JP6191190B2 - 液体吐出装置、圧電アクチュエータ、及び液体吐出装置の製造方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 114
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 146
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 97
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 50
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 claims description 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 21
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 16
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 16
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 description 10
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 9
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 9
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 8
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 7
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 6
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 3
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/1612—Production of print heads with piezoelectric elements of stacked structure type, deformed by compression/extension and disposed on a diaphragm
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
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- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
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- B41J2/1621—Manufacturing processes
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- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
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Description
(1)シリコンの第1基板の表面に酸化処理を施して、酸化シリコンの振動板を形成する。
(2)振動板に、各種成膜工程及びパターニング工程を繰り返して行い、圧電素子及び電極を形成する。
(3)シリコンの第2基板を、第1基板の振動板に接合する。
(4)第1基板を研磨して所定の厚みまで薄くする。
(5)第1基板の振動板と反対側の面からエッチングを行うことによって、第1基板に、複数の圧力室を含む液体流路を形成する。
前記圧電アクチュエータは、前記液体封止層の前記圧力室と反対側の面に配置されたアクチュエータ基板であって、前記アクチュエータ基板の前記液体封止層とは反対側に位置する部分に設けられて前記液体封止層と対向する振動層と、前記液体封止層と前記振動層との間において前記圧力室と対向して配置され、前記振動層と接続された柱状部と、を有するアクチュエータ基板と、前記振動層の前記柱状部と反対側の面に成膜された圧電素子と、を有することを特徴とするものである。
前記アクチュエータ製造工程は、前記アクチュエータ基板の前記振動層の表面に前記圧電素子を成膜する圧電素子形成工程と、前記アクチュエータ基板の、前記振動層とは反対側の面からエッチングを行うことにより、前記アクチュエータ基板に、前記柱状部とこの柱状部を取り囲む凹状の孔とを形成するエッチング工程と、を含むことを特徴とするものである。
図6、図7に示すように、流路ユニット20は、5枚のプレート24〜28からなる積層体22と、インク封止層23とを備えている。
圧電アクチュエータ21は、流路ユニット20のインク封止層23の上面に接して配置されている。この圧電アクチュエータ21は、アクチュエータ基板40と、共通電極42と、圧電層43と、複数の個別電極44とを備えている。
複数枚のプレートが積層された構造を有する流路ユニット20の作製については、従来から知られている技術であり、図6、図7を参照して簡単に述べる。まず、積層体22を構成する5枚のプレート24〜28に、それぞれ、ノズル30、圧力室33、マニホールド等の流路部分となる孔をエッチングやレーザー加工等の公知の加工技術を用いて形成する。次に、5枚のプレート24〜28を互いに積層して熱硬化性接着剤等で接合して、積層体22を得る。さらに、積層体22のプレート24に、合成樹脂のフィルムや金属膜などからなるインク封止層23を、複数の圧力室33を覆うように接合し、流路ユニット20の作製を完了する。
(1)振動層形成工程
図8(a)に示すように、まず、シリコン単結晶のウェハーから切り出したアクチュエータ基板40の上面に、酸化処理又は窒化処理を施すことにより、二酸化シリコン又は窒化シリコンの振動層41を形成する。振動層41の厚みは、例えば、1μm程度である。
次に、振動層41の上面に複数の圧電素子50を形成する。図8(b)に示すように、まず、振動層41の上面のほぼ全域に、真空蒸着法やスパッタ法等により、共通電極42を成膜する。次に、ゾルゲル法やMOD法等により、共通電極42を全面的に覆うように圧電層43を成膜する。次に、圧電層43の上面に、真空蒸着法やスパッタ法によって導電膜を成膜した後、この導電膜のパターニングを行って、複数の個別電極44、複数の配線部45、及び、複数の接続端子46を含む導電パターンを形成する。これにより、振動層41の上面に、複数の個別電極44と共通電極42に挟まれた、複数の圧電素子50が形成される。尚、圧電層43、個別電極44、及び、共通電極42の厚みは、それぞれ、1μm程度である。
次に、図8(c)に示すように、アクチュエータ基板40の、振動層41とは反対側の下面側からエッチングを行って、アクチュエータ基板40に、複数の柱状部49と複数の柱状部49をそれぞれ取り囲む複数の収容室48(凹状の孔47)を形成する。エッチングは、ウェットエッチングでもドライエッチングでもよいが、ウェットエッチングの方が、エッチング速度が速いために短時間でエッチングを行える点で有利である。
上記のようにして作製した流路ユニット20と圧電アクチュエータ21を接合する。図8(d)に示すように、流路ユニット20のインク封止層23の上面に、圧電アクチュエータ21のアクチュエータ基板40を、熱硬化性接着剤等を用いて接着する。
接合工程の後、COF51の圧電アクチュエータ21への接合等を行って、インクジェットヘッド4の製造を完了する。
上記の点に関し、図9に示すように、柱状部49によって押圧されるインク封止層23の、柱状部49が押し当てられる領域に、膜部材60が重ね合わされていてもよい。図9では、アクチュエータ基板40とインク封止膜23との間に膜部材60が介在されている。膜部材60の、柱状部49の下端面とインク封止膜23との間の部分60aの面積は、圧力室33よりも小さいが、柱状部49の下端よりも大きくなっている。この構成により、柱状部49が直接インク封止層23を押圧する場合と比べて、柱状部49の押圧力を、インク封止層23の広い範囲に作用させることができる。尚、図9では、膜部材60は、インク封止層23に対して柱状部49側に配置されているが、インク封止層23に対して柱状部49と反対側、即ち、圧力室33内に配置されていてもよい。
柱状部49の、インク封止層23側の下端面の面積が、振動層41側の上端面の面積よりも大きい、下に向かって径が拡大するテーパー形状に形成されてもよい。この構成では、柱状部49の、面積の大きな下端面によってインク封止層23を広い範囲で押圧することができる。一方で、柱状部49の上端面の面積は小さいことから、振動層41の撓み変形が柱状部49によって阻害されにくくなる。
アクチュエータ基板40にインクが流れる流路の一部を形成することができる。例えば、図15の例では、2列の圧力室列に対応した、2列の収容室48の列の間に、その配列方向に延びる連通流路64が形成されている。連通流路64の、搬送方向上流側の端部は、アクチュエータ基板40の上面に形成された連通孔65と連通している。連通孔65には、流路ユニット20に形成されたインク供給孔31と同じく、インクカートリッジ17(図1参照)が接続される。一方、連通流路64の、搬送方向下流側の端部は、この連通流路64の両側に位置する2本のマニホールド32と、流路ユニット20に形成された流路66を介して連通している。
アクチュエータ基板40に、連通流路64内のインクを加圧する加圧用圧電素子が設けられてもよい。図17、図18に示すように、この変更形態8では、アクチュエータ基板40に、搬送方向上流側から順に並ぶ、幅の等しい3つの流路孔68a,68b,68cと、3つの流路孔68a,68b,68cを繋ぐ、幅の狭い流路孔68d,68eが形成されている。これら流路孔68a〜68e内の空間によって、連通流路64a〜64eが形成されている。尚、流路孔64b内の流路を、特に、加圧室64bともいう。
図19では、アクチュエータ基板40に、インク封止層23の一部分を露出させる貫通孔71が形成されている。貫通孔71は、アクチュエータ基板40のエッチング工程よりも前あるいは後の工程で、機械加工等によって形成される。インク封止層23の、貫通孔71によって露出した前記一部分には複数の接続端子46が配置されている。複数の接続端子46は、アクチュエータ基板40に形成されたスルーホール72内の導電材料を介して、複数の個別電極44とそれぞれ接続されている。尚、インク封止層23が、金属材料などの導電性を有する材料で形成されている場合は、このインク封止層23の表面を覆うように絶縁膜が形成された上で、この絶縁膜に複数の接続端子46が配置される。
上記について例を挙げて説明する。前記実施形態の図8(b)の圧電素子を形成する際の、個別電極44を圧電層43に形成する工程(電極形成工程)において、個別電極44の位置が本来形成されるべき位置からずれた位置に形成された場合を考える。例えば、製造コスト削減のため、個別電極44をスクリーン印刷等の、比較的精度の低い方法で電極を形成する場合には十分あり得る。個別電極44が本来の位置からずれた位置に形成されると、振動層41の変形量が変わってくる。ひいては、インクへの付与する圧力に密接に関連するインク封止層23の変形量も、要求量に対してずれてくる。
4 インクジェットヘッド
17 インクカートリッジ
20 流路ユニット
21 圧電アクチュエータ
23 インク封止層
30 ノズル
33 圧力室
40 アクチュエータ基板
41 振動層
46 接続端子
49 柱状部
50 圧電素子
60 膜部材
64 連通流路
67 流路孔
68 流路孔
69 加圧用圧電素子
71 貫通孔
74 接合補強材
Claims (12)
- 液体を吐出するノズル、及び、前記ノズルに連通する圧力室を含む液体流路と、前記圧力室を覆う液体封止層とを有する流路構造体と、
前記流路構造体の前記液体封止層に接して配置された圧電アクチュエータと、を備え、
前記圧電アクチュエータは、
前記液体封止層の前記圧力室と反対側の面に配置されたアクチュエータ基板であって、
前記アクチュエータ基板の前記液体封止層とは反対側に位置する部分に設けられて前記液体封止層と対向する振動層と、前記液体封止層と前記振動層との間において前記圧力室と対向して配置され、前記振動層と接続された柱状部と、を有するアクチュエータ基板と、
前記振動層の前記柱状部と反対側の面に成膜された圧電素子と、
を有することを特徴とする液体吐出装置。 - 前記液体封止層の前記圧力室を覆う領域に重ねられた膜部材を有し、
前記膜部材の面積は、前記圧力室よりも小さく、且つ、前記柱状部の前記液体封止層側の端面の面積よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出装置。 - 前記膜部材の剛性が、前記液体封止層の剛性よりも大きいことを特徴とする請求項2に記載の液体吐出装置。
- 前記柱状部の、前記液体封止層側の端面の面積が、前記振動層側の端面の面積よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出装置。
- 前記液体を貯留する液体貯留部を備え、
前記アクチュエータ基板の、前記柱状部とは異なる部分に、前記流路構造体の前記液体流路と前記液体貯留部とにそれぞれ連通し、前記液体流路と前記液体貯留部との間で液体を移動させるための連通流路が形成されていることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の液体吐出装置。 - 前記アクチュエータ基板に、前記アクチュエータ基板の前記流路構造体側に開口し、且つ、前記振動層までは達しない凹状の流路孔が設けられ、
前記第1流路孔内の空間が前記連通流路であることを特徴とする請求項5に記載の液体吐出装置。 - 前記振動層の、前記連通流路を覆う部分に、前記連通流路内の液体を加圧するための加圧用圧電素子が配置されていることを特徴とする請求項5又は6に記載の液体吐出装置。
- 前記圧電素子に接続されるフレキシブル配線基板を有し、
前記アクチュエータ基板には、前記液体封止層の一部分を露出させる貫通孔が形成され、
前記液体封止層の、前記貫通孔によって露出した前記一部分には、前記圧電素子と接続された接続端子が配置され、
前記フレキシブル配線基板の一部分が、前記貫通孔内に挿入されて前記接続端子と接合され、
前記フレキシブル配線部材が挿入された前記貫通孔内に、接合補強材が充填されていることを特徴とする請求項1〜7の何れかに記載の液体吐出装置。 - 前記圧電素子の厚みが、0.5〜2.0μmであることを特徴とする請求項1〜8の何れかに記載の液体吐出装置。
- 振動層と、前記振動層に接続された柱状部と、前記柱状部を収容する収容室とを有するアクチュエータ基板と、
前記振動層の前記柱状部と反対側の面に配置された圧電層と、
前記振動層が延びる第1方向と直交する前記第2方向において、前記圧電層の一方側の面に配置された個別電極と、
前記第2方向において、前記圧電層の他方側の面に配置された共通電極と、
を有し、
前記圧電層は、前記第2方向において前記個別電極と前記共通電極とで挟まれており、
前記個別電極の端部は、前記第1方向において、前記柱状部の外側面と前記収容室の内壁面との間に位置することを特徴とする圧電アクチュエータ。 - 請求項1に記載の液体吐出装置の製造方法であって、
前記流路構造体を作製する流路構造体製造工程と、
前記圧電アクチュエータを作製するアクチュエータ製造工程と、
前記流路構造体と前記圧電アクチュエータを接合する接合工程と、を備え、
前記アクチュエータ製造工程は、
前記アクチュエータ基板の前記振動層の表面に前記圧電素子を成膜する圧電素子形成工程と、
前記アクチュエータ基板の、前記振動層とは反対側の面からエッチングを行うことにより、前記アクチュエータ基板に、前記柱状部とこの柱状部を取り囲む凹状の孔とを形成するエッチング工程と、
を含むことを特徴とする液体吐出装置の製造方法。 - 前記アクチュエータ製造工程は、前記圧電素子に電極を形成する電極形成工程をさらに備え、
前記電極形成工程で形成された前記電極の、前記圧電素子に対する位置に応じて、前記エッチング工程において、前記柱状部の形状及び形成位置を決定することを特徴とする請求項11に記載の液体吐出装置の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013064464A JP6191190B2 (ja) | 2013-03-26 | 2013-03-26 | 液体吐出装置、圧電アクチュエータ、及び液体吐出装置の製造方法 |
| US14/187,738 US8955946B2 (en) | 2013-03-26 | 2014-02-24 | Liquid discharge apparatus, piezoelectric actuator, and method for producing liquid discharge apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013064464A JP6191190B2 (ja) | 2013-03-26 | 2013-03-26 | 液体吐出装置、圧電アクチュエータ、及び液体吐出装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014188740A JP2014188740A (ja) | 2014-10-06 |
| JP6191190B2 true JP6191190B2 (ja) | 2017-09-06 |
Family
ID=51620424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013064464A Active JP6191190B2 (ja) | 2013-03-26 | 2013-03-26 | 液体吐出装置、圧電アクチュエータ、及び液体吐出装置の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8955946B2 (ja) |
| JP (1) | JP6191190B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2516845A (en) * | 2013-07-31 | 2015-02-11 | Ingegneria Ceramica S R L | An Improved Actuator and Method of Driving Thereof |
| CN111217316B (zh) * | 2018-11-23 | 2025-05-13 | 研能科技股份有限公司 | 微流体致动器 |
| CN111562288B (zh) * | 2020-07-08 | 2022-07-08 | 中建四局第三建设有限公司 | 一种淤泥固化原位测试评价办法 |
| JP7786156B2 (ja) * | 2021-11-25 | 2025-12-16 | ブラザー工業株式会社 | 液体吐出装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0315555A (ja) * | 1988-10-28 | 1991-01-23 | Fuji Electric Co Ltd | インクジェット記録ヘッド |
| JP3160991B2 (ja) * | 1992-02-07 | 2001-04-25 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェットヘッド |
| JP3129090B2 (ja) * | 1994-07-20 | 2001-01-29 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェットヘッド |
| DE10317872A1 (de) * | 2002-04-18 | 2004-01-08 | Hitachi Printing Solutions, Ltd., Ebina | Tintenstrahlkopf und Verfahren zu seiner Herstellung |
| JP5082219B2 (ja) * | 2005-09-29 | 2012-11-28 | ブラザー工業株式会社 | アクチュエータ及びこのアクチュエータを備えた液体移送装置 |
| JP2008044370A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Oce Technol Bv | インクジェット装置、及びそれを製造する方法 |
| JP5578794B2 (ja) * | 2008-02-26 | 2014-08-27 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
| JP2012218314A (ja) | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッドの製造方法、および液体噴射装置の製造方法 |
-
2013
- 2013-03-26 JP JP2013064464A patent/JP6191190B2/ja active Active
-
2014
- 2014-02-24 US US14/187,738 patent/US8955946B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US8955946B2 (en) | 2015-02-17 |
| JP2014188740A (ja) | 2014-10-06 |
| US20140292935A1 (en) | 2014-10-02 |
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