JP6152340B2 - Manufacturing method of disk-shaped substrate and carrier for grinding or polishing - Google Patents
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Description
本発明は、円板形状の基板の製造方法、及び研削又は研磨用キャリアに関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a disk-shaped substrate and a carrier for grinding or polishing .
近年の磁気記録媒体の記録密度の向上に伴い、磁気記録媒体の作製に用いる磁気ディスク用ガラス基板には、平坦性を改善することが求められている。このような磁気ディスク用ガラス基板の表面凹凸を小さくするために、ガラス基板の研磨処理が行われる。 With the recent increase in recording density of magnetic recording media, it is required to improve the flatness of glass substrates for magnetic disks used in the production of magnetic recording media. In order to reduce the surface unevenness of the glass substrate for magnetic disk, the glass substrate is polished.
研磨処理では、遊星歯車機構を備えた両面研磨装置を用いて、ガラス基板の主表面に対して研磨加工を行う。具体的には、ガラス基板の外周側端面を、両面研磨装置のガラス基板用キャリアに設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研削を行う。両面研磨装置は、上下一対の定盤(上定盤および下定盤)を有しており、上定盤および下定盤の間にガラス基板用キャリアとともにガラス基板が狭持される。そして、上定盤と下定盤の間に遊離砥粒を含んだ研磨スラリを供給しながら、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作させ、ガラス基板と各定盤とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を研削することができる。 In the polishing treatment, polishing is performed on the main surface of the glass substrate using a double-side polishing apparatus equipped with a planetary gear mechanism. Specifically, the main surface on both sides of the glass substrate is ground while holding the outer peripheral side end face of the glass substrate in a holding hole provided in the glass substrate carrier of the double-side polishing apparatus. The double-side polishing apparatus has a pair of upper and lower surface plates (upper surface plate and lower surface plate), and the glass substrate is sandwiched between the upper surface plate and the lower surface plate together with the glass substrate carrier. Then, while supplying a polishing slurry containing loose abrasive grains between the upper surface plate and the lower surface plate, either or both of the upper surface plate and the lower surface plate are moved to operate the glass substrate and each surface plate. Both main surfaces of the glass substrate can be ground by relatively moving.
ガラス基板用キャリアの材料として、ガラス繊維からなるガラスクロスと、ガラスクロスに含浸した樹脂材料とからなる樹脂含浸基板を用いるものがある。樹脂含浸基板を切削加工することによりガラス基板の保持孔やガラス基板用キャリアの外周形状を形成すると、切削面にガラス繊維が露出する。このため、露出したガラス繊維によりガラス基板に傷がつくことを防ぐためにガラス繊維のエッチング処理が行われる(例えば特許文献1参照)。 As a material for a glass substrate carrier, there is a material using a resin impregnated substrate composed of a glass cloth made of glass fiber and a resin material impregnated in the glass cloth. When the holding hole of the glass substrate or the outer peripheral shape of the glass substrate carrier is formed by cutting the resin-impregnated substrate, the glass fiber is exposed on the cutting surface. For this reason, in order to prevent a glass substrate from being damaged by the exposed glass fiber, the etching process of glass fiber is performed (for example, refer patent document 1).
樹脂含浸基板からなるガラス基板用キャリアをガラス基板の研削処理や研磨処理に繰り返し用いると、研磨処理後のガラス基板の表面(主表面および端面)における異物の数が増大した。また、この異物が原因と見られるガラス基板のスクラッチが増大した。 When a glass substrate carrier composed of a resin-impregnated substrate is repeatedly used for the grinding or polishing treatment of the glass substrate, the number of foreign matters on the surface (main surface and end face) of the glass substrate after the polishing treatment has increased. In addition, scratches on the glass substrate, which are considered to be caused by this foreign matter, increased.
そこで、本発明は、研磨処理後のガラス基板の表面における異物の数および傷を低減することができる、ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。 Then, an object of this invention is to provide the manufacturing method of a glass substrate which can reduce the number of foreign materials and the damage | wound in the surface of the glass substrate after a grinding | polishing process.
上記の課題を解決するために、ガラス基板の研削処理や研磨処理に繰り返し用いたガラス基板用キャリアを発明者が観察したところ、ガラス基板用キャリアの主表面にガラス繊維が露出していることが判明した。このガラス繊維の一部が研削処理や研磨処理において脱離し、ガラス基板の主表面を傷つけたり、異物としてガラス基板の主表面に付着したりしていると考えられる。 In order to solve the above problems, the inventors have observed a glass substrate carrier repeatedly used for grinding and polishing of a glass substrate. Glass fibers are exposed on the main surface of the glass substrate carrier. found. It is considered that a part of the glass fiber is detached in the grinding process or the polishing process and damages the main surface of the glass substrate or adheres to the main surface of the glass substrate as a foreign substance.
このため、本発明の第1の態様は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
アルミニウムを成分として含むガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなるガラス基板用キャリアに設けられたガラス基板保持孔に、ガラス基板を保持させた状態で、前記ガラス基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記ガラス基板の主表面を研磨する研磨処理と、
前記研磨処理によってガラス基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、フッ酸を含むエッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、
を有することを特徴とする。
Therefore, a first aspect of the present invention is a method for manufacturing a magnetic disk glass substrate,
In a state where a glass substrate is held in a glass substrate holding hole provided in a glass substrate carrier made of a plurality of glass cloths made of glass fibers containing aluminum as a component and a resin material impregnated in the plurality of glass cloths, A polishing process for holding the glass substrate between an upper surface plate and a lower surface plate, and polishing a main surface of the glass substrate;
Etching treatment for etching the glass fiber exposed from the main surface of the glass substrate carrier by the polishing treatment with an etching solution containing hydrofluoric acid;
It is characterized by having.
