JP6227005B2 - Deaeration device and deaeration method - Google Patents
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Description
本発明は、脱気装置及び脱気方法に関し、さらに詳しくは、液体に溶存する気体を液体から除去する脱気装置及び脱気方法に関する。 The present invention relates to a deaeration device and a deaeration method, and more particularly to a deaeration device and a deaeration method for removing a gas dissolved in a liquid from the liquid.
液体中に溶存する気体は、液体を劣化させたり、液体を洗浄液として用いて電子部品等を洗浄する場合に電子部品等を損傷したりする等の不都合を発生させることがある。脱気装置は、液体に溶存する気体を液体から除去することによって、そうした不都合が発生することを防止している。こうした脱気装置は、様々な原理を利用している。脱気装置の中でも、真空ポンプを利用した脱気装置が一般に知られている。 The gas dissolved in the liquid may cause inconveniences such as deteriorating the liquid or damaging the electronic component or the like when cleaning the electronic component or the like using the liquid as a cleaning liquid. The deaeration device prevents such inconvenience from occurring by removing the gas dissolved in the liquid from the liquid. Such deaerators use various principles. Among the deaerators, a deaerator using a vacuum pump is generally known.
特許文献1〜3に提案されている脱気装置は、いずれも電子部品等を洗浄する洗浄液から洗浄液に溶存する気体を除去するための脱気装置である。これらの脱気装置は、洗浄液が注入された容器内部を減圧することによって洗浄液に溶存する気体を除去している。こうした脱気装置の減圧手法は、真空ポンプで容器の内部に存在する気体を吸引することによって、容器の内部を減圧する手法である。
The deaeration devices proposed in
しかしながら、特許文献1〜3に提案されている脱気装置は、洗浄液の循環経路の他に容器の内部を減圧するための真空ポンプを設けることが必要である。そのため、これらの脱気装置は、脱気装置の構成が複雑になる。また、脱気装置を適用する洗浄装置や脱気する洗浄液の種類に応じて真空ポンプを適宜に選定することが必要になる。
However, the deaeration devices proposed in
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その目的は、構造が簡素で且つ、脱気装置を組み込むシステムや脱気する液体の種類に関わらず高い精度で液体から気体を脱気することができる脱気装置及び脱気方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and its purpose is to remove gas from a liquid with high accuracy irrespective of a system having a simple structure and a system incorporating a deaeration device and the type of liquid to be deaerated. An object of the present invention is to provide a deaeration device and a deaeration method that can be noticed.
密閉可能な構造を有し、脱気される液体が溜められるチャンバーと、前記チャンバーの内部の密閉状態を保持しつつ、前記チャンバーの上部から前記チャンバー内に前記液体を注入する注入部と、前記チャンバー内に溜められている前記液体を前記チャンバーの下部から排出させる排出手段と、前記チャンバー内に溜めた液体から脱気された気体を排気する排気部と、
前記排気部を開閉する開閉手段と、前記チャンバー内に注入する前記液体の流量を調整する注入量調整手段と、前記開閉手段の動作及び前記注入量調整手段の動作を制御するコントローラと、を備え、前記排出手段が、前記チャンバーの内部を密閉した状態で、前記チャンバー内に注入する前記液体の流量よりも多くの流量の前記液体を前記チャンバー内から排出し、前記チャンバー内を減圧させ、前記コントローラは、前記注入量調整手段を制御して前記チャンバー内から排出される前記液体の流量よりも少ない流量の前記液体を前記チャンバー内に注入する間に、前記開閉手段で前記排気部を閉じて前記チャンバー内を密閉状態とし、前記注入量調整手段を制御して前記チャンバー内から排出する前記液体の流量よりも多くの前記液体を前記チャンバー内に注入する間に、前記開閉手段で前記排気部を開いて前記チャンバー内の密閉状態を解除するように制御している、ことを特徴とする。
A chamber having a sealable structure, in which a liquid to be degassed is stored; an injection unit for injecting the liquid into the chamber from above the chamber while maintaining a sealed state inside the chamber; A discharge means for discharging the liquid stored in the chamber from a lower portion of the chamber; an exhaust section for exhausting a gas degassed from the liquid stored in the chamber;
An opening / closing means for opening and closing the exhaust part, an injection amount adjusting means for adjusting a flow rate of the liquid injected into the chamber, and a controller for controlling the operation of the opening / closing means and the operation of the injection amount adjusting means. , the discharge means is in a closed state of the interior of the chamber, the liquid in the flow rate more than the liquid flow rate to be injected into the chamber and discharged from the chamber, to reduce the pressure of the chamber, wherein The controller controls the injection amount adjusting means to close the exhaust portion with the opening / closing means while injecting the liquid with a flow rate smaller than the flow rate of the liquid discharged from the chamber into the chamber. The inside of the chamber is hermetically sealed, and the liquid amount larger than the flow rate of the liquid discharged from the chamber is controlled by controlling the injection amount adjusting means. While injecting the serial chamber, open the vent in the opening and closing means is controlled so as to release the sealed state of the chamber, characterized in that.
この発明によれば、チャンバー内に当該チャンバーの上部から液体を注入する注入部と、チャンバー内に溜められている液体をチャンバーの下部から排出させる排出手段とを備え、チャンバー内を密閉した状態で、チャンバー内に注入する液体の流量よりも多くの流量の液体をチャンバー内から排出することによって、チャンバー内を減圧している。そのため、液体に溶存する気体を気泡として発生させることができ、気体を液体から脱気することができる。また、チャンバー内に注入する液体の流量よりも多くの流量の液体をチャンバーから排出してチャンバー内を減圧するので、別途に真空ポンプを設ける必要がない。その結果、脱気装置の構造を簡素にすることができる。また、真空ポンプを設けずに脱気を行うので、真空ポンプの性能に左右されないで液体に溶存する気体を液体から脱気することができる。 According to the present invention, the apparatus includes the injection portion for injecting the liquid into the chamber from the upper portion of the chamber, and the discharge means for discharging the liquid stored in the chamber from the lower portion of the chamber, and the chamber is sealed. The inside of the chamber is decompressed by discharging a liquid having a flow rate larger than that of the liquid to be injected into the chamber. Therefore, gas dissolved in the liquid can be generated as bubbles, and the gas can be degassed from the liquid. In addition, since a liquid having a flow rate higher than that of the liquid to be injected into the chamber is discharged from the chamber and the pressure in the chamber is reduced, it is not necessary to provide a separate vacuum pump. As a result, the structure of the deaeration device can be simplified. Further, since the deaeration is performed without providing the vacuum pump, the gas dissolved in the liquid can be degassed from the liquid without being influenced by the performance of the vacuum pump.
また、この発明によれば、コントローラが、チャンバー内から排出される液体の流量よりも少ない流量の液体をチャンバー内に注入する間に開閉手段で排気部を閉じ、チャンバー内から排出する液体の流量よりも多くの液体をチャンバーに注入する間に開閉手段で排気部を開くように制御しているので、チャンバー内を確実に減圧して液体に溶存する気体を液体から脱気することができると共に、脱気された気体をチャンバーから確実に排気することができる。
Further , according to the present invention, the controller closes the exhaust portion by the opening / closing means while injecting the liquid having a flow rate smaller than the flow rate of the liquid discharged from the chamber into the chamber, and the flow rate of the liquid discharged from the chamber Since the exhaust part is controlled to open with the opening / closing means while injecting more liquid into the chamber, the gas dissolved in the liquid can be degassed from the liquid by reliably reducing the pressure in the chamber. The degassed gas can be reliably exhausted from the chamber.
