JP6136853B2 - Bi-based solder alloy, method for manufacturing the same, electronic component bonding method using the same, and electronic component mounting board - Google Patents
Bi-based solder alloy, method for manufacturing the same, electronic component bonding method using the same, and electronic component mounting board Download PDFInfo
- Publication number
- JP6136853B2 JP6136853B2 JP2013221843A JP2013221843A JP6136853B2 JP 6136853 B2 JP6136853 B2 JP 6136853B2 JP 2013221843 A JP2013221843 A JP 2013221843A JP 2013221843 A JP2013221843 A JP 2013221843A JP 6136853 B2 JP6136853 B2 JP 6136853B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder alloy
- solder
- electronic component
- based solder
- content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/30—Die-attach connectors
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
本発明は、Bi基はんだ合金、並びにそれを用いた電子部品のボンディング方法および電子部品実装基板に関し、さらに詳しくは、Pbを実質的に含まず、固相線温度が265℃以上、液相線温度が390℃以下であり、機械加工性、機械的強度および接合信頼性に優れたBiはんだ合金、並びに、それを用いた接合表面がCu面となっているベアCuフレーム電子部品へのボンディング方法および電子部品実装基板に関する。 The present invention relates to a Bi-based solder alloy, an electronic component bonding method using the Bi-based solder alloy, and an electronic component mounting substrate, and more specifically, substantially free of Pb, having a solidus temperature of 265 ° C. or higher, and a liquidus wire Bi solder alloy having a temperature of 390 ° C. or less and excellent in machinability, mechanical strength, and bonding reliability, and a bonding method to a bare Cu frame electronic component using the bonding surface of which is a Cu surface And an electronic component mounting board.
電子部品を接合する際、まず半導体素子チップなどの電子部品をリードフレームへはんだで接合(ダイボンディング)し、次に、はんだを再溶融(リフロー)して半導体パッケージなどのプリント基板へ実装することが一般に行われている。 When joining electronic components, the electronic components such as semiconductor element chips are first joined to the lead frame with solder (die bonding), and then the solder is remelted (reflowed) and mounted on a printed circuit board such as a semiconductor package. Is generally done.
従来から、電子部品の基板への実装には、中低温用はんだとしてSn/37質量%Pbの共晶はんだ(融点183℃)が広く用いられ、実装時、220〜230℃でリフローが行われていた。一方、電子部品内部における接合には、実装時のリフロー温度(220〜230℃)での再溶融による接続不良を防ぐため、実装時のリフロー温度よりも高い温度の固相線温度を有する高温用はんだ、Pb/5質量%Sn(固相線温度305℃)、Pb/3質量%Sn(固相線温度315℃)が用いられてきた。 Conventionally, Sn / 37 mass% Pb eutectic solder (melting point: 183 ° C.) is widely used for mounting electronic components on a substrate, and reflow is performed at 220 to 230 ° C. during mounting. It was. On the other hand, for bonding inside the electronic component, in order to prevent connection failure due to remelting at the reflow temperature (220 to 230 ° C.) at the time of mounting, for high temperature having a solidus temperature higher than the reflow temperature at the time of mounting. Solder, Pb / 5 mass% Sn (solidus temperature 305 ° C), Pb / 3 mass% Sn (solidus temperature 315 ° C) have been used.
しかし、鉛(Pb)入りはんだを用いた製品は、廃棄処分後、製品からPbが流出して土壌に浸透し、農作物等に蓄積して人間に健康被害を及ぼす危険性が指摘され、さらに、酸性雨による廃棄処分された製品からのPbの流出の加速が指摘されていることから、近年、Pbを含まない無鉛はんだの開発が盛んに行われている。 However, products that use lead (Pb) -containing solder have been pointed out that after disposal, Pb flows out of the product, penetrates into the soil, accumulates in crops, etc., and can cause health damage to humans. In recent years, lead-free solders containing no Pb have been actively developed because it has been pointed out that the outflow of Pb from products discarded due to acid rain has been pointed out.
中低温用のPb入りはんだの代替品としては、Sn−Ag−Cu等のPbを含まない無鉛はんだが実用化されている。
しかしながら、Sn−Ag−Cu等の無鉛はんだの融点は、従来のSn/Pb共晶はんだより高く約220℃前後であり、実装時のリフロー温度は250〜260℃付近となる。このため、リフロー温度260℃で10秒間保持するサイクルを5回程度繰り返した後でも、電子部品内部の接合信頼性等に問題が生じない高温用の無鉛はんだが必要とされる(特許文献1)。
As an alternative to Pb-containing solder for medium and low temperatures, lead-free solder containing no Pb such as Sn—Ag—Cu has been put into practical use.
However, the melting point of lead-free solder such as Sn—Ag—Cu is higher than that of the conventional Sn / Pb eutectic solder and is about 220 ° C., and the reflow temperature during mounting is around 250 to 260 ° C. For this reason, a lead-free solder for high temperature that does not cause a problem in the bonding reliability inside the electronic component even after the cycle of holding for 10 seconds at a reflow temperature of 260 ° C. is required (Patent Document 1). .
すなわち、高温用の無鉛はんだには、熱放散性、応力緩和性、耐熱疲労特性、電気伝導性等の特性以外に、実装時のリフロ−温度(すなわち、250〜260℃)での再溶融による接続不良を防ぐため、少なくとも260℃以上の固相線を有することが必要であり、リフロー時の温度のばらつき(5℃程度)を考慮すると、265℃以上の固相線温度が要求される。 That is, lead-free solders for high temperature use remelting at the reflow temperature during mounting (ie 250 to 260 ° C.) in addition to the characteristics such as heat dissipation, stress relaxation, heat fatigue resistance, and electrical conductivity. In order to prevent poor connection, it is necessary to have a solidus line of at least 260 ° C. or higher, and a solidus temperature of 265 ° C. or higher is required in consideration of temperature variations during reflow (about 5 ° C.).
また、無鉛はんだの液相線温度が400℃以上の場合、ダイボンディング時の作業温度を400℃以上に上げる必要があり、チップ特性の変化、部材酸化の促進等の悪影響が生じる可能性がある。したがって、液相線温度は、400℃未満である必要があり、実際の生産工程を考慮すると390℃以下が望ましく、さらには350℃以下であることが望ましい。 In addition, when the liquidus temperature of lead-free solder is 400 ° C. or higher, it is necessary to increase the working temperature during die bonding to 400 ° C. or higher, which may cause adverse effects such as changes in chip characteristics and promotion of member oxidation. . Accordingly, the liquidus temperature needs to be lower than 400 ° C., and is preferably 390 ° C. or lower, more preferably 350 ° C. or lower in consideration of an actual production process.
260℃〜350℃の融点を持つ無鉛はんだとして、Au−Snはんだ、Bi−Agはんだ等が提案されている。このAu−Snはんだは、融点が280℃であり、実装時の再溶融の問題はないが、高価であり、コスト上実用的でないために、Bi−Agはんだのほうが数多く提案されている。 As lead-free solder having a melting point of 260 ° C. to 350 ° C., Au—Sn solder, Bi—Ag solder and the like have been proposed. This Au—Sn solder has a melting point of 280 ° C., and there is no problem of re-melting at the time of mounting, but it is expensive and impractical in terms of cost, so many Bi—Ag solders have been proposed.
Bi−AgはんだでもBi/2.5質量%Ag共晶はんだ(融点262℃)は、代表的なものであるが、固相線温度が265℃未満であるため、実装時に再溶融の問題が発生する場合がある。また、Biはんだに特有の脆弱な機械的特性を有し、そのまま適用した場合、接合信頼性、機械加工性及び装置による連続供給性に悪影響を及ぼす。 The Bi / 2.5 mass% Ag eutectic solder (melting point 262 ° C.) is a typical Bi-Ag solder, but the solidus temperature is less than 265 ° C., so there is a problem of remelting during mounting. May occur. Moreover, it has the weak mechanical characteristic peculiar to Bi solder, and when it is applied as it is, it will have a bad influence on joining reliability, machinability, and the continuous supply property by an apparatus.
特許文献2には、Bi30〜80質量%のBi/Agはんだが開示されているが、固相線は262℃であり、再溶融の可能性がある。また、液相線温度が400〜700℃と高いため、チップ特性の変化、部材酸化の促進等の悪影響が生じる恐れがある。
また、特許文献3には、Biを含む多元系はんだの製造方法が開示され、液相線温度のばらつきが減少し、融点を250〜300℃とすることが記載されている。しかし、Bi系はんだ特有の脆弱な機械的特性の改善については記載されていない。
また、特許文献4には、BiにAl、Cuを含み、さらにSn含むはんだ合金が提案されている。しかしSnを加えることで、合金組成によっては139℃の低融点層が出現し、260℃でのリフロー時に再溶融が発生してしまう恐れがある。
さらに、高温用の無鉛はんだには、パワーデバイス等での大電流・大量発熱によるはんだ接続部への熱応力に対する十分な信頼性や、はんだワイヤー等のプリフォーム形状のはんだ(プリフォームはんだ)への機械加工性、ダイボンダー等の電子部品組立機器による連続供給の使用可能性が実用上要求されるが、従来のBi−Agはんだは、機械的特性の脆弱性から、ペースト状でしか供給が出来ず、プリフォームはんだの代替としては不十分な面が多かった。 Furthermore, for lead-free solders for high temperatures, sufficient reliability against thermal stress on solder joints due to large currents and large amounts of heat generated in power devices, etc., and to preform-shaped solder such as solder wires (preform solder) However, the conventional Bi-Ag solder can be supplied only in paste form due to its weak mechanical properties. However, there were many aspects that were insufficient as a substitute for preform solder.