上記のエッチング処理を行ったガラス基板用キャリアを用いて研磨処理を行った後のガラス基板の表面を観察したところ、全体として傷や異物数は低減した。しかし、研磨処理に用いたガラス基板用キャリアの種類によっては、なおも傷や異物が残存するガラス基板があった。特にアルミニウムを含むガラス繊維を用いたガラス基板用キャリアを用いて研磨処理を行ったガラス基板の表面を観察したところ異物が発見され、この異物を分析したところ、フッ化アルミン酸塩の結晶が含まれることが判明した。
フッ化アルミン酸は、ガラスにアルミナ(酸化アルミニウム)が成分として含まれる場合、フッ酸を含むエッチング液でガラスのエッチング処理を行うと、エッチング液中のフッ素がアルミナと反応することで生成される。
When the surface of the glass substrate after performing the polishing treatment using the glass substrate carrier subjected to the etching treatment was observed, the number of scratches and foreign matters was reduced as a whole. However, depending on the type of glass substrate carrier used for the polishing treatment, there were still glass substrates on which scratches and foreign matter remained. In particular, when the surface of the glass substrate polished using a glass substrate carrier using glass fiber containing aluminum was observed, a foreign material was found, and when this foreign material was analyzed, a fluoroaluminate crystal was included. Turned out to be.
When alumina (aluminum oxide) is contained in glass as a component, fluoroaluminic acid is produced by the reaction of fluorine in the etching solution with alumina when the glass is etched with an etching solution containing hydrofluoric acid. .
ガラス基板用キャリアの材料である樹脂含浸基板のガラスクロスは、ガラス糸を織り上げて製造されている。このガラス糸を構成するガラス繊維は単位重量当たりの表面積が大きく、空気中の二酸化炭素や水による風化を受けやすい。そこで、ガラス繊維の耐久性を高くするために、ガラス成分中のアルミナ(Al2O3)の比率が高められているものがある。このため、切削加工後の樹脂含浸基板に対して、ガラス繊維のエッチング処理を行うことで、フッ化アルミン酸塩の結晶がガラス基板用キャリアの表面に析出したものと考えられる。また、析出物はエッチングによりキャリア表面に形成される凹部に詰まりやすく、容易に除去できないことがわかった。そして、析出物が付着したままのキャリアを研削や研磨の加工に供されると、それらが徐々に脱離することがわかってきた。フッ化アルミン酸塩の結晶は鋭利な外形を有しており、ガラス基板用キャリアに残存すると研磨処理においてガラス基板に傷をつけるおそれがある。このため、あらかじめフッ化アルミン酸塩をガラス基板用キャリアから除去する必要がある。 A glass cloth of a resin-impregnated substrate that is a material for a glass substrate carrier is manufactured by weaving glass yarn. The glass fiber constituting the glass yarn has a large surface area per unit weight, and is easily weathered by carbon dioxide or water in the air. Therefore, in order to increase the durability of the glass fiber, there is one in which the ratio of alumina (Al 2 O 3 ) in the glass component is increased. For this reason, it is thought that the crystal | crystallization of a fluoroaluminate precipitated on the surface of the glass substrate carrier by performing the etching process of glass fiber with respect to the resin impregnation board | substrate after a cutting process. Further, it was found that the precipitates are easily clogged into the recesses formed on the carrier surface by etching and cannot be easily removed. Then, it has been found that when the carrier with the deposits attached is subjected to grinding or polishing, they are gradually detached. The crystal of fluoroaluminate has a sharp outer shape, and if it remains on the glass substrate carrier, the glass substrate may be damaged in the polishing process. For this reason, it is necessary to remove the fluoroaluminate from the glass substrate carrier in advance.
そこで、前記ガラス繊維がアルミニウムを成分として含み、前記エッチング溶液がフッ酸を含む場合、前記エッチング処理により生じたフッ化アルミン酸塩を、除去する除去処理をさらに有することが好ましい。 Therefore, when the glass fiber contains aluminum as a component and the etching solution contains hydrofluoric acid, it is preferable to further have a removal treatment for removing the fluorinated aluminate generated by the etching treatment.
前記除去処理において、金属イオンを含む酸性の電解質溶液にフッ化アルミン酸塩を溶解させることが好ましい。 In the removal treatment, it is preferable to dissolve the fluoroaluminate in an acidic electrolyte solution containing metal ions.
前記電解質溶液は、硫酸アルミニウム水溶液又は硝酸アルミニウム水溶液であることが好ましい。 The electrolyte solution is preferably an aluminum sulfate aqueous solution or an aluminum nitrate aqueous solution.
前記除去処理において、前記ガラス基板用キャリアの表面を研磨することによりフッ化アルミン酸塩を除去することが好ましい。 In the removal treatment, it is preferable to remove the fluoroaluminate by polishing the surface of the glass substrate carrier.
本発明の第2の態様は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなるガラス基板用キャリアに設けられたガラス基板保持孔に、ガラス基板の外周端面を保持させた状態で、前記ガラス基板用キャリアおよび前記ガラス基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記ガラス基板の主表面を研磨する研磨処理と、
前記研磨処理を複数回行う毎に、前記研磨処理を複数回行うことによってガラス基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、エッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、
を含むことを特徴とする。
A second aspect of the present invention is a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk,
In a state where the outer peripheral end face of the glass substrate is held in a glass substrate holding hole provided in a glass substrate carrier made of a plurality of glass cloths made of glass fibers and a resin material impregnated in the plurality of glass cloths. Polishing treatment for holding the substrate carrier and the glass substrate between the upper surface plate and the lower surface plate, and polishing the main surface of the glass substrate;
Each time the polishing process is performed a plurality of times, an etching process for etching the glass fiber exposed from the main surface of the glass substrate carrier by performing the polishing process a plurality of times with an etching solution;
It is characterized by including.
上述の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、研磨処理によってガラス基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、エッチングすることで除去するため、このガラス基板用キャリアを用いてガラス基板の研磨処理を行うことで、露出したガラス繊維が脱離した異物やこの異物による傷が少ないガラス基板を製造することができる。 According to the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk described above, the glass fiber exposed from the main surface of the glass substrate carrier by the polishing process is removed by etching. By performing the polishing treatment, it is possible to manufacture a foreign substance from which the exposed glass fiber is detached and a glass substrate with few scratches due to the foreign substance.
以下、本実施形態に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について詳細に説明する。 Hereinafter, the manufacturing method of the glass substrate for magnetic disks which concerns on this embodiment is demonstrated in detail.
(磁気ディスク用ガラス基板)
まず、磁気ディスク用ガラス基板について説明する。磁気ディスク用ガラス基板は、円板形状であって、外周と同心の円形の中心孔がくり抜かれたリング状である。磁気ディスク用ガラス基板の両面に円環状の磁性層(記録領域)が形成されることで、磁気ディスクが形成される。
(Magnetic disk glass substrate)
First, the glass substrate for magnetic disks will be described. The glass substrate for a magnetic disk has a disc shape and a ring shape in which a circular center hole concentric with the outer periphery is cut out. A magnetic disk is formed by forming an annular magnetic layer (recording area) on both surfaces of a magnetic disk glass substrate.
磁気ディスク用ガラスブランク(以降、単にガラスブランクという)は、後述するプレス成形により作製される円形状のガラス板であって、中心孔がくり抜かれる前の形態である。 A magnetic disk glass blank (hereinafter simply referred to as a glass blank) is a circular glass plate produced by press molding, which will be described later, and has a form before a center hole is cut out.
ガラスブランクの材料として、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどを用いることができる。特に、化学強化を施すことができ、また主表面の平面度及び基板の強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を作製することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好適に用いることができる。 As a material for the glass blank, aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, or the like can be used. In particular, aluminosilicate glass can be suitably used in that it can be chemically strengthened and a glass substrate for a magnetic disk excellent in the flatness of the main surface and the strength of the substrate can be produced.
(磁気ディスク用ガラス基板の製造方法)
次に、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を説明する。先ず、一対の主表面を有する板状の磁気ディスク用ガラス基板の素材となるガラスブランクをプレス成形により作製する(プレス成形処理)。次に、作製されたガラスブランクの中心部分に円孔を形成しリング形状(円環状)のガラス基板とする(円孔形成処理)。次に、円孔を形成したガラス基板に対して形状加工を行う(形状加工処理)。これにより、ガラス基板が生成される。次に、形状加工されたガラス基板に対して端面研磨を行う(端面研磨処理)。端面研磨の行われたガラス基板に、固定砥粒による研削を行う(研削処理)。次に、ガラス基板の主表面に第1研磨を行う(第1研磨処理)。次に、ガラス基板に対して化学強化を行う(化学強化処理)。次に、化学強化されたガラス基板に対して第2研磨を行う(第2研磨処理)。以上の処理を経て、磁気ディスク用ガラス基板が得られる。以下、各処理について、詳細に説明する。
(Method for producing glass substrate for magnetic disk)
Next, a method for manufacturing a magnetic disk glass substrate will be described. First, a glass blank as a material for a plate-shaped magnetic disk glass substrate having a pair of main surfaces is produced by press molding (press molding process). Next, a circular hole is formed in the center part of the produced glass blank, and it is set as a ring-shaped (annular) glass substrate (circular hole formation process). Next, shape processing is performed on the glass substrate in which the circular holes are formed (shape processing processing). Thereby, a glass substrate is produced | generated. Next, end-face polishing is performed on the shape-processed glass substrate (end-face polishing process). Grinding with a fixed abrasive is performed on the glass substrate that has been subjected to end surface polishing (grinding treatment). Next, 1st grinding | polishing is performed to the main surface of a glass substrate (1st grinding | polishing process). Next, chemical strengthening is performed on the glass substrate (chemical strengthening treatment). Next, second polishing is performed on the chemically strengthened glass substrate (second polishing treatment). The glass substrate for magnetic disks is obtained through the above processing. Hereinafter, each process will be described in detail.
(a)プレス成形処理
溶融ガラスの塊を一対の金型のプレス成形面の間に挟みこみ、プレスしてガラスブランクを成形する。所定時間プレスを行った後、金型を開いてガラスブランクが取り出される。
(A) Press molding treatment A lump of molten glass is sandwiched between the press molding surfaces of a pair of molds and pressed to form a glass blank. After pressing for a predetermined time, the mold is opened and the glass blank is taken out.
(b)円孔形成処理
ガラスブランクに対してドリル等を用いて円孔を形成することにより円形状の孔があいたディスク状のガラス基板を得ることもできる。
(B) Circular hole formation treatment A disk-shaped glass substrate having a circular hole can be obtained by forming a circular hole in a glass blank using a drill or the like.
(c)形状加工処理
次に、形状加工処理について説明する。形状加工処理では、円孔形成処理後のガラス基板の端部に対する面取り加工(外周側端面および内側端面の面取り加工)を含む。面取り加工は、円孔形成処理後のガラス基板の外周側端面および内側端面において、ダイヤモンド砥石により面取りを施す形状加工である。この形状加工により所定の形状をしたガラス基板が生成される。
(C) Shape processing processing Next, the shape processing processing will be described. The shape processing includes chamfering (chamfering of the outer peripheral side end surface and the inner end surface) for the end of the glass substrate after the circular hole formation processing. The chamfering process is a shape process in which chamfering is performed with a diamond grindstone on the outer peripheral side end face and the inner end face of the glass substrate after the circular hole forming process. A glass substrate having a predetermined shape is generated by this shape processing.
(d)端面研磨処理
次に、端面研磨処理を説明する。端面研磨では、ガラス基板の内側端面及び外周側端面に対して、ブラシ研磨により鏡面仕上げを行う。このとき、微粒子を遊離砥粒として含む砥粒スラリが用いられる。
(D) End Surface Polishing Process Next, the end surface polishing process will be described. In the end surface polishing, mirror finishing is performed by brush polishing on the inner end surface and the outer peripheral side end surface of the glass substrate. At this time, an abrasive slurry containing fine particles as free abrasive grains is used.
(e)研削処理
研削処理では、遊星歯車機構を備えた両面研削装置を用いて、ガラス基板の主表面に対して研削加工を行う。具体的には、ガラスブランクから生成されたガラス基板の外周側端面を、両面研削装置の保持部材に設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研削を遊離砥粒または固定砥粒により行う。両面研削装置は、上下一対の定盤(上定盤および下定盤)を有しており、上定盤および下定盤の間にガラス基板が狭持される。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作させ、ガラス基板と各定盤とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を研削することができる。
(E) Grinding process In the grinding process, grinding is performed on the main surface of the glass substrate using a double-sided grinding apparatus having a planetary gear mechanism. Specifically, grinding the main surface on both sides of the glass substrate while holding the outer peripheral side end surface of the glass substrate generated from the glass blank in the holding hole provided in the holding member of the double-side grinding apparatus Perform with fixed abrasive. The double-sided grinding apparatus has a pair of upper and lower surface plates (upper surface plate and lower surface plate), and a glass substrate is sandwiched between the upper surface plate and the lower surface plate. Then, by moving one or both of the upper surface plate and the lower surface plate and relatively moving the glass substrate and each surface plate, both main surfaces of the glass substrate can be ground.
(f)第1研磨処理
次に、研削のガラス基板の主表面に第1研磨が施される。第1研磨は、主表面加工処理の1つである。具体的には、ガラス基板の外周側端面を、両面研磨装置のガラス基板用キャリアに設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研磨が行われる。第1研磨は、研削処理後にガラス基板の主表面に残留したキズや歪みの除去、あるいは微小な表面凹凸(マイクロウェービネス、粗さ)の調整を目的とする。
(F) 1st grinding | polishing process Next, 1st grinding | polishing is given to the main surface of the glass substrate of grinding. The first polishing is one of main surface processing. Specifically, the main surfaces on both sides of the glass substrate are polished while holding the outer peripheral side end face of the glass substrate in a holding hole provided in the glass substrate carrier of the double-side polishing apparatus. The purpose of the first polishing is to remove scratches and distortions remaining on the main surface of the glass substrate after the grinding treatment, or to adjust minute surface irregularities (microwaveness, roughness).
第1研磨処理では、固定砥粒による研削処理に用いる両面研削装置と同様の構成を備えた両面研磨装置を用いて、研磨スラリを与えながらガラス基板が研磨される。第1研磨処理では、固定砥粒の代わりに遊離砥粒を含んだ研磨スラリが用いられる。両面研磨装置も、両面研削装置と同様に、上下一対の定盤の間にガラス基板が保持される。下定盤の上面及び上定盤の底面には、全体として円環形状の平板の研磨パッド(例えば、樹脂ポリッシャ)が取り付けられている。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作させることで、ガラス基板と各定盤とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を研磨する。 In the first polishing process, the glass substrate is polished while applying a polishing slurry by using a double-side polishing apparatus having the same configuration as that of the double-side grinding apparatus used for the grinding process using fixed abrasive grains. In the first polishing process, a polishing slurry containing loose abrasive grains is used instead of fixed abrasive grains. Similarly to the double-side grinding apparatus, the double-side polishing apparatus also holds the glass substrate between a pair of upper and lower surface plates. An annular flat polishing pad (for example, a resin polisher) is attached to the upper surface of the lower surface plate and the bottom surface of the upper surface plate as a whole. Then, by moving either the upper surface plate or the lower surface plate, or both, the glass substrate and each surface plate are relatively moved, thereby polishing both main surfaces of the glass substrate.
(g)化学強化処理
次に、ガラス基板は化学強化される。化学強化液として、例えば硝酸カリウムと硫酸ナトリウムの混合溶融液等を用い、ガラス基板を化学強化液に浸漬する。なお、化学強化処理は行わなくてもよい。
(G) Chemical strengthening treatment Next, the glass substrate is chemically strengthened. As the chemical strengthening liquid, for example, a mixed molten liquid of potassium nitrate and sodium sulfate or the like is used, and the glass substrate is immersed in the chemical strengthening liquid. The chemical strengthening process may not be performed.
(h)第2研磨(最終研磨)処理
次に、化学強化処理後のガラス基板に第2研磨が施される。第2研磨処理は、主表面の鏡面研磨を目的とする。第2研磨においても、第1研磨に用いる両面研磨装置と同様の構成を有する両面研磨装置が用いられる。具体的には、ガラス基板の外周側端面を、両面研磨装置のガラス基板用キャリアに設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研磨が行われる。第2研磨処理が第1研磨処理と異なる点は、遊離砥粒の種類及び粒子サイズが異なることと、樹脂ポリッシャの硬度が異なることである。
(H) Second polishing (final polishing) treatment Next, the glass substrate after the chemical strengthening treatment is subjected to second polishing. The second polishing treatment aims at mirror polishing of the main surface. Also in the second polishing, a double-side polishing apparatus having the same configuration as the double-side polishing apparatus used for the first polishing is used. Specifically, the main surfaces on both sides of the glass substrate are polished while holding the outer peripheral side end face of the glass substrate in a holding hole provided in the glass substrate carrier of the double-side polishing apparatus. The second polishing process is different from the first polishing process in that the type and particle size of the free abrasive grains are different and the hardness of the resin polisher is different.
第2研磨処理に用いる遊離砥粒として、例えば、スラリに混濁させたコロイダルシリカ等の微粒子(粒子サイズ:直径5〜100nm程度)が用いられる。研磨されたガラス基板を中性洗剤、純水、IPA等を用いて洗浄することで、磁気ディスク用ガラス基板が得られる。
第2研磨処理は、必ずしも必須な処理ではないが、ガラス基板の主表面の表面凹凸のレベルをさらに良好なものとすることができる点で実施することが好ましい。第2研磨処理を実施することで、主表面の粗さ(Ra)を0.1nm以下とすることができる。このようにして、第2研磨の施されたガラス基板は、洗浄されて磁気ディスク用ガラス基板となる。
As the free abrasive grains used in the second polishing treatment, for example, fine particles (particle size: diameter of about 5 to 100 nm) such as colloidal silica made turbid in slurry are used. The polished glass substrate is washed with a neutral detergent, pure water, IPA or the like to obtain a glass substrate for a magnetic disk.
The second polishing process is not necessarily an essential process, but it is preferable that the second polishing process is performed in that the level of surface irregularities on the main surface of the glass substrate can be further improved. By performing the second polishing treatment, the roughness (Ra) of the main surface can be made 0.1 nm or less. In this manner, the glass substrate subjected to the second polishing is washed to become a glass substrate for a magnetic disk.
(ガラス基板用キャリア)
ここで、研削処理や研磨処理(第1研磨処理、第2研磨処理)において用いるガラス基板用キャリアについて説明する。
図1はガラス基板用キャリア10の平面図である。ガラス基板用キャリア10は、研削処理や研磨処理(第1研磨処理、第2研磨処理)において、研磨対象であるガラス基板を保持するものである。
ガラス基板用キャリア10には、図1に示すように、ガラス基板保持孔20と、ギヤ部30とが設けられている。ガラス基板保持孔20の内部に、研磨対象であるガラス基板が収納されることにより、ガラス基板保持孔20の内壁がガラス基板の外周側端面を保持する。
ギヤ部30はガラス基板用キャリア10の外周部に沿って設けられた複数の歯を有する。ガラス基板用キャリア10は、遊星歯車機構を備えた両面研磨装置の太陽歯車(sun gear)と内歯車(outer gear)との間に配置される遊星歯車(planetary gear)となる。
(Carrier for glass substrate)
Here, the glass substrate carrier used in the grinding process or the polishing process (first polishing process, second polishing process) will be described.
FIG. 1 is a plan view of a
As shown in FIG. 1, the
The
図2は図1のII−II矢視断面図であり、図3は図2のIII部の拡大図であり、図4は図2のIV部の拡大図である。
ガラス基板用キャリア10は、ガラス繊維からなるガラスクロス11と、ガラスクロス11に含浸した樹脂材料12とからなる樹脂含浸基板を用いて製造することができる。
ガラスクロス11には、ガラス繊維からなるガラス糸(JIS R3413:2012)を織り上げて製造したガラスクロス(JIS R3414:2012)を用いることができる。ガラス繊維はシリカ(SiO2)を主成分とし、耐風化性、耐久性を維持するために、アルミニウムを成分として含むことが好ましく、アルミナ(Al2O3)を1〜30重量%含むことが好ましい。
2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 1, FIG. 3 is an enlarged view of a portion III in FIG. 2, and FIG. 4 is an enlarged view of a portion IV in FIG.
The
As the
ガラスクロス11に含浸させる樹脂材料12として、熱硬化性樹脂(例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等)を用いることができる。
上述のガラスクロス11に樹脂材料12を含浸させた後、樹脂材料12を乾燥させることで得られるプリプレグを積層し、圧着させることで、ガラス基板用キャリア10の材料となる樹脂含浸基板が得られる。このような樹脂含浸基板として、例えば、ガラス繊維強化プラスチック(JIS K7051:1987)を用いることができる。
As the
After impregnating the above-mentioned
ガラス基板保持孔20の内壁面には、図3に示すように、凹部21が設けられている。凹部21は、切削加工により樹脂含浸基板に作成したガラス基板保持孔20の内壁面に露出したガラス繊維をエッチングすることにより形成される。ガラス基板保持孔20の内壁面に凹部21が設けられることで、ガラスクロス11を構成するガラス繊維に対して樹脂材料12がガラス基板保持孔20の内壁面側に突出し、ガラス基板保持孔20に保持されるガラス基板の外周側端面に樹脂材料12が当接するため、ガラス基板がガラス繊維により傷つけられるおそれがない。
As shown in FIG. 3, a
また、図4に示すように、ギヤ部30の外周面に凹部31が設けられていてもよい。凹部31は、切削加工により樹脂含浸基板に作成したギヤ部30の外壁面に露出したガラス繊維をエッチングすることにより形成することができる。ギヤ部30の外壁面に凹部31が設けられていると、ガラスクロス11を構成するガラス繊維に対して樹脂材料12がギヤ部30の外壁面側に突出し、太陽歯車および内歯車に樹脂材料12が当接するため、太陽歯車および内歯車がガラス繊維により傷つけられるおそれがない。
Further, as shown in FIG. 4, a
ガラス基板用キャリア10を研削処理や研磨処理に繰り返し用いると、ガラス基板用キャリア10の主表面の特に樹脂部分が摩耗し、ガラスクロス11を構成するガラス繊維が露出する。そして、露出したガラス繊維部分が定盤に備えられた研磨パッドや研削パッドと接触すると、ガラス繊維の一部がちぎれて脱離する。研削処理や研磨処理においてガラス繊維が脱離すると、処理後のガラス基板の表面に脱離したガラス繊維が異物として付着したり、脱離したガラス繊維によってガラス基板の表面が傷つけられたりするおそれがある。このため、本発明の実施形態においては、ガラス基板用キャリア10の主表面に露出したガラス繊維の脱離を防ぐために、研磨処理を所定の回数行う毎に、以下のエッチング処理を行う。
When the
この「所定の回数」は、研削処理や研磨処理にガラス基板用キャリア10を繰り返し用いることで、ガラス繊維が露出する程度の回数か、それ以下の回数である。このため、「所定の回数」は研削や研磨の条件により適宜変更される。例えば1回1時間の研磨処理を100回行った後にエッチング処理を行ってもよいし、1回2時間の研磨処理を50回行った後にエッチング処理を行ってもよい。すなわち、ガラス繊維が露出する程度の所定時間の研削処理や研磨処理を行った後にガラス基板用キャリア10のエッチング処理を行ってもよい。
The “predetermined number of times” is the number of times that the glass fiber is exposed by repeatedly using the
〔エッチング処理〕
エッチング処理は、例えば、ガラス基板用キャリア10を所定の時間、エッチング液に浸漬することにより行う。エッチング液は、特に限定されないが、フッ酸を含むものが好ましく、フッ化アンモニウム(NH4F)やフッ化水素アンモニウム(NH5F2)等を含んでいてもよい。また、フッ酸と、硫酸、硝酸等の強酸を混合した混酸をエッチング液に用いてもよい。
[Etching treatment]
The etching process is performed, for example, by immersing the
図5はエッチング処理後のガラス基板用キャリア10を示す部分断面図である。図5に示すように、ガラス基板用キャリア10の主表面から露出したガラス繊維がエッチング処理において除去されることにより、ガラス基板用キャリア10の主表面に凹部41が形成されている。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing the
〔除去処理〕
なお、ガラス基板用キャリア10のガラスクロス11を構成するガラス繊維がアルミニウムを成分として含み、エッチング溶液がフッ酸を含む場合、ガラス繊維のエッチング処理を行うことで、フッ化アルミン酸塩の結晶がガラス基板用キャリア10の表面に析出するおそれがある。フッ化アルミン酸塩の結晶はエッチングによりガラス基板用キャリア10の表面に形成される凹部に詰まりやすく、除去が困難である。フッ化アルミン酸塩の結晶は鋭利な外形を有しており、この析出物が付着したままのガラス基板用キャリア10を研削や研磨の加工に用いると、この析出物が徐々に脱離し、ガラス基板に傷をつけるおそれがある。このため、あらかじめフッ化アルミン酸塩をガラス基板用キャリアから除去する除去処理を行うことが好ましい。以下、除去処理について説明する。
ここで、ガラス繊維のエッチング処理により生じるフッ化アルミン酸塩として、例えば、Li3AlF6、Na3AlF6、Li3Na3(AlF6)2等が挙げられる。
[Removal processing]
In addition, when the glass fiber which comprises the
Here, examples of the fluorinated aluminate generated by etching the glass fiber include Li 3 AlF 6 , Na 3 AlF 6 , and Li 3 Na 3 (AlF 6 ) 2 .
一般に、フッ化アルミン酸塩は、フッ酸、硫酸、硝酸等の混酸や、強塩基に対しても難溶又は不溶である。しかし、フッ化アルミン酸塩は、金属イオンを含む酸性の電解質溶液に対しては可溶である。このような、金属イオンを含む酸性の電解質溶液に、エッチング処理後のガラス基板用キャリア10を浸漬することにより、フッ化アルミン酸塩を溶解させ、ガラス基板用キャリア10の表面から除去することができる。
In general, fluoroaluminates are hardly soluble or insoluble in mixed acids such as hydrofluoric acid, sulfuric acid, and nitric acid, and strong bases. However, the fluoroaluminate is soluble in an acidic electrolyte solution containing metal ions. By immersing the
この「金属イオン」は特に限定されないが、例えば鉄イオンやアルミニウムイオンを含む酸性の水溶液にフッ化アルミン酸塩が溶解することが確認されている。特にフッ化アルミン酸塩の溶解速度の観点から、「金属イオン」はアルミニウムイオンであることが好ましい。
酸性の電解質溶液に含まれる金属以外のイオンは特に限定されないが、フッ化アルミン酸塩の溶解度の観点から、硫酸イオンや硝酸イオンであることが好ましい。特に、樹脂含浸基板の樹脂材料を溶解させないという点で、硫酸イオンであることが好ましい。
したがって、金属イオンを含む酸性の電解質溶液は、硫酸アルミニウム水溶液又は硝酸アルミニウム水溶液であることが好ましく、硫酸アルミニウム水溶液であることがより好ましい。
This “metal ion” is not particularly limited, but it has been confirmed that a fluoroaluminate is dissolved in an acidic aqueous solution containing, for example, iron ions and aluminum ions. In particular, from the viewpoint of the dissolution rate of the fluoroaluminate, the “metal ion” is preferably an aluminum ion.
Ions other than the metal contained in the acidic electrolyte solution are not particularly limited, but are preferably sulfate ions or nitrate ions from the viewpoint of the solubility of the fluorinated aluminate. In particular, sulfate ions are preferable in that the resin material of the resin-impregnated substrate is not dissolved.
Therefore, the acidic electrolyte solution containing metal ions is preferably an aluminum sulfate aqueous solution or an aluminum nitrate aqueous solution, and more preferably an aluminum sulfate aqueous solution.
なお、フッ化アルミン酸塩を機械的に除去してもよい。例えば、ガラス基板保持孔20の内壁面やギヤ部30の外壁面を、ブラシやスポンジ等により研磨することで、フッ化アルミン酸塩を除去してもよい。
The fluorinated aluminate may be removed mechanically. For example, the fluoroaluminate may be removed by polishing the inner wall surface of the glass
以上の処理を行ったガラス基板用キャリア10は、摩耗により表面に突出したガラス繊維が除去されているため、このガラス基板用キャリア10を用いてガラス基板の研磨処理を行うことで、脱離したガラス繊維による異物や傷が少ないガラス基板を製造することができる。
The
このような磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板用キャリア10から脱離したガラス繊維が異物としてガラス基板に付着したり、脱離したガラス繊維によりガラス基板が傷つかないため、欠陥の少ないガラス基板を得ることができる。
According to such a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, the glass fiber detached from the
〔実施例1〕
樹脂含浸基板として、フェノール樹脂およびエポキシ樹脂を混合してなる樹脂材料をガラスクロスに含浸させ、乾燥、硬化して得られるプリプレグを積層し、圧着して得られるガラス繊維強化プラスチック(JIS K7051:1987)を、ガラス基板用キャリアに用いた。
[Example 1]
As a resin impregnated substrate, a glass fiber reinforced plastic (JIS K7051: 1987) obtained by impregnating a glass cloth with a resin material obtained by mixing a phenol resin and an epoxy resin, laminating a prepreg obtained by drying and curing, and laminating and pressing. ) Was used as a carrier for glass substrates.
〔エッチング処理〕
ガラス基板用キャリアを用いて1回1時間の研磨処理を100回行った後、研磨処理に用いたガラス基板用キャリアをフッ酸(HF)1wt%、硫酸2wt%のエッチング溶液に30分浸漬し、エッチング処理を行った。
[Etching treatment]
After 100 times of polishing treatment for one hour using a glass substrate carrier, the glass substrate carrier used for the polishing treatment is immersed in an etching solution of 1 wt% hydrofluoric acid (HF) and 2 wt% sulfuric acid for 30 minutes. Etching was performed.
〔研磨処理〕
エッチング処理を行った後のガラス基板用キャリアを水で洗浄した後、得られたガラス基板用キャリアのガラス基板保持孔に上記の第2研磨前まで実施したガラス基板を挿入し、ガラス基板用キャリアおよびガラス基板を両面研磨装置の上定盤および下定盤の間に狭持させ、第2研磨を実施した。上定盤と下定盤との間に遊離砥粒を供給しながら上定盤および下定盤とガラス基板とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を1時間研磨し、100枚のガラス基板をサンプルとして得た。
[Polishing treatment]
After the glass substrate carrier after the etching treatment is washed with water, the glass substrate carried out before the second polishing is inserted into the glass substrate holding hole of the obtained glass substrate carrier, and the glass substrate carrier is inserted. The glass substrate was sandwiched between the upper surface plate and the lower surface plate of the double-side polishing apparatus, and the second polishing was performed. While supplying loose abrasive grains between the upper surface plate and the lower surface plate, the upper surface plate, the lower surface plate, and the glass substrate are relatively moved to polish both main surfaces of the glass substrate for 1 hour, 100 sheets A glass substrate was obtained as a sample.
〔実施例2〕
実施例1と同様にエッチング処理を行った後のガラス基板用キャリアを水で洗浄した後、硫酸アルミニウム水溶液に浸漬し、フッ化アルミン酸塩の除去処理を行った。その後、硫酸アルミニウム水溶液からガラス基板用キャリアを取り出し、水で洗浄した。
上記のガラス基板用キャリアを用いて、実施例1と同様に研磨処理を行い、100枚のガラス基板をサンプルとして得た。
[Example 2]
The glass substrate carrier after performing the etching treatment in the same manner as in Example 1 was washed with water and then immersed in an aqueous aluminum sulfate solution to remove the fluoroaluminate. Thereafter, the glass substrate carrier was taken out of the aluminum sulfate aqueous solution and washed with water.
Using the glass substrate carrier, polishing treatment was performed in the same manner as in Example 1 to obtain 100 glass substrates as samples.
〔比較例〕
1回1時間の研磨処理を100回行った後、研磨処理に用いたガラス基板用キャリアを用いて、実施例1と同様に研磨処理を行い、100枚のガラス基板をサンプルとして得た。
[Comparative Example]
After 100 times of polishing treatment for 1 hour at a time, polishing treatment was performed in the same manner as in Example 1 using the glass substrate carrier used for polishing treatment, and 100 glass substrates were obtained as samples.
<ガラス基板の主表面上のスクラッチ>
研磨処理後の100枚のガラス基板の主表面をレーザー式の表面欠陥検査装置を用いて検査し、スクラッチが存在するガラス基板の数を計測した。
結果を表1に示す。
<Scratch on the main surface of the glass substrate>
The main surfaces of 100 glass substrates after the polishing treatment were inspected using a laser-type surface defect inspection apparatus, and the number of glass substrates on which scratches were present was measured.
The results are shown in Table 1.
比較例では17枚のガラス基板でスクラッチが発見されたのに対し、実施例1ではスクラッチが発見されたガラス基板は5枚であった。ガラス基板用キャリアのエッチング処理を行うことで、ガラス基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を除去することができ、ガラス基板用キャリアから脱離したガラス繊維が異物としてガラス基板に付着することや、異物によりガラス基板に傷がつくことを防ぐことができることが分かる。 In the comparative example, scratches were found on 17 glass substrates, whereas in Example 1, there were 5 glass substrates on which scratches were found. The glass fiber exposed from the main surface of the glass substrate carrier can be removed by etching the glass substrate carrier, and the glass fiber detached from the glass substrate carrier adheres to the glass substrate as a foreign substance. It can also be seen that the foreign substance can prevent the glass substrate from being damaged.
さらに、実施例2ではスクラッチが発見されたガラス基板は0枚であった。硫酸アルミニウム水溶液によりフッ化アルミン酸塩の除去処理を行うことで、ガラス基板用キャリアに析出したフッ化アルミン酸塩の量を減らすことができ、フッ化アルミン酸塩によるスクラッチを防ぐことができることが分かる。 Furthermore, in Example 2, the number of glass substrates on which scratches were found was zero. By removing the fluoroaluminate with an aqueous aluminum sulfate solution, the amount of the fluoroaluminate deposited on the glass substrate carrier can be reduced, and scratches caused by the fluoroaluminate can be prevented. I understand.
以上、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態及び実施例に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。 As mentioned above, although the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs of this invention was demonstrated in detail, this invention is not limited to the said embodiment and Example, In the range which does not deviate from the main point of this invention, various improvement and a change are carried out. Of course.
10 ガラス基板用キャリア
11 ガラスクロス
12 樹脂材料
20 ガラス基板保持孔
21 凹部
30 ギヤ部
31 凹部
41 凹部
10
Claims (9)
ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなる円板形状の基板用キャリアに設けられた基板保持孔に、円板形状の基板を保持させた状態で、前記円板形状の基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記円板形状の基板の主表面を研削する研削処理又は前記主表面を研磨する研磨処理と、
前記研削処理又は研磨処理によって前記円板形状の基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、エッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、
を有する、円板形状の基板の製造方法。 A method of manufacturing a disk-shaped substrate,
In a state where a disk-shaped substrate is held in a substrate holding hole provided in a disk-shaped substrate carrier made of a resin material impregnated with a plurality of glass cloths made of glass fibers and the plurality of glass cloths, a polishing treatment is held, to polish the grinding process or said main surface grinding the main surface of the substrate of the disc-shaped between the upper platen and the lower platen of the substrate of the disc-shaped,
Etching treatment that etches the glass fiber exposed from the main surface of the disk-shaped substrate carrier by the grinding treatment or polishing treatment with an etching solution;
A method of manufacturing a disk-shaped substrate having:
前記エッチング溶液はフッ酸を含み、
前記エッチング処理により生じたフッ化アルミン酸塩を除去する除去処理をさらに有する、請求項1に記載の円板形状の基板の製造方法。 The glass fiber contains aluminum as a component,
The etching solution includes hydrofluoric acid;
The manufacturing method of the disk-shaped board | substrate of Claim 1 which further has the removal process which removes the fluoroaluminate produced by the said etching process.
ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなる円板形状の基板用キャリアに設けられた基板保持孔に、円板形状の基板の外周端面を保持させた状態で、前記円板形状の基板用キャリアおよび前記円板形状の基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記円板形状の基板の主表面を研削する研削処理又は前記主表面を研磨する研磨処理と、
前記研削処理又は研磨処理を複数回行う毎に、前記研削処理又は研磨処理を複数回行うことによって前記円板形状の基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、エッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、を含む、円板形状の基板の製造方法。 A method of manufacturing a disk-shaped substrate,
A plurality of glass cloths made of glass fibers and a substrate holding hole provided in a disk-shaped substrate carrier made of a resin material impregnated in the plurality of glass cloths, the outer peripheral end face of the disk-shaped substrate was held. In the state, the disk-shaped substrate carrier and the disk-shaped substrate are held between an upper surface plate and a lower surface plate, and a grinding process for grinding the main surface of the disk-shaped substrate or the main surface a polishing process for polishing,
Every a plurality of times the grinding treatment or polishing treatment, the glass fiber exposed from the main surface of the carrier substrate of the disc-shaped by a plurality of times the grinding treatment or polishing treatment, etching treatment for etching with an etching solution And a method for manufacturing a disk-shaped substrate.
前記キャリアは、ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなり、The carrier is composed of a plurality of glass cloths made of glass fibers and a resin material impregnated in the plurality of glass cloths,
前記キャリアには、前記円板形状の基板を保持する基板保持孔が設けられ、The carrier is provided with a substrate holding hole for holding the disk-shaped substrate,
前記キャリアの主表面には、前記キャリアの主表面において露出したガラス繊維がエッチングされてなる前記主表面の凹部が設けられている、ことを特徴とする研削又は研磨用キャリア。A grinding or polishing carrier characterized in that a main surface of the carrier is provided with a concave portion of the main surface formed by etching glass fibers exposed on the main surface of the carrier.
前記ギア部の外壁面には、前記キャリアの外壁面において露出したガラス繊維がエッチングされてなる前記外壁面の凹部が設けられている、請求項7又は8に記載の研削又は研磨用キャリア。The grinding or polishing carrier according to claim 7 or 8, wherein a concave portion of the outer wall surface is formed on the outer wall surface of the gear portion by etching glass fibers exposed on the outer wall surface of the carrier.
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