本発明に係る脱気装置において、前記排出手段は、前記排気部に接続されており、前記開閉手段が開いたときに前記チャンバー内から排気される気体を吸引していることを特徴とする。 In the deaeration apparatus according to the present invention, the exhaust unit is connected to the exhaust unit, and sucks a gas exhausted from the chamber when the opening / closing unit is opened.
この発明によれば、排出手段は、開閉手段が開いたときにチャンバー内から排気される気体を吸引しているので、液体から脱気された気体をチャンバー内から強制的に排気させることができる。 According to the present invention, since the discharging means sucks the gas exhausted from the chamber when the opening / closing means is opened, the gas degassed from the liquid can be forcibly exhausted from the chamber. .
本発明に係る脱気装置において、前記チャンバー内に溜められている前記液体の液面があらかじめ設定された前記チャンバーの下限位置に到達したことを検出する下限センサーと、前記下限センサーからの信号に基づいて作動するタイマーと、をさらに備え、前記下限センサーが、前記液体の液面が前記下限位置に到達したことを検出したときに、前記コントローラは、前記注入量調整手段の動作を制御して前記チャンバーから排出させる前記液体の流量よりも多くの流量の前記液体を前記チャンバーに注入するように制御し、前記タイマーが作動してから前記液体の液面が前記チャンバーのあらかじめ設定された上限位置に到達するまでに要する所定時間を経過したときに、前記コントローラは、前記注入量調整手段の動作を制御して前記チャンバーから排出される前記液体の流量よりも少ない流量の前記液体を前記チャンバーに注入するように制御していることを特徴とする。 In the deaeration device according to the present invention, a lower limit sensor that detects that the liquid level of the liquid stored in the chamber has reached a preset lower limit position of the chamber, and a signal from the lower limit sensor. And a timer that operates based on the controller, and when the lower limit sensor detects that the liquid level of the liquid has reached the lower limit position, the controller controls the operation of the injection amount adjusting means. The liquid level of the liquid is controlled so as to be injected into the chamber at a flow rate larger than the flow rate of the liquid to be discharged from the chamber, and the liquid level of the liquid is set to a preset upper limit position of the chamber after the timer is activated. The controller controls the operation of the injection amount adjusting means when the predetermined time required to reach Characterized in that it is controlled so that the liquid flow rate is smaller than the flow rate of the liquid discharged from Yanba injected into the chamber.
この発明によれば、上記の下限センサーを備え、液体の液面がチャンバー内の下限位置に到達したことを下限センサーが検出したときに、上記のコントローラは、注入量調整手段の動作を制御してチャンバー内から排出させる液体の流量よりも多くの流量の液体をチャンバー内に注入するように制御しているので、チャンバー内に脱気するのに適切な量の液体を溜めておくことができる。また、下限センサーからの信号に基づいて作動するタイマーを備え、タイマーが下限センサーからの信号に基づいて作動しはじめて、液面がチャンバー内のあらかじめ設定された上限位置に到達するまでに要する所定時間を経過したときに、コントローラは、注入量調整手段の動作を制御してチャンバーから排出される液体の流量よりも少ない流量の液体をチャンバーに注入するように制御しているので、チャンバー内を確実に減圧させることができる。 According to the present invention, the controller includes the lower limit sensor, and the controller controls the operation of the injection amount adjusting means when the lower limit sensor detects that the liquid level has reached the lower limit position in the chamber. Since the liquid is controlled to be injected into the chamber at a flow rate higher than the flow rate of the liquid discharged from the chamber, an appropriate amount of liquid can be stored in the chamber for degassing. . In addition, a timer that operates based on the signal from the lower limit sensor is provided, and the predetermined time required for the liquid level to reach a preset upper limit position in the chamber after the timer starts to operate based on the signal from the lower limit sensor. Since the controller controls the operation of the injection amount adjusting means to inject a liquid with a flow rate smaller than the flow rate of the liquid discharged from the chamber into the chamber. Can be depressurized.
本発明に係る脱気装置において、前記チャンバー内のあらかじめ設定された所定位置よりも上側を冷却する冷却装置を備えていることを特徴とする。 The deaeration device according to the present invention is characterized by comprising a cooling device that cools the upper side of a predetermined position in the chamber.
この発明によれば、チャンバー内のあらかじめ設定された所定位置よりも上側を冷却する冷却装置を備えているので、冷却装置がチャンバー内の所定位置よりも上側を冷却することによって、チャンバー内の減圧を行い易くすることができる。また、液体が蒸発しても、再び液化することによって脱気を効果的に行うことができる。なお、冷却装置は、チャンバー内のあらかじめ設定された所定位置よりも上側に配置された配管と、冷媒を配管に循環させるチラーとを備えて構成するとよい。 According to the present invention, since the cooling device for cooling the upper side of the predetermined position in the chamber is provided, the cooling device cools the upper side of the predetermined position in the chamber, thereby reducing the pressure in the chamber. Can be made easier. Moreover, even if the liquid evaporates, deaeration can be effectively performed by liquefying again. The cooling device may include a pipe disposed above a predetermined position set in the chamber and a chiller that circulates the refrigerant through the pipe.
密閉されたチャンバーの内部に注入部によって当該チャンバーの上部から液体を注入し、前記密閉されたチャンバー内に液体を注入する際に、前記チャンバー内に注入する液体の流量よりも多くの流量の前記液体を前記チャンバーの下部から排出し、前記チャンバー内を減圧させ、前記液体の液面があらかじめ設定された前記チャンバー内の下限位置に到達したときに、前記チャンバー内から排出される前記液体の流量よりも多い流量の前記液体を前記チャンバー内に注入するように制御し、前記液体の液面が前記チャンバー内のあらかじめ設定された上限位置に到達したときに、前記チャンバー内から排出される前記液体の流量よりも少ない流量の前記液体を前記チャンバー内に注入するように制御している、ことを特徴とする。
The implant inside the sealed chamber injection of the liquid from the top of the chamber, when the liquid is injected before Symbol sealed chamber, more than the flow rate of the liquid to be injected into the chamber the flow rate of The liquid is discharged from the lower part of the chamber, the inside of the chamber is depressurized, and the liquid discharged from the chamber is discharged when the liquid level of the liquid reaches a preset lower limit position in the chamber. The liquid is controlled to be injected into the chamber at a flow rate higher than the flow rate, and the liquid discharged from the chamber when the liquid level reaches a preset upper limit position in the chamber. Control is performed so that the liquid having a flow rate smaller than the flow rate of the liquid is injected into the chamber .
