Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6136012B2 - Method for producing a filling liquid filling sheet and a filling liquid filling apparatus - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6136012B2 - Method for producing a filling liquid filling sheet and a filling liquid filling apparatus - Google Patents

Method for producing a filling liquid filling sheet and a filling liquid filling apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP6136012B2
JP6136012B2 JP2013163322A JP2013163322A JP6136012B2 JP 6136012 B2 JP6136012 B2 JP 6136012B2 JP 2013163322 A JP2013163322 A JP 2013163322A JP 2013163322 A JP2013163322 A JP 2013163322A JP 6136012 B2 JP6136012 B2 JP 6136012B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base material
substrate
film
filling liquid
decompression chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013163322A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015029976A (en
Inventor
木 孝 青
木 孝 青
田 淳 一 山
田 淳 一 山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2013163322A priority Critical patent/JP6136012B2/en
Publication of JP2015029976A publication Critical patent/JP2015029976A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6136012B2 publication Critical patent/JP6136012B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

本発明は、目詰め液充填シートを製造する方法及び目詰め液充填装置に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a filling liquid filling sheet and a filling liquid filling apparatus.

例えば有機EL(Electro Luminescence)用の蒸着マスクなどに用いられるメタルマスクは、厚さ数十μm〜数百μmの金属基材に、所望のパターンにエッチング(穴あけ)加工して、開口幅が数十μmという微細な貫通穴を形成することにより作製される。この場合、当該微細な貫通穴は、その一方の面の側から所望のパターンで所定の深さまでエッチングして微細な凹み(微細孔)を形成し、当該微細孔にエッチング防止剤を充填した後、他方の面の側から当該微細孔のパターンに対応するパターンでエッチングを行うことにより形成される。   For example, a metal mask used for a deposition mask for organic EL (Electro Luminescence) or the like is etched (drilled) into a desired pattern on a metal base having a thickness of several tens to several hundreds of micrometers, and the opening width is several. It is produced by forming a fine through hole of 10 μm. In this case, after the fine through hole is etched to a predetermined depth with a desired pattern from one side of the fine hole, a fine recess (fine hole) is formed, and the fine hole is filled with an etching inhibitor. Then, it is formed by performing etching with a pattern corresponding to the pattern of the fine holes from the other surface side.

また、テレビやパソコンの画面に用いられる反射防止フィルムや、横のぞき防止のためのルーバー、コントラストを向上させるフィルムなどは、PET(ポリエチレンテレフタレート)やTAC(トリアセチルセルロース)等で作られた微細な凹凸を有する基材の表面に、コーティング剤を塗布して所望の機能層を形成することにより作成される。   In addition, antireflection films used for TV and personal computer screens, louvers for preventing side peeping, and films for improving contrast are finely made of PET (polyethylene terephthalate) or TAC (triacetylcellulose). It is created by applying a coating agent on the surface of a substrate having irregularities to form a desired functional layer.

さらに、木目模様などの細かい模様を有する壁紙は、例えば紙基材上に形成された樹脂層に所望の模様に対応する微細な凹み(微細孔)を形成した後、当該微細孔に着色剤を充填することにより作成される。   Furthermore, for wallpaper having a fine pattern such as a wood grain pattern, for example, a fine dent (micropore) corresponding to the desired pattern is formed in a resin layer formed on a paper base material, and then a colorant is added to the micropore. Created by filling.

そして、このような微細な凹み(微細孔)にエッチング防止剤やコーティング剤、着色剤などの液剤(目詰め液)を充填する方法としては、ダイヘッドから液剤(目詰め液)を放出させて液圧によって液剤(目詰め液)を微細孔に押し込む方法や、基材上に液剤(目詰め液)を配置した後、ドクタを基材に押し付けて液剤(目詰め液)に高せん断力を与えながら微細孔に押し込む方法がある。   And as a method of filling such fine dents (micropores) with a liquid agent (a plugging liquid) such as an etching inhibitor, a coating agent, or a colorant, the liquid (the plugging liquid) is discharged from the die head. Method of pushing the liquid (filling liquid) into the micropores by pressure, or after placing the liquid (packing liquid) on the base material, press the doctor against the base material to give a high shearing force to the liquid material (filling liquid) There is a method of pushing into the fine holes.

ところで、前述したように、ダイヘッドやドクタを用いて微細孔に液剤(目詰め液)を押し込む場合、液剤(目詰め液)の粘度や微細孔の開口幅の大きさによっては、微細孔内に気泡が形成されてしまって、微細孔が所望のように目詰めされないことがあった。   By the way, as described above, when a liquid agent (filling liquid) is pushed into a micropore using a die head or a doctor, depending on the viscosity of the liquid agent (filling liquid) or the size of the opening width of the microhole, In some cases, bubbles were formed and the micropores were not clogged as desired.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、微細孔内に気泡が形成されることなく目詰め液を充填し得る目詰め液充填シート製造方法、及び、目詰め液充填装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and a filling liquid filling sheet manufacturing method capable of filling a filling liquid without forming bubbles in the micropores, and filling the filling liquid An object is to provide an apparatus.

本発明は、微細孔を有する基材の当該微細孔に目詰め液が充填された目詰め液充填シートを製造する方法であって、前記基材を減圧環境下に置いて当該基材の前記微細孔内の空気を除去する空気除去工程と、前記基材を大気圧下に戻す前に、または、戻すのと同時に、当該基材の前記微細孔に目詰め液を継続的に供給することで、当該微細孔内に目詰め液を充填する目詰め液充填工程と、を備えたことを特徴とする目詰め液充填シート製造方法である。   The present invention is a method for producing a filling liquid-filled sheet in which the fine pores of the base material having micropores are filled with the filling liquid, and the base material is placed in a reduced pressure environment and the base material An air removing step for removing air in the micropores, and supplying the plugging liquid continuously to the micropores in the base material before or simultaneously with returning the base material to atmospheric pressure. And a filling liquid filling step for filling a filling liquid into the fine holes.

本発明によれば、目詰め液は、微細孔を有する基材が減圧環境下に置かれて当該微細孔から空気が除去された後、当該微細孔に供給される。この結果、目詰め液が充填される際に微細孔内に気泡が形成されてしまう、ということが抑制される。   According to the present invention, the filling liquid is supplied to the fine holes after the substrate having the fine holes is placed in a reduced pressure environment to remove air from the fine holes. As a result, it is suppressed that bubbles are formed in the fine holes when the filling liquid is filled.

具体的には、前記空気除去工程において、前記基材は、1Torr以下の減圧環境下に置かれ、前記目詰め液充填工程において、目詰め液は、前記基材の前記微細孔内に大気圧力の作用により充填される。   Specifically, in the air removal step, the base material is placed in a reduced pressure environment of 1 Torr or less, and in the filling liquid filling step, the filling liquid is atmospheric pressure in the micropores of the base material. It is filled by the action of.

好ましくは、前記目詰め液充填工程において、目詰め液が貯留された目詰め液溜まり部に前記基材の前記微細孔側を通過させることによって当該基材の当該微細孔に目詰め液が継続的に供給される。この場合、大気圧下に戻された微細孔内に空気が侵入してしまう前に当該微細孔内に目詰め液を充填する、ということが可能である。これにより、目詰め液が充填される際に微細孔内に気泡が形成されてしまう、ということがより顕著に抑制される。   Preferably, in the filling liquid filling step, the filling liquid continues in the fine holes of the base material by passing the fine hole side of the base material through the filling liquid reservoir portion where the filling liquid is stored. Supplied. In this case, it is possible to fill the micropores with a filling liquid before air enters the micropores returned to atmospheric pressure. Thereby, it is more remarkably suppressed that bubbles are formed in the fine holes when the filling liquid is filled.

好ましくは、前記微細孔の開口の幅は、50μm以下であり、前記基材の前記微細孔に供給される際の目詰め液の粘度は、10000cP以下である。本件発明者が得た知見によれば、この場合、微細孔の開口の幅に対して目詰め液の粘度が高すぎて微細孔が目詰め液によって所望のように充填されない、ということが抑制される。さらには、前記微細孔の開口の幅は、20μm以下であってもよい。   Preferably, the width of the opening of the micropore is 50 μm or less, and the viscosity of the filling liquid when supplied to the micropore of the substrate is 10,000 cP or less. According to the knowledge obtained by the present inventors, in this case, it is suppressed that the viscosity of the filling liquid is too high with respect to the width of the opening of the fine hole and the fine hole is not filled with the filling liquid as desired. Is done. Furthermore, the width of the opening of the fine hole may be 20 μm or less.

あるいは、本発明は、微細孔を有する基材の当該微細孔に目詰め液を充填するための装置であって、前記基材を供給する基材供給装置と、内部を減圧状態に維持可能な減圧チャンバであって、基材搬入口と基材搬出口とを有する減圧チャンバと、前記基材供給装置から供給された前記基材が前記減圧チャンバの前記基材搬入口を通じて当該減圧チャンバの外部から内部へ且つ前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるような基材搬送路を構成する基材搬送装置と、前記減圧チャンバに対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側に設けられており、前記減圧チャンバの前記基材搬出口に向けて目詰め液を供給する目詰め液供給装置と、を備えたことを特徴とする目詰め液充填装置である。   Alternatively, the present invention is an apparatus for filling the micropores of a base material having micropores with a filling liquid, and the base material supply apparatus for supplying the base material and the inside thereof can be maintained in a reduced pressure state. A decompression chamber having a base material carry-in port and a base material carry-out port, and the base material supplied from the base material supply device is external to the decompression chamber through the base material carry-in port of the decompression chamber A base material transport device constituting a base material transport path that is transported from the inside of the decompression chamber to the outside through the base material carry-out port, and the base by the base material transport device with respect to the decompression chamber A filling liquid supply device provided on the downstream side in the conveying direction of the material, and comprising a filling liquid supply device that supplies the filling liquid toward the base material outlet of the decompression chamber Device.

本発明によれば、基材を減圧チャンバ内の減圧環境下に置くことにより、微細孔から空気を除去し得る。また、目詰め液供給装置から減圧チャンバの基材搬出口に向けて目詰め液を供給することにより、減圧チャンバ内の減圧環境下に置かれた基板が大気圧下に戻される前に、または、戻されるのと同時に、微細孔に目詰め液を継続的に供給し得る。したがって、微細孔から空気が除去された当該微細孔内に目詰め液を充填する、ということが可能である。この結果、目詰め液が充填される際に微細孔内に気泡が形成されてしまう、ということが抑制される。また、基材供給装置が減圧チャンバの外に配置されているため、比較的小さな減圧チャンバを用いることが可能である。   According to the present invention, air can be removed from the micropores by placing the substrate in a reduced pressure environment in a reduced pressure chamber. Further, by supplying the plugging liquid from the plugging liquid supply device toward the base material outlet of the decompression chamber, the substrate placed in the decompression environment in the decompression chamber is returned to the atmospheric pressure, or At the same time, the filling liquid can be continuously supplied to the micropores. Therefore, it is possible to fill the filling liquid into the fine holes from which the air has been removed. As a result, it is suppressed that bubbles are formed in the fine holes when the filling liquid is filled. Further, since the base material supply device is disposed outside the decompression chamber, a relatively small decompression chamber can be used.

好ましくは、前記基材供給装置は、基材ロールがセットされ、当該基材ロールから前記基材としてシート状の基材が供給されるように当該基材ロールを回転させるようになっている基材給送軸を有している。この場合、シート状の基材を連続的に供給し得る。   Preferably, the base material supply device is configured such that a base material roll is set and the base material roll is rotated so that a sheet-like base material is supplied as the base material from the base material roll. It has a material feed shaft. In this case, a sheet-like base material can be continuously supplied.

あるいは、前記基材供給装置は、搬送ウェブロールがセットされ、当該搬送ウェブロールから搬送ウェブが供給されるように当該搬送ウェブロールを回転させるようになっている搬送ウェブ給送軸と、前記搬送ウェブロールから供給される前記搬送ウェブ上に前記基材として枚葉状の基材を載置する基材載置装置と、を有している。この場合、枚葉状の基材を連続的に供給し得る。   Or the said base material supply apparatus sets the conveyance web roll, The conveyance web feed axis | shaft which rotates the said conveyance web roll so that a conveyance web is supplied from the said conveyance web roll, and the said conveyance A substrate placing device for placing a sheet-like substrate as the substrate on the transport web supplied from a web roll. In this case, a sheet-like base material can be continuously supplied.

好ましくは、前記減圧チャンバは、内部を1Torr以下の減圧状態に維持可能である。この場合、基材の微細孔内の空気を十分に除去し、大気圧力の作用により微細孔内に目詰め液を充填し得る。   Preferably, the decompression chamber can be maintained in a decompressed state of 1 Torr or less. In this case, the air in the micropores of the substrate can be sufficiently removed, and the filling liquid can be filled in the micropores by the action of atmospheric pressure.

好ましくは、前記減圧チャンバの前記基材搬入口は、外周面が隣り合うように軸が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬入口ローラによって当該一対の基材搬入口ローラの前記外周面の間に規定されており、前記減圧チャンバの前記基材搬出口は、外周面が隣り合うように軸が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬出口ローラによって当該一対の基材搬出口ローラの前記外周面の間に規定されている。この場合、連続的に供給される基材を連続的に減圧環境下に置く、ということが容易である。   Preferably, the base material carry-in port of the decompression chamber has a pair of base material carry-in rollers provided by a pair of base material carry-in rollers provided such that the axes are parallel and rotatable with respect to each other so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other. The base material outlet of the decompression chamber is a pair of base material outlet rollers provided so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other so that the shafts are parallel and rotatable with respect to each other. Is defined between the outer peripheral surfaces of the pair of base material carry-out / out rollers. In this case, it is easy to place continuously supplied substrates in a reduced pressure environment.

あるいは、前記減圧チャンバの前記基材搬入口は、回転可能に設けられた中間ローラと、外周面が当該中間ローラの外周面と隣り合うように軸が当該中間ローラの軸に対して平行かつ回転可能に設けられた基材搬入口ローラと、によって当該中間ローラの外周面と当該基材搬入口ローラの外周面との間に規定されており、前記減圧チャンバの前記基材搬出口は、前記中間ローラと、外周面が当該中間ローラの外周面と隣り合うように軸が当該中間ローラの軸に対して平行かつ回転可能に設けられた基材搬出口ローラと、によって当該中間ローラの外周面と当該基材搬出口ローラの外周面との間に規定されている。この場合も、連続的に供給される基材を連続的に減圧環境下に置く、ということが容易である。   Alternatively, the base material carry-in port of the decompression chamber has an intermediate roller that is rotatably provided, and a shaft that is parallel and rotated with respect to the shaft of the intermediate roller so that the outer peripheral surface is adjacent to the outer peripheral surface of the intermediate roller. A base material carry-in roller provided so as to be defined between the outer peripheral surface of the intermediate roller and the outer peripheral surface of the base material carry-in roller, and the base material carry-out port of the decompression chamber is An outer peripheral surface of the intermediate roller by an intermediate roller and a base material carry-out / outlet roller provided such that the outer peripheral surface is adjacent to the outer peripheral surface of the intermediate roller and the shaft is parallel and rotatable with respect to the shaft of the intermediate roller And the outer peripheral surface of the substrate carry-out roller. Also in this case, it is easy to place the continuously supplied base material in a reduced pressure environment.

好ましくは、前記減圧チャンバの前記基材搬出口から前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側にかけて、前記基材搬送路の少なくとも一方の側に目詰め液を貯留するための目詰め液溜まり部が設けられている。この場合、基材を減圧チャンバ内の減圧環境下に置いた後、連続的に当該基材の微細孔側を目詰め液が貯留された目詰め液溜まり部に通過させることが可能である。したがって、減圧環境下に置かれた基材を大気圧下に戻す前に、または、戻すのと同時に、当該基材の微細孔に目詰め液を継続的に供給し得る。これにより、大気圧下に戻された微細孔内に空気が侵入してしまう前に当該微細孔内に目詰め液を充填する、ということが可能である。これにより、目詰め液が充填される際に微細孔内に気泡が形成されてしまう、ということがより顕著に抑制される。   Preferably, an eye for storing a filling liquid on at least one side of the base material transport path from the base material outlet of the decompression chamber to a downstream side of the base material transport direction by the base material transport device. A filling liquid reservoir is provided. In this case, after the base material is placed in a reduced pressure environment in the decompression chamber, it is possible to continuously pass the fine hole side of the base material through the filling liquid reservoir portion in which the filling liquid is stored. Therefore, the filling liquid can be continuously supplied to the micropores of the substrate before or at the same time as the substrate placed under the reduced pressure environment is returned to the atmospheric pressure. Thereby, it is possible to fill the micropores with the filling liquid before the air enters the micropores returned to the atmospheric pressure. Thereby, it is more remarkably suppressed that bubbles are formed in the fine holes when the filling liquid is filled.

例えば、前記目詰め液溜まり部は、前記減圧チャンバの前記基材搬出口の周囲に、板状部材を用いて形成されている。   For example, the filling liquid reservoir is formed using a plate-like member around the base material outlet of the decompression chamber.

あるいは、前記目詰め液充填装置は、フィルムロールがセットされ、当該フィルムロールからフィルムが供給されるように当該フィルムロールを回転させるようになっているフィルム給送軸と、前記フィルムロールから供給された前記フィルムが前記減圧チャンバの前記基材搬入口を通じて当該減圧チャンバの外部から内部へ且つ前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるようなフィルム搬送路を構成するフィルム搬送装置と、を更に備え、前記フィルム搬送路は、前記基材搬出口に対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側において、当該フィルム搬送路と前記基材搬送路との間に前記目詰め液溜まり部を形成するように構成されている。この場合も、目詰め液溜まり部を形成することが容易である。また、減圧チャンバの基材搬出口が目詰め液で汚れてしまう、ということが防止され得る。   Alternatively, the filling liquid filling device is supplied from the film feed shaft and the film roll configured to rotate the film roll so that the film roll is set and the film is supplied from the film roll. Further, the film transport that constitutes a film transport path in which the film is transported from the outside of the decompression chamber to the inside through the base material carry-in port of the decompression chamber and from the inside to the outside of the decompression chamber through the base material carry-out port. An apparatus, and the film transport path is located downstream of the base material transport port in the transport direction of the base material by the base material transport apparatus. The plugging liquid reservoir is formed between them. Also in this case, it is easy to form the filling liquid reservoir. Moreover, it can be prevented that the base material outlet of the decompression chamber is contaminated with the filling liquid.

