JP6150159B2 - Glass ceramic for light emitting diode package, ceramic substrate using the same, and light emitting diode package - Google Patents
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Description
本発明は、可視光に対する反射率が高く、発光ダイオードパッケージに好適なガラスセラミックと、それを用いたセラミック基板と発光ダイオードパッケージに関するものである。 The present invention relates to a glass ceramic having a high visible light reflectance and suitable for a light emitting diode package, and a ceramic substrate and a light emitting diode package using the glass ceramic.
省エネルギー、製品寿命の観点から、近年、携帯電話や液晶TVの液晶ディスプレイ用のバックライト光源として、あるいは自動車用や屋内用、あるいは装飾用途等の照明光源に、発光ダイオード素子(LED:Light Emitting Diode)を用いた発光ダイオードパッケージ(発光装置とも呼ぶ)が用いられるようになって来た。 From the viewpoint of energy saving and product life, in recent years, a light emitting diode element (LED: Light Emitting Diode) is used as a backlight light source for liquid crystal displays of mobile phones and liquid crystal TVs, or as an illumination light source for automobiles, indoors, or decorations. ) Using light emitting diode packages (also referred to as light emitting devices) has come to be used.
その一例として、図9に表面実装型の発光装置を示す。この発光装置500は、AgやCu等の電極材による配線パターン502が形成されたに絶縁基板501に発光ダイオード素子503が搭載される。発光ダイオード素子503は、Au等の金属ワイヤ504によるワイヤボンディングで配線パターン502と接続され、透明な樹脂505で封止される。
As an example, FIG. 9 shows a surface-mounted light-emitting device. In the
絶縁基板501は平板状に限定されず、図10に示す様な構成もある。この発光装置601では、平板状の基板602と中央部がテーパー状に抜かれた基板603との2層の基板が重ねられた絶縁基板604を用いる。発光ダイオード素子605を、テーパー部609に囲まれた基板中央部の窪み部に配置し、樹脂608で封止している。それぞれの絶縁基板501、604は、ガラスファイバを添加したエポキシ樹脂やアルミナセラミック、あるいは窒化アルミニウムが用いられていた。
The
絶縁基板には、発光ダイオード素子から発生する光を効率的に反射すること、また発生する熱を速やかに外部に逃がすことが求められる。絶縁基板の材質としてエポキシ樹脂等の樹脂材料が用いられて来たが、発光ダイオード素子が高輝度化するのに伴って、光量や発熱も増加し、絶縁基板が変色するなどの性能劣化が問題となっている。
またセラミック基板では熱や継時による変色など色調の変化は無いが、アルミナセラミックスは熱伝導率が小さく放熱性に劣る問題があり、その採用は一部の分野に限られ、樹脂材料に代わるものとはなっていない。また窒化アルミニウムは反射率が低く、更に1600℃を超える温度での焼成が必要であって、エネルギー消費が大きく、また焼成炉に用いられる発熱体や炉体が限定されて、製造コストが高くなり易い。更には同時焼成可能な導体もW(タングステン)に限定されてしまう点も問題としてあげられる。
The insulating substrate is required to efficiently reflect light generated from the light emitting diode element and to quickly release the generated heat to the outside. Resin materials such as epoxy resin have been used as the material of the insulating substrate, but as the light emitting diode element becomes brighter, the light intensity and heat generation increase, and the performance deterioration such as discoloration of the insulating substrate is a problem. It has become.
Ceramic substrates do not change color tone due to heat or discoloration due to heat, but alumina ceramics have a problem of low thermal conductivity and inferior heat dissipation, and their use is limited to some fields, replacing resin materials. It is not. In addition, aluminum nitride has low reflectivity and needs to be fired at a temperature exceeding 1600 ° C., which consumes a large amount of energy, and the heating elements and furnace bodies used in the firing furnace are limited, resulting in high manufacturing costs. easy. Another problem is that the conductor that can be fired simultaneously is also limited to W (tungsten).
従来の発光装置用のセラミック基板の問題に対して、900℃以下でも低温焼成可能なセラミックス(LTCC;Low Temperature Co−fired Ceramic)が用いられる様になってきた。特許文献1には、SiO2−Al2O3−B2O3−CaO系のガラスとTiO2やZrO2等の高屈折率セラミックフィラーとでなる組成物をテープ状(シート状とも言う)とし、それを用いて反射率に優れた発光装置用のセラミック基板とすることが開示されている。前記組成物は、ガラスとセラミックフィラーからなる複合物であって、ガラスの低温流動性を用いて焼結するので、従来のセラミック基板と比べて低温度で焼結可能である。また、セラミックフィラーによって、ガラスとセラミックフィラーとの界面での拡散反射を大きくして反射率を高めている。更に熱伝導率が小さい点を克服するように、サーマルビアを設けて、熱を発光ダイオード素子からヒートシンクに伝達させて熱抵抗を減少させている。
In response to the problem of conventional ceramic substrates for light emitting devices, ceramics (LTCC: Low Temperature Co-fired Ceramic) that can be fired at a low temperature even below 900 ° C. have been used. In
特許文献1で開示されているセラミックスでは、ホウケイ酸ガラスを添加することで800℃〜950℃という低温での焼成を可能にし、かつ、TiO2やZrO2などの高屈折率フィラーを添加することで高い光の反射率を可能としている。しかし、ホウケイ酸ガラスに含まれるB(ホウ素)化合物は、焼成炉材に損傷をあたえ、炉材の保全の観点から好ましくなく、また、セラミックスシート製造工程で水、アルコールに溶解し、乾燥時に偏析するなど、製造工程上の不具合を生じさせる場合があった。
In the ceramic disclosed in
また、ヘッドライトなどの高輝度照明の光源として用いられる発光装置用のセラミック基板においては、可視光波長である380nm〜740nmでの光の反射率の平均(以下、平均反射率)が高いことが求められている。特許文献1では、高い反射率を有する様に高屈折率を有するセラミックフィラーとしてTiO2を用いることが記載されるが、詳細は後述するが、TiO2単体での反射率は430nm以上の波長では90%の反射率を有するものの、430nm未満で著しく低下し、370nmでは10%程度にまで低下する。このため、セラミックフィラーとしてTiO2を用いると、可視光波長380nm〜740nmにおいて高い反射率が得られないという問題があった。
In addition, in a ceramic substrate for a light-emitting device used as a light source for high-luminance illumination such as a headlight, the average reflectance (hereinafter referred to as average reflectance) of light at a visible light wavelength of 380 nm to 740 nm is high. It has been demanded. In
また、セラミックフィラーとして用いるZrO2は焼結温度が高いので、それを含むセラミックの焼結抑制材として機能して焼結温度を上昇させる。焼結温度の上昇を抑えるために、ガラスの結晶性を促進するB(ホウ素)、あるいはその化合物の量を増やすことが行われるが、その問題は既に述べた通りである。 Moreover, since ZrO 2 used as a ceramic filler has a high sintering temperature, it functions as a sintering inhibitor for ceramics containing it, and raises the sintering temperature. In order to suppress an increase in the sintering temperature, the amount of B (boron), which promotes the crystallinity of the glass, or its compound is increased, but the problem has already been described.