この発明によれば、チャンバーの内部を密閉した状態で、チャンバー内に注入する液体の流量よりも多くの流量の液体をチャンバー内から排出して、チャンバー内を減圧するので、液体に溶存する気体を気泡として発生させ、気体を液体から脱気することができる。また、チャンバー内に注入する液体の流量よりも多くの流量の液体をチャンバー内から排出することによってチャンバー内を減圧するので、別途に真空ポンプを設ける必要がない。 According to the present invention, in a state where the inside of the chamber is sealed, a liquid having a flow rate larger than the flow rate of the liquid injected into the chamber is discharged from the chamber and the pressure in the chamber is reduced. Can be generated as bubbles and the gas can be degassed from the liquid. Further, since the inside of the chamber is decompressed by discharging a liquid having a flow rate larger than the flow rate of the liquid to be injected into the chamber, it is not necessary to provide a separate vacuum pump.
また、この発明によれば、液体の液面があらかじめ設定されたチャンバー内の下限位置に到達したときに、チャンバー内から排出される液体の流量よりも多い流量の液体をチャンバー内に注入するように制御しているので、チャンバー内に脱気に必要な量の液体を確保することができる。一方、液体の液面がチャンバー内のあらかじめ設定された上限位置に到達したときに、チャンバー内から排出される液体の流量よりも少ない流量の液体をチャンバー内に注入するように制御しているので、チャンバー内を確実に減圧させることができる。
According to the present invention, when the liquid level reaches the lower limit position in the chamber set in advance, the liquid having a flow rate larger than the flow rate of the liquid discharged from the chamber is injected into the chamber. Therefore, an amount of liquid necessary for deaeration can be secured in the chamber. On the other hand, when the liquid level reaches the preset upper limit position in the chamber, the liquid is controlled to be injected into the chamber at a flow rate smaller than the liquid flow rate discharged from the chamber. The pressure inside the chamber can be reliably reduced.
本発明に係る脱気方法において、チャンバー内のあらかじめ設定された所定位置よりも上側を冷却することを特徴とする。 In the deaeration method according to the present invention, the upper side of a predetermined position in the chamber is cooled.
この発明によれば、チャンバー内のあらかじめ設定された所定位置よりも上側を冷却しているので、チャンバー内の減圧を行い易くすることができる。また、液体が蒸発しても、再び液化することによって脱気を効果的に行うことができる。 According to this invention, since the upper side of the predetermined position in the chamber is cooled, the pressure in the chamber can be easily reduced. Moreover, even if the liquid evaporates, deaeration can be effectively performed by liquefying again.
本発明によれば、脱気装置の構造を簡素にすることができる。また、脱気装置が適用される装置や脱気する液体の種類に関わらず高い精度で液体から気体を脱気することができる。 According to the present invention, the structure of the deaeration device can be simplified. In addition, gas can be degassed from the liquid with high accuracy regardless of the apparatus to which the degassing apparatus is applied and the type of liquid to be degassed.
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、本発明の技術的範囲は、以下の記載や図面にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲で種々の変形が可能である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The technical scope of the present invention is not limited to the following description and drawings, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.
[基本構成]
本発明に係る脱気装置1は、図1及び図2に示すように、脱気される液体100が内部に溜められるチャンバー10と、チャンバー10の上部からチャンバー10内に液体100を注入する注入部20と、チャンバー10内に溜められている液体100をチャンバー10の下部から排出させる排出手段30とを備えている。この脱気装置1は、チャンバー10の内部を密閉した状態で、チャンバー10に注入させる液体100の流量よりも多くの流量の液体100をチャンバー10内から排出することによってチャンバー10内を減圧して液体100から脱気している。[Basic configuration]
As shown in FIGS. 1 and 2, the
なお、本明細書において、チャンバー10の上部とは、チャンバー10の上面を構成している蓋15の位置には限定されず、チャンバー10の側面を構成している本体11の相対的に上側の領域を含む部位を意味する。例えば、図2に示したチャンバー10の場合、チャンバー10の上部とは、蓋15や本体11の所定位置201よりも上側の領域を意味する。また、チャンバー10の下部とは、チャンバー10の最も低い部位には限定されず、チャンバー10の相対的に下側の領域を含む部位を意味する。例えば、図2に示したチャンバー10の場合、チャンバー10の下部とは、下限位置202よりも底面12側の領域を意味する。
In the present specification, the upper portion of the
この脱気装置1は、脱気装置1の構造を簡素にすることができるという特有の効果を奏する。また、脱気装置1が適用される装置や脱気する液体の種類に関わらず高い精度で液体100から気体を脱気することができるという効果も奏する。
This
なお、本発明に係る脱気装置1及び脱気方法は、超音波を利用して電子部品やウエハー等を洗浄したり、表面の不純物を剥離したりする洗浄システムに組み込むことによってその効果を向上させることができるので、「Surface・Ultrasonic・Flat・Fix・System」、略して「Suffix・System」と呼ばれている。ただし、本発明の脱気装置1及び脱気方法は、超音波を利用した洗浄システム以外の洗浄装置に組み込んで電子部品やウエハー等を洗浄する洗浄液から気体を脱気するために利用する場合に用いることができる。また、本発明の脱気装置1及び脱気方法は、その他に、液体100が溶存する気体の影響を受けて劣化することを防止するために利用することができる。特に溶存する気体が酸素の場合、液体が酸化することを防止するために利用することができる。
The
[全体構成の概要]
