JP6208110B2 - 酢酸(e)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエニルの製造方法 - Google Patents
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Description
また、非特許文献2の場合、幾何異性体が選択的に得られる点で優れているが、中間体の合成に高価な貴金属触媒を用いたり、中間体の単離や精製の際シリカゲルフラッシュクロマトグラフィーを用いている等の点で工業的合成方法とは言い難い。
このように、これまでの合成例では、選択性や中間体および目的物の分離や精製の手段等の理由で、十分量の原体を工業的に製造するのは非常に困難と考えられた。
理論上考えられる二重結合の位置の違う異性体とそれらの幾何異性体を下記に示す。
出発原料は、下記式(1)で表される2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸である。
異性化反応に用いる塩基としては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムt−ブトキシド、ナトリウムt−アミロキシド、リチウムメトキシド、リチウムエトキシド、リチウムt−ブトキシド、リチウムt−アミロキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド、カリウムt−アミロキシド等のアルコキシド類(好ましくは金属アルコキシド、より好ましくはアルカリ金属アルコキシド)、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム等の水酸化物塩類(好ましくは金属水酸化物、より好ましくはアルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物)、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸塩類または重炭酸塩(好ましくはアルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金属重炭酸塩)、メチルリチウム、エチルリチウム、n−ブチルリチウム、塩化メチルマグネシウム、ジムシルナトリウム等の有機金属試薬、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジシクロヘキシルアミド等の金属アミド類、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム等の水素化金属類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、キノリン、ピロリジン、ピペリジン、コリジン、ルチジン、モルホリン、ピペラジン等の有機塩基類を挙げることができる。これらの塩基は単独で用いても複数の塩基を混合して用いてもよく、基質の種類や反応性や選択性を考慮して選択できる。これら塩基のうち、アルコキシド類は特に好ましい。
基質のカルボン酸を目的のカルボン酸にまで一挙に変換したい場合には、水系の溶媒の選択が好ましい。水を含む溶媒を選択するかまたは異性化後に水を添加することもできる。水とアルコール類、特に、水と三級アルコールの組み合わせは特に好ましい。ここで、塩基と溶媒の選択において、水を含む溶媒中塩基としてアルコキシド類を使用する場合とアルコール類を含む溶媒中塩基として水酸化物塩類を使用する場合は、系内で同一の条件となると考えられる。
通常、イオウ試薬を用い、無溶媒または溶媒中で必要に応じて冷却または加熱して反応を行う。
イオウ試薬としては、例えば、単体のイオウ、硫化水素、チオシアン酸等の無機イオウ化合物類とその塩類、メタンチオール、エタンチオール、ブタンチオール、ベンゼンチオール、チオ硫酸、チオ酢酸、チオグリコール酸、3−メルカプトプロピオン酸、ジフェニルスルフィド、ジフェニルジスルフィド、ブタジエンスルホン、チオアセトアミド、チオアニソール等の有機イオウ化合物類とその塩類等が挙げられる。これらのイオウ試薬は単独で用いても複数の塩基を混合して用いてもよく、基質の種類や反応性や選択性を考慮して選択できる。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸はその結晶性が非常に良好で、(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸を含む混合物から(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸を単離できることを本発明者らが知見したことが、工業的な製法確立の実現に大きく寄与したものである。
還元剤の使用量は、使用する還元剤、反応条件等によって異なるが、一般的には基質のカルボン酸1モルに対して、好ましくは0.5〜大過剰量(2モルから500モル)、より好ましくは0.9〜8.0モルである。
還元反応における溶媒は用いられる還元剤の種類によって適切なものを選択して用いる。例えば、還元剤と溶媒の好ましい組み合わせとしては、還元剤として水素化ホウ素リチウムを用いる場合には、エーテル類、エーテル類とアルコール類との混合溶媒またはエーテル類と炭化水素類との混合溶媒等、還元剤として水素化アルミニウムリチウムを用いる場合には、エーテル類またはエーテル類と炭化水素類との混合溶媒等が挙げられる。