また、はんだ合金が塗布されるリードフレームアイランド部には、予めAgメッキが施されていることもあるが、Agの代わりにNiメッキ処理されることもあり、車載関係のデバイスで近年多用されている。それは信頼性試験での温度サイクル試験等で接合界面反応層の成長が抑制されることもあり、長期信頼性が高いメッキとされているからである。一方、費用を低減させるために、これらAgメッキやNiメッキなどの処理がなされない場合があり、ベアCuフレームと称されている。このベアCuフレームは、トランジスタ等の汎用デバイスで多用されているが、このベアCuフレームでの濡れ広がりが重要とされている。 In addition, the lead frame island portion to which the solder alloy is applied may be pre-plated with Ag, but may be Ni-plated instead of Ag, and has been frequently used in in-vehicle devices in recent years. Yes. This is because the growth of the bonding interface reaction layer may be suppressed in a temperature cycle test or the like in the reliability test, and the plating has high long-term reliability. On the other hand, in order to reduce the cost, there is a case where such processing as Ag plating or Ni plating is not performed, and it is called a bare Cu frame. Although this bare Cu frame is frequently used in general-purpose devices such as transistors, wetting and spreading in this bare Cu frame is important.
ところが、はんだ合金がリードフレームアイランド部に塗布されると、Cuがはんだ中の特定元素、例えばSnと優先的に反応を始めるが、その表面に酸化膜があるために濡れ広がりの低下に影響を及ぼしやすい。しかもCuはBi系はんだ合金やPb系はんだ合金には殆ど溶け込まないために、濡れ広がりはAgメッキよりも低下する傾向にある。すなわち、ベアCuフレームでは、表面の酸化が進行しやすく、表面粗さの影響ではんだ濡れ広がりが悪くなりやすいという課題があった。このように、はんだ合金には、ベアCuフレームへのボンディング時に濡れ広がりを低下させないようにする改良が要請されていた。 However, when the solder alloy is applied to the lead frame island part, Cu starts to react preferentially with a specific element in the solder, for example Sn, but there is an oxide film on the surface, which affects the reduction of wetting spread. Easy to affect. In addition, since Cu hardly dissolves in Bi-based solder alloys and Pb-based solder alloys, wetting spread tends to be lower than that of Ag plating. That is, in the bare Cu frame, there is a problem that the surface oxidation is likely to proceed, and the solder wetting spread is likely to deteriorate due to the influence of the surface roughness. Thus, the solder alloy has been required to be improved so as not to reduce the wetting spread during bonding to the bare Cu frame.
本発明の目的は、かかる従来技術の問題点に鑑み、Pbを実質的に含まず、固相線温度が265℃以上、液相線温度が390℃以下であり、機械加工性、機械的強度および接合信頼性に優れたBiはんだ合金、並びにそれを用いた接合表面がCu面となっているベアCuフレーム電子部品へのボンディング方法および電子部品実装基板を提供することにある。 In view of the problems of the prior art, an object of the present invention is substantially free of Pb, has a solidus temperature of 265 ° C. or higher, and a liquidus temperature of 390 ° C. or lower, and has machinability and mechanical strength. It is another object of the present invention to provide a Bi solder alloy having excellent bonding reliability, a bonding method to a bare Cu frame electronic component using the Cu solder surface, and an electronic component mounting substrate.
本発明者は、上記課題を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、従来のBi−Agはんだにおいて、さらに特定量のAlを混合し合金化し、はんだ合金内にAgとAlとの金属間化合物を含む粒子が分散するようにすると、ボンディングの際、熱による電子部品の劣化・損傷が発生したり、はんだリフロー時の熱による再溶融の不具合が発生したりせず、接合信頼性の高いBi基はんだ合金が得られ、この合金にさらにP又はGeを添加すると、ベアCuフレームへのボンディング時に濡れ広がりを低下させることなく電子部品を接合しうることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive research in order to solve the above problems, the present inventor has mixed and alloyed a specific amount of Al in the conventional Bi-Ag solder, and an intermetallic compound of Ag and Al in the solder alloy. If the particles containing bismuth are dispersed, there is no deterioration or damage of electronic parts due to heat during bonding, and there is no problem of remelting due to heat during solder reflow. A base solder alloy was obtained, and when P or Ge was further added to this alloy, it was found that electronic components could be joined without lowering the wetting spread during bonding to the bare Cu frame, and the present invention was completed. .
すなわち、本発明の第1の発明によれば、融点の固相線が265℃以上、液相線が390℃以下のBi基はんだ合金であって、Agの含有量が0.6〜18質量%、Alの含有量が0.1〜3質量%、PおよびGeのうち1種以上の含有量が0.001〜0.3質量%、及びCuの含有量が0〜1質量%であり、残部がBi及び不可避不純物からなり、Alの含有量が、Agの含有量の1/20〜1/2であり、はんだ合金内にAgとAlとの金属間化合物を含む粒子を分散させてなり、前記粒子全体の総体積に対して、97体積%以上の粒子が粒径50μm未満であることを特徴とするBi基はんだ合金が提供される。
That is, according to the first invention of the present invention, a Bi-based solder alloy having a melting point of a solidus of 265 ° C. or higher and a liquidus of 390 ° C. or lower, with an Ag content of 0.6 to 18 mass. %, Al content is 0.1 to 3% by mass, one or more of P and Ge are 0.001 to 0.3% by mass, and Cu content is 0 to 1% by mass The balance is made of Bi and inevitable impurities, the Al content is 1/20 to 1/2 of the Ag content, and particles containing an intermetallic compound of Ag and Al are dispersed in the solder alloy. Thus, a Bi-based solder alloy is provided in which 97% by volume or more of the particles have a particle size of less than 50 μm with respect to the total volume of the particles.
また、本発明の第2の発明によれば、第1または2の発明において、Alの含有量がAgの含有量の1/15〜1/4であることを特徴とすることを特徴とするBi基はんだ合金が提供される。
また、本発明の第3の発明によれば、第1〜3の発明において、Cuを0.01〜1質量%含有することを特徴とするBi基はんだ合金が提供される。
According to the second invention of the present invention, in the first or second invention, the Al content is 1/15 to 1/4 of the Ag content. A Bi-based solder alloy is provided.
According to a third invention of the present invention, there is provided a Bi-based solder alloy characterized in that, in the first to third inventions, 0.01 to 1% by mass of Cu is contained.
また、本発明の第4の発明によれば、第1〜3の発明に係るBi基はんだ合金の製造方法であって、前記Bi基はんだ合金を構成する各成分を原料として含むはんだ合金の溶湯を鋳型に流し込んだ後、260℃まで3℃/sec以上の冷却速度で速やかに冷却固化させることで、AgとAlとの金属間化合物を含む粒子を合金内で分散させることを特徴とするBi基はんだ合金の製造方法が提供される。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a Bi-based solder alloy manufacturing method according to the first to third aspects of the present invention , which is a molten solder alloy containing, as a raw material, each component constituting the Bi-based solder alloy. the after flushing the mold, by rapidly cooled and solidified at 3 ° C. / sec or more cooling rate until 260 ° C., the particles comprising an intermetallic compound of Ag and Al and wherein Rukoto dispersed in the alloy A method for manufacturing a Bi-based solder alloy is provided.
また、本発明の第5の発明によれば、第1〜3のいずれかの発明に係るBi基はんだ合金を使用して、表面がCu材で形成された基板又はフレームに電子部品をボンディングすることを特徴する電子部品のボンディング方法が提供される。 According to a fifth aspect of the present invention, an electronic component is bonded to a substrate or frame whose surface is formed of a Cu material using the Bi-based solder alloy according to any one of the first to third aspects. An electronic component bonding method is provided.
また、本発明の第6の発明によれば、第1〜3のいずれかの発明に係るBi基はんだ合金をその内部に使用した電子部品が実装された電子部品実装基板が提供される。 The sixth aspect of the present invention, an electronic component mounting board of the electronic component using a Bi based solder alloy according to any one of aspects 1-3 therein is mounted is provided.
本発明のBi基はんだ合金は、Pbを実質的に含まず、固相線温度が265℃以上、液相線温度が390℃以下であり、はんだ合金内にAgとAlとの金属間化合物を含む微細な粒子が分散しているので、ボンディングの際、熱による電子部品の劣化・損傷が発生したり、はんだリフロー時の熱による再溶融の不具合が発生したりせず、接合信頼性の高いBi基はんだ合金を提供することができ、電子部品内部の接合であるダイボンディング等に好適に用いることができる。また、機械的強度および機械加工性の向上により、ワイヤー状のプリフォームはんだの成形・巻取りが可能となり、特にダイボンディング用高温はんだ合金のプリフォーム材として適している。
また、添加元素として上記Ag、Alのほか、さらに、PまたはGeのいずれか一種以上を含んでいるので、はんだの濡れ性を改善し、接合時のボイド発生を低減させることができベアCuフレームに対する接合強度を低下させることがない。
さらに、本発明のBi基はんだ合金を用いた電子部品や、基板への電子部品のボンディング方法により、チップ特性の変化や部材酸化が発生せず、機械的強度が高い電子部品実装基板を提供することができる。
The Bi-based solder alloy of the present invention does not substantially contain Pb, has a solidus temperature of 265 ° C. or higher and a liquidus temperature of 390 ° C. or lower. An intermetallic compound of Ag and Al is contained in the solder alloy. Since the fine particles that are contained are dispersed, there is no deterioration or damage of electronic parts due to heat during bonding, and there is no problem of remelting due to heat during solder reflow. A Bi-based solder alloy can be provided, and can be suitably used for die bonding or the like, which is bonding inside an electronic component. Further, the improvement in mechanical strength and machinability enables the formation and winding of wire-shaped preform solder, which is particularly suitable as a preform material for high-temperature solder alloys for die bonding.
