JP6164982B2

JP6164982B2 - 発光装置

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Publication number: JP6164982B2
Application number: JP2013176091A
Authority: JP
Inventors: 幸二藤田; 真滋中嶋
Original assignee: Tohoku Pioneer Corp; Pioneer Corp
Current assignee: Tohoku Pioneer Corp; Pioneer Corp
Priority date: 2013-08-27
Filing date: 2013-08-27
Publication date: 2017-07-19
Anticipated expiration: 2033-08-27
Also published as: JP2015046263A

Description

本発明は、発光装置に関する。

発光装置の光源の一つとして、有機ＥＬ（Electroluminescence）素子が用いられるようになっている。有機ＥＬ素子は、基板上に、第１電極、有機層、及び第２電極をこの順に積層させた構造を有している。そして、隣り合う有機ＥＬ素子の間で第２電極を分離するために、これら有機ＥＬ素子の間に隔壁を設ける場合がある。

また、有機ＥＬ素子を可撓性の基板に形成した場合、発光装置に可撓性を持たせることができる。一方、特許文献１には、隔壁を有する有機ＥＬパネルに可撓性を持たせた場合、隔壁が応力を受けて破損することが記載されている。これに対して特許文献１では、隔壁を隔壁の延在方向に複数に分割し、かつこれら隔壁を千鳥状に配置することが記載されている。

特開２０１０−８６７０４号公報

有機ＥＬ素子を有する発光装置に可撓性を持たせた場合、発光装置が一定の方向に曲げられた状態を維持したまま使用されることがある。本発明者は、このような使用態様において、隔壁に応力が加わらないようにする構造を検討した。

本発明が解決しようとする課題としては、発光装置が一定の方向に曲げられた状態を維持したまま使用される場合において、隔壁に応力が加わらないようにすることが一例として挙げられる。

請求項１に記載の発明は、第１の方向に湾曲している基板と、
前記基板の第１面側に形成され、前記第１の方向に対して４５°以上の角度で交わる方向に延在している複数の隔壁と、
前記基板の前記第１面側に形成されており、前記複数の隔壁の間に位置する有機ＥＬ素子と、
を備える発光装置である。

実施形態に係る発光装置の構成を示す平面図である。図１のＡ−Ａ断面図である。図２の変形例を示す図である。実施例１に係る発光装置の平面図である。図４のＢ−Ｂ断面図である。図４のＣ−Ｃ断面図である。図４のＤ−Ｄ断面図である。実施例２に係る発光装置の構成を示す断面図である。実施例３に係る発光装置の構成を示す平面図である。

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。

図１は、実施形態に係る発光装置１０の構成を示す平面図である。図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。実施形態に係る発光装置１０は、基板１００、複数の隔壁１７０、及び有機ＥＬ素子１０１を備えている。図２に示すように、基板１００は可撓性を有しており、第１の方向（図１におけるＸ方向）に湾曲している。複数の隔壁１７０は、基板１００の第１面側に形成されており、いずれも第１の方向に対して４５°以上９０°以下の角度で交わる方向に延在している。本図に示す例では、複数の隔壁１７０は、第１の方向に対して直交する方向（図１におけるＹ方向）に延在している。そして有機ＥＬ素子１０１は、基板１００の第１面側に形成されており、複数の隔壁１７０の間に設けられている。

基板１００は、例えば薄いガラス基板であるが、樹脂基板であっても良い。そして隔壁１７０は、例えば、レジスト材料やポリイミドなどの感光性の絶縁材料によって形成されていても良いし、ＳｉＯ_２などの絶縁材料によって形成されていても良い。

基板１００は、第１の方向に湾曲している。このため、図２に示すように、第１の方向における基板１００の両端を含む平面Ｓに対して、隔壁１７０は、その隔壁１７０よりも基板１００の中心側に位置する隔壁１７０よりも高さ方向（図中Ｚ方向）において傾いている。その結果、平面Ｓに対して、第１の方向における基板１００の端部に最も近い隔壁１７０（例えば図中両端の隔壁１７０）は、第１の方向における基板１００の中心に最も近い隔壁１７０よりも傾いている。

また、本図に示す例において、基板１００は矩形である。そして基板１００は、第１辺、例えば長辺に沿う方向に湾曲している。そして、隔壁１７０は、基板１００の第１辺に直交する方向、例えば短辺に平行な方向に延在している。

なお、図２に示す例において、発光装置１０は、基板１００の第１面側が凸になる方向に湾曲している。ただし、図３に示すように、発光装置１０は、基板１００の第１面側が凹になる方向に湾曲していても良い。

以上、本実施形態によれば、隔壁１７０は、基板１００が湾曲している方向に対して４５°以上の角度で交わる方向に延在している。このため、隔壁１７０と基板１００の間において、隔壁１７０に加わる曲げ応力は小さくなる。特に隔壁１７０の延在方向が基板１００の湾曲方向に直交している場合、隔壁１７０に加わる曲げ応力は特に小さくなる。

（実施例１）
図４は、実施例１に係る発光装置１０の平面図である。図５は、図４のＢ−Ｂ断面図であり、図６は図４のＣ−Ｃ断面図であり、図７は図４のＤ−Ｄ断面図である。なお、図４において、引出配線は、分かりやすくするために大きく示されている。

発光装置１０は、例えばディスプレイである。発光装置１０は、基板１００、第１電極１１０、絶縁層１２０、複数の第１開口１２２、複数の第２開口１２４、複数の引出配線１３０、有機層１４０、第２電極１５０、複数の引出配線１６０、及び複数の隔壁１７０を有している。有機ＥＬ素子１０１は、有機層１４０を第１電極１１０及び第２電極１５０で挟んだ構成を有している。基板１００は、例えば膜厚が０．０３ｍｍ以上０．３ｍｍ以下のガラス基板である。このため、発光装置１０は可撓性を有している。

第１電極１１０は、基板１００の第１面側に形成され、第１方向（図４におけるＸ方向）にライン状に延在している。第１電極１１０は、例えばＩＴＯ（Indium Thin Oxide）やＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）などの無機材料、またはポリチオフェン誘導体などの導電性高分子によって形成された透明電極である。第１電極１１０は、光が透過する程度に薄い金属薄膜であっても良い。そして第１電極１１０の端部は、引出配線１３０に接続している。

引出配線１３０は、第１電極１１０と駆動ＩＣなどの電気部品を含む外部とを接続する配線である。引出配線１３０は、例えば、酸化導電材料であるＩＴＯ、ＩＺＯ、Ａｌ、Ｃｒ、又はＡｇなどの金属材料又は合金で構成される金属配線であるが、金属以外の導電性材料によって形成された配線であっても良い。また、引出配線１３０は複数の層が積まれた積層構造を備えていても良い。例えば引出配線１３０は、ＮｉとＭｏの合金層、ＭｏとＮｂの合金層、Ａｌ層、及びＮｉとＭｏの合金層をこの順に積層した構成を有していても良い。また引出配線１３０は、ＮｉとＮｂの合金層、ＡｌとＮｄの合金層、及びＭｏとＮｂの合金層をこの順に積層した構成を有していても良い。

図４に示す例では、引出配線１３０は引出配線１３２の上に形成されている。引出配線１３２は、第１電極１１０と同種の材料によって形成されており、かつ第１電極１１０と一体になっている。言い換えると、第１電極１１０の端部が有機ＥＬ素子１０１の外部に引き出されて引出配線１３２となっている。

絶縁層１２０は、図４〜図６に示すように、複数の第１電極１１０上及びその間の領域に形成されている。絶縁層１２０は、ポリイミド系樹脂などの感光性の樹脂であり、露光及び現像されることによって、所望のパターンに形成されている。絶縁層１２０としては、例えば、ポジ型の感光性樹脂が用いられる。なお、絶縁層１２０はポリイミド系樹脂以外の樹脂、例えばエポキシ系樹脂やアクリル系樹脂であっても良い。

絶縁層１２０には、複数の第１開口１２２及び複数の第２開口１２４が形成されている。第１開口１２２は、平面視で第１電極１１０と第２電極１５０の交点に位置している。複数の第１開口１２２は、所定の間隔を空けて設けられている。そして、複数の第１開口１２２は、第１電極１１０が延在する方向に並んでいる。また、複数の第１開口１２２は、第２電極１５０の延在方向にも並んでいる。このため、複数の第１開口１２２はマトリクスを構成するように配置されていることになる。

第２開口１２４は、平面視で複数の第２電極１５０のそれぞれの一端に位置している。また第２開口１２４は、第１開口１２２が構成するマトリクスの一辺に沿って配置されている。そしてこの一辺に沿う方向（例えば図４におけるＸ方向）で見た場合、第２開口１２４は、第１電極１１０に沿う方向において、所定の間隔で配置されている。第２開口１２４からは、引出配線１６０又は引出配線１６０の一部分が露出している。

なお、第１開口１２２を有する絶縁層１２０と、第２開口１２４を有する絶縁層１２０は同一の材料で形成してもよいし、異なる材料で形成してもよい。また、第１開口１２２を有する絶縁層１２０に対して基板１００の外周部側に、第２開口１２４を有する絶縁層１２０を形成してもよい。また、第１開口１２２を有する絶縁層１２０と第２開口１２４を有する絶縁層１２０は連続する層であってもよく、分離した層（分断している）であってよい。

第１開口１２２と重なる領域には、有機層１４０が形成されている。有機層１４０は、例えば、正孔輸送層、発光層、及び電子輸送層を積層したものである。正孔輸送層は第１電極１１０に接しており、電子輸送層は第２電極１５０に接している。このようにして、有機層１４０は第１電極１１０と第２電極１５０の間で挟持されている。

なお、第１電極１１０と正孔輸送層との間には正孔注入層が形成されても良いし、第２電極１５０と電子輸送層との間には電子注入層が形成されてもよい。また、上記した各層の全てが必要ということではない。例えば電子輸送層内でホールと電子の再結合が生じている場合、電子輸送層が発光層の機能を兼ねているため、発光層は不要となる。また、これら第１電極１１０、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、及び第２電極１５０のうち、少なくとも１つは、インクジェット法などの塗布法を用いて形成されていても良い。また、有機層１４０と第２電極１５０との間には、ＬｉＦなどの無機材料で構成される電子注入層を設けても構わない。

なお、図５及び図７に示す例では、有機層１４０を構成する各層は、いずれも第１開口１２２の外側まではみ出している場合を示している。そして図７に示すように、有機層１４０を構成する各層は、隔壁１７０が延在する方向において、隣り合う第１開口１２２の間にも連続して形成されていてもよいし、連続して形成していなくてもよい。ただし、図６に示すように、有機層１４０は、第２開口１２４には形成されていない。

第２電極１５０は、図４〜図６に示すように、有機層１４０より上に形成され、第１方向と交わる第２方向（図４におけるＹ方向）に延在している。第２電極１５０は、有機層１４０に電気的に接続している。例えば第２電極１５０は、有機層１４０上に形成されていても良いし、有機層１４０の上に形成された導電層の上に形成されていても良い。第２電極１５０は、例えばＡｇやＡｌなどの金属材料で形成された金属層、又はＩＺＯなどの酸化導電材料で形成された層である。発光装置１０は、互いに平行な複数の第２電極１５０を有している。一つの第２電極１５０は、複数の第１開口１２２上を通過する方向に形成されている。また、第２電極１５０は引出配線１６０に接続している。図示の例では、第２電極１５０の端部が第２開口１２４上に位置することにより、第２開口１２４において第２電極１５０と引出配線１６０は接続している。

図４の例では、引出配線１６０の下には引出配線１６２が形成されている。図４に示す例では、引出配線１６２の幅は、引出配線１６０の幅に対して大きいが、小さくてもよい。引出配線１６０，１６２は、基板１００の第１面側のうち第１電極１１０及び引出配線１３０、１３２が形成されていない領域に形成されている。引出配線１６０は、例えば引出配線１３０と同時に形成されてもよいし、引出配線１３０とは別工程で形成されてもよい。同様に、引出配線１６２は、例えば引出配線１３２と同時に形成してもよいし、引出配線１３２とは別工程で形成されてもよい。

引出配線１６２は、第１電極１１０を構成する材料と同種の又は異なる材料で形成されている。ここで同種の材料の例としては、第１電極１１０が酸化導電材料であるＩＴＯで形成されている場合、第１電極１１０を構成するＩＴＯと同一又は異なる組成のＩＴＯ、又はＩＺＯなどの酸化導電材が挙げられる。また異なる材料の例として、Ａｌ等の金属材料などが挙げられる。

引出配線１６０の一端側（発光部側）の一部分は、第２開口１２４にて露出している。そして第２開口１２４において、第２電極１５０は引出配線１６０に接続している。また、引出配線１６０の他端側（基板の外周部側）の一部分は、絶縁層１２０の外側に引き出されている。すなわち、引出配線１６０の他端側は、絶縁層１２０から露出している。

隣り合う第２電極１５０の間には、隔壁１７０が形成されている。隔壁１７０は、第２電極１５０と平行すなわち第２の方向に延在している。隔壁１７０の下地は、例えば絶縁層１２０である。隔壁１７０は、例えばポリイミド系樹脂などの感光性の樹脂であり、露光及び現像されることによって、所望のパターンに形成されている。隔壁１７０は、例えばネガ型の感光性樹脂を用いて形成される。なお、隔壁１７０はポリイミド系樹脂以外の樹脂、例えばエポキシ系樹脂やアクリル系樹脂、二酸化珪素等の無機材料で構成されていても良い。

隔壁１７０は、断面が台形の上下を逆にした形状（逆台形）になっている。すなわち隔壁１７０の上面の幅は、隔壁１７０の下面の幅よりも大きい。このため、隔壁１７０を第２電極１５０より前に形成しておくと、蒸着法やスパッタリング法を用いて、基板の第１面側に第２電極１５０を一面に形成することで、複数の第２電極１５０を一括で形成することができる。一面に形成した第２電極１５０は、隔壁１７０により分断されるため、複数の第２電極１５０が有機層１４０の上に設けられることになる。第２電極１５０が分断される位置は、例えば、隔壁１７０の下地である絶縁層１２０上、又は隔壁１７０の側面などが挙げられる。そして隔壁１７０の延在方向を変えることにより、第２電極１５０をストライプ形状、ドット形状、アイコン状、曲線などの自由な形状にパターニングできる。なお、隔壁１７０の上には、第２電極１５０と同様の材料からなる導電層１５２が形成されている。

また、有機層１４０を塗布材料で構成する場合、複数の第１開口１２２に塗布材料を塗布することで有機層１４０は形成される。塗布材料を複数の第１開口１２２に塗布した際、隔壁１７０は、隔壁１７０の両側にある第１開口１２２に塗布された塗布材料が互いに繋がって、隔壁１７０の一方の側にある第１開口１２２から他方の側にある第１開口１２２にかけて、有機層１４０が連続することを防止する機能を有していても構わない。この場合、隔壁１７０は、有機層１４０より前に形成されている。

第２電極１５０より上には、封止膜２１０が形成されている。発光装置１０は、有機ＥＬ素子１０１及び隔壁１７０を封止している。封止膜２１０は、酸化物から構成された層、例えば酸化アルミニウム膜を少なくとも有している。封止膜２１０は単層構造であっても良いし、複数の金属酸化膜を積層させた構造であっても良い。封止膜２１０は、例えば酸化アルミニウム膜であり、例えばＡＬＤ（Atomic Layer Deposition）法を用いて形成されている。本図に示す例では、第２電極１５０の上に封止膜２１０が形成されているが、第２電極１５０と封止膜２１０の間に他の膜が存在していても良い。封止膜２１０の膜厚は、例えば１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。ＡＬＤ法により成膜された膜は段差被覆性が高い。ここで、段差被覆性とは、段差がある部分における膜厚の均一性のことをいう。段差被覆性が高いとは、段差がある部分においても膜厚の均一性が高いことであり、段差被覆性が低いとは、段差がある部分において膜厚の均一性が低いことである。なお、封止膜２１０は、ＡＬＤ法以外の成膜法、例えばＣＶＤ法を用いて形成されても良い。

封止膜２１０は、図４に示すように、絶縁層１２０、引出配線１６０、及び引出配線１３０を覆っている。そして封止膜２１０のうち引出配線１３０の上に位置する部分、及び引出配線１６０の上に位置する部分には、開口２１２が形成されている。開口２１２は、引出配線１３０及び引出配線１６０が外部に電気的に接続するために設けられている。

次に、発光装置１０の製造方法について説明する。まず、基板１００を支持基板上に配置した物を準備する。この支持基板は、例えばガラスによって形成されている。

次いで、基板１００上に第１電極１１０となる導電層を形成し、この導電層をエッチング（例えばドライエッチング又はウェットエッチング）などを利用し、選択的に除去する。これにより、基板１００上には、第１電極１１０、引出配線１３２，１６２が形成される。

次いで、基板１００上、第１電極１１０上、及び引出配線１３２，１６２上に、引出配線１３０，１６０となる導電層を形成し、この導電層をエッチング（例えばドライエッチング又はウェットエッチング）などを利用し、選択的に除去する。これにより、引出配線１３０，１６０が形成される。

次いで、基板１００上、第１電極１１０上、及び引出配線１３０，１６０上に絶縁層を形成し、この絶縁層をエッチング（例えばドライエッチング又はウェットエッチング）などを利用し、選択的に除去する。これにより、絶縁層１２０、第１開口１２２、及び第２開口１２４が形成される。例えば絶縁層１２０がポリイミドで形成されている場合、絶縁層１２０には加熱処理が行われる。これにより、絶縁層１２０のイミド化が進む。

次いで、絶縁層１２０上に隔壁１７０となる絶縁膜を形成し、この絶縁膜をエッチング（例えばドライエッチング又はウェットエッチング）など利用し、選択的に除去する。これにより、隔壁１７０が形成される。隔壁１７０が感光性の絶縁膜で形成される場合、露光及び現像時の条件を調節することにより、隔壁１７０の断面形状を逆台形にすることができる。

隔壁１７０がネガ型レジストである場合、このネガ型レジストは、露光光源から照射光が照射された部分が硬化する。そして、このネガ型レジストのうち未硬化部分を現像液で溶解除去することにより、隔壁１７０が形成される。

次いで、第１開口１２２内に有機層１４０となる各層を順に形成する。これらの層のうち少なくとも正孔注入層は、例えばスプレー塗布、ディスペンサー塗布、インクジェット、又は印刷などの塗布法を用いて形成される。この場合、第１開口１２２内に塗布材料が入り込み、この塗布材料が乾燥することにより、上記した各層が形成される。塗布法で用いられる塗布材料としては、高分子材料、高分子材料中に低分子材料を含んだものなどが適している。塗布材料としては、例えば、ポリアルキルチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、トリフェニルアミン、無機化合物のゾルゲル膜、ルイス酸を含む有機化合物膜、導電性高分子などを利用することができる。なお、有機層１４０のうち残りの層（例えば電子輸送層）は、蒸着法により形成される。ただしこれらの層も、上記した塗布法のいずれかを用いて形成されても良い。

次いで、有機層１４０上に第２電極１５０を、例えば蒸着法やスパッタリング法を用いて形成する。このとき、隔壁１７０の上面には導電層１５２が形成される。

なお、有機層１４０以外の層、例えば第１電極１１０、絶縁層１２０、引出配線１３０、引出配線１６０、第２電極１５０、及び隔壁１７０の少なくとも一つも、上記した塗布法のいずれかを用いて形成されても良い。

次いで、封止膜２１０を、ＡＬＤ法を用いて形成し、さらに封止膜２１０に開口２１２を形成する。

その後、基板１００を支持基板から取り外す。その後、基板１００を、隔壁１７０が延在する方向と４５°以上の角度で交わる方向（例えば直交する方向）に湾曲させる。このようにして、発光装置１０が形成される。

以上、本実施例によっても、隔壁１７０は、基板１００が湾曲している方向に対して４５°以上の角度で交わる方向に延在している。このため、隔壁１７０と基板１００の間において、隔壁１７０に加わる曲げ応力は小さくなる。

また、封止部材ではなく封止膜２１０を用いて有機ＥＬ素子１０１を封止しているため、発光装置１０の可撓性を維持することができる。

特に本実施例では、封止膜２１０としてＡＬＤ法によって製造された膜（例えば酸化アルミニウム膜）を使用しており、基板１００としてガラス基板を使用している。封止膜２１０は隔壁１７０も覆っているため、基板１００を曲げたときに封止膜２１０と基板１００の間で発生する応力は隔壁１７０に加わりやすい。このため、基板１００が湾曲する方向に沿う方向に隔壁１７０を延在させると、隔壁１７０は特に破損しやすい。更に、封止膜２１０のうち隔壁１７０の上部に位置する部分を損傷してしまう恐れがある。これに対して本実施例では、隔壁１７０は、基板１００が湾曲する方向に対して４５°以上９０°以下の角度で交わる方向に延在しているため、上記した条件においても、隔壁１７０や封止膜２１０が破損することを抑制できる。

すなわち、発光装置１０が一定の方向に曲げられた状態を維持したまま使用される場合において、隔壁１７０のような構造物により、基板１００及び封止膜２１０の少なくとも一方が破損する可能性があったため、長寿命の発光装置１０の実現が困難であった。これに対して本実施例による工夫によって、長寿命の発光装置１０を提供できる。

（実施例２）
図８は、実施例２に係る発光装置１０の構成を示す断面図である。本実施例に係る発光装置１０は、第１の方向における隔壁１７０の配置間隔を除いて、実施形態又は実施例１に係る発光装置１０と同様の構成である。

詳細には、基板１００が湾曲している方向（第１の方向）において、隔壁１７０の間隔は、基板１００の中心側に近づくにつれて狭くなっている。その結果、第１の方向における基板１００の端部に最も近い隔壁１７０と、この隔壁１７０の隣に位置する隔壁１７０との間隔は、第１の方向における基板１００の中心に最も近い隔壁１７０と、この隔壁１７０の隣に位置する隔壁１７０の間隔よりも広い。

なお、ある隔壁１７０の間隔と、その隣の隔壁１７０の間隔の差は、常に同一であっても良いし、異なっていても良い。また、いずれかの隔壁１７０の間隔と、その隣の隔壁１７０の間隔は同一であっても良い。

本実施例によっても、隔壁１７０と基板１００の間において、隔壁１７０に加わる曲げ応力は小さくなる。また、隔壁１７０の間隔は、基板１００の中心側に近づくにつれて狭くなっている。言い換えると、有機ＥＬ素子１０１の幅は、基板１００の中心側に近づくにつれて狭くなっている。このため、発光装置１０が湾曲していても、ユーザＵから見た場合における、基板１００の中心側に位置する有機ＥＬ素子１０１の幅と、基板１００の端側に位置する有機ＥＬ素子１０１の幅との差は、小さくなる。

（実施例３）
図９は、実施例３に係る発光装置１０の構成を示す平面図である。本実施例において、発光装置１０は照明装置である。そして、一つの隔壁１７０の間には、一つの有機ＥＬ素子１０１が延在している。言い換えると、発光装置１０はストライプ状の有機ＥＬ素子１０１を複数有している。そして、隣り合う有機ＥＬ素子１０１の間には、隔壁１７０が延在している。なお、本図においては、封止膜２１０の図示を省略している。また、引出配線は、分かりやすくするために大きく示されている。

本図に示す例では、絶縁層１２０は設けられていない。ただし絶縁層１２０は、隔壁１７０の下にのみ設けられていても良い。

また、互いに異なる色（例えば赤、緑、及び青）を発光する有機ＥＬ素子１０１を繰り返し基板１００の上に形成すると、これらの有機ＥＬ素子１０１の発光強度比を制御することにより、発光装置１０に演色性を持たせることができる。

本実施例における発光装置１０の製造方法は、実施例１と同様である。そして、本実施例によっても、隔壁１７０と基板１００の間において、隔壁１７０に加わる曲げ応力は小さくなる。

以上、図面を参照して実施形態及び実施例について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。

１００基板
１０１有機ＥＬ素子
１１０第１電極
１４０有機層
１５０第２電極
１７０隔壁
２１０封止膜

Claims

第１の方向に湾曲している基板と、
前記基板の第１面側に形成され、前記第１の方向に対して４５°以上の角度で交わる方向に延在している複数の隔壁と、
前記基板の前記第１面側に形成されており、前記複数の隔壁の間に位置する有機ＥＬ素子と、
を備え、
隣り合う前記隔壁の間隔は、別の隣り合う前記隔壁の間隔と異なる発光装置。
請求項１に記載の発光装置において、
前記第１の方向における前記基板の端部に最も近い前記隔壁と、当該隔壁の隣に位置する前記隔壁との間隔は、前記第１の方向における前記基板の中心に最も近い前記隔壁と、当該隔壁の隣に位置する前記隔壁の間隔よりも広い発光装置。
請求項１又は２に記載の発光装置において、
前記有機ＥＬ素子は、
第１電極と、
前記第１電極を介して前記第１面とは逆側に位置する第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極の間に位置する有機層と、
を備え、
前記隔壁の上面には、前記第２電極と同様の材料からなる導電層が形成されている発光装置。
請求項１〜３のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記基板は、ガラス基板である発光装置。
請求項１〜４のいずれか一項３に記載の発光装置において、
前記有機ＥＬ素子及び前記隔壁を封止する封止層を備える発光装置。
請求項１〜５のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記第１の方向における前記基板の両端を含む平面に対して、前記第１の方向における前記基板の端部に最も近い前記隔壁は、前記第１の方向における前記基板の中心に最も近い前記隔壁よりも、高さ方向において傾いている発光装置。