酢酸との反応における酢酸の使用量は、(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエノール(3)1モルに対して、好ましくは1モルから40モル、より好ましくは1モルから5モルの範囲である。
目的の酢酸(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエニル(4)の単離や精製は、減圧蒸留や各種クロマトグラフィー等の通常の有機合成における精製方法から適宜選択して用いることができるが、工業的経済性の観点から減圧蒸留が好ましい。
なお、以下において、「純度」は、特に明記しない限り、ガスクロマトグラフィー(GC)分析によって得られた値である。
合成例1
出発原料2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸(1)の合成
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム40.3mmol(60%鉱油懸濁物1.61gをn−ヘキサンで鉱油を除去したもの)とトルエン50mlの混合物をかき混ぜながら加熱還流させ、これにセネシオ酸2−メチル−3−ブテン−2−イル6.76g(96.2%純度)を1時間かけて滴下した。80分間還流を続けた後、ジエチルエーテル50mlを加え、メタノール2mlを滴下した。次いで、水60mlを加え、水層を分離した。分離した水層に20%塩酸を加えて酸性にした後、ジエチルエーテルで抽出した。ジエチルエーテル溶液から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、目的物の粗生成物7.69g(収率89%)を得た。
この粗生成物は、GC分析の結果、2−イソプロピリデン−5−メチル−4−ヘキセン酸(α,β-不飽和カルンボン酸)と2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸(β,γ−不飽和カルンボン酸)の45.7:54.2の混合物で合わせて78.0%純度であった。
出発原料2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸(1)の合成
窒素雰囲気下、ヘキサメチルジシラザン117gとテトラヒドロフラン600mlの混合物を氷冷し、これに1.65M n−ブチルリチウム n−ヘキサン溶液425mlを1時間かけて滴下し、30分間かき混ぜた。次いで、混合物をかき混ぜながら−60℃まで冷却し、これにセネシオ酸2−メチル−3−ブテン−2−イル118g(97.8%純度)とテトラヒドロフラン100gの混合物を75分間で滴下した。混合物をゆっくりと室温まで上げ6時間かき混ぜ、再び氷冷した。氷冷した混合物に10%水酸化ナトリウム水溶液286gを加え、水層を分離した。分離した水層に20%塩酸400gを加えた後、ジエチルエーテルで抽出した。ジエチルエーテル溶液から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、目的物の粗生成物109.1g(94.6%純度、収率90%)を得た。
この粗生成物は、GC分析の結果、2−イソプロピリデン−5−メチル−4−ヘキセン酸(α,β−不飽和カルンボン酸)は含まれず、原料として十分な純度を有しており、このまま次の工程に用いた。
2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸エチルの合成
窒素雰囲気下、2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸(1)200.01g(85.4%純度)、炭酸カリウム89.82g、塩化テトラブチルアンモニウム11.28gとトルエン800gの混合物をかき混ぜながら、95℃から100℃に加熱し、ジエチル硫酸191.8gを35分間で滴下した。2時間加熱を続けた後、室温まで冷却して、水510gを加えた。トルエン溶液を分取し、通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、粗生成物を得た。得られた粗生成物を減圧蒸留して、目的物193.4g(99.7%純度、収率97%)を得た。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(塩基性条件での異性化による合成例)
窒素雰囲気下、カリウムt−ブトキシド106gとテトラヒドロフラン800mlの混合物に、2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸(1)145gとテトラヒドロフラン300mlの混合物を室温で加えた。還流下10時間かき混ぜた後、混合物を氷水にあけ、n−ヘキサンで抽出し、抽出液は廃棄した。水層に10%塩酸を加えて中和し、ジエチルエーテルで抽出した。ジエチルエーテル溶液から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、粗生成物135.30g(収率93%)を得た。
この粗生成物をn−ヘキサン65gから再結晶して結晶45.76g(収率32%)と母液(再結晶後、結晶をろ別したろ液の濃縮物、以下同様。)98.64g(収率68%)を得た。出発原料、粗生成物、結晶、母液のキャピラリーGC分析およびガスクロマトグラフィー−マススクトロメトリー(GC−MS)による異性体組成分析の結果を表1に示す。
異性体A:構造未同定 C9H15COOH
GC−MS(EI,70eV):28、41、55、67、81、91、107(ベースピーク)、125、135、153、168(M+)。
異性体B:構造未同定 C9H15COOH
GC−MS(EI,70eV):27、41、55、69(ベースピーク)、81、91、107、123、135、153、168(M+)。
異性体C:2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸(1)(出発原料)
GC−MS(EI,70eV):27,41,53,69(ベースピーク),81,100,111,125,135,150,168(M+)。
異性体D:2−イソプロピル−5−メチル−3,5−ヘキサジエン酸(2)
GC−MS(EI,70eV):27,43,53,67,81(ベースピーク),91,111,126[(M−C3H6)+],153,168(M+)。
異性体E:2−イソプロピリデン−5−メチル−4−ヘキセン酸(h)
GC−MS(EI,70eV):27,41,55,67,81,95,107(ベースピーク),125,135,153,168(M+)。
異性体F:(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)(目的の中間体)
GC−MS(EI,70eV):27,41,55,67,81,91,107,123,135,153(ベースピーク),168(M+)。
異性体G:(Z)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(j)
GC−MS(EI,70eV):27,41,55,67,81,91,107,123,135,153(ベースピーク),168(M+)。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(系内で生成する原料の2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸(1)合成時の塩基性条件のまま異性化させる合成例)
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(系内で生成する原料の2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸合成時の塩基性条件のまま異性化させる合成例と再結晶による単離例)
この粗生成物をn−ヘキサンから再結晶して結晶Iを8.72g(目的物85.5%純度、収率27%)と母液Iを23.16g(収率71%)得た。得られた結晶Iを更に再結晶して、結晶II4.75g(目的物100%純度、収率15%)と母液II4.05g(収率12%)を得た。出発原料、粗生成物、結晶I、母液I、結晶II、母液IIについて、実施例1と同様の条件でのキャピラリーGC分析およびGC−MSによる異性体組成分析の結果を表3に示す。表3の出発原料は対応するエチルエステルである。また、表3の異性体AからGは、表1に記載された異性体と同じである。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)
無色結晶
融点:111.3℃
GC−MS(EI,70eV):27,41,55,67,81,91,107,123,135,153(ベースピーク),168(M+)。
IR(D−ATR):ν=2959,2927,2870,2638,2574,2516,1667,1634,1586,1418,1323,1273,995cm−1。
1H−NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.22(6H,d,J=7.3Hz),1.89(3H,d,J=0.8Hz),1.91(3H,s),3.02−3.11(1H,m),6.26(1H,dt,J=11.8,1.2Hz),7.50(1H,d,J=11.8Hz)ppm。
13C−NMR(125MHz,CDCl3):δ=18.82,20.93(2C),27.05,27.10,120.47,133.13,135.96,146.03,174.07ppm。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(異性体混合物の塩基での再異性化による合成例と再結晶による精製単離例)
この粗生成物をn−ヘキサンから再結晶して結晶1.53g(目的物96.7%純度、収率7.3%)と母液14.93g(収率71%)を得た。出発原料、粗生成物、結晶、母液について、実施例1と同様の条件でのキャピラリーGC分析およびGC−MSによる異性体組成分析の結果を表4に示す。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(異性体混合物の塩基でのリサイクル再異性化による合成例)
