JP6170303B2

JP6170303B2 - Reflector and manufacturing method thereof

Info

Publication number: JP6170303B2
Application number: JP2013018686A
Authority: JP
Inventors: 植木　志貴; 志貴植木
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2013-02-01
Filing date: 2013-02-01
Publication date: 2017-07-26
Anticipated expiration: 2033-02-01
Also published as: JP2014149449A

Description

本発明は、フィルムミラーを有する反射体およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a reflector having a film mirror and a manufacturing method thereof.

太陽光の反射装置には、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂塵等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。
しかしながら、ガラス製ミラーを用いる場合、輸送時に破損する問題や、ミラーを設置する架台に高い強度が要求されるため建設費がかさむといった問題があった。
このような問題を解決するために、近年では、ガラス製ミラーを樹脂製反射シート（フィルムミラー）に置き換えることが提案されている。 Conventionally, glass mirrors have been used for sunlight reflecting devices because they are exposed to ultraviolet rays, heat, wind and rain, and dust from sunlight.
However, when a glass mirror is used, there are problems that it is damaged during transportation and that a high strength is required for the mount on which the mirror is installed, resulting in an increase in construction costs.
In order to solve such problems, in recent years, it has been proposed to replace a glass mirror with a resin reflection sheet (film mirror).

例えば、特許文献１には、「樹脂基材上に、構成層として少なくとも、接着層、銀反射層及び保護層がこの順に設けられたフィルムミラーであって、前記樹脂基材、銀反射層及び保護層の光入射側の表面粗さＲａが０．００５〜０．０４μｍであることを特徴とするフィルムミラー。」が記載されており（［請求項１］）、また、このフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置として、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて形成した態様が記載されており（［請求項４］［０１４２］）、更に、この粘着層として、粘着剤、ホットメルト剤等が記載されている（［０１４４］）。 For example, Patent Document 1 discloses that “a film mirror in which at least an adhesive layer, a silver reflective layer, and a protective layer are provided in this order as constituent layers on a resin base material, the resin base material, the silver reflective layer, and The film mirror is characterized in that the surface roughness Ra on the light incident side of the protective layer is 0.005 to 0.04 μm ([Claim 1]), and this film mirror is used. As a reflection device for solar thermal power generation, on the other substrate, particularly on the metal substrate, through the adhesive layer coated on the resin substrate surface opposite to the side having the silver reflecting layer across the resin substrate (4) [0142], and further, as the adhesive layer, an adhesive, a hot melt agent, etc. are described ([0144]. ]).

国際公開第２０１２／０５７００４号International Publication No. 2012/057004

本発明者らは、特許文献１に記載された太陽熱発電用反射装置について検討したところ、粘着層として粘着剤やホットメルト剤を使用した場合であっても、その使用条件や、他基材（特に金属基材）表面の十点平均粗さＲｚ（例えば、０．５０μｍ以上）によっては、フィルムミラーを有する太陽熱発電用反射装置（すなわち反射体）の鏡面性が低下し、拡散光の割合が高くなることが明らかとなった。 When the present inventors examined the solar power generation reflective apparatus described in Patent Document 1, even when a pressure-sensitive adhesive or a hot melt agent was used as the pressure-sensitive adhesive layer, the use conditions and other base materials ( In particular, depending on the ten-point average roughness Rz (for example, 0.50 μm or more) of the surface of the metal substrate), the specularity of the solar power generation reflecting device (that is, the reflector) having the film mirror is lowered, and the ratio of the diffused light It became clear that it would be higher.

そこで、本発明は、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体およびその製造方法を提供することを課題とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a reflector having a film mirror with a small ratio of diffused light and excellent in specularity, and a method for manufacturing the reflector.

本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、接着剤を用いて形成される接着剤層の十点平均粗さＲｚを特定の値以下とすることにより、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体を作製できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の（１）〜（１１）を提供する。 As a result of diligent research to achieve the above-mentioned problems, the present inventor has reduced the ratio of diffused light by setting the ten-point average roughness Rz of an adhesive layer formed using an adhesive to a specific value or less. The present inventors have found that a reflector having a film mirror excellent in specularity can be produced.
That is, the present invention provides the following (1) to (11).

（１）基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体を製造する製造方法であって、
基材の一方の表面に、接着剤を設け、接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、
接着剤層の基材と反対側の表面の十点平均粗さＲｚを低減する表面平滑化工程と、
接着剤層を冷却し、接着剤の粘着力を低減させる冷却工程と、
接着剤層の基材と反対側の表面に、フィルムミラーを重ね合わせ後に加熱・加圧処理を施し、フィルムミラーを有する反射体を作製するフィルミラー形成工程とをこの順に有する反射体の製造方法。
（２）接着剤が、ホットメルト型接着剤であり、
表面平滑化工程が、接着剤層の基材と反対側の表面に、加熱・加圧処理を施す工程である、（１）に記載の反射体の製造方法。
（３）表面平滑化工程における加熱・加圧処理が、下記式（１）に示す温度（Ｔ）条件および下記式（２）に示す圧力（Ｐ）条件を満たす、（２）に記載の反射体の製造方法。
Ｔｍ≦Ｔ≦Ｔｍ＋４０℃ ・・・（１）
０．０５ＭＰａ≦Ｐ≦１０ＭＰａ・・・（２）
（式（１）、Ｔｍは、ホットメルト型接着剤の融点（℃）を表す。）
（４）表面平滑化工程において、接着剤層の基材と反対側の表面に剥離フィルムを設けた後に、加熱・加圧処理を施し、
冷却工程において、接着剤層を冷却した後に剥離フィルムを剥離する、（２）または（３）に記載の反射体の製造方法。 (1) A manufacturing method for manufacturing a reflector having a substrate, an adhesive layer, and a film mirror in this order,
An adhesive layer forming step of providing an adhesive on one surface of the base material to form an adhesive layer;
A surface smoothing step for reducing the ten-point average roughness Rz of the surface of the adhesive layer opposite to the substrate;
A cooling step for cooling the adhesive layer and reducing the adhesive strength of the adhesive;
A method of manufacturing a reflector having, in this order, a film mirror forming step in which a film mirror is superposed on the surface of the adhesive layer opposite to the base material, followed by heating / pressurizing treatment to produce a reflector having a film mirror. .
(2) The adhesive is a hot melt adhesive,
The method for producing a reflector according to (1), wherein the surface smoothing step is a step of subjecting the surface of the adhesive layer opposite to the substrate to a heating / pressurizing treatment.
(3) The reflection according to (2), wherein the heating / pressurizing treatment in the surface smoothing step satisfies a temperature (T) condition represented by the following formula (1) and a pressure (P) condition represented by the following formula (2): Body manufacturing method.
Tm ≦ T ≦ Tm + 40 ° C. (1)
0.05 MPa ≦ P ≦ 10 MPa (2)
(Formula (1), Tm represents the melting point (° C.) of the hot melt adhesive.)
(4) In the surface smoothing step, after providing a release film on the surface of the adhesive layer opposite to the substrate, a heating / pressurizing treatment is performed,
In the cooling step, the method for producing a reflector according to (2) or (3), wherein the release film is peeled after the adhesive layer is cooled.

（５）基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体であって、
接着剤層とフィルムミラーとの界面の十点平均粗さＲｚが、０．１５μｍ以下である反射体。
（６）接着剤層が、ホットメルト型接着剤で構成される、（５）に記載の反射体。
（７）基材と接着剤層との界面の十点平均粗さＲｚが、０．５０μｍ以上１０μｍ以下である（５）または（６）に記載の反射体。
（８）接着剤層の膜厚が、５〜１００μｍである（５）〜（７）のいずれかに記載の反射体。
（９）接着剤層の膜厚と、基材と接着剤層との界面の十点平均粗さＲｚとの比率（膜厚／Ｒｚ）が、１０以上である（５）〜（８）のいずれかに記載の反射体。
（１０）基材が、金属材料、樹脂材料、セラミック材料およびガラス材料からなる群から選択される少なくとも一種の材料で構成される（５）〜（９）のいずれかに記載の反射体。
（１１）ホットメルト接着剤が、ポリエステル系、オレフィン系、エチレン−酢酸ビニール共重合体系、ウレタン系、クロロプレンゴム系、および、スチレンブタジエンゴム系からなる群から選択される少なくとも１種のホットメルト型接着剤である（６）〜（１０）のいずれかに記載の反射体。 (5) A reflector having a substrate, an adhesive layer, and a film mirror in this order,
The reflector whose ten-point average roughness Rz of the interface between the adhesive layer and the film mirror is 0.15 μm or less.
(6) The reflector according to (5), wherein the adhesive layer is composed of a hot-melt adhesive.
(7) The reflector according to (5) or (6), wherein the ten-point average roughness Rz of the interface between the substrate and the adhesive layer is 0.50 μm or more and 10 μm or less.
(8) The reflector according to any one of (5) to (7), wherein the adhesive layer has a thickness of 5 to 100 μm.
(9) The ratio (film thickness / Rz) between the film thickness of the adhesive layer and the ten-point average roughness Rz of the interface between the substrate and the adhesive layer is 10 or more (5) to (8) The reflector in any one.
(10) The reflector according to any one of (5) to (9), wherein the base material is made of at least one material selected from the group consisting of a metal material, a resin material, a ceramic material, and a glass material.
(11) The hot melt adhesive is at least one hot melt type selected from the group consisting of polyester, olefin, ethylene-vinyl acetate copolymer, urethane, chloroprene rubber, and styrene butadiene rubber. The reflector according to any one of (6) to (10), which is an adhesive.

以下に説明するように、本発明によれば、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体およびその製造方法を提供することができる。 As will be described below, according to the present invention, it is possible to provide a reflector having a film mirror with a small ratio of diffused light and excellent in specularity, and a method for manufacturing the same.

図１は、本発明の反射体の実施態様の一例を示す模式的な断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an embodiment of a reflector of the present invention. 図２（Ａ）〜（Ｈ）は、本発明の反射体が有するフィルムミラーの実施態様の例を示す模式的な断面図である。2A to 2H are schematic cross-sectional views showing examples of embodiments of the film mirror included in the reflector of the present invention.

〔反射体〕
本発明の反射体は、基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体である。
本発明の反射体の特徴は、接着剤層とフィルムミラーとの界面の十点平均粗さＲｚが０．１５μｍ以下となる点である。
ここで、十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳＢ０６０１：１９９４で規定する「十点平均粗さ」をいい、以下、本明細書においては、単に「平均粗さＲｚ」や「Ｒｚ」ともいう。なお、反射体からの分析は、反射体を小型切断機等で割断した割断面から算出する（見積もる）ことができる。具体的には、割断した割断面を研磨し、イオンミリングを施した後に電子顕微鏡で撮影し、汎用ソフト（例えば、ＷｉｎＲＯＯＦ、ＭＡＴＬＡＢ等）による画像処理を施して接着剤層とフィルムミラーとの界面（線分）を抽出し、抽出した線分から十点平均粗さを算出することができる。 [Reflector]
The reflector of this invention is a reflector which has a base material, an adhesive bond layer, and a film mirror in this order.
The reflector of the present invention is characterized in that the ten-point average roughness Rz of the interface between the adhesive layer and the film mirror is 0.15 μm or less.
Here, the ten-point average roughness Rz refers to “ten-point average roughness” defined in JIS B0601: 1994. Hereinafter, in this specification, it is also simply referred to as “average roughness Rz” or “Rz”. The analysis from the reflector can be calculated (estimated) from a cut section obtained by cleaving the reflector with a small cutting machine or the like. Specifically, the fractured section is polished, ion milled, and photographed with an electron microscope, and subjected to image processing using general-purpose software (for example, WinROOF, MATLAB), and the interface between the adhesive layer and the film mirror. (Line segment) is extracted, and the ten-point average roughness can be calculated from the extracted line segment.

このような特徴を有する本発明の反射体は、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体となる。本発明者は、この理由を以下のように推測している。
すなわち、従来公知の反射体（例えば、特許文献１の太陽熱発電用反射装置など）に用いられる一般的な基材（特に金属基材）の表面の平均粗さＲｚは０．５μｍ以上であることから、基材上に粘着剤や接着剤を介して設けられるフィルムミラーには、基材表面の粗さ（例えば、凹凸など）に起因した僅かな歪みが生じており、その結果、拡散光の割合が増加していることが明らかとなった。
これに対し、本発明においては、接着剤を用いて接着剤層を構成し、例えば、後述する本発明の反射体の製造方法で示す通り、表面平滑化工程（加熱・加圧処理）等を施すことにより、基材表面の粗さを低減（例えば、基材表面の凹凸のレベリング）することができたため、拡散光の割合が少なく、鏡面性に優れたフィルムミラーが形成できたと考えられる。
これは、後述する比較例３において、接着剤層の表面の平均粗さＲｚが０．１６０μｍである場合には、基材表面の平均粗さＲｚが実施例と同じ値であっても、拡散光の割合が高くなっていることからも推察することができる。 The reflector of the present invention having such a feature is a reflector having a film mirror with a small ratio of diffused light and excellent in specularity. The inventor presumes this reason as follows.
That is, the average roughness Rz of the surface of a general substrate (particularly a metal substrate) used in a conventionally known reflector (for example, a solar power generation reflector of Patent Document 1) is 0.5 μm or more. Therefore, the film mirror provided on the base material via the pressure-sensitive adhesive or the adhesive is slightly distorted due to the roughness of the base material surface (for example, unevenness). It became clear that the ratio was increasing.
On the other hand, in the present invention, an adhesive layer is formed using an adhesive. For example, as shown in the reflector manufacturing method of the present invention described later, a surface smoothing step (heating / pressurizing treatment) is performed. By applying, it was possible to reduce the roughness of the surface of the substrate (for example, leveling the unevenness of the surface of the substrate), and thus it was considered that a film mirror having a small ratio of diffused light and excellent in specularity could be formed.
This is because in Comparative Example 3 to be described later, when the average roughness Rz of the surface of the adhesive layer is 0.160 μm, even if the average roughness Rz of the substrate surface is the same value as in the example, diffusion It can be inferred from the fact that the ratio of light is high.

次に、本発明の反射体の概要について図１を用いて説明したのちに、各構成について、材料、寸法等を説明する。 Next, after describing the outline of the reflector of the present invention with reference to FIG. 1, materials, dimensions, and the like will be described for each component.

図１に示すように、本発明の反射体２０は、基材２１と、接着剤層２２と、フィルムミラー２３とをこの順に有する。
また、本発明の反射体２０は、接着剤層２２とフィルムミラー２３との界面２２ａにおける接着剤層の平均粗さＲｚが０．１５μｍ以下となる。 As shown in FIG. 1, the reflector 20 of this invention has the base material 21, the adhesive bond layer 22, and the film mirror 23 in this order.
In the reflector 20 of the present invention, the average roughness Rz of the adhesive layer at the interface 22a between the adhesive layer 22 and the film mirror 23 is 0.15 μm or less.

＜基材＞
本発明の反射体が有する基材は特に限定されないが、本発明による拡散光の低減効果が大きくなり、接着剤層との密着性、特に長期保存での密着性が良好となる理由から、その表面、すなわち、反射体における接着剤層との界面（図１においては符号２１ａ）の平均粗さＲｚが、０．５０μｍ以上１０μｍ以下となる基材を用いるのが好ましく、０．８μｍ以上３μｍ以下となる基材を用いることがより好ましい。 <Base material>
Although the base material which the reflector of the present invention has is not particularly limited, the effect of reducing diffused light according to the present invention is increased, and the adhesiveness with the adhesive layer, in particular, the adhesiveness in long-term storage is improved. It is preferable to use a base material having an average roughness Rz of 0.50 μm or more and 10 μm or less on the surface, that is, the interface with the adhesive layer in the reflector (reference numeral 21a in FIG. 1). It is more preferable to use the base material which becomes.

このような基材としては、具体的には、例えば、金属材料、樹脂材料、セラミック材料およびガラス材料からなる群から選択される少なくとも一種の材料で構成される基材が挙げられる。
これらのうち、剛性が高く、割れにくい（衝撃に強い）という理由から、以下に示す金属材料から構成される金属基材であるのが好ましい。
ここで、上記金属材料としては、具体的には、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等が挙げられる。 Specific examples of such a substrate include a substrate composed of at least one material selected from the group consisting of a metal material, a resin material, a ceramic material, and a glass material.
Among these, a metal substrate composed of a metal material shown below is preferable because of its high rigidity and resistance to cracking (strong against impact).
Here, specific examples of the metal material include a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum plated steel plate, an aluminum alloy plated steel plate, a copper plated steel plate, a tin plated steel plate, a chrome plated steel plate, and a stainless steel plate. It is done.

＜接着剤層＞
本発明の反射体が有する接着剤層の構成材料としての接着剤は特に限定されず、例えば、ホットメルト型接着剤；スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、クロロプレンゴム、二トリルゴムなどのゴム系接着剤；ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂系の接着剤；等を用いることができる。
これらのうち、接着剤層は、反射体における接着剤層との界面（図１においては符号２１ａ）の平均粗さＲｚを調整しやすい理由から、ホットメルト型接着剤で構成されるのが好ましい。
ここで、「ホットメルト型接着剤」とは、常温で固体であり、使用時に加熱溶融して被着体に塗布し、冷却することにより、被着物を接着することができ、再度、加熱溶融することで被着体を剥離することができる接着剤をいう。 <Adhesive layer>
The adhesive as a constituent material of the adhesive layer of the reflector of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include hot melt adhesives; rubber adhesives such as styrene butadiene rubber (SBR), chloroprene rubber, nitrile rubber; Resin-based adhesives such as polyurethane resins and silicone resins can be used.
Among these, the adhesive layer is preferably composed of a hot-melt adhesive because it is easy to adjust the average roughness Rz of the interface (reference numeral 21a in FIG. 1) with the adhesive layer in the reflector. .
Here, the “hot melt type adhesive” is solid at room temperature, and can be adhered to the adherend by heating and melting it at the time of use, applying it to the adherend, and cooling it. It means an adhesive that can peel off the adherend.

このようなホットメルト型接着剤としては、例えば、ポリエステル系、オレフィン系、エチレン−酢酸ビニール共重合体（以下、「ＥＶＡ」（ethylene vinyl acetate）とも略す。）系、ウレタン系、クロロプレンゴム系、スチレンブタジエンゴム系等のホットメルト型接着剤が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、フィルムミラーや基材（特に金属基材）との接着性に優れる理由から、ポリエステル系、オレフィン系、ＥＶＡ系、ウレタン系のホットメルト型接着剤を用いるのが好ましい。 Examples of such hot-melt adhesives include polyester-based, olefin-based, ethylene-vinyl acetate copolymer (hereinafter also abbreviated as “EVA” (ethylene vinyl acetate))-based, urethane-based, chloroprene rubber-based, Examples thereof include hot-melt adhesives such as styrene-butadiene rubber, and these may be used alone or in combination of two or more.
Of these, polyester-based, olefin-based, EVA-based, and urethane-based hot-melt adhesives are preferably used because of their excellent adhesion to film mirrors and substrates (particularly metal substrates).

本発明においては、上述した通り、接着剤層の表面、すなわち、反射体における接着剤層とフィルムミラーとの界面（図１においては符号２２ａ）の平均粗さＲｚは０．１５μｍ以下であり、フィルムミラーの拡散光の割合がより少なくなり、フィルムミラーの鏡面性がより良好となる理由から、０．００１〜０．１０μｍであるのが好ましく、０．００２〜０．０８μｍであるのがより好ましい。 In the present invention, as described above, the average roughness Rz of the surface of the adhesive layer, that is, the interface between the adhesive layer and the film mirror in the reflector (reference numeral 22a in FIG. 1) is 0.15 μm or less, The ratio of diffused light from the film mirror is reduced, and the mirror surface property of the film mirror is better, so that it is preferably 0.001 to 0.10 μm, more preferably 0.002 to 0.08 μm. preferable.

また、本発明においては、基材表面の粗さを十分に低減し、フィルムミラーの拡散光の割合がより少なくなり、フィルムミラーの鏡面性がより良好となる理由から、接着剤層の膜厚と、基材と接着剤層との界面の十点平均粗さＲｚとの比率（膜厚／Ｒｚ）が、１０以上であるのが好ましく、１０〜５０であるのがより好ましく、１５〜３０であるのが更に好ましい。 Further, in the present invention, the thickness of the adhesive layer is sufficiently reduced because the surface roughness of the substrate is sufficiently reduced, the ratio of diffused light of the film mirror is reduced, and the mirror property of the film mirror is improved. And the ratio (film thickness / Rz) of the ten-point average roughness Rz of the interface between the base material and the adhesive layer is preferably 10 or more, more preferably 10 to 50, and more preferably 15 to 30 More preferably.

更に、本発明においては、接着剤層の膜厚は、基材表面の粗さを十分に低減し、フィルムミラーの拡散光の割合がより少なくなり、フィルムミラーの鏡面性がより良好となる理由から、５〜１００μｍであるのが好ましく、１０〜５０μｍであるのがより好ましく、１５〜３０μｍであるのが更に好ましい。 Furthermore, in the present invention, the film thickness of the adhesive layer sufficiently reduces the roughness of the substrate surface, the ratio of the diffused light of the film mirror becomes smaller, and the mirror property of the film mirror becomes better. Therefore, the thickness is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 50 μm, and still more preferably 15 to 30 μm.

＜フィルムミラー＞
本発明の反射体が有するフィルムミラーは、樹脂基材と金属反射層とを有するものであれば特に限定されず、従来公知のフィルムミラーを用いることができる。
フィルムミラーとしては、具体的には、例えば、図２に示すように、樹脂基材２と金属反射層３と表面被覆層４とを有する態様（図２（Ａ）〜（Ｄ）参照）や、第１の樹脂基材１１と金属反射層１２と第２の樹脂基材１３と表面被覆層１４とを有する態様（図２（Ｅ）〜（Ｈ）参照）等が挙げられる。
本発明においては、フィルムミラーを構成する樹脂基材等の各部材については特に限定されず、従来公知の材料を用いることができる。なかでも、樹脂基材については、上述した接着剤層との接着が良好となる理由から、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂を用いるのが好ましい。 <Film mirror>
The film mirror which the reflector of this invention has will not be specifically limited if it has a resin base material and a metal reflective layer, A conventionally well-known film mirror can be used.
Specifically, as a film mirror, for example, as shown in FIG. 2, an embodiment (see FIGS. 2A to 2D) having a resin base material 2, a metal reflective layer 3, and a surface coating layer 4. Examples include the first resin base material 11, the metal reflective layer 12, the second resin base material 13, and the surface coating layer 14 (see FIGS. 2E to 2H).
In this invention, it does not specifically limit about each member, such as a resin base material which comprises a film mirror, A conventionally well-known material can be used. Among these, for the resin base material, it is preferable to use a polyester resin, a polyolefin resin, an acrylic resin, a polyamide resin, a polyimide resin, or a polycarbonate resin because of good adhesion with the above-described adhesive layer. preferable.

〔反射体の製造方法〕
本発明の反射体の製造方法（以下、「本発明の製造方法」とも略す。）は、基材と、接着剤層と、フィルムミラーとをこの順に有する反射体を製造する製造方法であり、以下に示す、接着剤層形成工程、表面平滑化工程、冷却工程、および、フィルミラー形成工程をこの順に有する製造方法である。
なお、本発明の製造方法で用いる基材、接着剤層およびフィルムミラーは、以下に明記しない限り、上述した本発明の反射体が有する基材、接着剤層およびフィルムミラーと同様である。 [Method of manufacturing reflector]
The reflector manufacturing method of the present invention (hereinafter also referred to as “the manufacturing method of the present invention”) is a manufacturing method of manufacturing a reflector having a base, an adhesive layer, and a film mirror in this order. This is a manufacturing method having an adhesive layer forming step, a surface smoothing step, a cooling step, and a fill mirror forming step in this order.
The base material, adhesive layer and film mirror used in the production method of the present invention are the same as the base material, adhesive layer and film mirror of the reflector of the present invention described above unless otherwise specified.

＜接着剤層形成工程＞
本発明の製造方法は、基材の一方の表面に、接着剤層を形成する接着剤層形成工程を有する。
ここで、基材の一方の表面（図１においては符号２１ａ）に、接着剤を設ける方法は特に限定されず、例えば、ペースト状の接着剤を塗布（塗工）する方法、融点以上の温度で溶融させたホットメルト型接着剤を塗布する方法、フィルム状のホットメルト型接着剤を貼り合わせる方法等が挙げられる。
また、溶融させたホットメルト型接着剤を塗布する方法は特に限定されず、例えば、スロットコートガンを用いて面状に接触塗布する方法、スプレーガンを用いて霧状に非接触塗布する方法等が挙げられる。 <Adhesive layer forming step>
The production method of the present invention includes an adhesive layer forming step of forming an adhesive layer on one surface of the substrate.
Here, the method of providing an adhesive on one surface of the substrate (reference numeral 21a in FIG. 1) is not particularly limited. For example, a method of applying (coating) a paste-like adhesive, a temperature equal to or higher than the melting point. Examples thereof include a method of applying a hot-melt type adhesive melted in step 1 and a method of bonding a film-like hot-melt type adhesive.
Further, the method for applying the melted hot-melt adhesive is not particularly limited. For example, a method for applying contact in a planar manner using a slot coat gun, a method for applying in a non-contact manner using a spray gun, etc. Is mentioned.

＜表面平滑化工程＞
本発明の製造方法は、上述した接着剤層形成工程の後に、接着剤層の基材と反対側の表面の十点平均粗さＲｚを低減する表面平滑化工程を有する。
ここで、表面平滑化工程は、接着剤層の基材と反対側の表面（図１においては符号２２ａ）の平均粗さＲｚを基材の一方の表面（図１においては符号２１ａ）の平均粗さＲｚよりも小さくすることを目的としている。 <Surface smoothing process>
The manufacturing method of this invention has the surface smoothing process which reduces the 10-point average roughness Rz of the surface on the opposite side to the base material of an adhesive bond layer after the adhesive bond layer formation process mentioned above.
Here, in the surface smoothing step, the average roughness Rz of the surface opposite to the base material of the adhesive layer (reference numeral 22a in FIG. 1) is the average of one surface of the base material (reference numeral 21a in FIG. 1). The purpose is to make it smaller than the roughness Rz.

このような表面処理工程としては、例えば、接着剤層にホットメルト型接着剤を用いる場合、加熱・加圧処理を施す処理工程であるのが好ましい。
ここで、上記加熱・加圧処理は、ホットメルト型接着剤の軟化点以上の温度で加熱し、かつ、ホットメルト型接着剤のヤング率以上の圧力で加圧する処理であれば特に限定されないが、ホットメルト型接着剤を適量だけ変形および流動させ、接着剤層の基材と反対側の表面を所望の平均粗さＲｚ以下に容易に調整できる理由から、下記式（１）に示す温度（Ｔ）条件および下記式（２）に示す圧力（Ｐ）条件を満たす処理であるのが好ましい。
Ｔｍ≦Ｔ≦Ｔｍ＋４０℃ ・・・（１）
０．０５ＭＰａ≦Ｐ≦１０ＭＰａ・・・（２）
（式（１）、Ｔｍは、ホットメルト型接着剤の融点（℃）を表す。） As such a surface treatment process, for example, when a hot-melt adhesive is used for the adhesive layer, it is preferably a treatment process for performing a heating / pressurizing treatment.
Here, the heating / pressurizing treatment is not particularly limited as long as it is performed at a temperature equal to or higher than the softening point of the hot melt adhesive and pressurized at a pressure equal to or higher than the Young's modulus of the hot melt adhesive. Since the hot melt adhesive is deformed and fluidized by an appropriate amount and the surface of the adhesive layer opposite to the substrate can be easily adjusted to a desired average roughness Rz or less, the temperature shown in the following formula (1) ( T) It is preferable that the process satisfies the condition and the pressure (P) condition shown in the following formula (2).
Tm ≦ T ≦ Tm + 40 ° C. (1)
0.05 MPa ≦ P ≦ 10 MPa (2)
(Formula (1), Tm represents the melting point (° C.) of the hot melt adhesive.)

上記式（１）に示す温度（Ｔ）条件は、過剰な変形や流動を抑制するという理由から、下記式（１ａ）に示す条件であるのが好ましく、上記式（２）に示す圧力（Ｐ）条件は、同様の理由から、下記式（２ａ）に示す条件であるのが好ましい。
Ｔｍ＋１０℃≦Ｔ≦Ｔｍ＋３０℃ ・・・（１ａ）
０．５ＭＰａ≦Ｐ≦５ＭＰａ・・・（２ａ） The temperature (T) condition shown in the above formula (1) is preferably the condition shown in the following formula (1a) for the purpose of suppressing excessive deformation and flow, and the pressure (P ) Conditions are preferably those shown in the following formula (2a) for the same reason.
Tm + 10 ° C. ≦ T ≦ Tm + 30 ° C. (1a)
0.5 MPa ≦ P ≦ 5 MPa (2a)

上記加熱・加圧処理の処理時間は特に限定されず、例えば、ホットメルト型接着剤が所望の温度まで均一に加熱され、接着剤層の基材と反対側の表面のレベリングが安定化されるという観点から、３０秒間〜３０分間程度であるのが好ましく、６０秒間〜１５分間程度であるのがより好ましい。 The treatment time of the heating / pressurizing treatment is not particularly limited. For example, the hot melt adhesive is uniformly heated to a desired temperature, and the leveling of the surface of the adhesive layer opposite to the base is stabilized. From this point of view, it is preferably about 30 seconds to 30 minutes, more preferably about 60 seconds to 15 minutes.

本発明においては、フィルムミラーの拡散光の割合がより少なくなり、フィルムミラーの鏡面性がより良好となる理由から、このような加熱・加圧処理を施し、接着剤層の基材と反対側の表面の平均粗さＲｚを０．１５μｍ以下とするのが好ましく、０．００１〜０．１０μｍとするのが好ましく、０．００２〜０．０８μｍとするのがより好ましい。 In the present invention, the ratio of the diffused light of the film mirror becomes smaller, and the mirror surface property of the film mirror becomes better. The average surface roughness Rz is preferably 0.15 μm or less, preferably 0.001 to 0.10 μm, and more preferably 0.002 to 0.08 μm.

＜冷却工程＞
本発明の製造方法は、上述した表面平滑化工程の後に、接着剤層を冷却し、粘着力を低減させる冷却工程を有する。
ここで、冷却工程は、後述するフィルムミラー形成工程において接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせる際の作業性を改善することを目的としている。
そのため、冷却工程における冷却温度は、接着剤層の表面のベタツキや流動性が消失する温度であるのが好ましく、例えば、接着剤のガラス転移点または凝固点以下に冷却するのが好ましい。 <Cooling process>
The manufacturing method of this invention has a cooling process which cools an adhesive bond layer and reduces adhesive force after the surface smoothing process mentioned above.
Here, the cooling step is intended to improve workability when the film mirror is superimposed on the adhesive layer in the film mirror forming step described later.
Therefore, the cooling temperature in the cooling step is preferably a temperature at which the stickiness and fluidity of the surface of the adhesive layer disappear, and for example, it is preferably cooled below the glass transition point or freezing point of the adhesive.

接着剤層の冷却は、接着剤層にホットメルト型接着剤を用いる場合、ホットメルト型接着剤の粘着力が低減する温度であれば特に限定されないが、ホットメルト型接着剤の表面タック（ベタツキ）が消失する温度であるのが好ましく、具体的は、ホットメルト型接着剤のガラス転移温度以下（例えば、４０℃以下）に冷却するのが好ましい。 The cooling of the adhesive layer is not particularly limited when a hot melt adhesive is used for the adhesive layer as long as the adhesive strength of the hot melt adhesive is reduced, but the surface tack (stickiness) of the hot melt adhesive is not limited. ) Disappears, and specifically, it is preferable to cool to a glass transition temperature or lower (for example, 40 ° C. or lower) of the hot melt adhesive.

＜フィルムミラー形成工程＞
本発明の製造方法は、上述した冷却工程の後に、接着剤層の基材と反対側の表面に、フィルムミラーを重ね合わせ後に加熱・加圧処理を施し、フィルムミラーを有する反射体を作製するフィルミラー形成工程を有する。
ここで、フィルミラー形成工程は、加熱・加圧処理を施すことにより接着剤層を構成する接着剤の粘着力を増加（回復）させ、接着剤層とフィルムミラーとを接着させることを目的としている。
なお、フィルムミラー形成工程における加熱・加圧処理は、上述した表面平滑化工程における加熱・加圧処理と同様の条件で施すことができる。 <Film mirror formation process>
In the manufacturing method of the present invention, after the above-described cooling step, a film mirror is superimposed on the surface of the adhesive layer opposite to the base material, and then a heating / pressurizing process is performed to produce a reflector having a film mirror. A fill mirror forming step;
Here, the fill mirror forming step is intended to increase (recover) the adhesive strength of the adhesive constituting the adhesive layer by performing heating / pressurizing treatment, and to bond the adhesive layer and the film mirror. Yes.
The heating / pressurizing process in the film mirror forming step can be performed under the same conditions as the heating / pressurizing process in the surface smoothing step described above.

＜任意の処理＞
本発明の製造方法においては、接着剤層の基材と反対側の表面の平均粗さＲｚを容易に小さくすることができる理由から、上述した表面平滑化工程において、接着剤層の基材と反対側の表面に剥離フィルムを設けた後に、上述した加熱・加圧処理を施し、かつ、上述した冷却工程において、接着剤層を冷却した後に剥離フィルムを剥離する処理を有するのが好ましい。
ここで、剥離フィルムとしては、具体的には、例えば、テトラフルオロエチレン（Ｃ₂Ｆ₄）とエチレン（Ｃ₂Ｈ₄）の共重合体〔ＥＴＦＥ（POLY(ETHYLENE-CO-TETRAFLUOROETHYLENE）〕、ポリテトラフルオロエチレン〔ＰＴＦＥ（polytetrafluoroethylene）〕、四フッ化エチレン（Ｃ₂Ｆ₄）とパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体〔ＰＦＡ（perfluoroalkoxyalkane）〕等のフッ素系透明樹脂フィルムを好適に用いることができる。 <Arbitrary processing>
In the production method of the present invention, since the average roughness Rz of the surface opposite to the base material of the adhesive layer can be easily reduced, in the surface smoothing step described above, the base material of the adhesive layer and It is preferable that after the release film is provided on the opposite surface, the above-described heating / pressurizing treatment is performed, and in the cooling step described above, the adhesive layer is cooled and then the release film is peeled off.
Here, as the release film, specifically, for example, a copolymer of tetrafluoroethylene (C ₂ F ₄ ) and ethylene (C ₂ H ₄ ) [ETFE (POLY (ETHYLENE-CO-TETRAFLUOROETHYLENE)], poly Fluorine-based transparent resin films such as tetrafluoroethylene [PTFE (polytetrafluoroethylene)], a copolymer of tetrafluoroethylene (C ₂ F ₄ ) and perfluoroalkoxyethylene [PFA (perfluoroalkoxyalkane)] can be suitably used. .

また、本発明の製造方法においては、上述したフィルムミラー形成工程の後、接着剤層を構成する接着剤を固化し、接着力を高める理由から、任意の冷却工程を有するのが好ましい。
ここで、冷却工程における冷却方法は特に限定されないが、上述したフィルムミラー形成工程により作製された反射体を室温下で徐冷する方法が好適に挙げられる。 Moreover, in the manufacturing method of this invention, it is preferable to have an arbitrary cooling process from the reason which solidifies the adhesive agent which comprises an adhesive bond layer and raises an adhesive force after the film mirror formation process mentioned above.
Here, although the cooling method in a cooling process is not specifically limited, The method of slowly cooling the reflector produced by the film mirror formation process mentioned above at room temperature is mentioned suitably.

以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.

（実施例１）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、１２０℃で溶融させたウレタン系ホットメルト型接着剤（型番：Ｈ−８４５、融点：１１０℃、ＤＩＣ社製）をスロットコートにて塗布した。
次いで、これを熱プレス機に移し、接着剤上に剥離フィルム（ＥＴＦＥ）を被覆した後、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で加熱・加圧処理（表面平滑化工程）を１分間施した。
次いで、これを常温まで冷却し、ホットメルト型接着剤からなる接着剤層の表面が平滑化された接着剤層付きアルミニウム板を得た。
次いで、剥離フィルムを剥がし、接着剤層の表面にタック（ベタツキ）がないことを確認した後、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で再び加熱・加圧処理（フィルミラー形成工程）を１分間施した後、常温まで冷却し、反射体を作製した。 Example 1
Urethane hot melt adhesive (model number: H-845, melting point: 110 ° C., DIC) melted at 120 ° C. on the surface of an aluminum plate (material: A5052, thickness: 1 mm, average roughness Rz: 1.4 μm) Were applied by slot coating.
Next, this was transferred to a hot press machine, and after a release film (ETFE) was coated on the adhesive, a heating / pressurizing treatment (surface smoothing step) was performed for 1 minute under the conditions of 120 ° C. and 3.0 MPa.
Next, this was cooled to room temperature to obtain an aluminum plate with an adhesive layer in which the surface of the adhesive layer made of a hot-melt adhesive was smoothed.
Next, the release film is peeled off, and after confirming that there is no tack (stickiness) on the surface of the adhesive layer, a film mirror is superimposed on the adhesive layer, and the heating and pressurizing treatment is again performed under the conditions of 120 ° C. and 3.0 MPa. (Film mirror forming step) was applied for 1 minute, and then cooled to room temperature to prepare a reflector.

（実施例２）
加熱・加圧処理（表面平滑化工程）の条件を１２０℃、０．１ＭＰａに変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。 (Example 2)
A reflector was produced in the same manner as in Example 1 except that the conditions of the heating / pressurizing treatment (surface smoothing step) were changed to 120 ° C. and 0.1 MPa.

（実施例３）
加熱・加圧処理（表面平滑化工程）の条件を１５０℃、０．１ＭＰａに変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。 (Example 3)
A reflector was produced in the same manner as in Example 1 except that the conditions of the heating / pressurizing treatment (surface smoothing step) were changed to 150 ° C. and 0.1 MPa.

（実施例４）
ＥＶＡ系のホットメルト型接着剤（型番：ＮＵＣ−３１４０Ｎ、融点：９０℃、日本ユニカー社製）を用いた以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。 Example 4
A reflector was prepared in the same manner as in Example 1 except that an EVA-based hot-melt adhesive (model number: NUC-3140N, melting point: 90 ° C., manufactured by Nihon Unicar) was used.

（実施例５）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）に代えて樹脂基材（材質：ポリカーボネート、厚み：１．５ｍｍ、平均粗さＲｚ：０．６μｍ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。 (Example 5)
A resin base material (material: polycarbonate, thickness: 1.5 mm, average roughness Rz: 0.6 μm) was used in place of the aluminum plate (material: A5052, thickness: 1 mm, average roughness Rz: 1.4 μm) A reflector was prepared in the same manner as in Example 1.

（実施例６）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、フィルムタイプのオレフィン系ホットメルト型接着剤（型番：Ｘ−４３６０、融点：７０℃、厚み：５０μｍ、倉敷紡績化学社製）を重ね合わせ、その上に剥離フィルム（ＥＴＦＥ）を被覆した後、１００℃、３．０ＭＰａの条件で加熱・加圧処理（表面平滑化工程）を１分間施した。
次いで、これを常温まで冷却し、ホットメルト型接着剤からなる接着剤層の表面が平滑化された接着剤層付きアルミニウム板を得た。
次いで、剥離フィルムを剥がし、接着剤層の表面にタック（ベタツキ）がないことを確認した後、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、１００℃、３．０ＭＰａの条件で再び加熱・加圧処理（フィルミラー形成工程）を１分間施した後、常温まで冷却し、反射体を作製した。 (Example 6)
On the surface of an aluminum plate (material: A5052, thickness: 1 mm, average roughness Rz: 1.4 μm), a film-type olefin-based hot melt adhesive (model number: X-4360, melting point: 70 ° C., thickness: 50 μm, Kurashiki Spinning Chemical Co., Ltd.) was overlaid and a release film (ETFE) was coated thereon, followed by heating and pressurizing treatment (surface smoothing step) at 100 ° C. and 3.0 MPa for 1 minute.
Next, this was cooled to room temperature to obtain an aluminum plate with an adhesive layer in which the surface of the adhesive layer made of a hot-melt adhesive was smoothed.
Next, the release film is peeled off, and after confirming that there is no tack (stickiness) on the surface of the adhesive layer, a film mirror is superimposed on the adhesive layer, and the heating and pressurizing treatment is again performed under conditions of 100 ° C. and 3.0 MPa. (Film mirror forming step) was applied for 1 minute, and then cooled to room temperature to prepare a reflector.

（実施例７）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、フィルムタイプのポリエステル系ホットメルト型接着剤（型番：Ｇ−５、融点：１００℃、厚み：３０μｍ、倉敷紡績化学社製）を重ね合わせ、その上に剥離フィルム（ＥＴＦＥ）を被覆した後、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で加熱・加圧処理（表面平滑化工程）を１分間施した。
次いで、これを常温まで冷却し、ホットメルト型接着剤からなる接着剤層の表面が平滑化された接着剤層付きアルミニウム板を得た。
次いで、剥離フィルムを剥がし、接着剤層の表面にタック（ベタツキ）がないことを確認した後、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で再び加熱・加圧処理（フィルミラー形成工程）を１分間施した後、常温まで冷却し、反射体を作製した。 (Example 7)
On the surface of an aluminum plate (material: A5052, thickness: 1 mm, average roughness Rz: 1.4 μm), a film-type polyester hot melt adhesive (model number: G-5, melting point: 100 ° C., thickness: 30 μm, Kurashiki Boshoku Chemical Co., Ltd.) was overlaid and a release film (ETFE) was coated thereon, followed by heating and pressurizing treatment (surface smoothing step) at 120 ° C. and 3.0 MPa for 1 minute.
Next, this was cooled to room temperature to obtain an aluminum plate with an adhesive layer in which the surface of the adhesive layer made of a hot-melt adhesive was smoothed.
Next, the release film is peeled off, and after confirming that there is no tack (stickiness) on the surface of the adhesive layer, a film mirror is superimposed on the adhesive layer, and the heating and pressurizing treatment is again performed under the conditions of 120 ° C. and 3.0 MPa. (Film mirror forming step) was applied for 1 minute, and then cooled to room temperature to prepare a reflector.

（実施例８）
加熱・加圧処理（表面平滑化工程）の条件を１２０℃、０．０４ＭＰａに変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。 (Example 8)
A reflector was produced in the same manner as in Example 1 except that the conditions of the heating / pressurizing treatment (surface smoothing step) were changed to 120 ° C. and 0.04 MPa.

（実施例９）
加熱・加圧処理（表面平滑化工程）の条件を１６０℃、３．０ＭＰａに変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。 Example 9
A reflector was produced in the same manner as in Example 1 except that the conditions of the heating / pressurizing treatment (surface smoothing step) were changed to 160 ° C. and 3.0 MPa.

（実施例１０）
ウレタン系ホットメルト型接着剤の塗布流量（設定量）を実施例１の４０％に減らした以外は、実施例１と同様の方法により、反射体を作製した。 (Example 10)
A reflector was produced in the same manner as in Example 1, except that the application flow rate (set amount) of the urethane hot melt adhesive was reduced to 40% of Example 1.

（比較例１）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、１２０℃で溶融させたウレタン系ホットメルト型接着剤（型番：Ｈ−８４５、融点：１１０℃、ＤＩＣ社製）をスロットコートにて塗布した。
その後、加熱・加圧処理（表面平滑化工程）および冷却工程を施さず、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、１２０℃、３．０ＭＰａの条件で加熱・加圧処理（フィルミラー形成工程）を１分間施した後、常温まで冷却し、反射体を作製した。 (Comparative Example 1)
Urethane hot melt adhesive (model number: H-845, melting point: 110 ° C., DIC) melted at 120 ° C. on the surface of an aluminum plate (material: A5052, thickness: 1 mm, average roughness Rz: 1.4 μm) Were applied by slot coating.
Then, without heating / pressurizing treatment (surface smoothing step) and cooling step, a film mirror is superimposed on the adhesive layer, and heating / pressurizing treatment (fill mirror forming step) under the conditions of 120 ° C. and 3.0 MPa. Was applied for 1 minute, and then cooled to room temperature to prepare a reflector.

（比較例２）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、液状ウレタン系接着剤（ＬＩＳ８２５、東洋インキ社製）をスロットコートにて膜厚が２９μｍとなるように塗布した。
その後、表面平滑化工程および冷却工程を施さず、接着剤層にフィルムミラーを重ね合わせ、常温下、３ＭＰａの押圧で加圧処理を施し、反射体を作製した。 (Comparative Example 2)
On the surface of an aluminum plate (material: A5052, thickness: 1 mm, average roughness Rz: 1.4 μm), a liquid urethane adhesive (LIS825, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) is slot coated so that the film thickness becomes 29 μm. Applied.
Then, without performing a surface smoothing process and a cooling process, a film mirror was overlaid on the adhesive layer, and a pressure treatment was performed at a room temperature with a pressure of 3 MPa to produce a reflector.

（比較例３）
アルミニウム板（材質：Ａ５０５２、厚み：１ｍｍ、平均粗さＲｚ：１．４μｍ）の表面に、貼合機を用いて粘着フィルム（型番：ＳＫ２０５７、オレフィン系ＯＣＡ、厚み：５０μｍ、総研科学社製）を３．０ＭＰａの押圧で常温下で貼り付けた。
その後、冷却工程を施さず、貼合機を用いてフィルムミラーを３．０ＭＰａの押圧で常温下で貼り付け、反射体を作製した。 (Comparative Example 3)
An adhesive film (model number: SK2057, olefin-based OCA, thickness: 50 μm, manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd.) is used on the surface of an aluminum plate (material: A5052, thickness: 1 mm, average roughness Rz: 1.4 μm). Was affixed at room temperature with a pressure of 3.0 MPa.
Then, the cooling process was not performed, but the film mirror was affixed at normal temperature by the press of 3.0 MPa using the bonding machine, and the reflector was produced.

作製した反射体について、接着剤層の膜厚および平均粗さＲｚ、フィルムミラーの平均粗さＲｚ、ならびに、反射光中の拡散光の割合（比率）を以下に示す方法により測定し、評価した。これらの結果を下記第１表に示す。 About the produced reflector, the film thickness and average roughness Rz of the adhesive layer, the average roughness Rz of the film mirror, and the ratio (ratio) of diffused light in the reflected light were measured and evaluated by the following methods. . These results are shown in Table 1 below.

＜接着剤層の膜厚＞
作製した反射体を小型切断機で割断した割断面を研磨し、イオンミリングを施した後に走査型電子顕微鏡で撮影した。
撮影した反射体の割断面の画像から、接着剤層の膜厚を測定した。 <Adhesive layer thickness>
The cut surface of the produced reflector was cut with a small cutting machine, polished, ion milled, and photographed with a scanning electron microscope.
The film thickness of the adhesive layer was measured from the image of the taken section of the reflector.

＜接着剤層（接着剤層とフィルムミラーとの界面）の平均粗さＲｚ＞
接着剤層の膜厚の測定に用いた割断面の画像に画像処理ソフト（ＷｉｎＲＯＯＦ）を用いて画像処理を施し、接着剤層とフィルムミラーとの界面（線分）を抽出し、抽出した線分から、ＪＩＳＢ０６０１：１９９４で規定する十点平均粗さを算出した。 <Average roughness Rz of adhesive layer (interface between adhesive layer and film mirror)>
Image processing using image processing software (WinROOF) is performed on the image of the cut section used to measure the film thickness of the adhesive layer, and the interface (line segment) between the adhesive layer and the film mirror is extracted, and the extracted line From the minutes, the ten-point average roughness defined in JIS B0601: 1994 was calculated.

＜フィルムミラーの平均粗さＲｚ＞
接着剤層の膜厚の測定に用いた割断面の画像に画像処理ソフト（ＷｉｎＲＯＯＦ）を用いて画像処理を施し、フィルムミラー（反射体）の表面（線分）を抽出し、抽出した線分から、ＪＩＳＢ０６０１：１９９４で規定する十点平均粗さを算出した。 <Average roughness Rz of film mirror>
Image processing using image processing software (WinROOF) is performed on the image of the fractured surface used to measure the film thickness of the adhesive layer, and the surface (line segment) of the film mirror (reflector) is extracted from the extracted line segment. The ten-point average roughness specified by JIS B0601: 1994 was calculated.

＜拡散光の割合（比率）＞
拡散光の割合は、全反射光に対する拡散成分のエネルギー比率を算出した。
具体的には、光源用ＬＥＤからフィルムミラー上に光を照射させ、その反射光をレンズを通して、ＣＣＤイメージセンサに画像として受光させ、得られた画像における正反射成分と拡散成分との合計面積中の拡散成分の占める割合から算出した。 <Ratio of diffused light (ratio)>
For the ratio of diffused light, the energy ratio of the diffused component to the total reflected light was calculated.
Specifically, light is emitted from the light source LED onto the film mirror, and the reflected light is received as an image by the CCD image sensor through the lens, and the total area of the regular reflection component and the diffusion component in the obtained image is It calculated from the ratio which the diffusion component accounts for.

第１表に示す結果から、ホットメルト型接着剤を用いて形成される接着剤層の十点平均粗さＲｚを０．１５μｍ以下とすることにより、拡散光の割合が低減し、鏡面性に優れたフィルムミラーを有する反射体が作製できることが分かった（実施例１〜１０）。
特に、実施例１と実施例８および９との対比から、表面平滑化工程における加熱・加圧が、上記式（１）に示す温度（Ｔ）条件および上記式（２）に示す圧力（Ｐ）条件を満たす処理であると、フィルムミラーの表面のＲｚが低減し、拡散光の割合がより低減することが分かった。
また、実施例１と実施例１０との対比から、接着剤層形成工程における、接着剤層の膜厚と、接着剤層が形成される基材の一方の表面のＲｚとの比率（膜厚／Ｒｚ）が１０以上であると、フィルムミラーの表面のＲｚが低減し、拡散光の割合がより低減することが分かった。 From the results shown in Table 1, by setting the ten-point average roughness Rz of the adhesive layer formed using the hot melt adhesive to 0.15 μm or less, the ratio of diffused light is reduced and the specularity is improved. It turned out that the reflector which has the outstanding film mirror can be produced (Examples 1-10).
In particular, from the comparison between Example 1 and Examples 8 and 9, the heating / pressurization in the surface smoothing step is performed under the temperature (T) condition shown in the above formula (1) and the pressure (P) shown in the above formula (2). It was found that Rz on the surface of the film mirror is reduced and the ratio of diffused light is further reduced when the treatment satisfies the conditions.
Further, from the comparison between Example 1 and Example 10, the ratio (film thickness) of the film thickness of the adhesive layer and the Rz of one surface of the substrate on which the adhesive layer is formed in the adhesive layer forming step. It was found that when / Rz) is 10 or more, Rz on the surface of the film mirror is reduced, and the ratio of diffused light is further reduced.

１フィルムミラー
２樹脂基材
３金属反射層
４表面被覆層
５プライマー層
６バックコート層
１０フィルムミラー
１１第１の樹脂基材
１２金属反射層
１３第２の樹脂基材
１４表面被覆層
１５プライマー層
１６バックコート層
２０反射体
２１基材
２１ａ基材表面（基材と接着剤層との界面）
２２接着剤層
２２ａ接着剤層表面（接着剤層とフィルムミラーとの界面）
２３フィルムミラー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film mirror 2 Resin base material 3 Metal reflective layer 4 Surface coating layer 5 Primer layer 6 Backcoat layer 10 Film mirror 11 1st resin base material 12 Metal reflective layer 13 2nd resin base material 14 Surface coating layer 15 Primer layer 16 Backcoat layer 20 Reflector 21 Base material 21a Base material surface (interface between base material and adhesive layer)
22 Adhesive layer 22a Adhesive layer surface (interface between adhesive layer and film mirror)
23 Film mirror

Claims

A manufacturing method for manufacturing a reflector having a base material, an adhesive layer, and a film mirror in this order,
An adhesive layer forming step of providing an adhesive on one surface of the base material to form an adhesive layer;
A surface smoothing step for reducing the ten-point average roughness Rz of the surface of the adhesive layer opposite to the substrate;
A cooling step of cooling the adhesive layer and reducing the adhesive strength of the adhesive;
The surface of the adhesive layer opposite to the base material is subjected to heating / pressurizing treatment after the film mirror is overlaid, and in this order, a mirror mirror forming step for producing a reflector having a film mirror,
The adhesive is a hot melt adhesive,
The surface smoothing step is a step of subjecting the surface of the adhesive layer opposite to the substrate to a heating / pressurizing treatment,
A method of manufacturing a reflector, wherein the heating / pressurizing treatment in the surface smoothing step satisfies a temperature (T) condition shown in the following formula (1) and a pressure (P) condition shown in the following formula (2).
Tm ≦ T ≦ Tm + 40 ° C. (1)
0.05 MPa ≦ P ≦ 10 MPa (2)
(In the formula (1), Tm represents the melting point of the hot melt adhesive (° C.).)

In the surface smoothing step, after providing a release film on the surface of the adhesive layer opposite to the base material, the heating / pressurizing treatment is performed,
The manufacturing method of the reflector of Claim 1 which peels the said peeling film after cooling the said adhesive bond layer in the said cooling process.

A reflector having a base material, an adhesive layer, and a film mirror in this order,
The ten-point average roughness Rz of the interface between the adhesive layer and the film mirror is 0.15 μm or less,
The thickness of the adhesive layer, Ri 30 ～100Myuemu der,
It said substrate, metal substrate der Ru reflector.

The reflector according to claim 3, wherein the adhesive layer is composed of a hot-melt adhesive.

The reflector according to claim 3 or 4, wherein a ten-point average roughness Rz of an interface between the base material and the adhesive layer is 0.50 µm or more and 10 µm or less.

The thickness of the adhesive layer, the ratio of the ten-point average roughness Rz of the interface between the adhesive layer and the base material (thickness / Rz) is, any one of claims 3-5 is 10 or more Item 1. The reflector according to item 1.

The hot melt adhesive is at least one hot melt adhesive selected from the group consisting of polyester, olefin, ethylene-vinyl acetate copolymer, urethane, chloroprene rubber, and styrene butadiene rubber. reflector according to any one of claims 4-6 those agents.