好ましくは、前記フィルム搬送路は、前記減圧チャンバ内の少なくとも一部の領域において、前記基材搬送路から離間されるように構成されている。この場合、減圧チャンバ内において、基材の微細孔から空気が十分に除去され得る。   Preferably, the film conveyance path is configured to be separated from the base material conveyance path in at least a partial region in the decompression chamber. In this case, air can be sufficiently removed from the micropores of the substrate in the vacuum chamber.

好ましくは、当該目詰め液充填装置は、前記目詰め液溜まり部に対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側において、当該基材搬送装置によって搬送される当該基材と、前記フィルム搬送装置によって搬送される前記フィルムと、を互いに対して押圧するようになっている押圧ローラを更に備えている。この場合、微細孔内に目詰め液が充填された基材の表面を滑らかに仕上げる、ということが容易である。   Preferably, the filling liquid filling device includes the base material transported by the base material transport device on the downstream side in the transport direction of the base material by the base material transport device with respect to the filling liquid reservoir portion. And a pressing roller configured to press the film transported by the film transporting device against each other. In this case, it is easy to finish the surface of the base material filled with the filling liquid in the fine holes smoothly.

あるいは、本発明は、微細孔を有する基材の当該微細孔に目詰め液を充填するための装置であって、内部を減圧状態に維持可能な減圧チャンバであって、基材搬出口を有する減圧チャンバと、前記基材を供給する基材供給装置であって、前記減圧チャンバ内に設けられた基材供給装置と、前記基材供給装置から供給された前記基材が前記減圧チャンバの前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるような基材搬送路を構成する基材搬送装置と、前記減圧チャンバに対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側に設けられており、前記減圧チャンバの前記基材搬出口に向けて目詰め液を供給する目詰め液供給装置と、を備えたことを特徴とする目詰め液充填装置である。   Alternatively, the present invention is an apparatus for filling the micropores of a substrate having micropores with a filling liquid, and is a depressurization chamber capable of maintaining the inside in a depressurized state and having a substrate carry-out port A decompression chamber, a substrate supply device that supplies the substrate, a substrate supply device provided in the decompression chamber, and the substrate that is supplied from the substrate supply device includes the substrate in the decompression chamber. A base material transport device that constitutes a base material transport path that is transported from the inside of the decompression chamber to the outside through the base material transport outlet; and A filling liquid filling device provided on the downstream side and comprising a filling liquid supply device that supplies the filling liquid toward the substrate outlet of the decompression chamber.

本発明によれば、基材を減圧チャンバ内の減圧環境下に置くことにより、微細孔から空気を除去し得る。また、目詰め液供給装置から減圧チャンバの基材搬出口に向けて目詰め液を供給することにより、減圧チャンバ内の減圧環境下に置かれた基板が大気圧下に戻される前に、または、戻されるのと同時に、微細孔に目詰め液を継続的に供給し得る。したがって、微細孔から空気が除去された当該微細孔内に目詰め液を充填する、ということが可能である。この結果、目詰め液が充填される際に微細孔内に気泡が形成されてしまう、ということが抑制される。   According to the present invention, air can be removed from the micropores by placing the substrate in a reduced pressure environment in a reduced pressure chamber. Further, by supplying the plugging liquid from the plugging liquid supply device toward the base material outlet of the decompression chamber, the substrate placed in the decompression environment in the decompression chamber is returned to the atmospheric pressure, or At the same time, the filling liquid can be continuously supplied to the micropores. Therefore, it is possible to fill the filling liquid into the fine holes from which the air has been removed. As a result, it is suppressed that bubbles are formed in the fine holes when the filling liquid is filled.

好ましくは、前記基材供給装置は、基材ロールがセットされ、当該基材ロールから前記基材としてシート状の基材が供給されるように当該基材ロールを回転させるようになっている基材給送軸を有している。この場合、この場合、シート状の基材を連続的に供給し得る。   Preferably, the base material supply device is configured such that a base material roll is set and the base material roll is rotated so that a sheet-like base material is supplied as the base material from the base material roll. It has a material feed shaft. In this case, in this case, a sheet-like base material can be continuously supplied.

あるいは、前記基材供給装置は、搬送ウェブロールがセットされ、当該搬送ウェブロールから搬送ウェブが供給されるように当該搬送ウェブロールを回転させるようになっている搬送ウェブ給送軸と、前記搬送ウェブロールから供給される前記搬送ウェブ上に前記基材として枚葉状の基材を載置する基材載置装置と、を有している。この場合、枚葉状の基材を連続的に供給し得る。   Or the said base material supply apparatus sets the conveyance web roll, The conveyance web feed axis | shaft which rotates the said conveyance web roll so that a conveyance web is supplied from the said conveyance web roll, and the said conveyance A substrate placing device for placing a sheet-like substrate as the substrate on the transport web supplied from a web roll. In this case, a sheet-like base material can be continuously supplied.

好ましくは、前記減圧チャンバは、内部を1Torr以下の減圧状態に維持可能である。この場合、基材の微細孔内の空気を十分に除去し、大気圧力の作用により微細孔内に目詰め液を充填し得る。   Preferably, the decompression chamber can be maintained in a decompressed state of 1 Torr or less. In this case, the air in the micropores of the substrate can be sufficiently removed, and the filling liquid can be filled in the micropores by the action of atmospheric pressure.

好ましくは、前記減圧チャンバの前記基材搬出口は、外周面が隣り合うように軸が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬出口ローラによって当該一対の基材搬出口ローラの前記外周面の間に規定されている。この場合、減圧環境下に置かれて連続的に供給される基材を、目詰め液に連続的に接触させることが容易である。   Preferably, the base material carry-out port of the decompression chamber is a pair of base material carry-out rollers provided by a pair of base material carry-out rollers provided so that the outer peripheral surfaces thereof are adjacent to each other and parallel to each other and rotatable. Between the outer peripheral surfaces. In this case, it is easy to continuously contact the base material, which is placed in a reduced pressure environment and continuously supplied, with the filling liquid.

好ましくは、前記減圧チャンバの前記基材搬出口から前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側にかけて、前記基材搬送路の少なくとも一方の側に目詰め液を貯留するための目詰め液溜まり部が設けられている。この場合、基材を減圧チャンバ内の減圧環境下に置いた後、連続的に当該基材の微細孔側を目詰め液が貯留された目詰め液溜まり部に通過させることが可能である。したがって、減圧環境下に置かれた基材を大気圧下に戻す前に、または、戻すのと同時に、当該基材の微細孔に目詰め液を継続的に供給し得る。これにより、大気圧下に戻された微細孔内に空気が侵入してしまう前に当該微細孔内に目詰め液を充填する、ということが可能である。これにより、目詰め液が充填される際に微細孔内に気泡が形成されてしまう、ということがより顕著に抑制される。   Preferably, an eye for storing a filling liquid on at least one side of the base material transport path from the base material outlet of the decompression chamber to a downstream side of the base material transport direction by the base material transport device. A filling liquid reservoir is provided. In this case, after the base material is placed in a reduced pressure environment in the decompression chamber, it is possible to continuously pass the fine hole side of the base material through the filling liquid reservoir portion in which the filling liquid is stored. Therefore, the filling liquid can be continuously supplied to the micropores of the substrate before or at the same time as the substrate placed under the reduced pressure environment is returned to the atmospheric pressure. Thereby, it is possible to fill the micropores with the filling liquid before the air enters the micropores returned to the atmospheric pressure. Thereby, it is more remarkably suppressed that bubbles are formed in the fine holes when the filling liquid is filled.

例えば、前記目詰め液溜まり部は、前記減圧チャンバの前記基材搬出口の周囲に、板状部材を用いて形成されている。   For example, the filling liquid reservoir is formed using a plate-like member around the base material outlet of the decompression chamber.

あるいは、前記目詰め液充填装置は、フィルムロールがセットされ、当該フィルムロールからフィルムが供給されるように当該フィルムロールを回転させるようになっているフィルム給送軸であって、前記減圧チャンバ内に設けられたフィルム給送軸と、前記フィルムロールから供給された前記フィルムが前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるようなフィルム搬送路を構成するフィルム搬送装置と、を更に備え、前記フィルム搬送路は、前記基材搬出口に対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側において、当該フィルム搬送路と前記基材搬送路との間に前記目詰め液溜まり部を形成するように構成されている。この場合も、目詰め液溜まり部を形成することが容易である。また、減圧チャンバの基材搬出口が目詰め液で汚れてしまう、ということが防止され得る。   Alternatively, the filling liquid filling device is a film feeding shaft in which a film roll is set and the film roll is rotated so that the film is supplied from the film roll, A film feeding shaft provided on the film, and a film transporting device that constitutes a film transporting path through which the film supplied from the film roll is transported from the inside of the decompression chamber to the outside through the substrate carry-out port, The film conveyance path is further provided between the film conveyance path and the substrate conveyance path on the downstream side in the conveyance direction of the substrate by the substrate conveyance device with respect to the substrate conveyance outlet. It is comprised so that the filling liquid reservoir part may be formed. Also in this case, it is easy to form the filling liquid reservoir. Moreover, it can be prevented that the base material outlet of the decompression chamber is contaminated with the filling liquid.

好ましくは、当該目詰め液充填装置は、前記目詰め液溜まり部に対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側において、当該基材搬送装置によって搬送される当該基材と、前記フィルム搬送装置によって搬送される前記フィルムと、を互いに対して押圧するようになっている押圧ローラを更に備えている。この場合、微細孔内に目詰め液が充填された基材の表面を滑らかに仕上げる、ということが容易である。   Preferably, the filling liquid filling device includes the base material transported by the base material transport device on the downstream side in the transport direction of the base material by the base material transport device with respect to the filling liquid reservoir portion. And a pressing roller configured to press the film transported by the film transporting device against each other. In this case, it is easy to finish the surface of the base material filled with the filling liquid in the fine holes smoothly.

本発明によれば、目詰め液は、微細孔を有する基材が減圧環境下に置かれて当該微細孔から空気が除去された後、当該微細孔に供給される。この結果、目詰め液が充填される際に微細孔内に気泡が形成されてしまう、ということが抑制される。   According to the present invention, the filling liquid is supplied to the fine holes after the substrate having the fine holes is placed in a reduced pressure environment to remove air from the fine holes. As a result, it is suppressed that bubbles are formed in the fine holes when the filling liquid is filled.

本発明の第1の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図。The figure which shows schematically the structure of the filling liquid filling apparatus by the 1st Embodiment of this invention. 第1の実施の形態の基材を概略的に示す図。詳しくは、図2(a)が、微細孔を有するシート状の基材を概略的に示す平面図であり、図2(b)が、図2(a)に示す基材の2b−2b線断面図であり、図2(c)が、図2(b)に示す基材に目詰め液が充填された目詰め液充填シートを示す図である。The figure which shows the base material of 1st Embodiment schematically. Specifically, FIG. 2 (a) is a plan view schematically showing a sheet-like substrate having fine holes, and FIG. 2 (b) is a 2b-2b line of the substrate shown in FIG. 2 (a). FIG. 2C is a cross-sectional view, and FIG. 2C is a view showing a filling liquid-filled sheet in which the base material shown in FIG. 2B is filled with the filling liquid. 本発明の第2の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図。The figure which shows schematically the structure of the filling liquid filling apparatus by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図。The figure which shows schematically the structure of the filling liquid filling apparatus by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図。The figure which shows schematically the structure of the filling liquid filling apparatus by the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図。The figure which shows schematically the structure of the filling liquid filling apparatus by the 5th Embodiment of this invention.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図である。また、図2は、第1の実施の形態の基材の例を概略的に示す図である。詳しくは、図2(a)が、微細孔を有するシート状の基材を概略的に示す平面図であり、図2(b)が、図2(a)に示す基材の2b−2b線断面図であり、図2(c)が、図2(b)に示す基材に目詰め液が充填された目詰め液充填シートを概略的に示す断面図である。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a filling liquid filling device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram schematically illustrating an example of the base material according to the first embodiment. Specifically, FIG. 2 (a) is a plan view schematically showing a sheet-like substrate having fine holes, and FIG. 2 (b) is a 2b-2b line of the substrate shown in FIG. 2 (a). FIG. 2C is a cross-sectional view schematically showing a filling liquid-filled sheet in which the base material shown in FIG. 2B is filled with the filling liquid.

図1に示すように、本実施の形態の目詰め液充填装置100は、微細孔12を有する基材10の当該微細孔12に目詰め液15を充填するための装置であって、基材10を供給する基材供給装置20と、内部を減圧状態に維持可能な減圧チャンバ30であって、基材搬入口31と基材搬出口32とを有する減圧チャンバ30と、基材供給装置20から供給された基材10が減圧チャンバ30の基材搬入口31を通じて減圧チャンバ30の外部から内部へ且つ基材搬出口32を通じて減圧チャンバ30の内部から外部へ搬送されるような基材搬送路45を構成する基材搬送装置40と、減圧チャンバ30に対して基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側に設けられており、減圧チャンバ30の基材搬出口32に向けて目詰め液15を供給する目詰め液供給装置50と、を備えている。   As shown in FIG. 1, a filling liquid filling device 100 of the present embodiment is an apparatus for filling the fine holes 12 of a base material 10 having fine holes 12 with a filling liquid 15. 10, a decompression chamber 30 capable of maintaining the interior in a decompressed state, the decompression chamber 30 having a substrate carry-in port 31 and a substrate carry-out port 32, and the substrate feed device 20. The base material transport path is such that the base material 10 supplied from is conveyed from the outside of the decompression chamber 30 through the base material carry-in port 31 of the decompression chamber 30 to the inside and from the inside of the decompression chamber 30 through the base material carry-out port 32. 45 is provided downstream of the decompression chamber 30 and the decompression chamber 30 in the transport direction of the substrate 10 by the substrate transport apparatus 40, and toward the exit port 32 of the decompression chamber 30. Packing liquid 15 It includes a supply Clogging liquid supply apparatus 50, the.

基材10は、本実施の形態では、幅Wが100〜500mm程度、厚みTが20〜30μm程度のシート状の金属基材である。基材10は、有機EL用の蒸着マスクなどに用いられるメタルマスクを作製するために、一方の面の側からのみ所望のパターンで基材10の厚みTの半分程度の深さDまでエッチングされており、当該一方の面の側に微細孔12が形成されている。本実施の形態では、微細孔12の開口の幅eは、50μm以下であり、例えば20μm程度であるが、これに限られない。ここで、本実施の形態では、微細孔12の開口の幅eとは、微細孔12の開口の内接円12'の直径を意味するものとする。   In the present embodiment, the substrate 10 is a sheet-like metal substrate having a width W of about 100 to 500 mm and a thickness T of about 20 to 30 μm. The base material 10 is etched to a depth D that is about half the thickness T of the base material 10 with a desired pattern only from one surface side in order to produce a metal mask used for an organic EL vapor deposition mask or the like. The fine hole 12 is formed on the one surface side. In the present embodiment, the width e of the opening of the fine hole 12 is 50 μm or less, for example, about 20 μm, but is not limited thereto. Here, in the present embodiment, the width e of the opening of the fine hole 12 means the diameter of the inscribed circle 12 ′ of the opening of the fine hole 12.

なお、基材10は、メタルマスク作成用の基材に限られず、例えば、テレビやパソコンの画面に用いられる反射防止フィルムや、横のぞき防止のためのルーバー、コントラストを向上させるフィルム作成用のPET基材やTAC基材であってもよい。さらには、木目模様などの細かい模様を有する壁紙作成用の基材であって、所望の模様に対応する微細孔が設けられた樹脂層と当該樹脂層を支持する紙基材とからなる基材であってもよい。   The base material 10 is not limited to a base material for creating a metal mask. For example, an antireflection film used for a screen of a television or a personal computer, a louver for preventing side peeping, or a PET for creating a film for improving contrast. A substrate or a TAC substrate may be used. Furthermore, it is a base material for creating wallpaper having a fine pattern such as a wood grain pattern, the base material comprising a resin layer provided with micropores corresponding to a desired pattern and a paper base material supporting the resin layer It may be.

基材供給装置20は、本実施の形態では、基材10がロール状にされた基材ロール10'がセットされ、基材ロール10'からシート状の基材10が供給されるように基材ロール10'を回転させるようになっている基材給送軸22を有している。   In the present embodiment, the base material supply device 20 is set so that a base material roll 10 ′ in which the base material 10 is rolled is set, and the sheet-like base material 10 is supplied from the base material roll 10 ′. It has a substrate feed shaft 22 adapted to rotate the material roll 10 '.

減圧チャンバ30は、本実施の形態では、内部を1.5Torr以下、好ましくは1Torr以下、さらに好ましくは0.8Torr以下の減圧状態に維持可能な減圧チャンバである。本実施の形態の減圧チャンバ30は、筐体33と、筐体33の基材供給装置20側の壁部に設けられた基材搬入口31と、筐体33の基材搬入口31に対向する側の壁部に設けられた基材搬出口32と、を有している。   In the present embodiment, the decompression chamber 30 is a decompression chamber that can be maintained in a decompressed state of 1.5 Torr or less, preferably 1 Torr or less, and more preferably 0.8 Torr or less. The decompression chamber 30 of the present embodiment is opposite to the housing 33, the base material inlet 31 provided in the wall portion of the housing 33 on the base material supply device 20 side, and the base material inlet 31 of the housing 33. And a base material outlet / outlet 32 provided in the wall portion on the side to be operated.

基材搬入口31は、本実施の形態では、外周面が隣り合うように軸312が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬入口ローラ311によって、当該一対の基材搬入口ローラ311の外周面の間に規定されている。本実施の形態では、基材搬入口ローラ311は、金属製であり、各基材搬入口ローラ311の軸312には、基材搬入口ローラ311を回転駆動するための駆動部313が設けられている。   In the present embodiment, the pair of substrate carry-in ports 31 are loaded by a pair of substrate carry-in rollers 311 provided with shafts 312 that are parallel and rotatable with respect to each other so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other. It is defined between the outer peripheral surfaces of the mouth roller 311. In the present embodiment, the base material carry-in entrance roller 311 is made of metal, and a drive unit 313 for rotationally driving the base material carry-in entrance roller 311 is provided on the shaft 312 of each base material carry-in entrance roller 311. ing.