In addition to the above Ag and Al as additive elements, any one or more of P or Ge is included, so that the wettability of the solder can be improved and the generation of voids during bonding can be reduced. The bonding strength with respect to is not reduced.
Furthermore, an electronic component mounting substrate having high mechanical strength is provided by the electronic component using the Bi-based solder alloy of the present invention and the bonding method of the electronic component to the substrate without causing any change in chip characteristics or member oxidation. be able to.
本発明は、Bi−Agに特定量のAlを含有し、はんだ合金内にAgとAlとの金属間化合物を含む粒子を分散させてなるBi基はんだ合金、並びにそれを用いた電子部品のベアCuフレームへのボンディング方法および電子部品実装基板に関する。 The present invention relates to a Bi-based solder alloy in which a specific amount of Al is contained in Bi-Ag and particles containing an intermetallic compound of Ag and Al are dispersed in the solder alloy, and an electronic component using the same The present invention relates to a bonding method to a Cu frame and an electronic component mounting substrate.
1.Bi−Ag
本発明のBi基はんだ合金は、周期表のVa族元素に属し、結晶構造が対称性の低い三方晶(菱面体晶)で非常に脆弱な金属のBiを主成分とする。
1. Bi-Ag
The Bi-based solder alloy of the present invention is mainly composed of Bi, which belongs to the group Va element of the periodic table, and has a trigonal crystal (rhombohedral crystal) with very low crystal structure and is very fragile.
従来のBi−Agはんだは、前記のとおり、鉛を含まず、電子部品の基板実装時のリフロー温度上限260℃より高い固相線を有する高温はんだとして知られている。例えば、Bi−2.5質量%Agはんだは、共晶型合金であり、固相線温度が262℃で、純Biの融点271℃より約9℃低いものである。 As described above, the conventional Bi-Ag solder is known as a high-temperature solder that does not contain lead and has a solidus line higher than the upper limit of 260 ° C. when the electronic component is mounted on the substrate. For example, Bi-2.5 mass% Ag solder is a eutectic type alloy having a solidus temperature of 262 ° C., which is about 9 ° C. lower than the melting point 271 ° C. of pure Bi.
また、従来のBi−Agはんだにおいては、図5から明らかなように、Bi/2.5Agの共晶型はんだ合金でも8%程度の伸び率しか示さない。この脆弱性のため、従来のBi−Agはんだでは、接合時やその後の信頼性試験で不具合が発生しやすく、またプリフォームはんだへの機械加工性・ダイボンダー等の電子部品組立機器による連続供給性を確保することができなかった。 Further, as is apparent from FIG. 5, the conventional Bi—Ag solder shows only about 8% elongation even in a Bi / 2.5 Ag Ag eutectic solder alloy. Due to this fragility, conventional Bi-Ag solder is prone to defects during bonding and subsequent reliability tests, and it can be machined into preform solder and continuously supplied by electronic component assembly equipment such as die bonders. Could not be secured.
そこで、本出願人は、Bi−Agはんだの固相線温度を上昇させるため、Biと組み合わせた場合、Bi−Ag共晶より融点の降下が少ないかまたは降下しない元素のAlに着目した結果、Agに対して特定の割合でAlを含有させることで、高い固相線温度と適度な液相線温度を有し、機械的強度、機械加工性等を向上させることができた。 Therefore, the present applicant, as a result of paying attention to the elemental Al, which has a lower melting point drop or no lowering than Bi-Ag eutectic when combined with Bi in order to increase the solidus temperature of Bi-Ag solder, By containing Al at a specific ratio with respect to Ag, it has a high solidus temperature and an appropriate liquidus temperature, and can improve mechanical strength, machinability, and the like.
すなわち、本発明では、Bi−Agはんだをベースとして、AgとAlの割合を特定範囲にすることにより、265℃以上の固相線温度が得られるようにした。また、本発明のBi基はんだ合金は、基板に実装後も再溶融することなく、電子部品内部のはんだの初期状態を保つことができ、かつ、機械的強度、機械加工性等に優れるものである。
以下、本発明のBi基はんだ合金に用いられる各成分、得られるはんだ合金を用いた電子部品のボンディング方法、実装基板等について詳細に説明する。
That is, in the present invention, a Bi-Ag solder is used as a base, and the solidus temperature of 265 ° C. or higher is obtained by setting the ratio of Ag and Al within a specific range. Further, the Bi-based solder alloy of the present invention can maintain the initial state of the solder inside the electronic component without being remelted after being mounted on the substrate, and is excellent in mechanical strength, machinability and the like. is there.
Hereinafter, each component used for the Bi-based solder alloy of the present invention, an electronic component bonding method using the obtained solder alloy, a mounting substrate, and the like will be described in detail.
本発明においてBiの含有量は、他の必須添加元素であるAg、Alなどの添加量に応じて決まるが、はんだ合金の全量に対して、80質量%以上でなければならない。Biの含有量が80質量%未満になると、液相線の上昇が大きくなり、チップ特性の変化・部材酸化の促進等の悪影響を生じる恐れがある。 In the present invention, the Bi content is determined according to the addition amount of other essential additive elements such as Ag and Al, but must be 80% by mass or more based on the total amount of the solder alloy. When the Bi content is less than 80% by mass, the liquidus increases greatly, which may cause adverse effects such as changes in chip characteristics and promotion of member oxidation.
本発明のはんだ合金において、Agは、Alとともに、後述するAg−Al金属間化合物を形成し、その粒子がBi中に分散することで、Biマトリックスの脆弱性を分散強化として改善する。
Agの含有量は、0.6〜18質量%とする。Ag含有量が0.6質量%未満であると、Ag−Al化合物が十分に発生せずBiマトリックスの脆弱な機械的特性が支配的になり、伸びが十分改善されずに接合信頼性、はんだの機械加工性、組立機器による連続供給性を確保することが出来ない。また、Agの含有量が18質量%を超えると液相線が上昇し、390℃での組立時にはんだの濡れ広がりが不良となるため接合信頼性が低下する。
In the solder alloy of the present invention, Ag forms an Ag-Al intermetallic compound described later together with Al, and the particles are dispersed in Bi, thereby improving the brittleness of the Bi matrix as dispersion strengthening.
The content of Ag is 0.6 to 18% by mass. If the Ag content is less than 0.6% by mass, the Ag-Al compound is not sufficiently generated, and the brittle mechanical characteristics of the Bi matrix become dominant, and the elongation is not sufficiently improved. It is not possible to ensure the machinability and continuous supply by assembly equipment. Further, when the Ag content exceeds 18% by mass, the liquidus increases and the solder spread becomes poor at the time of assembly at 390 ° C., so that the bonding reliability is lowered.
2.Al
本発明のBi基はんだ合金において、Alは、Bi−Agはんだの固相線温度を上昇させ、さらに、Bi系はんだ特有の脆弱な機械的特性を改善する。
2. Al
In the Bi-based solder alloy of the present invention, Al increases the solidus temperature of Bi-Ag solder and further improves the fragile mechanical properties unique to Bi-based solder.
Alの含有量は、0.1質量%以上、3質量%以下である。Alの含有量が0.1質量%未満であると、Bi−Ag固相線温度上昇が不十分で265℃以上にならず、再溶融による接合信頼性不良を発生する可能性があり、一方、3%超であると、液相線温度が上昇し、390℃以下の接合作業温度では濡れ不良が出現する。
Alの量は、Agの含有量に応じて決まり、すなわち、Ag−Al状態図では、5〜33wt%Alの比率で、中間層ζ相のAg2Al金属間化合物、中間層μ相のAg3Al金属間化合物が存在することから、Agの含有量の1/20〜1/2とする。この範囲を外れると、はんだの濡れ性が不良で接合信頼性がなくなる。好ましいAlの量は、Agの含有量の1/15〜1/4である。
The Al content is 0.1% by mass or more and 3% by mass or less. If the Al content is less than 0.1% by mass, the Bi-Ag solidus temperature rise is insufficient and does not exceed 265 ° C., which may cause poor bonding reliability due to remelting. If it exceeds 3%, the liquidus temperature rises, and a wetting defect appears at a joining operation temperature of 390 ° C. or lower.
The amount of Al is determined according to the content of Ag. That is, in the Ag-Al phase diagram, the Ag 2 Al intermetallic compound in the intermediate layer ζ phase and the Ag in the intermediate layer μ phase at a ratio of 5 to 33 wt% Al. Since 3 Al intermetallic compound exists, the content of Ag is set to 1/20 to 1/2. Outside this range, solder wettability is poor and joint reliability is lost. A preferable amount of Al is 1/15 to 1/4 of the content of Ag.