脱気装置1は、脱気される液体100が内部に溜められるチャンバー10と、チャンバー10の上部からチャンバー10内に液体100を注入する注入部20と、チャンバー10内に溜められている液体100をチャンバー10の下部から排出させる排出手段としてのポンプ30(以下、単にポンプ30という。)と、を備えている。なお、ポンプ30は、従来の脱気装置が備えている、チャンバー10内の気体を排気するだけのために設けた真空ポンプではない。また、脱気装置1は、チャンバー10内の気体を排出する排気部40と、チャンバー10内の液体100の液面101の位置を検出する液面センサー80と、チャンバー10の内圧を計測する圧力センサー90とを備えている。[Overview of overall configuration]
The
注入部20は、チャンバー10の上部から液体100をチャンバー10内に注入するための構成を有し、メインの配管21とサブの配管25とから構成されており、チャンバー10内に注入する液体100の流量を変化させることができるようになっている。ポンプ30は、チャンバー10の下部と配管31で接続されており、チャンバー10内に溜められた液体100を吸引してチャンバー10内から排出させている。排気部40は、配管41及び開閉バルブ42を備えて構成されている。配管41は、その一端がチャンバー10に接続され、その他端が配管31に接続されている。また、開閉バルブ42は、配管41の途中に設けられている。
The
脱気装置1は、その他に、チャンバー10内に供給される液体100を溜めておく図示しない液溜部と配管31とを連絡している配管35により構成されたバイパス経路を備えている。配管35からなるバイパス経路は、チャンバー10内から液体100を吸引しない間も、ポンプ30が液体100を吸引できるようにしている。
In addition, the
脱気装置1は、さらに、脱気装置1の動作を制御するコントローラ60と、圧縮空気が流れるパイロットライン70とを備えている。コントローラ60は、脱気装置1の動作を制御しており、タイマー65と、液面センサー80からの信号と、圧力センサー90からの信号とに基づいて制御を行っている。なお、タイマー65はコントローラ60に内蔵されている。パイロットライン70は、注入部20に接続されたライン、排気部40に接続されたライン、及びポンプ30に接続されたライン等から構成されている。このパイロットライン70は、コントローラ60からの指令を受け、制御に必要なラインに圧縮空気を供給している。
The
なお、脱気装置1は、必要に応じて冷却装置50が設けられる。冷却装置50は、チャンバー10の内部を冷却し、気体の温度を下げることを主目的にしている装置である。なお、冷却装置50は、脱気する液体の種類に応じて設けられる装置であり、必須の構成ではない。
In addition, the
以下、脱気装置1が備えている各構成について適宜に図面を参照しながら説明する。
Hereinafter, each structure with which the
(チャンバー)
チャンバーは、図2に示すように構成されている。このチャンバー10は、その内部に液体100を溜める部位であり、本体11と蓋15とから構成されている。本体11は、上部が開放されており、下部は底面12によって閉じられている。蓋15は、本体11に対して着脱可能に構成されており、開放されたチャンバー10の本体11の上部に装着して本体11の上部を閉じたり、取り外して本体11の上部を開いたりできるように構成されている。本体11と蓋15とは、蓋15が本体11の上部を閉じたときに両者の間に設けられたシール材等によって密閉される。本体11の底面12は、当該チャンバー10内に溜められた液体100を排出させる排出口13を備えており、図示の例では、この排出口13は底面12の最も低い位置に設けられている。チャンバー10は、液体100が注入部20から注入され、排出口13から排出されるように構成されており、液体100を一時的に滞留させている。(Chamber)
The chamber is configured as shown in FIG. The
なお、チャンバー10の容量は、注入する液体100の流量とチャンバー10内から排出する液体100の流量とに応じて適宜に設定される。また、チャンバー10内に注入する液体100の流量と、チャンバー10内から排出する液体100の流量とは、脱気される液体100の種類や当該脱気装置1が適用される対象によって適切に設定される。
The capacity of the
(注入部)
注入部20は、脱気される液体100をチャンバー10内に注入するための手段である。図1及び図2に示す実施形態の脱気装置1では、注入部20は2本の配管21,25によって構成されている。2本の配管21,25は、チャンバー10の蓋15をそれぞれ貫通し、それらの先端側がチャンバー10の内部に挿入されている。2本の配管21,25のうち一本の配管はメインの配管21であり、もう1本の配管はサブの配管25である。(Injection part)
The
メインの配管21は、蓋15の任意の位置に設けられている。例えば、チャンバー10のほぼ中央の位置で蓋15を貫通するようにして設けられている。メインの配管21はその先端にノズル22を備えており、液体100を霧状にしてチャンバー10に注入している。このメインの配管21は、脱気装置1が作動している間、チャンバー10の内部に液体100を常に注入させている。なお、ノズル22は、チャンバー10の内部に不純物が浸入することを防止するフィルタをその内部に備えていてもよい。
The
サブの配管25も、蓋15の任意の位置に設けられている。例えば、サブの配管25は、メインの配管21よりも、チャンバー10の半径方向の外側の位置で蓋15を貫通するようにして設けられている。サブの配管25は、チャンバー10の内部に溜められている液体100の量が少なくなり、チャンバー10の内部に液体100を補給する際に用いられる配管である。サブの配管25は、後述するパイロットライン70により開閉が制御される開閉バルブ27を備えている。液体100は、開閉バルブ27を開くことによりサブの配管25からチャンバー10内に注入され、開閉バルブ27を閉じることによりチャンバー10内への液体100の注入が停止される。サブの配管25も、その先端にノズル26を備えており、液体100を霧状にしてチャンバー10に注入している。なお、このサブの配管25も、チャンバー10の内部に不純物が浸入することを防止するフィルタをその内部に備えていてもよい。
The
開閉バルブ27を備えたサブの配管25は、開閉バルブ27を開くことによって、開閉バルブ27が閉じたときより多くの液体100をチャンバー10内に注入し、開閉バルブ27を閉じることによって開閉バルブ27が開いているときより少ない液体100をチャンバー10内に注入しており、注入量調整手段として機能している。
The
(排出手段としてのポンプ)
ポンプ30は、配管31を介してチャンバー10に接続されている。このポンプ30は、チャンバー10内に溜められた液体100をチャンバー10内から排出している。なお、液体100の排出は、ポンプ30によって強制的に行われている。ポンプ30は、注入部20のメインの配管21のみがチャンバー10に注入する液体100の流量よりも多くの液体100をチャンバー10内から排出している。一方、ポンプ30は、メインの配管21及びサブの配管25の双方によってチャンバー10内に注入される液体100の流量よりも少ない液体100をチャンバー10内から排出している。また、このポンプ30は、パイロットライン70によって作動の開始と停止とが制御されている。(Pump as discharge means)
The
排気部40は、チャンバー10内に溜められている液体100から脱気された気体を排気する部位である。排気部40は、蓋15からチャンバー10の外側に向けて延び、配管31に接続されている配管41と、パイロットライン70によって開閉動作が行われる開閉手段としての開閉バルブ42(以下、単に開閉バルブ42という。)と、を備えている。注入させる液体100の流量よりも多くの流量の液体100をポンプ30が排出する間、開閉バルブ42は、閉じられることによってチャンバー10の内部を密閉している。一方、チャンバー10内の液体100の液面101がチャンバー10のあらかじめ設定された上限位置203まで到達するように液体100をチャンバー10に補充している間、開閉バルブ42は、開かれている。開閉バルブ42が開かれている間、ポンプ30は、配管41を介してチャンバー10内の気体を吸引することによって液体100から脱気された気体をチャンバー10の外に排気している。なお、チャンバー10から排気された気体は、ポンプ30の下流側に設けられた配管43を通して外部に放出される。
The
(液面センサー)
液面センサー80は、上下方向に延びるように配置された心棒81と、心棒81の上側と下側の2箇所にそれぞれ設けられたフロート82,83とにより構成されている。2箇所に設けられたフロート82,83は、心棒81の一定の範囲を上下方向に移動可能にそれぞれ構成されており、液体100の浮力によって上側に移動する。液面センサー80を構成している下側のフロート83は、チャンバー10の内部に溜められている液体100の液面101がチャンバー10のあらかじめ設定された位置に到達したことを検出している。なお、下側のフロート83は、後述する脱気装置1の作用の欄で説明するように、液面101が上昇し下限位置202を通過することも検出している。また、液面センサー80を構成している上側のフロート82は、チャンバー10の内部に溜められている液体100の液面101がチャンバー10のあらかじめ設定された位置を通過することを検出している。(Liquid level sensor)
The
下側に設けられたフロート83は、液体100の液面101がチャンバー内のあらかじめ設定された下限位置202に達したかどうかを検知する下限センサーである。液体100の液面101が下限位置202に達したとき、液体100の浮力によって押し上げられていたフロート83が下降する。フロート83は、下降することによって、液体100の液面101が下限位置202に達したことを検知している。また、フロート83は、液面101の上昇に伴って押し上げられたときに、タイマー65の作動を開始させている。
The
上側に設けられたフロート82は、後述する冷却装置50を設けた場合に設けられるセンサーである。フロート82は、液体100の液面101がチャンバー10内のあらかじめ設定された所定位置201を通過したことを検知するセンサーであって、冷却装置50の作動の開始及び停止を行うスイッチとして機能している。液体100の液面101が上昇して所定位置201を通過するとき、フロート82は液体100の浮力によって押し上げられる。フロート82が押し上げられることによって、液体100の液面101が所定位置201まで上昇したことが検知される。一方、液体100の液面101が下降して所定位置201を通過するとき、浮力によって押し上げられていたフロート82は下降する。フロート82が下降することによって、液体100の液面101が所定位置201まで下降したことが検知される。
The
以上、液面センサーがフロート82,83で構成された場合を例に液面センサーについて説明した。しかし、液面センサーはフロート82,83を使用することには限定されない。液面センサーは、光学的に液面101の位置を検出する光センサー、超音波を利用して液面101の位置を検出する超音波センサー、及び静電容量の変化を思料して液面101の位置を検出する静電容量式レベルセンサー等の種々のセンサーを使用することができる。
The liquid level sensor has been described above by taking as an example the case where the liquid level sensor includes the
(タイマー)
タイマー65は、コントローラ60に設けられており、下限センサーであるフロート83からの信号に基づいてカウントを開始するように設定されている。このタイマー65は、液体100の液面101が下限位置202からチャンバー10内のあらかじめ設定された上限位置203に到達するまでの時間があらかじめ設定されている。フロート83が設けられている下限位置202とチャンバー10の上限位置203との間の容積はあらかじめ設定されている。また、注入部20がチャンバー10に液体100を注入する流量もあらかじめ設定されている。そのため、液面101の位置の制御は、タイマー65で時間を設定し、開閉バルブ27を閉じるタイミングを制御することによって行うことができる。(timer)
The
なお、上記したチャンバー10内のあらかじめ設定された上限位置203は、チャンバー10の蓋15が存在するチャンバー10の上端に設定するとよい。ただし、上限位置203は、チャンバー10の上端に設定することには限定されず、所定位置201とチャンバー10の上端との間の任意の位置に設定してもよい。
The preset
(圧力センサー)
圧力センサー90は、チャンバー10の内圧を計測しており、圧力に応じた信号をコントローラ60に送っている。この圧力センサー90は、チャンバー10の内圧を計測することによって、チャンバー10の内圧が、液体100から気体を脱気するのに適した圧力まで減圧されているかどうかを判断することに利用されている。(pressure sensor)
The
(パイロットライン)
パイロットライン70は、圧縮空気が流れるラインであり、注入部20が備えている開閉バルブ27の開閉、ポンプ30の作動の開始及び停止、並びに排気部40が備えている開閉バルブ42の開閉を行っている。なお、冷却装置50に設けられた開閉バルブ54の開閉もパイロットライン70が行っている。(Pilot line)
The
図1に示したパイロットライン70に示した符号27,30,42,54は、注入部20の開閉バルブ27、ポンプ30、排気部40の開閉バルブ42及び冷却装置50の開閉バルブ54にそれぞれ対応している。このパイロットライン70は、コントローラ60からの指令に基づいて、開閉バルブ27に接続されたライン、開閉バルブ42に接続されたライン、及び開閉バルブ54に接続されたラインに圧縮空気を流したり停止したりすること、及びポンプ30に接続されたラインに圧縮空気を流したり圧縮空気の流れを停止したりすることを制御している。
1 correspond to the opening / closing
例えば、注入部20の開閉バルブ27を開く場合、圧縮空気が開閉バルブ27に接続されているパイロットライン70に流され、開閉バルブ27の図示しないスプールは、流された圧縮空気によって移動される。逆に、注入部20の開閉バルブ27を閉じる場合、開閉バルブ27に接続されているパイロットライン70に流されていた圧縮空気が停止され、開閉バルブ27の図示しないスプールが元に戻される。
For example, when opening the opening / closing
なお、図1に示すパイロットライン70は、開閉バルブ27に接続されたライン、開閉バルブ42に接続されたライン、及び開閉バルブ54に接続されたラインに圧縮空気を同時に流したり停止したりするように構成したり、開閉バルブ27に接続されたライン、開閉バルブ42に接続されたライン、及び開閉バルブ54に接続されたラインの中から任意に選定したラインに別々に圧縮空気を流したり停止したりするように構成したりしてもよい。
Note that the
(コントローラ)
コントローラ60は、パイロットライン70の中のどのラインに圧縮空気を流すかを選択することによって、(1)注入部20が備えている開閉バルブ27の開閉、(2)ポンプ30の作動の開始及び停止、(3)排気部40が備えている開閉バルブ42の開閉、並びに(4)冷却装置50の開閉バルブ54の開閉の制御を行っている。(controller)
The
その際、コントローラ60は、液面センサー80のフロート83及びタイマー65からの信号に基づいて圧縮空気を流すパイロットライン70を選択すると共に、そのパイロットライン70に流れていた圧縮空気を停止している。
At that time, the
このコントローラ60の主な制御の内容は、次の通りである。すなわち、下限センサーであるフロート83が、液体100の液面101が下限位置202に到達したことを検出したときに、コントローラ60は、注入部20の開閉バルブ27を開くように指令を出し、チャンバー10内から排出される液体100の流量よりも多くの流量の液体100をチャンバー10内に注入させている。また、そのときに、フロート83が送る信号はタイマー65を作動させる。このタイマー65は、上記したように、液体100がチャンバー10内のあらかじめ設定された上限位置203に到達するまでの時間が設定されている。一方、タイマー65が作動してから液体100の液面101がチャンバー10内のあらかじめ設定された上限位置203に到達するまでに要する所定時間が経過したときに、コントローラ60は、開閉バルブ27を閉じる指令を出し、チャンバー10内から排出される液体100の流量よりも少ない流量の液体100をチャンバー10内に注入するように制御している。
The main control contents of the
コントローラ60は、圧力センサー90からの信号に基づいて、脱気装置1の動作をリセットするように脱気装置1の動作を制御することも行っている。気体が液体100に混入している場合、液体100の液面101は、タイマー65にセットされた時間を経過しても、気体の影響を受けて、液面101はチャンバー10内のあらかじめ設定された上限位置203まで到達しない。特に、上限位置203をチャンバー10の上端に設定した場合、液面101とチャンバー10の上端との間に空間が形成されてしまう。こうした状態で脱気を行った場合、チャンバー10の内圧は、脱気を効果的に行うことができる圧力まで減圧されないおそれがある。この現象を生じさせないために、コントローラ60は、圧力センサー90からの信号に基づいて、脱気装置1の動作をリセットするように脱気装置1の動作を制御している。
The
コントローラ60は記憶部(図示しない)を備えており、この記憶部は効果的に脱気することができる最高内圧を記憶している。コントローラ60は、圧力センサー90から送信される圧力信号と記憶部に記憶されている最高内圧とを比較し、一定時間の間に最高内圧よりも高い圧力信号が圧力センサー90から送信され続けた場合、上述した脱気装置1の動作をリセットする。すなわち、チャンバー10内を空にし、次いで、液体100をチャンバー10内に入れて液面101を上昇させて、フロート83を作動させると共に、フロート83からの信号に基づいてタイマー65を作動させる。脱気装置1の動作をリセットすることは、液体100の液面101がチャンバー10内のあらかじめ設定された上限位置203に到達させることを可能にする。
The
(冷却装置)
冷却装置50は、上述したように、必要に応じて設けられる。冷却装置50は、チャンバー10の内部で液体100よりも上側に配置された配管52と、配管52に冷媒を循環させるチラー51とを備えている。配管52は、チャンバー10の内部で螺旋状に形成されており、チャンバー10の上部を効率よく冷却している。配管52とチラー51とは、配管53によって接続されている。(Cooling system)
As described above, the
螺旋状の配管52は、フロート82が設けられている所定位置201よりも上側でチャンバー10の側壁面から一定の距離だけ内側に離れた位置に配置されている。配管53は、開閉バルブ54を備えている。開閉バルブ54は、チラー51から供給された冷媒を螺旋状の配管52に供給したり、供給を停止したりしている。
The
具体的には、フロート82は、液体100の液面101が上昇して所定位置を通過するときに液体100の浮力によって押し上げられる。フロート82が押し上げられるとき、フロート82は信号を送る。コントローラ60は、フロート82から送られた信号を受けることによって、開閉バルブ54に供給していた圧縮空気を停止するようにパイロットライン70に指令を出す。開閉バルブ54は、パイロットライン70によって供給されていた圧縮空気が停止されることにより、図示しないスプールが移動し、閉じられる。開閉バルブ54が閉じられることによって、冷却装置50は、冷媒を螺旋状の配管52に供給することを停止する。
Specifically, the
一方、フロート82は、液体100の液面101が下降して所定位置201を通過するときに、浮力によって押し上げられていた状態から下降する。フロート82が下降するとき、フロート82は信号を停止する。コントローラ60は、フロート82から送られていた信号が停止されることによって、圧縮空気を開閉バルブ54に供給するようにパイロットライン70に指令を出す。パイロットライン70によって供給された圧縮空気によって、図示しないスプールが移動し、開閉バルブ54は開かれる。開閉バルブ54が開かれることによって、冷却装置50は、冷媒を螺旋状の配管52に供給する。
On the other hand, when the
この冷却装置50は、フロート82が設けられている所定位置201よりもチャンバー10内の上側を冷却することによって、チャンバー10内の上側に滞留する気体の体積を収縮させ、チャンバー10内を減圧し易くする機能も有している。チャンバー10内が減圧された場合、液体100に溶存している気体は気泡として現れやすくなる。冷却装置50は、こうした原理を利用することによって液体100に溶存する気体を液体100から除去させ易くしている。
The
また、冷却装置50が以上のように作動することによって、チャンバー10内の上側が冷却される。液体100が蒸発して気化した場合、チャンバー10内の上側を冷却することにより、気化した状態から再び液体の状態に戻すことができる。液体100に戻すことによってチャンバー10内が減圧されるので、冷却装置50は液体100から気体を効果的に脱気させることができる。こうした冷却装置50は、沸点が低い液体を脱気する場合に特に有効である。
Moreover, the upper side in the
以上、脱気装置1がパイロットライン70を備え、パイロット圧を利用して開閉バルブ27,47及びポンプ30の作動を制御する場合について説明した。しかし、脱気装置1は、開閉バルブ27,42及びポンプ30を電磁的に制御するように構成してもよい。
The case where the
以上の構成を備えた脱気装置1は、既存の洗浄装置等の配管に当該脱気装置1を接続するだけで、既存の洗浄装置に組み込むことができる。
The
[脱気装置の作用]
以上の構成を備えた脱気装置1は、密閉されたチャンバー10内にその上部から液体100を注入すると共に、チャンバー10内に注入する液体100の流量よりも多くの流量の液体100をチャンバー10の下部から排出することによって、チャンバー10内を減圧している。そうした脱気装置1の具体的な作用及び液面センサー80の動作に応じて行われる制御の内容について、図3及び図4を参照しながら説明する。なお、以下では、液面101が到達する上限位置203をチャンバー10の上端(蓋11が存在する位置である。ただし、蓋11は図3に示していない。)に設定した場合を例にして説明する。[Operation of deaerator]
The
この脱気装置1は、チャンバー10内に溜められている液体100が増量と減量とを繰り返しながら液体100に溶存する気体を液体100から脱気している。すなわち、チャンバー10内に溜められた液体100の液量が増加し、液体100の液面101がチャンバー10の上端に到達する工程と、チャンバー10内に溜められた液体100の液量が減少し、液体100の液面101が下限位置202に到達する工程とが繰り返される。液体100に溶存する気体は、こうした工程が繰り返されている間に液体100から脱気される。
The
(液面の上昇工程)
脱気装置1の電源が投入される(図4のS1)と、コントローラ60は、注入部20に接続されたパイロットライン70及び排気部40に接続されたパイロットライン70に圧縮空気を流すように指令を出す。これにより注入部20の開閉バルブ27が開かれる。液体100は、図3(A)に示すように、注入部20のメインの配管21及びサブの配管25の双方からチャンバー10内に注入される(図4のS2)。また、電源が投入されることによって、ポンプ30の作動が開始する。そのとき、液体100は配管35からなるバイパス経路を流れており、ポンプ30は、配管35からなるバイパス経路を流れている液体100が供給されている。また、排気部40の開閉バルブ42が開かれる(図4のS3)。ポンプ30は、配管41及び配管31を介してチャンバー10内に滞留している気体を吸引しており、チャンバー10内に滞留している気体がチャンバー10の外に排気される。チャンバー10の外に排気された気体は、配管41及び排気管43を通って外に排気される。(Liquid level rising process)
When the
液体100がチャンバー10内に注入され、液面101が上昇して下限位置202を通過したとき(図4のS5)、フロート83は液体100の浮力によって押し上げられる。フロート83が押し上げられることにより、フロート83は信号をコントローラ60に送る。この信号をコントローラ60に内蔵されたタイマー65が受けると、タイマー65が作動する(図4のS6)。タイマー65は液面101が下限位置202を通過してチャンバー10の上端に到達するまでの時間が設定されており、液面101がチャンバー10の上端に到達するまで、コントローラ60は開閉バルブ27を開いておくように制御している。
When the liquid 100 is injected into the
なお、冷却装置50は、上述したように、必要に応じて設けられる装置である。脱気装置1が冷却装置50を備えている場合、冷却装置50が備えるチラー51は、フロート82からの指令に基づいて螺旋状の配管52に冷媒を流したり、冷媒を停止したりしている。まず、電源が投入されたとき、チラー51は螺旋状の配管52に冷媒を循環させる(図4のS4)。液面101が上昇し、所定位置201を通過するとき(図4のS7)、フロート82が液体100の浮力によって押し上げられる。フロート82が押し上げられることにより、フロート82はコントローラ60に信号を送る。コントローラ60は、フロート82からの信号を受けることにより、螺旋状の配管52に冷媒を流すことを停止するようにチラー51に指令を出して、冷却が停止される(図4のS8)。
The
(液面の上昇工程から下降工程への切り替わり)
タイマー65の設定時間が経過したとき(図4のS9)、図3(B)に示すように、液面101がチャンバー10の上端に到達する。コントローラ60は、タイマー65の設定時間が経過したとき、注入部20の開閉バルブ27に接続されたパイロットライン70及び排気部40の開閉バルブ42に接続されたパイロットライン70に流されていた圧縮空気を停止する指令を出す。その結果、注入部20の開閉バルブ27は閉じられ、液体100はメインの配管21のみからチャンバー10内に注入される。また、排気部40の開閉バルブ42が閉じられ(図4のS10)、チャンバー10の内部は密閉される。(Switching from rising process to descending process)
When the set time of the
(液面の下降工程)
注入部20の開閉バルブ27が閉じられたとき、液体100が注入部20のメインの配管21のみからチャンバー10内に注入されるので、メインの配管21のみからチャンバー10内に注入される液体100の流量は、ポンプ30によってチャンバー10内から排出される液体100の流量よりも少なくなる。そのため、図3(C)に示すように、チャンバー10内に溜められている液体100は注入量と排出量との差の分だけ徐々に減少する(図4のS11)。また、この工程では、排気部40の開閉バルブ42は閉じられているので、チャンバー10の内部は密閉されている。そのため、チャンバー10内に溜められた液体100がポンプ30によって強制的にチャンバー10から排出される際に、チャンバー10内が減圧される。液体100に溶存している気体は、チャンバー10内が減圧する際に、液体100の内部から気泡として現れて液体100から除去される。気泡として現れた気体は、液面が下降する工程ではチャンバー10の上部に滞留する。
(Liquid level lowering process)
When the opening / closing
なお、脱気装置1が冷却装置50を備えている場合、冷却装置50は、次のようにして作動の開始が制御される。すなわち、液面が下降し、所定位置201を通過するとき(図4のS12)、浮力によって押し上げられていたフロート82は降下する。フロート82が下降することによって、フロート82は信号を停止する。コントローラ60は、フロート82が信号を送ることを停止したとき、螺旋状の配管52に冷媒を循環させるようにチラー51に指令を出して冷却するように制御する(図4のS13)。冷却装置50がこのように作動を開始したとき、チャンバー10の内部は、所定位置201よりも上側の領域が冷却される。その結果、液体が蒸発してチャンバー10の上部に滞留していても、冷却されることによって、蒸発したものが再び液化する。冷却装置50は、蒸発したものを再び液化することによって、液体100の脱気の効果を向上させている。
In addition, when the
(液面の下降工程から上昇工程への切り替わり)
チャンバー10内に溜められた液体100が減少し、液面101が下限位置202に到達したとき(図4のS14)、図3(D)に示すように、液体100の浮力により押し上げられていたフロート83は降下する。フロート83が下降すると、液面センサー80は信号を送ることを停止する。コントローラ60は、液面センサー80が信号を送ることを停止したとき、注入部20に接続されたパイロットライン70に圧縮空気を流す指令を出す。これにより注入部20の開閉バルブ27が開かれる。また、コントローラ60は、排気部40に接続されているパイロットライン70に圧縮空気を流す指令を出す。これにより排気部40の開閉バルブ42は開かれる(図4のS15)。(Switching from the descent process to the rise process)
When the liquid 100 stored in the
(2回目以降の液面の上昇工程及び下降工程)
注入部20の開閉バルブ27が開かれたとき、液体100はメインの配管21及びサブの配管25の双方からチャンバー10内に注入される。メインの配管21及びサブの配管25の双方からチャンバー10内に注入される液体100の流量は、ポンプ30によりチャンバー10内から排出される液体100の流量よりも多い。そのため、注入される液体100の流量と排出される液体100の流量との差の分だけチャンバー10内に溜められる液体100の流量は増加して液面101が上昇する(図4のS16)。フロート83は、液面101の上昇に伴って液体100の浮力によって押し上げられる。フロート83が押し上げられたとき、フロート83はコントローラ60に信号を送る。コントローラ60に内蔵されたタイマー65は、フロート83からの信号を受けることにより作動を開始する(図4のS17)。(Liquid level rising and lowering processes for the second and subsequent times)
When the opening / closing
コントローラ60、タイマー65の設定時間が経過するまで、開閉バルブ27を開いた状態を維持するように制御しているので、図3(E)に示すように、チャンバー10に溜められる液体100の液面101は上昇する。また、開閉バルブ42が開いているので、ポンプ30は配管31及び配管41を介してチャンバー10に滞留している気体を吸引し、チャンバー10の外に排気する。
Since the
タイマー65の設定時間が経過して(図4のS20)、図3(F)に示すように、液面101がチャンバー10の上端に到達したとき、コントローラ60は、排気部40の開閉バルブ42を閉じるように制御する(図4のS21)。また、注入部20の開閉バルブ27を閉じて、チャンバー10内に注入する液体100の流量をチャンバー10内から排出される液体100の流量よりも少なくする(図4のS22)。
When the set time of the
なお、脱気装置1が冷却装置50を備えている場合、液面101が所定位置201を通過するとき(図4のS18)に、コントローラ60はフロート82からの信号に基づいて冷却装置50の作動を上述した場合と同様に制御して冷却を停止する(図4のS19)。
When the
注入部20の開閉バルブ27を閉じた後、チャンバー10内に注入される流量よりも排出される流量が多くなるので、チャンバー10内に溜められた液体100の液面101は下降する。液面101が下降して所定位置201を通過したとき(図4のS23)、再び冷却が開始される(図4のS24)。液面101はさらに下降し、チャンバー内の下限位置202に到達する。
After closing the opening / closing
脱気装置1は、こうした工程(図4のS15からS25)を繰り返し行うことによって、液体100に溶存する気体を液体100から除去する。脱気装置1がこうした工程を繰り返し行っている間、圧力センサー90は、チャンバー10の内圧を常時計測している。なお、脱気装置1がこうした工程を行う1サイクルの時間は、チャンバー10の容量や注入部20がチャンバー10内に注入する液体100の流量、及びポンプ30がチャンバー10内から排出する液体100の流量に応じて適宜に設定される。
The
なお、脱気装置1がこうした工程を繰り返し行っている間に、液体100に気体が混入することによってチャンバー10内が所望の圧力まで減圧されないおそれがある。その場合、コントローラ60は、圧力センサー90からの圧力信号に基づいて、脱気装置1の動作をリセットするように脱気装置1の動作を制御する。具体的には、コントローラ65は、圧力センサー90から送信される圧力信号と記憶部に記憶されている最高内圧とを比較し、一定時間の間に最高内圧よりも高い圧力信号が圧力センサー90から送信され続けた場合、脱気装置1の動作をリセットする。すなわち、チャンバー10を空にし、次いで、液体100をチャンバー10に入れて液面101を上昇させて、フロート83を作動させると共に、フロート83からの信号に基づいてタイマー65を作動させる。
In addition, while the
なお、液体100の液面101は、フロート82が設けられた所定位置201とチャンバー100の上端との間の任意の位置に到達するように制御してもよい。その場合、液面101が所望の位置に到達するようにタイマーの時間を設定することによって、開閉バルブ27の作動は制御される。
The
こうした脱気装置1及び脱気方法は、以下に列記するように種々の効果を奏する。
Such a
脱気装置1及び脱気方法は、超音波を利用して電子部品やウエハー等を洗浄したり、表面の不純物を剥離したりする洗浄システムに組み込むことによってその効果を向上させることができる。ただし、超音波を利用した洗浄システム以外の一般的に用いられている洗浄装置に組み込んで電子部品やウエハー等を洗浄する洗浄液から気体を脱気するために利用することもできる。
The
脱気装置1及び脱気方法は、液体から超音波障害物を除去し、キャビテーション効果を向上させることができる。
The
脱気装置1及び脱気方法は、揮発性の溶剤を利用することができる。例えば、剥離液としてNMP(N−メチル−2−ピロリドン)、フォトレジスト剥離液等を用いることができる。
The
脱気装置1及び脱気方法は、液体100が溶存する気体の影響を受けて劣化することを防止することができる。特に、溶存する気体が酸素の場合、脱気装置1及び脱気方法は、液体が酸化することを防止することができる。
The
脱気装置1及び脱気方法は、洗浄や剥離等の時間を短縮させることができる。
The
脱気装置1は、その他に、既存の洗浄装置等が備える配管に接続するだけで洗浄装置等に容易に組み込むことができるという効果や、定期的なメインテナンスをする必要がないという効果を奏する。
In addition, the
1 脱気装置
10 チャンバー
11 本体
12 底面
13 排出部
15 蓋
20 注入部
21 メインの配管
22 ノズル
25 サブの配管(流量調整手段)
26 ノズル
27 開閉バルブ(流量調整手段)
30 ポンプ(排出手段)
31 配管
35 配管
40 排気部
41 配管
42 開閉バルブ(開閉手段)
50 冷却装置
51 チラー
52 螺旋状の配管
53 配管
60 コントローラ
65 タイマー
70 パイロットライン
80 液面センサー
81 心棒
82 フロート
83 フロート(下限センサー)
90 圧力センサー
100 液体
101 液面
201 所定位置
202 下限位置
203 上限位置
DESCRIPTION OF
26
30 Pump (Discharge means)
31
50
90
Claims (6)
前記チャンバーの内部の密閉状態を保持しつつ、前記チャンバーの上部から前記チャンバー内に前記液体を注入する注入部と、
前記チャンバー内に溜められている前記液体を前記チャンバーの下部から排出させる排出手段と、
前記チャンバー内に溜めた液体から脱気された気体を排気する排気部と、
前記排気部を開閉する開閉手段と、
前記チャンバー内に注入する前記液体の流量を調整する注入量調整手段と、
前記開閉手段の動作及び前記注入量調整手段の動作を制御するコントローラと、
を備え、
前記排出手段が、前記チャンバーの内部を密閉した状態で、前記チャンバー内に注入する前記液体の流量よりも多くの流量の前記液体を前記チャンバー内から排出し、前記チャンバー内を減圧させ、
前記コントローラは、
前記注入量調整手段を制御して前記チャンバー内から排出される前記液体の流量よりも少ない流量の前記液体を前記チャンバー内に注入する間に、前記開閉手段で前記排気部を閉じて前記チャンバー内を密閉状態とし、
前記注入量調整手段を制御して前記チャンバー内から排出する前記液体の流量よりも多くの前記液体を前記チャンバー内に注入する間に、前記開閉手段で前記排気部を開いて前記チャンバー内の密閉状態を解除するように制御している、
ことを特徴とする脱気装置。 A chamber having a sealable structure and storing a liquid to be degassed;
An injection part for injecting the liquid into the chamber from the upper part of the chamber, while maintaining a sealed state inside the chamber;
Discharging means for discharging the liquid stored in the chamber from a lower portion of the chamber;
An exhaust section for exhausting a gas degassed from the liquid stored in the chamber;
Opening and closing means for opening and closing the exhaust part;
Injection amount adjusting means for adjusting the flow rate of the liquid injected into the chamber;
A controller for controlling the operation of the opening / closing means and the operation of the injection amount adjusting means;
With
The discharge means discharges the liquid at a flow rate larger than the flow rate of the liquid injected into the chamber with the inside of the chamber sealed, and depressurizes the chamber .
The controller is
While injecting the liquid having a flow rate smaller than the flow rate of the liquid discharged from the chamber by controlling the injection amount adjusting unit, the exhaust unit is closed by the opening / closing unit to close the inside of the chamber. Is sealed and
While the liquid amount larger than the flow rate of the liquid discharged from the chamber by controlling the injection amount adjusting means is injected into the chamber, the exhaust part is opened by the opening / closing means to seal the inside of the chamber. Control to release the state,
A deaeration device characterized by that.
前記下限センサーからの信号に基づいて作動するタイマーと、をさらに備え、
前記下限センサーが、前記液体の液面が前記下限位置に到達したことを検出したときに、前記コントローラは、前記注入量調整手段の動作を制御して前記チャンバーから排出させる前記液体の流量よりも多くの流量の前記液体を前記チャンバーに注入するように制御し、
前記タイマーが作動してから前記液体の液面が前記チャンバーのあらかじめ設定された上限位置に到達するまでに要する所定時間を経過したときに、前記コントローラは、前記注入量調整手段の動作を制御して前記チャンバーから排出される前記液体の流量よりも少ない流量の前記液体を前記チャンバーに注入するように制御している、請求項2に記載の脱気装置。 A lower limit sensor for detecting that the liquid level of the liquid stored in the chamber has reached a preset lower limit position of the chamber;
A timer that operates based on a signal from the lower limit sensor, and
When the lower limit sensor detects that the liquid level of the liquid has reached the lower limit position, the controller controls the operation of the injection amount adjusting means to discharge the liquid from the chamber. Control to inject a large amount of the liquid into the chamber;
The controller controls the operation of the injection amount adjusting means when a predetermined time required until the liquid level of the liquid reaches the preset upper limit position of the chamber after the timer is activated. The deaeration apparatus according to claim 2 , wherein the liquid is controlled to be injected into the chamber at a flow rate smaller than a flow rate of the liquid discharged from the chamber.
前記密閉されたチャンバー内に液体を注入する際に、前記チャンバー内に注入する液体の流量よりも多くの流量の前記液体を前記チャンバーの下部から排出し、前記チャンバー内を減圧させ、
前記液体の液面があらかじめ設定された前記チャンバー内の下限位置に到達したときに、前記チャンバー内から排出される前記液体の流量よりも多い流量の前記液体を前記チャンバー内に注入するように制御し、
前記液体の液面が前記チャンバー内のあらかじめ設定された上限位置に到達したときに、前記チャンバー内から排出される前記液体の流量よりも少ない流量の前記液体を前記チャンバー内に注入するように制御している、
ことを特徴とする脱気方法。 Inject liquid from the top of the chamber by the injection part into the sealed chamber ,
When injecting the liquid before Symbol sealed chamber, and discharging the liquid of the more than the flow rate of the liquid to be injected into the chamber flow from the bottom of the chamber, the chamber was depressurized,
When the liquid level of the liquid reaches a preset lower limit position in the chamber, control is performed so that the liquid having a flow rate larger than the flow rate of the liquid discharged from the chamber is injected into the chamber. And
When the liquid level of the liquid reaches a preset upper limit position in the chamber, control is performed so that the liquid having a flow rate smaller than the flow rate of the liquid discharged from the chamber is injected into the chamber. doing,
A degassing method characterized by that.
The deaeration method according to claim 5 , wherein an upper side of a predetermined position in the chamber is cooled.
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