基材搬出口32は、本実施の形態では、外周面が隣り合うように軸322が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬出口ローラ321によって当該一対の基材搬出口ローラ321の外周面の間に規定されている。本実施の形態では、基材搬出口ローラ321は、金属製であり、各基材搬出口ローラ321の軸322には、基材搬出口ローラ321を回転駆動するための駆動部323が設けられている。また、各基材搬出口ローラ321には、基材搬出口ローラ321を加熱するための熱源(不図示)が設けられており、目詰め液15として熱溶融性の材料が用いられる場合に、基材搬出口ローラ321付近において目詰め液15の溶融状態を維持することができるようになっている。   In the present embodiment, the base material carry-out port 32 is formed by a pair of base material carry-out rollers 321 provided such that the shafts 322 are parallel and rotatable with respect to each other so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other. It is defined between the outer peripheral surfaces of the rollers 321. In the present embodiment, the substrate carry-out / out roller 321 is made of metal, and a drive unit 323 for rotating the substrate carry-out / out roller 321 is provided on the shaft 322 of each substrate carry-out / out roller 321. ing. Further, each base material exit roller 321 is provided with a heat source (not shown) for heating the base material exit roller 321, and when a heat-meltable material is used as the filling liquid 15, The molten state of the filling liquid 15 can be maintained in the vicinity of the base material carry-out roller 321.

筐体33の基材搬入口ローラ311の外周面に対向する縁部、及び、筐体33の基材搬出口ローラ321の外周面に対向する縁部には、樹脂性のシール部材34が設けられている。本実施の形態では、シール部材34と基材搬入口ローラ311の外周面との間の距離、及びシール部材34と基材搬出口ローラ321の外周面との間の距離は、10μm程度である。   A resinous sealing member 34 is provided on the edge portion of the housing 33 that faces the outer peripheral surface of the base material carry-in roller 311 and the edge portion of the housing 33 that faces the outer peripheral surface of the base material carry-out roller 321. It has been. In the present embodiment, the distance between the sealing member 34 and the outer peripheral surface of the base material carry-in roller 311 and the distance between the sealing member 34 and the outer peripheral surface of the base material carry-out roller 321 are about 10 μm. .

本実施の形態では、減圧チャンバ30の基材搬出口32から基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側にかけて、基材搬送路45の少なくとも一方の側に目詰め液を貯留するための目詰め液溜まり部60が設けられている。目詰め液溜まり部60は、本実施の形態では、減圧チャンバ30の基材搬出口32の周囲に、板状部材61を用いて形成されている。   In the present embodiment, the filling liquid is stored on at least one side of the substrate conveyance path 45 from the substrate carry-out port 32 of the decompression chamber 30 to the downstream side in the conveyance direction of the substrate 10 by the substrate conveyance device 40. For this purpose, a filling liquid reservoir 60 is provided. In this embodiment, the filling liquid reservoir 60 is formed around the base material outlet 32 of the decompression chamber 30 by using a plate-like member 61.

目詰め液供給装置50は、目詰め液15を貯留するための容器51と、容器51から目詰め液15を汲み出すポンプ52と、ポンプ52によって汲み出された目詰め液15を目詰め液溜まり部60へ案内する管53と、を有している。本実施の形態では、容器51には、容器51を加熱する熱源(不図示)が設けられており、エッチング防止剤として熱溶融性の材料が用いられる場合に、当該熱溶融性の材料を容器51内で加熱して溶融させ、所望の粘度の目詰め液15とすることができるようになっている。   The filling liquid supply device 50 includes a container 51 for storing the filling liquid 15, a pump 52 for pumping the filling liquid 15 from the container 51, and the filling liquid 15 pumped by the pump 52. And a pipe 53 that guides the reservoir 60. In the present embodiment, the container 51 is provided with a heat source (not shown) for heating the container 51. When a heat-meltable material is used as an etching inhibitor, the heat-meltable material is stored in the container. It can be heated and melted in 51 to obtain a filling liquid 15 having a desired viscosity.

なお、目詰め液15としては、エッチング防止剤に限られない。例えば、基材10がテレビやパソコンの画面に用いられる反射防止フィルムや、横のぞき防止のためのルーバー、コントラストを向上させるフィルム作成用のPET基材やTAC基材などである場合には、所望の機能層を形成するためのコーティング剤であってもよい。また、基材10が木目模様などの細かい模様を有する壁紙作成用の基材であって、所望の模様に対応する微細孔が設けられた基材である場合には、目詰め液15は、着色剤であってもよい。そして、目詰め液15として熱溶融性の材料が用いられない場合には、目詰め液供給装置50の容器51及び減圧チャンバ30の基材搬出口ローラ321は、当該容器51及び当該基材搬出口ローラ321を加熱するための熱源を有していなくてよい。   Note that the filling liquid 15 is not limited to an etching inhibitor. For example, when the substrate 10 is an antireflection film used for a screen of a television or a personal computer, a louver for preventing side peeping, a PET substrate or a TAC substrate for creating a film for improving contrast, etc. It may be a coating agent for forming the functional layer. Moreover, when the base material 10 is a base material for wallpaper having a fine pattern such as a wood grain pattern and is a base material provided with micropores corresponding to a desired pattern, the filling liquid 15 is: It may be a colorant. When a heat-meltable material is not used as the filling liquid 15, the container 51 of the filling liquid supply device 50 and the substrate carry-out / out roller 321 of the decompression chamber 30 are connected to the container 51 and the substrate carrying material. It is not necessary to have a heat source for heating the exit roller 321.

基材搬送装置40は、本実施の形態では、当該基材搬送装置40による基材10の搬送方向の最も下流側に設けられ、基材10を巻き取るようになっている基材巻取軸42と、基材搬送路45上において基材供給装置20と基材巻取軸42との間に設けられた送りローラ46と、を有している。基材巻取軸42には、当該基材巻取軸42を回転駆動するための駆動部43が設けられている。   In the present embodiment, the base material transport device 40 is provided on the most downstream side in the transport direction of the base material 10 by the base material transport device 40 and is configured to wind up the base material 10. 42 and a feed roller 46 provided between the base material supply device 20 and the base material winding shaft 42 on the base material conveyance path 45. The substrate take-up shaft 42 is provided with a drive unit 43 for rotationally driving the substrate take-up shaft 42.

また、基材巻取軸42と目詰め液溜まり部60との間には、基材10上に配置された余剰の目詰め液15を掻き取るための基材用スキージ71が設けられている。本実施の形態においては、基材スキージ71は、その基材搬送路45側の端部と、基材搬送路45上を搬送される基材10の表面と、間の距離が、20μm以上となるように位置決めされている。   A base material squeegee 71 is provided between the base material take-up shaft 42 and the filling liquid reservoir 60 to scrape off the excessive filling liquid 15 disposed on the base material 10. . In the present embodiment, the base material squeegee 71 has a distance between the end on the base material transport path 45 side and the surface of the base material 10 transported on the base material transport path 45 of 20 μm or more. It is positioned so that

次に、以上のような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the present embodiment configured as described above will be described.

まず、一方の面の側からのみ所望のパターンで基材10の厚みTの半分程度の深さDまでエッチングされて、当該一方の面の側に微細孔12が形成されたシート状の基材10がロール状にされた基材ロール10'が、基材供給装置20の基材給送軸22にセットされる。微細孔12の開口部の幅eは、20μm程度である。そして、基材ロール10'から巻き出された基材10が、減圧チャンバ30の基材搬入口31を通じて減圧チャンバ30の外部から内部へ通された後、基材搬出口32を通じて減圧チャンバ30の内部から外部へ通される。その後、基材10は、一方の基材搬出口ローラ321の外周面と目詰め液溜まり部60の板状部材61との間を通過され、基材用スキージ71と送りローラ46との間を通過される。そして、基材10の巻き出し開始側の端部が、搬送装置40の基材巻取軸42に固定される。ここで、基材10は、目詰め液溜まり部60内において、基材10の微細孔12側の面が目詰め液溜まり部60に貯留される目詰め液15に接することができるように、すなわち基材10の微細孔12側の面とは反対の側の面が基材搬出口ローラ321の外周面と対向するように、配置される。これにより、目詰め液15が貯留される目詰め液溜まり部60に、基材10の微細孔12側を通過させ得る。   First, a sheet-like base material that is etched only from one surface side to a depth D that is about half the thickness T of the base material 10 with a desired pattern, and has fine holes 12 formed on the one surface side. A base material roll 10 ′ in which 10 is rolled is set on the base material feeding shaft 22 of the base material supply device 20. The width e of the opening of the fine hole 12 is about 20 μm. Then, after the base material 10 unwound from the base material roll 10 ′ is passed from the outside to the inside of the decompression chamber 30 through the base material inlet 31 of the decompression chamber 30, Passed from inside to outside. Thereafter, the base material 10 is passed between the outer peripheral surface of one base material carry-out roller 321 and the plate-like member 61 of the filling liquid reservoir 60, and between the base material squeegee 71 and the feed roller 46. Is passed. The end of the base material 10 on the unwinding start side is fixed to the base material winding shaft 42 of the transport device 40. Here, in the filling liquid reservoir 60, the base material 10 can come into contact with the filling liquid 15 stored in the filling liquid reservoir 60 on the surface of the base 10 on the side of the fine holes 12. That is, the substrate 10 is disposed so that the surface opposite to the surface on the fine hole 12 side of the substrate 10 faces the outer peripheral surface of the substrate carry-out / out roller 321. Thereby, the fine hole 12 side of the base material 10 can be passed through the filling liquid reservoir 60 in which the filling liquid 15 is stored.

次に、エッチング防止剤としての熱溶融性ウレタン樹脂が、目詰め液供給装置50の容器51に供給され、1000cP程度の粘度を有するように容器51によって100℃程度に加熱されて溶融される。溶融された熱溶融性ウレタン樹脂は、目詰め液15として、ポンプ52によって容器51から汲み出され、管53によって案内され、目詰め液溜まり部60に貯留される。目詰め液溜まり60に貯留された目詰め液15は、目詰め液溜まり部60の底部において、減圧チャンバ30の基材搬出口321及び一方の基材搬出口ローラ321の外周面上に位置する基材10に接している。   Next, a hot-melt urethane resin as an etching inhibitor is supplied to the container 51 of the filling liquid supply apparatus 50 and is heated to about 100 ° C. and melted by the container 51 so as to have a viscosity of about 1000 cP. The melted hot-melt urethane resin is pumped out of the container 51 by the pump 52 as the filling liquid 15, guided by the pipe 53, and stored in the filling liquid reservoir 60. The filling liquid 15 stored in the filling liquid reservoir 60 is located on the outer peripheral surface of the base material carry-out port 321 of the decompression chamber 30 and one of the base material carry-out rollers 321 at the bottom of the filling solution reservoir 60. It is in contact with the substrate 10.

また、減圧チャンバ30は真空引きされ、減圧チャンバ30の内部が、1Torr以下の減圧状態に維持される。そして、一対の基材搬出口ローラ321が、不図示の熱源によって外周面の温度が100℃程度になるように加熱され、目詰め液溜まり60内において基材10に接する目詰め液15の粘度が、1000cP程度に維持される。   The decompression chamber 30 is evacuated, and the interior of the decompression chamber 30 is maintained in a decompressed state of 1 Torr or less. Then, the pair of base material carry-out / out rollers 321 are heated by a heat source (not shown) so that the temperature of the outer peripheral surface becomes about 100 ° C., and the viscosity of the filling liquid 15 in contact with the base material 10 in the filling liquid reservoir 60 is reached. However, it is maintained at about 1000 cP.

もっとも、基材10に接する目詰め液15の粘度は、微細孔12の開口の幅eによっては1000cPより大きくてもよい。本件発明者が得た知見によれば、微細孔12内が1Torr以下に減圧され、当該微細孔12の開口の幅eが20μm程度である場合には10000cP程度、より好ましくは5000cP程度であればよく、開口の幅eが50μm程度である場合には10000cP程度であればよい。   However, the viscosity of the filling liquid 15 in contact with the substrate 10 may be larger than 1000 cP depending on the width e of the opening of the micropore 12. According to the knowledge obtained by the present inventors, when the inside of the micropore 12 is decompressed to 1 Torr or less and the width e of the opening of the micropore 12 is about 20 μm, about 10,000 cP, more preferably about 5000 cP. If the opening width e is about 50 μm, it may be about 10000 cP.

また、減圧チャンバ30は、微細孔12の開口の幅eないし目詰め液15の粘度によっては、1Torrより高い減圧状態に維持されてもよい。   Further, the decompression chamber 30 may be maintained in a decompressed state higher than 1 Torr depending on the width e of the opening of the fine hole 12 or the viscosity of the filling liquid 15.

この状態で、基材10は、基材搬送装置40によって搬送される。具体的には、基材搬送装置40による基材10の搬送方向の最も下流側に設けられた基材巻取軸42が、基材10が所望の搬送速度で搬送されるように、駆動部43によって回転され、基材10の基材巻取軸42への巻き取りが開始される。   In this state, the base material 10 is transported by the base material transport device 40. Specifically, the drive unit is arranged such that the base material winding shaft 42 provided on the most downstream side in the transport direction of the base material 10 by the base material transport apparatus 40 transports the base material 10 at a desired transport speed. 43, the winding of the base material 10 onto the base material winding shaft 42 is started.

基材10が基材巻取軸42に巻き取られるのに伴って、基材供給装置20の基材給送軸22と共に基材ロール10'が回転されながら、基材ロール10'から基材10が給送される。   As the base material 10 is wound around the base material take-up shaft 42, the base material roll 10 ′ is rotated together with the base material feed shaft 22 of the base material supply device 20, while the base material roll 10 ′ is rotated. 10 is fed.

また、減圧チャンバ30の一対の基材搬入口ロール311が、外周面の互いに対向する側の速度が基材10の所望の搬送速度に一致するように、駆動部313によって回転される。同時に、一対の基材搬出口ロール321が、外周面の互いに対向する側の速度が基材10の所望の搬送速度に一致するように、駆動部323によって回転される。そして、基材給送軸22にセットされた基材ロール10'から給送された基材10は、基材巻取軸42の回転によって、減圧チャンバ30の基材搬入口31を通じて減圧チャンバ30の外部から内部へ搬送される。   In addition, the pair of base material carry-in rolls 311 of the decompression chamber 30 are rotated by the drive unit 313 so that the speeds of the outer peripheral surfaces on the opposite sides coincide with the desired transport speed of the base material 10. At the same time, the pair of base material carry-out rolls 321 are rotated by the driving unit 323 so that the speeds of the opposite sides of the outer peripheral surface coincide with the desired transport speed of the base material 10. Then, the base material 10 fed from the base material roll 10 ′ set on the base material feeding shaft 22 is rotated through the base material carry-in port 31 of the decompression chamber 30 by the rotation of the base material winding shaft 42. From outside to inside.

減圧チャンバ30内に搬送された基材10は、減圧チャンバ30内の減圧環境下に置かれ、当該基材10の微細孔12内の空気が除去される。   The substrate 10 transported into the decompression chamber 30 is placed in a decompressed environment in the decompression chamber 30, and air in the micropores 12 of the substrate 10 is removed.

微細孔12内の空気が除去された基材10は、基材巻取軸42の回転によって、減圧チャンバ30の基材搬出口32を通じて減圧チャンバ30の内部から外部へ、すなわち目詰め液溜まり部60へ搬送される。このようにして、減圧チャンバ30から搬出された基材10は、大気圧下に戻されるのと同時に、基材10の微細孔12側が目詰め液15が貯留された目詰め液溜まり部60を通過され、当該微細孔12に目詰め液15が継続的に供給される。そして、大気圧力の作用によって、目詰め液15が、当該基材10の微細孔12内に充填される。   The base material 10 from which the air in the micropores 12 has been removed is moved from the inside of the decompression chamber 30 to the outside through the base material outlet 32 of the decompression chamber 30 by the rotation of the base take-up shaft 42, that is, the filling liquid reservoir. 60. Thus, the base material 10 carried out from the decompression chamber 30 is returned to the atmospheric pressure, and at the same time, the fine hole 12 side of the base material 10 has the filling liquid reservoir 60 in which the filling liquid 15 is stored. Then, the filling liquid 15 is continuously supplied to the fine holes 12. Then, the filling liquid 15 is filled in the fine holes 12 of the base material 10 by the action of the atmospheric pressure.

目詰め液溜まり部60を通過された基材10は、基材巻取軸42の回転によってさらに搬送され、基材用スキージ71と送りローラ46との間を通過される。この時、基材用スキージ71によって、目詰め液溜まり部60において基材10上に配置された余剰の目詰め液15(エッチング防止剤)が掻き取られ、図2(c)に示すように、基材10上に20μm程度の厚さhの目詰め液15(エッチング防止剤)の層が形成される。   The substrate 10 that has passed through the filling liquid reservoir 60 is further conveyed by the rotation of the substrate take-up shaft 42, and passes between the substrate squeegee 71 and the feed roller 46. At this time, the excess squeegee 15 (etching inhibitor) disposed on the substrate 10 is scraped off by the substrate squeegee 71 in the filling liquid reservoir 60, as shown in FIG. 2 (c). Then, a layer of the filling liquid 15 (etching inhibitor) having a thickness h of about 20 μm is formed on the substrate 10.

基材10上に形成された目詰め液15(エッチング防止剤)の層は、基材10の搬送中に冷却されて固化する。そして、目詰め液15(エッチング防止剤)の層が形成された基材10は、基材巻取軸42の回転によって、基材巻取軸42に巻き取られる。   The layer of the filling liquid 15 (etching inhibitor) formed on the substrate 10 is cooled and solidified during the conveyance of the substrate 10. Then, the base material 10 on which the layer of the filling liquid 15 (etching inhibitor) is formed is wound around the base material winding shaft 42 by the rotation of the base material winding shaft 42.