本発明のBi−Ag−Al合金では、はんだ合金内にAg−Al金属間化合物が粒子状で存在する。このAg−Al金属間化合物粒子がBi中に分散することで、Biマトリックスの脆弱性を分散強化して改善する事ができる。ここで、Ag−Al金属間化合物とは、AgとAlを含む金属間化合物を指すが、AgまたはAl金属のいずれかの量が極めて少ない化合物や必須元素のP又はGeも包含し、さらには後述する任意成分のCu金属との化合物をも含むものとする。 In the Bi—Ag—Al alloy of the present invention, the Ag—Al intermetallic compound is present in the form of particles in the solder alloy. By disperse | distributing this Ag-Al intermetallic compound particle | grain in Bi, the brittleness of Bi matrix can be disperse-strengthened and improved. Here, the Ag-Al intermetallic compound refers to an intermetallic compound containing Ag and Al, but also includes a compound in which the amount of either Ag or Al metal is extremely small, or the essential element P or Ge, A compound with an optional component Cu metal described later is also included.
Ag−Al金属間化合物を含む粒子は、粒径が50μmよりも小さいことが好ましい。また、粒径50μm未満のものが、粒子総体積に対して、97体積%以上であることが好ましく、98体積%以上であることがより好ましく、99体積%以上であることが特に好ましい。粒径50μm以上の粒子が3体積%以上になると、局所的に化合物による分散強化されずBiマトリックスの脆弱性が残り、その部分から破壊が起こり全体として脆弱性が改善されない恐れがあるからである。この場合には、接合信頼性不足や取扱い不良の原因になる。Ag−Al金属間化合物を含む粒子の粒径は、40μmよりも小さいことがより好ましく、30μmよりも小さいことが特に好ましい。 The particle containing the Ag—Al intermetallic compound preferably has a particle size of less than 50 μm. Further, those having a particle size of less than 50 μm are preferably 97% by volume or more, more preferably 98% by volume or more, and particularly preferably 99% by volume or more based on the total volume of the particles. If particles with a particle size of 50 μm or more are 3% by volume or more, the dispersion by the compound is not locally strengthened, and the Bi matrix remains fragile, and there is a possibility that the fragility may occur from that part and the fragility may not be improved as a whole. . In this case, it becomes a cause of insufficient bonding reliability and poor handling. The particle size of the particles containing the Ag—Al intermetallic compound is more preferably smaller than 40 μm, and particularly preferably smaller than 30 μm.
なお、Ag−Al金属間化合物を含む粒子は、光学顕微鏡観察によって析出粒子の大きさや分布状態を容易に判別することができる。粒径の測定は、各試片を200倍の光学顕微鏡で観察し、視野中の全金属間化合物を含む粒子の数を計数すると共に、粒子の断面径を測定し、その測定値を1.12倍して求められる。この粒径をもとにすべての金属間化合物粒子を真球として各金属間化合物粒子の体積を計算し、すべての粒子中の粒径50μm未満の粒子割合が体積%で算出される。 In addition, as for the particle | grains containing an Ag-Al intermetallic compound, the magnitude | size and distribution state of precipitation particle | grains can be easily discriminate | determined by optical microscope observation. The particle size was measured by observing each specimen with a 200 × optical microscope, counting the number of particles containing all intermetallic compounds in the field of view, and measuring the cross-sectional diameter of the particles. Obtained by multiplying by 12. Based on this particle size, the volume of each intermetallic compound particle is calculated using all intermetallic compound particles as true spheres, and the proportion of particles having a particle size of less than 50 μm in all particles is calculated in volume%.
3.P、Ge
本発明のBi基はんだ合金は、添加元素として上記のほか、さらに、PまたはGeのいずれか一種以上を含んでいる。PまたはGeは、はんだの濡れ性を改善し、接合時のボイド発生を低減させるために添加する。P、Geを添加すると、P、Geが優先的に酸化され、はんだの表面の酸化が抑制されるため、はんだの濡れ性を改善し、接合時のボイド発生を低減できる。
3. P, Ge
In addition to the above, the Bi-based solder alloy of the present invention further contains at least one of P and Ge. P or Ge is added to improve the wettability of the solder and reduce the generation of voids during bonding. When P and Ge are added, P and Ge are preferentially oxidized, and the oxidation of the solder surface is suppressed. Therefore, the wettability of the solder can be improved and the generation of voids during bonding can be reduced.
P、Geの添加量は0.001〜0.3質量%である。P、Geの添加量が0.3質量%を超えると、P、Geが多くの酸化物を形成することになり、濡れ性に悪影響を及ぼすことになる。また、P、Geの添加量が0.001質量%を下回ると、添加効果が不十分になる。PまたはGeの含有量は、0.003〜0.08質量%が好ましく、0.005〜0.05質量%がより好ましい。 The addition amount of P and Ge is 0.001 to 0.3 mass%. When the addition amount of P and Ge exceeds 0.3 mass%, P and Ge will form many oxides, which will adversely affect wettability. Moreover, when the addition amount of P and Ge is less than 0.001 mass%, the effect of addition becomes insufficient. The content of P or Ge is preferably 0.003 to 0.08% by mass, and more preferably 0.005 to 0.05% by mass.
4.Cu
本発明のBi基はんだ合金は、添加元素として上記のほか、さらに任意成分としてCuを含むことができる。CuはベアCuフレームとの反応を促進し、濡れ広がりを改善する効果がある。
はんだ中のベアCuフレームへの拡散元素として、Alが優先的に移動し反応する事が多いが、はんだ中に添加されたCuが存在すると、ベアCuフレーム表面との間でCu原子同士での拡散移動が起こり、結果として濡れ広がりを改善する効果が得られる。
またCuはBi−Ag−Al合金の液相線温度より高い温度で析出する元素のため最初に析出する初晶成分となり、後から析出するAg−Al化合物やマトリックスの結晶粒を微細に析出させる効果があり、全体として凝固組織の粗大化を抑制することができる。その結果、はんだの組織はCuを添加しない場合に比べて微細な凝固組織となり、クラックが発生しにくくなる。
Cuの添加量は0〜1質量%である。Cuの添加量が1質量%を超えると、粗大な初晶成分として、生成されることがある。また、Cuの添加量が0.01質量%を下回ると、凝固組織の微細化に十分に寄与しなくなることがあるため、Cuの含有量は、0.01〜1質量%がより好ましく、0.03〜0.8質量%がさらに好ましい。
4). Cu
The Bi-based solder alloy of the present invention can contain Cu as an optional component in addition to the above as an additive element. Cu has the effect of promoting the reaction with the bare Cu frame and improving the wetting and spreading.
Al often preferentially moves and reacts as a diffusion element to the bare Cu frame in the solder, but when Cu added in the solder is present, the Cu atoms are in contact with each other between the surfaces of the bare Cu frame. Diffusion movement occurs, and as a result, the effect of improving the wetting spread is obtained.
Cu is an element that precipitates at a temperature higher than the liquidus temperature of the Bi-Ag-Al alloy, so that it becomes an initial crystal component that precipitates first, and finely precipitates Ag-Al compounds and matrix crystals that are precipitated later. There is an effect, and the coarsening of the solidified structure can be suppressed as a whole. As a result, the solder structure becomes a fine solidified structure compared to the case where Cu is not added, and cracks are less likely to occur.
The addition amount of Cu is 0 to 1% by mass. When the added amount of Cu exceeds 1% by mass, it may be produced as a coarse primary crystal component. Further, if the amount of Cu added is less than 0.01% by mass, it may not sufficiently contribute to the refinement of the solidified structure. Therefore, the content of Cu is more preferably 0.01 to 1% by mass. 0.03 to 0.8 mass% is more preferable.
本発明のはんだ合金は、実質的にPbを含まず、Bi、Ag、Alのほかに、P又はGeを必須添加成分とし、さらに任意の添加成分として、Cuを含むことができる。ここで実質的にとは、不可避的な不純物として含みうることをいう。はんだ合金中には、PbやSb、Te等の不可避不純物を、本発明のはんだ合金の性質に影響を及ぼすことのない範囲で含むことができる。
不可避不純物を含む場合、固相線温度や濡れ性、接合信頼性への影響を考慮して、総計が100ppm未満であることが望ましい。
The solder alloy of the present invention does not substantially contain Pb, and in addition to Bi, Ag, and Al, P or Ge can be included as an essential additive component, and Cu can be included as an optional additive component. Here, “substantially” means that it can be contained as an inevitable impurity. In the solder alloy, inevitable impurities such as Pb, Sb, and Te can be included within a range that does not affect the properties of the solder alloy of the present invention.
When inevitable impurities are included, the total amount is preferably less than 100 ppm in consideration of the influence on the solidus temperature, wettability, and bonding reliability.
4.Bi基はんだ合金の製造
本発明のBi基はんだ合金の製造方法は、特に限定されず、上記した各成分を用いて、従来公知の方法により製造することができる。
原料としては、はんだ合金内に粒径50μm未満の粒子(AgとAlとの金属間化合物)を形成するために、ショット形状または個片加工品の直径が5mm以下、特に3mm以下の微細なものを用いることが好ましい。
4). Production of Bi-based solder alloy The production method of the Bi-based solder alloy of the present invention is not particularly limited, and can be produced by a conventionally known method using each of the components described above.