そこで本発明は、上記のことを鑑みて、BやTiを含まず、窒化アルミニウムよりも400℃以上低い1200℃以下での焼成が可能であって、波長380nm〜740nmにおける反射率が高い発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミック、および、それを用いたセラミック基板、発光ダイオードパッケージを提供することを目的とする。 In view of the above, the present invention is a light-emitting diode that does not contain B or Ti, can be fired at 1200 ° C. or less, which is 400 ° C. or more lower than aluminum nitride, and has a high reflectance at wavelengths of 380 nm to 740 nm. It is an object to provide a glass ceramic for a package, a ceramic substrate using the glass ceramic, and a light emitting diode package.
第1の発明は、 Al、Si、Sr、Naを含むガラスセラミック組成物を焼結してなり、B及びTiを含まず、高屈折率セラミックフィラーとして少なくともAl2O3を含み、波長450nmの光の反射率が85%以上で、波長380nm〜740nmの光の反射率の平均が87%以上であることを特徴とする発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミックである。 The first invention is obtained by sintering a glass ceramic composition containing Al, Si, Sr, and Na, does not contain B and Ti, contains at least Al 2 O 3 as a high refractive index ceramic filler, and has a wavelength of 450 nm. A glass ceramic for a light emitting diode package, characterized in that the reflectance of light is 85% or more and the average reflectance of light having a wavelength of 380 nm to 740 nm is 87% or more.
本発明においては、高屈折率セラミックフィラーとして、更にAl2O3よりも高屈折率のZr酸化物 を含ませることで、波長450nmの光の反射率が87%以上で、波長380nm〜740nmの光の反射率の平均が88%以上の発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミックとすることが出来る。 In the present invention, as a high refractive index ceramic filler, a Zr oxide having a refractive index higher than that of Al 2 O 3 is further included so that the reflectance of light having a wavelength of 450 nm is 87% or more and the wavelength of 380 nm to 740 nm. A glass ceramic for a light emitting diode package having an average light reflectance of 88% or more can be obtained.
本発明においては、更にSr長石を含むのが好ましい。 In the present invention, it is preferable to further contain Sr feldspar.
本発明においては、前記ガラスセラミック組成物を、AlをAl2O3換算で25質量%≦a≦55質量%と、NaをNa2O換算で0.5質量%≦b≦3.0質量%と、KをK2O換算で0質量%≦c≦2.0質量%のKと、SiをSiO2換算で25質量%≦d≦45質量%と、SrをSrO換算で10質量%≦e≦35質量%で構成され、a+b+c+d+e=100質量%とするのが好ましい。
In the present invention, the glass-ceramic composition is composed of 25 mass% ≦ a ≦ 55 mass% in terms of Al 2 O 3 and 0.5 mass% ≦ b ≦ 3.0 mass in terms of Na 2 Na. %, K in terms of K 2 O 0% by weight ≦ c ≦ 2.0% by weight K, Si in terms of
本発明においては、前記ガラスセラミック組成物を100重量部に対して、ZrO2換算で84重量部以下のZrと、Bi2O3換算で10重量部以下のBiとを含有するのも好ましい。 In the present invention, the glass ceramic composition preferably contains 84 parts by weight or less of Zr in terms of ZrO 2 and 10 parts by weight or less of Bi in terms of Bi 2 O 3 with respect to 100 parts by weight.
第2の発明は、第1の発明の発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミックを用い、金属導体としてAg、Cu、Au、Niの内のいずれかの電極が設けられたことを特徴とするガラスセラミック基板である。 A second invention is a glass ceramic substrate characterized in that the glass ceramic for a light emitting diode package according to the first invention is used, and an electrode of Ag, Cu, Au, or Ni is provided as a metal conductor. is there.
第3の発明は、第2の発明のセラミック基板と発光ダイオード素子を用いて構成されたことを特徴とする発光ダイオードパッケージである。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a light emitting diode package comprising the ceramic substrate and the light emitting diode element according to the second aspect of the present invention.
本発明によれば、製造工程において不具合を生じさせ易いB化合物を含まずに1200℃以下での焼成が可能であり、波長380nm〜740nmにおける反射率が高い発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミック、および、それを用いたセラミック基板、発光ダイオードパッケージを得ることが出来る。
1200℃以下の低温で焼成することができるため、製造コストを低くすることができ、かつ、熱伝導体や電気伝導体として低融点のAg、Cu、Au、Ni導体と同時焼成ができる。また、可視光波長380nm〜470nmでの反射率が高いので、屋内照明や車のヘッドライトなどに用いられる高輝度用途に好適である。
According to the present invention, a glass ceramic for a light-emitting diode package that can be fired at 1200 ° C. or less without containing a B compound that easily causes problems in the manufacturing process and has a high reflectance at a wavelength of 380 nm to 740 nm, and A ceramic substrate and a light emitting diode package can be obtained.
Since it can be fired at a low temperature of 1200 ° C. or lower, the manufacturing cost can be reduced, and simultaneous firing with a low melting Ag, Cu, Au, Ni conductor as a heat conductor or an electric conductor can be performed. Moreover, since the reflectance in visible light wavelength 380nm -470nm is high, it is suitable for the high-intensity use used for an indoor illumination, a car headlight, etc.
本発明の発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミック(以下ガラスセラミックと呼ぶ)は、Al、Si、Sr、Na等を含むガラスセラミック組成物を焼結して得られ、B及びTiは含まない。 The glass ceramic for a light emitting diode package according to the present invention (hereinafter referred to as glass ceramic) is obtained by sintering a glass ceramic composition containing Al, Si, Sr, Na and the like, and does not contain B and Ti.
Alは高反射率フィラーとして機能するAl2O3結晶粒として組織中に存在するともに、他の金属元素とともに化合物を構成して、ガラスセラミックの波長380nm〜740nmの光の反射率を高める。ガラスセラミック組成物においては、AlをAl2O3換算で25質量%〜55質量%とするのが好ましい。
Al exists in the structure as Al 2 O 3 crystal grains that function as a high-reflectance filler, and constitutes a compound together with other metal elements to increase the reflectance of light with a wavelength of 380 nm to 740 nm of the glass ceramic. In the glass-ceramic composition, preferably 25 wt% to 55 wt% of Al in
Siはガラスを構成するのに必須の成分であり、SiO2換算で25質量%≦d≦45質量%とするのが好ましい。 Si is an essential component for constituting the glass, and is preferably 25% by mass ≦ d ≦ 45% by mass in terms of SiO 2 .
Srはガラスの溶融温度を低下させるとともに、Al、Siとの化合物(Sr長石)を構成して、ガラスセラミックの波長380nm〜740nmの光の反射率の平均を高める。SrO換算で10質量%≦e≦35質量%とするのが好ましい。 Sr lowers the melting temperature of the glass and constitutes a compound (Sr feldspar) with Al and Si to increase the average reflectance of the glass ceramic having a wavelength of 380 nm to 740 nm. It is preferable that 10% by mass ≦ e ≦ 35% by mass in terms of SrO.
Na,Kは、後述する仮焼工程において得られるガラスの軟化点を低下させる作用を有し、低温での焼成が可能なガラスセラミックとする。 Na and K have a function of reducing the softening point of the glass obtained in the calcining step described later, and are glass ceramics that can be fired at a low temperature.
Naは、Na2O換算で0.5〜3.0質量%とするのが好ましく、Naが0.5質量%未満の場合、焼成温度の低下効果が不十分である。またNaが3.0質量%を超えると、発光ダイオードパッケージとする際に電極として用いる金属導体の拡散が生じやすくなり、それに伴う部分的な変色が生じる場合がある。ガラスセラミックの色調は白色である。この為、外観上好ましく無いばかりか、変色が著しい場合には反射率の低下をもたらすので好ましくない。 Na is preferably 0.5 to 3.0% by mass in terms of Na 2 O. When Na is less than 0.5% by mass, the effect of lowering the firing temperature is insufficient. On the other hand, if Na exceeds 3.0% by mass, diffusion of the metal conductor used as an electrode when forming a light emitting diode package is likely to occur, and a partial discoloration may be caused accordingly. The color tone of the glass ceramic is white. For this reason, it is not preferable in terms of appearance, and when the discoloration is remarkable, the reflectance is lowered, which is not preferable.
Kは、K2O換算で0〜2.0質量%とするのが好ましく、Kが2.0質量%を超えると、Naと同様に金属導体の拡散が生じやすくなり好ましくない。なお前記組成量ではKを単独で用いてもガラスの軟化点を低下させる効果が少ないが、Naとの複合添加とすれば、少量であってもNa単独である場合よりも、いっそう軟化点を低下させることが出来るので好ましい。 K is preferably 0 to 2.0% by mass in terms of K 2 O, and if K exceeds 2.0% by mass, diffusion of the metal conductor is likely to occur similarly to Na, which is not preferable. Even if K alone is used at the above composition amount, the effect of lowering the softening point of the glass is small. However, when combined with Na, the softening point is even lower even when Na is used alone. Since it can reduce, it is preferable.
工程上で混入する不可避不純物としては、例えばFe,Ca,Ga,Cr等が挙げられる。これら不可避的不純物の含有量は、ガラスセラミック組成物の性能を劣化させない範囲内としなければならない。 Examples of inevitable impurities mixed in the process include Fe, Ca, Ga, and Cr. The content of these inevitable impurities must be within a range that does not deteriorate the performance of the glass ceramic composition.
更に、Al2O3よりも高屈折率セラミックフィラーである、ZrO2や、ZrO2とY2O3、あるいはMgOとの複合酸化物(イットリア安定化ジルコニア〔(Y2O3)x(ZrO2)1−x〕、マグネシア部分安定化ジルコニア〔(MgO)x(ZrO2)1−x〕)等を含むことで、可視光波長380nm〜470nmでの反射率を一層高くすることが出来る。
なお、Zr酸化物は焼結性を劣化させるので、低温焼結助剤となるBi酸化物を合わせて用いるのが好ましい。Biは焼結後に、ガラスセラミックの表面にBi2O3として滲み出して絶縁抵抗の低下を招く場合があるので、本発明においては、前記ガラスセラミック組成物を100重量部に対して、ZrO2換算で84重量部以下のZrと、Bi2O3換算で10 重量部以下のBiとするのが好ましい。
Furthermore, ZrO 2 , which is a higher refractive index ceramic filler than Al 2 O 3 , a composite oxide of ZrO 2 and Y 2 O 3 , or MgO (yttria-stabilized zirconia [(Y 2 O 3 ) x (ZrO 2 ) 1-x ], magnesia partially stabilized zirconia [(MgO) x (ZrO 2 ) 1-x ]) and the like can further increase the reflectance at a visible light wavelength of 380 nm to 470 nm.
In addition, since Zr oxide degrades sinterability, it is preferable to use together Bi oxide used as a low temperature sintering aid. Since Bi may ooze out as Bi 2 O 3 on the surface of the glass ceramic after sintering and cause a decrease in insulation resistance, in the present invention, the glass ceramic composition is added to 100 parts by weight of ZrO 2. Zr of 84 parts by weight or less in terms of conversion and Bi of 10 parts by weight or less in terms of Bi 2 O 3 are preferred.
本発明に係るガラスセラミックは、その製造工程中に仮焼の工程を有する。ここで仮焼とは、ガラスセラミックを構成する成分であるAl、Si、Sr、Na等の酸化物(必要応じてKの酸化物を含む)や炭酸塩等を素原料として所定量に秤量し、混合の後、セラミック基板とする本焼成の温度よりも低温で焼成することである。仮焼温度は700℃〜850℃とするのが好ましい。
仮焼後の組成物には、ガラス化したSi、Sr、Na等とともにAl2O3結晶粒を含み、その後の本焼成の工程においては、仮焼工程で生成されたガラスが焼結促進剤として機能して、1200℃以下の温度でも緻密化が達成される。ガラスセラミックが十分に緻密化されず多孔質であると抗折強度が低く、実用的な抗折強度が得られないが、低温焼結助剤としてBi酸化物を用いることで、焼結性を改善することが出来る。
The glass ceramic according to the present invention has a calcination step during the production process. Here, calcination means that a component of glass ceramic, such as Al, Si, Sr, Na, and other oxides (including oxides of K if necessary), carbonates, etc., are weighed into a predetermined amount as raw materials. Then, after mixing, firing is performed at a temperature lower than the temperature of the main firing of the ceramic substrate. The calcining temperature is preferably 700 to 850 ° C.
The composition after calcination contains Al 2 O 3 crystal grains together with vitrified Si, Sr, Na, etc., and in the subsequent firing step, the glass produced in the calcination step is a sintering accelerator. And densification is achieved even at a temperature of 1200 ° C. or lower. If the glass ceramic is not sufficiently densified and is porous, the bending strength is low and practical bending strength cannot be obtained. However, by using Bi oxide as a low-temperature sintering aid, the sinterability can be reduced. It can be improved.
本焼成は、仮焼温度よりも高温で1200℃以下の温度で行われる。なお最適な仮焼、本焼成の温度及び時間は、ガラスセラミック組成物の組成や難焼結性のセラミックフィラーの量、焼結助剤の量に応じて異ならせる場合がある。一般には、仮焼温度は750℃〜850℃とし、本焼成温度は仮焼温度よりも相対的に高温で820℃〜1200℃以下、温度保持時間を30分〜4時間とするのが好ましい。 The main baking is performed at a temperature higher than the calcining temperature and 1200 ° C. or lower. Note that the optimum calcination and main firing temperatures and times may vary depending on the composition of the glass ceramic composition, the amount of the hardly sinterable ceramic filler, and the amount of the sintering aid. In general, the calcination temperature is preferably 750 ° C. to 850 ° C., the main calcination temperature is relatively higher than the calcination temperature, 820 ° C. to 1200 ° C. or less, and the temperature holding time is preferably 30 minutes to 4 hours.
本焼成においては、ガラスから長石族の結晶が生じる場合がある。ここで長石族の結晶とは、主にSr長石(SrAl2Si2O8)であり、ガラス成分によっては、(Na,K)長石〔(Na,K)SiAl3O8〕や、Na長石(NaAlSi3O8)、K長石(KAlSi3O8)を含む。従って本発明のガラスセラミックは、主として高屈折率セラミックフィラーとガラスで構成される場合に加えて、更にSr長石を含む場合がある。Sr長石(SrAl2Si2O8)は、焼成温度が高くなるに従い六方晶から単斜晶への相変化を起こすので、ガラスセラミック中のSr長石の結晶構造もまた、焼成温度により異なるものとなる。 In the main firing, feldspar group crystals may be generated from the glass. Here, the feldspar group crystal is mainly Sr feldspar (SrAl 2 Si 2 O 8 ), and depending on the glass component, (Na, K) feldspar [(Na, K) SiAl 3 O 8 ] or Na feldspar (NaAlSi 3 O 8 ) and K feldspar (KAlSi 3 O 8 ). Therefore, the glass ceramic of the present invention may further contain Sr feldspar in addition to the case mainly composed of a high refractive index ceramic filler and glass. Since Sr feldspar (SrAl 2 Si 2 O 8 ) undergoes a phase change from hexagonal to monoclinic as the firing temperature increases, the crystal structure of Sr feldspar in the glass ceramic also varies depending on the firing temperature. Become.
ガラスセラミックの反射率は、そこに含まれる結晶相により大きく影響される。本発明者等が、高反射率セラミックフィラーとされるAl2O3、ZrO2、TiO2と、Sr長石を含む他の幾つかの複合酸化物について、波長350nm〜750nmでの反射率を評価した結果を、図7及び図8に示す。ここでの反射率は、コニカミノルタ製の分光測色計CM−3700dを用い、外径29mmで厚み0.4mmとした測定試料を作製し、国立標準機関NPLが定める標準白色板を基準として測定したものである。以下、反射率として値を示す場合は、前記測定器と測定試料にて波長450nmで得られる反射率とし、平均反射率として示す場合は、波長が380nm〜740nmのときの各々の波長(10nmピッチで47点)の反射率の平均を表す。 The reflectance of glass ceramic is greatly influenced by the crystal phase contained therein. The present inventors evaluated the reflectance at a wavelength of 350 nm to 750 nm with respect to Al 2 O 3 , ZrO 2 , TiO 2, and some other complex oxides including Sr feldspar, which are high-reflectance ceramic fillers. The results are shown in FIG. 7 and FIG. The reflectance here is measured with a standard white plate defined by the National Standards Organization NPL using a spectrocolorimeter CM-3700d manufactured by Konica Minolta, making a measurement sample with an outer diameter of 29 mm and a thickness of 0.4 mm. It is a thing. Hereinafter, when a value is shown as the reflectance, the reflectance is obtained at a wavelength of 450 nm with the measuring instrument and the measurement sample, and when shown as an average reflectance, each wavelength when the wavelength is 380 nm to 740 nm (10 nm pitch) Represents the average of 47 points).
高反射率セラミックフィラーとされるTiO2の反射率は、波長約430nmを境にして大きく変化し、波長380nmでは反射率が10%程度に低下する。この傾向はTiを含むSrTiO2化合物等も同様である。高屈折率セラミックフィラーとしてTi酸化物を用いることは、それを含むガラスセラミックスの波長380nm〜740nmにおける反射率を低下させることが分かる。 The reflectivity of TiO 2 used as a high reflectivity ceramic filler changes greatly with a wavelength of about 430 nm as a boundary, and the reflectivity decreases to about 10% at a wavelength of 380 nm. This tendency is the same for the SrTiO 2 compound containing Ti. It can be seen that the use of Ti oxide as the high refractive index ceramic filler reduces the reflectance at a wavelength of 380 nm to 740 nm of glass ceramics containing it.
Sr長石(SrAl2Si2O8)は六方晶と単斜晶とでは屈折率が異なり、反射率も六方晶と単斜晶とで差が生じる。六方晶Sr長石(H−SrAl2Si2O8)は、波長380nm〜740nmにおいて高屈折率セラミックフィラーであるAl2O3、ZrOと同程度の高反射率を示し、単斜晶Sr長石(M−SrAl2Si2O8)は六方晶と比べて反射率が約15%程度低下するものの、75%を超える平均反射率が得られた。 Sr feldspar (SrAl 2 Si 2 O 8 ) has a different refractive index between the hexagonal crystal and the monoclinic crystal, and the reflectance also differs between the hexagonal crystal and the monoclinic crystal. Hexagonal Sr feldspar (H-SrAl 2 Si 2 O 8 ) exhibits high reflectivity comparable to Al 2 O 3 and ZrO, which are high refractive index ceramic fillers, at a wavelength of 380 nm to 740 nm. Although M-SrAl 2 Si 2 O 8 ) has a reflectivity of about 15% lower than that of the hexagonal crystal, an average reflectivity exceeding 75% was obtained.
六方晶Sr長石は熱的に不安定であって、単独で存在する温度範囲が狭い。この為、ガラスセラミックスにおいてSr長石は、本焼成での焼成温度が高くなるに従い、最初、ガラスから六方晶Sr長石が析出し、一部が単斜晶Sr長石へ相変化して六方晶Sr長石との共存状態となり、更に相変化が進んで単斜晶Sr長石が存在する状態となる。
Sr長石として最初に析出する六方晶Sr長石は、反射率が高屈折率セラミックフィラーと同程度に高いという特性を有する。従って、前記六方晶Sr長石を、Al2O3等のセラミックフィラーとともに組織中に存在させることで、本焼成が相対的に低い温度で未反応のガラスを多く含む場合であっても、反射率を向上させることが出来るので好ましい。また、相対的にガラスが減少するので機械的強度も向上させることが出来る。また、単斜晶Sr長石が存在する場合では、ガラス成分の結晶化が進むことで全体の散乱が増し、一層、反射率を向上させることが出来る。
Hexagonal Sr feldspar is thermally unstable and has a narrow temperature range. Therefore, in Sr feldspar in glass ceramics, as the firing temperature in the main firing increases, hexagonal Sr feldspar first precipitates from the glass, and part of the phase changes to monoclinic Sr feldspar, resulting in hexagonal Sr feldspar. Coexisting state, and further phase change proceeds, and monoclinic Sr feldspar exists.
The hexagonal Sr feldspar first precipitated as Sr feldspar has the property that the reflectance is as high as that of the high refractive index ceramic filler. Accordingly, the presence of the hexagonal Sr feldspar in the structure together with a ceramic filler such as Al 2 O 3 allows the reflectance to be obtained even when the main baking contains a large amount of unreacted glass at a relatively low temperature. Can be improved. Further, since the glass is relatively reduced, the mechanical strength can be improved. In the case where monoclinic Sr feldspar exists, the crystallization of the glass component proceeds, so that the overall scattering increases and the reflectance can be further improved.
本発明のガラスセラミックは、1200℃以下の焼成でも緻密化可能であるので、LTCCプロセス技術等を用いた公知のセラミックシート多層化プロセスを用いて、低融点金属(Ag、Cu、Au、Ni又はこれらを基とする合金)からなる電極材料と共に同時焼成することが容易である。前記低融点金属を用いて、発光ダイオード素子を実装する為のダイ、あるいは発光ダイオード素子から生じる熱を放熱する為のサーマルビアを構成することが可能となる。また、発光ダイオードパッケージ用途として200MPaを超える実用的な抗折強度が得られ、発光ダイオードパッケージは、発光機能とともに機械的強度に優れたものとなる。 Since the glass ceramic of the present invention can be densified even by firing at 1200 ° C. or less, a low-melting-point metal (Ag, Cu, Au, Ni or It is easy to co-fire with an electrode material made of an alloy based on these. Using the low melting point metal, a die for mounting a light emitting diode element or a thermal via for radiating heat generated from the light emitting diode element can be configured. In addition, a practical bending strength exceeding 200 MPa is obtained for a light emitting diode package, and the light emitting diode package has excellent mechanical strength as well as a light emitting function.
(実施例1)
ガラスセラミック組成物は出発原料として、Al2O3粉末、SiO2粉末、SrCO3粉末、Na2CO3粉末、K2CO3粉末を用いる。組成比率の一例を表1に示す。表1においては、SrCO3、Na2CO3、K2CO3について、それぞれSrO、Na2O、K2Oにして換算して示す。各出発原料は純度が99.9%以上で平均粒径0.5μmのものを用いた。
Example 1
The glass ceramic composition uses Al 2 O 3 powder, SiO 2 powder, SrCO 3 powder, Na 2 CO 3 powder, and K 2 CO 3 powder as starting materials. An example of the composition ratio is shown in Table 1. In Table 1, SrCO 3, Na 2 CO 3 and K 2 CO 3 are converted into SrO, Na 2 O and K 2 O, respectively. Each starting material used had a purity of 99.9% or more and an average particle size of 0.5 μm.
表1に示した組成比率となる様に、前記出発原料を秤量し、原料粉末をポリエチレン製のボールミルに投入し、更に酸化ジルコニウム製のボールと純水を投入して40時間湿式混合を行う。混合スラリーを加熱乾燥し水分を蒸発させた後、乳鉢で解砕し、800℃で2時間保持して仮焼した。 The starting materials are weighed so that the composition ratio shown in Table 1 is obtained, the raw material powder is put into a polyethylene ball mill, and further, zirconium oxide balls and pure water are added and wet mixed for 40 hours. The mixed slurry was dried by heating to evaporate the moisture, and then crushed in a mortar, and calcined by holding at 800 ° C. for 2 hours.
得られた仮焼粉をボールミルに投入し20時間湿式粉砕を行い、乾燥させ粉砕粉末とする。この粉砕粉末にポリビニールアルコールの10%水溶液を添加し、乳鉢にて混練後、32メッシュのふるいを通過させ整粒し、造粒粉末を得る。この粉末を金型に投入し、196MPaの圧力で加圧成形し、成形体を得た。この成形体を所定の焼成温度まで200℃/hrの速度で昇温し、900℃で2時間保持後、200℃/hrの速度で冷却して焼成を行い、幾つかの試料形状にてガラスセラミックを得た。得られた試料から。結晶相の同定、反射率及び平均反射率の評価、抗折強度の評価、焼結密度の評価を、以下に示す方法にて行った。 The obtained calcined powder is put into a ball mill, wet pulverized for 20 hours, and dried to obtain a pulverized powder. A 10% aqueous solution of polyvinyl alcohol is added to the pulverized powder, and the mixture is kneaded in a mortar and then sized by passing through a 32 mesh sieve to obtain a granulated powder. This powder was put into a mold and subjected to pressure molding at a pressure of 196 MPa to obtain a molded body. The molded body was heated up to a predetermined firing temperature at a rate of 200 ° C./hr, held at 900 ° C. for 2 hours, then cooled at a rate of 200 ° C./hr for firing, and glass in several sample shapes. A ceramic was obtained. From the sample obtained. Identification of the crystal phase, evaluation of the reflectance and average reflectance, evaluation of the bending strength, and evaluation of the sintered density were performed by the following methods.
(結晶相の同定)
得られた試料の一部を粉末化して、結晶状態をCu−Kα線による粉末X線回折により確認し、JCPDSカードチャートと一致するか、あるいは近似するかによりAl2O3結晶、ZrO2結晶及びSrAl2Si2O8結晶等の長石について同定した。X線回折測定装置はRIGAKU製RINT2000を用いた。SrAl2Si2O8結晶の結晶構造については、X線回折において六方晶SrAl2Si2O8の(101)面のピークと、単斜晶SrAl2Si2O8の(002)面のピークにて同定した。以降、六方晶Sr長石をH−SrAl2Si2O8、単斜晶Sr長石をM−SrAl2Si2O8として示すこととする。
(Identification of crystal phase)
Part of the obtained sample is pulverized, the crystal state is confirmed by powder X-ray diffraction using Cu-Kα ray, and Al 2 O 3 crystal or ZrO 2 crystal is selected depending on whether it matches or approximates the JCPDS card chart. And feldspar such as SrAl 2 Si 2 O 8 crystal was identified. As the X-ray diffraction measurement apparatus, RINT2000 made by RIGaku was used. Regarding the crystal structure of the SrAl 2 Si 2 O 8 crystal, the peak of the (101) plane of hexagonal SrAl 2 Si 2 O 8 and the peak of the (002) plane of monoclinic SrAl 2 Si 2 O 8 in X-ray diffraction Identified. Hereinafter, the hexagonal Sr feldspar will be referred to as H-SrAl 2 Si 2 O 8 , and the monoclinic Sr feldspar will be referred to as M-SrAl 2 Si 2 O 8 .
(反射率及び平均反射率)
寸法外径29mmで厚み0.4mmとした測定試料について、コニカミノルタ製の分光測色計CM−3700dを用い波長350nm〜750nmでの反射率を評価した。ここで反射率は波長450nmのデータとし、平均反射率は波長が380nm〜740nmのときの各々の波長(10nmピッチで47点)の反射率の平均を表す。
(Reflectance and average reflectance)
With respect to a measurement sample having an outer diameter of 29 mm and a thickness of 0.4 mm, the reflectance at a wavelength of 350 nm to 750 nm was evaluated using a spectrocolorimeter CM-3700d manufactured by Konica Minolta. Here, the reflectance is data with a wavelength of 450 nm, and the average reflectance represents the average of the reflectances at each wavelength (47 points at a pitch of 10 nm) when the wavelength is 380 nm to 740 nm.
(抗折強度)
38mm×12mm×1mmとした測定試料を試験片として、支点間距離を30mmとし、荷重速度を0.5mm/minとして、3点曲げ試験(JIS C2141)を行い、試験片が破壊したときの最大荷重から曲げ強さ(抗折強度)を評価した。抗折強度200MPa以上の場合を抗折強度良、200MPa未満を抗折強度劣とする。
(Folding strength)
The maximum when the test piece breaks when a three-point bending test (JIS C2141) is performed with a measurement sample of 38 mm × 12 mm × 1 mm as a test piece, a distance between fulcrums of 30 mm, a load speed of 0.5 mm / min. The bending strength (bending strength) was evaluated from the load. When the bending strength is 200 MPa or more, the bending strength is good, and when it is less than 200 MPa, the bending strength is poor.
(焼結密度)
前記抗折強度評価用の測定試料を用いて、体積重量法にて焼結密度dsを評価した。
(Sintering density)
Using the measurement sample for bending strength evaluation, the sintered density ds was evaluated by the volume weight method.
得られた評価結果を表2に纏めて示す。その組織はSrAl2Si2O8結晶が析出してなくて、Al2O3結晶とガラス相が主であり、他にSrSiO3結晶、粉砕工程で用いたボール由来のZr酸化物の結晶が確認されたが、その量は僅かであるので、表には記載していない。
本発明によれば、900℃で焼成可能であって、抗折強度、反射率、平均反射率に優れたガラスセラミックが得られた。
The evaluation results obtained are summarized in Table 2. As for the structure, SrAl 2 Si 2 O 8 crystal is not precipitated, Al 2 O 3 crystal and glass phase are mainly, other SrSiO 3 crystal, Zr oxide crystal derived from the ball used in the grinding process Although confirmed, the amount is so small that it is not listed in the table.
According to the present invention, a glass ceramic that can be fired at 900 ° C. and has excellent bending strength, reflectance, and average reflectance was obtained.
(実施例2〜14、参考例1〜3、比較例1〜3)
表1に示した組成のガラスセラミック組成物を基に、更に高反射率セラミックフィラーとしてZrO2又はTiO2を、焼結促進剤としてBi2O3を添加したガラスセラミックを作製した。その秤量組成比率を表3に示す。表中、ZrO2、TiO2、Bi2O3は、それぞれガラスセラミック組成物100重量部に対しての重量部として示している。
(Examples 2-14, Reference Examples 1-3, Comparative Examples 1-3)
Based on the glass ceramic composition having the composition shown in Table 1, a glass ceramic was further prepared by adding ZrO 2 or TiO 2 as a high reflectance ceramic filler and Bi 2 O 3 as a sintering accelerator. The measured composition ratio is shown in Table 3. In the table, ZrO 2, TiO 2, and Bi 2 O 3 are shown as parts by weight with respect to 100 parts by weight of the glass ceramic composition.
まず、実施例1と同様の組成となる様に、ガラスセラミック組成物の各出発原料(Al2O3、SiO2、SrCO3、Na2CO3、K2CO3)を秤量する。次に、前記出発原料100重量部に対して、表3に示す重量部に応じて、純度99.9%以上で平均粒径0.5μmのZrO2粉末、TiO2粉末、Bi2O3粉末を秤量した。
各原料粉末をポリエチレン製のボールミルに投入し、更に酸化ジルコニウム製のボールと純水を投入して40時間湿式混合を行い、混合スラリーを加熱乾燥し水分を蒸発させた後、乳鉢で解砕し、800℃で2時間保持して仮焼した。以降の工程は実施例1と同様なので、その説明を省略する。
First, each starting material (Al 2 O 3 , SiO 2 , SrCO 3 , Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 ) of the glass ceramic composition is weighed so as to have the same composition as in Example 1. Next, with respect to 100 parts by weight of the starting material, ZrO 2 powder, TiO 2 powder, Bi 2 O 3 powder having a purity of 99.9% or more and an average particle size of 0.5 μm, according to the parts by weight shown in Table 3. Was weighed.
Each raw material powder is put into a polyethylene ball mill, and then a zirconium oxide ball and pure water are added and wet mixed for 40 hours. The mixed slurry is heated and dried to evaporate water, and then crushed in a mortar. And calcining by holding at 800 ° C. for 2 hours. Since the subsequent steps are the same as those of the first embodiment, the description thereof is omitted.
得られたガラスセラミックに対して、実施例1と同様に、結晶相の同定、反射率及び平均反射率の測定、抗折強度の評価、焼結密度の測定を行った。結果を表3に示す。なお、表中、焼成温度を変えたときに密度が飽和するに至らない焼成温度での試料には焼結不足と付した。なお、その組織には実施例1と同じく、SrSiO3結晶、粉砕工程で用いたボール由来のZr酸化物の結晶が確認され、更にBi酸化物が確認されたが、その量は僅かであるので、表には記載していない。 In the same manner as in Example 1, the obtained glass ceramic was subjected to identification of crystal phase, measurement of reflectance and average reflectance, evaluation of bending strength, and measurement of sintered density. The results are shown in Table 3. In the table, a sample at a firing temperature at which the density does not saturate when the firing temperature is changed is marked as insufficiently sintered. As in Example 1, SrSiO 3 crystals and balls-derived Zr oxide crystals used in the pulverization process were confirmed in the structure, and Bi oxide was also confirmed. However, the amount was small. Not shown in the table.
ZrO2を加えたガラスセラミック(実施例2〜14)では、ZrO2量に応じて反射率や平均反射率が増加した。また、焼成温度を上げて結晶化を進めてSrAl2Si2O8結晶等の長石を析出させることで、反射率、平均反射率は、一層向上した。1200℃の焼成では、反射率、平均反射率において共に98%となった(実施例14)。一方で、ZrO2量の増加に伴い難焼結となり、焼成温度によっては十分な焼結密度が得られない場合があった(参考例1〜3)。なお焼結不足の参考例1〜3の試料では反射率、平均反射率が高い傾向にあるが、これは試料の表面での散乱が生じやすい為ではないかと推察される。 In glass plus ZrO 2 ceramic (Example 2-14), the reflectance and the average reflectance in accordance with the ZrO 2 amount was increased. Moreover, the reflectance and the average reflectance were further improved by increasing the calcination temperature and promoting crystallization to precipitate feldspar such as SrAl 2 Si 2 O 8 crystal. In the firing at 1200 ° C., both the reflectance and the average reflectance were 98% (Example 14). On the other hand, it became difficult to sinter with an increase in the amount of ZrO 2 , and a sufficient sintered density might not be obtained depending on the firing temperature (Reference Examples 1 to 3). The samples of Reference Examples 1 to 3 with insufficient sintering tend to have high reflectance and average reflectance, which is presumed to be due to the tendency of scattering on the surface of the sample.
高屈折率セラミックフィラーであるTiO2を含むガラスセラミック(比較例1〜3)は、900℃で焼結可能であり反射率は83%程度得られるものの、平均反射率は80%にも満たず劣るものであった。 Glass ceramics (Comparative Examples 1 to 3) containing TiO 2 which is a high refractive index ceramic filler can be sintered at 900 ° C. and have a reflectance of about 83%, but the average reflectance is less than 80%. It was inferior.
(b)セラミック基板
以下、本発明(実施例12)のガラスセラミックを用いて構成したセラミック基板ついて説明する。図1は積層構造のセラミック基板の斜視図であり、図2はセラミック基板の層構成を示す分解斜視図である。
セラミック基板1の上面には、発光ダイオード素子が実装される実装電極(ダイ)20と、前記発光ダイオード素子とボンディングワイヤ等で電気的に接続される端子電極10が設けられる。下面には金属導体が充填されたビアホール(図中黒丸で表示)を介して実装電極20と接続される端子9、同様にビアホールを介して端子電極10と接続される端子8が設けられている。端子8,9は基板への実装端子として用いられ、端子9と実装電極20との間に設けられた複数のビアホールは、発光ダイオード素子の発熱を基板へと導く放熱用のサーマルビアとして機能する。
(B) Ceramic Substrate Hereinafter, a ceramic substrate configured using the glass ceramic of the present invention (Example 12) will be described. 1 is a perspective view of a ceramic substrate having a laminated structure, and FIG. 2 is an exploded perspective view showing a layer structure of the ceramic substrate.
On the upper surface of the
セラミック基板の製造方法について説明する。まず、実施例12のガラスセラミックを得た手順にて仮焼粉を作製し、この仮焼粉をエタノール及びブタノールの混合有機溶媒に分散させて、ボールミルで平均粒径1.0μmまで粉砕する。粉砕後はスラリーの状態となっており、バインダーとしてポリビニルブチラール及び可塑剤としてブチルフタリルブチルグリコレートを前記スラリーに分散させ、シート成形用スラリーとした。減圧下で脱泡及び溶媒の部分的な蒸発を行ってこのスラリーの粘度を約10000MPa・sとした後、ドクターブレードでシート成形し約150μmの乾燥厚さを有する長尺のセラミックグリーンシートを得た。後工程のハンドリングのため、このセラミックグリーンシートを所定の大きさに裁断した。 A method for manufacturing a ceramic substrate will be described. First, calcined powder is prepared by the procedure for obtaining the glass ceramic of Example 12, and this calcined powder is dispersed in a mixed organic solvent of ethanol and butanol and pulverized to an average particle size of 1.0 μm with a ball mill. After pulverization, the slurry is in a slurry state. Polyvinyl butyral as a binder and butylphthalyl butyl glycolate as a plasticizer are dispersed in the slurry to obtain a sheet forming slurry. After defoaming and partial evaporation of the solvent under reduced pressure, the viscosity of the slurry was adjusted to about 10,000 MPa · s, and then a sheet was formed by a doctor blade to obtain a long ceramic green sheet having a dry thickness of about 150 μm. It was. This ceramic green sheet was cut into a predetermined size for subsequent processing.
複数枚のセラミックグリーンシートにレーザーで貫通穴をあけ、金属導体(Agペースト)をスクリーン印刷の手法で充填した。形成されたビアホールは各層間の電極パターンを接続し、電気配線用および熱伝導用に用いられる。更にその表面にAgペーストで実装電極等となる電極パターンを印刷した。 A plurality of ceramic green sheets were drilled with a laser and filled with a metal conductor (Ag paste) by screen printing. The formed via holes connect the electrode patterns between the layers and are used for electric wiring and heat conduction. Furthermore, the electrode pattern used as a mounting electrode etc. was printed on the surface with Ag paste.
電極パターンを印刷した各セラミックグリーンシートを位置合わせし、高精度に積層した後圧着した。圧着条件は、12 MPaの圧力、850℃の温度、及び10分の保持時間であった。得られた積層体をチップサイズに切断した後、焼成セッターに載置し、連続炉で脱バインダー及び本焼成を行い、2.5mm×2.8mm×0.25mmのセラミック基板1を得た。本焼成は大気雰囲気中950℃で2時間保持することにより行った。
Each ceramic green sheet on which the electrode pattern was printed was aligned, laminated with high accuracy, and then crimped. The pressure bonding conditions were a pressure of 12 MPa, a temperature of 850 ° C., and a holding time of 10 minutes. The obtained laminate was cut into chip sizes, placed on a firing setter, and subjected to binder removal and main firing in a continuous furnace, to obtain a
図3に他の実施態様のセラミック基板を示す。このセラミック基板1の構成は、図1で示したものと基本的な部分は同一であるが、発光ダイオード素子が実装される実装電極20を囲うようにキャビティ30が設けられている点で相違する。キャビティ30はセラミックグリーンシートを用いて構成される。積層体はセラミックグリーンシートの一部を抜いたものを、端子電極10の一部と重なる様に重ねて積層して形成され、後工程は、図1で示したセラミック基板と同じ工程をとる。多層化が可能であるのでキャビティを備えたセラミック基板を容易に得ることが出来る。
FIG. 3 shows a ceramic substrate according to another embodiment. The basic structure of the
(c)発光ダイオードパッケージ
図3に示した構造のキャビティを備えたセラミック基板1を用い、発光ダイオードパッケージを作製した。図4はその断面図である。セラミック基板1は、キャビティ30を構成する層5と各電極8、9、10、20やビアホール14が形成されたセラミック層6a,6b(6)とで構成されている。キャビティ30から覗き見える実装電極20に、はんだ若しくは導電性接着剤で発光ダイオード素子50をろう付けして実装した後、発光ダイオード素子50と端子電極10とをボンディングワイヤ60で接続する。その後、キャビティ30に、必要に応じて蛍光体が分散されたシリコーン樹脂(図中省略)を充填固化して発光ダイオードパッケージ3とした。なお、キャビティ側の上面には更にレンズを固定する場合もある。発光ダイオードパッケージ3は反射率等に優れたガラスセラミックを用いることで、輝度に優れたものとなる。またサーマルビア14により放熱性にも優れたものとなる。
(C) Light-Emitting Diode Package A light-emitting diode package was manufactured using the
図5は他の態様の発光ダイオードパッケージであり、アレイ型発光ダイオードパッケージの斜視図を示す。図6はその部分拡大図である。図3で示した発光ダイオードパッケージ3は一つの発光ダイオード素子を用いるものであるが、アレイ型発光ダイオードパッケージ3は、複数の発光ダイオード素子50を直列にボンディングワイヤ60で接続した発光ダイオード素子群25を用いる。エポキシ樹脂で保護された発光ダイオード素子群25は、共通端子電極15と繋がるバス電極12により並列に接続される。基本的な発光ダイオードパッケージ3の構成は図1等で示したものと同じであり、製造プロセスも同様の手順で、20mm×20mm×0.55mmのアレイ型発光ダイオードを得た。反射率等に優れたガラスセラックを用い、複数の発光ダイオード素子50を用いることで、得られるアレイ型発光ダイオードパッケージ3は、更に輝度に優れたものとなる。
FIG. 5 is a perspective view of an array type light emitting diode package as another embodiment of the light emitting diode package. FIG. 6 is a partially enlarged view thereof. The light emitting
1 セラミック基板
3 発光ダイオードパッケージ、発光装置
8,9 端子
10 端子電極
12 バス電極
15 共通端子電極
20 実装電極
25 発光ダイオード素子群
30 キャビティ
50 発光ダイオード素子
60 ボンディングワイヤ
DESCRIPTION OF
Claims (6)
B及びTiを含まず、
高屈折率セラミックフィラーとして少なくともAl2O3を含み、
前記ガラスセラミック組成物が、AlをAl 2 O 3 換算で25質量%≦a≦55質量%、NaをNa 2 O換算で0.5質量%≦b≦3.0質量%、KをK 2 O換算で0質量%≦c≦2.0質量%、SiをSiO 2 換算で25質量%≦d≦45質量%、SrをSrO換算で10質量%≦e≦35質量%とで構成され、a+b+c+d+e=100質量%であり、
波長450nmの光の反射率が85%以上で、波長380nm〜740nmの光の反射率の平均が87%以上であることを特徴とする発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミック。 Sintered glass ceramic composition containing Al, Si, Sr, Na,
Does not contain B and Ti,
Including at least Al 2 O 3 as a high refractive index ceramic filler,
In the glass ceramic composition, Al is 25% by mass ≦ a ≦ 55% by mass in terms of Al 2 O 3 , Na is 0.5% by mass ≦ b ≦ 3.0% by mass in terms of Na 2 O, and K is K 2 0 mass% ≦ c ≦ 2.0 mass% in terms of O, Si is composed of 25 mass% ≦ d ≦ 45 mass% in terms of SiO 2 , and Sr is 10 mass% ≦ e ≦ 35 mass% in terms of SrO, a + b + c + d + e = 100% by mass,
A glass ceramic for a light emitting diode package, characterized in that the reflectance of light having a wavelength of 450 nm is 85% or more and the average reflectance of light having a wavelength of 380 nm to 740 nm is 87% or more.
高屈折率セラミックフィラーとして更にZr酸化物を含み、
波長450nmの光の反射率が87%以上で、波長380nm〜740nmの光の反射率の平均が88%以上であることを特徴とする発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミック。 The glass ceramic for a light emitting diode package according to claim 1,
Further containing Zr oxide as a high refractive index ceramic filler,
A glass ceramic for a light emitting diode package, characterized by having a reflectance of light having a wavelength of 450 nm of 87% or more and an average reflectance of light having a wavelength of 380 nm to 740 nm being 88% or more.
前記ガラスセラミック組成物を100重量部に対して、ZrO2換算で84重量部以下のZrと、Bi2O3換算で10重量部以下のBiとを含有することを特徴とする発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミック。 The glass ceramic for a light emitting diode package according to claim 1 ,
For the light emitting diode package, comprising 100 parts by weight of the glass ceramic composition, 84 parts by weight or less of Zr in terms of ZrO 2 and 10 parts by weight or less of Bi in terms of Bi 2 O 3 Glass ceramic.
A light emitting diode package comprising the ceramic substrate according to claim 5 and a light emitting diode element.
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