以上のように、本実施の形態によれば、基材10を減圧チャンバ30内の減圧環境下に置くことにより、微細孔12から空気を除去し得る。また、目詰め液供給装置50から減圧チャンバ30の基材搬出口32に向けて目詰め液15を供給することにより、減圧チャンバ30内の減圧環境下に置かれた基板10が大気圧下に戻される前に、または、戻されるのと同時に、微細孔12内に目詰め液15を継続的に供給し得る。したがって、内部の空気が除去された微細孔12内に目詰め液15を充填する、ということが可能である。この結果、目詰め液15が充填される際に微細孔12内に気泡が形成されてしまう、ということが抑制される。また、基材供給装置20が減圧チャンバ30の外に配置されているため、比較的小さな減圧チャンバを用いることが可能である。   As described above, according to the present embodiment, air can be removed from the micropores 12 by placing the base material 10 in a reduced pressure environment in the reduced pressure chamber 30. Further, by supplying the filling liquid 15 from the filling liquid supply device 50 toward the base material outlet 32 of the decompression chamber 30, the substrate 10 placed in the decompressed environment in the decompression chamber 30 is brought to atmospheric pressure. Before or at the same time as being returned, the filling liquid 15 can be continuously supplied into the micropores 12. Therefore, it is possible to fill the filling liquid 15 into the fine holes 12 from which the internal air has been removed. As a result, bubbles are prevented from being formed in the micropores 12 when the filling liquid 15 is filled. In addition, since the substrate supply device 20 is disposed outside the decompression chamber 30, a relatively small decompression chamber can be used.

また、微細孔の開口の幅eが20μm程度であるのに対し、基材10の微細孔12に供給される際の目詰め液の粘度は、1000cP程度である。このため、微細孔12の開口の幅eに対して目詰め液15の粘度が高すぎて微細孔12が目詰め液15によって所望のように充填されない、ということが抑制される。   The opening width e of the fine holes is about 20 μm, whereas the viscosity of the filling liquid when supplied to the fine holes 12 of the substrate 10 is about 1000 cP. For this reason, it is suppressed that the viscosity of the filling liquid 15 is too high with respect to the opening width e of the fine holes 12 and the fine holes 12 are not filled with the filling liquid 15 as desired.

また、基材供給装置20は、基材ロール10'がセットされ、当該基材ロール10'から基材10としてシート状の基材が供給されるように当該基材ロール10'を回転させるようになっている基材給送軸22を有している。このため、シート状の基材10を連続的に供給し得る。   In addition, the base material supply device 20 is set so that the base material roll 10 ′ is set, and the base material roll 10 ′ is rotated so that a sheet-like base material is supplied as the base material 10 from the base material roll 10 ′. The base material feeding shaft 22 is formed. For this reason, the sheet-like base material 10 can be continuously supplied.

なお、基材10が枚葉状の基材である場合には、基材供給装置20は、搬送ウェブロールがセットされ、当該搬送ウェブロールから搬送ウェブが供給されるように当該搬送ウェブロールを回転させるようになっている搬送ウェブ給送軸22と、搬送ウェブロールから供給される搬送ウェブ上に枚葉状の基材10を載置する基材載置装置と、を有していてもよい。この場合、枚葉状の基材10を連続的に供給し得る。   In addition, when the base material 10 is a sheet-like base material, the base material supply apparatus 20 rotates the said conveyance web roll so that a conveyance web roll is set and a conveyance web is supplied from the said conveyance web roll. You may have the conveyance web feeding axis | shaft 22 which is made to carry out, and the base material mounting apparatus which mounts the sheet-like base material 10 on the conveyance web supplied from a conveyance web roll. In this case, the sheet-like base material 10 can be continuously supplied.

また、減圧チャンバ30は、内部を1Torr以下の減圧状態に維持可能である。このため、基材10の微細孔12内の空気を十分に除去し、大気圧力の作用により微細孔12内に目詰め液15を充填し得る。   Further, the decompression chamber 30 can be maintained in a decompressed state of 1 Torr or less. For this reason, the air in the fine holes 12 of the substrate 10 can be sufficiently removed, and the filling liquid 15 can be filled into the fine holes 12 by the action of atmospheric pressure.

また、減圧チャンバ30の基材搬入口31は、外周面が隣り合うように軸312が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬入口ローラ311によって当該一対の基材搬入口ローラ311の外周面の間に規定されており、減圧チャンバ30の基材搬出口32は、外周面が隣り合うように軸322が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬出口ローラ321によって当該一対の基材搬出口ローラ321の外周面の間に規定されている。これにより、連続的に供給される基材10を連続的に減圧環境下に置く、ということが容易である。   Further, the base material carry-in port 31 of the decompression chamber 30 is formed by a pair of base material carry-in rollers 311 provided such that the shafts 312 are parallel and rotatable with respect to each other so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other. The base material unloading port 32 of the decompression chamber 30 is defined between the outer peripheral surfaces of the rollers 311, and a pair of base material transports in which shafts 322 are provided so as to be parallel and rotatable with respect to each other so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other. The outlet roller 321 is defined between the outer peripheral surfaces of the pair of base material carry-out rollers 321. Thereby, it is easy to place the continuously supplied base material 10 under a reduced pressure environment.

また、減圧チャンバ30の基材搬出口32から基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側にかけて、基材搬送路45の少なくとも一方の側に目詰め液15を貯留するための目詰め液溜まり部60が設けられている。このため、基材10を減圧チャンバ30内の減圧環境下に置いた後、連続的に当該基材10の微細孔12側を目詰め液15が貯留された目詰め液溜まり部60に通過させることが可能である。したがって、減圧環境下に置かれた基材10を大気圧下に戻す前に、または、戻すのと同時に、当該基材10の微細孔12に目詰め液15を継続的に供給し得る。これにより、大気圧下に戻された微細孔12内に空気が侵入してしまう前に当該微細孔12内に目詰め液15を充填する、ということが可能である。これにより、目詰め液15が充填される際に微細孔12内に気泡が形成されてしまう、ということがより顕著に抑制される。   Further, an eye for storing the filling liquid 15 on at least one side of the base material transport path 45 from the base material carry-out port 32 of the decompression chamber 30 to the downstream side in the transport direction of the base material 10 by the base material transport device 40. A filling liquid reservoir 60 is provided. For this reason, after the base material 10 is placed in a decompressed environment in the decompression chamber 30, the fine hole 12 side of the base material 10 is continuously passed through the filling liquid reservoir 60 in which the filling liquid 15 is stored. It is possible. Accordingly, the filling liquid 15 can be continuously supplied to the micropores 12 of the base material 10 before or simultaneously with returning the base material 10 placed in a reduced pressure environment to the atmospheric pressure. Thereby, it is possible to fill the filling liquid 15 into the fine holes 12 before air enters the fine holes 12 returned to the atmospheric pressure. Thereby, when the filling liquid 15 is filled, it is more remarkably suppressed that bubbles are formed in the micropores 12.

次に、図3により、本発明による目詰め液充填装置の第2の実施の形態について説明する。   Next, a second embodiment of the filling liquid filling device according to the present invention will be described with reference to FIG.

図3は、本発明の第2の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図である。本実施の形態の目詰め液充填装置は、第1の実施の形態による目詰め液充填装置100に対して、フィルムロール81'がセットされ、当該フィルムロール81'からフィルム81が供給されるように当該フィルムロール81'を回転させるようになっているフィルム給送軸82と、フィルムロール81'から供給されたフィルム81が減圧チャンバ30の基材搬入口31を通じて当該減圧チャンバ30の外部から内部へ且つ基材搬出口32を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるようなフィルム搬送路84を構成するフィルム搬送装置87と、を更に備えている点が異なっている。   FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of a filling liquid filling apparatus according to the second embodiment of the present invention. In the filling liquid filling device of the present embodiment, the film roll 81 ′ is set and the film 81 is supplied from the film roll 81 ′ with respect to the filling liquid filling device 100 according to the first embodiment. The film feed shaft 82 configured to rotate the film roll 81 ′ and the film 81 supplied from the film roll 81 ′ from the outside of the decompression chamber 30 through the base material inlet 31 of the decompression chamber 30. And a film transport device 87 that constitutes a film transport path 84 that is transported from the inside of the decompression chamber to the outside through the base material exit port 32.

フィルム81は、本実施の形態では、幅が基材10の幅Wと略同じであり厚みが50μm程度のシート状のPETフィルムである。   In the present embodiment, the film 81 is a sheet-like PET film having a width that is substantially the same as the width W of the substrate 10 and a thickness of approximately 50 μm.

フィルム給送軸82は、本実施の形態では、減圧チャンバ30に対して基材搬送装置40による基材10の搬送方向の上流側に、基材給送軸22に対して平行に設けられている。   In the present embodiment, the film feed shaft 82 is provided in parallel to the base material feed shaft 22 on the upstream side in the transport direction of the base material 10 by the base material transport device 40 with respect to the decompression chamber 30. Yes.

フィルム搬送装置87は、本実施の形態では、フィルム搬送装置87によるフィルム81の搬送方向の最も下流側に設けられ、フィルム給送軸82にセットされたフィルムロール81'から給送されるフィルム81を巻き取るようになっているフィルム巻取軸88と、送りローラ86と、を有している。   In this embodiment, the film transport device 87 is provided on the most downstream side in the transport direction of the film 81 by the film transport device 87 and is fed from a film roll 81 ′ set on the film feed shaft 82. Has a film take-up shaft 88 and a feed roller 86.

フィルム搬送路84は、本実施の形態では、減圧チャンバ30内の少なくとも一部の領域において、基材搬送路45から離間されるように構成されている。具体的には、減圧チャンバ30内の基材搬送路45に対してフィルム搬送路84の側に、フィルム離間用ローラ85が、基材搬送路45から離間されて配置されている。   In the present embodiment, the film conveyance path 84 is configured to be separated from the base material conveyance path 45 in at least a part of the region within the decompression chamber 30. Specifically, a film separation roller 85 is disposed on the side of the film conveyance path 84 with respect to the substrate conveyance path 45 in the decompression chamber 30 so as to be separated from the substrate conveyance path 45.

また、フィルム搬送路84は、減圧チャンバ30の基材搬出口32に対して基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側において、当該フィルム搬送路84と基材搬送路45との間に目詰め液溜まり部60'を形成するように構成されている。具体的には、減圧チャンバ30の基材搬出口32と基材巻取軸42との間の領域であって基材搬送路45に対してフィルム搬送路84の側に、目詰め液溜まり部用ローラ91が、基材搬送路45から離間されて配置されている。そして、目詰め液供給装置50の管53は、基材搬送路45とフィルム搬送路84との間に形成される目詰め液溜まり部60'内に、容器51からポンプ52によって汲み上げられた目詰め液15を案内するように配置されている。ここで、本実施の形態では、目詰め液15として、紫外線硬化型樹脂が用いられる。   In addition, the film conveyance path 84 is located between the film conveyance path 84 and the substrate conveyance path 45 on the downstream side in the conveyance direction of the substrate 10 by the substrate conveyance device 40 with respect to the substrate carry-out port 32 of the decompression chamber 30. A clogging liquid reservoir 60 'is formed between them. Specifically, in the region between the base material carry-out port 32 and the base material take-up shaft 42 of the decompression chamber 30 and on the side of the film transport path 84 with respect to the base material transport path 45, the clogging liquid reservoir portion The roller 91 is disposed away from the substrate conveyance path 45. The pipe 53 of the filling liquid supply device 50 is filled with the eyes pumped from the container 51 by the pump 52 into the filling liquid reservoir 60 ′ formed between the base material conveyance path 45 and the film conveyance path 84. It arrange | positions so that the filling liquid 15 may be guided. Here, in the present embodiment, an ultraviolet curable resin is used as the filling liquid 15.

本実施の形態では、目詰め液溜まり部60'に対してフィルム搬送装置87によるフィルム81の搬送方向の下流側には、目詰め液溜まり60'を通過されたフィルム81上の目詰め液15を掻き取るためのフィルム用スキージ72が設けられている。フィルム用スキージ72は、フィルム用スキージ72の先端部がフィルム搬送路84上を搬送されるフィルム81の表面に当接するように位置決めされており、目詰め液溜まり60'においてフィルム81上に配置される目詰め液15を十分に掻き取ることができるようになっている。   In the present embodiment, the filling liquid 15 on the film 81 that has passed through the filling liquid reservoir 60 ′ is disposed downstream of the filling liquid reservoir 60 ′ in the direction in which the film 81 is conveyed by the film conveying device 87. A film squeegee 72 is provided to scrape off the film. The film squeegee 72 is positioned so that the tip of the film squeegee 72 abuts on the surface of the film 81 conveyed on the film conveyance path 84 and is disposed on the film 81 in the filling liquid reservoir 60 ′. The filling liquid 15 can be sufficiently scraped off.

また、本実施の形態の目詰め液充填装置100'は、目詰め液溜まり部60'に対して基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側、より具体的には基材用スキージ71及びフィルム用スキージ72に対して基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側において、当該基材搬送装置40によって搬送される当該基材10と、フィルム搬送装置87によって搬送されるフィルム81と、を互いに対して押圧するようになっている押圧ローラ93を備えている。押圧ローラ93は、本実施の形態では、目詰め液溜まり用部ローラ91と基材搬送装置40との間の領域に設けられた一対の押圧ローラである。   Further, the filling liquid filling device 100 ′ of the present embodiment is downstream of the filling liquid reservoir 60 ′ in the conveyance direction of the substrate 10 by the substrate conveyance device 40, more specifically for the substrate. The substrate 10 conveyed by the substrate conveying device 40 and the film conveying device 87 are conveyed downstream of the squeegee 71 and the film squeegee 72 in the conveying direction of the substrate 10 by the substrate conveying device 40. And a pressing roller 93 configured to press the film 81 against each other. In this embodiment, the pressing roller 93 is a pair of pressing rollers provided in a region between the filling liquid reservoir roller 91 and the substrate conveying device 40.

押圧ローラ93と基材搬送装置40との間の領域には、一対の送りローラ86'が、外周面が隣り合うように配置されており、押圧ローラ93と当該送りローラ86'との間において、基材10とフィルム81とが互いに密着した状態で搬送されるようになっている。   In a region between the pressing roller 93 and the substrate conveying device 40, a pair of feeding rollers 86 ′ are arranged so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other, and between the pressing roller 93 and the feeding roller 86 ′. The substrate 10 and the film 81 are conveyed in a state of being in close contact with each other.

押圧ローラ93と送りローラ86'との間の領域には、紫外線照射装置95が設けられており、当該領域における基材搬送路45に対して紫外線を照射して、当該領域を通過する基材10の微細孔12内に目詰め液15として充填された紫外線硬化型樹脂を硬化させることができるようになっている。なお、目詰め液15として、熱硬化性の材料が用いられる場合には、当該領域には加熱装置が設けられてもよい。   An ultraviolet irradiation device 95 is provided in a region between the pressing roller 93 and the feed roller 86 ′, and the base material passing through the region by irradiating the base material conveyance path 45 in the region with ultraviolet light. The ultraviolet curable resin filled as the filling liquid 15 in the ten fine holes 12 can be cured. In the case where a thermosetting material is used as the filling liquid 15, a heating device may be provided in the region.

その他の構成は、図1の実施の形態による目詰め液充填装置100の構成と、略同一である。図3に示す実施の形態において図1に示す実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。   Other configurations are substantially the same as the configuration of the filling liquid filling device 100 according to the embodiment of FIG. In the embodiment shown in FIG. 3, the same parts as those of the embodiment shown in FIG.

次に、以上のような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the present embodiment configured as described above will be described.

まず、一方の面の側に微細孔12が形成されたシート状の基材10がロール状にされた基材ロール10'が、基材供給装置20の基材給送軸22にセットされる。微細孔12の開口部の幅eは、20〜30μm程度である。そして、基材ロール10'から巻き出された基材10が、減圧チャンバ30の基材搬入口31を通じて減圧チャンバ30の外部から内部へ通された後、減圧チャンバ30の基材搬出口32を通じて減圧チャンバ30の内部から外部へ通される。その後、基材10は、基材用スキージ71と送りローラ46との間の領域を通過される。そして、一対の押圧ローラ93の間を通過された後、基材10の巻き出し開始側の端部が、搬送装置40の基材巻取軸42に固定される。なお、基材10は、少なくとも基材搬送路45とフィルム搬送路84との間に形成される目詰め液溜まり部60'内において、基材10の微細孔12側の面がフィルム搬送路84に対向するように配置される。このようにして、目詰め液15が貯留される目詰め液溜まり部60'に基材10の微細孔12側を通過させることができるようになっている。   First, a base material roll 10 ′ in which a sheet-like base material 10 in which micropores 12 are formed on one side is formed into a roll is set on a base material feeding shaft 22 of a base material supply device 20. . The width e of the opening of the fine hole 12 is about 20 to 30 μm. Then, the base material 10 unwound from the base material roll 10 ′ is passed from the outside to the inside of the decompression chamber 30 through the base material carry-in port 31 of the decompression chamber 30, and then passed through the base material carry-out port 32 of the decompression chamber 30. The decompression chamber 30 is passed from the inside to the outside. Thereafter, the substrate 10 is passed through a region between the substrate squeegee 71 and the feed roller 46. And after passing between a pair of press rollers 93, the edge part by the side of the unwinding start of the base material 10 is fixed to the base material winding shaft 42 of the conveying apparatus 40. In the base material 10, the surface of the base material 10 on the fine hole 12 side is at least the film transport path 84 in the filling liquid reservoir 60 ′ formed between the base material transport path 45 and the film transport path 84. It arrange | positions so that it may oppose. In this way, the fine hole 12 side of the base material 10 can be passed through the filling liquid reservoir 60 ′ where the filling liquid 15 is stored.

また、基材10の幅Wと同程度の幅を有するPETフィルム81をロール状にしたフィルムロール81'が、フィルム給送軸82にセットされる。PETフィルム81の厚さは、20〜30μm程度である。そして、フィルムロール81'から巻き出されたフィルム81が、減圧チャンバ30の基材搬入口31を通じて減圧チャンバ30の外部から内部へ通され、減圧チャンバ30内に配置されたフィルム離間用ローラ85に対して基材搬送路45とは反対の側へ案内された後、減圧チャンバ30の基材搬出口32を通じて減圧チャンバ30の内部から外部へ通される。その後、フィルム81は、送りローラ86とフィルム用スキージ72との間を通され、目詰め液溜まり部用ローラ91に対して基材搬送路45とは反対の側へ案内された後、一対の押圧ローラ93の間を通過される。一対の押圧ローラ93の間を通過されたフィルム81は、一対の送りローラ86'の間を通過された後、その巻き出し開始側の端部がフィルム巻取軸88に固定される。   In addition, a film roll 81 ′ in which a PET film 81 having the same width as the width W of the substrate 10 is rolled is set on the film feeding shaft 82. The thickness of the PET film 81 is about 20 to 30 μm. Then, the film 81 unwound from the film roll 81 ′ is passed from the outside to the inside of the decompression chamber 30 through the base material inlet 31 of the decompression chamber 30, and is applied to the film separation roller 85 disposed in the decompression chamber 30. On the other hand, after being guided to the side opposite to the substrate conveyance path 45, it is passed from the inside of the decompression chamber 30 to the outside through the substrate carry-out port 32 of the decompression chamber 30. Thereafter, the film 81 is passed between the feed roller 86 and the film squeegee 72 and guided to the side opposite to the substrate transport path 45 with respect to the filling liquid reservoir roller 91, and then a pair of Passed between the pressing rollers 93. The film 81 passed between the pair of pressing rollers 93 is passed between the pair of feed rollers 86 ′, and then the end portion on the unwinding start side is fixed to the film winding shaft 88.