As a raw material, in order to form particles (intermetallic compound of Ag and Al) having a particle size of less than 50 μm in the solder alloy, a shot shape or a piece processed product having a diameter of 5 mm or less, particularly 3 mm or less Is preferably used.
この原料を溶解炉に入れ、原料の酸化を抑制するために窒素や不活性ガス雰囲気とし、500〜600℃、好ましくは500〜550℃で加熱溶融させる。このとき、溶解温度500℃以上の溶湯を鋳造する際に、例えば、内径が30mm以下で肉厚が10mm程度の円筒状の黒鉛製鋳型を使用することができる。金属が溶融しはじめたらよく攪拌し、局所的な組成のばらつきが起きないように十分に攪拌を続ける。攪拌時間は、装置や原料の量などによっても異なるが、1〜5分間とすることが好ましい。 This raw material is put into a melting furnace, and in order to suppress oxidation of the raw material, an atmosphere of nitrogen or an inert gas is used and heated and melted at 500 to 600 ° C., preferably 500 to 550 ° C. At this time, when casting a molten metal having a melting temperature of 500 ° C. or higher, for example, a cylindrical graphite mold having an inner diameter of 30 mm or less and a thickness of about 10 mm can be used. When the metal starts to melt, stir well, and continue stirring sufficiently to prevent local compositional variations. The stirring time varies depending on the apparatus and the amount of raw materials, but is preferably 1 to 5 minutes.
その後、この鋳型の外側に熱伝導性の良い材料、例えばCuからなる冷やし金を密着させるか、望ましくは中空構造として冷却水を通水した冷やし金を密着させ、この鋳型に溶湯を流し込んだ後、組成にもよるが260℃程度まで3℃/sec以上、より好ましくは20℃/sec以上の冷却速度で速やかに冷却固化させることが望ましい。このような方法によって、ほとんどの析出粒子の粒径が50μm未満であるはんだ材の鋳塊を、確実に安定して作製することができる。
また、生産性を考慮して連続鋳造法を用いる場合には、連続鋳造してできる鋳塊の断面積が小さくなる形状とすることが好ましい。例えば、内径が30mm以下のダイスを用い、且つ溶湯を短時間で冷却固化させるために、ダイスを水冷ジャケットで覆って50℃/sec以上の冷却速度で冷却することが望ましい。
After that, a chill metal made of a material having good thermal conductivity, such as Cu, is brought into close contact with the outside of the mold, or a chill metal made by passing cooling water as a hollow structure is preferably adhered, and the molten metal is poured into the mold. Depending on the composition, it is desirable to rapidly solidify by cooling at a cooling rate of 3 ° C./sec or more, more preferably 20 ° C./sec or more, up to about 260 ° C. By such a method, an ingot of a solder material in which the particle size of most of the precipitated particles is less than 50 μm can be reliably and stably produced.
Moreover, when using a continuous casting method in consideration of productivity, it is preferable to make it the shape where the cross-sectional area of the ingot formed by continuous casting becomes small. For example, in order to use a die having an inner diameter of 30 mm or less and cool and solidify the molten metal in a short time, the die is preferably covered with a water cooling jacket and cooled at a cooling rate of 50 ° C./sec or more.
こうして得られる本発明のBi基はんだ合金は、Pbを実質的に含まず、固相線温度265℃以上、液相線温度390℃以下であることにより、基板に実装後も再溶融することなく電子部品内部のはんだの初期形状を保つことができる。
固相線温度は、示差走査熱量測定装置(DSC)を用いて測定され、好ましくは265℃以上、より好ましくは267℃以上である。また、液相線温度は、示差走査熱量測定装置(DSC)測定及び溶融試験を用いて確認され、好ましくは、390℃以下、より好ましくは380℃以下である。
The Bi-based solder alloy of the present invention thus obtained is substantially free of Pb, has a solidus temperature of 265 ° C. or higher and a liquidus temperature of 390 ° C. or lower, so that it does not remelt even after mounting on the substrate. The initial shape of the solder inside the electronic component can be maintained.
The solidus temperature is measured using a differential scanning calorimeter (DSC), and is preferably 265 ° C. or higher, more preferably 267 ° C. or higher. Moreover, liquidus temperature is confirmed using a differential scanning calorimeter (DSC) measurement and a melting test, and is preferably 390 ° C. or less, more preferably 380 ° C. or less.
また、本発明のBi基はんだ合金は、機械的強度、機械加工性および接合信頼性に優れるものである。
本発明のBi基はんだ合金は、伸び率が、好ましくは15〜50%、より好ましくは20〜45%である。なお、伸び率及び引張強度は、例えば0.75mmφに押し出し加工を行い、ワイヤー形状のプリフォームはんだを作製した後、引張試験機(テンシロン万能試験機)により測定される。
Further, the Bi-based solder alloy of the present invention is excellent in mechanical strength, machinability and joining reliability.
The elongation rate of the Bi-based solder alloy of the present invention is preferably 15 to 50%, more preferably 20 to 45%. The elongation and the tensile strength are measured by a tensile tester (Tensilon universal tester) after extrusion processing to, for example, 0.75 mmφ to produce a wire-shaped preform solder.
5.電子部品のボンディング方法および電子部品実装基板
本発明のBi基はんだ合金は、電子部品のボンディング方法に使用され、電子部品実装基板を容易に製造することができる。
5). Electronic component bonding method and electronic component mounting substrate The Bi-based solder alloy of the present invention is used in an electronic component bonding method, and an electronic component mounting substrate can be easily manufactured.
一例として、図1に、本発明のBi基はんだ合金を用いた電子部品の半導体パッケージの断面図を示した。この半導体パッケージは、リードフレームアイランド部4中央の表面に本発明のBi基はんだ合金3を塗布し半導体チップ1を載せ、はんだ付け(ダイボンディング)された後、半導体チップ1上の電極2がボンディングワイヤ6を介してリードフレーム5に接続され、そして、それらの全体がリードフレーム5の外周部を除きモールド樹脂7で覆われる。
As an example, FIG. 1 shows a cross-sectional view of a semiconductor package of an electronic component using the Bi-based solder alloy of the present invention. In this semiconductor package, the
本発明のはんだ合金3が塗布されるリードフレームアイランド部4には、予めAgメッキや、Agの代わりにNiメッキが施されることもあるが、前記のように、費用を低減させるために、これらAgメッキやNiメッキなどの処理がなされない場合があり、ベアCuフレームと称されている。ベアCuフレームでは、このベアCuフレームでの濡れ広がりが重要とされているが、はんだ合金3がリードフレームアイランド部4に塗布されると、Cuがはんだ中の特定元素、例えばSnと優先的に反応を始めるが、その表面に酸化膜があるために濡れ広がりの低下に影響を及ぼしやすい。しかもCuはBiやPbには殆ど溶け込まないために、濡れ広がりはAgメッキよりも低下する傾向にある。すなわち、ベアCuフレームでは、表面の酸化が進行しやすく、表面粗さの影響ではんだ濡れ広がりが悪くなりやすいという課題があった。
The lead
ところが、本発明では、はんだ合金にP又はGeが添加されているために、濡れ性の低下が抑制される。すなわち、AgはAlと金属間化合物をつくりながら金属反応をおこし、さらに溶融したBiとも共晶組成となり、はんだ中に溶け込んでいく。このとき、はんだ合金中のP,Geによって金属間化合物の組織が微細になり、さらにベアCuフレームでの濡れ広がりが向上する。また、P、Geが優先的に酸化され、はんだの表面の酸化が抑制されるため、はんだの濡れ性を改善し、接合時のボイド発生を低減される。
すなわち、本発明の電子部品のボンディング方法では、Bi基はんだ合金を使用して、Cu材表面にAg層やNi層が形成されていないベアCuフレームの実装基板に電子部品をボンディングすることが好ましい。
はんだ付け(ダイボンディング)された半導体チップ1は、基板へ実装される際、リフロー温度の260℃付近に加熱されるが、本発明のBi基はんだ合金の固相線温度が265℃以上なので、電子部品は、チップ特性の変化や部材酸化が発生せず、機械的強度を維持することができる。
However, in the present invention, since P or Ge is added to the solder alloy, a decrease in wettability is suppressed. In other words, Ag undergoes a metal reaction while forming an intermetallic compound with Al, and further, melted Bi has a eutectic composition and dissolves in the solder. At this time, the structure of the intermetallic compound becomes fine due to P and Ge in the solder alloy, and the wetting spread in the bare Cu frame is further improved. In addition, P and Ge are preferentially oxidized, and the oxidation of the solder surface is suppressed, so that the wettability of the solder is improved and the generation of voids during bonding is reduced.
That is, in the electronic component bonding method of the present invention, it is preferable to use a Bi-based solder alloy and bond the electronic component to a mounting substrate of a bare Cu frame in which no Ag layer or Ni layer is formed on the surface of the Cu material. .
The soldered (die-bonded)
すなわち、本発明の電子部品実装基板は、前記Bi基はんだ合金を用いて、リフロー作業ピーク温度を260〜265℃として電子部品を実装したものである。なお、電子部品実装用の基板としては、従来公知の基板を用いることができ、セラミックが一般的であるが、プリント基板やSi基板を用いることもできる。 That is, the electronic component mounting board of the present invention is obtained by mounting an electronic component using the Bi-based solder alloy at a reflow work peak temperature of 260 to 265 ° C. In addition, as a board | substrate for electronic component mounting, a conventionally well-known board | substrate can be used and although a ceramic is common, a printed circuit board and Si board | substrate can also be used.
本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例で用いた測定方法、評価方法は、以下の通りである。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The measurement methods and evaluation methods used in the examples are as follows.
1.測定方法、評価方法
(1)固相線温度、液相線温度
示差走査熱量測定装置(DSC)測定及び溶融試験を行い確認した。
(2)引張強度、伸び率
まず、表1に示される各成分組成のBi合金を後述する方法により大気溶解炉を用いて溶製し、0.75mmφに押し出し加工を行い、ワイヤー形状のプリフォームはんだサンプルを作製した。
得られたはんだワイヤー0.75mmφを所定の長さに切断して引張強度測定用の試験サンプルとした。これを引張試験機(装置名:テンシロン万能試験機)にセットし、自動測定で引張強度及び伸び率を測定した。
1. Measurement method, evaluation method (1) Solidus temperature, liquidus temperature This was confirmed by performing differential scanning calorimetry (DSC) measurement and melting test.
(2) Tensile strength, elongation rate First, Bi alloys of each component composition shown in Table 1 are melted using an atmospheric melting furnace by the method described later, extruded to 0.75 mmφ, and a wire-shaped preform. A solder sample was prepared.
The obtained solder wire 0.75 mmφ was cut into a predetermined length to obtain a test sample for measuring the tensile strength. This was set in a tensile tester (device name: Tensilon universal tester), and the tensile strength and elongation were measured by automatic measurement.
(3)Ag−Al金属間化合物の観察と粒子径
まず、表1に示される各成分組成のBi合金を用意し大気溶解炉を用いて溶製し、0.75mmφに押し出し加工を行い、ワイヤー形状のプリフォームはんだサンプルを作製した。
得られた0.75mmφワイヤーを樹脂に埋め込み、断面研磨を行った。これを常温の硝酸水溶液(硝酸濃度20%)に5秒間浸漬してエッチングすることにより、断面の合金組織観察を行うための試片とした。
この試片は、主元素のBi母相は腐食して黒く見える一方、金属間化合物等の析出粒子は白く光って見えるため、光学顕微鏡観察によって析出粒子の大きさや分布状態を容易に判別することができる。各試片を200倍の光学顕微鏡で観察し、視野中の全金属間化合物を含む粒子の数を計数すると共に、粒子の断面径を測定し、その測定値を1.12倍したものを粒径とした。この粒径をもとにすべての金属間化合物粒子を真球として各金属間化合物粒子の体積を計算し、全粒子中の粒径50μm未満の粒子割合を体積%で算出した。
(3) Observation of Ag-Al intermetallic compound and particle size First, Bi alloys having respective component compositions shown in Table 1 are prepared, melted using an atmospheric melting furnace, extruded to 0.75 mmφ, and wire Shaped preform solder samples were prepared.
The obtained 0.75 mmφ wire was embedded in a resin and subjected to cross-sectional polishing. This was immersed in an aqueous nitric acid solution at normal temperature (
In this specimen, the Bi matrix of the main element looks corroded and black, while the precipitated particles such as intermetallic compounds appear white. Therefore, the size and distribution of the precipitated particles can be easily determined by observation with an optical microscope. Can do. Each specimen was observed with a 200 × optical microscope, the number of particles containing all intermetallic compounds in the field of view was counted, the cross-sectional diameter of the particles was measured, and the measured value was multiplied by 1.12. The diameter. Based on this particle size, the volume of each intermetallic compound particle was calculated using all intermetallic compound particles as true spheres, and the proportion of particles having a particle size of less than 50 μm in all particles was calculated in volume%.
(4)濡れ性
ダイボンダー(NECマシナリー製、CPS−400)を窒素雰囲気中・350℃または390℃に設定し、前記(2)で得られた0.75mmφサンプルをセットし、Cu製リードフレームに供給した。その後、シリコンチップのダイボンディング面にAuを蒸着して作成したダミーチップをCu製リードフレームにダイボンディングした。
その際、はんだ濡れ性評価として、チップ辺からのはんだのはみ出しが無かった場合を「不良」、はみ出しがある場合を「良」と評価した。
(4) Wettability Set the die bonder (manufactured by NEC Machinery, CPS-400) at 350 ° C or 390 ° C in a nitrogen atmosphere, set the 0.75mmφ sample obtained in (2) above, and place it on the Cu lead frame Supplied. Thereafter, a dummy chip prepared by vapor-depositing Au on the die bonding surface of the silicon chip was die-bonded to a Cu lead frame.
At that time, as evaluation of solder wettability, the case where the solder did not protrude from the chip side was evaluated as “bad”, and the case where the solder protruded was evaluated as “good”.
(5)接合信頼性
上記のダミーチップをCu製リードフレームにダイボンディングしたサンプルをさらに、エポキシ樹脂でモールドした。モールドしたものを用いて、まず260℃リフロー試験し、その後−50℃/150℃の温度サイクル試験を500サイクル(あるいは700サイクル)実施した。その後に樹脂を開封してダイボンディングによる接合部の観察を行った。
信頼性評価として、チップおよび接合部に割れの発生がない場合を「良」としてサイクル数を示し、接合不良や割れが発生した場合を「不良」と評価した。
(5) Bonding reliability A sample obtained by die bonding the above-mentioned dummy chip to a Cu lead frame was further molded with an epoxy resin. The molded product was first subjected to a 260 ° C. reflow test, and then a temperature cycle test of −50 ° C./150° C. was performed 500 cycles (or 700 cycles). Thereafter, the resin was opened, and the bonded portion was observed by die bonding.
As a reliability evaluation, the number of cycles was shown as “good” when no crack occurred in the chip and the joint, and “bad” when the joint failure or crack occurred.
(実施例1〜13)
(1)はんだ合金(プリフォームはんだ)の製造
まず、原料として、Bi、Ag、Al、P、Ge、Cu(各元素の純度:99.99重量%以上)を準備した。原料は3mmφ以下のショット形状原料を用い、原料が大きな薄片やバルク状の場合は、溶解後の合金においてサンプリング場所による組成のバラツキがなく均一になるように留意しながら切断、粉砕等を行い、3mm以下の大きさに細かくした。次に、高周波溶解炉用グラファイト坩堝に、これら原料から所定量を秤量して入れた。
次に、原料の入った坩堝を高周波溶解炉に入れ、酸化を抑制するために窒素を原料1kg当たり0.7L/分以上の流量で流した。この状態で溶解炉の内部を500℃まで5℃/secの昇温速度で加熱し、原料を加熱溶融させた。金属が溶融しはじめたら撹拌棒でよく攪拌し、局所的な組成のばらつきが起きないように3分間撹拌を行った。十分溶融したことを確認した後、高周波電源を切り、速やかに坩堝を取り出し、坩堝内の溶湯をはんだ母合金の鋳型に流し込んだ。
鋳型には、内径が30mm以下で肉厚が10mm程度の円筒状の黒鉛製鋳型を使用し、この鋳型の外側に熱伝導性の良い材料(Cuからなり、中空構造として冷却水を通水した冷やし金)を密着させ、この鋳型に溶湯を流し込んだ後、組成にもよるが260℃程度まで5℃/secの冷却速度で速やかに冷却固化させた。
得られた固化物の一部をサンプルとして、はんだ合金内に形成された粒径50μm未満の粒子(AgとAlとの金属間化合物)の量を前記の方法で測定した。
その後、得られた固化物の残りを大気溶解炉に移して、下記条件で直径0.75mmに押出し加工を行いワイヤー形状のプリフォームはんだを製造した。なお、すべての実施例において、ワイヤー形状への加工・巻取りが可能であった。
(Examples 1 to 13)
(1) Production of Solder Alloy (Preform Solder) First, Bi, Ag, Al, P, Ge, and Cu (purity of each element: 99.99% by weight or more) were prepared as raw materials. The raw material used is a shot-shaped raw material of 3 mmφ or less, and when the raw material is large flakes or bulk, cut, pulverize, etc. while keeping in mind that there is no variation in composition due to the sampling location in the alloy after melting, The size was reduced to 3 mm or less. Next, a predetermined amount of these raw materials was weighed into a graphite crucible for a high frequency melting furnace.
Next, the crucible containing the raw material was put into a high-frequency melting furnace, and nitrogen was flowed at a flow rate of 0.7 L / min or more per 1 kg of the raw material in order to suppress oxidation. In this state, the inside of the melting furnace was heated to 500 ° C. at a rate of 5 ° C./sec to heat and melt the raw material. When the metal began to melt, it was stirred well with a stirring rod and stirred for 3 minutes so as not to cause local compositional variations. After confirming sufficient melting, the high frequency power supply was turned off, the crucible was quickly taken out, and the molten metal in the crucible was poured into the mold of the solder mother alloy.
As the mold, a cylindrical graphite mold having an inner diameter of 30 mm or less and a wall thickness of about 10 mm was used, and a material having good heat conductivity (made of Cu, cooling water was passed as a hollow structure outside the mold. (Cold metal) was in close contact, and the molten metal was poured into the mold, and then rapidly solidified by cooling at a cooling rate of 5 ° C./sec to about 260 ° C., depending on the composition.