窒素雰囲気下、実施例1で得た母液の異性体混合物(異性体比は表5に示す。)4.00gとテトラヒドロフラン20mlの混合物に室温でカリウムt−ブトキシド25.0gを加えた。反応混合物をかき混ぜながら加熱して12時間還流させた。室温まで冷却した後に氷水にあけ、n−ヘキサンで抽出し、抽出液は廃棄した。水層に10%塩酸を加えて中和し、ジエチルエーテルで抽出した。ジエチルエーテル溶液から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、粗生成物3.73g(収率93%)を得た。出発原料、粗生成物について、実施例1と同様の条件でのキャピラリーGC分析およびGC−MSによる異性体組成分析の結果を表5に示す。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(異性体混合物の塩基での再異性化による合成例)
窒素雰囲気下、実施例2と同様な方法で得た異性体混合物(異性体比は表6に示す。)10.0gと99.5%エタノール40mlの混合物に室温で25%水酸化ナトリウム水溶液15.0gを加えた。反応混合物をかき混ぜながら加熱して18時間還流させた。室温まで冷却した後、反応混合物を減圧濃縮してエタノールを留去した後に氷水にあけ、n−ヘキサンで抽出し、抽出液は廃棄した。水層に10%塩酸を加えて中和し、ジエチルエーテルで抽出した。ジエチルエーテル溶液から通常の洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により、粗生成物9.46g(収率95%)を得た。出発原料、粗生成物について、実施例1と同様の条件でのキャピラリーGC分析およびGC−MSによる異性体組成分析の結果を表6に示す。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(異性体混合物からの再結晶による精製単離例)
窒素雰囲気下、実施例4で得た母液の異性体混合物(異性体比は表7に示す。)14.93gをイソプロピルアルコール50mlから再結晶して結晶0.25g(収率2%)と母液14.18g(収率95%)を得た。出発原料、結晶、母液について、実施例1と同様の条件でのキャピラリーGC分析およびGC−MSによる異性体組成分析の結果を表7に示す。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(イオウ試薬による異性化による合成例)
出発原料、反応混合物、結晶I、母液I、結晶II、母液IIについて、実施例1と同様の条件でのキャピラリーGC分析およびGC−MSによる異性体組成分析の結果を表8に示す。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(異性体混合物のイオウ化合物による再異性化による合成例と異性体混合物からの再結晶による精製単離例)
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(異性体混合物からの再結晶による精製単離例)
(E)−および(Z)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸を含む異性体混合物(異性体比は表10に示す)41.29gをジイソプロピルエーテルから再結晶して、結晶I11.03g(収率27%)と母液I29.07g(収率70%)を得た。得られた母液Iを更にジエチルエーテルから再結晶して、結晶II3.50g(出発原料からの収率9%)と母液II25.38g(出発原料からの収率62%)を得た。出発原料、結晶I、母液I、結晶II、母液IIについて、実施例1と同様の条件でのキャピラリーGC分析およびGC−MSによる異性体組成分析の結果を表10に示す。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエノール(3)の合成
窒素雰囲気下、水素化アルミニウムリチウム20.0gとテトラヒドロフラン500mlの混合物に、氷冷下かき混ぜながら、2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)48.1g[98.0%純度、(E)−異性体純度98.1%]とテトラヒドロフラン300mlの混合物を70分間で滴下した。反応混合物を氷冷下30分間、室温で17.5時間かき混ぜた後、かき混ぜながら、順に酢酸エチル50g、水20.7g、25%水酸化ナトリウム水溶液12.42g、水70.38gを注意深く加え、生じた結晶をろ別した。ろ液を乾燥、濃縮して目的物の粗生成物54.99g[76.8%純度(溶媒を16.4%含む)、収率98%]を得た。
この粗生成物は、中間体として十分な純度を有しており、このまま次の工程に用いた。分析用サンプルとして濃縮により溶媒を除去し、得られた目的物の物性およびスペクトルデータを下記に示す。
無色液体
GC−MS(EI,70eV):27,43,55,69,81,93,111(ベースピーク),123,139,154(M+)。
IR(D−ATR):ν=3326,2962,2924,2871,1652,1615,1447,1379,1362,1077,1060,1043,996cm−1。
1H−NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.08(6H,d,J=7.3Hz),1.77(3H,s),1.81(3H,s),2.95−3.04(1H,m),4.16(2H,s),6.08(1H,dt,J=11.5,1.3Hz),6.20(1H,d,J=11.5Hz)ppm。
13C−NMR(125MHz,CDCl3):δ=18.10,21.38(2C),26.49,28.07,64.36,119.90,121.15,135.81,143.18ppm。
酢酸(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエニル(4)の合成
窒素雰囲気下、実施例11で得られた2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエノール(3)54.9g(76.8%純度)、ピリジン56.0g、アセトニトリル300mlの混合物に、氷冷下かき混ぜながら、無水酢酸60.0gを5分間で滴下した。反応混合物を氷冷で1時間、室温で17.5時間かき混ぜた。反応混合物に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を洗浄、乾燥、濃縮による後処理操作により目的物の粗生成物55.84gを得た。
この粗生成物を減圧蒸留して、目的物47.70g[93.4−96.6%純度(GC中で酢酸の脱離が起こるため実際の純度は、これらの値より大きい)、(E)−異性体純度98.0〜99.2%、収率75%]を得た。得られた目的物の物性およびスペクトルデータを下記に示す。
沸点:101−102℃/665Pa
EI−MS(70eV):27,43,55,67,77,93,105,121(ベースピーク),136,196(M+)。
CI−MS(70eV,イソブタン):137[ベースピーク、(M−AcOH+H)+]。
IR(D−ATR):ν=2964,2929,2873,1739,1651,1449,1375,1357,1232,1020cm−1。
1H−NMR(500MHz,CDCl3):δ=1.05(6H,d,J=6.9Hz),1.76(3H,s),1.81(3H,s),2.05(3H,s),2.96−3.04(1H,m),4.59(2H,s),6.07(1H,dt,J=11.5,1.3Hz),6.21(1H,d,J=11.5Hz)ppm。
13C−NMR(125MHz,CDCl3):δ=18.16,21.16,21.21(2C),26.49,28.07,66.57,119.78,125.10,137.19,137.55,170.84ppm。
(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)の合成
(イオウ化合物による異性化による合成例)
窒素雰囲気下、2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキサセン酸(1)5.0g(異性体純度99.5%)とベンゼンチオール40mgの混合物を100℃から120℃に加熱しながら5時間かき混ぜた。反応混合物について、実施例1と同様の条件でのキャピラリーGC分析の結果、反応混合物は2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキサセン酸の異性体比が99.6%であり、異性化はほとんど進行しない、または、反応の進行が非常に遅いことが示され、上記のように塩基による異性化とイオウ化合物により異性化を順次組み合わせることが重要であることが示された。
Claims (3)
- 下記式(1)に示す2−イソプロペニル−5−メチル−4−ヘキセン酸を異性化させて下記式(2)に示す(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸を得る異性化工程と、
得られた(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸(2)を還元して下記式(3)に示す(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエノールを得る還元工程と、
得られた(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエノール(3)をアセチル化して下記式(4)に示す酢酸(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエニルを得るアセチル化工程と
を少なくとも含む酢酸(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエニルの製造方法であって、
前記異性化工程が、塩基の存在下での異性化段階を少なくとも含む酢酸(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエニルの製造方法。
(式中、Acはアセチル基を示す。) - 前記異性化工程が、前記塩基の存在下での異性化段階と、その後のイオウ試薬の存在下での異性化段階を少なくとも含む請求項1に記載の酢酸(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエニルの製造方法。
- 前記異性化工程が、異性化により得られた異性体混合物を再結晶して(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエン酸を単離する再結晶段階をさらに含む請求項1又は請求項2に記載の酢酸(E)−2−イソプロピル−5−メチル−2,4−ヘキサジエニルの製造方法。
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