そして、基材10とフィルム81との間に目詰め液供給装置50から供給される目詰め液15を貯留することができるよう、減圧チャンバ30に対して基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側であって基材搬出口32の周囲に、不図示の板状部材が、基材10とフィルム81と板状部材とで囲まれた空間が形成されるよう、基材10とフィルム81の縁部に接触して配置される。このようにして、基材搬出口32に対して基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側において、目詰め液溜まり部用ローラ91によって互いから離間されたフィルム81と基材10との間に、目詰め液溜まり部61'が形成される。   And the base material 10 of the base material conveyance apparatus 40 with respect to the decompression chamber 30 is stored so that the filling liquid 15 supplied from the filling liquid supply apparatus 50 can be stored between the base material 10 and the film 81. The base material 10 is formed so that a space surrounded by the base material 10, the film 81, and the plate-like member is formed around the base material carry-out port 32 on the downstream side in the transport direction. And in contact with the edge of the film 81. In this way, the film 81 and the substrate 10 separated from each other by the filling liquid reservoir roller 91 on the downstream side in the conveyance direction of the substrate 10 by the substrate conveyance device 40 with respect to the substrate carry-out port 32. In between, a filling liquid reservoir 61 'is formed.

次に、目詰め液15として、1000cP程度の粘度を有する紫外線硬化型樹脂が、目詰め液供給装置50の容器51に供給される。容器51内の目詰め液15は、ポンプ52によって容器51から汲み出され、管53によって案内され、目詰め液溜まり部60'に貯留される。これにより、目詰め液溜まり60'に貯留された目詰め液15は、目詰め液溜まり部60'内において、基材10の微細孔12側の面及びフィルム81の一側面と接することとなる。   Next, an ultraviolet curable resin having a viscosity of about 1000 cP is supplied to the container 51 of the plugging liquid supply device 50 as the plugging liquid 15. The filling liquid 15 in the container 51 is pumped out of the container 51 by the pump 52, guided by the pipe 53, and stored in the filling liquid reservoir 60 '. Thereby, the filling liquid 15 stored in the filling liquid reservoir 60 ′ comes into contact with the surface of the substrate 10 on the fine hole 12 side and one side surface of the film 81 in the filling liquid reservoir 60 ′. .

また、減圧チャンバ30は真空引きされ、減圧チャンバ30の内部が、1Torr以下の減圧状態に維持される。   The decompression chamber 30 is evacuated, and the interior of the decompression chamber 30 is maintained in a decompressed state of 1 Torr or less.

この状態で、基材10は、基材搬送装置40によって搬送される。具体的には、基材巻取軸42が、基材10が所望の搬送速度で搬送されるように、駆動部43によって回転され、基材10の基材巻取軸42への巻き取りが開始される。そして、基材10が基材巻取軸42に巻き取られるのに伴って、基材供給装置20の基材給送軸22と共に基材ロール10'が回転されながら、基材ロール10'から基材10が給送される。   In this state, the base material 10 is transported by the base material transport device 40. Specifically, the substrate winding shaft 42 is rotated by the drive unit 43 so that the substrate 10 is conveyed at a desired conveyance speed, and the substrate 10 is wound around the substrate winding shaft 42. Be started. Then, as the base material 10 is wound around the base material take-up shaft 42, the base material roll 10 ′ is rotated together with the base material feed shaft 22 of the base material supply device 20, while rotating from the base material roll 10 ′. The substrate 10 is fed.

また、基材巻取軸42の回転が開始されるのと同時に、フィルム搬送装置87によるフィルム81の搬送方向の最も下流側に設けられたフィルム巻取軸88が、フィルム81が基材10の所望の搬送速度に一致して搬送されるように、駆動部89によって回転され、フィルム81のフィルム巻取軸88への巻き取りが開始される。そして、フィルム81がフィルム巻取軸88に巻き取られるのに伴って、フィルム給送軸82と共にフィルムロール81'が回転されながら、フィルムロール81'からフィルム81が給送される。   At the same time as the rotation of the substrate winding shaft 42 is started, the film winding shaft 88 provided on the most downstream side in the conveying direction of the film 81 by the film conveying device 87 is connected to the film 81 of the substrate 10. The film is rotated by the drive unit 89 so as to be conveyed in accordance with a desired conveyance speed, and winding of the film 81 onto the film winding shaft 88 is started. The film 81 is fed from the film roll 81 ′ while the film roll 81 ′ is rotated together with the film feeding shaft 82 as the film 81 is wound on the film winding shaft 88.

また、減圧チャンバ30の一対の基材搬入口ロール311及び一対の基材搬出口ロール321が、外周面の互いに対向する側の速度が基材10の所望の搬送速度に一致するように、それぞれ駆動部312及び322によって回転される。   Further, the pair of base material carry-in rolls 311 and the pair of base material carry-out rolls 321 of the decompression chamber 30 are respectively set so that the speeds of the opposite sides of the outer peripheral surface coincide with the desired transport speed of the base material 10. It is rotated by the drive units 312 and 322.

減圧チャンバ30の基材搬入口ローラ311によって互いに接触されて減圧チャンバ30内に搬送された基材10及びフィルム81は、減圧チャンバ30内の減圧環境下に置かれると共に、フィルム81がフィルム離間用ローラ85に案内されることよって互いから離間される。そして、減圧チャンバ30内で、基材10の微細孔12内の空気が除去される。   The substrate 10 and the film 81 which are brought into contact with each other by the substrate carry-in roller 311 of the decompression chamber 30 and are transported into the decompression chamber 30 are placed in a decompressed environment in the decompression chamber 30 and the film 81 is used for film separation. They are separated from each other by being guided by the rollers 85. Then, the air in the micropores 12 of the base material 10 is removed in the decompression chamber 30.

微細孔12内の空気が除去された基材10及びフィルム81は、それぞれ基材巻取軸42及びフィルム巻取軸88の回転によってさらに搬送され、減圧チャンバ30の基材搬出口ローラ321によって互いに接触される。そして、基材10及びフィルム81は、基材搬出口32を通じて減圧チャンバ30の内部から外部へ搬送される。減圧チャンバ30から搬送された基材10及びフィルム81は、フィルム81が目詰め液溜まり部用ローラ91によって案内されることにより、互いから離間される。このようにして、減圧チャンバ30から搬出された基材10は、大気圧下に戻されるのと同時に、基材10の微細孔12側が目詰め液15が貯留された目詰め液溜まり部60'を通過され、当該微細孔12に目詰め液15が継続的に供給される。そして、目詰め液15が、当該基材10の微細孔12内に充填される。   The substrate 10 and the film 81 from which the air in the fine holes 12 has been removed are further conveyed by the rotation of the substrate take-up shaft 42 and the film take-up shaft 88, respectively, and are mutually conveyed by the substrate unloading roller 321 of the decompression chamber 30. Touched. Then, the base material 10 and the film 81 are transported from the inside of the decompression chamber 30 to the outside through the base material carry-out port 32. The base material 10 and the film 81 conveyed from the decompression chamber 30 are separated from each other as the film 81 is guided by the filling liquid reservoir roller 91. In this way, the base material 10 unloaded from the decompression chamber 30 is returned to atmospheric pressure, and at the same time, the filling liquid reservoir 60 ′ in which the filling liquid 15 is stored on the fine hole 12 side of the base material 10 is stored. And the filling liquid 15 is continuously supplied to the fine holes 12. Then, the filling liquid 15 is filled in the fine holes 12 of the base material 10.

目詰め液溜まり部60'を通過された基材10は、基材巻取軸42の回転によってさらに搬送され、基材用スキージ71と送りローラ46との間を通過される。この時、基材用スキージ71によって、目詰め液溜まり部60'において基材10上に配置された余剰の目詰め液15が掻き取られる。   The substrate 10 that has passed through the filling liquid reservoir 60 ′ is further conveyed by the rotation of the substrate take-up shaft 42, and passes between the substrate squeegee 71 and the feed roller 46. At this time, the excess squeegee 15 disposed on the substrate 10 is scraped off by the substrate squeegee 71 in the reservoir solution reservoir 60 '.

一方、目詰め液溜まり部60'を通過されたフィルム81は、フィルム巻取軸88の回転によってさらに搬送され、フィルム用スキージ72と送りローラ86との間を通過される。この時、フィルム用スキージ72によって、目詰め液溜まり部60'においてフィルム81上に配置された目詰め液15が掻き取られる。そして、フィルム81は、目詰め液溜まり部用ローラ91へ案内される。   On the other hand, the film 81 that has passed through the filling liquid reservoir 60 ′ is further conveyed by the rotation of the film take-up shaft 88, and passes between the film squeegee 72 and the feed roller 86. At this time, the squeegee 72 for the film scrapes off the filling liquid 15 disposed on the film 81 in the filling liquid reservoir 60 '. Then, the film 81 is guided to the filling liquid reservoir roller 91.

その後、基材10及びフィルム81は、基材巻取軸42及びフィルム巻取軸88の回転によってさらに搬送され、一対の押圧ローラ93の間を通過される。基材10とフィルム81とは、一対の押圧ローラ93によって互いに対して押圧される。これによって、基材10上に形成された目詰め液15の層の表面が滑らかにされる。   Thereafter, the base material 10 and the film 81 are further conveyed by the rotation of the base material take-up shaft 42 and the film take-up shaft 88 and passed between the pair of pressing rollers 93. The substrate 10 and the film 81 are pressed against each other by a pair of pressing rollers 93. Thereby, the surface of the layer of the filling liquid 15 formed on the base material 10 is smoothed.

基材10とフィルム81とは、互いに対して接触されたまま、一対の送りローラ86'へ向けて搬送され、押圧ローラ93と送りローラ86'との間の領域において紫外線照射装置95によって紫外線が照射される。このようにして、基材10上に形成された目詰め液15の層は、その表面が滑らかにされた状態で硬化される。   The substrate 10 and the film 81 are conveyed toward the pair of feed rollers 86 ′ while being in contact with each other, and ultraviolet rays are emitted by the ultraviolet irradiation device 95 in a region between the pressing roller 93 and the feed roller 86 ′. Irradiated. In this way, the layer of the filling liquid 15 formed on the base material 10 is cured with the surface thereof being smoothed.

そして、目詰め液15が硬化された基材10及びフィルム81は、基材巻取軸42及びフィルム巻取軸88の回転によって、互いから剥離され、それぞれ、基材巻取軸42及びフィルム巻取軸88上に巻き取られる。   Then, the base material 10 and the film 81 on which the filling liquid 15 is cured are peeled from each other by the rotation of the base material winding shaft 42 and the film winding shaft 88, and the base material winding shaft 42 and the film winding respectively. It is wound on a take-up shaft 88.

以上のように、本実施の形態によれば、目詰め液充填装置100'は、フィルムロール81'がセットされ、フィルムロール81'からフィルム81が供給されるようにフィルムロール81'を回転させるようになっているフィルム給送軸82と、フィルムロール81'から供給されたフィルム81が減圧チャンバ30の基材搬入口31を通じて減圧チャンバ30の外部から内部へ且つ基材搬出口32を通じて減圧チャンバ30の内部から外部へ搬送されるようなフィルム搬送路84を構成するフィルム搬送装置87と、を更に備え、フィルム搬送路84は、基材搬出口32に対して基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側において、フィルム搬送路84と基材搬送路45との間に目詰め液溜まり部60'を形成するように構成されている。このため、目詰め液溜まり部60'を形成することが容易である。また、減圧チャンバ30の基材搬出口32が目詰め液で汚れてしまう、ということが防止され得る。   As described above, according to the present embodiment, the filling liquid filling device 100 ′ rotates the film roll 81 ′ so that the film roll 81 ′ is set and the film 81 is supplied from the film roll 81 ′. The film feed shaft 82 and the film 81 supplied from the film roll 81 ′ pass from the outside of the decompression chamber 30 to the inside through the substrate carry-in port 31 of the decompression chamber 30 and through the substrate carry-out port 32. 30, and a film transport device 87 that constitutes a film transport path 84 that is transported from the inside to the outside. 10 on the downstream side in the transport direction, and is configured to form a filling liquid reservoir 60 ′ between the film transport path 84 and the substrate transport path 45. . For this reason, it is easy to form the filling liquid reservoir 60 '. Moreover, it can be prevented that the base material outlet / outlet 32 of the decompression chamber 30 is contaminated with the filling liquid.

また、フィルム搬送路84は、減圧チャンバ30内の少なくとも一部の領域において、基材搬送路45から離間されるように構成されている。このため、減圧チャンバ30内において、基材10の微細孔12から空気が十分に除去され得る。   The film conveyance path 84 is configured to be separated from the base material conveyance path 45 in at least a part of the region within the decompression chamber 30. For this reason, the air can be sufficiently removed from the micropores 12 of the substrate 10 in the decompression chamber 30.

また、目詰め液充填装置100'は、目詰め液溜まり部60'に対して基材搬送装置40による基材10の搬送方向の下流側において、基材搬送装置40によって搬送される当該基材10と、フィルム搬送装置87によって搬送されるフィルム81と、を互いに対して押圧するようになっている押圧ローラ93を更に備えている。このため、微細孔12内に目詰め液15が充填された基材10の表面を滑らかに仕上げる、ということが容易である。   Further, the filling liquid filling device 100 ′ is the base material transported by the base material transport device 40 on the downstream side in the transport direction of the base material 10 by the base material transport device 40 with respect to the filling liquid reservoir 60 ′. 10 and a film 81 conveyed by the film conveying device 87 are further provided with a pressing roller 93 adapted to press against each other. For this reason, it is easy to smoothly finish the surface of the base material 10 in which the fine holes 12 are filled with the filling liquid 15.

次に、図4により、本発明による目詰め液充填装置の第3の実施の形態について説明する。   Next, a third embodiment of the filling liquid filling device according to the present invention will be described with reference to FIG.

図4は、本発明の第3の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図である。本実施の形態による目詰め液充填装置100''は、図3に示す目詰め液充填装置100'に対して、減圧チャンバ30'が異なるのみであり、その他の構成は、図3に示す目詰め液充填装置100'の構成と略同一である。図4に示す実施の形態において図3に示す実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。   FIG. 4 is a diagram schematically showing a configuration of a filling liquid filling apparatus according to the third embodiment of the present invention. The filling liquid filling device 100 ″ according to the present embodiment is different from the filling liquid filling device 100 ′ shown in FIG. 3 only in the decompression chamber 30 ′, and other configurations are the same as those shown in FIG. The configuration is substantially the same as that of the filling liquid filling apparatus 100 ′. In the embodiment shown in FIG. 4, the same parts as those in the embodiment shown in FIG.

減圧チャンバ30'は、本実施の形態においても、内部を1Torr以下の減圧状態に維持可能な減圧チャンバであり、筐体33'と、基材搬入口31'と、基材搬出口32'と、を有している。本実施の形態では、基材搬入口31'は、回転可能に設けられた中間ローラ361と、外周面が中間ローラ361の外周面と隣り合うように軸312が中間ローラ361の軸362に対して平行かつ回転可能に設けられた基材搬入口ローラ311'と、によって中間ローラ361の外周面と基材搬入口ローラ311'の外周面との間に規定されている。また、減圧チャンバ30'の基材搬出口32'は、中間ローラ361と、外周面が中間ローラ361の外周面と隣り合うように軸322が中間ローラ361の軸362に対して平行かつ回転可能に設けられた基材搬出口ローラ321'と、によって中間ローラ361の外周面と基材搬出口ローラ321'の外周面との間に規定されている。   The decompression chamber 30 ′ is also a decompression chamber capable of maintaining the interior in a decompressed state of 1 Torr or less in the present embodiment, and includes a housing 33 ′, a substrate carry-in port 31 ′, and a substrate carry-out port 32 ′. ,have. In the present embodiment, the substrate carry-in port 31 ′ includes an intermediate roller 361 that is rotatably provided, and a shaft 312 that is adjacent to the outer peripheral surface of the intermediate roller 361 with respect to the shaft 362 of the intermediate roller 361. And a base material carry-in roller 311 ′ provided so as to be parallel and rotatable, the outer peripheral surface of the intermediate roller 361 and the outer peripheral surface of the base material carry-in roller 311 ′ are defined. The base material outlet 32 ′ of the decompression chamber 30 ′ is rotatable in parallel with the intermediate roller 361, and the shaft 322 is parallel to the shaft 362 of the intermediate roller 361 so that the outer peripheral surface is adjacent to the outer peripheral surface of the intermediate roller 361. Is defined between the outer peripheral surface of the intermediate roller 361 and the outer peripheral surface of the substrate carry-out roller 321 ′.

次に、以上のような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the present embodiment configured as described above will be described.

本実施の形態においては、基材10及びフィルム81の搬送が開始される際、減圧チャンバ30の基材搬入口ローラ311'と中間ローラ361と基材搬出口ローラ321'とが、基材搬入口ローラ311'及び中間ローラ361の外周面の互いに対向する側の速度と、基材搬出口ローラ321'及び中間ローラ361の外周面の互いに対向する側の速度とが、基材10の所望の搬送速度に一致するよう回転される点が異なるのみであり、その他の作用は、図3に示す実施の形態の作用と略同一である。   In the present embodiment, when the conveyance of the substrate 10 and the film 81 is started, the substrate carry-in roller 311 ′, the intermediate roller 361, and the substrate carry-out roller 321 ′ of the decompression chamber 30 are loaded into the substrate. The speeds of the outer peripheral surfaces of the mouth roller 311 ′ and the intermediate roller 361 facing each other and the speeds of the outer peripheral surfaces of the base material carry-out roller 321 ′ and the intermediate roller 361 facing each other are determined as desired. The only difference is that it is rotated so as to match the transport speed, and the other operations are substantially the same as those of the embodiment shown in FIG.

以上のように、本実施の形態によっても、連続的に供給される基材10を連続的に減圧環境下に置く、ということが容易である。   As described above, also according to the present embodiment, it is easy to place the continuously supplied base material 10 in a reduced pressure environment.

次に、図5により、本発明による目詰め液充填装置の第4の実施の形態について説明する。   Next, a fourth embodiment of the filling liquid filling apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG.

図5は、本発明の第4の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図である。図5に示すように、本実施の形態による目詰め液充填装置200は、図1に示す目詰め液充填装置100に対して、内部を減圧状態に維持可能な減圧チャンバ30''であって、基材搬出口32''を有する減圧チャンバ30''と、基材10を供給する基材供給装置20''であって、減圧チャンバ30''内に設けられた基材供給装置20''と、基材供給装置20''から供給された基材10が減圧チャンバ30''の基材搬出口32''を通じて当該減圧チャンバ30''の内部から外部へ搬送されるような基材搬送路45''を構成する基材搬送装置40''と、を備えている点が異なるのみであり、その他の構成は、図1に示す目詰め液充填装置100の構成と略同一である。図5に示す実施の形態において図1に示す実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。   FIG. 5 is a diagram schematically showing a configuration of a filling liquid filling device according to a fourth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the filling liquid filling device 200 according to the present embodiment is a decompression chamber 30 ″ capable of maintaining the inside in a reduced pressure state with respect to the filling liquid filling device 100 shown in FIG. 1. A decompression chamber 30 '' having a substrate carry-out port 32 '' and a substrate supply device 20 '' for supplying the substrate 10, and a substrate supply device 20 'provided in the decompression chamber 30' ' 'And the base material 10 supplied from the base material supply device 20' 'is transported from the inside of the decompression chamber 30' 'to the outside through the base material outlet 32' 'of the decompression chamber 30' '. The only difference is that it includes a substrate conveying device 40 '' that constitutes the conveying path 45 '', and the other configuration is substantially the same as the configuration of the filling liquid filling device 100 shown in FIG. . In the embodiment shown in FIG. 5, the same parts as those in the embodiment shown in FIG.

基材供給装置20''は、図1に示す実施の形態の基材供給装置20と同様に、基材ロール10'がセットされ、基材ロール10'から基材10としてシート状の基材が供給されるように基材ロール10'を回転させるようになっている基材給送軸22を有している。   The base material supply device 20 '' is similar to the base material supply device 20 of the embodiment shown in FIG. 1, in which a base material roll 10 'is set, and a sheet-like base material is used as the base material 10 from the base material roll 10'. Has a substrate feed shaft 22 that is adapted to rotate the substrate roll 10 '.

減圧チャンバ30''は、本実施の形態においても、内部を1Torr以下の減圧状態に維持可能な減圧チャンバである。本実施の形態の減圧チャンバ30''は、筐体33''と、筐体33''の壁部に設けられた基材搬出口32''と、を有している。   The decompression chamber 30 ″ is a decompression chamber capable of maintaining the interior in a decompressed state of 1 Torr or less in the present embodiment as well. The decompression chamber 30 '' of the present embodiment includes a housing 33 '' and a base material outlet 32 '' provided on the wall portion of the housing 33 ''.

減圧チャンバ30''の基材搬出口32''は、外周面が隣り合うように軸322が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬出口ローラ321によって当該一対の基材搬出口ローラ321の外周面の間に規定されている。本実施の形態においても、各基材搬出口ローラ321の軸322には、基材搬出口ローラ321を回転駆動するための駆動部323が設けられている。また、各基材搬出口ローラ321には、基材搬出口ローラ321を加熱するための熱源(不図示)が設けられている。   The base material carry-out port 32 '' of the decompression chamber 30 '' has a pair of base material carry-out rollers 321 provided such that the shafts 322 are parallel and rotatable with respect to each other so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other. It is defined between the outer peripheral surfaces of the carry-out roller 321. Also in the present embodiment, the shaft 322 of each base material carry-out roller 321 is provided with a drive unit 323 for rotationally driving the base material carry-out roller 321. Each base material exit roller 321 is provided with a heat source (not shown) for heating the base material exit roller 321.

基材搬送装置40''は、本実施の形態においても、当該基材搬送装置40''による基材10の搬送方向の最も下流側に設けられ、基材10を巻き取るようになっている基材巻取軸42と、基材搬送路45''上において基材供給装置20''と基材巻取軸42との間に設けられた送りローラ46と、を有している。基材巻取軸42には、当該基材巻取軸42を回転駆動するための駆動部43が設けられている。   Also in the present embodiment, the base material transport device 40 ″ is provided on the most downstream side in the transport direction of the base material 10 by the base material transport device 40 ″ and winds up the base material 10. A base material take-up shaft 42 and a feed roller 46 provided between the base material supply device 20 ″ and the base material take-up shaft 42 on the base material conveyance path 45 ″ are provided. The substrate take-up shaft 42 is provided with a drive unit 43 for rotationally driving the substrate take-up shaft 42.

次に、以上のような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the present embodiment configured as described above will be described.

まず、図2(a)に示すシート状の基材10がロール状にされた基材ロール10'が、減圧チャンバ30''内に設けられた基材供給装置20''の基材給送軸22にセットされる。そして、基材ロール10'から巻き出された基材10が、減圧チャンバ30''の基材搬出口32''を通じて減圧チャンバ30''の内部から外部へ通される。その後、基材10は、一方の基材搬出口ローラ321の外周面と目詰め液溜まり部60の板状部材61との間を通過され、基材用スキージ71と送りローラ46との間を通過される。そして、基材10の巻き出し開始側の端部が、搬送装置40''の基材巻取軸42に固定される。なお、基材10は、目詰め液溜まり部60内において、基材10の微細孔12側の面が目詰め液溜まり部60に貯留される目詰め液15に接することができるように配置される。これにより、基材10が大気圧下に戻されるのと同時に、目詰め液15が貯留される目詰め液溜まり部60に基材10の微細孔12側を通過させ得る。   First, the base material roll 10 ′ in which the sheet-like base material 10 shown in FIG. 2A is rolled is supplied to the base material feeding device 20 ″ provided in the decompression chamber 30 ″. Set on shaft 22. Then, the substrate 10 unwound from the substrate roll 10 ′ is passed from the inside of the decompression chamber 30 ″ to the outside through the substrate carry-out port 32 ″ of the decompression chamber 30 ″. Thereafter, the base material 10 is passed between the outer peripheral surface of one base material carry-out roller 321 and the plate-like member 61 of the filling liquid reservoir 60, and between the base material squeegee 71 and the feed roller 46. Is passed. And the edge part by the side of the unwinding start of the base material 10 is fixed to the base material winding shaft 42 of conveying apparatus 40 ''. The base material 10 is disposed in the filling liquid reservoir 60 so that the surface of the base material 10 on the fine hole 12 side can come into contact with the filling liquid 15 stored in the filling liquid reservoir 60. The Thereby, at the same time when the base material 10 is returned to the atmospheric pressure, the fine hole 12 side of the base material 10 can be passed through the filling liquid reservoir 60 in which the filling liquid 15 is stored.

次に、エッチング防止剤としての熱溶融性ウレタン樹脂が、図1に示す実施の形態の場合と同様に、目詰め液供給装置50の容器51に供給され、加熱して溶融された後、目詰め液溜まり部60に貯留される。   Next, as in the case of the embodiment shown in FIG. 1, the hot-melt urethane resin as an etching inhibitor is supplied to the container 51 of the filling liquid supply device 50 and heated and melted. It is stored in the filling liquid reservoir 60.

また、減圧チャンバ30''が真空引きされ、減圧チャンバ30''の内部が、1Torr以下の減圧状態に維持される。そして、一対の基材搬出口ローラ321が、不図示の熱源によって外周面の温度が100℃程度になるように加熱される。   Further, the decompression chamber 30 ″ is evacuated, and the interior of the decompression chamber 30 ″ is maintained in a decompressed state of 1 Torr or less. And a pair of base material carrying-out exit roller 321 is heated so that the temperature of an outer peripheral surface may be about 100 degreeC with the heat source not shown.

この状態で、基材10は、基材搬送装置40''によって搬送される。具体的には、基材巻取軸42が、基材10が所望の搬送速度で搬送されるように、駆動部43によって回転され、基材10の基材巻取軸42への巻き取りが開始される。   In this state, the base material 10 is transported by the base material transport device 40 ″. Specifically, the substrate winding shaft 42 is rotated by the drive unit 43 so that the substrate 10 is conveyed at a desired conveyance speed, and the substrate 10 is wound around the substrate winding shaft 42. Be started.

また、減圧チャンバ30''の一対の基材搬出口ロール321が、外周面の互いに対向する側の速度が基材10の所望の搬送速度に一致するように、駆動部323によって回転される。   In addition, the pair of base material carry-out rolls 321 of the decompression chamber 30 ″ are rotated by the driving unit 323 so that the speeds of the outer peripheral surfaces on the opposite sides coincide with the desired transport speed of the base material 10.

基材10が基材巻取軸42に巻き取られるのに伴って、基材供給装置20の基材給送軸22と共に基材ロール10'が回転されながら、基材ロール10'から基材10が給送される。   As the base material 10 is wound around the base material take-up shaft 42, the base material roll 10 ′ is rotated together with the base material feed shaft 22 of the base material supply device 20, while the base material roll 10 ′ is rotated. 10 is fed.

基材ロール10'から給送された基材10は、基材巻取軸42の回転によって、減圧チャンバ30''の基材搬出口32''へ搬送される。基材10が基材ロール10'から巻き出されて基材搬出口32''へ搬送されるまでの間に、基材10の微細孔12は、減圧チャンバ30''内の減圧環境に曝され、当該微細孔12内の空気が除去される。   The base material 10 fed from the base material roll 10 ′ is conveyed to the base material carry-out port 32 ″ of the decompression chamber 30 ″ by the rotation of the base material winding shaft 42. Until the substrate 10 is unwound from the substrate roll 10 ′ and conveyed to the substrate carry-out port 32 ″, the micropores 12 of the substrate 10 are exposed to the reduced pressure environment in the reduced pressure chamber 30 ″. Then, the air in the fine hole 12 is removed.

微細孔12内の空気が除去された基材10は、基材巻取軸42の回転によって、減圧チャンバ30''の基材搬出口32''を通じて減圧チャンバ30''の内部から外部へ、すなわち目詰め液溜まり部60へ搬送される。このようにして、減圧チャンバ30''から搬出された基材10は、大気圧下に戻されるのと同時に、基材10の微細孔12側が目詰め液15が貯留された目詰め液溜まり部60を通過され、当該微細孔12に目詰め液15が継続的に供給される。そして、大気圧力の作用によって、目詰め液15が、当該基材10の微細孔12内に充填される。   The base material 10 from which the air in the micro holes 12 has been removed is moved from the inside of the decompression chamber 30 ″ to the outside through the base material carry-out port 32 ″ of the decompression chamber 30 ″ by the rotation of the substrate winding shaft 42. That is, it is conveyed to the filling liquid reservoir 60. Thus, the base material 10 carried out from the decompression chamber 30 ″ is returned to the atmospheric pressure, and at the same time, the filling liquid reservoir portion in which the filling liquid 15 is stored on the fine hole 12 side of the base material 10. After passing through 60, the filling liquid 15 is continuously supplied to the fine holes 12. Then, the filling liquid 15 is filled in the fine holes 12 of the base material 10 by the action of the atmospheric pressure.

目詰め液溜まり部60を通過された基材10は、基材巻取軸42の回転によってさらに搬送され、基材用スキージ71と送りローラ46との間を通過される。   The substrate 10 that has passed through the filling liquid reservoir 60 is further conveyed by the rotation of the substrate take-up shaft 42, and passes between the substrate squeegee 71 and the feed roller 46.

そして、エッチング防止剤15の層が形成された基材10は、基材巻取軸42の回転によって、基材巻取軸42上に巻き取られる。   Then, the base material 10 on which the layer of the etching inhibitor 15 is formed is wound on the base material winding shaft 42 by the rotation of the base material winding shaft 42.

以上のように、本実施の形態によっても、基材10を減圧チャンバ30''内の減圧環境下に置くことにより、微細孔12から空気を除去し得る。また、目詰め液供給装置50から減圧チャンバ30''の基材搬出口32''に向けて目詰め液15を供給することにより、減圧チャンバ30''内の減圧環境下に置かれた基板10が大気圧下に戻される前に、または、戻されるのと同時に、微細孔12に目詰め液15を供給し得る。したがって、内部の空気が除去された微細孔12内に目詰め液15を充填する、ということが可能である。この結果、目詰め液15が充填される際に微細孔12内に気泡が形成されてしまう、ということが抑制される。   As described above, according to the present embodiment as well, air can be removed from the micropores 12 by placing the base material 10 in a reduced pressure environment in the reduced pressure chamber 30 ″. Further, by supplying the filling liquid 15 from the filling liquid supply device 50 toward the base material outlet 32 ″ of the decompression chamber 30 ″, the substrate placed in a decompressed environment in the decompression chamber 30 ″. Before or at the same time as 10 is returned to atmospheric pressure, the plugging solution 15 can be supplied to the micropores 12. Therefore, it is possible to fill the filling liquid 15 into the fine holes 12 from which the internal air has been removed. As a result, bubbles are prevented from being formed in the micropores 12 when the filling liquid 15 is filled.

次に、図6により、本発明による目詰め液充填装置の第5の実施の形態について説明する。   Next, a fifth embodiment of the filling liquid filling apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG.

図6は、本発明の第5の実施の形態による目詰め液充填装置の構成を概略的に示す図である。図6に示すように、本実施の形態による目詰め液充填装置200'は、図3に示す目詰め液充填装置100'に対して、内部を減圧状態に維持可能な減圧チャンバ30''であって、基材搬出口32を有する減圧チャンバ30''と、基材10を供給する基材供給装置20''であって、減圧チャンバ30''内に設けられた基材供給装置20''と、基材供給装置20''から供給された基材10が減圧チャンバ30''の基材搬出口32''を通じて減圧チャンバ30''の内部から外部へ搬送されるような基材搬送路45''を構成する基材搬送装置40''と、フィルムロール81'がセットされ、当該フィルムロール81'からフィルム81が供給されるように当該フィルムロール81'を回転させるようになっているフィルム給送軸82であって、減圧チャンバ30''内に設けられたフィルム給送軸82と、フィルムロール81'から供給されたフィルム81が基材搬出口32''を通じて減圧チャンバ30''の内部から外部へ搬送されるようなフィルム搬送路84''を構成するフィルム搬送装置87''と、を備えた点が異なるのみであり、その他の構成は、図3に示す目詰め液充填装置100'の構成と略同一である。図6に示す実施の形態において図3に示す実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。   FIG. 6 is a diagram schematically showing a configuration of a filling liquid filling device according to a fifth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, the filling liquid filling device 200 ′ according to the present embodiment is a decompression chamber 30 ″ capable of maintaining the inside in a reduced pressure state with respect to the filling liquid filling device 100 ′ shown in FIG. 3. A decompression chamber 30 ″ having a substrate carry-out port 32 and a substrate supply device 20 ″ for supplying the substrate 10, and a substrate supply device 20 ′ provided in the decompression chamber 30 ″. 'And the base material transport such that the base material 10 supplied from the base material supply device 20' 'is transported from the inside of the decompression chamber 30' 'to the outside through the base material outlet 32' 'of the decompression chamber 30' '. The base material transport device 40 '' constituting the path 45 '' and the film roll 81 'are set, and the film roll 81' is rotated so that the film 81 is supplied from the film roll 81 '. A film feed shaft 82 having a vacuum chamber 30 '' And a film transport path 84 ′ such that the film 81 supplied from the film roll 81 ′ is transported from the inside of the decompression chamber 30 ″ to the outside through the substrate carry-out port 32 ″. The only difference is that it is provided with a film transporting device 87 '' that constitutes ', and the other configuration is substantially the same as the configuration of the filling liquid filling device 100' shown in FIG. In the embodiment shown in FIG. 6, the same parts as those in the embodiment shown in FIG.

基材供給装置20''は、図3に示す実施の形態の基材供給装置20と同様に、基材ロール10'がセットされ、基材ロール10'から基材10としてシート状の基材10が供給されるように基材ロール10'を回転させるようになっている基材給送軸22を有している。   The base material supply device 20 '' is similar to the base material supply device 20 of the embodiment shown in FIG. 3, in which a base material roll 10 'is set, and the base material roll 10' to the base material 10 is a sheet-like base material. 10 has a substrate feed shaft 22 adapted to rotate the substrate roll 10 'so that 10 is fed.

減圧チャンバ30''は、本実施の形態においても、内部を1Torr以下の減圧状態に維持可能な減圧チャンバである。本実施の形態の減圧チャンバ30''は、筐体33''と、筐体33''の壁部に設けられた基材搬出口32''と、を有している。   The decompression chamber 30 ″ is a decompression chamber capable of maintaining the interior in a decompressed state of 1 Torr or less in the present embodiment as well. The decompression chamber 30 '' of the present embodiment includes a housing 33 '' and a base material outlet 32 '' provided on the wall portion of the housing 33 ''.

減圧チャンバ30''の基材搬出口32''は、外周面が隣り合うように軸322が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬出口ローラ321によって当該一対の基材搬出口ローラ321の外周面の間に規定されている。本実施の形態においても、各基材搬出口ローラ321の軸322には、基材搬出口ローラ321を回転駆動するための駆動部323が設けられている。また、各基材搬出口ローラ321の駆動軸322には、基材搬出口ローラ321を加熱するための熱源(不図示)が設けられている。   The base material carry-out port 32 '' of the decompression chamber 30 '' has a pair of base material carry-out rollers 321 provided such that the shafts 322 are parallel and rotatable with respect to each other so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other. It is defined between the outer peripheral surfaces of the carry-out roller 321. Also in the present embodiment, the shaft 322 of each base material carry-out roller 321 is provided with a drive unit 323 for rotationally driving the base material carry-out roller 321. The drive shaft 322 of each substrate carry-out roller 321 is provided with a heat source (not shown) for heating the substrate carry-out roller 321.

基材搬送装置40''は、本実施の形態においても、当該基材搬送装置40''による基材10の搬送方向の最も下流側に設けられ、基材10を巻き取るようになっている基材巻取軸42と、基材搬送路45''上において基材供給装置20''と基材巻取軸42との間に設けられた送りローラ46と、を有している。基材巻取軸42には、当該基材巻取軸42を回転駆動するための駆動部43が設けられている。   Also in the present embodiment, the base material transport device 40 ″ is provided on the most downstream side in the transport direction of the base material 10 by the base material transport device 40 ″ and winds up the base material 10. A base material take-up shaft 42 and a feed roller 46 provided between the base material supply device 20 ″ and the base material take-up shaft 42 on the base material conveyance path 45 ″ are provided. The substrate take-up shaft 42 is provided with a drive unit 43 for rotationally driving the substrate take-up shaft 42.

フィルム給送軸82は、本実施の形態では、基材給送軸22の近傍に基材給送軸22に対して平行に設けられている。   In the present embodiment, the film feed shaft 82 is provided in the vicinity of the base material feed shaft 22 in parallel with the base material feed shaft 22.

フィルム搬送装置87''は、本実施の形態では、フィルム搬送装置87''によるフィルム81の搬送方向の最も下流側に設けられ、フィルム給送軸82にセットされたフィルムロール81'から給送されるフィルム81を巻き取るようになっているフィルム巻取軸88と、送りローラ86と、を有している。   In this embodiment, the film transport device 87 ″ is provided on the most downstream side in the transport direction of the film 81 by the film transport device 87 ″, and is fed from the film roll 81 ′ set on the film feed shaft 82. A film take-up shaft 88 for taking up the film 81 to be wound, and a feed roller 86.

次に、以上のような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the present embodiment configured as described above will be described.

まず、一方の面の側からのみ所望のパターンで基材10の厚みTの半分程度の深さDまでエッチングされて、当該一方の面の側に微細孔12が形成されたシート状の基材10が、ロール状にされて基材ロール10'とされ、当該基材ロール10'が、基材供給装置20''の基材給送軸22にセットされる。そして、基材ロール10'から巻き出された基材10が、減圧チャンバ30''の基材搬出口32''を通じて減圧チャンバ30''の内部から外部へ通される。その後、基材10は、基材用スキージ71と送りローラ46との間を通過される。そして、一対の押圧ローラ93の間を通過された後、基材10の巻き出し開始側の端部が、搬送装置40''の基材巻取軸42に固定される。なお、基材10は、少なくとも基材搬送路45''とフィルム搬送路84''との間に形成される目詰め液溜まり部60'内において、基材10の微細孔12側の面がフィルム搬送路84''に対向するように配置される。これにより、基材10が大気圧下に戻されるのと同時に、目詰め液15が貯留される目詰め液溜まり部60'に基材10の微細孔12側を通過させ得る。   First, a sheet-like base material that is etched only from one surface side to a depth D that is about half the thickness T of the base material 10 with a desired pattern, and has fine holes 12 formed on the one surface side. 10 is rolled to form a base material roll 10 ′, and the base material roll 10 ′ is set on the base material feeding shaft 22 of the base material supply device 20 ″. Then, the substrate 10 unwound from the substrate roll 10 ′ is passed from the inside of the decompression chamber 30 ″ to the outside through the substrate carry-out port 32 ″ of the decompression chamber 30 ″. Thereafter, the substrate 10 is passed between the substrate squeegee 71 and the feed roller 46. And after passing between a pair of press rollers 93, the edge part by the side of the unwinding start of the base material 10 is fixed to the base material winding shaft 42 of conveying apparatus 40 ''. In addition, the surface of the base material 10 on the side of the fine holes 12 of the base material 10 is at least in the filling liquid reservoir 60 ′ formed between the base material transport path 45 ″ and the film transport path 84 ″. It arrange | positions so that film conveyance path 84 '' may be opposed. Thereby, at the same time when the base material 10 is returned to atmospheric pressure, the fine hole 12 side of the base material 10 can be passed through the filling liquid reservoir 60 ′ in which the filling liquid 15 is stored.

また、基材10の幅Wと同程度の幅を有するPETフィルムをロール状にしたフィルムロール81'が、フィルム給送軸82にセットされる。そして、フィルムロール81'から巻き出されたフィルム81が、減圧チャンバ30''の基材搬出口32''を通じて減圧チャンバ30の内部から外部へ通される。その後、フィルム81は、送りローラ86とフィルム用スキージ72との間を通され、目詰め液溜まり部用ローラ91に対して基材搬送路45''とは反対の側へ案内された後、一対の押圧ローラ93の間を通過される。一対の押圧ローラ93の間を通過されたフィルム81は、一対の送りローラ86'の間を通過された後、巻き出し開始側の端部がフィルム巻取軸88に固定される。   In addition, a film roll 81 ′ in which a PET film having the same width as the width W of the substrate 10 is rolled is set on the film feeding shaft 82. Then, the film 81 unwound from the film roll 81 ′ is passed from the inside of the decompression chamber 30 to the outside through the base material carry-out port 32 ″ of the decompression chamber 30 ″. Thereafter, the film 81 is passed between the feed roller 86 and the film squeegee 72 and guided to the side opposite to the base material conveyance path 45 ″ with respect to the filling liquid reservoir portion roller 91. Passed between the pair of pressing rollers 93. After the film 81 passed between the pair of pressing rollers 93 passes between the pair of feed rollers 86 ′, the end portion on the unwinding start side is fixed to the film winding shaft 88.

そして、基材10とフィルム81との間に目詰め液供給装置50から供給される目詰め液15を貯留することができるよう、減圧チャンバ30に対して基材搬送装置40''による基材10の搬送方向の下流側であって基材搬出口32''の周囲には、不図示の板状部材が、基材10とフィルム81と板状部材とで囲まれた空間が形成されるよう、基材10及びフィルム81の縁部に接触するように配置される。このようにして、基材搬出口32''に対して基材搬送装置40''による基材10の搬送方向の下流側において、目詰め液溜まり部用ローラ91によって互いから離間されたフィルム81と基材10との間に、目詰め液溜まり部60'が形成される。   And the base material by base material conveyance apparatus 40 '' with respect to the pressure reduction chamber 30 so that the filling liquid 15 supplied from the filling liquid supply apparatus 50 can be stored between the base material 10 and the film 81. A space in which a plate-like member (not shown) is surrounded by the substrate 10, the film 81, and the plate-like member is formed on the downstream side in the conveyance direction 10 and around the substrate carry-out port 32 ''. The substrate 10 and the film 81 are arranged so as to be in contact with each other. In this way, the films 81 separated from each other by the filling liquid reservoir roller 91 on the downstream side in the conveyance direction of the substrate 10 by the substrate conveyance device 40 ″ with respect to the substrate carry-out port 32 ″. A filling liquid reservoir 60 ′ is formed between the substrate 10 and the base material 10.

次に、目詰め液15として紫外線硬化型樹脂が、図3の実施の形態と同様に、目詰め液供給装置50の容器51に供給され、ポンプ52と管53とを用いて目詰め液溜まり部60'に貯留される。   Next, as the filling liquid 15, an ultraviolet curable resin is supplied to the container 51 of the filling liquid supply apparatus 50 as in the embodiment of FIG. 3, and the filling liquid reservoir is stored using the pump 52 and the pipe 53. Stored in the part 60 '.

また、減圧チャンバ30は真空引きされ、減圧チャンバ30''の内部が、1Torr以下の減圧状態に維持される。   The decompression chamber 30 is evacuated, and the interior of the decompression chamber 30 ″ is maintained in a decompressed state of 1 Torr or less.

この状態で、基材10は、基材搬送装置40''によって搬送される。具体的には、基材巻取軸42が、基材10が所望の搬送速度で搬送されるように、駆動部43によって回転され、基材10の基材巻取軸42への巻き取りが開始される。そして、基材10が基材巻取軸42に巻き取られるのに伴って、基材供給装置20''の基材給送軸22と共に基材ロール10'が回転されながら、基材ロール10'から基材10が給送される。   In this state, the base material 10 is transported by the base material transport device 40 ″. Specifically, the substrate winding shaft 42 is rotated by the drive unit 43 so that the substrate 10 is conveyed at a desired conveyance speed, and the substrate 10 is wound around the substrate winding shaft 42. Be started. Then, as the base material 10 is wound around the base material take-up shaft 42, the base material roll 10, while the base material roll 10 ′ is rotated together with the base material feed shaft 22 of the base material supply device 20 ″. The substrate 10 is fed from “.

また、基材巻取軸42の回転が開始されるのと同時に、フィルム巻取軸88が、フィルム81が基材10の所望の搬送速度に一致して搬送されるように、駆動部89によって回転され、フィルム81のフィルム巻取軸88への巻き取りが開始される。そして、フィルム81がフィルム巻取軸88に巻き取られるのに伴って、フィルム給送軸82と共にフィルムロール81'が回転されながら、フィルムロール81'からフィルム81が給送される。   Further, at the same time when the rotation of the substrate winding shaft 42 is started, the film winding shaft 88 is moved by the driving unit 89 so that the film 81 is conveyed in accordance with a desired conveying speed of the substrate 10. The film 81 is rotated and the film 81 is started to be wound around the film winding shaft 88. The film 81 is fed from the film roll 81 ′ while the film roll 81 ′ is rotated together with the film feeding shaft 82 as the film 81 is wound on the film winding shaft 88.

また、減圧チャンバ30''の一対の基材搬出口ロール321が、外周面の互いに対向する側の速度が基材10の所望の搬送速度に一致するように、駆動部322によって回転される。   Further, the pair of base material carry-out rolls 321 of the decompression chamber 30 ″ are rotated by the driving unit 322 so that the speeds of the outer peripheral surfaces on the opposite sides coincide with the desired transport speed of the base material 10.

基材ロール10'から給送された基材10は、基材巻取軸42の回転によって、減圧チャンバ30''の基材搬出口32''へ搬送される。基材10が基材ロール10'から巻き出されて基材搬出口32''へ搬送されるまでの間に、基材10の微細孔12は減圧チャンバ30''内の減圧環境に曝され、当該微細孔12内の空気が除去される。   The base material 10 fed from the base material roll 10 ′ is conveyed to the base material carry-out port 32 ″ of the decompression chamber 30 ″ by the rotation of the base material winding shaft 42. Until the base material 10 is unwound from the base material roll 10 ′ and conveyed to the base material outlet 32 ″, the micropores 12 of the base material 10 are exposed to the reduced pressure environment in the reduced pressure chamber 30 ″. The air in the fine hole 12 is removed.

微細孔12内の空気が除去された基材10及びフィルム81は、それぞれ基材巻取軸42及びフィルム巻取軸88の回転によって、減圧チャンバ30''の基材搬出口ローラ321によって互いに接触され、基材搬出口32''を通じて減圧チャンバ30''の内部から外部へ搬送される。減圧チャンバ30''から搬送された基材10及びフィルム81は、目詰め液溜まり部用ローラ91によって互いから離間される。このようにして、減圧チャンバ30''から搬出された基材10は、大気圧下に戻されるのと同時に、基材10の微細孔12側が目詰め液15が貯留された目詰め液溜まり部60'を通過され、当該微細孔12に目詰め液15が継続的に供給される。そして、目詰め液15が、当該基材10の微細孔12内に充填される。   The substrate 10 and the film 81 from which the air in the fine holes 12 has been removed are brought into contact with each other by the substrate unloading roller 321 of the decompression chamber 30 ″ by the rotation of the substrate winding shaft 42 and the film winding shaft 88, respectively. Then, it is transported from the inside of the decompression chamber 30 '' to the outside through the substrate carry-out port 32 ''. The substrate 10 and the film 81 conveyed from the decompression chamber 30 ″ are separated from each other by the filling liquid reservoir roller 91. Thus, the base material 10 carried out from the decompression chamber 30 ″ is returned to the atmospheric pressure, and at the same time, the filling liquid reservoir portion in which the filling liquid 15 is stored on the fine hole 12 side of the base material 10. After passing through 60 ′, the filling liquid 15 is continuously supplied to the fine holes 12. Then, the filling liquid 15 is filled in the fine holes 12 of the base material 10.

その他の作用は、図3に示す実施の形態の作用と略同一である。   Other operations are substantially the same as those of the embodiment shown in FIG.

以上のように、本実施の形態によっても、基材10を減圧チャンバ30''内の減圧環境下に置くことにより、微細孔12から空気を除去し得る。また、目詰め液供給装置50から減圧チャンバ30''の基材搬出口32''に向けて目詰め液15を供給することにより、減圧チャンバ30''内の減圧環境下に置かれた基板10が大気圧下に戻される前に、または、戻されるのと同時に、微細孔12に目詰め液15を供給し得る。したがって、内部の空気が除去された当該微細孔12に目詰め液15を供給する、ということが可能である。この結果、目詰め液15が充填される際に微細孔12内に気泡が形成されてしまう、ということが抑制される。   As described above, according to the present embodiment as well, air can be removed from the micropores 12 by placing the base material 10 in a reduced pressure environment in the reduced pressure chamber 30 ″. Further, by supplying the filling liquid 15 from the filling liquid supply device 50 toward the base material outlet 32 ″ of the decompression chamber 30 ″, the substrate placed in a decompressed environment in the decompression chamber 30 ″. Before or at the same time as 10 is returned to atmospheric pressure, the plugging solution 15 can be supplied to the micropores 12. Therefore, it is possible to supply the filling liquid 15 to the fine holes 12 from which the internal air has been removed. As a result, bubbles are prevented from being formed in the micropores 12 when the filling liquid 15 is filled.

10 基材
10' 基材
11 パターン
12 微細孔
15 目詰め液
20 基材供給装置
20'' 基材供給装置
22 基材給送軸
100 目詰め液充填装置
100' 目詰め液充填装置
100'' 目詰め液充填装置
200 目詰め液充填装置
200' 目詰め液充填装置
22 基材給送軸
30 減圧チャンバ
30'' 減圧チャンバ
31 基材搬入口
31' 基材搬入口
311 基材搬入口ローラ
312 軸
313 駆動部
32 基材搬出口
32' 基材搬出口
32'' 基材搬出口
321 基材搬出口ローラ
322 軸
323 駆動部
33 筐体
33'' 筐体
34 シール部
361 中間ローラ
362 軸
363 駆動部
40 基材搬送装置
40'' 基材搬送装置
42 基材巻取軸
43 駆動部
45 基材搬送路
45'' 基材搬送路
46 送りローラ
50 目詰め液供給装置
51 容器
52 ポンプ
53 管
60 液溜まり部
60' 液溜まり部
61 板状部材
71 基材用スキージ
72 フィルム用スキージ
81 フィルム
81' フィルムロール
82 フィルム給送軸
84 フィルム搬送路
84'' フィルム搬送路
85 フィルム離間用ローラ
86 送りローラ
86' 送りローラ
87 フィルム搬送装置
87'' フィルム搬送装置
88 フィルム巻取軸
89 駆動部
91 目詰め液溜まり部用ローラ
93 押圧ローラ
95 紫外線照射装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Base material 10 'Base material 11 Pattern 12 Micro hole 15 Packing liquid 20 Base material supply apparatus 20''Base material supply apparatus 22 Base material feed axis 100 Filling liquid filling apparatus 100' Packing liquid filling apparatus 100 '' Filling liquid filling device 200 Filling liquid filling device 200 ′ Filling liquid filling device 22 Substrate feeding shaft 30 Depressurization chamber 30 ″ Decompression chamber 31 Substrate carry-in port 31 ′ Substrate carry-in port 311 Substrate carry-in roller 312 Axis 313 Drive unit 32 Substrate unloading port 32 ′ Substrate unloading port 32 ″ Substrate unloading port 321 Substrate unloading roller 322 Shaft 323 Driving unit 33 Housing 33 ″ Housing 34 Sealing unit 361 Intermediate roller 362 Shaft 363 Drive unit 40 Base material transport device 40 '' Base material transport device 42 Base material take-up shaft 43 Drive unit 45 Base material transport path 45 '' Base material transport path 46 Feed roller 50 Filling liquid supply device 51 Container 52 Pump 53 Tube 60 Liquid pool Portion 60 'Liquid reservoir 61 Plate member 71 Base squeegee 72 Film squeegee 81 Film 81' Film roll 82 Film feed shaft 84 Film transport path 84 '' Film transport path 85 Film separation roller 86 Feed roller 86 ' Feed roller 87 Film transport device 87 '' Film transport device 88 Film take-up shaft 89 Drive unit 91 Roller 93 for filling liquid reservoir Press roller 95 Ultraviolet irradiation device

Claims (17)

微細孔を有する基材の当該微細孔に目詰め液を充填するための装置であって、
前記基材を供給する基材供給装置と、
内部を減圧状態に維持可能な減圧チャンバであって、基材搬入口と基材搬出口とを有する減圧チャンバと、
前記基材供給装置から供給された前記基材が前記減圧チャンバの前記基材搬入口を通じて当該減圧チャンバの外部から内部へ且つ前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるような基材搬送路を構成する基材搬送装置と、
前記減圧チャンバに対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側に設けられており、前記減圧チャンバの前記基材搬出口に向けて目詰め液を供給する目詰め液供給装置と、
を備え
前記減圧チャンバの前記基材搬入口は、回転可能に設けられた中間ローラと、外周面が当該中間ローラの外周面と隣り合うように軸が当該中間ローラの軸に対して平行かつ回転可能に設けられた基材搬入口ローラと、によって当該中間ローラの外周面と当該基材搬入口ローラの外周面との間に規定されており、
前記減圧チャンバの前記基材搬出口は、前記中間ローラと、外周面が当該中間ローラの外周面と隣り合うように軸が当該中間ローラの軸に対して平行かつ回転可能に設けられた基材搬出口ローラと、によって当該中間ローラの外周面と当該基材搬出口ローラの外周面との間に規定されている
ことを特徴とする目詰め液充填装置。
An apparatus for filling a filling liquid into the micropores of a substrate having micropores,
A substrate supply device for supplying the substrate;
A decompression chamber capable of maintaining the interior in a decompressed state, the decompression chamber having a substrate carry-in port and a substrate carry-out port;
The base material supplied from the base material supply device is transported from the inside of the decompression chamber to the inside through the base material carry-in port of the decompression chamber and from the inside to the outside of the decompression chamber through the base material carry-out port. A base material transport device that constitutes a simple base material transport path;
A filling liquid supply device that is provided on the downstream side in the conveyance direction of the substrate by the substrate conveyance device with respect to the decompression chamber and supplies a filling solution toward the substrate carry-out port of the decompression chamber When,
Equipped with a,
The base material carry-in port of the decompression chamber has a rotatable intermediate roller and a shaft that is parallel and rotatable with respect to the shaft of the intermediate roller so that the outer peripheral surface is adjacent to the outer peripheral surface of the intermediate roller. The base material carry-in roller provided is defined between the outer peripheral surface of the intermediate roller and the outer peripheral surface of the base material carry-in roller,
The base material carry-out port of the decompression chamber is a base material provided such that the shaft is parallel and rotatable with respect to the shaft of the intermediate roller such that the outer peripheral surface of the intermediate roller is adjacent to the outer peripheral surface of the intermediate roller. A filling liquid filling device characterized by being defined between an outer peripheral surface of the intermediate roller and an outer peripheral surface of the substrate carry-out roller by a carry-out roller .
前記減圧チャンバの前記基材搬出口から前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側にかけて、前記基材搬送路の少なくとも一方の側に目詰め液を貯留するための目詰め液溜まり部が設けられている
ことを特徴とする請求項に記載の目詰め液充填装置。
A filling liquid reservoir for storing a filling liquid on at least one side of the substrate conveyance path from the substrate discharge port of the decompression chamber to the downstream side in the conveyance direction of the substrate by the substrate conveyance device. The filling liquid filling device according to claim 1 , wherein a portion is provided.
前記目詰め液溜まり部は、前記減圧チャンバの前記基材搬出口の周囲に、板状部材を用いて形成されている
ことを特徴とする請求項に記載の目詰め液充填装置。
The said filling liquid reservoir part is formed in the circumference | surroundings of the said base material carrying-out port of the said pressure reduction chamber using a plate-shaped member, The filling liquid filling apparatus of Claim 2 characterized by the above-mentioned.
前記目詰め液充填装置は、
フィルムロールがセットされ、当該フィルムロールからフィルムが供給されるように当該フィルムロールを回転させるようになっているフィルム給送軸と、
前記フィルムロールから供給された前記フィルムが前記減圧チャンバの前記基材搬入口を通じて当該減圧チャンバの外部から内部へ且つ前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるようなフィルム搬送路を構成するフィルム搬送装置と、
を更に備え、
前記フィルム搬送路は、前記基材搬出口に対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側において、当該フィルム搬送路と前記基材搬送路との間に前記目詰め液溜まり部を形成するように構成されている
ことを特徴とする請求項に記載の目詰め液充填装置。
The filling liquid filling device comprises:
A film feed shaft configured to rotate the film roll so that the film roll is set and the film is supplied from the film roll;
Film transport such that the film supplied from the film roll is transported from the inside of the decompression chamber to the inside through the base material carry-in port of the decompression chamber and from the inside to the outside of the decompression chamber through the base material carry-out port A film conveying device constituting the path;
Further comprising
The film transport path is located between the film transport path and the base material transport path on the downstream side in the transport direction of the base material by the base material transport device with respect to the base material carry-out port. The filling liquid filling device according to claim 2 , wherein the filling device is configured to form a portion.
微細孔を有する基材の当該微細孔に目詰め液を充填するための装置であって、
前記基材を供給する基材供給装置と、
内部を減圧状態に維持可能な減圧チャンバであって、基材搬入口と基材搬出口とを有する減圧チャンバと、
前記基材供給装置から供給された前記基材が前記減圧チャンバの前記基材搬入口を通じて当該減圧チャンバの外部から内部へ且つ前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるような基材搬送路を構成する基材搬送装置と、
前記減圧チャンバに対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側に設けられており、前記減圧チャンバの前記基材搬出口に向けて目詰め液を供給する目詰め液供給装置と、
フィルムロールがセットされ、当該フィルムロールからフィルムが供給されるように当該フィルムロールを回転させるようになっているフィルム給送軸と、
前記フィルムロールから供給された前記フィルムが前記減圧チャンバの前記基材搬入口を通じて当該減圧チャンバの外部から内部へ且つ前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるようなフィルム搬送路を構成するフィルム搬送装置と、
を備え
前記減圧チャンバの前記基材搬出口から前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側にかけて、前記基材搬送路の少なくとも一方の側に目詰め液を貯留するための目詰め液溜まり部が設けられており、
前記フィルム搬送路は、前記基材搬出口に対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側において、当該フィルム搬送路と前記基材搬送路との間に前記目詰め液溜まり部を形成するように構成されている
ことを特徴とする目詰め液充填装置。
An apparatus for filling a filling liquid into the micropores of a substrate having micropores,
A substrate supply device for supplying the substrate;
A decompression chamber capable of maintaining the interior in a decompressed state, the decompression chamber having a substrate carry-in port and a substrate carry-out port;
The base material supplied from the base material supply device is transported from the inside of the decompression chamber to the inside through the base material carry-in port of the decompression chamber and from the inside to the outside of the decompression chamber through the base material carry-out port. A base material transport device that constitutes a simple base material transport path;
A filling liquid supply device that is provided on the downstream side in the conveyance direction of the substrate by the substrate conveyance device with respect to the decompression chamber and supplies a filling solution toward the substrate carry-out port of the decompression chamber When,
A film feed shaft configured to rotate the film roll so that the film roll is set and the film is supplied from the film roll;
Film transport such that the film supplied from the film roll is transported from the inside of the decompression chamber to the inside through the base material carry-in port of the decompression chamber and from the inside to the outside of the decompression chamber through the base material carry-out port A film conveying device constituting the path;
Equipped with a,
A filling liquid reservoir for storing a filling liquid on at least one side of the substrate conveyance path from the substrate discharge port of the decompression chamber to the downstream side in the conveyance direction of the substrate by the substrate conveyance device. Part is provided,
The film transport path is located between the film transport path and the base material transport path on the downstream side in the transport direction of the base material by the base material transport device with respect to the base material carry-out port. A filling liquid filling device characterized by being configured to form a portion .
前記減圧チャンバの前記基材搬入口は、外周面が隣り合うように軸が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬入口ローラによって当該一対の基材搬入口ローラの前記外周面の間に規定されており、
前記減圧チャンバの前記基材搬出口は、外周面が隣り合うように軸が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬出口ローラによって当該一対の基材搬出口ローラの前記外周面の間に規定されている
ことを特徴とする請求項に記載の目詰め液充填装置。
The outer periphery of the pair of substrate carry-in rollers is formed by a pair of substrate carry-in rollers provided such that the shafts are parallel and rotatable with respect to each other so that the outer circumferential surfaces are adjacent to each other. Is defined between the faces,
The outer periphery of the pair of substrate unloading rollers is formed by a pair of substrate unloading rollers provided such that the shafts are parallel and rotatable with respect to each other so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other. 6. The filling liquid filling device according to claim 5 , wherein the filling liquid filling device is defined between the surfaces.
前記フィルム搬送路は、前記減圧チャンバ内の少なくとも一部の領域において、前記基材搬送路から離間されるように構成されている
ことを特徴とする請求項4乃至6のいずれかに記載の目詰め液充填装置。
The film transport path, at least in some areas, the eye according to any one of claims 4 to 6, characterized in that it is configured to be separated from the base material transfer path of the vacuum chamber Filling liquid filling device.
前記目詰め液溜まり部に対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側において、当該基材搬送装置によって搬送される当該基材と、前記フィルム搬送装置によって搬送される前記フィルムと、を互いに対して押圧するようになっている押圧ローラ
を更に備えたことを特徴とする請求項4乃至7のいずれかに記載の目詰め液充填装置。
The base material transported by the base material transport device and the film transported by the film transport device on the downstream side in the transport direction of the base material by the base material transport device with respect to the filling liquid reservoir portion 8. The filling device for filling liquid according to claim 4 , further comprising a pressing roller configured to press each other against each other.
前記基材供給装置は、基材ロールがセットされ、当該基材ロールから前記基材としてシート状の基材が供給されるように当該基材ロールを回転させるようになっている基材給送軸を有している
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の目詰め液充填装置。
The base material feeding device is configured to rotate the base material roll so that a base material roll is set and a sheet-like base material is supplied as the base material from the base material roll. 9. The filling liquid filling device according to claim 1, further comprising a shaft.
前記基材供給装置は、
搬送ウェブロールがセットされ、当該搬送ウェブロールから搬送ウェブが供給されるように当該搬送ウェブロールを回転させるようになっている搬送ウェブ給送軸と、
前記搬送ウェブロールから供給される前記搬送ウェブ上に前記基材として枚葉状の基材を載置する基材載置装置と、
を有している
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の目詰め液充填装置。
The base material supply device includes:
A transport web feed shaft configured to rotate the transport web roll so that the transport web roll is set and the transport web is supplied from the transport web roll;
A substrate mounting device for mounting a sheet-like substrate as the substrate on the transport web supplied from the transport web roll;
The filling device for filling liquid according to any one of claims 1 to 8, characterized by comprising:
前記減圧チャンバは、内部を1Torr以下の減圧状態に維持可能である
ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の目詰め液充填装置。
The filling device according to any one of claims 1 to 10 , wherein the decompression chamber can be maintained in a decompressed state of 1 Torr or less.
微細孔を有する基材の当該微細孔に目詰め液を充填するための装置であって、
内部を減圧状態に維持可能な減圧チャンバであって、基材搬出口を有する減圧チャンバと、
前記基材を供給する基材供給装置であって、前記減圧チャンバ内に設けられた基材供給装置と、
前記基材供給装置から供給された前記基材が前記減圧チャンバの前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるような基材搬送路を構成する基材搬送装置と、
前記減圧チャンバに対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側に設けられており、前記減圧チャンバの前記基材搬出口に向けて目詰め液を供給する目詰め液供給装置と、
フィルムロールがセットされ、当該フィルムロールからフィルムが供給されるように当該フィルムロールを回転させるようになっているフィルム給送軸であって、前記減圧チャンバ内に設けられたフィルム給送軸と、
前記フィルムロールから供給された前記フィルムが前記基材搬出口を通じて当該減圧チャンバの内部から外部へ搬送されるようなフィルム搬送路を構成するフィルム搬送装置と、
を備え
前記減圧チャンバの前記基材搬出口から前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側にかけて、前記基材搬送路の少なくとも一方の側に目詰め液を貯留するための目詰め液溜まり部が設けられており、
前記フィルム搬送路は、前記基材搬出口に対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側において、当該フィルム搬送路と前記基材搬送路との間に前記目詰め液溜まり部を形成するように構成されている
ことを特徴とする目詰め液充填装置。
An apparatus for filling a filling liquid into the micropores of a substrate having micropores,
A decompression chamber capable of maintaining the interior in a decompressed state, the decompression chamber having a substrate carry-out port;
A base material supply device for supplying the base material, the base material supply device provided in the decompression chamber;
A base material transport device that constitutes a base material transport path in which the base material supplied from the base material supply device is transported from the inside of the decompression chamber to the outside through the base material carry-out port of the decompression chamber;
A filling liquid supply device that is provided on the downstream side in the conveyance direction of the substrate by the substrate conveyance device with respect to the decompression chamber and supplies a filling solution toward the substrate carry-out port of the decompression chamber When,
A film feed shaft that is configured to rotate the film roll so that the film roll is set and the film is supplied from the film roll, the film feed shaft provided in the decompression chamber;
A film transporting device that constitutes a film transporting path in which the film supplied from the film roll is transported from the inside of the decompression chamber to the outside through the base material unloading port;
Equipped with a,
A filling liquid reservoir for storing a filling liquid on at least one side of the substrate conveyance path from the substrate discharge port of the decompression chamber to the downstream side in the conveyance direction of the substrate by the substrate conveyance device. Part is provided,
The film transport path is located between the film transport path and the base material transport path on the downstream side in the transport direction of the base material by the base material transport device with respect to the base material carry-out port. A filling liquid filling device characterized by being configured to form a portion .
前記基材供給装置は、基材ロールがセットされ、当該基材ロールから前記基材としてシート状の基材が供給されるように当該基材ロールを回転させるようになっている基材給送軸を有している
ことを特徴とする請求項12に記載の目詰め液充填装置。
The base material feeding device is configured to rotate the base material roll so that a base material roll is set and a sheet-like base material is supplied as the base material from the base material roll. 13. The filling liquid filling apparatus according to claim 12 , further comprising a shaft.
前記基材供給装置は、
搬送ウェブロールがセットされ、当該搬送ウェブロールから搬送ウェブが供給されるように当該搬送ウェブロールを回転させるようになっている搬送ウェブ給送軸と、
前記搬送ウェブロールから供給される前記搬送ウェブ上に前記基材として枚葉状の基材を載置する基材載置装置と、
を有している
ことを特徴とする請求項12に記載の目詰め液充填装置。
The base material supply device includes:
A transport web feed shaft configured to rotate the transport web roll so that the transport web roll is set and the transport web is supplied from the transport web roll;
A substrate mounting device for mounting a sheet-like substrate as the substrate on the transport web supplied from the transport web roll;
The filling device for filling liquid according to claim 12 , comprising:
前記減圧チャンバは、内部を1Torr以下の減圧状態に維持可能である
ことを特徴とする請求項12乃至14のいずれかに記載の目詰め液充填装置。
15. The filling liquid filling apparatus according to claim 12 , wherein the decompression chamber can be maintained in a decompressed state of 1 Torr or less.
前記減圧チャンバの前記基材搬出口は、外周面が隣り合うように軸が互いに対して平行かつ回転可能に設けられた一対の基材搬出口ローラによって当該一対の基材搬出口ローラの前記外周面の間に規定されている
ことを特徴とする請求項12乃至15のいずれかに記載の目詰め液充填装置。
The outer periphery of the pair of substrate unloading rollers is formed by a pair of substrate unloading rollers provided such that the shafts are parallel and rotatable with respect to each other so that the outer peripheral surfaces are adjacent to each other. 16. The filling device for filling liquid according to claim 12, wherein the filling device is defined between the surfaces.
前記目詰め液溜まり部に対して前記基材搬送装置による前記基材の搬送方向の下流側において、当該基材搬送装置によって搬送される当該基材と、前記フィルム搬送装置によって搬送される前記フィルムと、を互いに対して押圧するようになっている押圧ローラ
を更に備えたことを特徴とする請求項12乃至16のいずれかに記載の目詰め液充填装置。
The base material transported by the base material transport device and the film transported by the film transport device on the downstream side in the transport direction of the base material by the base material transport device with respect to the filling liquid reservoir portion The filling liquid filling device according to claim 12 , further comprising a pressing roller configured to press each other against each other.
JP2013163322A 2013-08-06 2013-08-06 Method for producing a filling liquid filling sheet and a filling liquid filling apparatus Expired - Fee Related JP6136012B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013163322A JP6136012B2 (en) 2013-08-06 2013-08-06 Method for producing a filling liquid filling sheet and a filling liquid filling apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013163322A JP6136012B2 (en) 2013-08-06 2013-08-06 Method for producing a filling liquid filling sheet and a filling liquid filling apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015029976A JP2015029976A (en) 2015-02-16
JP6136012B2 true JP6136012B2 (en) 2017-05-31

Family

ID=52515782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013163322A Expired - Fee Related JP6136012B2 (en) 2013-08-06 2013-08-06 Method for producing a filling liquid filling sheet and a filling liquid filling apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6136012B2 (en)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52110913A (en) * 1976-03-15 1977-09-17 Matsushita Electric Works Ltd Mithod of impregnating resin solution to sheet like material
JPH062349B2 (en) * 1985-11-25 1994-01-12 松下電工株式会社 Process for producing resin-impregnated sheet material and apparatus used for its implementation
JPH04104858A (en) * 1990-08-22 1992-04-07 Hitachi Chem Co Ltd Equipment for impregnating sheet-like base material with resin liquid and impregnating method for resin liquid with this equipment utilized therefor
JP2001029881A (en) * 1999-07-19 2001-02-06 Nikku Ind Co Ltd Method for impregnating into film shaped body in vacuum
JP2003017854A (en) * 2001-06-28 2003-01-17 Kyocera Corp Multilayer wiring board and manufacturing method thereof
JP2007090162A (en) * 2005-09-27 2007-04-12 Dainippon Ink & Chem Inc Surface treatment method for printed materials
JP6155945B2 (en) * 2013-08-06 2017-07-05 大日本印刷株式会社 Method for producing filling liquid sheet and sheet with cover film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015029976A (en) 2015-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103229105B (en) Optical imagery
KR20170087117A (en) Apparatus for manufacturing flexible substrate
JP4793206B2 (en) Method and apparatus for producing uneven film
JP6136012B2 (en) Method for producing a filling liquid filling sheet and a filling liquid filling apparatus
JP6155945B2 (en) Method for producing filling liquid sheet and sheet with cover film
CN102315022B (en) Apparatus and method for manufacturing laminated electronic component
CN102922647A (en) Light guide plate manufacturing apparatus and method
JP4983146B2 (en) Uneven film production equipment
JP7066135B2 (en) Liquid coating device
JP2011200843A (en) Coating method, coating apparatus, and method for manufacturing laminate
JP7011081B2 (en) Film manufacturing method and film roll
KR101533485B1 (en) UV Curing Apparatus of Glass Fiber Sheets for Coating Resin Composition
CN102315019B (en) Apparatus and method for manufacturing laminated electronic component
CN117460858A (en) Equipment and methods for manufacturing composite membranes
JP2013226667A (en) Method of manufacturing sheet-shaped member including fine irregular pattern and sheet-shaped member
KR101557523B1 (en) Apparatus and method for forming flatness of glass substrate
KR101626576B1 (en) Hybrid coating device having chamber type ink supply
JP5208618B2 (en) Circuit board end face coating device
JP5516996B2 (en) Multilayer electronic component manufacturing apparatus and multilayer electronic component manufacturing method
KR100912406B1 (en) Film manufacturing apparatus and method
KR101561223B1 (en) Pattern roll and printer including the same
JP7099826B2 (en) Transfer device and transfer method
KR102249039B1 (en) Spray Coating Apparatus and Method of Roll Surface
KR101458187B1 (en) Device and Method of Coating of Roll Surface
WO2025004534A1 (en) Coating peeling device and coating peeling method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160624

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170120

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170118

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170317

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170331

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170413

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6136012

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees