JP6188726B2 - 超短レーザーパルスの同時圧縮及び特徴付けのための方法及びデバイス - Google Patents
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Description
Claims (18)
- (a)所定のスペクトル位相をパルスに適用し、分散スキャンを実行するように特徴付ける工程と、
(b)非線形プロセスを前記パルスに適用する工程と、
(c)前記所定のスペクトル位相及び前記非線形プロセスの利用から結果として生じるシグナルを測定する工程と、
(d)特徴付けられる前記パルスの線形スペクトルを測定し、又は、測定した前記シグナルから前記位相を復元する工程と、
(e)数値的反復アルゴリズムを測定した前記シグナル及び前記スペクトルに適用し、特徴付けられる前記パルスの前記スペクトル位相を復元する工程と、を備え、
前記数値的反復アルゴリズムは、測定した前記シグナルと、測定した前記スペクトル及び特徴付けられるパルスの前記スペクトル位相の逐次近似値から計算されたシグナルとから定義される誤差関数を最小化する工程を備えることを特徴とする超短レーザーパルスを特徴付ける方法。 - 請求項1記載の方法であって、
前記数値的反復アルゴリズムは、計算された誤差関数を最小化する工程を備え、
(a)所定の波長の分散に対する測定された前記シグナルの積分が、特徴付けられた前記パルスの位相と独立であるという特性を使用し、
(b)または、各波長に対して局所的に、総合誤差が重み付けられた全ての局所誤差の関数であることを特徴とする方法。 - 請求項1または2記載の方法であって、
(a)所定のスペクトル位相をパルスに適用し、分散スキャンを実行するように特徴付ける工程と、
(b)結果として生じる二次高調波生成シグナルを測定する工程と、
(c)特徴付けられる前記パルスの線形スペクトルを測定し、又は、測定した前記二次高調波生成シグナルから前記位相を復元する工程と、
(d)数値的反復アルゴリズムを測定した前記二次高調波生成シグナルに適用し、測定された前記二次高調波生成シグナルと、測定された前記スペクトル及び所定のスペクトル位相から計算された二次高調波生成シグナルとの間で定義された誤差関数を最小化することによって、特徴付けられる前記パルスの前記スペクトル位相を復元する工程と、を備える方法。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法であって、
分散スキャンを実行するための所定のスペクトル位相の適用は、スキャンの間、最小値を横切るパルス持続時間で、連続的に又は段階的に実行されることを特徴とする方法。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法であって、
前記非線形プロセスは、気体、固体、液体、又はプラズマ中で起きる、和周波数生成、差分周波数生成、光カー効果及び関連非線形位相変調効果、及び/又は、3次高調波生成を備えることを特徴とする方法。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法であって、
数値的反復アルゴリズムは、特徴付けられる前記パルスのスペクトル位相の関数を、離散的サンプリング関数、テーラー展開関数、又は、フーリエ級数関数として定義することを備えることを特徴とする方法。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法であって、
特徴付けられる前記パルスのスペクトル位相の関数は、周波数に対して連続導関数によって表されることを特徴とする方法。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法であって、
(a)フーリエ限界パルスに対するトレースをシミュレーションする工程と、
(b)分散スキャンパラメータに対する前記トレースの数値積分、すなわち、周波数帯域が、特徴付けられる前記パルスのオリジナルのスペクトル位相に依存しないように補償されるスペクトル応答を計算するために、シミュレーションしたスキャン帯域と測定したスキャン帯域とを比較する工程と、
(c)各繰り返しにおいて計算したスペクトル応答をシミュレーションした理想トレースで乗じることにより、計算したスペクトル応答により実験的トレースを分割することによって、又は、復元プロセスで計算したスペクトル応答を含むことによって、計算したスペクトル応答を補償する工程と、
によって、不均一なスペクトル検出応答を補正する工程を備える方法。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法であって、
全ての誤差の重みづけ関数である総合誤差とともに、各波長に対する誤差関数を最小化することによって不均一スペクトル検出応答を補償する工程を備える方法。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法であって、
分散スキャンを実行するように所定のスペクトル位相を適用することは、異なる厚さのガラス、ウェッジ、グリズム、回折格子、可変圧力ガスセル、及び/又は、音響光学結晶製、電気光学結晶製、液晶製デバイス等の光変調器を使用することを含むことを特徴とする方法。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法であって、
測定した二次高調波生成シグナルは、
(a)時間領域において対応する電界を得るために、フーリエ変換を特徴付けられる前記パルスのスペクトルに適用する工程と、
(b)二次高調波生成計算を実行するように、時間依存場を2乗する工程と、
(c)逆フーリエ変換を適用し、二次高調波スペクトルを得る工程と、
によって、計算されることを特徴とする方法。 - 請求項11記載の方法であって、
前記二次高調波生成計算に対して、前記スペクトルはスペクトルフィルターで乗ぜられることを特徴とする方法。 - 請求項1〜12のうちいずれか1つに記載の方法であって、
前記超短レーザーパルスは、1〜3サイクルのレーザーパルスを含むことを特徴とする方法。 - 請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法であって、
前記レーザーパルスの圧縮器はチャープミラー圧縮器であることを特徴とする方法。 - 超短レーザーパルスを特徴付けるシステムであって、
(a) 分散スキャンを実行するのに適した、特徴付けられるパルスの光源に所定のスペクトル位相を適用するように適応した前記所定のスペクトル位相の光源と、
(b)非線形プロセスと、
(c)結果として生じるシグナルを測定するセンサと、
(d)測定されたシグナルから復元した、又は測定された前記スペクトルから計算されたシグナルと前記測定されたシグナルとの間で定義された誤差関数と、特徴付けられる前記パルスのスペクトル位相の逐次近似値とを最小化することによって、特徴付けられる前記パルスのスペクトル位相を復元するために、数値的反復アルゴリズムに測定したシグナルに利用できるように構成されたデータ処理モジュールと、
を備えるシステム。 - 請求項15記載のシステムであって、
特徴付けられる前記パルスのスペクトルを測定するセンサを備えるシステム。 - 請求項15又は16記載のシステムであって、
所定のスペクトル位相の光源として、異なる厚さのガラス、ウェッジ、グリズム、回折格子、可変圧力ガスセル、及び/又は、音響光学結晶製、電気光学結晶製、液晶製デバイス等の光変調器を備えるシステム。 - 請求項15〜17のいずれか一項に記載のシステムであって、
非線形プロセスとして、気体、固体、液体、又はプラズマ中で起きる、和周波数生成、差分周波数生成、光カー効果及び関連非線形位相変調効果、及び/又は、3次高調波生成を備えるシステム。
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