas outlet 200: Filter unit 201: Prefilter 202: HEPA filter 300: Heat exchanger 401, 402 : Casing 501-505: Flow path 512, 513: Joint

Claims (8)

外部から区画された内部空間を有する密閉ケースと、
フィルタにより浄化されたガスを前記内部空間に導入するガス導入部と、
前記密閉ケースに収納され前記内部空間から吸気したガスを送気するブロワと、
前記ブロワの周囲を覆うように配置され、かつ、前記ガス導入部から前記内部空間に導入されたガスを冷却する冷却手段と、
前記ブロワが送気するガスを外部へ導出するガス導出部と、
を有する密閉送風源を備えたガス浄化装置であって、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部が、外部から供給されたガスが流入するガス流入口と、このガス流入口と前記ブロワとの間に配置されて前記内部空間へガスを放出する通孔付きの開放放出部と、を備え、前記ガス導出部が、前記ブロワにより送気されるガスが通過する送気部と、この送気部を通過したガスを外部に排出するためのガス流出口と、を有することを特徴とするガス浄化装置。
A sealed case having an internal space partitioned from the outside;
A gas introduction part for introducing gas purified by a filter into the internal space;
A blower for air supply of gas that is sucked from the inner space is accommodated in the sealed casing,
A cooling means arranged to cover the periphery of the blower and cooling the gas introduced into the internal space from the gas introduction part ;
A gas outlet portion of the blower is led out to the outside Ruga scan to air,
A gas purification device having a sealed air source having
The sealed air source is
A gas inlet through which the gas supplied from the outside flows, and an open discharge portion with a through hole that is disposed between the gas inlet and the blower and discharges the gas to the internal space; The gas outlet section has an air supply section through which the gas supplied by the blower passes, and a gas outlet for discharging the gas that has passed through the air supply section to the outside. A gas purification device characterized.
外部から区画された内部空間を有する密閉ケースと、
フィルタにより浄化されたガスを前記内部空間に導入するガス導入部と、
前記密閉ケースに収納され前記内部空間から吸気したガスを送気するブロワと、
前記ブロワの周囲を覆うように配置され、かつ、前記ガス導入部から前記内部空間に導入されたガスを冷却する冷却手段と、
前記ブロワが送気するガスを外部へ導出するガス導出部と、
を有する密閉送風源を備えたガス浄化装置であって、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部が、外部から供給されたガスが流入するガス流入口と、このガス流入口と前記ブロワとの間に配置されて前記内部空間へガスを放出するパイプと、を備え、前記ガス導出部が、前記ブロワにより送気されるガスが通過する送気部と、この送気部を通過したガスを外部に排出するためのガス流出口と、を有することを特徴とするガス浄化装置。
A sealed case having an internal space partitioned from the outside;
A gas introduction part for introducing gas purified by a filter into the internal space;
A blower that is housed in the hermetically sealed case and feeds inhaled gas from the internal space;
A cooling means arranged to cover the periphery of the blower and cooling the gas introduced into the internal space from the gas introduction part;
A gas deriving unit for deriving the gas supplied by the blower to the outside;
A gas purification device having a sealed air source having
The sealed air source is
It said gas introduction portion is provided with a gas inlet for gas supplied from the outside flows, and a pipe for discharging gas into the internal space is disposed between the gas inlet and the blower, before Symbol Gas purification characterized in that the gas outlet part has an air supply part through which the gas supplied by the blower passes and a gas outlet for discharging the gas that has passed through the air supply part to the outside apparatus.
請求項1または請求項2に記載したガス浄化装置において、
前記密閉送風源は、
前記ガス導入部のガス流入口と、前記ガス導出部のガス流出口と、の周囲を冷却する第二冷却手段をさらに備えることを特徴とするガス浄化装置。
In the gas purification apparatus according to claim 1 or 2 ,
The sealed air source is
Wherein the gas inlet of the gas inlet, a gas outlet of the gas discharge portion, further comprising a gas purification apparatus according to claim Rukoto a second cooling means for cooling the surrounding.
外部から供給されたガスが通過するプレフィルタと、このプレフィルタを通ったガスが供給される請求項1〜3の何れかに記載した密閉送風源と、この密閉送風源から排出されるガスを冷却する熱交換器と、この熱交換器により冷却されたガスが通過するHEPAフィルタと、を備えたことを特徴とするガス浄化装置。 A prefilter through which a gas supplied from the outside passes, a sealed air source according to any one of claims 1 to 3 to which gas passing through the prefilter, and a gas discharged from the sealed air source are provided. A gas purification apparatus comprising: a heat exchanger for cooling; and a HEPA filter through which a gas cooled by the heat exchanger passes . 請求項4に記載したガス浄化装置において、
前記プレフィルタ、前記密閉送風源、前記熱交換器及び前記HEPAフィルタを、単一のケーシングに収納したことを特徴とするガス浄化装置。
In the gas purification apparatus according to claim 4,
The gas purification apparatus characterized in that the prefilter, the sealed air source, the heat exchanger, and the HEPA filter are housed in a single casing .
外部から供給されたガスが通過するプレフィルタと、このプレフィルタを通ったガスが供給される請求項1〜3の何れかに記載した密閉送風源と、この密閉送風源から排出されるガスが通過するHEPAフィルタと、を備えたことを特徴とするガス浄化装置。 A prefilter through which gas supplied from the outside passes, a sealed air source according to any one of claims 1 to 3 to which gas passing through the prefilter, and a gas discharged from the sealed air source are A gas purification apparatus comprising: a HEPA filter that passes therethrough . 請求項6に記載したガス浄化装置において、
前記プレフィルタ、前記密閉送風源及び前記HEPAフィルタを、単一のケーシングに収納したことを特徴とするガス浄化装置。
In the gas purification apparatus according to claim 6,
A gas purification apparatus , wherein the prefilter, the sealed air source, and the HEPA filter are housed in a single casing .
請求項に記載したガス浄化装置において、
前記プレフィルタ及び前記HEPAフィルタが収納されたフィルタユニットと前記密閉送風源とを、ガス流路を介して連結・分離可能に形成したことを特徴とするガス浄化装置。
In the gas purification apparatus according to claim 6 ,
A gas purification device , wherein the filter unit in which the pre-filter and the HEPA filter are accommodated and the hermetic air source are formed so as to be connectable and separable via a gas flow path .
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