A part of the obtained solidified product was used as a sample, and the amount of particles (intermetallic compound of Ag and Al) formed in the solder alloy and having a particle size of less than 50 μm was measured by the method described above.
Thereafter, the remaining solidified product was transferred to an atmospheric melting furnace and extruded to a diameter of 0.75 mm under the following conditions to produce a wire-shaped preform solder. In all of the examples, processing and winding into a wire shape were possible.
(2)物性、性能試験
上記方法で得られたワイヤー形状のプリフォームはんだサンプルを用いて、固相線温度、液相線温度の測定、及び、Ag−Al金属間化合物を含む粒子径の観察及び測定を行った。
また、プリフォームはんだサンプルを、さらに、Cu製リードフレームにダイボンディングして、濡れ性評価をし、エポキシ樹脂でモールド後、温度サイクル試験及びリフロー試験を行い、接合信頼性を評価した。これらの結果を、表1に示す。
(2) Physical properties and performance test Using the wire-shaped preform solder sample obtained by the above method, measurement of solidus temperature and liquidus temperature, and observation of particle diameter including Ag-Al intermetallic compound And measurements were taken.
Further, the preform solder sample was further die-bonded to a Cu lead frame, and the wettability was evaluated. After molding with an epoxy resin, a temperature cycle test and a reflow test were performed to evaluate the bonding reliability. These results are shown in Table 1.
(比較例1〜12)
原料を表1に示す組成となるように混合した以外は、実施例1と同様にして、はんだ合金を製造した。得られた固化物の一部をサンプルとして、はんだ合金内に形成された粒径50μm未満の粒子(AgとAlとの金属間化合物)の量を前記の方法で測定した。ワイヤー形状のプリフォームはんだを製造した。なお、すべての比較例において、ワイヤー形状への加工・巻取りが可能であった。
また、得られたワイヤー形状のプリフォームはんだサンプルを用いて、固相線温度、液相線温度の測定、及び、Ag−Al金属間化合物を含む粒子径の観察及び測定を行った。
また、プリフォームはんだサンプルを、さらに、リードフレームにダイボンディングして、濡れ性評価をし、エポキシ樹脂でモールド後、温度サイクル試験及びリフロー試験を行い、接合信頼性を評価した。これらの結果を、表1に示す。
(Comparative Examples 1-12)
A solder alloy was produced in the same manner as in Example 1 except that the raw materials were mixed so as to have the composition shown in Table 1. A part of the obtained solidified product was used as a sample, and the amount of particles (intermetallic compound of Ag and Al) formed in the solder alloy and having a particle size of less than 50 μm was measured by the method described above. A wire-shaped preform solder was produced. In all comparative examples, processing and winding into a wire shape were possible.
Moreover, using the obtained wire-shaped preform solder sample, the measurement of the solidus temperature and the liquidus temperature, and the observation and measurement of the particle diameter including the Ag-Al intermetallic compound were performed.
Further, the preform solder sample was further die-bonded to a lead frame, and the wettability was evaluated. After molding with an epoxy resin, a temperature cycle test and a reflow test were performed to evaluate the bonding reliability. These results are shown in Table 1.
3.評価
実施例1〜13では、Al0.1〜3質量%、Agに対するAlの含有比(X)が、1/20≦X≦1/2の範囲であり、実施例3の図3の場合で代表されるように、それぞれ265℃以上の固相線温度が確認された。また、実施例1〜8については、断面観察により、はんだワイヤー中の添加物や金属間化合物化した粒子の97%以上が、粒径50μm未満になっていることを確認した。さらに、実施例1〜8では、実施例3の図5の場合で代表されるように、伸び率15%以上となり、脆弱性が改善されている事が確認できた。サイクル数の少ない500サイクルでチップおよび接合部に割れが発生せず、接合信頼性の評価結果は、「良」となった。これは、PやGeを含むため濡れ広がりが確保されて、信頼性が向上したためと考えられる。
実施例7〜8および実施例10〜11では、PまたはGeのほかにCuを含むため濡れ広がりが一層確保されて、サイクル数の多い700サイクルの温度サイクル試験によっても、チップおよび接合部に割れが発生せず、接合信頼性の評価結果が「良」となった。
次いで、モールドしたものの一部を基板に260℃で5回実装し、実装後のチップおよび接合部の異常の有無を調べた結果、いずれも異常は見られず、目立ったボイドも確認できなかった。よって、本発明に係るはんだで接合された部位は、リフロ−温度260℃に10秒間保持されることを5回程度経ても、溶融することなく保たれることを確認した。
3. Evaluation In Examples 1 to 13, Al is 0.1 to 3% by mass, and the Al content ratio (X) with respect to Ag is in the range of 1/20 ≦ X ≦ 1/2. In the case of FIG. As represented, a solidus temperature of 265 ° C. or higher was confirmed. Moreover, about Examples 1-8, it was confirmed by cross-sectional observation that 97% or more of the additive and the intermetallic compound particles in the solder wire had a particle diameter of less than 50 μm. Further, in Examples 1 to 8, as represented by the case of FIG. 5 of Example 3, it was confirmed that the elongation was 15% or more and the vulnerability was improved. Cracks did not occur in the chip and the joint at 500 cycles with a small number of cycles, and the evaluation result of the joint reliability was “good”. This is considered to be due to the fact that wetting and spreading were ensured because P and Ge were included, and the reliability was improved.
In Examples 7 to 8 and Examples 10 to 11, since Cu is contained in addition to P or Ge, wetting and spreading are further secured, and even in a temperature cycle test of 700 cycles with a large number of cycles, the chip and the joint are cracked. As a result, the evaluation result of the bonding reliability was “good”.
Next, a part of the molded product was mounted on the substrate five times at 260 ° C., and as a result of examining the presence or absence of abnormality of the chip and the joint after mounting, no abnormality was found, and no conspicuous voids could be confirmed. . Therefore, it was confirmed that the part joined by the solder according to the present invention was maintained without melting even after being held at a reflow temperature of 260 ° C. for 10 seconds about 5 times.
また、本発明の範囲から外れる比較例1〜5は、PやGeを含まないか、その含有量が必要含有量の上下限を外れており、390℃における濡れ性試験でベアCuフレームに対しては濡れ広がり不足となり、濡れ性試験・信頼性試験の評価結果は、「不良」となった。なお、従来のBi/2.5Ag共晶はんだ合金の固相線・液相線は、図2のように、Bi単体の融点271℃から下がり状態図通り262℃であり、濡れ性試験は「良」であっても、Alを含有しないため図4のように、8%程度の伸び率しか示さず、脆弱な特性のため接合信頼性は「不良」となった。
また、比較例6〜7では、本発明の範囲内でGeを添加することで濡れ性は良好となったが、AgまたはAlが本発明の範囲外であり、信頼性試験時にはんだ層に割れが発生してしまい500サイクルの評価で不合格となった。
比較例8〜9は、本発明の範囲内でBi、Ag、Al、および、PまたはGeを配合したが、比較例8では、Agに対するAlの配合量が1/20未満であり、信頼性試験時にはんだ層に割れが発生してしまい500サイクルの評価で不合格となり、比較例9では、Agに対するAlの配合量が1/2を超えていたため、Alの偏析による濡れ不良が接合部の一部に発生し、接合不足の部位から割れが発生してしまい500サイクルの評価で不合格となった。
比較例10では、比較例6のはんだ合金に、本発明の範囲内でCuを添加したが、はんだ層の割れは改善されず、500サイクルの評価で不合格となった。比較例11では、比較例9のはんだ合金に、本発明の範囲内でCuを添加したが、濡れ不良は改善されず、500サイクルの評価で不合格となった。比較例12では、液相線が400℃であり、390℃の接合温度では一部溶け残っている状態となり、濡れ広がり不足となった。しかも一部接合されていない面があり、500サイクルの評価で不合格となった。
In addition, Comparative Examples 1 to 5 deviating from the scope of the present invention do not contain P or Ge, or the content is outside the upper and lower limits of the required content, and the bare Cu frame in the wettability test at 390 ° C. As a result, wetting spread was insufficient, and the evaluation results of the wettability test / reliability test were “bad”. The solid / liquid phase line of the conventional Bi / 2.5Ag eutectic solder alloy is 262 ° C. as shown in the state diagram, which decreases from the melting point 271 ° C. of Bi alone, as shown in FIG. Even if it was “good”, it did not contain Al, and therefore, as shown in FIG. 4, it showed only an elongation of about 8%, and because of its brittle characteristics, the bonding reliability was “bad”.
In Comparative Examples 6 to 7, the wettability was improved by adding Ge within the scope of the present invention, but Ag or Al was outside the scope of the present invention, and cracked in the solder layer during the reliability test. Was generated and failed in the evaluation of 500 cycles.
In Comparative Examples 8 to 9, Bi, Ag, Al, and P or Ge were blended within the scope of the present invention, but in Comparative Example 8, the blending amount of Al with respect to Ag is less than 1/20, and reliability Since cracks occurred in the solder layer during the test, the evaluation failed for 500 cycles, and in Comparative Example 9, since the blending amount of Al with respect to Ag exceeded 1/2, wetting failure due to segregation of Al It occurred in part and cracks occurred from the insufficiently bonded part, and the evaluation was rejected for 500 cycles.
In Comparative Example 10, Cu was added to the solder alloy of Comparative Example 6 within the scope of the present invention, but cracking of the solder layer was not improved, and the evaluation was rejected after 500 cycles. In Comparative Example 11, Cu was added to the solder alloy of Comparative Example 9 within the scope of the present invention, but the wetting failure was not improved and the evaluation failed for 500 cycles. In Comparative Example 12, the liquidus was 400 ° C., and a part of the liquidus remained undissolved at a bonding temperature of 390 ° C., resulting in insufficient wetting and spreading. Moreover, there was a surface that was not partly joined, and the evaluation was rejected after 500 cycles.
以上により、本発明のBi基はんだ合金で接合された部位には、電子部品を基板に実装するためのリフローの際においても剥離及びボイド等は発生せず、電子部品の特性に問題は生じないといえる。 As described above, peeling and voids do not occur at the portion joined with the Bi-based solder alloy of the present invention even during reflow for mounting the electronic component on the substrate, and there is no problem in the characteristics of the electronic component. It can be said.
本発明のBi基はんだ合金は、Pb/5Sn等の高温はんだの代替として、ベアCuフレーム基板用のプリフォームはんだやペーストはんだとして好適に用いることができ、パワーデバイスやパワーモジュール等の半導体パッケージのチップ接合等に特に好適に用いることができる。 The Bi-based solder alloy of the present invention can be suitably used as a preform solder or a paste solder for a bare Cu frame substrate as a substitute for a high-temperature solder such as Pb / 5Sn, and can be used for semiconductor packages such as power devices and power modules. It can be particularly suitably used for chip bonding and the like.
1 チップ
2 電極
3 はんだ
4 リードフレームアイランド部
5 リードフレーム
6 ボンディングワイヤ
7 モールド樹脂
1
Claims (6)
Agの含有量が0.6〜18質量%、
Alの含有量が0.1〜3質量%、
PおよびGeのうち1種以上の含有量が0.001〜0.3質量%、及び
Cuの含有量が0〜1質量%であり、
残部がBi及び不可避不純物からなり、
Alの含有量が、Agの含有量の1/20〜1/2であり、
はんだ合金内にAgとAlとの金属間化合物を含む粒子を分散させてなり、
前記粒子全体の総体積に対して、97体積%以上の粒子が粒径50μm未満である
ことを特徴とするBi基はんだ合金。 A Bi-based solder alloy having a melting point of 265 ° C. or higher and a liquidus of 390 ° C. or lower,
Ag content is 0.6-18% by mass,
Al content is 0.1 to 3 mass%,
The content of one or more of P and Ge is 0.001 to 0.3 mass%, and the content of Cu is 0 to 1 mass%,
The balance consists of Bi and inevitable impurities,
The Al content is 1/20 to 1/2 of the Ag content,
Dispersing particles containing an intermetallic compound of Ag and Al in the solder alloy,
A Bi-based solder alloy, wherein 97% by volume or more of the particles have a particle size of less than 50 μm with respect to the total volume of the whole particles.
前記Bi基はんだ合金を構成する各成分を原料として含むはんだ合金の溶湯を鋳型に流し込んだ後、260℃まで3℃/sec以上の冷却速度で速やかに冷却固化させることで、AgとAlとの金属間化合物を含む粒子を合金内で分散させることを特徴とするBi基はんだ合金の製造方法。 A method for producing a Bi-based solder alloy according to any one of claims 1 to 3,
After pouring a molten solder alloy containing each component constituting the Bi-based solder alloy as a raw material into a mold, the alloy is rapidly cooled and solidified to 260 ° C. at a cooling rate of 3 ° C./sec or more. A method for producing a Bi-based solder alloy, wherein particles containing an intermetallic compound are dispersed in an alloy.
An electronic component mounting board on which an electronic component using the Bi-based solder alloy according to claim 1 is mounted.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013221843A JP6136853B2 (en) | 2013-10-25 | 2013-10-25 | Bi-based solder alloy, method for manufacturing the same, electronic component bonding method using the same, and electronic component mounting board |
| PCT/JP2014/072397 WO2015041018A1 (en) | 2013-09-20 | 2014-08-27 | Bi GROUP SOLDER ALLOY, METHOD FOR BONDING ELECTRONIC PART USING SAME, AND ELECTRONIC PART MOUNTING SUBSTRATE |
| CN201480050538.1A CN105531075A (en) | 2013-09-20 | 2014-08-27 | Bi group solder alloy, method for bonding electronic part using same, and electronic part mounting substrate |
| EP14845104.0A EP3047937A4 (en) | 2013-09-20 | 2014-08-27 | Bi GROUP SOLDER ALLOY, METHOD FOR BONDING ELECTRONIC PART USING SAME, AND ELECTRONIC PART MOUNTING SUBSTRATE |
| US15/021,794 US20160234945A1 (en) | 2013-09-20 | 2014-08-27 | Bi-BASED SOLDER ALLOY, METHOD OF BONDING ELECTRONIC COMPONENT USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT-MOUNTED BOARD |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013221843A JP6136853B2 (en) | 2013-10-25 | 2013-10-25 | Bi-based solder alloy, method for manufacturing the same, electronic component bonding method using the same, and electronic component mounting board |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015083313A JP2015083313A (en) | 2015-04-30 |
| JP6136853B2 true JP6136853B2 (en) | 2017-05-31 |
Family
ID=53047224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013221843A Expired - Fee Related JP6136853B2 (en) | 2013-09-20 | 2013-10-25 | Bi-based solder alloy, method for manufacturing the same, electronic component bonding method using the same, and electronic component mounting board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6136853B2 (en) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8338966B2 (en) * | 2009-06-22 | 2012-12-25 | Panasonic Corporation | Joint structure, joining material, and method for producing joining material containing bismuth |
| JP5716332B2 (en) * | 2010-09-22 | 2015-05-13 | 住友金属鉱山株式会社 | Pb-free solder alloy |
| JP5861465B2 (en) * | 2012-01-20 | 2016-02-16 | 住友金属鉱山株式会社 | Pb-free Bi solder alloy containing Mg |
-
2013
- 2013-10-25 JP JP2013221843A patent/JP6136853B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015083313A (en) | 2015-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104520062B (en) | high-temperature lead-free solder alloy | |
| JP6423447B2 (en) | Lead-free eutectic solder alloy containing zinc as the main component and aluminum as alloying metal | |
| WO2012077415A1 (en) | Pb-FREE SOLDER ALLOY HAVING Zn AS MAIN COMPONENT | |
| JP5861559B2 (en) | Pb-free In solder alloy | |
| WO2015041018A1 (en) | Bi GROUP SOLDER ALLOY, METHOD FOR BONDING ELECTRONIC PART USING SAME, AND ELECTRONIC PART MOUNTING SUBSTRATE | |
| JP4453612B2 (en) | Lead-free solder alloy | |
| JPWO2018168858A1 (en) | Solder material | |
| JP2018047500A (en) | Bi-based solder alloy, method of manufacturing the same, electronic component using the solder alloy, and electronic component mounting board | |
| JP6136878B2 (en) | Bi-based solder alloy, method for manufacturing the same, electronic component bonding method using the same, and electronic component mounting board | |
| JP2011251332A (en) | HIGH-TEMPERATURE Pb-FREE SOLDER PASTE USING Al POWDER | |
| JP2016093831A (en) | Mg-Cu solder alloy containing no Pb | |
| JP2018047499A (en) | Bi-BASED SOLDER ALLOY AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT AND ELECTRONIC COMPONENT-MOUNTED SUBSTRATE COMPRISING THE SOLDER ALLOY | |
| JP5699897B2 (en) | Pb-free solder alloy based on Zn | |
| JP6136853B2 (en) | Bi-based solder alloy, method for manufacturing the same, electronic component bonding method using the same, and electronic component mounting board | |
| JP6136807B2 (en) | Bi-based solder alloy, method for manufacturing the same, electronic component bonding method using the same, and electronic component mounting board | |
| JP5979083B2 (en) | Pb-free Au-Ge-Sn solder alloy | |
| JP2017035708A (en) | Sb-Cu SOLDER ALLOY CONTAINING NO Pb | |
| JP2017196647A (en) | Au-Sn-Ag-α solder alloy, its solder material, and mounting substrate joined or sealed using the solder material | |
| JP5652001B2 (en) | Pb-free solder alloy based on Zn | |
| JP2018047497A (en) | Bi-BASED SOLDER ALLOY AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT AND ELECTRONIC COMPONENT-MOUNTED SUBSTRATE COMPRISING THE SOLDER ALLOY | |
| WO2016075983A1 (en) | Au-sn-ag solder alloy and solder material, electronic component sealed using said solder alloy or solder material, and mounted-electronic component device | |
| JP2015139777A (en) | Au-Sb TYPE SOLDER ALLOY | |
| JP2016087641A (en) | Pb-FREE Al-Cu-BASED SOLDER ALLOY | |
| JP2016059924A (en) | Au-Sn-Ag-BASED SOLDER ALLOY, ELECTRONIC COMPONENT SEALED USING THE SAME, AND ELECTRONIC APPARATUS EQUIPPED WITH THE ELECTRONIC COMPONENT | |
| JP5861526B2 (en) | Ge-Al solder alloy not containing Pb |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20150511 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150608 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151222 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160823 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161005 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161108 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170105 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170404 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170417 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6136853 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |